JPH0430928B2 - - Google Patents
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- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
- B01J20/3261—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such comprising a cyclic structure not containing any of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur, e.g. aromatic structures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3244—Non-macromolecular compounds
- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
- B01J20/3263—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such comprising a cyclic structure containing at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur, e.g. an heterocyclic or heteroaromatic structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
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-
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Description
本発明は新規な分離剤、特にラセミ化合物を光
学分割するための液体クロマトグラフイー用充填
剤に関するものである。本発明により提案される
分離剤はシリカゲルを担体とし、これにいわゆる
シラン処理剤を反応させてスペーサーとなる部分
を導入し、これにＤまたはＬの光学活性なプロリ
ンまたは、そのチオカルボン酸の銅塩を化学結合
させてなるものである。 従来シリカゲルに光学活性なプロリンもしくは
ヒドロキシプロリンを化学結合してなる光学分割
用充填剤としては、G.G¨ｕbitzらによるJ.High
Resolut.Chromatogr.and.Chromatogr.Comm，
２，145（1979）、あるいはK.SugdenらによるJ.
Chromatogr.192，228（1980）、あるいはV.A.
DavankovらによるAngew.Chem.Int.Ed.
Engl.21，930（1982）に記載されている如く、い
ずれも銅イオンに配位結合もしくはイオン結合し
たカルボキシル基を有するものであり、これに配
位し得るラセミ体のアミノ酸のそれぞれの対掌体
との相互作用の自由エネルギー大きさの差を利用
してラセミ体を分割するものである。 本発明者等は、これら公知の分離用充填剤の性
能を更に向上せしめるため種々研究の結果、本発
明に到達したものである。 即ち、これら従来の分離用充填剤は、いずれも
光学活性基のアミノ基をスペーサ役をするシラン
処理剤と結合させているため、スペーサーによる
分割能への影響が大きく、分離用充填剤を設計す
るうえで合成手法上大きな制約があつた。また、
V.A.DavankovらによりChromatographia 13，
677（1980）に記載されている如く、炭素数７〜16
の直鎖アルキル基を導入したＬ−ヒドロキシプロ
リンを逆相系シリカゲルカラムに吸着させて光学
分割を行なう方法においてはアミノ基に直鎖アル
キル基を導入する際、反応性及び適当な溶媒の選
択に問題がある。 本発明ではアミノ基に任意の基を導入できるた
め光学分割の活性中心の設計が自由にでき、また
スペーサー役をするシラン処理剤と活性中心への
影響がほとんど無いヒドロキシ基、チオール基、
アミノ基等を反応させて結合することによりシラ
ン処理剤の影響を避けることができた結果、従来
の分離用充填剤に比べ著しく分割能が向上するこ
とを見い出した。 即ち、本発明は下記の一般式（Ｉ）で示される
物質からなる分離剤 〔但し、式中Y1，Y2，Y3のうち、少なくとも
１つはシリカゲル及びシリカゲルとのシロキサン
結合部分を表わし、残りはそれぞれ水素、炭素数
１〜20のアルキル基、炭素数６〜20のアリール
基、炭素数７〜20のアリールアルキル基、ハロゲ
ン、ヒドロキシ基または炭素数１〜20のアルコキ
シ基もしくはこれらの任意の組合せを表わす。Ｘ
は炭素数１〜30のスペーサーを表わす。Ｒは一般
式 または で表わされる光学活性基である。但し、Ｂはカル
ボン酸またはチオカルボン酸の銅塩であることを
示し、Ｚは酸素原子、イオウ原子またはアミノ基
であることを示す。Ａは水素、炭素数１〜40のア
ルキル基、炭素数６〜40のアリール基、炭素数７
〜47のアリールアルキル基、もしくは炭素数１〜
40のヘテロ原子を含む。すなわち、エーテル結
合、アミノ結合、チオエーテル結合、アミド結
合、エステル結合の任意の結合様式を含む基であ
る。A′は炭素数２〜６のメチレンであることを
示す。また、＊印は不斉炭素原子を示す。〕 に係わるものである。 本発明の分離剤は金属製あるいはガラス製の円
筒に充填し、通常の液体クロマトグラム用装置を
用いてラセミ化合物の光学分割に使用することが
できる。 本発明の上記一般式（Ｉ）で示される物質から
なる分離剤はシリカゲルにシラン処理剤を介して
光学活性基を結合してなるものであるので、以下
これらの夫々について説明する。 (A) シリカゲル 原料のシリカゲルは粒径が0.1μm〜1000μmの
もので、細孔径が10Å〜10000Åのものが使用可
能である。好ましくは粒径が1μm〜100μmで細孔
径が50Å〜5000Åである。 (B) シラン処理剤 本発明の充填剤のスペーサー部分を形成させる
ためのシラン処理剤としては公知のいかなるもの
でも用いられ得るが、これらは次の一般式（）
で表わされる。 式中、Ｙ，Y′，Y″は水素、炭素数１〜20のア
ルキル基、炭素数６〜20のアリール基、炭素数７
〜20のアリールアルキル基、ハロゲン、ヒドロキ
シ基または炭素数１〜20のアルコキシ基、もしく
はこれらの任意の組合せを表わす。なお、このシ
ラン処理剤がシリカゲルと反応した後はシリカゲ
ルと反応しなかつたＹ，Y′，Y″は上記一般式
（Ｉ）中のY1，Y2，Y3のシリカゲルと結合しな
い残りと一致するものである。 X′は炭素数１〜30のスペーサーを形成する基
であり、末端または内部にハロゲン、アミノ基ま
たはオキシラン基をもつアルキルまたはアリール
基で、ヘテロ原子を含んでいても良い。すなわ
ち、エーテル結合、エステル結合、アミノ結合、
アミド結合の任意の結合様式を含むことができ
る。従つて、一般式（Ｉ）のＸは、一般式（）
のX′がＲと結合した残基である。 具体的には上記一般式（）で表わされるシラ
ン処理剤は水酸基、アミノ基、もしくはチオール
基と反応して共有結合が生成可能な官能基を有す
るもので、次のようなものがあげられる。 １ X′＝−CH2Cl又はX′＝−CH2Brのもの クロロメチルジメチルクロロシラン クロロメチルエトキシシラン ブロモメチルジメチルクロロシラン クロロメチルメチルジクロロシラン クロロメチルメチルジエトキシシラン クロロメチルトリクロロシラン クロロメチルトリエトキシシラン クロロメチルジメチル−ｎ−ニトロフエノ
キシシラン クロロメチルジメチル−ｐ−ニトロフエノ
キシシラン クロロメチルジメチル２−｛（２−エトキシ
エトキシ）エトキシ｝シラン クロロメチルジメチルフエノキシシラン １，２−ビス（ジメチルクロロシリン）エ
タン アリロキシクロロメチルジメチルシラン ２ Ｘ＝CH2CH2CH2Cl又はX′＝−CH2CH2CH2
Brのもの ３−クロロプロピルトリメトキシシラン ３−クロロプロピルジメトキシメチルシラ
ン ３−クロロプロピルメチルジクロロシラン ３−クロロプロピルトリクロロシラン ３−ブロモプロピルジメチルクロロシラン ３−ブロモプロピルトリクロロシラン ３−ブロモプロピルトリメトキシシラン ３−クロロプロピルジメチルクロロシラン ３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン ３−クロロプロピルトリエトキシシラン ３−クロロプロピルフエニルジクロロシラ
ン ｎ−プロピル（３−クロロプロピル）ジク
ロロシラン ３ X′＝−CH2CH2Cl又は
学分割するための液体クロマトグラフイー用充填
剤に関するものである。本発明により提案される
分離剤はシリカゲルを担体とし、これにいわゆる
シラン処理剤を反応させてスペーサーとなる部分
を導入し、これにＤまたはＬの光学活性なプロリ
ンまたは、そのチオカルボン酸の銅塩を化学結合
させてなるものである。 従来シリカゲルに光学活性なプロリンもしくは
ヒドロキシプロリンを化学結合してなる光学分割
用充填剤としては、G.G¨ｕbitzらによるJ.High
Resolut.Chromatogr.and.Chromatogr.Comm，
２，145（1979）、あるいはK.SugdenらによるJ.
Chromatogr.192，228（1980）、あるいはV.A.
DavankovらによるAngew.Chem.Int.Ed.
Engl.21，930（1982）に記載されている如く、い
ずれも銅イオンに配位結合もしくはイオン結合し
たカルボキシル基を有するものであり、これに配
位し得るラセミ体のアミノ酸のそれぞれの対掌体
との相互作用の自由エネルギー大きさの差を利用
してラセミ体を分割するものである。 本発明者等は、これら公知の分離用充填剤の性
能を更に向上せしめるため種々研究の結果、本発
明に到達したものである。 即ち、これら従来の分離用充填剤は、いずれも
光学活性基のアミノ基をスペーサ役をするシラン
処理剤と結合させているため、スペーサーによる
分割能への影響が大きく、分離用充填剤を設計す
るうえで合成手法上大きな制約があつた。また、
V.A.DavankovらによりChromatographia 13，
677（1980）に記載されている如く、炭素数７〜16
の直鎖アルキル基を導入したＬ−ヒドロキシプロ
リンを逆相系シリカゲルカラムに吸着させて光学
分割を行なう方法においてはアミノ基に直鎖アル
キル基を導入する際、反応性及び適当な溶媒の選
択に問題がある。 本発明ではアミノ基に任意の基を導入できるた
め光学分割の活性中心の設計が自由にでき、また
スペーサー役をするシラン処理剤と活性中心への
影響がほとんど無いヒドロキシ基、チオール基、
アミノ基等を反応させて結合することによりシラ
ン処理剤の影響を避けることができた結果、従来
の分離用充填剤に比べ著しく分割能が向上するこ
とを見い出した。 即ち、本発明は下記の一般式（Ｉ）で示される
物質からなる分離剤 〔但し、式中Y1，Y2，Y3のうち、少なくとも
１つはシリカゲル及びシリカゲルとのシロキサン
結合部分を表わし、残りはそれぞれ水素、炭素数
１〜20のアルキル基、炭素数６〜20のアリール
基、炭素数７〜20のアリールアルキル基、ハロゲ
ン、ヒドロキシ基または炭素数１〜20のアルコキ
シ基もしくはこれらの任意の組合せを表わす。Ｘ
は炭素数１〜30のスペーサーを表わす。Ｒは一般
式 または で表わされる光学活性基である。但し、Ｂはカル
ボン酸またはチオカルボン酸の銅塩であることを
示し、Ｚは酸素原子、イオウ原子またはアミノ基
であることを示す。Ａは水素、炭素数１〜40のア
ルキル基、炭素数６〜40のアリール基、炭素数７
〜47のアリールアルキル基、もしくは炭素数１〜
40のヘテロ原子を含む。すなわち、エーテル結
合、アミノ結合、チオエーテル結合、アミド結
合、エステル結合の任意の結合様式を含む基であ
る。A′は炭素数２〜６のメチレンであることを
示す。また、＊印は不斉炭素原子を示す。〕 に係わるものである。 本発明の分離剤は金属製あるいはガラス製の円
筒に充填し、通常の液体クロマトグラム用装置を
用いてラセミ化合物の光学分割に使用することが
できる。 本発明の上記一般式（Ｉ）で示される物質から
なる分離剤はシリカゲルにシラン処理剤を介して
光学活性基を結合してなるものであるので、以下
これらの夫々について説明する。 (A) シリカゲル 原料のシリカゲルは粒径が0.1μm〜1000μmの
もので、細孔径が10Å〜10000Åのものが使用可
能である。好ましくは粒径が1μm〜100μmで細孔
径が50Å〜5000Åである。 (B) シラン処理剤 本発明の充填剤のスペーサー部分を形成させる
ためのシラン処理剤としては公知のいかなるもの
でも用いられ得るが、これらは次の一般式（）
で表わされる。 式中、Ｙ，Y′，Y″は水素、炭素数１〜20のア
ルキル基、炭素数６〜20のアリール基、炭素数７
〜20のアリールアルキル基、ハロゲン、ヒドロキ
シ基または炭素数１〜20のアルコキシ基、もしく
はこれらの任意の組合せを表わす。なお、このシ
ラン処理剤がシリカゲルと反応した後はシリカゲ
ルと反応しなかつたＹ，Y′，Y″は上記一般式
（Ｉ）中のY1，Y2，Y3のシリカゲルと結合しな
い残りと一致するものである。 X′は炭素数１〜30のスペーサーを形成する基
であり、末端または内部にハロゲン、アミノ基ま
たはオキシラン基をもつアルキルまたはアリール
基で、ヘテロ原子を含んでいても良い。すなわ
ち、エーテル結合、エステル結合、アミノ結合、
アミド結合の任意の結合様式を含むことができ
る。従つて、一般式（Ｉ）のＸは、一般式（）
のX′がＲと結合した残基である。 具体的には上記一般式（）で表わされるシラ
ン処理剤は水酸基、アミノ基、もしくはチオール
基と反応して共有結合が生成可能な官能基を有す
るもので、次のようなものがあげられる。 １ X′＝−CH2Cl又はX′＝−CH2Brのもの クロロメチルジメチルクロロシラン クロロメチルエトキシシラン ブロモメチルジメチルクロロシラン クロロメチルメチルジクロロシラン クロロメチルメチルジエトキシシラン クロロメチルトリクロロシラン クロロメチルトリエトキシシラン クロロメチルジメチル−ｎ−ニトロフエノ
キシシラン クロロメチルジメチル−ｐ−ニトロフエノ
キシシラン クロロメチルジメチル２−｛（２−エトキシ
エトキシ）エトキシ｝シラン クロロメチルジメチルフエノキシシラン １，２−ビス（ジメチルクロロシリン）エ
タン アリロキシクロロメチルジメチルシラン ２ Ｘ＝CH2CH2CH2Cl又はX′＝−CH2CH2CH2
Brのもの ３−クロロプロピルトリメトキシシラン ３−クロロプロピルジメトキシメチルシラ
ン ３−クロロプロピルメチルジクロロシラン ３−クロロプロピルトリクロロシラン ３−ブロモプロピルジメチルクロロシラン ３−ブロモプロピルトリクロロシラン ３−ブロモプロピルトリメトキシシラン ３−クロロプロピルジメチルクロロシラン ３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン ３−クロロプロピルトリエトキシシラン ３−クロロプロピルフエニルジクロロシラ
ン ｎ−プロピル（３−クロロプロピル）ジク
ロロシラン ３ X′＝−CH2CH2Cl又は
【式】
のもの
１−クロロエチルメチルジクロロシラン
２−クロロエチルメチルジクロロシラン
１−クロロエチルトリクロロシラン
２−クロロエチルトリクロロシラン
４
【式】のもの
ｐ−クロロフエニルトリメトキシシラン
ｐ−クロロフエニルトリエトキシシラン
５
【式】のもの
２−（３，４−エポキシシクロヘキシルエ
チル）トリメトキシシラン ６ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメ
チルシラン ３−グリシドキシプロピルジメチルエトキ
シシラン ７ X′＝アルキルハロゲンのもの ８−ブロモオクチルトリクロロシラン ４−（メチルジクロロシリル）ブチリルク
ロライド ８ X′＝酸クロライドのもの ２−（４−クロロスルホニルフエニル）エ
チルトリクロロシラン ２−（４−クロロスルホニルフエニル）エ
チルトリメトキシシラン ３−（トリクロロシリル）プロピルクロロ
フオルメート (C) 光学活性基 本発明の充填剤の特徴部分を形成する光学活性
基Ｒは次の一般式 または で表わされる光学活性基である。但し、Ｂはカル
ボン酸またはチオカルボン酸の銅塩であることを
示し、Ｚは酸素原子、イオウ原子またはアミノ基
であることを示す。 Ａは水素、炭素数１〜40のアルキル基、炭素数
６〜40のアリール基、炭素数７〜47のアリールア
ルキル基もしくは炭素数１〜40のヘテロ原子を含
む。即ち、エーテル結合、アミノ結合、チオエー
テル結合、アミド結合、エステル結合の任意の結
合様式を含む基である。A′は炭素数２〜６のメ
チレンであることを示す。また、〓印は不斉炭素
原子を示す。 具体的には、プロリンのＤ体またはＬ体のいず
れか一方の光学活性体を原料として、その２級の
アミノ基に上記Ａを含む置換基を導入することに
より３級化して得られる。 さらに具体的には、α−オレフインエポキシ
ド、環状エポキシドなどへ開環付加反応せしめる
ことにより得ることができる。 Ａの具体例としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ターシヤリーブチ
ル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、エイコシルのような直鎖ある
いは分枝した炭化水素、シクロペンチル、シクロ
ヘキシルのような環状炭化水素、フエニル、ベン
ジルのような芳香族またはそれを含む炭化水素、
ピリジル、イミダゾリルのような複素環または、
それを含む炭化水素、メトキシエチル、メチルチ
オエチル、Ｎ−モルホリルエチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノエチルのようなヘテロ原子を含む環状
または非環状炭化水素の各基が例示される。 上記(A)，(B)及び(C)の出発物質からの本発明の分
離剤の製法としては、シリカゲルにシラン処理を
した後、光学活性基を結合させるか、あるいはシ
ラン処理剤と光学活性基を予め結合した上シリカ
ゲルと反応させるといういずれの方法も可能であ
る。またカルボキシル基または、そのエステルを
チオカルボン酸の金属塩に変換する反応はシリカ
ゲルと結合する前に行なつてもよく、また結合し
た後で変換しても良い。この金属塩は強酸の銅塩
との交換反応で銅塩とすることができる。 以上の如く本発明の分離剤はシリカゲルにシラ
ン処理剤を介して光学活性基を化学的に結合して
なる物質であつて、液体クロマトグラフイー用充
填剤として特にアミノ酸の光学分割に使用するに
適したものである。 以下本発明の分離用充填剤の合成例及び実施例
を比較例と共に示すが、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。 合成例 １ シリカゲルを乾燥窒素気流中で3.5時間120〜
150℃に加熱し、乾燥する。乾燥したシリカゲル
50ｇを無水ベンゼン300mlに懸濁し、そこにグリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン20mlを加
え、乾燥窒素気流下加熱還流する。このとき生成
するメタノールは系外に除くようにして16時間反
応させる。反応終了後室温に冷却し、グラスフイ
ルターで過する。得られた修飾シリカゲルは無
水ベンゼンで洗つた後、真空中40℃で乾燥する。
Ｌ−プロリンのナトリウム塩をシクロヘキセンエ
ポキシドと反応させた付加物3.0ｇを無水ジメチ
ルホルムアミド50mlに溶解し、これにグリシドキ
シプロピルシリル基を導入した上記シリカゲル
3.5ｇを加えて懸濁させ、90℃で15時間振盪する。 修飾シリカゲルは過し、メタノールで洗つた
後、硫酸銅２ｇを純水50mlに溶解した水溶液中に
移して銅塩とした。これを再び過し、純水で洗
うことにより、Ｎ−置換−Ｌ−プロリンの銅塩が
化学的に結合したシリカゲルを得た。 得られた物質の構造式は次のようなものと推定
される。 Ｒ，R′はその両方またはいずれか一方がメチ
ル基であるか、もしくはその両方またはいずれか
一方が同一シリカゲルであることを示す。 実施例 １ 合成例１で得られた充填剤を用いて種々のアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なつた。即ち、平均
粒径が10μmで、平均細孔径が60Åの全多孔性シ
リカゲルに上記合成例１により得られた充填剤を
高速液体クロマトグラフ用ステンレスカラム（25
cm×0.46cm）に充填し、５×10-4Ｍの硝酸銅水溶
液を溶媒に用いて流速２ml／分、温度50℃でアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なうと、次の表−１
の如く良好な分割結果が得られた。
チル）トリメトキシシラン ６ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメ
チルシラン ３−グリシドキシプロピルジメチルエトキ
シシラン ７ X′＝アルキルハロゲンのもの ８−ブロモオクチルトリクロロシラン ４−（メチルジクロロシリル）ブチリルク
ロライド ８ X′＝酸クロライドのもの ２−（４−クロロスルホニルフエニル）エ
チルトリクロロシラン ２−（４−クロロスルホニルフエニル）エ
チルトリメトキシシラン ３−（トリクロロシリル）プロピルクロロ
フオルメート (C) 光学活性基 本発明の充填剤の特徴部分を形成する光学活性
基Ｒは次の一般式 または で表わされる光学活性基である。但し、Ｂはカル
ボン酸またはチオカルボン酸の銅塩であることを
示し、Ｚは酸素原子、イオウ原子またはアミノ基
であることを示す。 Ａは水素、炭素数１〜40のアルキル基、炭素数
６〜40のアリール基、炭素数７〜47のアリールア
ルキル基もしくは炭素数１〜40のヘテロ原子を含
む。即ち、エーテル結合、アミノ結合、チオエー
テル結合、アミド結合、エステル結合の任意の結
合様式を含む基である。A′は炭素数２〜６のメ
チレンであることを示す。また、〓印は不斉炭素
原子を示す。 具体的には、プロリンのＤ体またはＬ体のいず
れか一方の光学活性体を原料として、その２級の
アミノ基に上記Ａを含む置換基を導入することに
より３級化して得られる。 さらに具体的には、α−オレフインエポキシ
ド、環状エポキシドなどへ開環付加反応せしめる
ことにより得ることができる。 Ａの具体例としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ターシヤリーブチ
ル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、エイコシルのような直鎖ある
いは分枝した炭化水素、シクロペンチル、シクロ
ヘキシルのような環状炭化水素、フエニル、ベン
ジルのような芳香族またはそれを含む炭化水素、
ピリジル、イミダゾリルのような複素環または、
それを含む炭化水素、メトキシエチル、メチルチ
オエチル、Ｎ−モルホリルエチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノエチルのようなヘテロ原子を含む環状
または非環状炭化水素の各基が例示される。 上記(A)，(B)及び(C)の出発物質からの本発明の分
離剤の製法としては、シリカゲルにシラン処理を
した後、光学活性基を結合させるか、あるいはシ
ラン処理剤と光学活性基を予め結合した上シリカ
ゲルと反応させるといういずれの方法も可能であ
る。またカルボキシル基または、そのエステルを
チオカルボン酸の金属塩に変換する反応はシリカ
ゲルと結合する前に行なつてもよく、また結合し
た後で変換しても良い。この金属塩は強酸の銅塩
との交換反応で銅塩とすることができる。 以上の如く本発明の分離剤はシリカゲルにシラ
ン処理剤を介して光学活性基を化学的に結合して
なる物質であつて、液体クロマトグラフイー用充
填剤として特にアミノ酸の光学分割に使用するに
適したものである。 以下本発明の分離用充填剤の合成例及び実施例
を比較例と共に示すが、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。 合成例 １ シリカゲルを乾燥窒素気流中で3.5時間120〜
150℃に加熱し、乾燥する。乾燥したシリカゲル
50ｇを無水ベンゼン300mlに懸濁し、そこにグリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン20mlを加
え、乾燥窒素気流下加熱還流する。このとき生成
するメタノールは系外に除くようにして16時間反
応させる。反応終了後室温に冷却し、グラスフイ
ルターで過する。得られた修飾シリカゲルは無
水ベンゼンで洗つた後、真空中40℃で乾燥する。
Ｌ−プロリンのナトリウム塩をシクロヘキセンエ
ポキシドと反応させた付加物3.0ｇを無水ジメチ
ルホルムアミド50mlに溶解し、これにグリシドキ
シプロピルシリル基を導入した上記シリカゲル
3.5ｇを加えて懸濁させ、90℃で15時間振盪する。 修飾シリカゲルは過し、メタノールで洗つた
後、硫酸銅２ｇを純水50mlに溶解した水溶液中に
移して銅塩とした。これを再び過し、純水で洗
うことにより、Ｎ−置換−Ｌ−プロリンの銅塩が
化学的に結合したシリカゲルを得た。 得られた物質の構造式は次のようなものと推定
される。 Ｒ，R′はその両方またはいずれか一方がメチ
ル基であるか、もしくはその両方またはいずれか
一方が同一シリカゲルであることを示す。 実施例 １ 合成例１で得られた充填剤を用いて種々のアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なつた。即ち、平均
粒径が10μmで、平均細孔径が60Åの全多孔性シ
リカゲルに上記合成例１により得られた充填剤を
高速液体クロマトグラフ用ステンレスカラム（25
cm×0.46cm）に充填し、５×10-4Ｍの硝酸銅水溶
液を溶媒に用いて流速２ml／分、温度50℃でアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なうと、次の表−１
の如く良好な分割結果が得られた。
【表】
より弱く吸着される対掌
体の容量比
合成例 ２ シリカゲルを乾燥窒素気流中で２時間120〜150
℃に加熱し、さらに真空中４時間加熱乾燥する。
乾燥したシリカゲル50ｇを無水ベンゼン300mlに
懸濁し、そこにグリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン25mlを加え、乾燥窒素気流下加熱還流す
る。このとき生成するメタノールは系外に除くよ
うにして８時間反応させる。反応終了後室温に冷
却し、グラスフイルターで過する。得られた修
飾シリカゲルは無水ベンゼンで洗つた後、真空中
40℃で乾燥する。Ｌ−プロリンのナトリウム塩
1.5ｇを炭素数15〜18の直鎖α−オレフインエポ
キシド5.0ｇと反応させた付加物を無水ジメチル
ホルムアミド10mlに溶解し、これにグリシドキシ
プロピルシリル基を導入した上記シリカゲル６ｇ
を加えて懸濁させ、90℃で15時間振盪する。 修飾シリカゲルは過し、メタノールで洗つた
後、硫酸銅１ｇを純水50mlに溶解した水溶液中に
移して銅塩とした。これを再び過し、純水で洗
うことにより、Ｎ−置換−Ｌ−プロリンの銅塩が
化学的に結合したシリカゲルを得た。 得られた物質の構造式は次のようなものと推定
される。 Ｒ，R′はその両方またはいずれか一方がメチ
ル基であるが、もしくはその両方またはいずれか
一方が同一シリカゲルであることを示す。 R″は炭素数13−16の直鎖アルキル基であるこ
とを示す。 実施例 ２ 合成例２で得られた充填剤を用いて種々のアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なつた。即ち、平均
粒径が10μmで、平均細孔径が60Åの全多孔性シ
リカゲルに上記合成例１により得られた充填剤を
高速流体クロマトグラフ用ステンレスカラム（25
cm×0.46cm）に充填し、５×10-4Ｍの硝酸銅水溶
液を溶媒に用いて流速２ml／分、温度50℃でアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なうと、実施例１と
同様に良好な分割結果が得られた。
体の容量比
合成例 ２ シリカゲルを乾燥窒素気流中で２時間120〜150
℃に加熱し、さらに真空中４時間加熱乾燥する。
乾燥したシリカゲル50ｇを無水ベンゼン300mlに
懸濁し、そこにグリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン25mlを加え、乾燥窒素気流下加熱還流す
る。このとき生成するメタノールは系外に除くよ
うにして８時間反応させる。反応終了後室温に冷
却し、グラスフイルターで過する。得られた修
飾シリカゲルは無水ベンゼンで洗つた後、真空中
40℃で乾燥する。Ｌ−プロリンのナトリウム塩
1.5ｇを炭素数15〜18の直鎖α−オレフインエポ
キシド5.0ｇと反応させた付加物を無水ジメチル
ホルムアミド10mlに溶解し、これにグリシドキシ
プロピルシリル基を導入した上記シリカゲル６ｇ
を加えて懸濁させ、90℃で15時間振盪する。 修飾シリカゲルは過し、メタノールで洗つた
後、硫酸銅１ｇを純水50mlに溶解した水溶液中に
移して銅塩とした。これを再び過し、純水で洗
うことにより、Ｎ−置換−Ｌ−プロリンの銅塩が
化学的に結合したシリカゲルを得た。 得られた物質の構造式は次のようなものと推定
される。 Ｒ，R′はその両方またはいずれか一方がメチ
ル基であるが、もしくはその両方またはいずれか
一方が同一シリカゲルであることを示す。 R″は炭素数13−16の直鎖アルキル基であるこ
とを示す。 実施例 ２ 合成例２で得られた充填剤を用いて種々のアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なつた。即ち、平均
粒径が10μmで、平均細孔径が60Åの全多孔性シ
リカゲルに上記合成例１により得られた充填剤を
高速流体クロマトグラフ用ステンレスカラム（25
cm×0.46cm）に充填し、５×10-4Ｍの硝酸銅水溶
液を溶媒に用いて流速２ml／分、温度50℃でアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なうと、実施例１と
同様に良好な分割結果が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記の一般式（Ｉ）で示される物質からなる
分離剤 〔但し、式中Y1，Y2，Y3のうち少なくとも１
つはシリカゲル及びシリカゲルとのシロキサン結
合部分を表わし、残りはそれぞれ水素、炭素数１
〜20のアルキル基、炭素数６〜20のアリール基、
炭素数７〜20のアリールアルキル基、ハロゲン、
ヒドロキシ基または炭素数１〜20のアルコキシ基
もしくはこれらの任意の組合せを表わす。Ｘは炭
素数１〜30のスペーサーを表わす。Ｒは一般式 又は で表わされる光学活性基である。但し、Ｂはカル
ボン酸またはチオカルボン酸の銅塩であることを
示し、Ｚは酸素原子、イオウ原子またはアミノ基
であることを示す。Ａは水素、炭素数１〜40のア
ルキル基、炭素数６〜40のアリール基、炭素数７
〜47のアリールアルキル基、もしくは炭素数１〜
40のヘテロ原子を含む、即ちエーテル結合、アミ
ノ結合、チオエーテル結合、アミド結合、エステ
ル結合の任意の結合様式を含む基である。A′は
炭素数２〜６のメチレンであることを示す。ま
た、＊印は不斉炭素原子を示す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59104726A JPS60249053A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 分離剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59104726A JPS60249053A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 分離剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60249053A JPS60249053A (ja) | 1985-12-09 |
| JPH0430928B2 true JPH0430928B2 (ja) | 1992-05-25 |
Family
ID=14388498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59104726A Granted JPS60249053A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | 分離剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60249053A (ja) |
-
1984
- 1984-05-25 JP JP59104726A patent/JPS60249053A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60249053A (ja) | 1985-12-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |