JPH0468559A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH0468559A
JPH0468559A JP2182032A JP18203290A JPH0468559A JP H0468559 A JPH0468559 A JP H0468559A JP 2182032 A JP2182032 A JP 2182032A JP 18203290 A JP18203290 A JP 18203290A JP H0468559 A JPH0468559 A JP H0468559A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
sealing resin
mount
lead
plating layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2182032A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Ota
敏行 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に関し、特に樹脂封止型の半導体装
置に関する。
〔従来の技術〕
従来のこの種の半導体装置には、DIP、ZIP、SO
J、PLCC等のパッケージが適用され、表面実装対応
としてはSOJか主流となっており、表面実装の場合、
リフロー半田付けにより実装される。(日経マイクロデ
バイス1988年5月号36頁「大詰めを迎える4MD
RAMパッケージの開発j参照) これら半導体装置のリードフレームは、加工性の良さ等
のためその材料は銅を用いる場合が多く、半導体チップ
は年々大型化の方向にある。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の半導体装置は、リードフレームの材料と
しては銅が用いられ、半導体チップも年々大型化してい
るので、表面実装の際等の熱的衝撃、温度変化により、
リードフレームと封止樹脂部、半導体チップとの熱膨張
係数の違いのために、封止樹脂部の端部のリードフレー
ム付近に弓張り応力が集中してクラックが発生するとい
う欠点がある。
本発明の目的は、熱的衝撃や温度変化に対してもクラッ
クの発生を防止することができる半導体装置を提供する
ことにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体装置は、リード部及びマウント部を備え
たリードフレームと、このリードフレームのマウント部
にマウント材により固着搭載された半導体チップと、こ
の半導体チップ、並びに前記リードフレームのリード部
の所定の部分及びマウント部を封入する封止樹脂部とを
有する半導体装置において、前記リードフレームの表面
の所定の部分に、引張り降伏点が前記封止樹脂部より小
さい金属材料で形成されためっき層を設けて構成される
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は本発明の第1の実施例を示す断面図である。
この実施例は、リード部11及びマウント部12を備え
、銅で形成されたリードフレーム1と、このリードフレ
ーム1の上表面全体に、引張り降伏点が封止樹脂部5よ
り小さい金属材料の金をめっきして形成されためつき層
2と、リードフレーム1のマウント部12上にめっき層
2を介して銀ペースト等のマウント材3により固着搭載
された半導体チップ4と、この半導体チップ4、並びに
リードフレーム1のリード部11の所定の部分及びマウ
ント部12を内部に封入するプラスチック等の封止樹脂
部5とを有する構成となっている。
この実施例のめっき層2には金が使用され、その引張り
降伏点は約” 、”k g/mm2であり、これに対し
封止樹脂部5の引張り降伏点は約8.0kg/mm2と
なっている。
熱的衝撃や温度変化による引張り応力は、主にリードフ
レーム1と封止樹脂部5との熱膨張係数の違いにより発
生する。
従って引張り応力が発生するリードフレーム1と封止樹
脂部5との間に、塑性材料の金によるめっき層2を設け
ることにより、上記のようにめっき層2の引張り降伏点
が封止樹脂部5より小さいので、めっき層2に塑性変形
が起こり引張り応力が低減し、封止樹脂部5のクラック
の発生を防止することができる。
従来の半導体装置のリードフレームは銅で形成され、こ
の実施例のようにめっき層2がなく、かつ銅の引張り降
伏点は35kg/mm2と高いので、封止樹脂部にクラ
ックが発生していた。
実際に従来例と本発明との応力解析を行った数値例を第
1表に示す。この第1表より、加わる最大応力値は、従
来例より本発明の方が大幅に低減しており、本発明では
封止樹脂部5の引張り降伏点以下となっているのに対し
、従来例ではそれ以上となっていることが分かる。
第1表 第2図は本発明の第2の実施例を示す断面図である。
この実施例は、引張り応力が第2図の(A)部に示され
た封止樹脂部5の端部(封止樹脂部5の内側と外表面と
の境界)とリードフレーム1.めっき層2Aとの接合部
に集中するので、この部分にめっき層2Aを設けたもの
で、めっき層2Aを形成する金の量を削減しコストを低
減することができる利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、リードフレームの表面、
特に引張り応力が集中する部分を主体に、引張り降伏点
が封止樹脂部より小さい塑性金属材料のめっき層を設け
た構成とすることにより、熱的衝撃や温度変化によりこ
のめっき層に塑性変形が起り引張り応力が低下するので
、封止樹脂部等のクラックの発生を防止することができ
る効果がある。
【図面の簡単な説明】 第1図及び第2図はそれぞれ本発明の第1及び第2の実
施例を示す断面図である。 1・・・リードフレーム、2,2A・・・めっき層、3
・・・マウント材、4・・・半導体チップ、5・・・封
止樹脂部、11・・・リード部、12・・・マウント部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、リード部及びマウント部を備えたリードフレームと
    、このリードフレームのマウント部にマウント材により
    固着搭載された半導体チップと、この半導体チップ、並
    びに前記リードフレームのリード部の所定の部分及びマ
    ウント部を封入する封止樹脂部とを有する半導体装置に
    おいて、前記リードフレームの表面の所定の部分に、引
    張り降伏点が前記封止樹脂部より小さい金属材料で形成
    されためっき層を設けたことを特徴とする半導体装置。 2、封止樹脂部の内部と外表面との境界線部分と接合す
    るリードフレームの表面の所定の範囲にめっき層を設け
    た請求項1記載の半導体装置。
JP2182032A 1990-07-10 1990-07-10 半導体装置 Pending JPH0468559A (ja)

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JP2182032A JPH0468559A (ja) 1990-07-10 1990-07-10 半導体装置

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JP2182032A JPH0468559A (ja) 1990-07-10 1990-07-10 半導体装置

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JPH0468559A true JPH0468559A (ja) 1992-03-04

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ID=16111145

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JP (1) JPH0468559A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5463248A (en) * 1993-05-18 1995-10-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor package using an aluminum nitride substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5463248A (en) * 1993-05-18 1995-10-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor package using an aluminum nitride substrate

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