JPH0520427B2 - - Google Patents
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- JPH0520427B2 JPH0520427B2 JP7005284A JP7005284A JPH0520427B2 JP H0520427 B2 JPH0520427 B2 JP H0520427B2 JP 7005284 A JP7005284 A JP 7005284A JP 7005284 A JP7005284 A JP 7005284A JP H0520427 B2 JPH0520427 B2 JP H0520427B2
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は、光学分割剤として有用なスルホキシ
ド類の光学活性体を製造するための新規な方法に
関するものである。 スルホキシド基に2個の異なつた置換基が結合
した形のスルホキシド類には、硫黄原子を不斉原
子とする(+)−体及び(−)−体の2種の光学異
性体が存在することが知られている。しかしなが
ら、このような光学異性体の中でRが低級アルキ
ルの場合には、これまで相当するラセミ体から直
接光学分割する方法が知られていなかつたため、
ベンゼンチオールから以下に示す反応式に従つ
て、製造する方法によつて得られていた。 この方法は非常常に特殊な試薬やはん雑な操作
を必要とする多数の工程を含む上に収率も低いた
め、工業的に実施するには不適当であつた。 このような事情の下で、本発明者らは、スルホ
キシド類のラセミ体を直接光学分割することによ
り、光学活性なスルホキシド類を得る方法を開発
するために鋭意研究を重ねた結果、光学活性なβ
−ジナフトールを用いることにより、その目的を
達成しうることを見出し、この知見に基づいて本
発明をなすに至つた。 すなわち、本発明は、一般式 (式中のArはアリール基又はアラルキル基、
Rは低級アルキル基である) で示されるスルホキシド類のラセミ体に、1,
1′−ビ−2−ナフトールの光学活性体を反応させ
て、前記スルホキシド類の光学活性体と1,1′−
ビ−2−ナフトールの光学活性体との包接化合物
を生成させ、これを分離したのち、分解して前記
スルホキシド類の光学活性体を得ることを特徴と
する光学活性なスルホキシド類の製造方法を提供
するものである。 本発明方法により光学分割される前記一般式
()で示されるスルホキシド類は、公知の化合
物であつて、通常ラセミ体として得られるもので
ある。前記一般式()のArはフエニル基、ナ
フチル基のようなアリール基又はベンジル基のよ
うなアラルキル基であり、これらの基の中に含ま
れる芳香族環は、アルキル基、アルコキシ基、ハ
ロゲン原子などの不活性置換基により置換されて
いてもよい。また、一般式()中のRはメチル
基、エチル基、プロピル基などの低級アルキル基
である。このようなスルホキシド類の例として
は、メチルフエニルスルホキシド、エチルフエニ
ルスルホキシド、プロピルフエニルスルホキシ
ド、メチル−m−トリルスルホキシド、エチル−
m−トリルスルホキシド、メチル−o−トリルス
ルホキシド、メチル−p−トリルスルホキシド、
メチル−β−ナフチルスルホキシド、メチル−m
−エチルフエニルスルホキシド、メチルベンンジ
ルスルホキシドなどを挙げることができる。この
中で特に好適に光学分割しうるスルホキシド類
は、m−位が置換されたフエニル基をもつスルホ
キシド類例えばメチル−m−トリルスルホキシ
ド、、エチル−m−トリルスルホキシド、メチル
−m−エチルフエニルスルホキシドや、β−ナフ
チル基をもつスルホキシド類例えばメチル−β−
ナフチルスルホキシド、エチル−β−ナフチルス
ルホキシド及びそれらの置換体である。 他方、光学分割剤として使用される1,1′−ビ
−2−ナフトールの光学活性体も公知であり、市
販品として容易に入手することができる。この
1,1′−ビ−2−ナフトールの光学活性体は、次
に示す立体構造を有する(R)−(+)−体と(S)−(−)
−体の2種のエナンチオマーとて存在する。
ド類の光学活性体を製造するための新規な方法に
関するものである。 スルホキシド基に2個の異なつた置換基が結合
した形のスルホキシド類には、硫黄原子を不斉原
子とする(+)−体及び(−)−体の2種の光学異
性体が存在することが知られている。しかしなが
ら、このような光学異性体の中でRが低級アルキ
ルの場合には、これまで相当するラセミ体から直
接光学分割する方法が知られていなかつたため、
ベンゼンチオールから以下に示す反応式に従つ
て、製造する方法によつて得られていた。 この方法は非常常に特殊な試薬やはん雑な操作
を必要とする多数の工程を含む上に収率も低いた
め、工業的に実施するには不適当であつた。 このような事情の下で、本発明者らは、スルホ
キシド類のラセミ体を直接光学分割することによ
り、光学活性なスルホキシド類を得る方法を開発
するために鋭意研究を重ねた結果、光学活性なβ
−ジナフトールを用いることにより、その目的を
達成しうることを見出し、この知見に基づいて本
発明をなすに至つた。 すなわち、本発明は、一般式 (式中のArはアリール基又はアラルキル基、
Rは低級アルキル基である) で示されるスルホキシド類のラセミ体に、1,
1′−ビ−2−ナフトールの光学活性体を反応させ
て、前記スルホキシド類の光学活性体と1,1′−
ビ−2−ナフトールの光学活性体との包接化合物
を生成させ、これを分離したのち、分解して前記
スルホキシド類の光学活性体を得ることを特徴と
する光学活性なスルホキシド類の製造方法を提供
するものである。 本発明方法により光学分割される前記一般式
()で示されるスルホキシド類は、公知の化合
物であつて、通常ラセミ体として得られるもので
ある。前記一般式()のArはフエニル基、ナ
フチル基のようなアリール基又はベンジル基のよ
うなアラルキル基であり、これらの基の中に含ま
れる芳香族環は、アルキル基、アルコキシ基、ハ
ロゲン原子などの不活性置換基により置換されて
いてもよい。また、一般式()中のRはメチル
基、エチル基、プロピル基などの低級アルキル基
である。このようなスルホキシド類の例として
は、メチルフエニルスルホキシド、エチルフエニ
ルスルホキシド、プロピルフエニルスルホキシ
ド、メチル−m−トリルスルホキシド、エチル−
m−トリルスルホキシド、メチル−o−トリルス
ルホキシド、メチル−p−トリルスルホキシド、
メチル−β−ナフチルスルホキシド、メチル−m
−エチルフエニルスルホキシド、メチルベンンジ
ルスルホキシドなどを挙げることができる。この
中で特に好適に光学分割しうるスルホキシド類
は、m−位が置換されたフエニル基をもつスルホ
キシド類例えばメチル−m−トリルスルホキシ
ド、、エチル−m−トリルスルホキシド、メチル
−m−エチルフエニルスルホキシドや、β−ナフ
チル基をもつスルホキシド類例えばメチル−β−
ナフチルスルホキシド、エチル−β−ナフチルス
ルホキシド及びそれらの置換体である。 他方、光学分割剤として使用される1,1′−ビ
−2−ナフトールの光学活性体も公知であり、市
販品として容易に入手することができる。この
1,1′−ビ−2−ナフトールの光学活性体は、次
に示す立体構造を有する(R)−(+)−体と(S)−(−)
−体の2種のエナンチオマーとて存在する。
【式】
この(R)−(+)−体と(S)−(−)−体とはテトラヒ
ドロフラン中でそれぞれ+37.7゜及び、−37.7゜の施
光度を示すものであるが、本発明方法において
は、これらのいずれのエナンチオマーも用いるこ
とができる。そして、(R)−(+)−体を用いた場合
には、これはスルホキシド類の(+)−体と、ま
た(S)−(−)−体を用いた場合には、スルホキシド
類の(−)−体とそれぞれ選択的に結合して、モ
ル比1:1の包接化合物を形成する。 本発明方法に従つて、スルホキシド類の光学分
割を行うには、スルホキシド類のラセミ体を適当
な溶媒に溶かし、この中へ1,1′−ビ−2−ナフ
トールを加えたのち、室温で数時間ないし10数時
間放置する。この場合、各原料成分の溶解を促進
するため、あるいは形成された包接化合物の析出
を促進するために、所望に応じ加温又は冷却する
こともできる。 スルホキシド類と1,1′−ビ−2−ナフトール
との使用量は、モル比で約2:1の割合が望まし
いが、所望ならばいずれか一方を過剰に用いるこ
ともできる。 溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、ケロセ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類、ア
セトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、酢
酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類などが
用いられる。これらは単独で用いてもよいし、ま
た2種以上混合して用いてもよい。 次に、前記のようにして析出した包接化合物の
結晶を別し、必要に応じ再結晶などにより精製
したのち、それを溶媒に溶かし、シリカゲル、ア
ルミナゲル、シリカ−アルミナゲルなどで処理す
ることにより1,1′−ビ−2−ナフトールの光学
活性体とスルホキシド類の光学活性体に分解す
る。また、このようなシリカゲル、アルミナゲル
による処理を行う代りに、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのようなアルカリで処理したり、あ
るいはラセミ化を起さない隠和な条件下で蒸留処
理して各成分光学活性体に分解することもでき
る。 このようにして、高純度のスルホキシド類の光
学活性体を高収率で得ることができる。 このようにして得られたスルホキシド類の光学
活性体は、光学活性な成分と選択的に包接化合物
を形成するので、光学分割剤として有用である。 次に実施例により本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 メチルフエニルスルホキシドのラセミ体3.92g
と、(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール
〔〔α〕D+37.7゜(テトラヒドロフラン中)〕2.0gと
をベンゼン10mlに溶解し、これにn−ヘキサン5
mlを加えて室温で12時間放置したのち、析出して
きた(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール1モ
ルと(+)−メチルフエニルスルホキシド1モル
から成る包接化合物を取し、乾燥することによ
り結晶2.41gを得た。このものは融点115〜118
℃、〔α〕D+23.1゜(エタノール中)をもつ無色プリ
ズム状結晶であつた。 次にこの包接化合物をベンゼンと酢酸エチルの
等量混合物に溶かし、シリカゲルカラムクロマト
グラフイーによる処理を行つたところ、(+)−メ
チルフエニルスルホキシド0.79gが得られた。こ
のものの〔α〕Dは+4.9゜(エタノール中)であつ
た。 実施例 2 メチル−m−トリルスルホキシドのラセミ体
3.00gと、(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトー
ル3.23gとをベンゼン5ml中に溶解し、n−ヘキ
サン5mlを加え、室温で12時間放置した。この間
に析出してきた(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフ
トール1モルと(+)−メチル−m−トリルスル
ホキシド1モルから成る包接化合物の結晶4.1g
を別し、ベンゼン30mlで1回再結晶したのち乾
燥することにより、無色プリズム状結晶〔融点
152〜154℃、〔α〕D+69.7゜(エタノール中)〕3.57
gを得た。 この結晶を溶出溶媒としてベンゼンと酢酸エチ
ルの等量混合物を用いてシリカゲルカラムに通し
て処理したところ、(+)−メチル−m−トリルス
ルホキシド〔〔α〕D+140゜(エタノール中)〕1.24g
を得た。 実施例 3 実施例2において、包接化合物を去した後の
液をシリカゲルで処理し、溶媒を除いた残留物
〔α〕D−86.2゜(エタノール中)〕1.30gベンゼン10
mlに溶解し、(S)−(−)−1,1′−ビ−2−ナフト
ール〔α〕D−37.7゜(テトラヒドロフラン中)〕2.41
gを加え、室温で12時間放置したところ、(S)−
(−)−1,1′−ビ−2−ナフトール1モルと
(−)−メチル−m−トリルスルホキシド1モルと
から成る包接化合物2.39gが析出してきた。この
析出した結晶をベンゼン15mlで1回再結晶し、析
出物を別し、乾燥することにより無色プリズム
状結晶〔融点152〜154℃、〔α〕D−70.1゜(エタノー
ル中)〕1.79gを得た。次にこの包接化合物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーに通すことに
より(−)−メチル−m−トリルスルホキシド
0.62gが得られた。このものの〔α〕Dは−140゜(エ
タノール中)、光学純度は100%eeであつた。 実施例 4 エチル−m−トリルスルホキシドのラセミ体
4.5gと(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール
1.92gとをベンゼン3mlに溶解し、n−ヘキサン
6mlを加えて室温で12時間放置した。この間に析
出してきた結晶1.65gを取し、ベンゼン10mlで
1回再結晶することにより、融点122〜123℃、
〔α〕D+102゜(エタノール中)の無色プリズム状結
晶として(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール
1モルと(+)−エチル−m−トリルスルホキシ
ド1モルから成る包接化合物1.37gを得た。次に
この包接化合物を実施例1と同様にしてカラムク
ロマトグラフイー処理することにより、〔α〕D+
199゜(エタノール中)の(+)−エチル−m−トリ
ルスルホキシド0.51gが得られた。 実施例 5 エチルフエニルスルホキシドのラセミ体2.0g
と(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール0.93g
とをベンゼン5mlに溶解したのち、n−ヘキサン
2mlを加え、室温で12時間放置した。こ間に析出
した結晶を別し、乾燥することにより、融点90
〜92℃、〔α〕D+21.3゜(エタノール中)の無色プリ
ズム状結晶として、(R)−(+)−1,1′−ビ−2−
ナフトール1モルと(+)−エチルフエニルスル
ホキシド1モルから成る包接化合物0.59gを得
た。 次いで、この包接化合物を実施例1と同様にし
てシリカゲルカラムクロマトグラフイー処理する
ことにより、〔α〕D+2.3゜(エタノール中)の(+)
エチルフエニルスルホキシド0.21gが得られた。 実施例 6 メチル−β−ナフチルスルホキシドのラセミ体
1.99gと(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール
1.5gとをエタノール10mlに溶解し、室温で12時
間放置した。こ間に析出した結晶を別し、乾燥
することにより、融点104〜107℃、〔α〕D+20.1゜
(エタノール中)の無色プリズム状結晶として、
(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール1モルと
(+)−メチル−β−ナフチルスルホキシド2モル
から成る包接化合物1.45gを得た。 次にこの包接化合物を実施例1と同様にしてシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー処理したとこ
ろ、〔α〕D+2.4゜(エタノール中)の(+)−メチル
−β−ナフチルスルホキシド0.58gが得られた。 実施例 7 実施例1と同様にして得た包接化合物を、シリ
カゲルカラムクロマトグラフイー処理する代り
に、ジエチルエーテル100mlに溶解し、5%水酸
化ナトリウム水溶液50mlを加え10分間激しくかき
まぜたのち、エーテル層を分取し、乾燥後エーテ
ルを留去した。このようにして(+)−メチルフ
エニルスルホキシド0.79を得た。
ドロフラン中でそれぞれ+37.7゜及び、−37.7゜の施
光度を示すものであるが、本発明方法において
は、これらのいずれのエナンチオマーも用いるこ
とができる。そして、(R)−(+)−体を用いた場合
には、これはスルホキシド類の(+)−体と、ま
た(S)−(−)−体を用いた場合には、スルホキシド
類の(−)−体とそれぞれ選択的に結合して、モ
ル比1:1の包接化合物を形成する。 本発明方法に従つて、スルホキシド類の光学分
割を行うには、スルホキシド類のラセミ体を適当
な溶媒に溶かし、この中へ1,1′−ビ−2−ナフ
トールを加えたのち、室温で数時間ないし10数時
間放置する。この場合、各原料成分の溶解を促進
するため、あるいは形成された包接化合物の析出
を促進するために、所望に応じ加温又は冷却する
こともできる。 スルホキシド類と1,1′−ビ−2−ナフトール
との使用量は、モル比で約2:1の割合が望まし
いが、所望ならばいずれか一方を過剰に用いるこ
ともできる。 溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、ケロセ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類、ア
セトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、酢
酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類などが
用いられる。これらは単独で用いてもよいし、ま
た2種以上混合して用いてもよい。 次に、前記のようにして析出した包接化合物の
結晶を別し、必要に応じ再結晶などにより精製
したのち、それを溶媒に溶かし、シリカゲル、ア
ルミナゲル、シリカ−アルミナゲルなどで処理す
ることにより1,1′−ビ−2−ナフトールの光学
活性体とスルホキシド類の光学活性体に分解す
る。また、このようなシリカゲル、アルミナゲル
による処理を行う代りに、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのようなアルカリで処理したり、あ
るいはラセミ化を起さない隠和な条件下で蒸留処
理して各成分光学活性体に分解することもでき
る。 このようにして、高純度のスルホキシド類の光
学活性体を高収率で得ることができる。 このようにして得られたスルホキシド類の光学
活性体は、光学活性な成分と選択的に包接化合物
を形成するので、光学分割剤として有用である。 次に実施例により本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 メチルフエニルスルホキシドのラセミ体3.92g
と、(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール
〔〔α〕D+37.7゜(テトラヒドロフラン中)〕2.0gと
をベンゼン10mlに溶解し、これにn−ヘキサン5
mlを加えて室温で12時間放置したのち、析出して
きた(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール1モ
ルと(+)−メチルフエニルスルホキシド1モル
から成る包接化合物を取し、乾燥することによ
り結晶2.41gを得た。このものは融点115〜118
℃、〔α〕D+23.1゜(エタノール中)をもつ無色プリ
ズム状結晶であつた。 次にこの包接化合物をベンゼンと酢酸エチルの
等量混合物に溶かし、シリカゲルカラムクロマト
グラフイーによる処理を行つたところ、(+)−メ
チルフエニルスルホキシド0.79gが得られた。こ
のものの〔α〕Dは+4.9゜(エタノール中)であつ
た。 実施例 2 メチル−m−トリルスルホキシドのラセミ体
3.00gと、(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトー
ル3.23gとをベンゼン5ml中に溶解し、n−ヘキ
サン5mlを加え、室温で12時間放置した。この間
に析出してきた(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフ
トール1モルと(+)−メチル−m−トリルスル
ホキシド1モルから成る包接化合物の結晶4.1g
を別し、ベンゼン30mlで1回再結晶したのち乾
燥することにより、無色プリズム状結晶〔融点
152〜154℃、〔α〕D+69.7゜(エタノール中)〕3.57
gを得た。 この結晶を溶出溶媒としてベンゼンと酢酸エチ
ルの等量混合物を用いてシリカゲルカラムに通し
て処理したところ、(+)−メチル−m−トリルス
ルホキシド〔〔α〕D+140゜(エタノール中)〕1.24g
を得た。 実施例 3 実施例2において、包接化合物を去した後の
液をシリカゲルで処理し、溶媒を除いた残留物
〔α〕D−86.2゜(エタノール中)〕1.30gベンゼン10
mlに溶解し、(S)−(−)−1,1′−ビ−2−ナフト
ール〔α〕D−37.7゜(テトラヒドロフラン中)〕2.41
gを加え、室温で12時間放置したところ、(S)−
(−)−1,1′−ビ−2−ナフトール1モルと
(−)−メチル−m−トリルスルホキシド1モルと
から成る包接化合物2.39gが析出してきた。この
析出した結晶をベンゼン15mlで1回再結晶し、析
出物を別し、乾燥することにより無色プリズム
状結晶〔融点152〜154℃、〔α〕D−70.1゜(エタノー
ル中)〕1.79gを得た。次にこの包接化合物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーに通すことに
より(−)−メチル−m−トリルスルホキシド
0.62gが得られた。このものの〔α〕Dは−140゜(エ
タノール中)、光学純度は100%eeであつた。 実施例 4 エチル−m−トリルスルホキシドのラセミ体
4.5gと(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール
1.92gとをベンゼン3mlに溶解し、n−ヘキサン
6mlを加えて室温で12時間放置した。この間に析
出してきた結晶1.65gを取し、ベンゼン10mlで
1回再結晶することにより、融点122〜123℃、
〔α〕D+102゜(エタノール中)の無色プリズム状結
晶として(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール
1モルと(+)−エチル−m−トリルスルホキシ
ド1モルから成る包接化合物1.37gを得た。次に
この包接化合物を実施例1と同様にしてカラムク
ロマトグラフイー処理することにより、〔α〕D+
199゜(エタノール中)の(+)−エチル−m−トリ
ルスルホキシド0.51gが得られた。 実施例 5 エチルフエニルスルホキシドのラセミ体2.0g
と(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール0.93g
とをベンゼン5mlに溶解したのち、n−ヘキサン
2mlを加え、室温で12時間放置した。こ間に析出
した結晶を別し、乾燥することにより、融点90
〜92℃、〔α〕D+21.3゜(エタノール中)の無色プリ
ズム状結晶として、(R)−(+)−1,1′−ビ−2−
ナフトール1モルと(+)−エチルフエニルスル
ホキシド1モルから成る包接化合物0.59gを得
た。 次いで、この包接化合物を実施例1と同様にし
てシリカゲルカラムクロマトグラフイー処理する
ことにより、〔α〕D+2.3゜(エタノール中)の(+)
エチルフエニルスルホキシド0.21gが得られた。 実施例 6 メチル−β−ナフチルスルホキシドのラセミ体
1.99gと(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール
1.5gとをエタノール10mlに溶解し、室温で12時
間放置した。こ間に析出した結晶を別し、乾燥
することにより、融点104〜107℃、〔α〕D+20.1゜
(エタノール中)の無色プリズム状結晶として、
(R)−(+)−1,1′−ビ−2−ナフトール1モルと
(+)−メチル−β−ナフチルスルホキシド2モル
から成る包接化合物1.45gを得た。 次にこの包接化合物を実施例1と同様にしてシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー処理したとこ
ろ、〔α〕D+2.4゜(エタノール中)の(+)−メチル
−β−ナフチルスルホキシド0.58gが得られた。 実施例 7 実施例1と同様にして得た包接化合物を、シリ
カゲルカラムクロマトグラフイー処理する代り
に、ジエチルエーテル100mlに溶解し、5%水酸
化ナトリウム水溶液50mlを加え10分間激しくかき
まぜたのち、エーテル層を分取し、乾燥後エーテ
ルを留去した。このようにして(+)−メチルフ
エニルスルホキシド0.79を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中のArはアリール基又はアラルキル基、
Rは低級アルキル基である) で示されるスルホキシド類のラセミ体に、1,
1′−ビ−2−ナフトールの光学活性体を反応させ
て、前記スルホキシド類の光学活性体と1,1′−
ビ−2−ナフトールの光学活性体との包接化合物
を生成させ、これを分離したのち、分解して前記
スルホキシド類の光学活性体を得ることを特徴と
する光学活性なスルホキシド類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7005284A JPS60215662A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 光学活性なスルホキシド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7005284A JPS60215662A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 光学活性なスルホキシド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60215662A JPS60215662A (ja) | 1985-10-29 |
| JPH0520427B2 true JPH0520427B2 (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=13420399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7005284A Granted JPS60215662A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 光学活性なスルホキシド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60215662A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62156920A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Aida Eng Ltd | 射出圧縮成形方法及び射出圧縮成形装置 |
| JP2005281215A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学活性スピロ化合物からなる光学分割試薬 |
-
1984
- 1984-04-10 JP JP7005284A patent/JPS60215662A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60215662A (ja) | 1985-10-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |