JPH048437B2 - - Google Patents

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JPH048437B2
JPH048437B2 JP58201551A JP20155183A JPH048437B2 JP H048437 B2 JPH048437 B2 JP H048437B2 JP 58201551 A JP58201551 A JP 58201551A JP 20155183 A JP20155183 A JP 20155183A JP H048437 B2 JPH048437 B2 JP H048437B2
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soyasapogenol
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glucuronopyranosyl
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Saccharide Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、補体活性剤配合成の有用な中間体
であるソーヤサポゲノールB誘導体の製法に関
し、より詳しくはソーヤサポゲノールBとグルコ
ピラヌロ酸誘導体との反応によつて3−0−D−
グルクロノピラノシルソーヤサポゲノールBを製
造する方法に関する。
3−0−β−D−グルクロノピラノシルソーヤ
サポゲノールBの低級アルキルエステル類は、補
体活性剤としてリウマチ性関節炎、腎炎、自己ア
レルギー性溶血性貧血などに有効であるとされて
いる。これらのエステル類は、ソーヤサポゲノー
ルBをアグリコンとするソーヤサポニン、、
の混合物を酸の存在下でメタノール、エタノー
ルなどの低級アルコールでアルコーリシスするこ
とにより得られることが知られている(北川ら:
chem、Pharm、Bull.22巻,121頁,1971年)。こ
こで原料として用いるソーヤサポニン、、
の混合物は、大豆から分離抽出されたものである
が、大豆中の含量は少なく(0.1〜0.2%)、かつ
これらとアグリコンの構造が類似するソーヤサポ
ニンA1,A2との分離が非常に煩雑であるという
問題がある。従つて、より簡便で安価に該エステ
ルを得る方法が望まれるのである。
この発明は、大豆醗酵食品たとえば味噌の製造
時に生ずる水溶性廃物より比較的簡便に得ること
ができるソーヤサボゲノールBを原料とし、その
3位の水酸基に合成法により選択的にグルクロピ
ラノシル基を導入し得る知見を得て、完成された
ものである。
この発明によれば、式()のソーヤサボゲノ
ールBに式()のグルコピラヌロ酸誘導体を反
応させ、次いで生成物中の保護基を除去し、3−
0−D−グルクロノピラノシルソーヤサポゲノー
ルB、ことに3−0−β体(式)とする方法が
提供される。
(上記中Xは反応性基、Yはヒドロキシ基の保
護基、Zはカルボキシル基の保護基をそれぞれ意
味する。) 式()の化合物において、Xの反応性基と
は、式()の化合物の水酸基と反応しエーテル
結合を生ずるものを意味する。適する反応性基と
しては、ハロゲン原子で、特にその中でブロム原
子が好ましい。
Yの水酸基の保護基とは、式()の化合物中
反応に関与しないように水酸基を保護し、反応後
容易に除去できるものであればよい。そのような
保護基としては、アシル基やケイ素含有基が挙げ
られる。アシル基としては、アセチル基、プロピ
オニル基のような低級アルカノイル基、p−ブロ
モフエナシル基、ベンジルオキシカルボニル基の
ような芳香族アシル基が挙げられる。ケイ素含有
基としては、トリメチルシリル基、ジメチルメト
キシシリル基、トリブトキシシリル基などが挙げ
られる。
またZのカルボキシル基の保護基とは、反応後
に容易に除去できるエステル又は塩の形が含まれ
る。エステルとしては、低級アルカノール(メタ
ノール、t−ブチルアルコールなど)、芳香族ア
ルコール(p−ニトロベンジルアルコールなど)、
ケイ素化合物(トリメチルシリルクロリド、ジメ
チルメトキシシリルクロリドなど)、燐化合物
(ジエトキシホスホニルクロリドなど)とで形成
されるエステル類が含まれる。塩としては、金属
塩(ナトリウム、カリウム、銀などの塩)、アミ
ン塩(トリエチルアミンなど)が含まれる。
式()の化合物で、X、Y、Zの最も好まし
い組合せの例は、Xがブロム原子、Yがアセチル
基、Zがメチル基である。この化合物は、グルク
ロン酸を原料とし、まずその4つの水酸基を三フ
ツ化ホウ素エーテル錯塩、過塩素酸のような触媒
の存在下で無水酢酸でアセチル化する。次いで、
カルボキシ基を有機溶媒中ジアゾメタンのような
アルキル化剤でメチルエステル化する。得られる
メチル1,2,3,4−テトラ−O−アセチル−
D−グルコピラヌロネートを有機溶媒中で臭化水
素のようなハロゲン化剤でブロム化することによ
つて合成しうる。なおこれらの反応は、一般に低
温下で行われる。
このようにして得ることができる式()の化
合物は、式()の化合物との反応に付される。
この反応は、通常、ベンゼン、ジオキサン、トル
エン、キシレン、クロロホルム、テトラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、ジメチルホルムアミドなど
のような非極性の不活性有機溶媒中、室温ないし
溶媒の沸点までの温度範囲で行われる。最も好ま
しい溶媒は、ベンゼン又はベンゼンとジオキサン
の組合せである。反応は、無水状態であるので好
ましい。ことにY及びZの保護基が水分で分解し
易い基の場合は、できる限り反応系を無水状態に
することが必要である。このような目的に反応溶
媒などは予め脱水して用いられるが、反応系に粉
末状態の脱水剤例えば、硫酸カルシウムを添添加
するのが好ましい。また反応によつて生ずる副生
成物例えば、ハロゲン化水素を受容しうる化合物
を添加するのが好ましい。ハロゲン化水素の受容
体としては、炭酸銀が好ましい。この炭酸銀は室
温で低圧乾燥したものを用いる必要があり、加熱
乾燥したものは殆んど効果が発揮されないことが
判明した。
かくして、ソーヤサポゲノールBの3位の水銀
基が選択的にエーテル化される。
この際、生成物の3位の水酸基においてβ−タ
イプとα−タイプの2種類の生成が理論上ありう
る。しかし、この発明では、β−タイプを優先的
に生成さすのが望まれる。このような目的には、
式()の化合物中の水酸基の保護基Yとして、
低級アルカノイル基(特にアセチル基)の化合物
を用いるのが最も好ましい。また、保護基の脱離
前の生成物中には、2つの遊離水酸基(−
CH2OH,−OH)が存在し、これを低級アルカノ
イル化してから、一旦精製(たとえばカラムクロ
マトグラフイーに付す)して、保護基の脱離を行
うと、精製効率が高い。
次いで、保護基の除去は、それ自体公知の手段
で適宜行われる。たとえば水酸化ナトリウムや水
酸化カリウムの水溶液を用いて行うことができ
る。
次に実施施例によつてこの発明を具体的に説明
する。
実施例 D−グルクロン酸(半井化学薬品,3.0g)を
無水酢酸(200ml)−三ツ化ホウ素エーテル錯塩
(4ml)に溶解し、5℃で12時間撹拌する。氷水
中にあけ、酢酸エチル抽出し、酢酸エチル抽出液
は飽和重曹水で洗浄後、水洗、硫酸マグネシウム
粉末で乾燥する。乾燥剤を濾別し濾液を減圧下溶
媒留去後、メタノール(30ml)に溶解する。ジア
ゾメタンのエーテル溶液を加えメチル化後、室温
(15℃)で5時間放置する。減圧下溶媒留去後、
シリカゲルカラムクロマトグラフイー〔シリカゲ
ル(メルク社,60〜120メツシユ)100g,溶出溶
媒、クロロホルムおよびクロロホルム−酢エチ混
液(50:1)〕で精製し、メチル1,2,3,4
−テトラ−O−アセチル−D−グルコピラヌロネ
ート(4.0g)を得た。
得られたメチル1,2,3,4−テトラ−O−
アセチル−D−グルコピラヌロネート(3.0g)
のクロロホルム溶液(100ml)に25%臭化水素−
酢酸溶液(150ml)を加え、室温(15℃)で12時
間撹拌する。氷水中にあけ、クロロホルム抽出
し、クロロホルム抽出液は飽和重曹水で洗浄後、
水洗、硫酸マグネシウム粉末で乾燥する。乾燥剤
を濾別し、濾液を減圧下溶媒留去後、シリカゲル
カラムクロマトグラフイー〔シリカゲル(メルク
社,60〜120メツシユ)80g,溶出溶媒、ベンゼ
ン−アセトン混液(30:1)〕で精製し、メチル
2,3,4−トリ−O−アセチル−1−ブロモ−
1−デオキシ−α−D−グルコピラヌロネート
(2.3g)を得た。
ソーヤサポゲノールB(1.0g)の乾燥ベンゼン
溶液(250ml)に硫酸カルシウム(5g)、炭酸銀
(1.8g)を加えた後、前記得られたメチル2,
3,4−トリ−O−アセチル−1−ブロモ−1−
デオキシ−α−D−グルコピラヌロネート(2.5
g)の乾燥ベンゼン溶液(10ml)を加え、5時
間、加熱還流する。無機物を濾別し、濾液を減圧
下溶媒留去する。得られた残留物を無水酢酸(5
ml)−ピリジン(10ml)に溶解し、室温(15℃)
8時間撹拌する。氷水中にあけ、酢酸エチル抽出
し、酢酸エチル抽出液は5%塩酸水溶液ついで飽
和重曹水で洗浄後、水洗、硫酸マグネシウム粉末
で乾燥する。乾燥剤を濾別し、濾液を減圧下溶媒
留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
〔シリカゲル(メルク社,60〜120メツシユ)100
g,溶出溶媒、ベンゼン−アセトン混液(50:1
から15:1)〕で精製し、3−O−β−D−グル
クロノピラノシルソーヤサポゲノールBのペンタ
−O−アセチル−モノメチルエステル(1.2g)
を得た。メタノール(50ml)に溶解し、10%水酸
化カリ水溶液(25ml)を加え、60℃で3時間撹拌
後、ダウエツクス50w×8(H+型)で中和する。
樹脂を濾別し、濾液を減圧下溶媒留去して、3−
O−β−D−グルクロノピラノシルソーヤサポゲ
ノールB(0.9g)を得た。このようにして得られ
たものの物理化学的性質は、標品と一致した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ソーヤサポゲノールBに式() (式中Xは反応性基、Yは水酸基の保護基、Z
    はカルボキシル基の保護基) で示されるグルコピラヌロ酸誘導体を反応させ、
    生成物を保護基の除去処理に付して3−0−D−
    グルクロノピラノシルソーヤサポゲノールBを得
    ることを特徴とするソーヤサポゲノールB誘導体
    の製法。 2 式()におけるプロム原子、Yがアセチル
    基、Zがメチル基の化合物を用いる特許請求の範
    囲第1項記載の方法。 3 ソーヤサボゲノールBと式()の化合物と
    の反応が、不保活性有機溶媒中硫酸カルシウムと
    炭酸銀の存在下で行われる特許請求の範囲第1項
    又は第2項記載の方法。 4 3−0−D−グルクロノピラノシルソーヤサ
    ポゲノールBが3−0−β−D−グルクロノピラ
    ノシルソーヤサポゲノールBである特許請求の範
    囲第1〜3項の何れかに記載の方法。
JP58201551A 1983-10-26 1983-10-26 ソ−ヤサポゲノ−ルb誘導体の製法 Granted JPS6092300A (ja)

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