JPH0474732A - 石模様ほうろう製品の製造方法 - Google Patents
石模様ほうろう製品の製造方法Info
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- JPH0474732A JPH0474732A JP18108090A JP18108090A JPH0474732A JP H0474732 A JPH0474732 A JP H0474732A JP 18108090 A JP18108090 A JP 18108090A JP 18108090 A JP18108090 A JP 18108090A JP H0474732 A JPH0474732 A JP H0474732A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は斑点模様を形成するためのほうろう釉薬及びこ
れを用いた石模様ほうろう製品に関するものである。
れを用いた石模様ほうろう製品に関するものである。
（従来の技術）
ベース釉の表面にこれとは異なる色彩の斑点模様形成用
のほうろう釉薬をスプレーにより施釉し、石模様ほうろ
う製品を製造することは従来から知られている。
のほうろう釉薬をスプレーにより施釉し、石模様ほうろ
う製品を製造することは従来から知られている。
ところがこのような従来のほうろう釉薬は一般に比重が
１．６〜１．７５、平均粒度が８０〜１２０ μｍであ
り、これを施釉して得られた石模様ほうろう製品の斑点
模様はその高さが５０〜３００ μｍであってフラット
感のないものであった。このため、斑点模様が盛り上が
った感じの凹凸怒のある石模様ほうろう製品は得られる
ものの、表面の平滑性に優れた石模様ほうろう製品を製
造することはできなかった。
１．６〜１．７５、平均粒度が８０〜１２０ μｍであ
り、これを施釉して得られた石模様ほうろう製品の斑点
模様はその高さが５０〜３００ μｍであってフラット
感のないものであった。このため、斑点模様が盛り上が
った感じの凹凸怒のある石模様ほうろう製品は得られる
ものの、表面の平滑性に優れた石模様ほうろう製品を製
造することはできなかった。
（発明が解決しようとする課題）
本発明はこのような従来の問題点を解決して、表面にフ
ラット怒のある新規な外観の石模様ほうろう製品を製造
することができるほうろう釉薬及びこれを用いた石模様
ほうろう製品を提供するために完成されたものである。
ラット怒のある新規な外観の石模様ほうろう製品を製造
することができるほうろう釉薬及びこれを用いた石模様
ほうろう製品を提供するために完成されたものである。
（課題を解決するための手段）
上記の課題は、平均粒度が２０μ−以下、比重が１．５
以下であることを特徴とするほうろう釉薬によって解決
することができる。
以下であることを特徴とするほうろう釉薬によって解決
することができる。
また上記の課題は、このようなほうろう釉薬をベース釉
の表面に施釉することにより得られた斑点模様部の高さ
が２０μｍ以下であることを特徴とする石模様ほうろう
製品によって解決することができる。なお上記のほうろ
う釉薬は５０μ−以上の粒子を含まないことが望ましい
。
の表面に施釉することにより得られた斑点模様部の高さ
が２０μｍ以下であることを特徴とする石模様ほうろう
製品によって解決することができる。なお上記のほうろ
う釉薬は５０μ−以上の粒子を含まないことが望ましい
。
このように本発明のほうろう釉薬は、従来の斑点模様用
のほうろう釉薬に比較して粒度が極めて細かいという特
徴がある。粒度を細かくすることによって表面のフラッ
ト感を出すことができ、斑点模様部の高さが２０μｍ以
下の石模様ほうろう製品が得られる。ここで平均粒度が
２０μ醜以下と限定したのは、上記の作用効果を達成す
るためである。なお５０μ請以上の粒子が含まれると表
面に突起となって現れるので、５０μｍ以上の粒子のな
いことが望ましい。
のほうろう釉薬に比較して粒度が極めて細かいという特
徴がある。粒度を細かくすることによって表面のフラッ
ト感を出すことができ、斑点模様部の高さが２０μｍ以
下の石模様ほうろう製品が得られる。ここで平均粒度が
２０μ醜以下と限定したのは、上記の作用効果を達成す
るためである。なお５０μ請以上の粒子が含まれると表
面に突起となって現れるので、５０μｍ以上の粒子のな
いことが望ましい。
また本発明のほうろう釉薬は、従来の斑点模様用のほう
ろう釉薬に比較して比重が極めて小さいという特徴があ
る。このようにほうろう釉薬の比重を１．５以下とする
には、従来のものよりも水の量を多くする必要がある。
ろう釉薬に比較して比重が極めて小さいという特徴があ
る。このようにほうろう釉薬の比重を１．５以下とする
には、従来のものよりも水の量を多くする必要がある。
上記した本発明のほうろう釉薬は、ほうろう用鋼板の表
面に下釉を施釉し焼成した後、更にベース釉を施釉し乾
燥した表面にスプレーにより施釉される。また下釉とベ
ース釉を施釉し焼成した表面に本発明のほうろう釉薬を
施釉してもよい。施釉に際しては、本発明のほうろう釉
薬は沈降性が強いため、十分に撹拌しながら施釉する必
要がある。
面に下釉を施釉し焼成した後、更にベース釉を施釉し乾
燥した表面にスプレーにより施釉される。また下釉とベ
ース釉を施釉し焼成した表面に本発明のほうろう釉薬を
施釉してもよい。施釉に際しては、本発明のほうろう釉
薬は沈降性が強いため、十分に撹拌しながら施釉する必
要がある。
本発明のほうろう釉薬は平均粒度が２０ＩＩＩ１１以下
で比重が１．５以下であるため、ベース釉の表面で盛り
上がりをほとんど生じず、極めて平滑な斑点模様を形成
する。このために本発明のほうろう釉薬をベース釉上に
スプレーにより施釉して得られた石模様ほうろう製品は
その斑点模様部の高さが２０μ−以下となり、従来品の
斑点模様部の高さが５０〜３００ μ−であったのに比
較して表面のきわめ１、て平滑な石模様ほうろう製品と
なる。なおここで斑点模様部の高さを２０μ霞以下に限
定したのは、指先で触った場合にもほとんど凹凸を感す
ることのできない高さとするためである。かくして得ら
れた石模様ほうろう製品は従来になかった新規な外観を
持つ商品であり、建築物の外装及び内装用のほうろうパ
ネルをはじめとし、その特有の意匠性を活かして各種の
部材として使用することができる。
で比重が１．５以下であるため、ベース釉の表面で盛り
上がりをほとんど生じず、極めて平滑な斑点模様を形成
する。このために本発明のほうろう釉薬をベース釉上に
スプレーにより施釉して得られた石模様ほうろう製品は
その斑点模様部の高さが２０μ−以下となり、従来品の
斑点模様部の高さが５０〜３００ μ−であったのに比
較して表面のきわめ１、て平滑な石模様ほうろう製品と
なる。なおここで斑点模様部の高さを２０μ霞以下に限
定したのは、指先で触った場合にもほとんど凹凸を感す
ることのできない高さとするためである。かくして得ら
れた石模様ほうろう製品は従来になかった新規な外観を
持つ商品であり、建築物の外装及び内装用のほうろうパ
ネルをはじめとし、その特有の意匠性を活かして各種の
部材として使用することができる。
以下に本発明の実施例を示す。
（実施例）
実施例１
まず常法により、１００ Ｘ１００ Ｘｌ、６ ’のほ
うろう用鋼板を前処理し、下釉を施釉して８１０°ＣＸ
４分焼成した。続いて、チタンフリット１００部、塩化
カリ０．２５部、粘土６部、ベントナイト０．２部、水
４５部をポットミルでミル引きして得られたベース釉を
下釉の表面に厚さが１００ ｕ−になるように施釉し、
乾燥させた。
うろう用鋼板を前処理し、下釉を施釉して８１０°ＣＸ
４分焼成した。続いて、チタンフリット１００部、塩化
カリ０．２５部、粘土６部、ベントナイト０．２部、水
４５部をポットミルでミル引きして得られたベース釉を
下釉の表面に厚さが１００ ｕ−になるように施釉し、
乾燥させた。
次に、透明フリット１００部、塩化カリ０．２５部、青
顔料２部、水７０部をポットミルでミル引きし、比重が
１，３、平均粒径が１５μ−である本発明の斑点模様用
のほうろう釉薬を得た。これを前記したベース釉の上に
スプレーにより施釉し、乾燥させた。これを８１０°Ｃ
Ｘ４分焼成したところ、白いベース釉の表面に高さが１
５μｍの青くて平滑な斑点模様が成形された新規な外観
の石模様ほうろう製品が得られた。
顔料２部、水７０部をポットミルでミル引きし、比重が
１，３、平均粒径が１５μ−である本発明の斑点模様用
のほうろう釉薬を得た。これを前記したベース釉の上に
スプレーにより施釉し、乾燥させた。これを８１０°Ｃ
Ｘ４分焼成したところ、白いベース釉の表面に高さが１
５μｍの青くて平滑な斑点模様が成形された新規な外観
の石模様ほうろう製品が得られた。
実施例２
実施例１ではベース釉を乾燥させた表面に本発明の斑点
模様用のほうろう釉薬を施釉したが、ベース釉を８１０
°ＣＸ４分焼成した後に本発明のほうろう釉薬を施釉し
た場合にも、実施例１と同様の結果が得られた。
模様用のほうろう釉薬を施釉したが、ベース釉を８１０
°ＣＸ４分焼成した後に本発明のほうろう釉薬を施釉し
た場合にも、実施例１と同様の結果が得られた。
実施例３
透明フリット１００部、塩化カリ０５２５部、粘土６部
、ベントナイ） ０．２部、青顔料２部、水４５部をポ
ットミルでミル引きして得られたベース釉を、実施例１
と同様に下釉の表面に施釉、乾燥した。
、ベントナイ） ０．２部、青顔料２部、水４５部をポ
ットミルでミル引きして得られたベース釉を、実施例１
と同様に下釉の表面に施釉、乾燥した。
次に、透明フリット１００部、塩化カリ０．２５部、黄
顔料４部、水７０部をポットミルでミル引きし、比重が
１．４５、平均粒径が１２μ請の斑点模様用のほうろう
釉薬を製造し、上記のベース釉上にスプレーした。これ
を乾燥、焼成したところ、青いべ一ス釉の表面に高さが
１２μ−の平滑な黄色の斑点模様が成形された新規な外
観の石模様ほうろう製品が得られた。
顔料４部、水７０部をポットミルでミル引きし、比重が
１．４５、平均粒径が１２μ請の斑点模様用のほうろう
釉薬を製造し、上記のベース釉上にスプレーした。これ
を乾燥、焼成したところ、青いべ一ス釉の表面に高さが
１２μ−の平滑な黄色の斑点模様が成形された新規な外
観の石模様ほうろう製品が得られた。
実施例４
チタンフリット１００部、塩化カリ０．２５部、水７０
部をポットミルでミル引きし、比重が１．４５、平均粒
径が１０μｍの斑点模様用の白色のほうろう釉薬を製造
した。
部をポットミルでミル引きし、比重が１．４５、平均粒
径が１０μｍの斑点模様用の白色のほうろう釉薬を製造
した。
これを実施例３のベース釉の上に実施例３の黄顔料を含
んだ斑点模様用のほうろう釉薬とともにスプレーしたと
ころ、青いベース釉の表面に黄色と白色の平滑な斑点模
様が入り混じって形成された石模様ほうろう製品が得ら
れた。
んだ斑点模様用のほうろう釉薬とともにスプレーしたと
ころ、青いベース釉の表面に黄色と白色の平滑な斑点模
様が入り混じって形成された石模様ほうろう製品が得ら
れた。
（発明の効果）
以上に説明したように、本発明のほうろう釉薬は比重及
び平均粒度が従来品よりも極めて小さいので、ベース釉
の表面に施釉すれば表面にフラット感のある新規な外観
の石模様ほうろう製品を製造することができる。またこ
のようにして得られた本発明の石模様ほうろう製品は、
単に美観に優れるのみならず、表面の平滑性にも優れる
ので、従来の石模様ほうろう製品を用いることができな
かったさまざまな用途に適用することが可能となる。
び平均粒度が従来品よりも極めて小さいので、ベース釉
の表面に施釉すれば表面にフラット感のある新規な外観
の石模様ほうろう製品を製造することができる。またこ
のようにして得られた本発明の石模様ほうろう製品は、
単に美観に優れるのみならず、表面の平滑性にも優れる
ので、従来の石模様ほうろう製品を用いることができな
かったさまざまな用途に適用することが可能となる。
よって本発明は従来の間匙点を一掃したほうろう釉薬及
びこれを用いた石模様ほうろう製品として、産業の発展
に寄与するところは極めて大きいものである。
びこれを用いた石模様ほうろう製品として、産業の発展
に寄与するところは極めて大きいものである。
Claims (1)
- １、平均粒度が２０μｍ以下、比重が１．５以下である
ことを特徴とするほうろう釉薬。２、請求項１記載のほ
うろう釉薬をベース釉の表面に施釉することにより得ら
れ、斑点模様部の高さが２０μｍ以下であることを特徴
とする石模様ほうろう製品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2181080A JP2774860B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 石模様ほうろう製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2181080A JP2774860B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 石模様ほうろう製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474732A true JPH0474732A (ja) | 1992-03-10 |
| JP2774860B2 JP2774860B2 (ja) | 1998-07-09 |
Family
ID=16094463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2181080A Expired - Fee Related JP2774860B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 石模様ほうろう製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2774860B2 (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5556034A (en) * | 1978-10-21 | 1980-04-24 | Nippon Fueroo Kk | Clay-free enamel ground coat |
| JPS56140041A (en) * | 1980-03-29 | 1981-11-02 | Matsushita Electric Works Ltd | Preparation of glaze |
| JPS62109984A (ja) * | 1985-11-08 | 1987-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 絶縁ホ−ロ層の形成法 |
| JPS6335437A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-16 | Hitachi Chem Co Ltd | ほうろう基板の製造法 |
| JPH01133960A (ja) * | 1987-08-10 | 1989-05-26 | Inax Corp | タイル用釉薬 |
| JPH01208341A (ja) * | 1988-02-12 | 1989-08-22 | Hosokawa Micron Corp | 琺瑯用フリット組成物、並びにその製造方法およびその装置 |
-
1990
- 1990-07-09 JP JP2181080A patent/JP2774860B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5556034A (en) * | 1978-10-21 | 1980-04-24 | Nippon Fueroo Kk | Clay-free enamel ground coat |
| JPS56140041A (en) * | 1980-03-29 | 1981-11-02 | Matsushita Electric Works Ltd | Preparation of glaze |
| JPS62109984A (ja) * | 1985-11-08 | 1987-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 絶縁ホ−ロ層の形成法 |
| JPS6335437A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-16 | Hitachi Chem Co Ltd | ほうろう基板の製造法 |
| JPH01133960A (ja) * | 1987-08-10 | 1989-05-26 | Inax Corp | タイル用釉薬 |
| JPH01208341A (ja) * | 1988-02-12 | 1989-08-22 | Hosokawa Micron Corp | 琺瑯用フリット組成物、並びにその製造方法およびその装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2774860B2 (ja) | 1998-07-09 |
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Legal Events
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