JPH0456769B2 - - Google Patents
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- JPH0456769B2 JPH0456769B2 JP60212671A JP21267185A JPH0456769B2 JP H0456769 B2 JPH0456769 B2 JP H0456769B2 JP 60212671 A JP60212671 A JP 60212671A JP 21267185 A JP21267185 A JP 21267185A JP H0456769 B2 JPH0456769 B2 JP H0456769B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- sialon
- aluminum
- silicon
- nitrogen
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/082—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
- C01B21/0821—Oxynitrides of metals, boron or silicon
- C01B21/0826—Silicon aluminium oxynitrides, i.e. sialons
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明はサイアロン粉末、特にβ−サイアロン
粉末の製法に関する。 （従来技術及びその問題点） β−窒化珪素の珪素の位置にアルミニウムが、
窒素の位置に酸素が置換型固溶した物質がβ−サ
イアロンである。サイアロンはSi−Ａ−Ｏ−Ｎ
系の化合物と固溶体との総称であるが、通常単に
サイアロンと言えばβ−サイアロンを意味し、一
般式Si6-zＡzOzN8-z（式中、ｚは０より大きく
4.2以下の数である。）で表される。本明細書にお
いては特に断らない限り、サイアロンはβ−サイ
アロンを意味する。 サイアロンは高温における耐酸化性が大きく、
溶融金属又はスラグに対する耐蝕性も優れている
ため、サイアロン粉末は各種耐火物原料として有
用なものである。また、サイアロン粉末を焼結し
て得られるサイアロン焼結体は高温強度及び硬度
が大きく、エンジン部品、ガスタービン部品ある
いは切削工具として優れている。 サイアロン質粉末の製法としては、例えば以下
のような方法が知られている。 (1) 天然のシリカ−アルミナ系鉱物であるカオリ
ナイト等の粘土鉱物に炭素を加え、窒素気流中
で加熱することにより還元窒化する方法［窯業
協会誌、91、442（1983）］。 (2) シラス等のシリカ原料にアルミニウム金属を
加え、窒素気流中で加熱する方法。 (3) 水酸化アルミニウムとシリカゲルとの共沈殿
物をアンモニア雰囲気下で加熱する方法［アメ
リカン セラミツク ソサイアテイー ブリテ
イン、58、191（1979）］。 (4) シリコンアルコキシドとアルミニウムアルコ
キシドとの混合粉末を加水分解して得たシリカ
−アルミナ混合物に炭素粉末を均一分散させ、
窒素ガス雰囲気下で加熱する方法（特開昭60−
145902号公報）。 上記(1)及び(2)に方法は、天然原料を使用するた
め、多量の不純物がサイアロン粉末中に残留する
欠点がある。(3)の方法は反応が完結いないため未
反応物が生成サイアロン粉末中に残る欠点があ
る。(4)の方法では、かなり高い純度で微粒のサイ
アロン粉末が得られるが、それでも未反応の炭素
が残るとか［窯業協会誌、93、69（1985）参照］、
任意の組成のサイアロン粉末を得ることが困難で
ある［窯業協会誌、93、34、（1985）参照］とか
の欠点があり、原料及びプロセスの面から工業的
製法としては満足のいくものではない。 （発明の目的及び要旨） 本発明は、高純度で微細粒状のサイアロン粉末
の工業的製法を提供することを目的とする。 本発明の要旨は、 (a) 非晶質窒化珪素粉末、 (b) 珪素又はアルミニウムの酸素含有化合物（以
下物質ｂと云うことがある）、及び (c) 金属アルミニウム、窒化アルミニウム又は珪
素（以下物質ｃと云うことがある） を所望のサイアロン組成になるように混合した
後、混合物を含窒素ガス雰囲気下に1300〜1800℃
の温度範囲に加熱して結晶化させることにある。 （発明の効果） 本発明によれば、高純度で微粒かつ均一粒度で
あつて、前記式において任意のｚ（但し、ｚは０
より大きく4.2以下である。）を有するサイアロン
単一組成の粉末を製造することができる。本発明
で得られるサイアロン粉末は焼結性に優れてお
り、その焼結体は、結晶質窒化珪素粉末、アルミ
ナ粉末及び窒化アルミニウム粉末の混合物を焼結
する従来法で得られる焼結体に比較して、均一で
むらの少ない組成を有しており、信頼性の高い構
造材料となる。 （発明の具体的説明） 非晶質窒化珪素粉末とは、公知の方法、例えば
四ハロゲン化珪素とアンモニアとを液相又は気相
で反応させた反応生成物をさらに加熱処理して得
られる物質であり、通常のＸ線回析によつて明確
な回析現象が現れない、所謂非晶質の粉末であ
る。上記反応生成物の加熱処理の条件によつて
は、Ｘ線回析で僅かに回析現象が現れる粉末も得
られるが、このような粉末も本発明における非晶
質窒化珪素粉末に包含される。 珪素の酸素含有化合物の例としては、シリカ、
シリカ含有物、シリカ前駆体、例えばシリコンア
ルコキシドが挙げられ、中でも非晶質のシリカが
好ましく使用される。 アルミニウムの酸素含有化合物の例としては、
アルミナ、アルミナ含有物、アルミナ前駆体、例
えば水酸化アルミニウム、アルミニウムアルコキ
シドが挙げられ、中でもアルミナが好ましく使用
され、特にγ−アルミナのように1000℃以上の高
温で熱処理されていないアルミナが最も好ましく
使用される。 珪素又はアルミニウムの酸素含有化合物は粉末
状であることが望ましい。両化合物は単独で使用
しても良く、併用しても良い。 金属アルミニウム、窒化アルミニウム又は珪素
も粉末状であることが望ましい。これらの物質は
単独で使用することもでき、併用することもでき
る。 本発明において、珪素又はアルミニウムの酸素
含有化合物はサイアロン中の酸素を供給する働き
をし、金属アルミニウム又は珪素は、結晶化の途
中で含窒素ガス雰囲気から窒素を吸収して、非晶
質窒化珪素粉末に基づく窒素と共にサイアロン中
の窒素を供給し制御する働きをするものと考えら
れる。 非晶質窒化珪素粉末、物質ｂ及び物質ｃの配合
割合は、混合された粉末の全珪素、全アルミニウ
ム及び全酸素が、目的とするサイアロン組成とな
るような割合であれば良い。 非晶質窒化珪素粉末、物質ｂ及び物質ｃを混合
する方法については特に制限はなく、そじ自体公
知の方法、例えば、三者を乾式混合する方法、不
活性液体中で三者を湿式混合した後、不活性液体
を除去する方法等を適宜採用することができる。
混合装置としては、Ｖ型混合機、ボールミル及び
振動ボールミルが好ましく使用される。三者の混
合物の別の調製方法としては、非晶質窒化珪素粉
末の前駆体、例えばシリコンジイミド又はシリコ
ンテトラミドに物質ｂ及び物質ｃを混合分散さ
せ、この分散物を加熱処理する方法も採用するこ
とができる。上記各種の調製方法においては、非
晶質窒化珪素粉末あるいはその前駆体は酸素、水
に対して極めて敏感であるので、制御された不活
性雰囲気下で取り扱う必要がある。 非晶質窒化珪素、物質ｂ及び物質ｃの混合物
を、含窒素ガス雰囲気下に加熱して、結晶化され
たサイアロン粉末を得る。 含窒素ガス雰囲気の例としては、窒素ガス、ア
ンモニアの雰囲気、これらを含有するアルゴン雰
囲気などがある。 加熱温度は1300〜1800℃である。加熱温度が
1300℃より低いと、結晶化に長時間を要して工業
的ではなく、加熱温度が1800℃を超えると、一酸
化珪素などの分散飛散が起こり、所望のサイアロ
ン組成からずれた粉末が生成するので好ましくな
い。加熱時間は通常20時間以下である。 混合粉末の加熱時に使用される加熱炉について
は特に制限がなく、例えば、高周波誘導加熱方式
又は抵抗加熱方式によるバツチ式炉、ロータリー
炉、流動化炉、プツシヤー炉などを使用すること
ができる。 本発明で得られるサイアロン粉末は、一次粒子
の大きさが0.2〜2μで微細かつ均一粒度の粉末で
ある。 （実施例） 以下に実施例を示す。 実施例 １ シリコンジイミドを1200℃で熱処理して得た非
晶質窒化珪素粉末127.6g、γ−アルミナ（比表面
積：100m2／ｇ）38.8g及び金属アルミニウム粉末
（比表面積：0.3m2／ｇ）16.0gを窒素ガス雰囲気
下、振動ミルで１時間混合した。この混合粉末を
カーボン製ルツボに充填して高周波誘導炉にセツ
トし、窒素ガス雰囲気下で、室温から1200℃まで
を１時間、1200℃から1400℃までを４時間、さら
に1400℃から1600℃までを２時間の昇温スケジユ
ールで加熱することによつて結晶化させた。 得られた粉末を調べたところ、一次粒子の大き
さは0.3〜0.6μで揃つており、Ｘ線回析でもβ−
サイアロンであることが確認された。各元素の分
析値を第１表に示すが、目的とした組成のサイア
ロン粉末が得られていることがわかる。尚、不純
物である鉄は180ppm、カルシウムは200ppmであ
つた。 実施例 ２ 原料混合物の組成を第１表に記載のように変え
た以外は実施例１と同様の方法を繰返した。得ら
れた粉末の一次粒子径は0.4〜0.7μで、Ｘ線回析
でもβ−サイアロンであることが確認された。各
元素の分析値を第１表に示す。 実施例 ３ 原料混合物の配合割合を第１表に記載のように
変え、さらに結晶化の昇温スケジユールを、室温
から1200℃までを１時間、1200℃から1400℃まで
を6.7時間、1400℃から1700℃までを３時間に変
えた以外は実施例１と同様の方法を繰返した。得
られた粉末の一次粒子径は0.2〜0.5μで、Ｘ線回
析でもβ−サイアロンであることが確認された。
各元素の分析値を第１表に示す。
粉末の製法に関する。 （従来技術及びその問題点） β−窒化珪素の珪素の位置にアルミニウムが、
窒素の位置に酸素が置換型固溶した物質がβ−サ
イアロンである。サイアロンはSi−Ａ−Ｏ−Ｎ
系の化合物と固溶体との総称であるが、通常単に
サイアロンと言えばβ−サイアロンを意味し、一
般式Si6-zＡzOzN8-z（式中、ｚは０より大きく
4.2以下の数である。）で表される。本明細書にお
いては特に断らない限り、サイアロンはβ−サイ
アロンを意味する。 サイアロンは高温における耐酸化性が大きく、
溶融金属又はスラグに対する耐蝕性も優れている
ため、サイアロン粉末は各種耐火物原料として有
用なものである。また、サイアロン粉末を焼結し
て得られるサイアロン焼結体は高温強度及び硬度
が大きく、エンジン部品、ガスタービン部品ある
いは切削工具として優れている。 サイアロン質粉末の製法としては、例えば以下
のような方法が知られている。 (1) 天然のシリカ−アルミナ系鉱物であるカオリ
ナイト等の粘土鉱物に炭素を加え、窒素気流中
で加熱することにより還元窒化する方法［窯業
協会誌、91、442（1983）］。 (2) シラス等のシリカ原料にアルミニウム金属を
加え、窒素気流中で加熱する方法。 (3) 水酸化アルミニウムとシリカゲルとの共沈殿
物をアンモニア雰囲気下で加熱する方法［アメ
リカン セラミツク ソサイアテイー ブリテ
イン、58、191（1979）］。 (4) シリコンアルコキシドとアルミニウムアルコ
キシドとの混合粉末を加水分解して得たシリカ
−アルミナ混合物に炭素粉末を均一分散させ、
窒素ガス雰囲気下で加熱する方法（特開昭60−
145902号公報）。 上記(1)及び(2)に方法は、天然原料を使用するた
め、多量の不純物がサイアロン粉末中に残留する
欠点がある。(3)の方法は反応が完結いないため未
反応物が生成サイアロン粉末中に残る欠点があ
る。(4)の方法では、かなり高い純度で微粒のサイ
アロン粉末が得られるが、それでも未反応の炭素
が残るとか［窯業協会誌、93、69（1985）参照］、
任意の組成のサイアロン粉末を得ることが困難で
ある［窯業協会誌、93、34、（1985）参照］とか
の欠点があり、原料及びプロセスの面から工業的
製法としては満足のいくものではない。 （発明の目的及び要旨） 本発明は、高純度で微細粒状のサイアロン粉末
の工業的製法を提供することを目的とする。 本発明の要旨は、 (a) 非晶質窒化珪素粉末、 (b) 珪素又はアルミニウムの酸素含有化合物（以
下物質ｂと云うことがある）、及び (c) 金属アルミニウム、窒化アルミニウム又は珪
素（以下物質ｃと云うことがある） を所望のサイアロン組成になるように混合した
後、混合物を含窒素ガス雰囲気下に1300〜1800℃
の温度範囲に加熱して結晶化させることにある。 （発明の効果） 本発明によれば、高純度で微粒かつ均一粒度で
あつて、前記式において任意のｚ（但し、ｚは０
より大きく4.2以下である。）を有するサイアロン
単一組成の粉末を製造することができる。本発明
で得られるサイアロン粉末は焼結性に優れてお
り、その焼結体は、結晶質窒化珪素粉末、アルミ
ナ粉末及び窒化アルミニウム粉末の混合物を焼結
する従来法で得られる焼結体に比較して、均一で
むらの少ない組成を有しており、信頼性の高い構
造材料となる。 （発明の具体的説明） 非晶質窒化珪素粉末とは、公知の方法、例えば
四ハロゲン化珪素とアンモニアとを液相又は気相
で反応させた反応生成物をさらに加熱処理して得
られる物質であり、通常のＸ線回析によつて明確
な回析現象が現れない、所謂非晶質の粉末であ
る。上記反応生成物の加熱処理の条件によつて
は、Ｘ線回析で僅かに回析現象が現れる粉末も得
られるが、このような粉末も本発明における非晶
質窒化珪素粉末に包含される。 珪素の酸素含有化合物の例としては、シリカ、
シリカ含有物、シリカ前駆体、例えばシリコンア
ルコキシドが挙げられ、中でも非晶質のシリカが
好ましく使用される。 アルミニウムの酸素含有化合物の例としては、
アルミナ、アルミナ含有物、アルミナ前駆体、例
えば水酸化アルミニウム、アルミニウムアルコキ
シドが挙げられ、中でもアルミナが好ましく使用
され、特にγ−アルミナのように1000℃以上の高
温で熱処理されていないアルミナが最も好ましく
使用される。 珪素又はアルミニウムの酸素含有化合物は粉末
状であることが望ましい。両化合物は単独で使用
しても良く、併用しても良い。 金属アルミニウム、窒化アルミニウム又は珪素
も粉末状であることが望ましい。これらの物質は
単独で使用することもでき、併用することもでき
る。 本発明において、珪素又はアルミニウムの酸素
含有化合物はサイアロン中の酸素を供給する働き
をし、金属アルミニウム又は珪素は、結晶化の途
中で含窒素ガス雰囲気から窒素を吸収して、非晶
質窒化珪素粉末に基づく窒素と共にサイアロン中
の窒素を供給し制御する働きをするものと考えら
れる。 非晶質窒化珪素粉末、物質ｂ及び物質ｃの配合
割合は、混合された粉末の全珪素、全アルミニウ
ム及び全酸素が、目的とするサイアロン組成とな
るような割合であれば良い。 非晶質窒化珪素粉末、物質ｂ及び物質ｃを混合
する方法については特に制限はなく、そじ自体公
知の方法、例えば、三者を乾式混合する方法、不
活性液体中で三者を湿式混合した後、不活性液体
を除去する方法等を適宜採用することができる。
混合装置としては、Ｖ型混合機、ボールミル及び
振動ボールミルが好ましく使用される。三者の混
合物の別の調製方法としては、非晶質窒化珪素粉
末の前駆体、例えばシリコンジイミド又はシリコ
ンテトラミドに物質ｂ及び物質ｃを混合分散さ
せ、この分散物を加熱処理する方法も採用するこ
とができる。上記各種の調製方法においては、非
晶質窒化珪素粉末あるいはその前駆体は酸素、水
に対して極めて敏感であるので、制御された不活
性雰囲気下で取り扱う必要がある。 非晶質窒化珪素、物質ｂ及び物質ｃの混合物
を、含窒素ガス雰囲気下に加熱して、結晶化され
たサイアロン粉末を得る。 含窒素ガス雰囲気の例としては、窒素ガス、ア
ンモニアの雰囲気、これらを含有するアルゴン雰
囲気などがある。 加熱温度は1300〜1800℃である。加熱温度が
1300℃より低いと、結晶化に長時間を要して工業
的ではなく、加熱温度が1800℃を超えると、一酸
化珪素などの分散飛散が起こり、所望のサイアロ
ン組成からずれた粉末が生成するので好ましくな
い。加熱時間は通常20時間以下である。 混合粉末の加熱時に使用される加熱炉について
は特に制限がなく、例えば、高周波誘導加熱方式
又は抵抗加熱方式によるバツチ式炉、ロータリー
炉、流動化炉、プツシヤー炉などを使用すること
ができる。 本発明で得られるサイアロン粉末は、一次粒子
の大きさが0.2〜2μで微細かつ均一粒度の粉末で
ある。 （実施例） 以下に実施例を示す。 実施例 １ シリコンジイミドを1200℃で熱処理して得た非
晶質窒化珪素粉末127.6g、γ−アルミナ（比表面
積：100m2／ｇ）38.8g及び金属アルミニウム粉末
（比表面積：0.3m2／ｇ）16.0gを窒素ガス雰囲気
下、振動ミルで１時間混合した。この混合粉末を
カーボン製ルツボに充填して高周波誘導炉にセツ
トし、窒素ガス雰囲気下で、室温から1200℃まで
を１時間、1200℃から1400℃までを４時間、さら
に1400℃から1600℃までを２時間の昇温スケジユ
ールで加熱することによつて結晶化させた。 得られた粉末を調べたところ、一次粒子の大き
さは0.3〜0.6μで揃つており、Ｘ線回析でもβ−
サイアロンであることが確認された。各元素の分
析値を第１表に示すが、目的とした組成のサイア
ロン粉末が得られていることがわかる。尚、不純
物である鉄は180ppm、カルシウムは200ppmであ
つた。 実施例 ２ 原料混合物の組成を第１表に記載のように変え
た以外は実施例１と同様の方法を繰返した。得ら
れた粉末の一次粒子径は0.4〜0.7μで、Ｘ線回析
でもβ−サイアロンであることが確認された。各
元素の分析値を第１表に示す。 実施例 ３ 原料混合物の配合割合を第１表に記載のように
変え、さらに結晶化の昇温スケジユールを、室温
から1200℃までを１時間、1200℃から1400℃まで
を6.7時間、1400℃から1700℃までを３時間に変
えた以外は実施例１と同様の方法を繰返した。得
られた粉末の一次粒子径は0.2〜0.5μで、Ｘ線回
析でもβ−サイアロンであることが確認された。
各元素の分析値を第１表に示す。
【表】
目標 非晶質窒 γ−ア
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (a) 非晶質窒化珪素粉末、 (b) 珪素又はアルミニウムの酸素含有化合物、及
び (c) 金属アルミニウム、窒化アルミニウム又は珪
素 を所望のサイアロン組成になるように混合した
後、混合物を含窒素ガス雰囲気下に1300〜1800℃
の温度範囲に加熱して結晶化させることを特徴と
するサイアロン粉末の製法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60212671A JPS6272507A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | サイアロン粉末の製法 |
| US06/910,601 US4812298A (en) | 1985-09-27 | 1986-09-23 | Method for producing sialon powders |
| DE8686307353T DE3668607D1 (de) | 1985-09-27 | 1986-09-24 | Verfahren zum herstellen von sialonpulvern. |
| EP86307353A EP0217633B1 (en) | 1985-09-27 | 1986-09-24 | Method for producing sialon powders |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60212671A JPS6272507A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | サイアロン粉末の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6272507A JPS6272507A (ja) | 1987-04-03 |
| JPH0456769B2 true JPH0456769B2 (ja) | 1992-09-09 |
Family
ID=16626470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60212671A Granted JPS6272507A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | サイアロン粉末の製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4812298A (ja) |
| EP (1) | EP0217633B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6272507A (ja) |
| DE (1) | DE3668607D1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US6936849B1 (en) | 1997-07-29 | 2005-08-30 | Micron Technology, Inc. | Silicon carbide gate transistor |
| US6965123B1 (en) | 1997-07-29 | 2005-11-15 | Micron Technology, Inc. | Transistor with variable electron affinity gate and methods of fabrication and use |
| US7005344B2 (en) | 1997-07-29 | 2006-02-28 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a device with a gallium nitride or gallium aluminum nitride gate |
| US7109548B2 (en) | 1997-07-29 | 2006-09-19 | Micron Technology, Inc. | Operating a memory device |
| US7196929B1 (en) | 1997-07-29 | 2007-03-27 | Micron Technology Inc | Method for operating a memory device having an amorphous silicon carbide gate insulator |
Families Citing this family (10)
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|---|---|---|---|---|
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| US4977113A (en) * | 1989-05-15 | 1990-12-11 | Aluminum Company Of America | Process for producing silicon aluminum oxynitride by carbothermic reaction |
| US5108967A (en) * | 1989-05-15 | 1992-04-28 | Aluminum Company Of America | Process for producing nonequiaxed silicon aluminum oxynitride |
| EP0399107B1 (en) * | 1989-05-22 | 1996-03-20 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | High strength silicon nitride sintered body and process for producing same |
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| WO1993000310A1 (en) * | 1991-06-27 | 1993-01-07 | Benchmark Structural Ceramics Corporation | Improved sialon composition |
| US5453232A (en) * | 1992-06-24 | 1995-09-26 | Benchmark Structural Ceramic Corporation | Sialon composition |
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| JP4942062B2 (ja) * | 2003-09-22 | 2012-05-30 | 昭栄化学工業株式会社 | 酸窒化物の製造方法 |
| JP4494306B2 (ja) * | 2005-07-27 | 2010-06-30 | 電気化学工業株式会社 | α型サイアロン粉末の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| US3991166A (en) * | 1972-01-11 | 1976-11-09 | Joseph Lucas (Industries) Limited | Ceramic materials |
| US3991148A (en) * | 1972-11-01 | 1976-11-09 | Joseph Lucas (Industries) Limited | Method of forming ceramic products |
| US4127416A (en) * | 1976-07-24 | 1978-11-28 | Lucas Industries Limited | Method of producing a ceramic product |
| FR2365517A1 (fr) * | 1976-09-27 | 1978-04-21 | Ceraver | Procede de fabrication de nitrures de silicium modifies |
| GB1600602A (en) * | 1977-03-17 | 1981-10-21 | Lucas Industries Ltd | Tool tip for a machine tool |
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