JPH0446261B2 - - Google Patents
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- JPH0446261B2 JPH0446261B2 JP7513883A JP7513883A JPH0446261B2 JP H0446261 B2 JPH0446261 B2 JP H0446261B2 JP 7513883 A JP7513883 A JP 7513883A JP 7513883 A JP7513883 A JP 7513883A JP H0446261 B2 JPH0446261 B2 JP H0446261B2
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- JP
- Japan
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- dimethylformamide
- orthophenylenediamine
- diamine
- phenylene
- acid
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明はフエニレンジアミン類よりオルトフエ
ニレンジアミンを除去する方法に関するものであ
る。更に詳しくはオルトフエニレンジアミンを含
有するフエニレンジアミン類にジメチルホルムア
ミドおよび酸又はジメチルホルムアミドの重亜硫
酸塩付加物を添加してオルトフエニレンジアミン
と該添加物とを加熱反応せしめることによりオル
トフエニレンジアミンを高沸点物となした後に蒸
留することからなるフエニレンジアミン類よりオ
ルトフエニレンジアミンを除去する方法に関す
る。 メタおよびパラフエニレンジアミンはゴム薬品
工業、染料・顔料工業において古くから多量に用
いられており、最近では耐熱性ポリアミド用の原
料として工業的に重要な用途を持つものである。 通常、メタフエニレンジアミンはメタジニトロ
ベンゼンの還元により、又パラフエニレンジアミ
ンはパラニトロアニリンあるいはパラアミノアゾ
ベンゼンの還元により製造されるが、このような
方法によつて製造されるメタおよびパラフエニレ
ンジアミンには通常オルトフエニレンジアミンが
約１〜10重量％程度不純物として存在する。 従来、このようなオルトフエニレンジアミンを
含有したメタおよびパラフエニレンジアミン類よ
りオルトフエニレンジアミンを除去する方法とし
ては、例えば特公昭57−7623号公報に示されてい
るグルコースまたはグリオキザールもしくはその
重亜硫酸塩付加物を添加して蒸留することにより
オルト芳香族ジアミンを分離する方法、及び特公
昭57−7624号公報に示されているホルムアミドも
しくはホルムアミドおよび酸を添加して加熱処理
した後に蒸留し、オルト芳香族ジアミンを分離す
る方法等が公知である。 しかしながら、これらの方法においてはフエニ
レンジアミン類の融点よりも常圧系もしくは減圧
系におけるグリオキザール及びホルムアミドの沸
点が低いために蒸留操作時に直接添加処理を実施
することが困難であり、工業的実施に当つては加
圧系の前処理を実施することが必須となるという
不都合及び十分な効果を得るために多量の試剤を
使用しなければならないという不都合を有してい
る。 本発明者らは、これら従来法の欠点を克服し、
より簡単な方法でしかも効率よくオルトフエニレ
ンジアミンの含有量が極めて少ない乃至は全く含
有されないメタおよびパラフエニレンジアミンを
得る方法につき鋭意検討を重ねた結果、オルトフ
エニレンジアミンを特定の化合物と反応させ、蒸
留する場合には高純度のフエニレンジアミン類が
得られることを見出し本発明に到達した。すなわ
ち、本発明はオルトフエニレンジアミンを含有す
るフエニレンジアミン類にジメチルホルムアミド
および酸又はジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩
付加物の存在下に約100〜270℃において加熱処理
した後蒸留するか、もしくは約100〜270℃の温度
において蒸留することによるオルトフエニレンジ
アミンを含有するフエニレンジアミン類から効率
良くオルトフエニレンジアミンを除去する方法を
提供するにある。 本発明方法の実施に当り、処理対象として用い
られるオルトフエニレンジアミンを含有するフエ
ニレンジアミン類は特に限定されるものではない
が、通常メタジニトロベンゼンの還元により製造
したメタフエニレンジアミン或いはパラアミノア
ゾベンゼンの還元及びクロルアニリンのアンモニ
アによるアンモノリシス及びニトロアニリンの還
元及びアミノフエノールのアンモニアによる水酸
基のアミン化及びジクロルベンゼンのアンモニア
によるアンモノリシス等により製造されたパラフ
エニレンジアミン等が好適に用いられる。一般に
これらの方法によつて製造されるフエニレンジア
ミン類中にはオルト体が約10重量％以下量含有さ
れている。 本発明方法を実施するに当り、上記フエニレン
ジアミン類に対してジメチルホルムアミドと酸又
はジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物が添
加され、フエニレンジアミン類中に存在するオル
トフエニレンジアミンと反応させる。 ジメチルホルムアミドと組合せて用いられる酸
としては硫酸、塩酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、酢酸、安息香酸等が挙げられ
る。 ジメチルホルムアミドの添加量はフエニレンジ
アミン類中のオルトフエニレンジアミンの含有量
によつて決定されるが、通常含有されているオル
トフエニレンジアミンに対するジメチルホルムア
ミドのモル比として１以上、好ましくは1.05〜４
の範囲で用いられる。 オルトフエニレンジアミンに対するジメチルホ
ルムアミドのモル比が１未満になるとオルトフエ
ニレンジアミンの除去率が低下するし、一方４よ
り過剰になると未反応のジメチルホルムアミドの
処理を要するので工業的には望ましくない。 また、酸の添加量は一般にフエニレンジアミン
類中に存在するオルトフエニレンジアミンに対し
てモル比で0.1以上、好ましくは0.3〜２の割合で
用いられる。しかして酸の存在しない状態でオル
トフエニレンジアミンを含有するフエニレンジア
ミン類にジメチルホルムアミドのみを添加し、加
熱処理した場合にはオルトフエニレンジアミンを
十分に除去できないのである。 また、本発明において用いられる重亜硫酸塩類
としては亜硫酸のナトリウム塩、アンモニウム塩
等を挙げることができる。 ジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物はジ
メチルホルムアミドと重亜硫酸塩とを混合するこ
とにより容易に製造することができるし、又ジメ
チルホルムアミドと重亜硫酸塩を別々にフエニレ
ンジアミン類に添加することによつても同じ効果
を得る事ができる。 ジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物の添
加量については通常含有されるオルトフエニレン
ジアミンに対するモル比で１以上、好ましくは
1.05〜４程度である事が望ましい。 オルトフエニレンジアミンに対するジメチルホ
ルムアミドの重亜硫酸塩付加物のモル比が１未満
になるとオルトフエニレンジアミンの除去率が低
下するし、一方４より過剰になると未反応のジメ
チルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物の処理を要
するので工業的には望ましくない。 本発明方法の実施に当り、オルトフエニレンジ
アミンを含有するフエニレンジアミン類に上記添
加剤を添加した混合物はオルトフエニレンジアミ
ンと添加剤を反応させ、オルトフエニレンジアミ
ンを高沸点物に転化させるために加熱される。 フエニレンジアミン類にジメチルホルムアミド
および酸又はジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩
付加物を添加して加熱処理もしくは加熱処理条件
下で蒸留する場合の温度は添加剤の添加量および
種類によつて異なるが、一般には温度が270℃以
上ではフエニレンジアミン類の分解およびタール
化が促進され、回収されるメタおよびパラフエニ
レンジアミンの収率が著じるしく低下するし、又
100℃より温度が低い場合にはオルトフエニレン
ジアミンの除去率が低くなるので、通常100〜270
℃の温度範囲について処理される。 加熱処理時間は特に制限されないが通常数秒〜
60分程度で十分である。加熱処理時間をさらに長
くしても特に問題はない。 上記のようにして加熱処理されたフエニレンジ
アミン類は次いで蒸留処理に付されて目的とする
オルト体を含有しないフエニレンジアミンを分離
回収する。蒸留温度は操作圧力との関係で任意に
選べばよい。 以上の説明においてはフエニレンジアミン類に
添加剤を加え加熱処理した後蒸留する場合につい
て説明したが、本発明方法はこの加熱処理と蒸留
を同時に実施することもでき、特に好ましい実施
形態である。かかる実施形態の場合、蒸留は約
100〜270℃にて実施される。その理由は加熱処理
条件と同じである。 かくして、蒸留して得られたフエニレンジアミ
ン留分中にはオルト体の含有量は0.5重量％以下、
望むらくは0.01重量％以下となすことが出来、そ
の工業的価値は極めて高いものである。 以上詳述したような本発明方法によれば、従来
公知の方法に比較して少量の添加剤によりオルト
フエニレンジアミン含有量の極めて少ない乃至は
全く含有しないメタ又はパラフエニレンジアミン
を得ることができるという工業的利益が発揮され
る。また、本発明方法は従来法のように加圧反応
を必要としないという実施上の簡便性をも有して
いる。 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例により何ら制限を受け
るものではない。なお、実施例中百分率は重量％
である。 実施例 １ 3.0％のオルトフエニレンジアミンおよび2.4％
のアニリンを含有するパラフエニレンジアミン
330ｇを500c.c.の丸底フラスコに仕込み、キヤピラ
リーより窒素ガスを導入しつつ、釜温度165〜180
℃にて完全に溶解させた後、ジメチルホルムアミ
ド19.4ｇ（オルトフエニレンジアミンに対して
2.9倍モル相当）および36％塩酸7.5ｇを順に釜液
中に添加し、全還流を30分実施した。次いで30〜
60mmHgの減圧下、釜温度160〜180℃で単蒸留を
行い、アニリン、水、ジメチルホルムアミド等を
含有した初留分33ｇを除いた後パラフエニレンジ
アミンを主成分とする留分275ｇを得た。 パラフエニレンジアミン留分中のオルトフエニ
レンジアミンの濃度は0.01％であつた。 一方比較のため、上記において塩酸を添加しな
い以外は全く同様にして処理した。その結果、得
られたパラフエニレンジアミン留分中のオルトフ
エニレンジアミンの濃度は2.8％であつた。 実施例 ２ 実施例１と同じ組成のパラフエニレンジアミン
300ｇを実施例１で用いたと同一装置に仕込み同
じ方法で完全に溶解させた後50％亜硫酸水素アン
モニウム水溶液を16.0ｇとジメチルホルムアミド
を18.3ｇ（オルトフエニレンジアミンに対して
3.0倍モル相当）とを混合した溶液を釜液中に添
加し、全還流を60分実施した。次いで30〜60mm
Hgの減圧下釜温度160〜180℃で単蒸留を行い、
アニリン、水、ジメチルホルムアミド等を含有し
た初留分38ｇを除いた後パラフエニレンジアミン
を主成分とする留分236ｇを得た。パラフエニレ
ンジアミン留分中のオルトフエニレンジアミンの
濃度は0.18％であつた。 実施例 ３〜７ 実施例１と同じ組成のパラフエニレンジアミン
350ｇを実施例１で用いたと同一装置に仕込み同
じ方法で完全に溶解させた後、ジメチルホルムア
ミドおよび酸を第１表に示した割合で添加し、全
還流を40分実施した後30〜60mmHgの減圧下釜温
度160〜180℃で単蒸留を行い、初留分35〜40ｇを
除いた後パラフエニレンジアミンを主成分とする
留分を得た。パラフエニレンジアミン留分中のオ
ルトフエニレンジアミンの濃度を分析した。結果
を第１表に示した。
ニレンジアミンを除去する方法に関するものであ
る。更に詳しくはオルトフエニレンジアミンを含
有するフエニレンジアミン類にジメチルホルムア
ミドおよび酸又はジメチルホルムアミドの重亜硫
酸塩付加物を添加してオルトフエニレンジアミン
と該添加物とを加熱反応せしめることによりオル
トフエニレンジアミンを高沸点物となした後に蒸
留することからなるフエニレンジアミン類よりオ
ルトフエニレンジアミンを除去する方法に関す
る。 メタおよびパラフエニレンジアミンはゴム薬品
工業、染料・顔料工業において古くから多量に用
いられており、最近では耐熱性ポリアミド用の原
料として工業的に重要な用途を持つものである。 通常、メタフエニレンジアミンはメタジニトロ
ベンゼンの還元により、又パラフエニレンジアミ
ンはパラニトロアニリンあるいはパラアミノアゾ
ベンゼンの還元により製造されるが、このような
方法によつて製造されるメタおよびパラフエニレ
ンジアミンには通常オルトフエニレンジアミンが
約１〜10重量％程度不純物として存在する。 従来、このようなオルトフエニレンジアミンを
含有したメタおよびパラフエニレンジアミン類よ
りオルトフエニレンジアミンを除去する方法とし
ては、例えば特公昭57−7623号公報に示されてい
るグルコースまたはグリオキザールもしくはその
重亜硫酸塩付加物を添加して蒸留することにより
オルト芳香族ジアミンを分離する方法、及び特公
昭57−7624号公報に示されているホルムアミドも
しくはホルムアミドおよび酸を添加して加熱処理
した後に蒸留し、オルト芳香族ジアミンを分離す
る方法等が公知である。 しかしながら、これらの方法においてはフエニ
レンジアミン類の融点よりも常圧系もしくは減圧
系におけるグリオキザール及びホルムアミドの沸
点が低いために蒸留操作時に直接添加処理を実施
することが困難であり、工業的実施に当つては加
圧系の前処理を実施することが必須となるという
不都合及び十分な効果を得るために多量の試剤を
使用しなければならないという不都合を有してい
る。 本発明者らは、これら従来法の欠点を克服し、
より簡単な方法でしかも効率よくオルトフエニレ
ンジアミンの含有量が極めて少ない乃至は全く含
有されないメタおよびパラフエニレンジアミンを
得る方法につき鋭意検討を重ねた結果、オルトフ
エニレンジアミンを特定の化合物と反応させ、蒸
留する場合には高純度のフエニレンジアミン類が
得られることを見出し本発明に到達した。すなわ
ち、本発明はオルトフエニレンジアミンを含有す
るフエニレンジアミン類にジメチルホルムアミド
および酸又はジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩
付加物の存在下に約100〜270℃において加熱処理
した後蒸留するか、もしくは約100〜270℃の温度
において蒸留することによるオルトフエニレンジ
アミンを含有するフエニレンジアミン類から効率
良くオルトフエニレンジアミンを除去する方法を
提供するにある。 本発明方法の実施に当り、処理対象として用い
られるオルトフエニレンジアミンを含有するフエ
ニレンジアミン類は特に限定されるものではない
が、通常メタジニトロベンゼンの還元により製造
したメタフエニレンジアミン或いはパラアミノア
ゾベンゼンの還元及びクロルアニリンのアンモニ
アによるアンモノリシス及びニトロアニリンの還
元及びアミノフエノールのアンモニアによる水酸
基のアミン化及びジクロルベンゼンのアンモニア
によるアンモノリシス等により製造されたパラフ
エニレンジアミン等が好適に用いられる。一般に
これらの方法によつて製造されるフエニレンジア
ミン類中にはオルト体が約10重量％以下量含有さ
れている。 本発明方法を実施するに当り、上記フエニレン
ジアミン類に対してジメチルホルムアミドと酸又
はジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物が添
加され、フエニレンジアミン類中に存在するオル
トフエニレンジアミンと反応させる。 ジメチルホルムアミドと組合せて用いられる酸
としては硫酸、塩酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、酢酸、安息香酸等が挙げられ
る。 ジメチルホルムアミドの添加量はフエニレンジ
アミン類中のオルトフエニレンジアミンの含有量
によつて決定されるが、通常含有されているオル
トフエニレンジアミンに対するジメチルホルムア
ミドのモル比として１以上、好ましくは1.05〜４
の範囲で用いられる。 オルトフエニレンジアミンに対するジメチルホ
ルムアミドのモル比が１未満になるとオルトフエ
ニレンジアミンの除去率が低下するし、一方４よ
り過剰になると未反応のジメチルホルムアミドの
処理を要するので工業的には望ましくない。 また、酸の添加量は一般にフエニレンジアミン
類中に存在するオルトフエニレンジアミンに対し
てモル比で0.1以上、好ましくは0.3〜２の割合で
用いられる。しかして酸の存在しない状態でオル
トフエニレンジアミンを含有するフエニレンジア
ミン類にジメチルホルムアミドのみを添加し、加
熱処理した場合にはオルトフエニレンジアミンを
十分に除去できないのである。 また、本発明において用いられる重亜硫酸塩類
としては亜硫酸のナトリウム塩、アンモニウム塩
等を挙げることができる。 ジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物はジ
メチルホルムアミドと重亜硫酸塩とを混合するこ
とにより容易に製造することができるし、又ジメ
チルホルムアミドと重亜硫酸塩を別々にフエニレ
ンジアミン類に添加することによつても同じ効果
を得る事ができる。 ジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物の添
加量については通常含有されるオルトフエニレン
ジアミンに対するモル比で１以上、好ましくは
1.05〜４程度である事が望ましい。 オルトフエニレンジアミンに対するジメチルホ
ルムアミドの重亜硫酸塩付加物のモル比が１未満
になるとオルトフエニレンジアミンの除去率が低
下するし、一方４より過剰になると未反応のジメ
チルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物の処理を要
するので工業的には望ましくない。 本発明方法の実施に当り、オルトフエニレンジ
アミンを含有するフエニレンジアミン類に上記添
加剤を添加した混合物はオルトフエニレンジアミ
ンと添加剤を反応させ、オルトフエニレンジアミ
ンを高沸点物に転化させるために加熱される。 フエニレンジアミン類にジメチルホルムアミド
および酸又はジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩
付加物を添加して加熱処理もしくは加熱処理条件
下で蒸留する場合の温度は添加剤の添加量および
種類によつて異なるが、一般には温度が270℃以
上ではフエニレンジアミン類の分解およびタール
化が促進され、回収されるメタおよびパラフエニ
レンジアミンの収率が著じるしく低下するし、又
100℃より温度が低い場合にはオルトフエニレン
ジアミンの除去率が低くなるので、通常100〜270
℃の温度範囲について処理される。 加熱処理時間は特に制限されないが通常数秒〜
60分程度で十分である。加熱処理時間をさらに長
くしても特に問題はない。 上記のようにして加熱処理されたフエニレンジ
アミン類は次いで蒸留処理に付されて目的とする
オルト体を含有しないフエニレンジアミンを分離
回収する。蒸留温度は操作圧力との関係で任意に
選べばよい。 以上の説明においてはフエニレンジアミン類に
添加剤を加え加熱処理した後蒸留する場合につい
て説明したが、本発明方法はこの加熱処理と蒸留
を同時に実施することもでき、特に好ましい実施
形態である。かかる実施形態の場合、蒸留は約
100〜270℃にて実施される。その理由は加熱処理
条件と同じである。 かくして、蒸留して得られたフエニレンジアミ
ン留分中にはオルト体の含有量は0.5重量％以下、
望むらくは0.01重量％以下となすことが出来、そ
の工業的価値は極めて高いものである。 以上詳述したような本発明方法によれば、従来
公知の方法に比較して少量の添加剤によりオルト
フエニレンジアミン含有量の極めて少ない乃至は
全く含有しないメタ又はパラフエニレンジアミン
を得ることができるという工業的利益が発揮され
る。また、本発明方法は従来法のように加圧反応
を必要としないという実施上の簡便性をも有して
いる。 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例により何ら制限を受け
るものではない。なお、実施例中百分率は重量％
である。 実施例 １ 3.0％のオルトフエニレンジアミンおよび2.4％
のアニリンを含有するパラフエニレンジアミン
330ｇを500c.c.の丸底フラスコに仕込み、キヤピラ
リーより窒素ガスを導入しつつ、釜温度165〜180
℃にて完全に溶解させた後、ジメチルホルムアミ
ド19.4ｇ（オルトフエニレンジアミンに対して
2.9倍モル相当）および36％塩酸7.5ｇを順に釜液
中に添加し、全還流を30分実施した。次いで30〜
60mmHgの減圧下、釜温度160〜180℃で単蒸留を
行い、アニリン、水、ジメチルホルムアミド等を
含有した初留分33ｇを除いた後パラフエニレンジ
アミンを主成分とする留分275ｇを得た。 パラフエニレンジアミン留分中のオルトフエニ
レンジアミンの濃度は0.01％であつた。 一方比較のため、上記において塩酸を添加しな
い以外は全く同様にして処理した。その結果、得
られたパラフエニレンジアミン留分中のオルトフ
エニレンジアミンの濃度は2.8％であつた。 実施例 ２ 実施例１と同じ組成のパラフエニレンジアミン
300ｇを実施例１で用いたと同一装置に仕込み同
じ方法で完全に溶解させた後50％亜硫酸水素アン
モニウム水溶液を16.0ｇとジメチルホルムアミド
を18.3ｇ（オルトフエニレンジアミンに対して
3.0倍モル相当）とを混合した溶液を釜液中に添
加し、全還流を60分実施した。次いで30〜60mm
Hgの減圧下釜温度160〜180℃で単蒸留を行い、
アニリン、水、ジメチルホルムアミド等を含有し
た初留分38ｇを除いた後パラフエニレンジアミン
を主成分とする留分236ｇを得た。パラフエニレ
ンジアミン留分中のオルトフエニレンジアミンの
濃度は0.18％であつた。 実施例 ３〜７ 実施例１と同じ組成のパラフエニレンジアミン
350ｇを実施例１で用いたと同一装置に仕込み同
じ方法で完全に溶解させた後、ジメチルホルムア
ミドおよび酸を第１表に示した割合で添加し、全
還流を40分実施した後30〜60mmHgの減圧下釜温
度160〜180℃で単蒸留を行い、初留分35〜40ｇを
除いた後パラフエニレンジアミンを主成分とする
留分を得た。パラフエニレンジアミン留分中のオ
ルトフエニレンジアミンの濃度を分析した。結果
を第１表に示した。
【表】
実施例 ８
500c.c.の丸底フラスコに4.5％のオルトフエニレ
ンジアミン、2.0％のメタフエニレンジアミンを
含有するパラフエニレンジアミン300ｇを仕込み
キヤピラリーより窒素ガスを導入しつつ釜温度
165〜180℃にて完全に溶解させた後、酢酸を6.3
ｇとジメチルホルムアミドを20.9ｇ（オルトフエ
ニレンジアミンに対して2.3倍モル相当）とを混
合した溶液を釜液中に添加、全還流を20分実施し
た。次いで30〜60mmHgの減圧下還流比５にて蒸
留を行い、ジメチルホルムアミド等を含有した初
留分18ｇを除いた後パラフエニレンジアミンを主
成分とする留分245ｇを得た。パラフエニレンジ
アミン留分中のオルトフエニレンジアミンの濃度
は0.03％、メタフエニレンジアミンの濃度は1.9
％であつた。 実施例 ９ 500c.c.の丸底フラスコに3.1％のオルトフエニレ
ンジアミン、6.8％のパラフエニレンジアミンを
含有するメタフエニレンジアミン315ｇを仕込み、
キヤピラリーより窒素ガスを導入しつつ釜温度
160〜190℃にて完全に溶解させた後ジメチルホル
ムアミドを14.7ｇ（オルトフエニレンジアミンに
対して2.2倍モル相当）とパラトルエンスルホン
酸12.6ｇとを混合した溶液を釜液中に添加し、全
還流を45分実施した。次いで30〜45mmHgの減圧
下で単蒸留を行い、ジメチルホルムアミド等を含
有した初留分32ｇを除いた後メタフエニレンジア
ミンを主成分とする留分248ｇを得た。 メタフエニレンジアミン留分中のオルトフエニ
レンジアミンの濃度は0.02％、パラフエニレンジ
アミンの濃度は6.2％であつた。
ンジアミン、2.0％のメタフエニレンジアミンを
含有するパラフエニレンジアミン300ｇを仕込み
キヤピラリーより窒素ガスを導入しつつ釜温度
165〜180℃にて完全に溶解させた後、酢酸を6.3
ｇとジメチルホルムアミドを20.9ｇ（オルトフエ
ニレンジアミンに対して2.3倍モル相当）とを混
合した溶液を釜液中に添加、全還流を20分実施し
た。次いで30〜60mmHgの減圧下還流比５にて蒸
留を行い、ジメチルホルムアミド等を含有した初
留分18ｇを除いた後パラフエニレンジアミンを主
成分とする留分245ｇを得た。パラフエニレンジ
アミン留分中のオルトフエニレンジアミンの濃度
は0.03％、メタフエニレンジアミンの濃度は1.9
％であつた。 実施例 ９ 500c.c.の丸底フラスコに3.1％のオルトフエニレ
ンジアミン、6.8％のパラフエニレンジアミンを
含有するメタフエニレンジアミン315ｇを仕込み、
キヤピラリーより窒素ガスを導入しつつ釜温度
160〜190℃にて完全に溶解させた後ジメチルホル
ムアミドを14.7ｇ（オルトフエニレンジアミンに
対して2.2倍モル相当）とパラトルエンスルホン
酸12.6ｇとを混合した溶液を釜液中に添加し、全
還流を45分実施した。次いで30〜45mmHgの減圧
下で単蒸留を行い、ジメチルホルムアミド等を含
有した初留分32ｇを除いた後メタフエニレンジア
ミンを主成分とする留分248ｇを得た。 メタフエニレンジアミン留分中のオルトフエニ
レンジアミンの濃度は0.02％、パラフエニレンジ
アミンの濃度は6.2％であつた。
Claims (1)
- １ オルトフエニレンジアミンを含有するフエニ
レンジアミン類をジメチルホルムアミドおよび酸
又はジメチルホルムアミドの重亜硫酸塩付加物の
存在下に約100〜270℃において加熱処理した後蒸
留するか、もしくは約100〜270℃の温度において
蒸留することを特徴とするフエニレンジアミン類
よりオルトフエニレンジアミンを除去する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7513883A JPS59199658A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | フエニレンジアミン類よりオルトフエニレンジアミンを除去する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7513883A JPS59199658A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | フエニレンジアミン類よりオルトフエニレンジアミンを除去する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59199658A JPS59199658A (ja) | 1984-11-12 |
| JPH0446261B2 true JPH0446261B2 (ja) | 1992-07-29 |
Family
ID=13567529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7513883A Granted JPS59199658A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | フエニレンジアミン類よりオルトフエニレンジアミンを除去する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59199658A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200141128A (ko) | 2019-06-10 | 2020-12-18 | 금호석유화학 주식회사 | 오르토-디아민계 화합물의 분리방법 |
-
1983
- 1983-04-27 JP JP7513883A patent/JPS59199658A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59199658A (ja) | 1984-11-12 |
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