JPH0465341A - 貴金属―ビスマス系超電導積層体 - Google Patents
貴金属―ビスマス系超電導積層体Info
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- JPH0465341A JPH0465341A JP2175737A JP17573790A JPH0465341A JP H0465341 A JPH0465341 A JP H0465341A JP 2175737 A JP2175737 A JP 2175737A JP 17573790 A JP17573790 A JP 17573790A JP H0465341 A JPH0465341 A JP H0465341A
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- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、貴金属−ビスマス系超電導積層体に関する。
さらに詳しくは、ビスマス系超電導体層を貴金属基板上
に貴金属含有ビスマス含有複合酸化物中間層を介して積
層した貴金属−ビスマス系超電導積層体に関する。
に貴金属含有ビスマス含有複合酸化物中間層を介して積
層した貴金属−ビスマス系超電導積層体に関する。
近年、酸化物超電導体は高い臨界温度(Tc)を示すこ
とで注目を集め、電力分野、核磁気共鳴コンピュータ断
層診断装置(M RI : Magnetic Re5
onance Imaging ) 、(fi気シール
ド等の各分野での用途が期待されている。酸化物超電導
体の中でもB1−5r−Ca−Cu−0酸化物等のビス
マス系(以下、単にBl系とする。)超電導体は、特に
Tcがより高くそれを利用する研究開発が盛んである。
とで注目を集め、電力分野、核磁気共鳴コンピュータ断
層診断装置(M RI : Magnetic Re5
onance Imaging ) 、(fi気シール
ド等の各分野での用途が期待されている。酸化物超電導
体の中でもB1−5r−Ca−Cu−0酸化物等のビス
マス系(以下、単にBl系とする。)超電導体は、特に
Tcがより高くそれを利用する研究開発が盛んである。
従来から、金属やセラミックス等の基板上6二酸化物超
電導体層を形成して酸化物超電導体を構造体に利用する
ことが提案されている。金属基板上にBi系超超電導体
層形成する方法も各種提案され、また基板とBi系超超
電導体層の反応性の問題から中間層も各種提案されてい
る。例えば特開昭63−305574号においては、ア
ルミナ、ジルコニア、銅等の基板と超電導体との間に超
電導体と化学的反応を起こさず、密着性のよい白金(P
t)、銀(Ag)、金(Au)等貴金属の中間層を介在
させることが提案されている。更に、特開平1−252
533では、Ag、 Au、pt等貴金属を基板として
その上にBi系超電導体層を積層することが提案されて
いる。
電導体層を形成して酸化物超電導体を構造体に利用する
ことが提案されている。金属基板上にBi系超超電導体
層形成する方法も各種提案され、また基板とBi系超超
電導体層の反応性の問題から中間層も各種提案されてい
る。例えば特開昭63−305574号においては、ア
ルミナ、ジルコニア、銅等の基板と超電導体との間に超
電導体と化学的反応を起こさず、密着性のよい白金(P
t)、銀(Ag)、金(Au)等貴金属の中間層を介在
させることが提案されている。更に、特開平1−252
533では、Ag、 Au、pt等貴金属を基板として
その上にBi系超電導体層を積層することが提案されて
いる。
1発明が解決しようとする課題]
しかし、Bi系超電導体とは化学的に安定とされる貴金
属の中間層を形成しても、Bi系超電導体の焼成温度が
850〜960°Cとかなり高温であるため、貴金属中
間層と金属基板間で剥離が生じ、Bi系超電導体と金属
基板とが反応し超電導特性が劣化したり、また、室温か
ら900°Cの熱膨張係数20〜22×10−6/°C
の貴金属と13〜14X I O−6/’CのBi系超
電導体とは、両者の密着性が良好で、貴金属の塑性変形
性により積層体形成されても、超電導特性を発現させる
液体窒素温度における急冷サイクルが繰り返されるよう
な冷却速度が大きい場合には、両者の大きな熱膨張差に
より酸化物超電導体にクランクが生じる等の耐熱衝撃性
が劣る問題がある。
属の中間層を形成しても、Bi系超電導体の焼成温度が
850〜960°Cとかなり高温であるため、貴金属中
間層と金属基板間で剥離が生じ、Bi系超電導体と金属
基板とが反応し超電導特性が劣化したり、また、室温か
ら900°Cの熱膨張係数20〜22×10−6/°C
の貴金属と13〜14X I O−6/’CのBi系超
電導体とは、両者の密着性が良好で、貴金属の塑性変形
性により積層体形成されても、超電導特性を発現させる
液体窒素温度における急冷サイクルが繰り返されるよう
な冷却速度が大きい場合には、両者の大きな熱膨張差に
より酸化物超電導体にクランクが生じる等の耐熱衝撃性
が劣る問題がある。
本発明は、貴金属基板上にBi系超電導体が積層形成さ
れた貴金属−Bi系超電導体において、貴金属基板とB
i系超電導層との熱膨張差による上記欠点を解消し耐熱
衝撃性に優れる貴金属=BiBi系超電導体供すること
を目的とする。
れた貴金属−Bi系超電導体において、貴金属基板とB
i系超電導層との熱膨張差による上記欠点を解消し耐熱
衝撃性に優れる貴金属=BiBi系超電導体供すること
を目的とする。
こ課題を解決するための手段:
本発明によれば、貴金属−ビスマス系超電導積層体であ
って、貴金属基板上Q+該貴金属を含有するヒスマス系
超電導体を構成する複合酸化物中間層とビスマス系超電
導体層か順次形成さ乙りことを特徴とする貴金属−ヒス
マス系超電導積層体力・提供される。
って、貴金属基板上Q+該貴金属を含有するヒスマス系
超電導体を構成する複合酸化物中間層とビスマス系超電
導体層か順次形成さ乙りことを特徴とする貴金属−ヒス
マス系超電導積層体力・提供される。
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の積層体の基板は、いわゆる貴金属であるAg、
Au、 Pt、 Pd (パラジウム)及びこれらの
合金が用いられ、工業的にはAgが好適である。
Au、 Pt、 Pd (パラジウム)及びこれらの
合金が用いられ、工業的にはAgが好適である。
本発明におけるBi系超電導体としては、組成が限定さ
れるものでなく、例えば低Tc相のBizSr)4Ca
Cu20X、高Tc相のBizSrzCazCu、、0
、に代表される組成、鉛(Pb)、アンチモン(Sb)
等を含有する組成、定圧組成からずれた組成、主要元素
を他の元素で一部または全部置換した組成等のいずれの
Bi系超電導体であってもよい。
れるものでなく、例えば低Tc相のBizSr)4Ca
Cu20X、高Tc相のBizSrzCazCu、、0
、に代表される組成、鉛(Pb)、アンチモン(Sb)
等を含有する組成、定圧組成からずれた組成、主要元素
を他の元素で一部または全部置換した組成等のいずれの
Bi系超電導体であってもよい。
本発明においてBi系超電導体層は、Bi系超超電導体
原料粉末例えばビスマス、カルシウム、ストロンチウム
及び銅の金属酸化物2炭酸塩、水酸化物、金属アルコキ
シド及び硝酸塩の粉末を焼成により酸化物超電導体を構
成するように配合した混合粉末、その混合粉末を800
〜950°Cで仮焼したBl系超電導結晶相からなる粉
末、混合粉末を400〜80・OoCで仮焼し焼成によ
り超電導特性を発現するようにした仮焼中間生成物粉末
、混合粉末のフリット粉末またはこれらの混合粉末等を
用い、スプレー塗布法、パウダー塗布法、ドクターブレ
ード法、溶射法等の公知のいずれの成形法によってもよ
い。
原料粉末例えばビスマス、カルシウム、ストロンチウム
及び銅の金属酸化物2炭酸塩、水酸化物、金属アルコキ
シド及び硝酸塩の粉末を焼成により酸化物超電導体を構
成するように配合した混合粉末、その混合粉末を800
〜950°Cで仮焼したBl系超電導結晶相からなる粉
末、混合粉末を400〜80・OoCで仮焼し焼成によ
り超電導特性を発現するようにした仮焼中間生成物粉末
、混合粉末のフリット粉末またはこれらの混合粉末等を
用い、スプレー塗布法、パウダー塗布法、ドクターブレ
ード法、溶射法等の公知のいずれの成形法によってもよ
い。
本発明においては、上記貴金属基板とその上に積層する
Bi系超電導体層との間に、Bi系超電導体を構成する
複合酸化物に基板に用いる貴金属を含有させ、貴金属−
Bi系超超電導複合酸化物して中間層を形成する。
Bi系超電導体層との間に、Bi系超電導体を構成する
複合酸化物に基板に用いる貴金属を含有させ、貴金属−
Bi系超超電導複合酸化物して中間層を形成する。
中間層のBi系超電導体を構成する複合酸化物とは、上
記Bi系超電導体の構成主成分のビスマス(B1)、ス
トロンチウム(Sr)、カルシウム(Ca)及び銅(C
u)を主成分とする複合酸化物であり、BJ系超超電導
体層形成するBi系超超電導体組成実質的に同一である
。中間層に含有する貴金属は、基板の貴金属と同一金属
とするのが好ましいが、異なる貴金属、合金を用いても
よい。
記Bi系超電導体の構成主成分のビスマス(B1)、ス
トロンチウム(Sr)、カルシウム(Ca)及び銅(C
u)を主成分とする複合酸化物であり、BJ系超超電導
体層形成するBi系超超電導体組成実質的に同一である
。中間層に含有する貴金属は、基板の貴金属と同一金属
とするのが好ましいが、異なる貴金属、合金を用いても
よい。
本発明の上記中間層は、Bl系超電導体原料粉末に貴金
属単体または酸化物、硝酸塩等の化合物粉末として下記
の組成比率になるように、且つ貴金属がBl系超電導体
組成複合酸化物中に均一に分散するように添加混合した
原料粉末を用いて、Bi系超電導層と同様に公知のいず
れかの成形方法により形成することができる。
属単体または酸化物、硝酸塩等の化合物粉末として下記
の組成比率になるように、且つ貴金属がBl系超電導体
組成複合酸化物中に均一に分散するように添加混合した
原料粉末を用いて、Bi系超電導層と同様に公知のいず
れかの成形方法により形成することができる。
本発明の中間層において、含有される貴金属は、形成さ
れる中間層の貴金属−Bl系超電導複合酸化物中20〜
80容量%とするのが好ましい。中間層酸化物中の貴金
属は、Bl系超電導体組成の複合酸化物中に貴金属単体
相として分散状態で存在することになるが、貴金属が8
0容量%を超えると中間層形成の際貴金属の融点以上の
温度にて焼成収縮させることになり基板の貴金属も融解
し形態を保持できなくなり好ましくない。また20容量
%未溝の場合は、熱膨張差を緩和するという中間層とし
ての効果が少ない。
れる中間層の貴金属−Bl系超電導複合酸化物中20〜
80容量%とするのが好ましい。中間層酸化物中の貴金
属は、Bl系超電導体組成の複合酸化物中に貴金属単体
相として分散状態で存在することになるが、貴金属が8
0容量%を超えると中間層形成の際貴金属の融点以上の
温度にて焼成収縮させることになり基板の貴金属も融解
し形態を保持できなくなり好ましくない。また20容量
%未溝の場合は、熱膨張差を緩和するという中間層とし
ての効果が少ない。
本発明の中間層の貴金属−Bi系超超電導複合酸化物、
含有する貴金属の容積率の増加に伴い、その熱膨張係数
かBI系超超電導体熱膨張係数値から貴金属の熱膨張係
数値へほぼ直線的Qこ変化する。
含有する貴金属の容積率の増加に伴い、その熱膨張係数
かBI系超超電導体熱膨張係数値から貴金属の熱膨張係
数値へほぼ直線的Qこ変化する。
従って、耐熱衝撃性を最大限クニ発揮させる必要かある
場合には、貴金属基板とBi系超電導層との間に、貴金
属含有容積率がBl系超電導層方向に連続して逓減する
複数の中間層を形成して傾斜材料構造の中間層とするこ
ともできる。実用的には製造工程の容易性から、貴金属
含有容積率50%の中間層を1層形成させるか、貴金属
基板側から貴金属が67容量%含有の第一中間層、33
容量%含有の第二中間層と形成し、第二中間層上にBi
系超電導層を形成するのが好ましい。
場合には、貴金属基板とBi系超電導層との間に、貴金
属含有容積率がBl系超電導層方向に連続して逓減する
複数の中間層を形成して傾斜材料構造の中間層とするこ
ともできる。実用的には製造工程の容易性から、貴金属
含有容積率50%の中間層を1層形成させるか、貴金属
基板側から貴金属が67容量%含有の第一中間層、33
容量%含有の第二中間層と形成し、第二中間層上にBi
系超電導層を形成するのが好ましい。
本発明の積層体において、貴金属基板は300μm〜1
価の範囲の厚さが好ましい。300μm未満では基板と
しての強度が不十分であり、1皿を超えた場合はコスト
的二こ実用的でない。B」系超電導層の厚さ1ま、10
0μm〜5 mmの範囲の厚さが好ましい。100μW
未満で;よ超電導特性の発現が不十分となるおそれかあ
り、特に磁気シールド材としては不適当である。51n
Inを超える場合はBi系超電導層の焼結が均−二二進
行せず好ましくない。また貴金属−B】系超電導複合酸
化物の中間層の厚さは、20μm〜1 mmの範囲か好
まじい320μm未満では熱膨張差の緩和層としての機
能か不十分であり、1mmを超える場合は超電導層Oこ
比し不必要に厚くなり好ま巳くない。中間層か複数層に
形成する場合は、各層は20μm以上にする必要がある
が、中間層全体としては上記のように1mm以下とする
のが好ましい。
価の範囲の厚さが好ましい。300μm未満では基板と
しての強度が不十分であり、1皿を超えた場合はコスト
的二こ実用的でない。B」系超電導層の厚さ1ま、10
0μm〜5 mmの範囲の厚さが好ましい。100μW
未満で;よ超電導特性の発現が不十分となるおそれかあ
り、特に磁気シールド材としては不適当である。51n
Inを超える場合はBi系超電導層の焼結が均−二二進
行せず好ましくない。また貴金属−B】系超電導複合酸
化物の中間層の厚さは、20μm〜1 mmの範囲か好
まじい320μm未満では熱膨張差の緩和層としての機
能か不十分であり、1mmを超える場合は超電導層Oこ
比し不必要に厚くなり好ま巳くない。中間層か複数層に
形成する場合は、各層は20μm以上にする必要がある
が、中間層全体としては上記のように1mm以下とする
のが好ましい。
本発明においては、上記のように貴金属金属基板上に中
間層原料による層を形成、焼成して、貴金属基板と中間
層を一体化後に、中間層上にBi系超超電導体原料よる
層を形成し、乾燥及び焼成して、金属基板、中間層及び
Bi系超電導層とが一体化された酸化物超電導積層体を
得ることができる。
間層原料による層を形成、焼成して、貴金属基板と中間
層を一体化後に、中間層上にBi系超超電導体原料よる
層を形成し、乾燥及び焼成して、金属基板、中間層及び
Bi系超電導層とが一体化された酸化物超電導積層体を
得ることができる。
また、貴金属基板上に中間層とBi系超電導層とを同時
に焼成形成してもよい。更にまた、超電導層二二Agま
た:よ:t g 2oを、好ましくは0.5〜lO重テ
%添加して焼成することにより、より均質な超電導層を
得ることができる。
に焼成形成してもよい。更にまた、超電導層二二Agま
た:よ:t g 2oを、好ましくは0.5〜lO重テ
%添加して焼成することにより、より均質な超電導層を
得ることができる。
本発明における焼成は、酸素または空気中の酸素含有ガ
ス雰囲気中で行う。焼成温度iよ、一般に860〜92
0°Cが好ましい。
ス雰囲気中で行う。焼成温度iよ、一般に860〜92
0°Cが好ましい。
本発明の貴金属−旧糸超電導積層体は、貴金属基板上に
貴金属=Bi系超電導複合酸化物の中間層を形成し、そ
の中間層上にBi系超電導層を形成し一体化するもので
、中間層は、貴金属基板及び外表面に形成されるBi系
超電導層との双方に、相乗的に作用する。このため本発
明の酸化物超電導積層体は、金属基板上の各層が安定化
され、超電導特性を発現させる液体窒素中への浸漬、取
り出しを繰り返して使用しても剥離やクラックが生じる
ことがない。
貴金属=Bi系超電導複合酸化物の中間層を形成し、そ
の中間層上にBi系超電導層を形成し一体化するもので
、中間層は、貴金属基板及び外表面に形成されるBi系
超電導層との双方に、相乗的に作用する。このため本発
明の酸化物超電導積層体は、金属基板上の各層が安定化
され、超電導特性を発現させる液体窒素中への浸漬、取
り出しを繰り返して使用しても剥離やクラックが生じる
ことがない。
以下、本発明を実施例により、さらに詳しく説明する。
但し、本発明は、下記実施例に限定されるものでない。
実施例
BizO:+、SrCO3,CaC○3及びCuOの粉
末を1:21:2のモル比で調合り、奈留水中で混合し
た後、800°Cて10時間空気中て仮焼L、エタ、ノ
ール中Zr○2玉石で15時間粉砕″−主たる結晶相か
B2Sr、CaCu2Oア相であるBi系超電導体板焼
粉末5:Ag粉末を容積率で33%添加ソな組成物(A
)と67%添加した組成物(B)をイソプロピルアルコ
ールを用いてスラリー(A)及び(B)を作成した。
末を1:21:2のモル比で調合り、奈留水中で混合し
た後、800°Cて10時間空気中て仮焼L、エタ、ノ
ール中Zr○2玉石で15時間粉砕″−主たる結晶相か
B2Sr、CaCu2Oア相であるBi系超電導体板焼
粉末5:Ag粉末を容積率で33%添加ソな組成物(A
)と67%添加した組成物(B)をイソプロピルアルコ
ールを用いてスラリー(A)及び(B)を作成した。
Ag製の厚さ500pmで直径100++++++、高
さ4501IIIIlの円筒基板の外側表面に上記スラ
リー(A)を用いてスプレー塗布法乙こで焼結後の厚さ
が200μmとなるように膜成形し、酸素ガス雰囲気下
、890°Cで30分間焼成して焼結させ中間層(A)
を形成した。
さ4501IIIIlの円筒基板の外側表面に上記スラ
リー(A)を用いてスプレー塗布法乙こで焼結後の厚さ
が200μmとなるように膜成形し、酸素ガス雰囲気下
、890°Cで30分間焼成して焼結させ中間層(A)
を形成した。
次いで、上記中間層(A)上にスラリー(B)を用いて
同様に膜成形し、酸素ガス雰囲気下、895°Cで30
分間焼成して焼結させ中間層(B)を形成じだ。得られ
た中間層(A)反び(B)からなる中間層の厚さは、総
計400μmであった。
同様に膜成形し、酸素ガス雰囲気下、895°Cで30
分間焼成して焼結させ中間層(B)を形成じだ。得られ
た中間層(A)反び(B)からなる中間層の厚さは、総
計400μmであった。
更二こ、上記で得ちnに中間層上Sこ、前記と同様のB
1n=1e仮焼す末のイソプワピルアルコールスラ゛2
]−を用いてスプレー塗布成形り、酸素ガス雰囲気下、
885°Cで30分部分溶融:二後、降温速度1″C/
分で850°Cまで徐冷じ、850゛Cて15時間、そ
の後窒素雰囲気中、400゛Cで10時間熱処理した。
1n=1e仮焼す末のイソプワピルアルコールスラ゛2
]−を用いてスプレー塗布成形り、酸素ガス雰囲気下、
885°Cで30分部分溶融:二後、降温速度1″C/
分で850°Cまで徐冷じ、850゛Cて15時間、そ
の後窒素雰囲気中、400゛Cで10時間熱処理した。
得られたB1系超電導層の厚さは500μmであった。
上記のようにして得られた円筒貴金属−Bi系超電導積
層体の磁気シールド能を、第1図に概要説明回を示した
磁気シールド能測定装置を用いて測定した。第1図乙こ
おいて、液体窒素容器l内ムこ液体窒素を満たし、得ら
れた積層体2を液体窒素中に浸漬して積層体が液体窒素
温度に達した後に、容器1の外側に配設した電磁石3で
外部磁場を印加して、円筒積層体内Qこ配置したガウス
メータ4でハックグラウンドより増加し始める最大外部
磁場を磁気シールド能として測定した。その後、円筒積
層体2を室内大気中に瞬時に取り出し、室温になるまで
放置した後、再び液体窒素中に浸漬急冷する冷熱サイク
ルを繰り返し、磁気シールド能を測定″−7:2 二の結果の冷熱サイクルによる磁気シールド能の変化を
第1表二二示した。
層体の磁気シールド能を、第1図に概要説明回を示した
磁気シールド能測定装置を用いて測定した。第1図乙こ
おいて、液体窒素容器l内ムこ液体窒素を満たし、得ら
れた積層体2を液体窒素中に浸漬して積層体が液体窒素
温度に達した後に、容器1の外側に配設した電磁石3で
外部磁場を印加して、円筒積層体内Qこ配置したガウス
メータ4でハックグラウンドより増加し始める最大外部
磁場を磁気シールド能として測定した。その後、円筒積
層体2を室内大気中に瞬時に取り出し、室温になるまで
放置した後、再び液体窒素中に浸漬急冷する冷熱サイク
ルを繰り返し、磁気シールド能を測定″−7:2 二の結果の冷熱サイクルによる磁気シールド能の変化を
第1表二二示した。
(以下、余白)
第 1 表
比較例
実施例と同様のAg製の円筒体に中間層を形成すること
なく、実施例と同様にして500μmのBi系超電導層
を形成した積層体を作製して、同様に冷熱サイクルによ
る磁気ンールト能の変化を測定した。その結果を第1表
に示した。
なく、実施例と同様にして500μmのBi系超電導層
を形成した積層体を作製して、同様に冷熱サイクルによ
る磁気ンールト能の変化を測定した。その結果を第1表
に示した。
上記実施例及び比較例より明らかなように、本発明の中
間層を形成して得た貴金属−Bi系超電導積層体は冷熱
サイクルの繰り返しにおいても、磁気シールド能が減少
することなく安定して超電導特性を発現することが分か
る。
間層を形成して得た貴金属−Bi系超電導積層体は冷熱
サイクルの繰り返しにおいても、磁気シールド能が減少
することなく安定して超電導特性を発現することが分か
る。
[発明の効果]
本発明は、貴金属基板上に貴金属を含有するBi系超超
電導体構成する複合酸化物の貴金属含有旧糸超電導複合
酸化物の中間層を形成し、その上にBi系超電導層を形
成させ貴金属=BiB1系超電導層体るもので、貴金属
基板と中間層、中間層とBi系超電導層の各層間の密着
性が良く、冷熱サイクルに対する耐熱衝撃性が高(、急
冷等の冷熱サイクルの繰り返しにおいても超電導特性が
劣化することなく良好な超電導特性が得られる。
電導体構成する複合酸化物の貴金属含有旧糸超電導複合
酸化物の中間層を形成し、その上にBi系超電導層を形
成させ貴金属=BiB1系超電導層体るもので、貴金属
基板と中間層、中間層とBi系超電導層の各層間の密着
性が良く、冷熱サイクルに対する耐熱衝撃性が高(、急
冷等の冷熱サイクルの繰り返しにおいても超電導特性が
劣化することなく良好な超電導特性が得られる。
第1図は本発明の貴金属−Bi系超超電導積層体磁気シ
ールド能測定装置の一例を示す概要説明図である。 ■・・・液体窒素容器 2・・・貴金属−Bi系超超電導積層
ールド能測定装置の一例を示す概要説明図である。 ■・・・液体窒素容器 2・・・貴金属−Bi系超超電導積層
Claims (2)
- (1)貴金属−ビスマス系超電導積層体であって、貴金
属基板上に該貴金属を含有するビスマス系超電導体を構
成する複合酸化物中間層とビスマス系超電導体層が順次
形成されたことを特徴とする貴金属−ビスマス系超電導
積層体。 - (2)該中間層の貴金属含有量が20〜80容量%であ
る請求項(1)記載の貴金属−ビスマス系超電導積層体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2175737A JP2506225B2 (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 貴金属―ビスマス系超電導積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2175737A JP2506225B2 (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 貴金属―ビスマス系超電導積層体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0465341A true JPH0465341A (ja) | 1992-03-02 |
| JP2506225B2 JP2506225B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=16001368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2175737A Expired - Fee Related JP2506225B2 (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 貴金属―ビスマス系超電導積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2506225B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02201819A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-10 | Toshiba Corp | 化合物超電導導体とその製造方法 |
-
1990
- 1990-07-03 JP JP2175737A patent/JP2506225B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02201819A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-10 | Toshiba Corp | 化合物超電導導体とその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2506225B2 (ja) | 1996-06-12 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |