JPH0438708A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度記録再生を行うために必要な高い飽和
磁束密度を有する磁気ヘッドの製造方法に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

磁気記Ｈ技術の高密度化に伴って、メタルテープのよう
な高保磁力媒体が主流になってきている現在、磁気ヘッ
ドに使用されるコア材料には、高い飽和磁束密度を有す
るものが要求されている。

そこで、第１２図に示すように、高い飽和磁束密度を有
する例えばＰｅ−Δ（！、−３ｉ系合金等の軟磁性材料
からなる軟磁性薄膜３２を、非磁性材料から成る基板３
１に設けて成る磁気ヘッドチップ４０が使用されている
。上記基板３１としては、図において上面がテープ摺動
面となることから、耐摩耗性に優れた感光性結晶化ガラ
ス等が選定されている。

上記のような磁気ヘッドの製造の過程においては、まず
、第７図に示すように、非磁性材料から成る基板３１に
断面路Ｖ字状の連続した溝３５・・・を、２〜３種頻の
粒度の異なるＶ型ブレードを粒度の荒いブレードから細
かいブレードへと順次換えてダイシング加工を行う多段
切りと呼ばれる加工によって形成する。

この工程の後、第８図に示すように、上記溝３５・・・
の一方の各側壁３５ａ・・・に、真空蒸着あるいはスパ
ッタ法等によって軟磁性薄膜３２を形成する。次に、第
９図に示すように、溝３５・・・上に低融点ガラス３３
を充填した後に表面研削を行い。

この後、第１０図に示すように、基板３１をピンチＥで
切断し、図示しない、各コイル巻線用窓加工及びギャッ
プ面の加工を施して片側コアブロックを形成する。この
次に、第１１図に示すように、片側コアブロック３６同
士を、ギャップ面を挟んで相互に接合した後、所定幅に
切断することで、第１２図に示す、前記磁気へソドヂソ
プ４０が形成される。その後は、図示していないが、こ
の磁気へラドチップ４０にベース板に接着固定、コイル
巻線、テープ摺動面研磨を施して磁気ヘッドとして完成
される。

このように作製される磁気ヘッドの磁気特性は、軟磁性
薄膜３２が形成される各側壁３５ａ・・・の形状により
左右されている。言い換えると、これらの形状が乱れる
、例えば波状の形状であると得られる磁気特性は劣り、
整った形状でその表面が平滑であると磁気特性の優れた
磁気ヘッドが得られる。このため、上記では、Ｖ型ブレ
ードを用いるダイシング加工によって耐摩耗性には優れ
ているが難加工性の基板３１に各側壁３５ａ・・・の形
状が所定の形状になるように加工されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上記の製造方法では、溝形成の加工時に、■
型ブレードの先端部は最も摩耗され易く、また摩耗によ
って変形した外形が元の外形と相似的になりにくい。こ
れらのことから、■型ブレードにおける特に先端部に交
換の必要な変形が頻発する。もし、この変形の生じたブ
レードを用いて各溝３５・・・を形成すると、第１３図
に示すように、その各溝３５・・・形状は乱れ、これら
の各側壁３５ａ・・・も波状のものとなる。このような
各側壁３５ａ・・・に形成された軟磁性薄膜３２からな
る磁気ヘッドの磁気特性は劣ったものとなる。

したがって、磁気特性の優れた磁気ヘッドを製造するた
めには、変形の生じたブレードの交換を頻繁に行う必要
がある。

この結果、生産性に劣るという問題点を有している。

〔課題を解決ず”るための手段］ 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記課題を解決
するために、基板に形成される断面略Ｖ字形状の溝の壁
面に沿わせて軟磁性薄膜を設ける磁気ヘッドの製造方法
において、上記溝の形成が、■型ブレードを用いるダイ
シング加工による仕上げ加工と、この仕上げ加工の前に
角型ブレードを用いるダイシング加工によって上記■型
ブレードの先端部の通る部分の一部を研削する予備加工
とによって行われることを特徴としている。

〔作　用〕

上記の方法によれば、使用される各ブレードの使用でき
る期間が従来より長くなる。

それは、第一に、特に摩耗によって変形した外形が元の
外形と相似形になりにくく、この変形が溝形状の形成に
悪影響をもたらす■型ブレードの先端部において、この
先端部の当たる部分の一部が上記角型ブレードで先に切
削されていることから、仕上げ加工に使用される■型ブ
レードの先端部において摩耗からくる変形を抑えること
ができることと、第二に、摩耗による変形後の外形が元
の外形と相似的なことから、使用できる期間がＶ型より
長い角型ブレードを用いていることとで説明できる。

したがって、磁気特性の優れた磁気ヘッドを製造するた
めに、変形したブレードを新しい、もしくは目立てや形
直しが施されたブレードに交換する回数が従来より減少
する。

〔実施例〕

本発明の一実施例を第１図ないし第６図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。

本実施例に係る磁気ヘッドの製造過程を、第１図ないし
第６図を参照しつつ順をおって説明する。

まず、第１図に示すように、略直方体形状の基板１の表
面に最終的な磁気ヘッドの厚さ、分断する際の切り代を
考慮したピッチ寸法Ａで断面略Ｖ字形状の複数の溝１１
を相互に隣接して互いに平行に形成する。上記基板１と
しては、この基板１における一面が磁気テープの摺接面
となることから、例えば感光性結晶化ガラス等の耐摩耗
性に優れた非磁性材料が選定される。

そして、このような耐摩耗性を有し、従って硬度の高い
、難加工性の基板１への上記のような溝加工としては、
研磨材が外周縁部に設けられている円板ブレードを回転
させて研削及び研磨するダイシング加工が用いられてい
る。

この加工法を用いる上記溝加工では、最初に、予備加工
として、外周縁部断面形状が角型である角型ブレードを
用いて、その方向は基板１の加工前表面に垂直に、深さ
は仕上がり形状より幾分浅く、ピンチ寸法へで角型溝１
１ｂを連続して形成する。

この工程の後、仕上げ加工として、■型ブレードを用い
て、その先端部を上記各角型溝１１ｂ・・・を通るよう
に加工操作を行い、ピッチ寸法Ａで所定形状の谷溝１１
・・・を形成する。このとき、この溝１１の一方の側壁
１１ａと基板１の加工前表面の法線Ｉ］とのなす角θは
、最終的な磁気ヘッド形態でのアジマス角にほぼ等しい
ことが望ましい。

次に、第２図に示すように、上記谷溝１１・・・の一方
の各側壁１１ａ・・・に、真空蒸着法あるいはスパッタ
法等の薄膜形成技術によって所定の膜厚、つまり磁気ヘ
ッドのトラック幅にほぼ相当する膜厚となるように、高
い飽和磁束密度を有する例えばＦｅ−Ａ　（１−５ｉ系
合金等の軟磁性材料からなる軟磁性薄膜３を形成する。

その後、第３図に示すように、谷溝１１・・・に、低温
融着性を有するモールドガラス２を充填し、谷溝１１・
・・の図における上方の各頂点より上方にはみ出してい
るモールドガラス２を上記各頂点を結んだ線まで研磨す
る。この次に、第４図に示すように、基板１にギャップ
面７の形成加工を施した後、この基板１をピッチＥで切
断する。続いて、この切断された基板１に、公知のＶＴ
Ｒ用フェライトヘッド加工工程と同様に、図示しない、
コイル巻線用窓加の形成加工を施して片側コアブロック
を作製する。

この後、第５図に示すように、二個の片側コアブロック
１０を各軟磁性薄膜３のギャップ面７を互いに対向する
ように位置を合わせ加圧固定を行って、モールドガラス
２が接着力を有する温度まで昇温させるガラス溶着によ
って接合し、コアブロック８を形成する。次に、このコ
アブロック８を所定の寸法で切り出して、第６図に示す
ような磁気へラドチップ９となる。

この次、この磁気へラドチップ９に、図示されていない
が、ベース板への接着固定、コイル巻線、テープ摺動面
研磨を施して磁気ヘッドとして完成される。

このように、上記の製造方法では、前記各側壁１１ａ・
・・の表面に沿って軟磁性薄膜３を形成するに際し、上
記各側壁１１ａ・・・に必要な形状を得るための溝加工
は、加工時に特に先端部が摩耗による変形が生じ易い■
型ブレードを用いる仕上げ加工の前に、まず角型ブレー
ドを用いて仕上げ加工に使用される■型ブレードの先端
部の通る部分の一部を研削する予備加工し、この後、■
型ブレードによる仕上げ加工をすることで行われている
。

ところで、前記従来では、溝の形成は、２〜３種の粒度
の異なるＶ型ブレードを順次用いるダイシング加工を用
いている。このとき、■型ブレードの特に先端部は、交
換の必要な変形が多発する。このことから、上記従来方
法では、製造時のＶ型ブレードの交換を頻繁に行って磁
気ヘッドの磁気特性の劣化を防止していた。

しかしながら、上記実施例の製造方法では、仕上げ加工
での■型ブレードの先端部の当たる部分の一部が予め角
型ブレードを用いて研削されているので、加工時に特に
変形を生じ易い■型ブレードの先端部の変形が抑えられ
ている。このことがら、■型ブレードの使用できる期間
が従来より長くなっている。

また、予備加工に使用される角型ブレードは、その研磨
材の形状から、加工時の摩耗によって変形した外形が元
々の外形と相似的に変形することから、使用できる期間
が従来使用されていたＶ型ブレードより長くできる。

したがって、上記各ブレードの使用できる期間が従来よ
り長くできるので、一定期間におけるこれらのブレード
の交換回数は、従来より減少する。

また、仕上げ加工に用いられる■型ブレードの変形が抑
えられることから、その溝加工によって得られた溝１１
形状や側壁１１ａの状態も良いものが多く得られ、磁気
特性の優れた磁気ヘッドが多く得られる。

これらの結果、従来よりも磁気ヘッド製造における生産
性の向」二を図ることができる。

なお、上記実施例では、基板１の素材として、感光性結
晶化ガラスを用いた例を挙げて示しているが、感光性を
有していない結晶化ガラスやセラミックス等の非磁性体
材料やフェライト等の磁性体材料等を用いて構成する場
合にも本発明の適用が可能である。

〔発明の効果〕

本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
溝の形成が、■型ブレードを用い・るダイシング加工に
よる仕上げ加工と、この仕上げ加工の前に角型ブレード
を用いるダイシング加工によって」二部Ｖ型ブレードの
先端部の通る部分の一部を研削する予備加工とによって
行われるものである。

これにより、仕上げ加工に用いられる■型ブレードの先
端部の通る部分の一部が予め研削されていることから、
従来性じていたＶ型ブレードの先端部の変形が抑えられ
る。一方、角型ブレートはその形状から■型ブレードよ
り使用できる期間が長い。したがって、上記各ブレード
の使用できる使用できる期間が延び、変形によって使用
できなくなったブレードの交換回数が減少する。

この結果、磁気ヘッドの生産性の向上を図ることができ
るという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第６図はそれぞれ本発明の一実施例におけ
る磁気ヘッドの製造方法による製造過程を示すものであ
る。 第１図は基板への溝加工を示す基板の要部断面図である
。 第２図は上記溝の側壁に軟磁性薄膜を形成した後の基板
の要部断面図である。 第３図は上記溝にモールドガラスを充填し、モールドガ
ラスの表面側を研削した後の基板の要部断面図である。 第４図は所定の寸法に切断される前の基板の斜視図であ
る。 第５図は２個の片側コアブロックを相互に接合して形成
されたコアブロックの斜視図である。 第６図はコアブロックから切り出された磁気へラドチッ
プの斜視図である。 第７図ないし第１３図は従来例を示すものである。 第７図は溝を形成した後の基板の要部断面図である。 第８図は上記溝の側壁に軟磁性薄膜を形成した後の基板
の要部断面図である。 第９図上記溝にモールドガラスを充填し、モールドガラ
スの表面側を研削した後の基板の要部断面図である。 第１０図は所定の寸法に切断される前の基板の斜視図で
ある。 第１１図は２個の片側コアブロックを相互に接合して形
成されたコアブロックの斜視図である。 第１２図はコアブロックから切り出された磁気へラドチ
ップの斜視図である。 第１３図は基板に溝加工する際、ブレードが変形してい
るため、溝形状が乱れて形成された基板の要部断面図で
ある。 １は基板、３は軟磁性薄膜、１１は溝、ｌｌａは側壁（
壁面）である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板に形成される断面略Ｖ字形状の溝の壁面に沿わ
   せて軟磁性薄膜を設ける磁気ヘッドの製造方法において
   、 上記溝の形成が、Ｖ型ブレードを用いるダイシング加工
   による仕上げ加工と、この仕上げ加工の前に角型ブレー
   ドを用いるダイシング加工によって上記Ｖ型ブレードの
   先端部の通る部分の一部を研削する予備加工とによって
   行われることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。