JPH0446169A - 新規なベンゾフラン誘導体及びそれを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規なベンゾフラン誘導体及びこれを有効成
分として含有する除草剤に関するものである。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）従来、
特開昭５５−２０７８８号公報に、２゜３−ジヒドロ−
５−シアノベンゾフラン化合物が除草剤の有効成分とし
て用うろことが記載され公知である。

しかしながら、これらの化合物は、除草効力が不十分で
あっｔ；す、作物・雑草間の選択性に劣っｔ；すするこ
とから、必ずしも満足すべきものとは言い難い。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは、わずかな施用量でも好ましくない植物に
対して優れた除草効果を有し、かつ、作物・雑草間に高
度の選択性を示す化合物を提供すべく、種々研究した結
果、下記の一般式（Ｉ）で示されるベンゾフラン誘導体
を見い出し、本発明に到達した。

すなわち、本発明は、−船蔵（１） ［式中、Ｒ′、Ｒ２は同一でも異なってもよく水素原子
または低級アルキル基を表わし、Ｒ１は水素原子、低級
アルキル基、低級ハロアルキル基、低級シアノアルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換されて
もよいアリール基まｔ：は置換されてもよいアラルキル
基を表わし、Ｒ４はヒドロキシ基、低級ハロアルキル基
、低級シアノアルキル基、低級アルケニル基、低級アル
キニル基、置換されてもよいアリール基、置換されても
よいアラルキル基、低級アルコキシ基、置換されてもよ
いアリールオキシ基、置換されてもよいアラルキルオキ
シ基、アルコキシアルキル基、置換されてもよいアリー
ルオキシアルキル基、置換されてもよいアラルキルオキ
シアルキル基、アルキルカルボニル基、置換されてもよ
いアリールカルボニル基、置換されてもよいアラルキル
カルボニル基、アルキルカルボニルアルキル基、置換さ
れてもよいアリールカルボニルアルキル基、置換されて
もよいアラルキルカルボニルアルキル基、アルコキシカ
ルボニル基、置換されてもよいアリールオキシカルボニ
ル基、置換されてもよいアラルキルオキシカルボニル基
、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されてもよい
アリールオキシカルボニルアルキル基、置換されてもよ
いアラルキルオキシカルボニルアルキル基またはアルコ
キシカルボニルアルコキシ基を表わす。］で表わされる
新規ベンゾフラン誘導体である。

前記一般式（Ｉ）においてＲ１，Ｒｊが低級アルキル基
である場合、その例としては、炭素数１〜３の低級アル
キル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基などを挙げることができる。

前記一般式（１）におけるＲ１８よびＲ６の具体的な原
子または基について以下列挙する。

Ｒ３の具体的： （ｉ）水素原子； （■）低級アルキル基、低級アルケニル基および低級ア
ルキニル基： 炭素数１ないし５のものが好ましく、例えばメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、アリル基、メタ
アリル基、クロチル基、プロパルギル基、２−ブチニル
基などを挙げることができる。

（ｉｉ）低級ハロアルキル基： 炭素数１ないし５のハロアルキル基が好ましく、例えば
２．２．２−トリフルオロエチル基、２−クロロエチル
基、３−クロロプロヒルｉ＆、２−ブロモエチル基、３
−ブロモプロピル基などを挙げることができる。

（ｉｖ）低級シアノアルキル基； 炭素数１ないし５の直鎖または分岐のアルキレン部を有
するシアノアルキル基が好ましい。

（ｖ）置換されてもよいアリール基および置換されても
よいアラルキル基： これらアリール基及びアラルキル基を形成するアリール
部としては、ベンゼン環、ピリジン環、７ラン環または
チオフェン環が好ましい。これらのアリール部は１個ま
たはそれ以上、好ましくは１個〜３個の原子または基に
より置換されてもよい。置換されうる原子または基とし
ては、ハロゲン原子、炭素数ｌ〜３の低級アルキル基、
炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜３の低
級アルコキシ基、ニトロ基などが挙げられ、フッ素原子
、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル基、メト
キシ基、エトキシ基、インプロポキシ基、ニトロ基が好
ましい。アラルキル基のアルキレン部としては炭素数１
〜５の直鎖または分岐の低級アルキレンが好ましい。

Ｒ１の具体例： （＋）ヒドロキシ基（ＯＨ）、 （２）低級ハロアルキル基； 炭素数１〜５のハロアルキル基が好ましく、例えば２．
２．２−）リフルオロエチル基、２−クロロエチル基、
３−クロロプロピル基、２−ブロモエチル基、３−ブロ
モプロピル基などを挙げることができる。

（３）°低級シアノアルキル基： 炭素数ｌないし５の直鎖または分岐のアルキレン部を有
するシアノアルキル基が好ましい。

（４）低級アルケニル基および低級アルキニル基； 炭素数１ないし５のものが好ましく、例えばアリル基、
メタアリル基、クロチル、プロパルギル基、２−ブチニ
ル基などを挙げることができる。

（５）置換されてもよいアリール基および置換されでも
よいアラルキル基； これらアリール基及びアラルキル基を形成するアリール
部としては、ベンゼン環、ピリジン環、フラン環まＩ；
はチオフェン環が好ましい。これらのアリール部は１個
またはそれ以上、好まし・：は１個〜３個の原子または
基により置換されていてもよい。Ｉｔ換されうる原子ま
たは基として、ハロゲン原子、炭素数１〜３の低級アル
キル基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１
〜３の低級アルコキシ基、ニトロ基などが挙げられ、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル
基、メトキシ基、エトキシ基、インプロポキシ基、ニト
ロ基が好ましい。

一方前記アラルキル基のアルキレン部としては炭素数１
〜５の直鎖または分岐の低級アルキレンが好ましい。

このアルキレン部は１個またはそれ以上の原子または基
により置換され得る。その例としては、ハロゲン原子、
炭素数１〜３の低級アルコキシ基、炭素数１〜５の低級
アルコキンカルボニル基またはンアノ基などが挙げられ
、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メトキシ基、エト
キシ基、ｎ−プロポキシ基、メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、シアノ基が好ましい。

（６）低級アルコキシ基： 炭素数１〜５の低級アルコキシ基が好ましく、例えばメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、インプロポ
キシ基などが挙げられる。

（７）置換されてもよいアリールオキシ基および置換さ
れてもよいアラルキルオキシ基：これらアリールオキシ
基およびアラルキルオキシ基を形成するアリール部とし
ては、ベンゼン環、ピリジン環、７ラン環またはチオフ
ェン環が好ましい。これらのアリール部は１個またはそ
れ以上の原子まＩ；は基により置換され得るがその例と
しては、例えばハロゲン原子、炭素数１〜３の低級アル
キル基、炭素数ｌ〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１
〜３の低級アルコキシ基、ニトロ基などが挙げられ、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル
基、メトキン基、エトキシ基、インプロポキシ基、ニト
ロ基が好ましい。

一方前記アラルキルオキシ基のアルキレン部としては炭
素数ｌ〜５の直鎖または分岐の低級アルキレンが好まし
い。

（８）アルコキシアルキル基： アルコキシ部としては炭素数１〜５の低級アルコキシ基
が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロ
ポキシ基、インプロポキシ基などを挙げることができる
。アルコキシアルキル基のアルキレン部としては炭素数
１〜５の直鎖または分岐の低級アルキレンが好ましい。

（９）置換されてもよいアリールオキシアルキル基およ
び置換されてもよいアラルキルオキ・ンアルキル基： これらの基を形成しているアリール部としては、ベンゼ
ン環、ピリジン環、フラン環またはチオフェン環が好ま
しい。これらのアリール部は、１個またはそれ以上の原
子または基により置換され得るが、その例としては、ハ
ロゲン原子、炭素数ｌ〜３の低級アルキル基、炭素数ｌ
〜３の低級ハロアルキル基、炭素数ｌ〜３の低級アルコ
キシ基、ニトロ基などが挙げられ、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
インプロピル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、
エトキシ基、インプロポキシ基、ニトロ基が好ましい。

アリールオキシアルキル基のフルキレン部およびアラル
キルオキシアルキル基のアルキレン部としては各々炭素
数ｌ〜５の直鎖または分岐の低級アルキレンが好ましい
。

（１０）アルキルカルボニル基： アルキルカルボニル基のアルキル部としては炭素数１〜
５の低級アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基などが挙げられる。

（ＩＩ）　Ｒ換されてもよいアリールカルボニル基およ
び置換されてもよいアラルキルカルボニル基； これらの基を形成しているアリール部としては、ベンゼ
ン環、ピリジン環、７ラン環またはチオフェン環が好ま
しい。これらのアリール部は、Ｊｆｊｉまたはそれ以上
の原子まＩ−は基により置換され得るが、その例として
は、ハロゲン原子、炭素数１〜３の低級アルキル基、炭
素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜３の低級
アルコキシ基、ニトロ基などが挙げられ、７７素原子、
塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル基、メトキ
シ基、エトキシ基、インプロポキシ基、ニトロ基が好ま
しい。アラルキルカルボニル基のアルキレン部としては
炭素数１〜５の直鎖または分岐の低級アルキレンが好ま
しい。

（＋２）アルキルカルボニルアルキル基：この基におけ
るアルキル部としては、炭素数ｌないし５の低級アルキ
ル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、などが挙げ
られる。一方アルキル力ルポニルアルキル基のアルキレ
ン部としては、炭素数１ないし５の直鎖または分岐の低
級アルキレンが好ましい。

（１３）ｌｉｔ換されてもよいアリールカルボニルアル
キル基および置換されてもよいアラルキルカルボニルア
ルキル基； これらの基を形成しているアリール部としては、ベンゼ
ン環、ピリジン環、７ラン環またはチオフェン環が好ま
しい。これらのアリール部は、１個またはそれ以上の原
子または基により置換され得るが、その例としては、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜３の低級アルキル基、炭素数１
〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜３の低級アルコ
キシ基、ニトロ基などが挙げられ、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、
エトキシ基、イソプロポキシ基、ニトロ基が好ましい。

アリールカルボニルアルキル基のアルキレン部及びアラ
ルキルカルボニルアルキル基のアルキレン部としては、
各々、炭素数１〜５の直鎖または分岐の低級アルキレン
が好ましい。

（１４）アルコキ／カルボニル基： この基におけるアルコキン部としては炭素数１〜５の低
級アルコキン基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキ
シ基、ｎ−プロポキシ基、インプロポキシ基などが挙げ
られる。

（１５）置換されてもよいアリールオキシカルボニル基
および置換されてもよいアラルキルオキン力ルボニル基
； これらの基を形成しているアリール部としては、ベンゼ
ン環、ピリジン環、フラン環またはチオフェン環が好ま
しい。これらのアリール部は、１個またはそれ以上の原
子または基により置換され得るが、その例としては、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜３の低級アルキル基、炭素数１
〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜３の低級アルコ
キシ基、ニトロ基などが挙げられ、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、
エトキシ基、インプロポキシ基、ニトロ基が好ましい。

一方アラルキルオキシ力ルポニル基のアルキレン部とし
ては、炭素数１〜５の直鎖または分岐の低級アルキレン
が好ましい。

（１６）アルコキシカルボニルアルキル基：この基にお
けるアルコキシ部としては、炭素数１ないし５の低級ア
ルコキシ基が好ましく、・倒えばメトキシ基、エトキシ
基、ｎ−プロポキシ基、インプロポキシ基などが挙げら
れる。一方このアルコキシカルボニルアルキル基のアル
キレン部としては炭素１〜５の直鎖まｔ；は分岐の低級
アルキレンが好ましい。

（１７）置換されてもよいアリールオキシカルボニルア
ルキル基および置換されていてもよいアラルキルオキシ
カルボニルアルキル基； これらの基を形成しているアリール部としては、ベンゼ
ン環、ピリジン環、７ラン環まｔ；はチオフェン環が好
ましい。これらのアリール部は、１個またはそれ以上の
原子または基により置換され得るが、その例としては、
ハロゲン原子、炭素数ｌ〜３の低級アルキル基、炭素数
１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜３の低級アル
コキシ基、ニトロ基などが挙げられ、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基
、イソプロピル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基
、エトキシ基、イソプロポキン基、ニトロ基が好ましい
。アリールオキシカルボニルアルキル基のアルキレン部
及びアラルキルオキシカルボニルアルキル基のアルキレ
ン部としては、各々炭素数ｌ〜５の直鎖または分岐の低
級アルキレンが好ましい。

（１８）アルコキシカルボニルアルコキシ基；この基に
おけるアルコキシ部としては、炭素数１〜５の低級アル
コキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基などが挙げられる。一
方アルキレン部としては、炭素数ｌ〜３の直鎖または分
岐の低級アルキレンが好ましい。

勿論、前記−船蔵（Ｉ）で表わされる化合物において、
光学異性体が存在するものについては、ラセミ体のみな
らずその光学異性体も本発明の範囲内に含まれることを
理解すべきである。

前記−船蔵（１）で表わされる本発明の化合物の具体例
を表１に例示する。表中、光学異性体が存在するものに
ついて、（Ｒ）または（Ｓ）と表記されたものは各々Ｒ
体、５体を表わし、無記載のものはラセミ体を表わす。

本発明の前記−船蔵（Ｉ）で表わされるベンゾフラン誘
導体は、例えば下記に示す方法により製造することがで
きるが、これらの方法に限定されるものではない。

Ａ法 （Ｉ［） （ＩＩ［） （Ｉ−ａ） １式中、 Ｘはハロゲン原子を表わし、 Ｙは基 Ｒ１は前記−船蔵（Ｉ）におけると同じ意味を示す。］ 上記−船蔵（Ｉ−ａ）で表わされる本発明化合物は式（
ＩＩ）で表わされる化合物と式（Ｉｌｌ）で表わされる
化合物とを塩基性物質の存在下に適当な溶媒中で反応さ
せることにより得ることができる。

中間体（ＩＩ）のスルホニルノ・ライドは、それ自体公
知の方法或いはそれに準する製造方法によって得ること
がでさる［例えば（Ｊ　ｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅＣ
ｈｅ＋ｏｉｃａｌ　５ｏｃｉｅｔｙ、　５ｅｒｉｅｓ　
Ｃ、ｐ　１２６５　；（１９６５年）参照。］ 使用される化合物（Ｉ［Ｉ）は、化合物（Ｉ［）に対し
、通常１．０ないし５．０モル倍が適当である。

溶媒としては、例えば、アセトンなどのケトン類：テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルなどのエーテル
類：酢酸エチルなどのエステルｗｉニジクロロメタンな
どのハロゲン化炭化水素；ベンゼン、クロロベンゼンな
どの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミドなどの極
性溶媒などを単狡または混合して使用することができる
。更に、水と前記溶媒類との混合系も実施可能である。

溶媒の使用量には特別な制限はないが、通常、化合物（
ＩＩ）の量の５ないし２０重量倍が適当である。

塩基性物資としては、例えば、炭酸アルカリ、苛性アル
カリなどの無機物資、トリエチルアミン、ピリジンなど
のアミン類の他、化合物（Ｉ［ｌ）自身を塩基性物質と
して使用することもできる。塩基性物質の使用量は、化
合物（Ｉｔ）に対し、通常１゜０ないし５．０モル倍が
適当である。

反応温度は、水冷下ないし溶媒の沸点の温度範囲で任意
に設定できる。

反応時間は、設定条件によって変化するが通常、ｌない
し２４時間で終了させることができる。

生成物（Ｉ−ａ）は常法により反応混合物から単離でき
、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどにより容易に
精製することができる。

Ｂ法 （ＩＶ）　　　　　　　　　　（Ｖ） ［式中、Ｚはハロゲン原子を表わし、ＡがＲ１を表わす
ときＢはＲ４を表わし、ＡがＲ４を表わすときＢはＲ１
を表わし、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ３およびＲ′は前記−船蔵（
１）におけると同じ意味を示す。】上記反応式において
式（１−ｂ）で表わされる本発明化合物は、化合物（Ｉ
Ｖ）と化合物（Ｖ）とを塩基性物質の存在下に適当な溶
媒中で反応させることにより得ることができる。化合物
（ｒＶ）は前述のＡ法あるいは特願平　　　　　　　号
明細書に記載の方法により製造することができる。

使用される化合物（Ｖ）は、化合物（ｍＶ）に対し、通
常１．０ないし５．０モル倍が適当である。

溶媒としては、例えば、アセトンなどのクトン類；ラト
ラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルなどのエーテル
類；酢酸エチルなどのエステル類ニジクロロメタンなど
のハロゲン化炭化水素ｆ：ベンゼン、クロロベンゼンな
どの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミドなどの極
性溶媒などを単独または混合して使用することができる
。更に、水と前記溶媒類との混合系も実施可能である。

溶媒の使用量には特別な制限はないが、通常、化合物（
ＩＶ）の量の５ないし２０重量倍が適当である。

塩基性物質としては、例えば、炭酸アルカリ、苛性アル
カリなどの無機物質、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどの金属水素化物等が使用され、その使用量は、化
合物（ｍＶ）に対し、通常１．０ないし５．０モル倍が
適当である。

反応温度は、水冷下ないし溶媒の沸点の温度範囲で任意
に設定できる。

反応時間は、設定条件によって変化するが通常、■ない
し２４時間で終了させることができる。

生成物（Ｉ−ｂ）は常法により反応混合物から単離でき
、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどにより容易に
精製することができる。

次に具体例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。

実施例　ｌ スルホンアミド（化合物Ｎｏ、３１８）の合成：０、Ｎ
−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩２゜６ｇを水冷下
、３０％水酸化ナトリウム水溶液に加え、室温にて１時
間撹拌を続けた。この水溶液をエーテル抽出し、乾燥し
た後、エーテル溶液のまま、３．３−ジメチル−２，３
−ジヒドロベンゾ７ランー５−イルスルホニルクロライ
ド５９をテトラヒドロ７ラン５＋ｉＱに溶解した溶液に
、水冷下、撹拌しながら滴下した。さらに室温にて１２
時間撹拌し、反応液をエーテル抽出し、ＩＮ塩酸、飽和
食塩水で順次洗浄した後、乾燥し、溶媒を留去してシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。目的のＮ
−メトキシ−Ｎ−メチル−　（３．３−ジメチル−２．
３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホンアミＦ
０．３５ｇ　（収率４９％）を得た。

実施例　２ ３。

３−ジメチル−２。

３−ジヒドロベンゾ７ ラン−５−イルスルホンアミド１．０ｇ、無水炭酸カリ
ウム０．８０９にアセトン７ＷＱを添力口し、撹拌下、
室温でアセチルクロライドＱ、４１＋＋＋１２を徐々に
加え、１３時間還流温度にて撹拌した。

反応液を壇酸酸性にし、エーテル抽出し、このエーテル
層を炭酸水素ナトリウム水溶液にて抽出したそ後、この
水層を再び塩ｒ１１酸性にしてエーテル抽出した。乾燥
後、溶媒を留去し、目的のＮ−アセチル−（３，３−ジ
メチル−２，３−ジヒドロベンゾ７ランー５−イル）ス
ルホンアミド０．６１９　　（収率５１％）を得た。

実施例　３ ３．３−ジメチル−２，３−ジヒドロペンツ７ランー５
−イルスルホニルクロライ、ド１．９ｇをテトラヒドロ
フラン５＋ｅ１２に溶解し、水冷下、撹拌しながらアニ
リン３．６ＩＩｌｆｌを徐々に加え、１２時間室温にて
撹拌した。反応液をエーテルにて抽出し、ＩＮ塩酸、飽
和食塩水で順次洗浄し！−後、乾燥し、溶媒を留去して
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。目的
のＮ−フェニル−（３，３−ジメチル−２，３−ジヒド
ロベンゾフラン−５−イル）スルホンアミド１．Ｏｇ　
（収率４３％）を得た。

実施例　４ ６０％水素化ナトリウム０．１０９をジメチルホルムア
ミド５＋ｏ１２に溶解し、水冷下で撹拌しながら、ジメ
チルホルムアミド５ｉに溶解したＮ−メチル−（３，３
−ジメチル−２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル
）スルホンアミド０゜６０９を滴下した。次いで、室温
にてブロモ酢酸メチル０．４２９を徐々に加え、室温の
まま１８時間撹拌を続けた。反応液をエーテル抽出し、
水洗した後、乾燥した。溶媒を留去し、シリカゲルクロ
マトグラフィーで精製しｔ；。目的のＮ−メトキシカル
ボニルメチル−Ｎ−メチル−（３，３−ジメチル−２，
３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホンアミド
０．５７９　　（収率７３％）を得た。

実施例　５ Ｎ−インプロポキシ−（３，３−ジメチル−２３−ジヒ
ドロベンゾフラン−５−イル）スルホンアミド０．５０
ｇ、無水炭酸カリウム０．２９９にジメチルホルホルム
アミド４ｖａＱを添加し、撹拌下、室温で臭化ベンジル
０．３６９を徐々に加え、１２時間室温にて撹拌した。

反応液をエーテルにて抽出し、水洗した後、乾燥し、溶
媒を留去してシリカゲルクロマトグラフィーで精製した
。

目的のＮ−ベンジル−Ｎ−インプロポキシ−（３３−ジ
メチル−２，３−ジヒドロベンゾ７ランー５−イル）ス
ルホンアミド０゜ ３ｇ （収率９６ ％）を得た６ 実施例　６ ６０％水素化ナトリウム０．１２ｇをジメチルホルムア
ミド４ｒａＱに溶解し、水冷下で撹拌しながら、ジメチ
ルホルムアミド４ｔｎＱに溶解したＮ−ベンジル−（３
，３−ジメチル−２，３−ジヒドロベンゾ７ランー５−
イル）スルホンアミド０゜９０９を滴下した。次いで、
室温にてヨウ化メチル０．４４９を徐々に加え、室温の
まま２時間半撹拌を続けた。反応液をエーテル抽出し、
水洗し、乾燥した後、再結晶により、目的のＮ−ベンジ
ル−Ｎ−メチル−（３，３−ジメチル−２，３−ジヒド
ロベンゾフラン−５−イル）スルホンアミド０．６３ｇ
　（収率６７％）を得た。

実施例　７ Ｎ−（σ−メトキシベンジル）−Ｎ−メチルー（３，３
−ジメチル−２，３−ジヒドロベンゾフロ０％水素化ナ
トリウム０．１４ｇをジメチルホルムアミド５１に溶解
し、水冷下撹拌しながら、ジメチルホルムアミド５ｍｆ
ｆに溶解したＮ−メチル−（３，３−ジメチル−２，３
−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）スルホンアミド０
．８０ｇを滴下しｔ；。次いで、室温にてα−メトキシ
ベンジルクロライド０．５７ｇを徐々に加え、室温のま
ま１８時間撹拌を続けた０反応液をエーテル抽出し、水
洗し、乾燥した後、溶媒を留去してシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製した。

目的のＮ−（σ−メトキシベンジル）−Ｎ−メチル−（
３，３−ジメチル−２，３−ジヒドロベンゾ７ランー５
−イル）スルホンアミド１．０５９（収率８８％）を得
た。

同様の方法により下記衣２記載の化合物を合成した。そ
れらの化合物のＮＭＲデータを下記衣２に示す。

表 本発明の除草剤は、前記−船蔵（１）の新規ベンゾフラ
ン誘導体を有効成分として含有している。

本発明の前記化合物を除草剤として用いる場合には、農
薬の調製に一般的に使用される担体もしくは希釈剤、添
加剤及び補助剤等とそれ自体公知の手法で混合して、通
常農薬として用いられる製剤形態、例えば粉剤、粒剤、
水和剤、札割、水溶剤、フロアブル剤等に調製して使用
される。また他の農薬、例えば殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ
剤、他の除草剤、植物生長調節剤及び肥料、土壌改良剤
等と混合または併用して使用することができる。

特に他の除草剤と混合使用することにより、使用薬量を
減少させ、また省力化をもたらすのみならず、両薬剤の
共力作用による殺草ス”ペクトラムの拡大並びに相乗作
用による一層高い効果も期待できる。

製剤に際して用いられる担体若くは希釈剤としては、一
般に農業上使用される固体ないしは液体の担体が用いら
れる。固体担体としてはカオリナイト群、モンモリロナ
イト群あるいはアバタルジャイト群等で代表されるクレ
ー類やタルク、雲母、ロウ石、軽石、バーミキュライト
、石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土、マ
グネシウム石灰、りん久方、ゼオライト、無水ケイ酸、
合成ケイ酸力ルンウム等の無機物質；大豆粉、タバコ粉
、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結晶セルロース
等の植物性有機物質：クマロン樹脂、石油樹脂、アルキ
ッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリコール
、ケトン樹脂、エステルガム、フーバルガム、ダンマル
ガム等の合成または天然の高分子化合物；そのほかカル
ナバロウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が例示
できる。

適当な液体年休としては、例えば、ケロシン、鉱油、ス
ピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィン系もしくは
ナフテン系炭化水素；トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、クメン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素二
ジオキサン、テトラヒドロ７ラン等のエーテル類：アセ
トン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン、アセトフェノン、インホロン等のケトン
類；酢酸エチル、酢酸アミル、エチレングリコールアセ
テート、ジエチレングリコールアセテート、マレイン酸
ジブチル、コハク酸ジエチル等のエステル類：メタノー
ル、ｎ−ヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコー
ル等のアルコール類；エチレングリコールエチルエーテ
ル、エチレンクリコールフェニルエーテル、ジエチレン
グリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールブチ
ルエーテル等のエーテルアルコール類；ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒あるいは水
等が挙げられる。

その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿潤、拡展、結
合、崩解性調節、有効成分安定化、流動性改良、防錆等
の目的で界面活性剤その他の補助剤を使用することもで
きる。使用される界面活性剤の例としては、非イオン性
、陰イオン性、陽イオン性及び両性イオン性のいずれの
化合物も使用しうるが、通常は非イオン性及び（又は）
陰イオン性の化合物が使用される。適当な非イオン性界
面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール、ステ
アリルアルコール、オレイルアルコール等の高級アルコ
ールにエチレンオキシドを重合付加させた化合物、イン
オクチルフェノール、ノニルフェノール等のアルキルフ
ェノールにエチレンオキシドを重合付加させた化合物、
ブチルナフトール、オクチルナフトール等のアルキルナ
フトールにエチレンオキシドを重合付加させたもの、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸
にエチレンオキシドを重合付加させた化合物、ソルビタ
ン等の多価アルコールの高級脂肪酸エステル及びそれに
エチレンオキシドを重合付加させた化合物及びエチレン
オキシドとプロピレンオキシドを重合付加させた化合物
等が挙げられる。

適当な陰イオン性界面活性剤としては、例えば、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫酸エステルア
ミン塩等のアルキルｉ酸エステル塩、スルホこはく酸ジ
オクチルエステルナトリウム、２−エチルヘキセンスル
ホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩；イソプロ
ピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メチレンビスナ
フタレンスルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸ナ
トリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の
アリールスルホン酸塩等が挙げられる。

更に本発明の除草剤には製剤の性状を改善し、除草効果
を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、ニ
カワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセルロース
、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポ
リビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を併
用することもでさる。

上記の担体および種々の補助剤は製剤の剤型、適用場面
等を考慮して、目的に応じてそれぞれ本独あるいは組み
合わせて適宜使用される。

このようにして得られた各種製剤形における本発明化合
物（有効成分）含有率は製剤形により種々変化するもの
であるが、通常０．１〜９９重量％が適当であり、とり
わけ１〜８０１１量％が最も好ましい。

粉剤の場合は、たとえば有効成分化合物を通常１〜２５
重量％含有し、残部は固体担体である。

水利剤の場合は、たとえば有効成分化合物を通常２５〜
９０重量％含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤であっ
て、必要に応じて保護コロイド剤、消泡剤等が加えられ
る。

粒剤の場合は、たとえば有効成分化合物を通常１〜３５
重量％含有し、残部は大部分が固体担体及び界面活性剤
等である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合され
ているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着もしく
は吸着されており、粒の径は約０．２ないし１．５ｍＩ
！＋である。

乳剤の場合は、たとえば有効成分化合物を通常５〜３０
重量％含有しており、これに約５ないし２０重量％の乳
化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要に応じて防
錆剤が加えられる。

７０アブル剤の場合は、例えば有効成分化合物を通常５
〜５０％含有しており、これに３ないし１０重量％の分
散１ｌｉｉｊ！！Ｓ剤が含まれ残部は水であり必要に応
じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えられる。

本発明の新規なベンゾフラン誘導体は、−数式（Ｉ）の
化合物のままあるいは上述した様な任意の調製形態で施
用することができる。

本発明の除草剤は、水田および畑地に生育する発生前か
ら生育期までの諸雑草の駆除または防除に施用できる。

その施用量は一般式（１）で表わされる化合物量（有効
成分量）としてＩｈａ当り、０．０１〜５ｋｇ程度、好
ましくは０−１−１ｋｇ程度であり、目的とする雑草の
種類、生育段階、施用場所、施用時期、天候等によって
適宜に選択変更できる。

次に、本発明の化合物を用い９た製剤例の数態様を示す
。下記製剤例中の「部」は重量基準である。

製剤例１（粒剤） 化合物Ｎｏ、１４　　　　　　　　５部ベントナイト　
　　　　　　　　５０部タルク　　　　　　　　　　　
　４０部ドデシルベンゼン スルホン酸ソーダ　　　　　　　２部 リグニンスルホン酸ソーダ　　　２部 ポリオキシエチレンスチリル フェニルエーテル　　　　　　１部 以上を充分に混合した後、適量の水を加えて混練し、造
粒機用いて造粒して粒剤１００部を得た。

製剤例２（水利剤） 化合物Ｎｏ、７Ｑ　　　　　　　　２０部ケイソウ土　
　　　　　　　　６０部 ホワイトカーボン　　　　　　１５部 リグニンスルホン酸ソーダ　　　３部 Ｆｆシルベンゼンスルホン酸 ソーダ　　　　　　　　　　２部 以上を混合し、ニーダ−で均一に混合粉砕して水利剤１
００部を得た。

製剤例３（乳剤） 化合物Ｎｏニア５　　　　　　　３０部キシレン　　　
　　　　　　　５５部 シクロヘキサノン　　　　　　１０部 ドデシルベンゼン スルホン酸カルシウム　　　　３部 ポリオキシエチレン スチリルフェニルニーｆ　ル２部 以上を均一に混合溶解して乳剤１００部を得Ｉ―。

上述の製剤例に準じて本発明の化合物を用いた薬剤がそ
れぞれ製剤できた。

（発明の効果） 本発明の上記−数式（りで表わされるベンゾフラン訴導
体は、文献未記載の新規な化合物である。この上記−数
式（１）で表わされる化合物は、ベンゾフラン骨格の５
位にスルホンアミドが結合しｔ；構造をとっていること
が特徴であり１、°その構造的特徴によって、優れた除
草効果が発現するものと考えられる。

本発明の化合物及び除草剤は農耕地に生育する発生前か
ら生育期までの諸雑草を防除でさる１例えば、ノビエ、
ホタルイ、マツバイ、ミズガヤツリ、コウキャガラ、ク
ログワイ、シズイ等の水田雑草や、メヒシバ、エノコロ
グサ、オヒシシバ、スズメツヒエ、スズメノテッポウ、
ヒス類等の畑地雑草を防除できる。更に、水田、畑地の
みならず、果樹園、桑畑、芝生、非農耕地においても試
用することができる。

しかも、本発明化合物は栽培作物に選択性を有し、特に
、イネに対する安全性が極めて高く、水田に発生する諸
雑草を有効に防除することがら、優れた水田用除草剤と
しての効果が期待できる。

次に本発明除草剤の効果を試験例をあげて説明する。

試験例　ｌ（水田土壌処理） 面積２００ｃａ’のプラスチックポットに適量の化成肥
料を混合した水田土壌を詰め、これに予め温室内で生育
させた２葉期の水稲（品種：コシヒカリ）を３株（２本
１株）移植し、更にノビエ、ホタルイの種子と、ミズガ
ヤツリ及びクログワイの塊茎を播種した。

水稲移植及び雑草播種３日後に、表３に示す各化合物を
製剤例２に準じて水利剤に調整し、有効成分でｌｈａ当
り０−５ｋｇとなるように適量の水で希釈し、ピペット
で滴下処理した。除草効果及び薬害程度の調査は、薬剤
処理３０日後に次の基準に従い行った。

その結果を表３に示す。

除草効果　　浅草率（無九理区に対す浅草率）１０　　
　　０％　　〜　　１％未満 ９　　　１％以上〜　ｌＯ％／／ ８　　　１１％〃〜　２０％！／ ２１　％ ３１％ ４１　％ ５１％ ６１％ ７１％ ８１％ ９１％ 〜　　３０％ 〜　　４０％ 〜　　５０％ 〜　　６０％ 〜　　７０％ 〜　　８０％ 〜　　９０％ 〜１００％ 完全枯死 ９０％〜９９％抑制 ８０％〜８９％ ７０％〜７９％ ６０％〜６９％ ５０％〜５９％ ４０％〜４９％ ３０％〜３９％ ２０％〜２９％ １０％〜１９％ ０％〜　９％ 表 表 （つづき） 表 （つづき） 比較化合物Ａは下記の化合物を表す。（以下の表におい
ても同様） （特開昭５５−２０７８８号公報参照）試験例　２（水
田生育期処理） 面積２００ｃａ＋”のプラスチックポットに適量の化成
肥料を混合した水田土壌を詰め、これに予め温室内で生
育させた２葉期の水稲（品種：コシヒカリ）を３株（２
本１株）移植し、更にノビエ、ホタルイの種子と、ミズ
ガヤツリ及びクログワイの塊茎を播種した。

水稲移植及び雑草播種１０日後に、表４に示す各化合物
を製剤例２に準じて水利剤に調整し、有効成分でｌｈａ
当り０．５ｋｇ又は１．ｏｋｇとなるように適量の水で
希釈し、ピペットで滴下処理した。除草効果及び薬害程
度の調査は、薬剤処理３０日後に次の基準に従い行った
。

その結果を表４に示す。

表　　４ 表 （つづき） （つづき）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は同一でも異なってもよく水素
   原子または低級アルキル基を表わし、Ｒ＾３は水素原子
   、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級シアノア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換
   されてもよいアリール基または置換されてもよいアラル
   キル基を表わし、Ｒ＾４はヒドロキシ基、低級ハロアル
   キル基、低級シアノアルキル基、低級アルケニル基、低
   級アルキニル基、置換されてもよいアリール基、置換さ
   れてもよいアラルキル基、低級アルコキシ基、置換され
   てもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアラルキ
   ルオキシ基、アルコキシアルキル基、置換されてもよい
   アリールオキシアルキル基、置換されてもよいアラルキ
   ルオキシアルキル基、アルキルカルボニル基、置換され
   てもよいアリールカルボニル基、置換されてもよいアラ
   ルキルカルボニル基、アルキルカルボニルアルキル基、
   置換されてもよいアリールカルボニルアルキル基、置換
   されてもよいアラルキルカルボニルアルキル基、アルコ
   キシカルボニル基、置換されてもよいアリールオキシカ
   ルボニル基、置換されてもよいアラルキルオキシカルボ
   ニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されて
   もよいアリールオキシカルボニルアルキル基、置換され
   てもよいアラルキルオキシカルボニルアルキル基または
   アルコキシカルボニルアルコキシ基を表わす。］で表わ
   される新規ベンゾフラン誘導体。
2. （２）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は同一でも異なってもよく水素
   原子または低級アルキル基を表わし、Ｒ＾３は水素原子
   、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級シアノア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換
   されてもよいアリール基または置換されてもよいアラル
   キル基を表わし、Ｒ＾４はヒドロキシ基、低級ハロアル
   キル基、低級シアノアルキル基、低級アルケニル基、低
   級アルキニル基、置換されてもよいアリール基、置換さ
   れてもよいアラルキル基、低級アルコキシ基、置換され
   てもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアラルキ
   ルオキシ基、アルコキシアルキル基、置換されてもよい
   アリールオキシアルキル基、置換されてもよいアラルキ
   ルオキシアルキル基、アルキルカルボニル基、置換され
   てもよいアリールカルボニル基、置換されてもよいアラ
   ルキルカルボニル基、アルキルカルボニルアルキル基、
   置換されてもよいアリールカルボニルアルキル基、置換
   されてもよいアラルキルカルボニルアルキル基、アルコ
   キシカルボニル基、置換されてもよいアリールオキシカ
   ルボニル基、置換されてもよいアラルキルオキシカルボ
   ニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、置換されて
   もよいアリールオキシカルボニルアルキル基、置換され
   てもよいアラルキルオキシカルボニルアルキル基または
   アルコキシカルボニルアルコキシ基を表わす。］で表わ
   される、ベンゾフラン誘導体を有効成分として含有する
   ことを特徴とする除草剤。