JPH054953A - オルト−ヒドロキシフエニルアセタミド - Google Patents
オルト−ヒドロキシフエニルアセタミドInfo
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】一般式(I)、例えば式(VI)
で表わされるオルト−ヒドロキシフェニルアセタミド誘
導体及び該誘導体を含む有機材料組成物。 【効果】該誘導体は潤滑剤、金属加工用流体、油圧用流
体、及び合成、天然もしくは半合成ポリマー等の有機材
料の安定剤として熱、酸化および/または化学線による
分解から保護する。
導体及び該誘導体を含む有機材料組成物。 【効果】該誘導体は潤滑剤、金属加工用流体、油圧用流
体、及び合成、天然もしくは半合成ポリマー等の有機材
料の安定剤として熱、酸化および/または化学線による
分解から保護する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は熱、酸化および/又は化
学線により分解されやすい有機材料、及び少なくとも1
個のオルト−ヒドロキシフェニルアセタミドの誘導体か
らなる組成物、オルト−ヒドロキシフェニルアセタミド
の新規な誘導体、及び有機材料を安定化するためにそれ
らを使用する方法に関する。
学線により分解されやすい有機材料、及び少なくとも1
個のオルト−ヒドロキシフェニルアセタミドの誘導体か
らなる組成物、オルト−ヒドロキシフェニルアセタミド
の新規な誘導体、及び有機材料を安定化するためにそれ
らを使用する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】オルト−ヒドロキシフェニルアセタミド
は1900年[R.Stoemer氏著,Annalen313,79(1900)] 以
来、公知である。その頃から、種々の目的で天然生成物
の探索において〔例えば、A.G.Hayes 氏等著、Life Sc
i.34,1241(1984);H.Schmidhammer 氏等著、Helv.Chim A
cta 66,2437(1983);M.J.Calverley氏等著、Tetrahedron
Lett.22,1635(1981);K.Nagajaran氏等著、Proc.Indian
Acad.Sci. Sect.A 86A,25(1977)〕、有機合成のために
〔例えば、A.Tsuji 氏等著、Chem.Pharm.Bull.20,2528
(1972);O.Yonemitsu 氏等著、Chem. Pharm. Bull.19,11
58(1971);J.Lange氏等著、Diss. Pharm. Pharmacol.20,
607(1968);J.Derkosch氏等著、Monatsh.92,542(1961)〕
にその誘導体と一緒に使用され、そして製薬的な適用
(例えば、西ドイツ特許第1959898号、第254
0552号、米国特許第3331874号)も提案され
ている。
は1900年[R.Stoemer氏著,Annalen313,79(1900)] 以
来、公知である。その頃から、種々の目的で天然生成物
の探索において〔例えば、A.G.Hayes 氏等著、Life Sc
i.34,1241(1984);H.Schmidhammer 氏等著、Helv.Chim A
cta 66,2437(1983);M.J.Calverley氏等著、Tetrahedron
Lett.22,1635(1981);K.Nagajaran氏等著、Proc.Indian
Acad.Sci. Sect.A 86A,25(1977)〕、有機合成のために
〔例えば、A.Tsuji 氏等著、Chem.Pharm.Bull.20,2528
(1972);O.Yonemitsu 氏等著、Chem. Pharm. Bull.19,11
58(1971);J.Lange氏等著、Diss. Pharm. Pharmacol.20,
607(1968);J.Derkosch氏等著、Monatsh.92,542(1961)〕
にその誘導体と一緒に使用され、そして製薬的な適用
(例えば、西ドイツ特許第1959898号、第254
0552号、米国特許第3331874号)も提案され
ている。
【0003】さらに、いわゆる”障害性フェノール”、
即ち、OH基に基づいてオルト位に立体性を必要とする
置換基をもつフェニールで有機材料を安定化するのは通
例3ある。関連文献は当業者に公知である〔例えば、Ul
lmannsEnzyklopadie der technischen Chemie(Ullmann'
s Encyclopaedia of Industrial Chemistry) 、4版、W
einheim 1974,8巻、p.l9ff参照〕。
即ち、OH基に基づいてオルト位に立体性を必要とする
置換基をもつフェニールで有機材料を安定化するのは通
例3ある。関連文献は当業者に公知である〔例えば、Ul
lmannsEnzyklopadie der technischen Chemie(Ullmann'
s Encyclopaedia of Industrial Chemistry) 、4版、W
einheim 1974,8巻、p.l9ff参照〕。
【0004】驚いたことに、オルト−ヒドロキシフェニ
ルアセタミド誘導体は有機材料の安定剤として非常に適
当であることが見いだされた。
ルアセタミド誘導体は有機材料の安定剤として非常に適
当であることが見いだされた。
【課題を解決するための手段】従って、本発明は熱、酸
化および/又は化学線により分解されやすい有機材料、
及び少なくとも1個の次式I
化および/又は化学線により分解されやすい有機材料、
及び少なくとも1個の次式I
【化43】
〔式中、Rは水素原子、炭素原子数1ないし24のアル
キル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、
フェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、または次式II
キル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、
フェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、または次式II
【化44】
(Yは−CHR5 −,硫黄原子または直接結合を表わ
し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル
基、フェニル基またはニトロ基、塩素原子、弗素原子、
炭素原子数1ないし8のアルキル基および/またはメト
キシ基によって置換されたフェニル基を表わし、R5 は
水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、または
フェニル基を表わし、R2 及びR3 は互いに独立して水
素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原
子数5ないし12のシクロアルキル基、ベンジル基、フ
ェニル基、炭素原子数1ないし18のアルキル基によっ
て置換されたフェニル基、炭素原子数2ないし4のヒド
ロキシアルキル基、ナフチル基、(CH2 )x −COR
6 ,次式
し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル
基、フェニル基またはニトロ基、塩素原子、弗素原子、
炭素原子数1ないし8のアルキル基および/またはメト
キシ基によって置換されたフェニル基を表わし、R5 は
水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、または
フェニル基を表わし、R2 及びR3 は互いに独立して水
素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原
子数5ないし12のシクロアルキル基、ベンジル基、フ
ェニル基、炭素原子数1ないし18のアルキル基によっ
て置換されたフェニル基、炭素原子数2ないし4のヒド
ロキシアルキル基、ナフチル基、(CH2 )x −COR
6 ,次式
【化45】
または次式
【化46】
で表わされる基を表わすか、またはそれらが結合する窒
素原子と一緒になって5〜7員環のヘテロ環を表わす
か、またはR2 は−NHR14を表わし、そしてR3 は上
記と同じ意味を表わし、R14は水素原子、炭素原子数1
ないし12のアルキル基、フェニル基、または炭素原子
数1ないし4のアルキル基によって置換されたフェニル
基を表わし、R15は水素原子、炭素原子数1ないし4の
アルキル基またはフェニル基を表わし、そしてdは1な
いし18の整数を表わし、R6 は水素原子、または炭素
原子数1ないし20のアルキル基を表わし、xは1ない
し5の整数を表わし、R7 は水素原子、炭素原子数1な
いし8のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基またはCO−R9 を表わし、R9 はフェニル基ま
たは炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わすか、ま
たはR3 が水素原子を表わし、Rが式IIの基を表わさ
ないとき、R2 は−D−E<−D−は次式
素原子と一緒になって5〜7員環のヘテロ環を表わす
か、またはR2 は−NHR14を表わし、そしてR3 は上
記と同じ意味を表わし、R14は水素原子、炭素原子数1
ないし12のアルキル基、フェニル基、または炭素原子
数1ないし4のアルキル基によって置換されたフェニル
基を表わし、R15は水素原子、炭素原子数1ないし4の
アルキル基またはフェニル基を表わし、そしてdは1な
いし18の整数を表わし、R6 は水素原子、または炭素
原子数1ないし20のアルキル基を表わし、xは1ない
し5の整数を表わし、R7 は水素原子、炭素原子数1な
いし8のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基またはCO−R9 を表わし、R9 はフェニル基ま
たは炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わすか、ま
たはR3 が水素原子を表わし、Rが式IIの基を表わさ
ないとき、R2 は−D−E<−D−は次式
【化47】
−Cy H2y−NH−,−(CH2 −CH2−NH)2 −
または次式
または次式
【化48】
を表わし、そして−Eは次式
【化49】
【化50】
または
【化51】
を表わし、官能基Eは官能基−D−のNH基に結合し、
bは0ないし2の整数を表わし、そしてyは0ないし1
2の整数を表わし、R8 は水素原子、炭素原子数1ない
し12のアルキル基、または炭素原子数5ないし12の
シクロアルキル基を表わし、R10は炭素原子数1ないし
24のアルキル基、またはフェニル基を表わす>で表さ
れる基を表わし、R4 は水素原子、炭素原子数1ないし
20のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロア
ルキル基、ベンジル基、フェニル基、炭素原子数1ない
し4のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基、−Cn H2nCO2 R11
または次式III
bは0ないし2の整数を表わし、そしてyは0ないし1
2の整数を表わし、R8 は水素原子、炭素原子数1ない
し12のアルキル基、または炭素原子数5ないし12の
シクロアルキル基を表わし、R10は炭素原子数1ないし
24のアルキル基、またはフェニル基を表わす>で表さ
れる基を表わし、R4 は水素原子、炭素原子数1ないし
20のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロア
ルキル基、ベンジル基、フェニル基、炭素原子数1ない
し4のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基、−Cn H2nCO2 R11
または次式III
【化52】
を表わし、R11は水素原子、炭素原子数1ないし18の
アルキル基、−Cz H2z−Aまたは−CH2 −C(CH
2 A)3 を表わし、Aは次式
アルキル基、−Cz H2z−Aまたは−CH2 −C(CH
2 A)3 を表わし、Aは次式
【化53】
を表わし、そしてzが2ないし12の整数を表わし、n
は0,1または2を表わし、R12及びR13は互いに独立
して水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、フ
ェニル基または炭素原子数5ないし12のシクロアルキ
ル基を表わすか、またはR12がメチル基のとき、R13は
また、次式
は0,1または2を表わし、R12及びR13は互いに独立
して水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、フ
ェニル基または炭素原子数5ないし12のシクロアルキ
ル基を表わすか、またはR12がメチル基のとき、R13は
また、次式
【化54】
または次式
【化55】
を表わし、Lは次式
【化56】
を表わし、pは1または2を表わし、qは2ないし12
の整数を表わす。但し、R4 が式IIIの基を表さず、
分子が式IIIaの官能基を含まないときだけ、Rは式
IIの官能基を表わす。)で表される基を表わす〕で表
される化合物からなる組成物に関する。
の整数を表わす。但し、R4 が式IIIの基を表さず、
分子が式IIIaの官能基を含まないときだけ、Rは式
IIの官能基を表わす。)で表される基を表わす〕で表
される化合物からなる組成物に関する。
【0005】上記の式においてアルキル官能基R,
R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8 ,R
9 ,R10,R12,R13,R14及びR15は分枝状または分
枝状でないアルキル基である。記号Cの指数として記載
された数の範囲は可能な炭素原子の数に関する。したが
って、炭素原子数1ないし24のアルキル基としてのR
及びR10は例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブ
チル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、3−ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘ
キシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシ
ル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル
基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル
基、2−エチルブチル基、1−メチルペンチル基、1,
3−ジメチルブチル基、1,1,3,3−テトラメチル
ブチル基、1−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、1
−メチルヘプチル基、1,1,3−トリメチルヘキシル
基、1−メチルウンデシル基、エイコシル基、ヘミコシ
ル基またはドコシル基である。
R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 ,R7 ,R8 ,R
9 ,R10,R12,R13,R14及びR15は分枝状または分
枝状でないアルキル基である。記号Cの指数として記載
された数の範囲は可能な炭素原子の数に関する。したが
って、炭素原子数1ないし24のアルキル基としてのR
及びR10は例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブ
チル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、3−ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘ
キシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシ
ル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル
基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル
基、2−エチルブチル基、1−メチルペンチル基、1,
3−ジメチルブチル基、1,1,3,3−テトラメチル
ブチル基、1−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、1
−メチルヘプチル基、1,1,3−トリメチルヘキシル
基、1−メチルウンデシル基、エイコシル基、ヘミコシ
ル基またはドコシル基である。
【0006】炭素原子を1ないし18個含むアルキル基
が好ましく、そしてR10として炭素原子を1ないし12
個含むものが特に好ましい。炭素原子数1ないし4のア
ルキル基としてR1 及びR15の例は、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、または第三ブチル基である。
が好ましく、そしてR10として炭素原子を1ないし12
個含むものが特に好ましい。炭素原子数1ないし4のア
ルキル基としてR1 及びR15の例は、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、または第三ブチル基である。
【0007】実施例として、炭素原子数1ないし18の
アルキル基としてのR2 及びR3 は、エイコシル基、ヘ
ミコシル基、及びドコシル基を除いてR及びR10で記載
された意味を表わす。R及びR10で与えられた例はま
た、ドコシル基およびヘミコシル基を除いた炭素原子数
1ないし20のアルキル基としてのR4 及びR6 で記載
されうる。これらのうち、炭素原子を1ないし12個も
つ官能基が好ましく、そして炭素原子を1ないし4個含
むものが特に好ましい。
アルキル基としてのR2 及びR3 は、エイコシル基、ヘ
ミコシル基、及びドコシル基を除いてR及びR10で記載
された意味を表わす。R及びR10で与えられた例はま
た、ドコシル基およびヘミコシル基を除いた炭素原子数
1ないし20のアルキル基としてのR4 及びR6 で記載
されうる。これらのうち、炭素原子を1ないし12個も
つ官能基が好ましく、そして炭素原子を1ないし4個含
むものが特に好ましい。
【0008】炭素原子数1ないし8のアルキル基として
R5 ,R7 ,R9 ,R12及びR13の例はメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イ
ソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチル
ヘキシル基、2−エチルブチル基、イソアミル基、1−
メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチル基、1,
1,3,3−テトラメチルブチル基、1−メチルヘキシ
ル基、イソヘプチル基、又は1−メチルヘプチル基であ
る。R7 ,R12及びR13は好ましくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基である。
R5 ,R7 ,R9 ,R12及びR13の例はメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イ
ソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチル
ヘキシル基、2−エチルブチル基、イソアミル基、1−
メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチル基、1,
1,3,3−テトラメチルブチル基、1−メチルヘキシ
ル基、イソヘプチル基、又は1−メチルヘプチル基であ
る。R7 ,R12及びR13は好ましくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基である。
【0009】炭素原子数1ないし12のアルキル基とし
てR8 の例は、R5 ,R7 ,R9 ,R12及びR13で記載
されたものに、さらにノニル基、デシル基、ウンデシル
基、1−メチルウンデシル基、2,2,4,4−テトラ
メチルペンチル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基
を加えたものである。炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基としてR,R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R8 ,
R10,R12及びR13の例はシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シク
ロデシル基およびシクロドデシル基を含む。シクロペン
チル基、シクロヘキシル基およびシクロヘプチル基が好
ましく、そしてシクロヘキシル基が特に好ましい。
てR8 の例は、R5 ,R7 ,R9 ,R12及びR13で記載
されたものに、さらにノニル基、デシル基、ウンデシル
基、1−メチルウンデシル基、2,2,4,4−テトラ
メチルペンチル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基
を加えたものである。炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基としてR,R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R8 ,
R10,R12及びR13の例はシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シク
ロデシル基およびシクロドデシル基を含む。シクロペン
チル基、シクロヘキシル基およびシクロヘプチル基が好
ましく、そしてシクロヘキシル基が特に好ましい。
【0010】フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基としてのR及びR4 の例は、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、α−メチルベンジル
基、及びα,α−ジメチルベンジル基である。ベンジル
基は好ましい。
ル基としてのR及びR4 の例は、ベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、α−メチルベンジル
基、及びα,α−ジメチルベンジル基である。ベンジル
基は好ましい。
【0011】炭素原子数1ないし18のアルキル置換さ
れたフェニル基としてのR2 及びR3 の例は、メチルフ
ェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル
基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、イソプロ
ピルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ−第三−ブ
チルフェニル基、メチル−ジ−第三−ブチルフェニル
基、第三オクチルフェニル基およびジ−第三−オクチル
フェニル基である。アルキル基の数は特に1ないし3、
例えば、1または2である。すべてのアルキル置換基の
炭素原子の全数は好ましくは、1ないし18、特に1な
いし12、例えば、1ないし6である。
れたフェニル基としてのR2 及びR3 の例は、メチルフ
ェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル
基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、イソプロ
ピルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ−第三−ブ
チルフェニル基、メチル−ジ−第三−ブチルフェニル
基、第三オクチルフェニル基およびジ−第三−オクチル
フェニル基である。アルキル基の数は特に1ないし3、
例えば、1または2である。すべてのアルキル置換基の
炭素原子の全数は好ましくは、1ないし18、特に1な
いし12、例えば、1ないし6である。
【0012】炭素原子数2ないし4のヒドロキシアルキ
ル基としてのR2 及びR3 の例は、2−ヒドロキシエチ
ル基、1,2−ジヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ
プロピル基、2,3−ジヒドロキシプロピル基、1,3
−ジヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル
基、4−ヒドロキシブチル基、そして1個またはそれ以
上のヒドロキシル基で置換され、炭素原子を2ないし4
個含む他のアルキル官能基である。2−ヒドロキシエチ
ル基が好ましい。
ル基としてのR2 及びR3 の例は、2−ヒドロキシエチ
ル基、1,2−ジヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ
プロピル基、2,3−ジヒドロキシプロピル基、1,3
−ジヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル
基、4−ヒドロキシブチル基、そして1個またはそれ以
上のヒドロキシル基で置換され、炭素原子を2ないし4
個含む他のアルキル官能基である。2−ヒドロキシエチ
ル基が好ましい。
【0013】R2 及びR3 が一緒になって5〜7員環の
ヘテロ環を形成し、そのような環は、例えば、窒素原子
に加えて、他のヘテロ環原子として他の窒素原子または
酸素原子を含みうる。環は好ましくは飽和され、そして
特に6員環を持つ。これらの例はピペリジノ、モルホリ
ノ、ピペラジノ、4−メチルピペラジノ、及びヘキサメ
チレンイミノである。
ヘテロ環を形成し、そのような環は、例えば、窒素原子
に加えて、他のヘテロ環原子として他の窒素原子または
酸素原子を含みうる。環は好ましくは飽和され、そして
特に6員環を持つ。これらの例はピペリジノ、モルホリ
ノ、ピペラジノ、4−メチルピペラジノ、及びヘキサメ
チレンイミノである。
【0014】炭素原子数1ないし4のアルコキシ基とし
てのR4 及びR7 の例はメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、及びイソブ
トキシ基である。R及びR4 は好ましくは炭素原子数1
ないし4のアルキル基、特に第三ブチル基である。
てのR4 及びR7 の例はメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、及びイソブ
トキシ基である。R及びR4 は好ましくは炭素原子数1
ないし4のアルキル基、特に第三ブチル基である。
【0015】式Iにおいて、Rが炭素原子数1ないし1
8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベン
ジル基または式IIの官能基を表わし、R1が水素原
子、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表わし、
Yが直接結合、メチレンまたは硫黄原子を表わし、R2
及びR3 が互いに独立して水素原子、炭素原子数1ない
し18のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、
フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基により
置換されたフェニル基、ナフチル基、−(CH2 )x −
COR6 ,CH2 CH2 OHまたは次式
8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベン
ジル基または式IIの官能基を表わし、R1が水素原
子、メチル基、エチル基、またはフェニル基を表わし、
Yが直接結合、メチレンまたは硫黄原子を表わし、R2
及びR3 が互いに独立して水素原子、炭素原子数1ない
し18のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、
フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基により
置換されたフェニル基、ナフチル基、−(CH2 )x −
COR6 ,CH2 CH2 OHまたは次式
【化57】
の官能基を表わすか、またはR2 が水素原子を表わし、
R3 が−D−E<Eが式IIaまたはIIbの基を表わ
し、式IIa,III,IIIa及びIIIbの基にお
けるRは炭素原子数1ないし18のアルキル基またはシ
クロヘキシル基を表わし、そして式IIaの基における
R8 は炭素原子数1ないし12のアルキル基またはシク
ロヘキシル基を表わし、yが0ないし6を表わし、R6
は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表わし、R7 が水素原子、炭素原子数1ないし4のアル
キル基、またはCO−炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わす>で表される官能基を表わし、R4 が水素原
子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、シクロヘキ
シル基、フェニル基、−Cn H2nCO2R11または次式
III
R3 が−D−E<Eが式IIaまたはIIbの基を表わ
し、式IIa,III,IIIa及びIIIbの基にお
けるRは炭素原子数1ないし18のアルキル基またはシ
クロヘキシル基を表わし、そして式IIaの基における
R8 は炭素原子数1ないし12のアルキル基またはシク
ロヘキシル基を表わし、yが0ないし6を表わし、R6
は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表わし、R7 が水素原子、炭素原子数1ないし4のアル
キル基、またはCO−炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わす>で表される官能基を表わし、R4 が水素原
子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、シクロヘキ
シル基、フェニル基、−Cn H2nCO2R11または次式
III
【化58】
(R12及びR13は互いに独立して水素原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、フェニル基またはシクロヘキ
シル基を表わすか、またはR12がメチル基のとき、R13
はまた、次式
1ないし4のアルキル基、フェニル基またはシクロヘキ
シル基を表わすか、またはR12がメチル基のとき、R13
はまた、次式
【化59】
または次式
【化60】
を表わし、qは2ないし6の整数を表わし、R6 ' が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
わす)で表される化合物を少なくとも1個含む本発明の
組成物は好ましい。
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
わす)で表される化合物を少なくとも1個含む本発明の
組成物は好ましい。
【0016】式Iにおいて、Rが炭素原子数1ないし1
8のアルキル基または式IIの官能基を表わし、R1 が
水素原子またはフェニル基を表わし、Yが直接結合を表
わし、R2 が水素原子、炭素原子数1ないし20のアル
キル基、ベンジル基、フェニル基、アミノ基または次式
8のアルキル基または式IIの官能基を表わし、R1 が
水素原子またはフェニル基を表わし、Yが直接結合を表
わし、R2 が水素原子、炭素原子数1ないし20のアル
キル基、ベンジル基、フェニル基、アミノ基または次式
【化61】
または
【化62】
で表わされる基を表わし、R7 が水素原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、またはCO−炭素原子数1な
いし4のアルキル基を表わし、R4 が水素原子、炭素原
子数1ないし6のアルキル基、または式IIIの基を表
わし、R12及びR13は互いに独立して水素原子、または
炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすか、または
R12がメチル基のとき、R13はまた、−(CH2 )2 C
OOCH3 を表わし、R3 が水素原子を表わし、yが2
ないし12を表わす化合物を少なくとも1個含む組成物
が特に好ましい。
1ないし4のアルキル基、またはCO−炭素原子数1な
いし4のアルキル基を表わし、R4 が水素原子、炭素原
子数1ないし6のアルキル基、または式IIIの基を表
わし、R12及びR13は互いに独立して水素原子、または
炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすか、または
R12がメチル基のとき、R13はまた、−(CH2 )2 C
OOCH3 を表わし、R3 が水素原子を表わし、yが2
ないし12を表わす化合物を少なくとも1個含む組成物
が特に好ましい。
【0017】式Iにおいて、Rが炭素原子数1ないし6
のアルキル基を表わし、R1 が水素原子、またはフェニ
ル基を表わし、R2 が水素原子、炭素原子数1ないし2
0のアルキル基、−NH2 または、次式
のアルキル基を表わし、R1 が水素原子、またはフェニ
ル基を表わし、R2 が水素原子、炭素原子数1ないし2
0のアルキル基、−NH2 または、次式
【化63】
で表される官能基、または式IIIcの官能基を表わ
し、yが2ないし10を表わし、R7 が水素原子、CH
3 または−COCH3 を表わし、R4 及びR8 は水素原
子、または炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わ
し、そしてR3 が水素原子を表わす化合物を少なくとも
1個含む組成物が特に非常に好ましい。
し、yが2ないし10を表わし、R7 が水素原子、CH
3 または−COCH3 を表わし、R4 及びR8 は水素原
子、または炭素原子数1ないし6のアルキル基を表わ
し、そしてR3 が水素原子を表わす化合物を少なくとも
1個含む組成物が特に非常に好ましい。
【0018】本発明の組成物に存在する有機材料は、
熱、光または放射線、機械的負荷(特に剪断力による)
および化学試薬(特に大気中の酸素)の暴露に対してよ
り容易に、或いは容易でなく減成しうる。
熱、光または放射線、機械的負荷(特に剪断力による)
および化学試薬(特に大気中の酸素)の暴露に対してよ
り容易に、或いは容易でなく減成しうる。
【0019】そのような影響に対する保護は、本発明の
組成物中に0.01ないし10重量%、例えば0.05
ないし5重量%、特に0.05ないし3重量%、特に、
0.1ないし2重量%の割合で、好都合に存在すべきで
ある式Iの化合物の作用である。これらの化合物の1個
またはそれ以上は組成物中に存在し、与えられたパーセ
ントはこれらの化合物の全量に基づく。計算の規準は、
式Iの化合物を含まない有機物質の全量である。
組成物中に0.01ないし10重量%、例えば0.05
ないし5重量%、特に0.05ないし3重量%、特に、
0.1ないし2重量%の割合で、好都合に存在すべきで
ある式Iの化合物の作用である。これらの化合物の1個
またはそれ以上は組成物中に存在し、与えられたパーセ
ントはこれらの化合物の全量に基づく。計算の規準は、
式Iの化合物を含まない有機物質の全量である。
【0020】本発明の組成物に存在する物質は、酸化、
熱および/又は化学線による分解に敏感な物質である。
式Iの化合物は酸化および特に熱による分解に対する安
定剤として特に有用である。したがって、それらは熱可
塑性プラスチックス用加工(熱)安定剤として都合良く
使用されうる。
熱および/又は化学線による分解に敏感な物質である。
式Iの化合物は酸化および特に熱による分解に対する安
定剤として特に有用である。したがって、それらは熱可
塑性プラスチックス用加工(熱)安定剤として都合良く
使用されうる。
【0021】したがって、本発明はまた、酸化、熱およ
び/又は化学線による分解に対する有機材料の安定化の
ための式Iの化合物の使用方法、及び安定剤として式I
の化合物を有機材料に添加または適用することからなる
有機材料の安定化方法に関する。
び/又は化学線による分解に対する有機材料の安定化の
ための式Iの化合物の使用方法、及び安定剤として式I
の化合物を有機材料に添加または適用することからなる
有機材料の安定化方法に関する。
【0022】式Iの化合物の助けによって本発明により
安定化されうる有機物質の適当な例を以下に示す。 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−
1−エン、ポリメチルペンテ−1−エン、ポリイソプレ
ンまたはポリブタジエン、同様にシクロオレフィン、例
えばシクロペンテンまたはノルボルエンのポリマー、並
びにポリエチレン(必要ならば架橋されうる)、例えば
高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン
(LDPE)及び線状低密度ポリエチレン(LLDP
E)。
安定化されうる有機物質の適当な例を以下に示す。 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−
1−エン、ポリメチルペンテ−1−エン、ポリイソプレ
ンまたはポリブタジエン、同様にシクロオレフィン、例
えばシクロペンテンまたはノルボルエンのポリマー、並
びにポリエチレン(必要ならば架橋されうる)、例えば
高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン
(LDPE)及び線状低密度ポリエチレン(LLDP
E)。
【0023】2.上記1に挙げたポリマーの混合物、例
えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレ
ンとポリエチレン(例えばPP/HDPE,PP/LD
PE)及び種々のタイプのポリエチレンの混合物。(例
えばLDPE/HDPE)。
えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレ
ンとポリエチレン(例えばPP/HDPE,PP/LD
PE)及び種々のタイプのポリエチレンの混合物。(例
えばLDPE/HDPE)。
【0024】3.モノオレフィンおよびジオレフィンの
相互もしくは他のビニルモノマーとのコポリマー、例え
ばエチレン−プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエ
チレン(LLDPE)およびそれらと低密度ポリエチレ
ン(LDPE)の混合物、プロピレン/ブテ−1−エン
コポリマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エ
チレン/ブテ−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセ
ンコポリマー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、
エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコ
ポリマー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルア
クリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレ
ートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン/ビニルアセテートコポリマー、又
はエチレン/アクリル酸コポリマー及びそれらの塩(ア
イソマー)、並びにエチレンとプロピレンとジエン、例
えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、またはエチ
リデンノルボルネンとのターポリマー、並びに、そのよ
うなコポリマーと相互に、及び上記1で挙げたポリマー
との混合物、例えば、ポリプロピレン/エチレン−プロ
ピレンコポリマー、LDPE/エチレン−ビニルアセテ
ートコポリマー,LDPE/エチレン−アクリル酸コポ
リマー,LLDPE/エチレン−ビニルアセテートコポ
リマー及びLLDPE/エチレン−アクリル酸コポリマ
ー。
相互もしくは他のビニルモノマーとのコポリマー、例え
ばエチレン−プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエ
チレン(LLDPE)およびそれらと低密度ポリエチレ
ン(LDPE)の混合物、プロピレン/ブテ−1−エン
コポリマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エ
チレン/ブテ−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセ
ンコポリマー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、
エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコ
ポリマー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルア
クリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレ
ートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン/ビニルアセテートコポリマー、又
はエチレン/アクリル酸コポリマー及びそれらの塩(ア
イソマー)、並びにエチレンとプロピレンとジエン、例
えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、またはエチ
リデンノルボルネンとのターポリマー、並びに、そのよ
うなコポリマーと相互に、及び上記1で挙げたポリマー
との混合物、例えば、ポリプロピレン/エチレン−プロ
ピレンコポリマー、LDPE/エチレン−ビニルアセテ
ートコポリマー,LDPE/エチレン−アクリル酸コポ
リマー,LLDPE/エチレン−ビニルアセテートコポ
リマー及びLLDPE/エチレン−アクリル酸コポリマ
ー。
【0025】3a.炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5
ないし9)であり、そこからの水素化変成を含むもの。
(例えば粘着性樹脂)。
ないし9)であり、そこからの水素化変成を含むもの。
(例えば粘着性樹脂)。
【0026】4.ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチ
レン)及びポリ(α−メチルスチレン)。
レン)及びポリ(α−メチルスチレン)。
【0027】5.スチレンもしくはα−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリ
ル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブ
タジエン/アルキルアクリレート、スチレン/無水マレ
イン酸、及びスチレン/アクリロニトリル−メチルアク
リレート、スチレンコポリマーと他のポリマー、例えば
ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/プ
ロピレン−ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合
物、及びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレ
ン/ブタジエン−スチレン、スチレン/イソプレン−ス
チレン、スチレン/エチレン−ブチレン/スチレン、又
はスチレン/エチレン−プロピレン/スチレン。
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリ
ル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブ
タジエン/アルキルアクリレート、スチレン/無水マレ
イン酸、及びスチレン/アクリロニトリル−メチルアク
リレート、スチレンコポリマーと他のポリマー、例えば
ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/プ
ロピレン−ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合
物、及びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレ
ン/ブタジエン−スチレン、スチレン/イソプレン−ス
チレン、スチレン/エチレン−ブチレン/スチレン、又
はスチレン/エチレン−プロピレン/スチレン。
【0028】6.スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えば、ポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン/スチレンコポリマーまたはポリブ
タジエン/アクリロニトリルコポリマーにスチレン、及
びポリブタジエンにスチレンとアクリロニトリル(また
はメタアクリロニトリル);ポリブタジエンにスチレ
ン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート;ポリ
ブタジエンにスチレン及び無水マレイン酸;ポリブタジ
エンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン
酸またはマレイミド;ポリブタジエンにスチレン、及び
マレイミド;ポリブタジエンにスチレンとアルキルアク
リレートまたはアルキルメタクリレート、エチレン/プ
ロピレン/ジエンターポリマーにスチレンとアクリロニ
トリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキル
メタクリレートにスチレンとアクリロニトリル、アクリ
レート/ブタジエンコポリマーにスチレンとアクリロニ
トリル、及びそれらと前記5で挙げたコポリマーとの混
合物、例えばABS,MBS,ASAまたはAESポリ
マーとして知られるもの。
グラフトコポリマー、例えば、ポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン/スチレンコポリマーまたはポリブ
タジエン/アクリロニトリルコポリマーにスチレン、及
びポリブタジエンにスチレンとアクリロニトリル(また
はメタアクリロニトリル);ポリブタジエンにスチレ
ン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート;ポリ
ブタジエンにスチレン及び無水マレイン酸;ポリブタジ
エンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン
酸またはマレイミド;ポリブタジエンにスチレン、及び
マレイミド;ポリブタジエンにスチレンとアルキルアク
リレートまたはアルキルメタクリレート、エチレン/プ
ロピレン/ジエンターポリマーにスチレンとアクリロニ
トリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキル
メタクリレートにスチレンとアクリロニトリル、アクリ
レート/ブタジエンコポリマーにスチレンとアクリロニ
トリル、及びそれらと前記5で挙げたコポリマーとの混
合物、例えばABS,MBS,ASAまたはAESポリ
マーとして知られるもの。
【0029】7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポ
リマー、及びエピクロロヒドリンホモ−及びコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えば
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニ
ル、及びポリ弗化ビニリデン;及びそれらのコポリマ
ー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/
酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマ
ー。
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポ
リマー、及びエピクロロヒドリンホモ−及びコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えば
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニ
ル、及びポリ弗化ビニリデン;及びそれらのコポリマ
ー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/
酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマ
ー。
【0030】8.α,β−不飽和酸、及びその誘導体か
ら誘導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリ
ロニトリル。
ら誘導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリ
ロニトリル。
【0031】9.上記8に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルコキシアルキルアクリレートコポリマー、またはアク
リロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアク
リロニトリル/アルキルメタクリレート/ブタジエンタ
ーポリマー。
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルコキシアルキルアクリレートコポリマー、またはアク
リロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアク
リロニトリル/アルキルメタクリレート/ブタジエンタ
ーポリマー。
【0032】10.不飽和アルコール及びアミン、又はア
シル誘導体もしくはアセタールから誘導されたポリマ
ー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレ
イン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタ
レートまたはポリアリルメラミン;及びそれらと上記1
に挙げたオレフィンとのコポリマー。
シル誘導体もしくはアセタールから誘導されたポリマ
ー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレ
イン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタ
レートまたはポリアリルメラミン;及びそれらと上記1
に挙げたオレフィンとのコポリマー。
【0033】11.環状エーテルのホモポリマー及びコポ
リマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレ
ンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビ
スグリシジルエーテルとのコポリマー。
リマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレ
ンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビ
スグリシジルエーテルとのコポリマー。
【0034】12. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレン、及びコモノマー、エチレンオキシドを有するポ
リオキシメチレン;例えば、熱可塑性ポリウレタン、ア
クリレートまたはMBSで変成されたポリアセタール。
チレン、及びコモノマー、エチレンオキシドを有するポ
リオキシメチレン;例えば、熱可塑性ポリウレタン、ア
クリレートまたはMBSで変成されたポリアセタール。
【0035】13.ポリフェニレンオキシド及びスルフィ
ド、及びそれらとスチレンポリマーまたはポリアミドの
混合物。
ド、及びそれらとスチレンポリマーまたはポリアミドの
混合物。
【0036】14.一方で末端水酸基を有するポリエーテ
ル、ポリエステル及びポリブタジエン、他方で脂肪族も
しくは芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポリウ
レタン、及びその前駆物質。
ル、ポリエステル及びポリブタジエン、他方で脂肪族も
しくは芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポリウ
レタン、及びその前駆物質。
【0037】15.ジアミン及びジカルボン酸から、及び
/又はアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばナイロン
4、ナイロン6、ナイロン6/6、ナイロン6/10、
ナイロン6/9、ナイロン6/12または4/6、ナイ
ロン11、ナイロン12及びm−キシレンジアミン及び
アジピン酸から出発した芳香族ポリアミド;ヘキサメチ
レンジアミン及びイソフタル酸及び/又はテレフタル酸
から、及び必要ならば、変成剤としてのエラストマー、
例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテ
レフタルアミド、ポリ−m−フェニレン−イソフタルア
ミドを使用して製造されたポリアミド;前述したポリア
ミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノ
マーまたは化学的に結合された、又はグラフト化された
エラストマー;又はポリエーテル、例えばポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテト
ラメチレングリコールとのブロックコポリマー;及びさ
らにEPDMまたはABSで変成されたポリアミド、又
はコポリアミド;及び加工の間、縮合されたポリアミド
(RIMポリアミド系)。
/又はアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばナイロン
4、ナイロン6、ナイロン6/6、ナイロン6/10、
ナイロン6/9、ナイロン6/12または4/6、ナイ
ロン11、ナイロン12及びm−キシレンジアミン及び
アジピン酸から出発した芳香族ポリアミド;ヘキサメチ
レンジアミン及びイソフタル酸及び/又はテレフタル酸
から、及び必要ならば、変成剤としてのエラストマー、
例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテ
レフタルアミド、ポリ−m−フェニレン−イソフタルア
ミドを使用して製造されたポリアミド;前述したポリア
ミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノ
マーまたは化学的に結合された、又はグラフト化された
エラストマー;又はポリエーテル、例えばポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテト
ラメチレングリコールとのブロックコポリマー;及びさ
らにEPDMまたはABSで変成されたポリアミド、又
はコポリアミド;及び加工の間、縮合されたポリアミド
(RIMポリアミド系)。
【0038】16.ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド
−イミド及びポリベンゾイミダゾール。
−イミド及びポリベンゾイミダゾール。
【0039】17.ジカルボン酸及びジアルコールから、
及び/又はヒドロキシカルボン酸または相当するラクト
ンから誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
1,4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及
びポリヒドロキシベンゾエート、並びに末端水酸基を有
するポリエーテルから誘導されるブロックポリエーテル
エステル;及び、さらにポリカーボネートまたはMBS
で変成されたポリエステル。
及び/又はヒドロキシカルボン酸または相当するラクト
ンから誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
1,4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及
びポリヒドロキシベンゾエート、並びに末端水酸基を有
するポリエーテルから誘導されるブロックポリエーテル
エステル;及び、さらにポリカーボネートまたはMBS
で変成されたポリエステル。
【0040】18.ポリカーボネートおよびポリエステル
カーボネート。
カーボネート。
【0041】19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
およびポリエーテルケトン。
【0042】20.一方でアルデヒドから、及び他方でフ
ェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿素
/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホルムアルデヒ
ド樹脂。
ェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿素
/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホルムアルデヒ
ド樹脂。
【0043】21.乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【0044】22.飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価ア
ルコールとのコポリエステルから、ビニル化合物を架橋
剤として誘導された不飽和ポリエステル樹脂及びそのハ
ロゲン含有、難燃変成樹脂。
ルコールとのコポリエステルから、ビニル化合物を架橋
剤として誘導された不飽和ポリエステル樹脂及びそのハ
ロゲン含有、難燃変成樹脂。
【0045】23.置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステルアクリレートから誘導された架橋アクリル樹脂。
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステルアクリレートから誘導された架橋アクリル樹脂。
【0046】24.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂と架橋したアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
アネートまたはエポキシ樹脂と架橋したアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【0047】25.ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または脂環式ジエポキシドから誘導さ
れた架橋エポキシ樹脂。
ルエーテルから、または脂環式ジエポキシドから誘導さ
れた架橋エポキシ樹脂。
【0048】26.セルロースのような天然ポリマー、ゴ
ム、ゼラチン及びそれらをポリマー同族方法で、化学変
成した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース及び酪酸セルロース、及びセルロースエー
テル、例えばメチルセルロース、並びにロジン樹脂およ
びその誘導体。
ム、ゼラチン及びそれらをポリマー同族方法で、化学変
成した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース及び酪酸セルロース、及びセルロースエー
テル、例えばメチルセルロース、並びにロジン樹脂およ
びその誘導体。
【0049】27.前述のポリマーの混合物(ポリブレン
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS,PVC/EVA,PVC/ABS,PVC
/MBS,PC/ABS,PBTP/ABS,PC/A
SA,PC/PBT,PVC/CPE,PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR,PC/熱可塑性PU
R,POM/アクリレート、POM/MBS,PPO/
HIPS,PPO/ナイロン6.6及びコポリマー、P
A/HDPE,PA/PP及びPA/PPO。
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS,PVC/EVA,PVC/ABS,PVC
/MBS,PC/ABS,PBTP/ABS,PC/A
SA,PC/PBT,PVC/CPE,PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR,PC/熱可塑性PU
R,POM/アクリレート、POM/MBS,PPO/
HIPS,PPO/ナイロン6.6及びコポリマー、P
A/HDPE,PA/PP及びPA/PPO。
【0050】28.純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動
物または植物脂肪、オイル及びワックスまたは合成エス
テル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェートま
たはトリメリテート)に基づいたオイル、ワックス及び
脂肪、並びに例えば紡糸製剤として用いられているいか
なる重量比での合成エステルと鉱油との混合物、そして
それらの水性エマルジョン。
混合物からなる天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動
物または植物脂肪、オイル及びワックスまたは合成エス
テル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェートま
たはトリメリテート)に基づいたオイル、ワックス及び
脂肪、並びに例えば紡糸製剤として用いられているいか
なる重量比での合成エステルと鉱油との混合物、そして
それらの水性エマルジョン。
【0051】29.天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン−ブタジエンコポリマーのラテックス。
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン−ブタジエンコポリマーのラテックス。
【0052】有機材料として本発明の組成物は好ましく
は、天然、半合成または合成ポリマー、潤滑剤、金属加
工用流体または油圧用流体を含む。組成物は合成ポリマ
ー、特に熱可塑性プラスチックスまたはエラストマーを
含むのが好ましい。有機材料として、ポリオレフィンか
らなる組成物が特に、記載されうる。そのようなポリマ
ーの例が、上記に列挙された適当な材料から取り出され
る。
は、天然、半合成または合成ポリマー、潤滑剤、金属加
工用流体または油圧用流体を含む。組成物は合成ポリマ
ー、特に熱可塑性プラスチックスまたはエラストマーを
含むのが好ましい。有機材料として、ポリオレフィンか
らなる組成物が特に、記載されうる。そのようなポリマ
ーの例が、上記に列挙された適当な材料から取り出され
る。
【0053】組成物は、潤滑剤、金属加工用流体または
油圧用流体、特に潤滑剤を含むのが好ましい。適当な潤
滑剤は、例えば鉱油または合成油またはそれらの混合物
に基づく。潤滑剤はその分野の当業者にとっては良く知
られており、関連した専門家用文献、例えばDieter Kla
mann氏著”Schmierstoffe und verwandte Produkte"
〔Lubricants and Related Products 〕(Verlag Chemi
e,Weinheim,1982);Schewe-Kobek氏著”Das Schmiermitt
el-Taschenbuch"〔The Lubricant Handbook〕(Dr.Alfre
d Huthig-Verlag,Heidelberg,1974) 及び"Ullmanns Enz
yklopadie der technischenChemie"〔Ullmann's Encycl
opaedia of Industrial Chemistry 〕,Vol.13,p.85-94
(Verlag Chemie,Weinheim,1977)に記載されている。
油圧用流体、特に潤滑剤を含むのが好ましい。適当な潤
滑剤は、例えば鉱油または合成油またはそれらの混合物
に基づく。潤滑剤はその分野の当業者にとっては良く知
られており、関連した専門家用文献、例えばDieter Kla
mann氏著”Schmierstoffe und verwandte Produkte"
〔Lubricants and Related Products 〕(Verlag Chemi
e,Weinheim,1982);Schewe-Kobek氏著”Das Schmiermitt
el-Taschenbuch"〔The Lubricant Handbook〕(Dr.Alfre
d Huthig-Verlag,Heidelberg,1974) 及び"Ullmanns Enz
yklopadie der technischenChemie"〔Ullmann's Encycl
opaedia of Industrial Chemistry 〕,Vol.13,p.85-94
(Verlag Chemie,Weinheim,1977)に記載されている。
【0054】潤滑剤は特に、油及び脂肪、例えば鉱油に
基づいている。油が好ましい。
基づいている。油が好ましい。
【0055】使用されうる他の群の潤滑剤は、植物性ま
たは動物性油、脂肪、獣脂およびワックス、又はそれら
と相互の混合物、又は上記の鉱油または合成油の混合物
である。植物性または動物性油、脂肪、獣脂およびワッ
クスは例えば、ヤシの実油、ヤシ油、オリーブ油、ナタ
ネ油またはセイヨウアブラナ油、亜麻仁油、落花生油、
大豆油、綿油、紅花油、カボチャの種油、ココナッツ
油、トウモロコシ油、ヒマシ油、クルミ油、及びそれら
の混合物、魚油、屠殺された動物の獣脂、例えばウシ由
来の獣脂、牛脚油及び骨油、及びそれらの変性された、
エポキシ化された、及びスルホキシ化された形態、例え
ばエポキシ化大豆油である。
たは動物性油、脂肪、獣脂およびワックス、又はそれら
と相互の混合物、又は上記の鉱油または合成油の混合物
である。植物性または動物性油、脂肪、獣脂およびワッ
クスは例えば、ヤシの実油、ヤシ油、オリーブ油、ナタ
ネ油またはセイヨウアブラナ油、亜麻仁油、落花生油、
大豆油、綿油、紅花油、カボチャの種油、ココナッツ
油、トウモロコシ油、ヒマシ油、クルミ油、及びそれら
の混合物、魚油、屠殺された動物の獣脂、例えばウシ由
来の獣脂、牛脚油及び骨油、及びそれらの変性された、
エポキシ化された、及びスルホキシ化された形態、例え
ばエポキシ化大豆油である。
【0056】鉱油は特に炭化水素化合物に基づいてい
る。
る。
【0057】合成潤滑剤の例は、脂肪族または芳香族カ
ルボン酸エステル、ポリマー性エステル、ポリアルキレ
ンオキサイド、リン酸エステル、ポリ−α−オレフィン
またはシリコン、 一価アルコールとの二塩基酸のジエステル、例えばジオ
クチルセバケートまたはジノニルアジペート、 一塩基酸またはそれらの酸の混合物とのトリメチロール
プロパンのトリエステル、例えばトリメチロールプロパ
ン トリペラルゴネート、トリメチロールプロパン ト
リカプリレートまたはそれらの混合物、 一塩基酸またはそれらの酸の混合物とのペンタエリスリ
トールのテトラエステル、例えばペンタエリスリトール
テトラカプリレート、又は多価アルコールと一塩基お
よび二塩基酸の錯体エステル、例えばカプリル酸及びセ
バシン酸、またはそれらの混合物とトリメチロールプロ
パンの錯体エステルに基づく潤滑剤を含む。
ルボン酸エステル、ポリマー性エステル、ポリアルキレ
ンオキサイド、リン酸エステル、ポリ−α−オレフィン
またはシリコン、 一価アルコールとの二塩基酸のジエステル、例えばジオ
クチルセバケートまたはジノニルアジペート、 一塩基酸またはそれらの酸の混合物とのトリメチロール
プロパンのトリエステル、例えばトリメチロールプロパ
ン トリペラルゴネート、トリメチロールプロパン ト
リカプリレートまたはそれらの混合物、 一塩基酸またはそれらの酸の混合物とのペンタエリスリ
トールのテトラエステル、例えばペンタエリスリトール
テトラカプリレート、又は多価アルコールと一塩基お
よび二塩基酸の錯体エステル、例えばカプリル酸及びセ
バシン酸、またはそれらの混合物とトリメチロールプロ
パンの錯体エステルに基づく潤滑剤を含む。
【0058】鉱油に添加して特に適当なのは例えば、ポ
リ−α−オレフィン、エステル、ホスフェート、グリコ
ール、ポリグリコール及びポリアルキレングリコールお
よびそれらと水との混合物に基づいた潤滑剤である。
リ−α−オレフィン、エステル、ホスフェート、グリコ
ール、ポリグリコール及びポリアルキレングリコールお
よびそれらと水との混合物に基づいた潤滑剤である。
【0059】金属加工用流体および油圧用流体は潤滑剤
として上記に記載されたのと同様の物質に基づいて製造
されうる。しばしば、これらは水または他の流体中でそ
れらの物質の乳濁液となる。
として上記に記載されたのと同様の物質に基づいて製造
されうる。しばしば、これらは水または他の流体中でそ
れらの物質の乳濁液となる。
【0060】有機材料の混入は例えば、式Iの化合物
中、所望ならば他の添加剤をその業界で慣用の方法によ
り行われる。それらがポリマー、特に合成ポリマーのと
き、混入は成形の前または間に行われるか、又はポリマ
ーに溶解され、または分散された化合物を適用し、必要
ならば溶媒を引き続き蒸発することにより行われる。エ
ラストマーの場合、これらはラテックスとして安定化さ
れうる。ポリマーへの式Iの化合物の他の混入の可能性
は、相当するモノマーの重合の前、間または後すぐに、
または架橋の前の添加からなる。
中、所望ならば他の添加剤をその業界で慣用の方法によ
り行われる。それらがポリマー、特に合成ポリマーのと
き、混入は成形の前または間に行われるか、又はポリマ
ーに溶解され、または分散された化合物を適用し、必要
ならば溶媒を引き続き蒸発することにより行われる。エ
ラストマーの場合、これらはラテックスとして安定化さ
れうる。ポリマーへの式Iの化合物の他の混入の可能性
は、相当するモノマーの重合の前、間または後すぐに、
または架橋の前の添加からなる。
【0061】この手順においては、式Iの化合物はそれ
自体として、また、カプセル化形態(例えば、ワック
ス、油またはポリマーにおいて)で添加されうる。重合
の前または間の添加の場合、式Iの化合物はまたポリマ
ーの鎖長のための調節剤(連鎖停止剤)として作用する
ことができる。
自体として、また、カプセル化形態(例えば、ワック
ス、油またはポリマーにおいて)で添加されうる。重合
の前または間の添加の場合、式Iの化合物はまたポリマ
ーの鎖長のための調節剤(連鎖停止剤)として作用する
ことができる。
【0062】式Iの化合物またはそれらの混合物は、例
えば、2.5ないし25重量%の濃度を含むマスターバ
ッチの形態で安定化されるため、プラスチックスに添加
されうる。
えば、2.5ないし25重量%の濃度を含むマスターバ
ッチの形態で安定化されるため、プラスチックスに添加
されうる。
【0063】式Iの化合物の混入は以下の方法により好
適に行われる: −エマルジョンまたは懸濁液として(例えばラテックス
またはエマルジョンポリマーを得るために) −添加成分またはポリマー混合物を混合する間に乾燥混
合物として、 −加工装置(例えば押し出し機、内部混合機等)への直
接添加によって、 −溶液または溶解物として、
適に行われる: −エマルジョンまたは懸濁液として(例えばラテックス
またはエマルジョンポリマーを得るために) −添加成分またはポリマー混合物を混合する間に乾燥混
合物として、 −加工装置(例えば押し出し機、内部混合機等)への直
接添加によって、 −溶液または溶解物として、
【0064】本発明のポリマー組成物は種々の形態で使
用されるか、または種々の製品を得るために、例えばシ
ート、繊維、テープ、成形材料、異形材、または塗料、
接着剤またはセメントに対する結合剤を得るために加工
される。
用されるか、または種々の製品を得るために、例えばシ
ート、繊維、テープ、成形材料、異形材、または塗料、
接着剤またはセメントに対する結合剤を得るために加工
される。
【0065】本発明の潤滑剤組成物は例えば、内燃モー
ター、例えばモーター自動車に使用される。
ター、例えばモーター自動車に使用される。
【0066】本発明の化合物または混合物に加えて、本
発明の組成物は他の慣用の添加剤、特にそれらが有機ポ
リマー、好ましくは合成ポリマーを含むことができる。
発明の組成物は他の慣用の添加剤、特にそれらが有機ポ
リマー、好ましくは合成ポリマーを含むことができる。
【0067】そのような添加剤を以下に示す。1.酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール
例えば、2,6-ジ−第三ブチル-4- メチルフェノール、2-
第三ブチル-4,6- ジメチルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- エチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4-n-
ブチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4- イソブチル
フェノール、2,6-ジ−シクロペンチル-4- メチルフェノ
ール、2-( α−メチルシクロヘキシル)-4,6- ジメチル
フェノール、2,6-ジオクタデシル-4- メチルフェノー
ル、2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ−第
三ブチル-4- メトキシメチルフェノール及び2,6-ジノニ
ル-4- メチルフェノール。
第三ブチル-4,6- ジメチルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- エチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4-n-
ブチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4- イソブチル
フェノール、2,6-ジ−シクロペンチル-4- メチルフェノ
ール、2-( α−メチルシクロヘキシル)-4,6- ジメチル
フェノール、2,6-ジオクタデシル-4- メチルフェノー
ル、2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ−第
三ブチル-4- メトキシメチルフェノール及び2,6-ジノニ
ル-4- メチルフェノール。
【0068】1.2.アルキル化ヒドロキノン
例えば、2,6-ジ−第三ブチル-4- メトキシフェノール、
2,5-ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5-ジ−第三アミル
ヒドロキノンおよび2,6-ジフェニル-4- オクタデシルオ
キシフェノール。
2,5-ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5-ジ−第三アミル
ヒドロキノンおよび2,6-ジフェニル-4- オクタデシルオ
キシフェノール。
【0069】1.3.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテ
ル 例えば、2,2'- チオビス(6-第三ブチル-4- メチルフェ
ノール)、2,2'- チオビス(4-オクチルフェノール)、
4,4'- チオビス(6-第三ブチル-3- メチルフェノール)
および4,4'- チオビス(6-第三ブチル-2- メチルフェノ
ール)。
ル 例えば、2,2'- チオビス(6-第三ブチル-4- メチルフェ
ノール)、2,2'- チオビス(4-オクチルフェノール)、
4,4'- チオビス(6-第三ブチル-3- メチルフェノール)
および4,4'- チオビス(6-第三ブチル-2- メチルフェノ
ール)。
【0070】1.4.アルキリデンビスフェノール
例えば、2,2'- メチレンビス(6-第三ブチル-4- メチル
フェノール)、2,2'- メチレンビス(6-第三ブチル-4-
エチルフェノール)、2,2'- メチレンビス〔4-メチル-6
-(α−メチルシクロヘキシル)フェノール〕、2,2'- メ
チレンビス(4-メチル-6- シクロヘキシルフェノー
ル)、2,2'- メチレンビス(6-ノニル-4- メチルフェノ
ール)、2,2'- メチレンビス(4,6-ジ第三ブチルフェノ
ール) 、2,2'-エチリデン- ビス(4,6- ジ第三ブチルフ
ェノール) 、2,2'- エチリデン- ビス-(6-第三ブチル-4
- イソブチルフェノール) 、2,2'- メチレンビス〔6-
(α−メチルベンジル)-4- ノニルフェノール〕、2,2'-
メチレンビス〔6-( α,α−ジメチルベンジル)-4-
ノニルフェノール〕、4,4'- メチレンビス(2,6-ジ−第
三ブチルフェノール)、4,4'- メチレンビス(6−第三
ブチル-2- メチルフェノール)、1,1-ビス(5-第三ブチ
ル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ブタン、2,6-ジ
−(3- 第三ブチル-5- メチル-2- ヒドロキシベンジル)
-4- メチルフェノール、1,1,3-トリス(5-第三ブチル-4
- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ブタン、1,1-ビス
(5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)-3
-n- ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール
ビス〔3,3-ビス(3'−第三ブチル-4'-ヒドロキシフェニ
ル)−ブチレート〕、ビス(3-第三ブチル-4- ヒドロキ
シ-5- メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、及びビ
ス−〔2-(3'-第三ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルベン
ジル)-6- 第三ブチル-4- メチルフェニル〕テレフタレ
ート。
フェノール)、2,2'- メチレンビス(6-第三ブチル-4-
エチルフェノール)、2,2'- メチレンビス〔4-メチル-6
-(α−メチルシクロヘキシル)フェノール〕、2,2'- メ
チレンビス(4-メチル-6- シクロヘキシルフェノー
ル)、2,2'- メチレンビス(6-ノニル-4- メチルフェノ
ール)、2,2'- メチレンビス(4,6-ジ第三ブチルフェノ
ール) 、2,2'-エチリデン- ビス(4,6- ジ第三ブチルフ
ェノール) 、2,2'- エチリデン- ビス-(6-第三ブチル-4
- イソブチルフェノール) 、2,2'- メチレンビス〔6-
(α−メチルベンジル)-4- ノニルフェノール〕、2,2'-
メチレンビス〔6-( α,α−ジメチルベンジル)-4-
ノニルフェノール〕、4,4'- メチレンビス(2,6-ジ−第
三ブチルフェノール)、4,4'- メチレンビス(6−第三
ブチル-2- メチルフェノール)、1,1-ビス(5-第三ブチ
ル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ブタン、2,6-ジ
−(3- 第三ブチル-5- メチル-2- ヒドロキシベンジル)
-4- メチルフェノール、1,1,3-トリス(5-第三ブチル-4
- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ブタン、1,1-ビス
(5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)-3
-n- ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール
ビス〔3,3-ビス(3'−第三ブチル-4'-ヒドロキシフェニ
ル)−ブチレート〕、ビス(3-第三ブチル-4- ヒドロキ
シ-5- メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、及びビ
ス−〔2-(3'-第三ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルベン
ジル)-6- 第三ブチル-4- メチルフェニル〕テレフタレ
ート。
【0071】1.5.ベンジル化合物
例えば、1,3,5-トリス(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロ
キシベンジル)-2,4,6-トリメチルベンゼン、ビス-(3,5
-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル)スルフィ
ド、イソオクチル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、ビス(4-第三ブチル-3-
ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル)ジチオールテレフ
タレート、1,3,5-トリス(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒド
ロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5-トリス(4-
第三ブチル-3- ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル)イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5-ジ−第三ブチル-4
- ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,5-ジ
−第三ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネートのカ
ルシウム塩及び1,3,5-トリス(3,5-ジシクロヘキシル-4
- ヒドロキシベンジル) イソシアヌレート。
キシベンジル)-2,4,6-トリメチルベンゼン、ビス-(3,5
-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル)スルフィ
ド、イソオクチル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、ビス(4-第三ブチル-3-
ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル)ジチオールテレフ
タレート、1,3,5-トリス(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒド
ロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5-トリス(4-
第三ブチル-3- ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル)イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5-ジ−第三ブチル-4
- ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,5-ジ
−第三ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネートのカ
ルシウム塩及び1,3,5-トリス(3,5-ジシクロヘキシル-4
- ヒドロキシベンジル) イソシアヌレート。
【0072】1.6.アシルアミノフェノール
例えば、ラウリル酸4-ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4-ヒドロキシアニリド、2,4-ビス(オクチルメルカプ
ト)-6-(3,5-第三ブチル-4- ヒドロキシアニリノ)-s-
トリアジン、N-(3,5- ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフ
ェニル)−カルバミン酸オクチルエステル。
酸4-ヒドロキシアニリド、2,4-ビス(オクチルメルカプ
ト)-6-(3,5-第三ブチル-4- ヒドロキシアニリノ)-s-
トリアジン、N-(3,5- ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフ
ェニル)−カルバミン酸オクチルエステル。
【0073】1.7.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−(3,5-ジ−第三ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸とのエステル アルコールの例:メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロ
キシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
ルとβ−(3,5-ジ−第三ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸とのエステル アルコールの例:メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロ
キシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
【0074】1.8.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−(5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-3- メチルフェ
ニル)プロピオン酸とのエステル アルコールの例:メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロ
キシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
ルとβ−(5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-3- メチルフェ
ニル)プロピオン酸とのエステル アルコールの例:メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロ
キシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
【0075】1.9.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−(3,5-ジシクロヘキシル-4- ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸エステル アルコールの例:メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロ
キシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
ルとβ−(3,5-ジシクロヘキシル-4- ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸エステル アルコールの例:メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロ
キシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
【0076】1.10. β−(3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロ
キシフェニル)プロピオン酸のアミド 例えばN,N'- ビス(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N'
- ビス(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル)トリメチレンジアミンおよびN,N'- ビス
(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロピオ
ニル)ヒドラジン。
キシフェニル)プロピオン酸のアミド 例えばN,N'- ビス(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N'
- ビス(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル)トリメチレンジアミンおよびN,N'- ビス
(3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロピオ
ニル)ヒドラジン。
【0077】2.紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. 2-(2'- ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル 例えば5'- メチル、3',5'-ジ第三ブチル、5'- 第三ブチ
ル、5'-(1,1,3,3-テトラメチルブチル) 、5-クロロ-3',
5'- ジ第三ブチル、5-クロロ-3'-第三ブチル-5'-メチ
ル、3'- 第二ブチル-5'-第三ブチル、4'- オクトキシ、
3',5'-ジ第三アミルまたは3',5'-ビス-(α, α- ジメチ
ルベンジル)誘導体。
ル 例えば5'- メチル、3',5'-ジ第三ブチル、5'- 第三ブチ
ル、5'-(1,1,3,3-テトラメチルブチル) 、5-クロロ-3',
5'- ジ第三ブチル、5-クロロ-3'-第三ブチル-5'-メチ
ル、3'- 第二ブチル-5'-第三ブチル、4'- オクトキシ、
3',5'-ジ第三アミルまたは3',5'-ビス-(α, α- ジメチ
ルベンジル)誘導体。
【0078】2.2. 2-ヒドロキシベンゾフェノン
例えば4-ヒドロキシ、4-メトキシ、4-オクトキシ、4-デ
シルオキシ、4-ドデシルオキシ、4-ベンジルオキシ、4,
2',4'-トリヒドロキシおよび2'−ヒドロキシ-4,4'-ジメ
トキシ誘導体。
シルオキシ、4-ドデシルオキシ、4-ベンジルオキシ、4,
2',4'-トリヒドロキシおよび2'−ヒドロキシ-4,4'-ジメ
トキシ誘導体。
【0079】2.3.必要に応じて置換された安息香酸のエ
ステル 例えば4-第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス-(4-第三ブチルベンゾイル)
−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4-ジ
−第三ブチルフェニル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキ
シ安息香酸エステル及び3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロ
キシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
ステル 例えば4-第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス-(4-第三ブチルベンゾイル)
−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4-ジ
−第三ブチルフェニル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキ
シ安息香酸エステル及び3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロ
キシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
【0080】2.4.アクリレート
例えばα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸のエ
チルエステル又は、イソオクチルα−シアノ−β,β−
ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシ
ンナメート、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシケ
イ皮酸のメチルエステル又はブチルエステル、メチルα
−カルボメトキシ−p−メトキシシンナメート、N-(β
−カルボメトキシ−β−シアノビニル)-2- メチルイン
ドリン。
チルエステル又は、イソオクチルα−シアノ−β,β−
ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシ
ンナメート、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシケ
イ皮酸のメチルエステル又はブチルエステル、メチルα
−カルボメトキシ−p−メトキシシンナメート、N-(β
−カルボメトキシ−β−シアノビニル)-2- メチルイン
ドリン。
【0081】2.5.ニッケル化合物
例えば2,2'- チオ−ビス〔4-(1,1,3,3- テトラメチルブ
チル)フェノール〕のニッケル錯体、例として1:1ま
たは1:2錯体、場合により付加配位子、例えばn-ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンまたはN-シクロヘキシ
ルジエタノールアミンを有してよい、ニッケルジブチル
ジチオカルバメート、4-ヒドロキシ-3,5−ジ−第三ブチ
ルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメ
チル、又はエチルエステルのニッケル塩、ケトオキシ
ム、例えば2-ヒドロキシ-4- メチルフェニルウンデシル
ケトオキシムのニッケル錯体、および場合により、付加
配位子を含んでよい1-フェニル-4- ラウロイル-5- ヒド
ロキシピラゾールのニッケル錯体。
チル)フェノール〕のニッケル錯体、例として1:1ま
たは1:2錯体、場合により付加配位子、例えばn-ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンまたはN-シクロヘキシ
ルジエタノールアミンを有してよい、ニッケルジブチル
ジチオカルバメート、4-ヒドロキシ-3,5−ジ−第三ブチ
ルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメ
チル、又はエチルエステルのニッケル塩、ケトオキシ
ム、例えば2-ヒドロキシ-4- メチルフェニルウンデシル
ケトオキシムのニッケル錯体、および場合により、付加
配位子を含んでよい1-フェニル-4- ラウロイル-5- ヒド
ロキシピラゾールのニッケル錯体。
【0082】2.6.立体障害性アミン
例えばビス(2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル)セバ
ケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジル)セ
バケート、n−ブチル-3,5- ジ−第三ブチル-4-ヒドロ
キシベンジル−マロン酸−ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチ
ルピペリジル)エステル、1−ヒドロキシエチル-2,2,
6,6- テトラメチル-4- ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合物、N,N'- ビス(2,2,6,6-テトラメチル−ピ
ペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4-第三オクチルア
ミノ-2,6- ジクロロ-s- トリアジンとの縮合物、トリス
(2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル)ニトリロトリア
セテート、テトラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4- ピエ
リジル)-1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸、1,1'-(1,2-
エタンジイル) ビス(3,3,5,5- テトラメチルピペラジノ
ン) 。
ケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジル)セ
バケート、n−ブチル-3,5- ジ−第三ブチル-4-ヒドロ
キシベンジル−マロン酸−ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチ
ルピペリジル)エステル、1−ヒドロキシエチル-2,2,
6,6- テトラメチル-4- ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合物、N,N'- ビス(2,2,6,6-テトラメチル−ピ
ペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4-第三オクチルア
ミノ-2,6- ジクロロ-s- トリアジンとの縮合物、トリス
(2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル)ニトリロトリア
セテート、テトラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4- ピエ
リジル)-1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸、1,1'-(1,2-
エタンジイル) ビス(3,3,5,5- テトラメチルピペラジノ
ン) 。
【0083】2.7.蓚酸ジアミド
例えば4,4'- ジオクチルオキシオキサニリド、2,2'- ジ
オクチルオキシ-5,5'-ジ第三ブトキサニリド、2,2'- ジ
ドデシルオキシ-5,5'-ジ第三ブトキサニリド、2-エトキ
シ-2'-エチルオサニリド、N,N'- ビス(3- ジメチルアミ
ノプロピル) オキサルアミド、2-エトキシ-5- 第三ブチ
ル-2'-エチルオキサニリドおよび、2-エトキシ-2'-エチ
ル-5,4'-ジ第三ブトオキサニリドとの混合物、及びオル
ト- 並びにパラ- メトキシ- 二置換オキサニリドの混合
物、及びo-並びにp-エトキシ二置換オキサニリドの混合
物。
オクチルオキシ-5,5'-ジ第三ブトキサニリド、2,2'- ジ
ドデシルオキシ-5,5'-ジ第三ブトキサニリド、2-エトキ
シ-2'-エチルオサニリド、N,N'- ビス(3- ジメチルアミ
ノプロピル) オキサルアミド、2-エトキシ-5- 第三ブチ
ル-2'-エチルオキサニリドおよび、2-エトキシ-2'-エチ
ル-5,4'-ジ第三ブトオキサニリドとの混合物、及びオル
ト- 並びにパラ- メトキシ- 二置換オキサニリドの混合
物、及びo-並びにp-エトキシ二置換オキサニリドの混合
物。
【0084】2.8. 2-(2- ヒドロキシフェニル)-1,3,5-
トリアジン 例えば2,4,6-トリス(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシ
フェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4,6-
ビス(2,4- ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-
(2,4- ジヒドロキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジメチル
フェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(2- ヒドロキシ
-4- プロピルオキシフェニル)-6-(2,4- ジメチルフェニ
ル) -1,3,5- トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- オクチ
ルオキシフェニル)-4,6-ビス(4--メチルフェニル)-1,3,
5-トリアジン、2-(2-ヒドロキシ-4-ドデシルオキシフェ
ニル)-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル) -1,3,5- トリ
アジン。
トリアジン 例えば2,4,6-トリス(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシ
フェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4,6-
ビス(2,4- ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-
(2,4- ジヒドロキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジメチル
フェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(2- ヒドロキシ
-4- プロピルオキシフェニル)-6-(2,4- ジメチルフェニ
ル) -1,3,5- トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- オクチ
ルオキシフェニル)-4,6-ビス(4--メチルフェニル)-1,3,
5-トリアジン、2-(2-ヒドロキシ-4-ドデシルオキシフェ
ニル)-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル) -1,3,5- トリ
アジン。
【0085】3.金属不活性化剤
例えばN,N'−ジフェニル蓚酸ジアミド、N-サリチラル-
N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N'- ビス(3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3-サリ
チロイルアミノ-1,2,4- トリアゾールおよびビス(ベン
ジリデン)蓚酸ジヒドラジド。
N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N'- ビス(3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3-サリ
チロイルアミノ-1,2,4- トリアゾールおよびビス(ベン
ジリデン)蓚酸ジヒドラジド。
【0086】4.ホスフィットおよびホスホニット
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4-ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4-ジ
−第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−(2,4-ジ−第三ブチルフェニル)4,4'
- ジフェニレンジホスフィット、3,9-ビス(2,4- ジ第三
ブチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9- ジホ
スファスピロ〔5.5 〕ウンデカン。
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4-ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4-ジ
−第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−(2,4-ジ−第三ブチルフェニル)4,4'
- ジフェニレンジホスフィット、3,9-ビス(2,4- ジ第三
ブチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9- ジホ
スファスピロ〔5.5 〕ウンデカン。
【0087】5.過酸化物スカベンジャー
例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウ
リル酸エステル、ステアリル酸エステル、ミリスチン酸
エステル又はトリデシル酸エステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、又は2-メルカプトベンズイミダゾールの
亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデ
シルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキ
ス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
リル酸エステル、ステアリル酸エステル、ミリスチン酸
エステル又はトリデシル酸エステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、又は2-メルカプトベンズイミダゾールの
亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデ
シルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキ
ス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
【0088】6.ポリアミド安定剤
例えば、ヨウ素及び/又はリン化合物及び二価マグネシ
ウムの塩と組み合わせた銅塩。
ウムの塩と組み合わせた銅塩。
【0089】7.塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ば、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグ
ネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、カリ
ウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート、また
は亜鉛ピロカテコレート。
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ば、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグ
ネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、カリ
ウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート、また
は亜鉛ピロカテコレート。
【0090】8.核剤
例えば、4-第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。
ル酢酸。
【0091】9.充填剤および強化剤
例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベ
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
【0092】10. その他の添加物
例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃
剤、静電防止剤、および発泡剤。
剤、静電防止剤、および発泡剤。
【0093】本発明の組成物が潤滑剤および油圧用流体
または金属加工用流体に基づいた組成物のとき、それら
はある使用特性、例えば、酸化防止剤、金属不活性剤、
防錆剤、粘度指数改善剤、流動点降下剤、分散剤/洗浄
剤、及び耐磨耗擦性添加剤を改善するために添加される
他の添加剤を含む。
または金属加工用流体に基づいた組成物のとき、それら
はある使用特性、例えば、酸化防止剤、金属不活性剤、
防錆剤、粘度指数改善剤、流動点降下剤、分散剤/洗浄
剤、及び耐磨耗擦性添加剤を改善するために添加される
他の添加剤を含む。
【0094】酸化防止剤の例は、表題”1.酸化防止
剤”、特に1.1 ないし1.10から再編集されたリストから
見ることができる。他の添加剤の例を以下に示す。
剤”、特に1.1 ないし1.10から再編集されたリストから
見ることができる。他の添加剤の例を以下に示す。
【0095】アミン酸化防止剤の例:N,N’−ジイソ
プロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−第
二−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス
(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジアミ
ン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチ
ル)p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メ
チルヘプチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−
ジシロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N’−
ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ
(ナフチル−2−)−p−フェニレンジアミン、N−イ
ソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミ
ン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル
−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチ
ル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−
シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジア
ミン、4−(p−トルエンスルホンアミド)ジフェニル
アミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−第二ブチ
ル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−
アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニ
ルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−フ
ェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルア
ミン、例えばp,p’−ジ−第三−オクチルジフェニル
アミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリ
ルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノー
ル、4−ドデカノイルアミノフェノール、4−オクタデ
カノイルアミノフェノール、ジ−(4−メトキシフェニ
ル)アミン、2,6−ジ−第三−ブチル−4−ジメチル
アミノメチルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニ
ルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,
N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジ
フェニルメタン、1,2−ジ−〔(2−メチルフェニ
ル)アミノ〕エタン、1,2−ジ−(フェニルアミノ)
プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ジ−〔4−
(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル〕アミン、第
三−オクチル化N−フェニル−1−ナフチルアミン、モ
ノ−及びジ−アルキル化第三ブチル/第三オクチルジフ
ェニルアミン、2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−
4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、N−
アリルフェノチアジン。
プロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−第
二−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス
(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジアミ
ン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチ
ル)p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メ
チルヘプチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−
ジシロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N’−
ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ
(ナフチル−2−)−p−フェニレンジアミン、N−イ
ソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミ
ン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル
−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチ
ル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−
シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジア
ミン、4−(p−トルエンスルホンアミド)ジフェニル
アミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−第二ブチ
ル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−
アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニ
ルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−フ
ェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルア
ミン、例えばp,p’−ジ−第三−オクチルジフェニル
アミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリ
ルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノー
ル、4−ドデカノイルアミノフェノール、4−オクタデ
カノイルアミノフェノール、ジ−(4−メトキシフェニ
ル)アミン、2,6−ジ−第三−ブチル−4−ジメチル
アミノメチルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニ
ルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,
N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジ
フェニルメタン、1,2−ジ−〔(2−メチルフェニ
ル)アミノ〕エタン、1,2−ジ−(フェニルアミノ)
プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ジ−〔4−
(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル〕アミン、第
三−オクチル化N−フェニル−1−ナフチルアミン、モ
ノ−及びジ−アルキル化第三ブチル/第三オクチルジフ
ェニルアミン、2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−
4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、N−
アリルフェノチアジン。
【0096】他の酸化防止剤の例:脂肪族または芳香族
ホスファイト、チオジプロピオン酸またはチオジアセト
酸のエステル、またはジチオカルバミン酸またはジチオ
ホスホン酸の塩。
ホスファイト、チオジプロピオン酸またはチオジアセト
酸のエステル、またはジチオカルバミン酸またはジチオ
ホスホン酸の塩。
【0097】金属不活性剤、例えば銅の例:トリアゾー
ル、ベンゾトリアゾールおよびそれらの誘導体、トルト
リアゾール及びそれらの誘導体、2−メルカプトベンゾ
チアゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾール、2,
5−ジメルカプトベンゾトリアゾール、2,5−ジメル
カプトチアジアゾール、5,5’−メチレンビスベンゾ
トリアゾール、4,5,6,7−テトラヒドロベンゾト
リアゾール、サリチリデンプロピレンジアミン、サリチ
ルアミノグアニジンおよびその塩。
ル、ベンゾトリアゾールおよびそれらの誘導体、トルト
リアゾール及びそれらの誘導体、2−メルカプトベンゾ
チアゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾール、2,
5−ジメルカプトベンゾトリアゾール、2,5−ジメル
カプトチアジアゾール、5,5’−メチレンビスベンゾ
トリアゾール、4,5,6,7−テトラヒドロベンゾト
リアゾール、サリチリデンプロピレンジアミン、サリチ
ルアミノグアニジンおよびその塩。
【0098】防錆剤の例:
a)有機酸、それらのエステル、金属塩および無水物、
例えば、N−オレオイルサルコシン、ソルビタンモノオ
レート、ナフテン酸鉛、無水アルケニルコハク酸、例え
ば無水ドデセニルコハク酸、アルケニルコハク酸の一部
エステルおよび一部アミド、及び4−ノニルフェノキシ
酢酸。
例えば、N−オレオイルサルコシン、ソルビタンモノオ
レート、ナフテン酸鉛、無水アルケニルコハク酸、例え
ば無水ドデセニルコハク酸、アルケニルコハク酸の一部
エステルおよび一部アミド、及び4−ノニルフェノキシ
酢酸。
【0099】b)窒素含有化合物:例えば、i.有機お
よび無機酸の第一、第二若しくは第三脂肪族または脂環
式アミンおよびアミン塩、例えば油溶性アルキルアンモ
ニウムカルボキシレート。ii.ヘテロ環化合物、例え
ば置換されたイミダゾリンおよびオキサゾリン。
よび無機酸の第一、第二若しくは第三脂肪族または脂環
式アミンおよびアミン塩、例えば油溶性アルキルアンモ
ニウムカルボキシレート。ii.ヘテロ環化合物、例え
ば置換されたイミダゾリンおよびオキサゾリン。
【0100】c)リン含有化合物、例えばリン酸または
ホスホン酸の一部エステルのアミン塩、及びジアルキル
ジチオリン酸亜鉛塩。 d)硫黄含有化合物、例えばジノニルナフタリンスルホ
ン酸バリウム、スルホン酸カルシウム石油。
ホスホン酸の一部エステルのアミン塩、及びジアルキル
ジチオリン酸亜鉛塩。 d)硫黄含有化合物、例えばジノニルナフタリンスルホ
ン酸バリウム、スルホン酸カルシウム石油。
【0101】粘度指数改善剤の例:ポリアクリレート、
ポリメタクリレート、ビニルピロリドン/メタクリレー
トコポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリブテン、オ
レフィンコポリマー、スチレン/アクリレートコポリマ
ー、ポリエーテル。
ポリメタクリレート、ビニルピロリドン/メタクリレー
トコポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリブテン、オ
レフィンコポリマー、スチレン/アクリレートコポリマ
ー、ポリエーテル。
【0102】流動点降下剤の例:ポリメタクリレート、
アルキル化ナフタイン誘導体。分散剤/界面活性剤の例: ポリブテニルスクシンアミド
またはポリブテニルスクシンアミドまたはイミド、ポリ
ブテニルホスホン酸誘導体、塩基性マグネシウムスルホ
ネート、マグネシウムフェノレート、カルシウムスルホ
ネート、カルシウムフェノレート、バリウムスルホネー
トおよびバリウムフェノレート。
アルキル化ナフタイン誘導体。分散剤/界面活性剤の例: ポリブテニルスクシンアミド
またはポリブテニルスクシンアミドまたはイミド、ポリ
ブテニルホスホン酸誘導体、塩基性マグネシウムスルホ
ネート、マグネシウムフェノレート、カルシウムスルホ
ネート、カルシウムフェノレート、バリウムスルホネー
トおよびバリウムフェノレート。
【0103】耐摩耗性添加剤の例:硫黄及び/またはリ
ン及び/またはハロゲン含有化合物、例えば硫化植物
油、ジアルキルジチオホスホン酸亜鉛、トリトリルホス
フェート、塩素化パラフィン、アルキルジスルフィド、
アルキルトリスルフィド、アリールジスルフィドおよび
アリールトリスルフィド、トリフェニルホスホロチオネ
ート、ジエタノールアミノメチルトリルトリアゾール、
ジ(2−エチルヘキシル)アミノメチルトリルトリアゾ
ール。
ン及び/またはハロゲン含有化合物、例えば硫化植物
油、ジアルキルジチオホスホン酸亜鉛、トリトリルホス
フェート、塩素化パラフィン、アルキルジスルフィド、
アルキルトリスルフィド、アリールジスルフィドおよび
アリールトリスルフィド、トリフェニルホスホロチオネ
ート、ジエタノールアミノメチルトリルトリアゾール、
ジ(2−エチルヘキシル)アミノメチルトリルトリアゾ
ール。
【0104】本発明は上記で定義されたように式Iで表
わされる新規な化合物に関する。但し、R3 が水素原子
を表わし、同時にRが水素原子またはメチル基を表わす
とき、R2 は水素原子、炭素原子数3ないし12のアル
キル基、フェニル基、シクロペンチル基またはアセチル
基を表さない。
わされる新規な化合物に関する。但し、R3 が水素原子
を表わし、同時にRが水素原子またはメチル基を表わす
とき、R2 は水素原子、炭素原子数3ないし12のアル
キル基、フェニル基、シクロペンチル基またはアセチル
基を表さない。
【0105】化合物の好ましい新規なグループは、本発
明による組成物に関連して上記に記載された式Iの化合
物の好ましいグループである。同様に置換基の一般的お
よび特殊な意味に適用する。
明による組成物に関連して上記に記載された式Iの化合
物の好ましいグループである。同様に置換基の一般的お
よび特殊な意味に適用する。
【0106】式Iの化合物が公知でない(最初に記載さ
れた関連文献を参照)かぎりは、それ自体公知の方法に
類似して製造されうる。これは実施例の方法で以下によ
り詳細に説明する。式Iの化合物の製造 1.出発化合物 必要な出発化合物は例えば、WO−A−80/0156
6号のp.25、米国特許第3862133号および、
R.LAMER 氏著、J.HET.CHEM.12,1067(1975)に記載された
方法により製造される。
れた関連文献を参照)かぎりは、それ自体公知の方法に
類似して製造されうる。これは実施例の方法で以下によ
り詳細に説明する。式Iの化合物の製造 1.出発化合物 必要な出発化合物は例えば、WO−A−80/0156
6号のp.25、米国特許第3862133号および、
R.LAMER 氏著、J.HET.CHEM.12,1067(1975)に記載された
方法により製造される。
【0107】製造は以下の反応図により説明されうる。
【化64】
または
【化65】
【0108】マンデル酸およびグリオキサールは市販品
として入手可能であり、置換されたフェノールはそれ自
身市販品として入手できないかぎり、有機化学でそれ自
体公知の方法により製造される。フェニル環に適切に置
換されたマンデル酸、またはアルキル置換されたグリオ
キサールを使用するとき、出発材料はR1 の付加的に可
能な意味として考慮されたものが得られる。
として入手可能であり、置換されたフェノールはそれ自
身市販品として入手できないかぎり、有機化学でそれ自
体公知の方法により製造される。フェニル環に適切に置
換されたマンデル酸、またはアルキル置換されたグリオ
キサールを使用するとき、出発材料はR1 の付加的に可
能な意味として考慮されたものが得られる。
【0109】2.開環を伴ったアミド化合物は本発明の
化合物を導く:
化合物を導く:
【化66】
または
【化67】
【0110】反応は70ないし200℃、好ましくは1
10ないし150℃で、溶媒の存在または不存在下で行
われうる。溶媒が使用される(特に長鎖アルキル官能基
の存在下)とき、高沸点有機溶媒が適当であり、例え
ば、リグロイン留分、ベンゼン、トルエン、キシレン、
他のアルキル化および塩素化ベンゼン誘導体、DMF,
DMA,DMSO,十分に高沸点アルコール、例えば、
エタノール、プロパノール、ブタノール及びヘキサノー
ルである。
10ないし150℃で、溶媒の存在または不存在下で行
われうる。溶媒が使用される(特に長鎖アルキル官能基
の存在下)とき、高沸点有機溶媒が適当であり、例え
ば、リグロイン留分、ベンゼン、トルエン、キシレン、
他のアルキル化および塩素化ベンゼン誘導体、DMF,
DMA,DMSO,十分に高沸点アルコール、例えば、
エタノール、プロパノール、ブタノール及びヘキサノー
ルである。
【0111】R3 が水素原子を表わし、R2 が−NHR
14を表わす場合、アミド化はヒドラジンまたはそれらの
誘導体で直接行われる。この場合、反応温度は5ないし
150℃、好ましくは20ないし40℃である。上記の
溶媒に加えて、THF及びジオキサンもまた使用でき
る。より詳細はまた、以下の製造実施例から得ることが
できる。
14を表わす場合、アミド化はヒドラジンまたはそれらの
誘導体で直接行われる。この場合、反応温度は5ないし
150℃、好ましくは20ないし40℃である。上記の
溶媒に加えて、THF及びジオキサンもまた使用でき
る。より詳細はまた、以下の製造実施例から得ることが
できる。
【0112】以下の実施例はさらに本発明を説明するも
のであり、制限するものではない。特記しないかぎり、
今まで及び残りの明細書で与えられた部及びパーセント
は重量による。第三ブチル基は基−C(CH3 )3 であ
る。
のであり、制限するものではない。特記しないかぎり、
今まで及び残りの明細書で与えられた部及びパーセント
は重量による。第三ブチル基は基−C(CH3 )3 であ
る。
【0113】実施例1
【化68】
161.2gの化合物IVを最初に、温度計、コンデン
サーを備え付け、そしてN2 を充満させた750mlの
スルホン化フラスコに入れ、そして64.6gの1−オ
クチルアミン(V)を添加する。該混合物を125℃に
加熱し、この温度で3時間放置する。生成物を800m
lの温イソプロパノール/水(85/15)に溶解し、
該溶液を氷浴で冷却し、形成された白色残渣を吸引ろ過
する。200mlのイソプロパノール/水(85/1
5)で洗浄し、60℃で乾燥することにより、213.
4g(理論値の94.5%)の白色粉末(化合物VI)
を得る。融点は118℃。 分析:計算値〔%〕 C 79.77 H10.04
N3.10 実験値〔%〕 C 80.04 H 9.89 N
3.15 式IVの化合物はWO−A−80/01566のp.2
5に従って得られる。
サーを備え付け、そしてN2 を充満させた750mlの
スルホン化フラスコに入れ、そして64.6gの1−オ
クチルアミン(V)を添加する。該混合物を125℃に
加熱し、この温度で3時間放置する。生成物を800m
lの温イソプロパノール/水(85/15)に溶解し、
該溶液を氷浴で冷却し、形成された白色残渣を吸引ろ過
する。200mlのイソプロパノール/水(85/1
5)で洗浄し、60℃で乾燥することにより、213.
4g(理論値の94.5%)の白色粉末(化合物VI)
を得る。融点は118℃。 分析:計算値〔%〕 C 79.77 H10.04
N3.10 実験値〔%〕 C 80.04 H 9.89 N
3.15 式IVの化合物はWO−A−80/01566のp.2
5に従って得られる。
【0114】実施例2
【化69】
32.2g(0.1モル)の化合物IVを実施例1と類
似に、26.9g(0.1モル)の1−オクタデシルア
ミン(VII)と反応させ、得られた生成物を150m
lのメタノールから再結晶し、そして60℃で乾燥する
ことにより、49g(理論値の82.8%)の白色粉末
(化合物VIII)を得る。融点は98℃。 分析:計算値〔%〕 C 81.16 H11.07
N2.37 実験値〔%〕 C 81.14 H11.06 N
2.27
似に、26.9g(0.1モル)の1−オクタデシルア
ミン(VII)と反応させ、得られた生成物を150m
lのメタノールから再結晶し、そして60℃で乾燥する
ことにより、49g(理論値の82.8%)の白色粉末
(化合物VIII)を得る。融点は98℃。 分析:計算値〔%〕 C 81.16 H11.07
N2.37 実験値〔%〕 C 81.14 H11.06 N
2.27
【0115】実施例3
【化70】
16.1g(0.05モル)の化合物IVを実施例1と
類似に、7.8g(0.05モル)の4−アミノ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン(IX)と140
℃で8時間反応させる。生成物をn−ヘキサンで懸濁化
し、吸引ろ過し、そして60℃で乾燥することにより、
22.8g(理論値の95.3%)の白色粉末(化合物
X)を得る。融点は199℃。 分析:計算値〔%〕 C 77.78 H 9.69
N5.85 実験値〔%〕 C 77.95 H 9.75 N
5.74
類似に、7.8g(0.05モル)の4−アミノ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン(IX)と140
℃で8時間反応させる。生成物をn−ヘキサンで懸濁化
し、吸引ろ過し、そして60℃で乾燥することにより、
22.8g(理論値の95.3%)の白色粉末(化合物
X)を得る。融点は199℃。 分析:計算値〔%〕 C 77.78 H 9.69
N5.85 実験値〔%〕 C 77.95 H 9.75 N
5.74
【0116】実施例4
64.5g(0.2モル)の化合物IVを実施例3と類
似に、11.6g(0.1モル)の1,6−ジアミノヘ
キサン(XI)と反応させ、作用して、195℃の融点
を持つ白色粉末(化合物XII)58.3g(理論値の
76.6%)を得る。
似に、11.6g(0.1モル)の1,6−ジアミノヘ
キサン(XI)と反応させ、作用して、195℃の融点
を持つ白色粉末(化合物XII)58.3g(理論値の
76.6%)を得る。
【化71】
分析:計算値〔%〕 C 78.91 H 9.01
N3.68 実験値〔%〕 C 78.83 H 8.89 N
3.65
N3.68 実験値〔%〕 C 78.83 H 8.89 N
3.65
【0117】実施例5
【化72】
300mlのエタノールに溶解した64.5g(0.2
モル)の化合物IVを最初に、温度計、還流用コンデン
サー、窒素充填用漏斗および滴下漏斗を備え付けた75
0mlのスルホン化フラスコに入れる。10g(0.2
モル)のヒドラジン水化物(XIII)をこの透明な無
色溶液に30分かけて滴下する。これは250mlの水
で希釈し、吸引ろ過して結晶性ペーストを与える。20
0mlのエタノール/水(1:1)で洗浄し、得られた
白色粉末(化合物XIV)を60℃で乾燥する。収量:
68g(理論値の95.9%)、融点は146℃。 分析:計算値〔%〕 C 74.54 H 8.53
N7.90 実験値〔%〕 C 74.59 H 8.55 N
7.77
モル)の化合物IVを最初に、温度計、還流用コンデン
サー、窒素充填用漏斗および滴下漏斗を備え付けた75
0mlのスルホン化フラスコに入れる。10g(0.2
モル)のヒドラジン水化物(XIII)をこの透明な無
色溶液に30分かけて滴下する。これは250mlの水
で希釈し、吸引ろ過して結晶性ペーストを与える。20
0mlのエタノール/水(1:1)で洗浄し、得られた
白色粉末(化合物XIV)を60℃で乾燥する。収量:
68g(理論値の95.9%)、融点は146℃。 分析:計算値〔%〕 C 74.54 H 8.53
N7.90 実験値〔%〕 C 74.59 H 8.55 N
7.77
【0118】実施例6:多段階押出しにおけるポリプロ
ピレンの安定化試験 1.3kgのポリプロピレン粉末(2.16kgの荷
重、230℃で測定されたメルトフローインデックス
3.2kg/10分)を、0.05%のステアリン酸カ
ルシウム、0.05%の登録商標Irganox 1010(チバー
ガイギー社製)、及び0.05%の実施例1、3及び5
の化合物と混合する。この混合物を、シリンダー直径2
0mmおよび100rpmで長さが400mmの、次の
温度(260℃,270℃,280℃)に設定される3
個の加熱領域を持つ押出し機で押し出す。押し出された
ものは、冷却するために水浴に通され、次いで粒状化さ
れる。さらに2回の押出が同じ方法で行われた後、メル
トフローインデックスが測定される(2.16kgの荷
重、230℃で)。メルトフローインデックスのかなり
の増加は、分子鎖の大量な分解、即ち、貧弱な安定化を
表わす。
ピレンの安定化試験 1.3kgのポリプロピレン粉末(2.16kgの荷
重、230℃で測定されたメルトフローインデックス
3.2kg/10分)を、0.05%のステアリン酸カ
ルシウム、0.05%の登録商標Irganox 1010(チバー
ガイギー社製)、及び0.05%の実施例1、3及び5
の化合物と混合する。この混合物を、シリンダー直径2
0mmおよび100rpmで長さが400mmの、次の
温度(260℃,270℃,280℃)に設定される3
個の加熱領域を持つ押出し機で押し出す。押し出された
ものは、冷却するために水浴に通され、次いで粒状化さ
れる。さらに2回の押出が同じ方法で行われた後、メル
トフローインデックスが測定される(2.16kgの荷
重、230℃で)。メルトフローインデックスのかなり
の増加は、分子鎖の大量な分解、即ち、貧弱な安定化を
表わす。
【0119】結果を以下の表1に示す。第1表:
【表1】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所
C09K 15/24 6917−4H
C10M 133/16 7419−4H
133/40 7419−4H
// C10N 30:00 F 8217−4H
30:08
30:10
40:08 8217−4H
40:20 Z 8217−4H
Claims (17)
- 【請求項1】 熱、酸化および/又は化学線により分解
されやすい有機材料、及び少なくとも1個の次式I 【化1】 〔式中、Rは水素原子、炭素原子数1ないし24のアル
キル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、
フェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、または次式II 【化2】 (Yは−CHR5 −,硫黄原子または直接結合を表わ
し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル
基、フェニル基またはニトロ基、塩素原子、弗素原子、
炭素原子数1ないし8のアルキル基および/またはメト
キシ基によって置換されたフェニル基を表わし、R5 は
水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、または
フェニル基を表わし、R2 及びR3 は互いに独立して水
素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原
子数5ないし12のシクロアルキル基、ベンジル基、フ
ェニル基、炭素原子数1ないし18のアルキル基によっ
て置換されたフェニル基、炭素原子数2ないし4のヒド
ロキシアルキル基、ナフチル基、(CH2 )x −COR
6 ,次式 【化3】 または次式 【化4】 で表わされる基を表わすか、またはそれらが結合する窒
素原子と一緒になって5〜7員環のヘテロ環を表わす
か、またはR2 は−NHR14を表わし、そしてR3 は上
記と同じ意味を表わし、R14は水素原子、炭素原子数1
ないし12のアルキル基、フェニル基、または炭素原子
数1ないし4のアルキル基によって置換されたフェニル
基を表わし、R15は水素原子、炭素原子数1ないし4の
アルキル基またはフェニル基を表わし、そしてdは1な
いし18の整数を表わし、xは1ないし5の整数を表わ
し、R6 は水素原子、または炭素原子数1ないし20の
アルキル基を表わし、R7 は水素原子、または炭素原子
数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし12の
アルコキシ基またはCO−R9 を表わし、R9 はフェニ
ル基または炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わす
か、またはR3 が水素原子を表わし、Rが式IIの基を
表わさないとき、R2 は−D−E<−D−は次式 【化5】 −Cy H2y−NH−,−(CH2 −CH2−NH)2 −
または次式 【化6】 を表わし、そして−Eは次式 【化7】 【化8】 または 【化9】 を表わし、官能基Eは官能基−D−のNH基に結合し、
bは0ないし2の整数を表わし、そしてyは0ないし1
2の整数を表わし、R8 は水素原子、炭素原子数1ない
し12のアルキル基、または炭素原子数5ないし12の
シクロアルキル基を表わし、R10は炭素原子数1ないし
24のアルキル基、またはフェニル基を表わす>で表さ
れる基を表わし、R4 は水素原子、炭素原子数1ないし
20のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロア
ルキル基、ベンジル基、フェニル基、炭素原子数1ない
し4のアルキル基により置換されたフェニル基、炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基、−Cn H2nCO2 R11
または次式III 【化10】 を表わし、R11は水素原子、炭素原子数1ないし18の
アルキル基、−Cz H2z−Aまたは−CH2 −C(CH
2 A)3 を表わし、Aは次式 【化11】 を表わし、そしてzが2ないし12の整数を表わし、n
は0,1または2を表わし、R12及びR13は互いに独立
して水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、フ
ェニル基または炭素原子数5ないし12のシクロアルキ
ル基を表わすか、またはR12がメチル基のとき、R13は
また、次式 【化12】 または次式 【化13】 を表わし、Lは次式 【化14】 を表わし、pは1または2を表わし、qは2ないし12
の整数を表わす。但し、R4 が式IIIの基を表さず、
分子が式IIIaの官能基を含まないときだけ、Rは式
IIの官能基を表わす。)で表される基を表わす〕で表
される化合物からなる組成物。 - 【請求項2】 Rが炭素原子数1ないし18のアルキル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基または
式IIの官能基を表わし、R1 が水素原子、メチル基、
エチル基、またはフェニル基を表わし、Yが直接結合、
メチレンまたは硫黄原子を表わし、R2 及びR3 が互い
に独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、炭
素原子数1ないし12のアルキル基により置換されたフ
ェニル基、ナフチル基、−(CH2 )x −COR6 ,C
H2 CH2 OHまたは次式 【化15】 の官能基を表わすか、またはR2 が−NHR14を表わ
し、R3 が上記の定義と同じ意味を表わすか、またはR
2 及びR3 はそれらが結合する窒素原子と一緒になっ
て、ピペリジン、モルホリン、ピペラジンまたはヘキサ
メチレンイミン環を形成するか、またはR3 が水素原子
を表わし、Rが式IIの基を表さないとき、R2 はま
た、−D−E(Eが式IIaまたはIIbの基を表わ
し、式IIa,III,IIIa及びIIIbの官能基
におけるRは炭素原子数1ないし18のアルキル基また
はシクロヘキシル基を表わし、そして式IIaの官能基
におけるR8 は炭素原子数1ないし12のアルキル基ま
たはシクロヘキシル基を表わし、yが0ないし6を表わ
し、R6 は水素原子または炭素原子数1ないし4のアル
キル基を表わし、R7 が水素原子、炭素原子数1ないし
4のアルキル基、またはCO−炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表わす)で表わされる基を表わし、R4 が
水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、シク
ロヘキシル基、フェニル基、−Cn H2nCO2 R11また
は次式III 【化16】 を表わし、(R12及びR13は互いに独立して水素原子、
炭素原子数1ないし4のアルキル基、フェニル基または
シクロヘキシル基を表わすか、またはR12がメチル基の
とき、R13はまた、次式 【化17】 または次式 【化18】 を表わし、qは2ないし6の整数を表わし、R6 ' が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
わす。)を表わす請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 Rが炭素原子数1ないし18のアルキル
基または式IIの官能基を表わし、R1 が水素原子また
はフェニル基を表わし、Yが直接結合を表わし、R2 が
水素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、ベン
ジル基、フェニル基、アミノ基または次式IIIc 【化19】 または次式 【化20】 (R4 が水素原子、炭素原子数1ないし6のアルキル
基、または式III<R12及びR13は互いに独立して水
素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、
R12がメチル基のとき、R13はまた、−(CH2 )2 C
OOCH3 を表わす>で表される基を表わし、R7 が水
素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、または−
CO−炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R
3 が水素原子を表わし、そしてyが2ないし12を表わ
す)で表わされる請求項2記載の組成物。 - 【請求項4】 Rが炭素原子数1ないし6のアルキル基
を表わし、R1 が水素原子、またはフェニル基を表わ
し、R2 が水素原子、炭素原子数1ないし20のアルキ
ル基、−NH2 、次式 【化21】 で表される基、または式IIIcの官能基(yが2ない
し10を表わし、R7 が水素原子、CH3 または−CO
CH3 を表わし、R4 及びR8 は水素原子、または炭素
原子数1ないし6のアルキル基を表わし、そしてR3 が
水素原子を表わす請求項3記載の組成物。 - 【請求項5】 有機材料が潤滑剤、金属加工用流体、油
圧用流体、又は天然もしくは(半)合成ポリマー、特に
合成ポリマーである請求項1記載の組成物。 - 【請求項6】 有機材料が潤滑剤である請求項5記載の
組成物。 - 【請求項7】 有機材料が熱可塑性プラスチックスまた
はエラストマーである請求項6記載の組成物。 - 【請求項8】 有機材料がポリオレフィンである請求項
7記載の組成物。 - 【請求項9】 抗酸化剤、光安定剤および/または加工
用安定剤(熱安定剤)のような他の安定剤をさらに含む
請求項1記載の組成物。 - 【請求項10】 次式I 【化22】 〔式中、Rは水素原子、炭素原子数1ないし24のアル
キル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、
フェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、または次式II 【化23】 (Yは−CHR5 −,硫黄原子または直接結合を表わ
し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル
基、フェニル基またはニトロ基、塩素原子、弗素原子、
炭素原子数1ないし8のアルキル基および/またはメト
キシ基によって置換されたフェニル基を表わし、R5 は
水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、または
フェニル基を表わし、R2 及びR3 は互いに独立して水
素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原
子数5ないし12のシクロアルキル基、ベンジル基、フ
ェニル基、炭素原子数1ないし18のアルキル基によっ
て置換されたフェニル基、炭素原子数2ないし4のヒド
ロキシアルキル基、ナフチル基、(CH2 )x −COR
6 ,次式 【化24】 または次式 【化25】 を表わすか、またはそれらが結合する窒素原子と一緒に
なって5〜7員環のヘテロ環を表わすか、またはR2 は
−NHR14を表わし、そしてR3 は上記と同じ意味を表
わし、R14は水素原子、炭素原子数1ないし12のアル
キル基、フェニル基、または炭素原子数1ないし4のア
ルキル基によって置換されたフェニル基を表わし、R15
は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基または
フェニル基を表わし、そしてdは1ないし18の整数を
表わし、xは1ないし5の整数を表わし、R6 は水素原
子、または炭素原子数1ないし20のアルキル基を表わ
し、R7 は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル
基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基またはCO
−R9 を表わすか、またはR3 が水素原子を表わし、R
が式IIの基を表わさないとき、R2 は−D−E<−D
−は次式 【化26】 −Cy H2y−NH−,−(CH2 −CH2−NH)2 −
または次式 【化27】 を表わし、そして−Eは次式 【化28】 【化29】 または 【化30】 を表わし、官能基Eは官能基−D−のNH基に結合し、
bは0ないし2の整数を表わし、そしてyは0ないし1
2の整数を表わす>で表される基を表わし、R4 は水素
原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子
数5ないし12のシクロアルキル基、ベンジル基、フェ
ニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換
されたフェニル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基、−Cn H2nCO2 R11または次式III 【化31】 を表わし、R11は水素原子、炭素原子数1ないし18の
アルキル基、−Cz H2z−Aまたは−CH2 −C(CH
2 A)3 を表わし、Aは次式 【化32】 を表わし、そしてzが2ないし12の整数を表わし、n
は0,1または2を表わし、R12及びR13は互いに独立
して水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、フ
ェニル基または炭素原子数5ないし12のシクロアルキ
ル基を表わすか、またはR12がメチル基のとき、R13は
また、次式 【化33】 または次式 【化34】 を表わし、Lは次式 【化35】 を表わし、pは1または2を表わし、qは2ないし12
の整数を表わし、R8 は水素原子、炭素原子数1ないし
12のアルキル基、または炭素原子数5ないし12のシ
クロアルキル基を表わし、R9 はフェニル基または炭素
原子数1ないし8のアルキル基を表わし、R10は炭素原
子数1ないし24のアルキル基、またはフェニル基を表
わす。但し、R4 が式IIIの基を表さず、分子が式I
IIaの官能基を含まないときだけ、Rは式IIの官能
基を表わし、そしてR3 が水素原子を表わし、同時にR
が水素原子またはメチル基を表わすとき、R2 が水素原
子、炭素原子数3ないし12のアルキル基、フェニル
基、シクロペンチル基、またはアセチル基を表さない)
で表される官能基を表わす〕で表される化合物。 - 【請求項11】 Rが炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、ま
たは式IIの官能基を表わし、R1 が水素原子、メチル
基、エチル基、またはフェニル基を表わし、Yが直接結
合、メチレンまたは硫黄原子を表わし、R2 及びR3 は
互いに独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル
基、炭素原子数1ないし12のアルキル基によって置換
されたフェニル基、ナフチル基、−(CH2 )x −CO
R6 ,CH2 CH2 OH、または次式 【化36】 で表わされる官能基を表わすか、またはR2 は−NHR
14を表わし、そしてR3 は上記と同じ意味を表わすか、
またはR2 及びR3 はそれらが結合する窒素原子と一緒
になってピペリジン、モルホリン、ピペラジンまたはヘ
キサメチレンイミン環を表わすか、またはR3 が水素原
子を表わし、Rが式IIの基を表さないとき、R2はま
た、−D−E<Eが式IIaまたはIIbの基を表わ
し、式IIa,III,IIIa及びIIIbの基にお
けるRは炭素原子数1ないし18のアルキル基またはシ
クロヘキシル基を表わし、式IIaの基におけるR8 は
炭素原子数1ないし12のアルキル基またはシクロヘキ
シル基を表わし、yが0ないし6を表わし、R6 は水素
原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
し、R7 が水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル
基、またはCO−炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表わす>で表される官能基を表わし、R4 が水素原子、
炭素原子数1ないし12のアルキル基、シクロヘキシル
基、フェニル基、−Cn H2nCO2 R11または次式II
I 【化37】 (R12及びR13は互いに独立して水素原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基、フェニル基またはシクロヘキ
シル基を表わすか、またはR12がメチル基のとき、R13
はまた、次式 【化38】 または次式 【化39】 を表わし、qは2ないし6の整数を表わし、R6 ' が水
素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基を表
わす。)を表わす請求項10記載の化合物。 - 【請求項12】 Rが炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基または式IIの官能基を表わし、R1 が水素原子ま
たはフェニル基を表わし、Yが直接結合を表わし、R2
が水素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、ベ
ンジル基、フェニル基、アミノ基または次式IIIc 【化40】 または次式 【化41】 (R4 が水素原子、炭素原子数1ないし6のアルキル
基、または式III<R2 及びR13は互いに独立して水
素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
し、R12がメチル基のとき、R13はまた、−(CH2 )
2 COOCH3 を表わす>で表される基を表わし、R7
が水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、また
は−CO−炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
し、R3 が水素原子を表わし、そしてyが2ないし12
を表わす)で表わされる請求項11記載の化合物。 - 【請求項13】 Rが炭素原子数1ないし6のアルキル
基を表わし、R1 が水素原子、またはフェニル基を表わ
し、R2 が水素原子、炭素原子数1ないし20のアルキ
ル基、または−NH2 、次式 【化42】 で表される官能基、または式IIIcの官能基(yが2
ないし10を表わし、R7 が水素原子、CH3 または−
COCH3 を表わし、R4 及びR8 は水素原子、または
炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そしてR
3 が水素原子を表わす請求項12記載の化合物。 - 【請求項14】 酸化、熱および/又は化学線の分解に
対して有機材料を安定化するための請求項1及び10記
載の式Iで表わされる化合物の使用方法。 - 【請求項15】 潤滑剤、金属加工用流体、油圧用流
体、及び合成、天然もしくは半合成ポリマーにおける安
定剤としての請求項14記載の使用方法。 - 【請求項16】 請求項1または10に記載の式Iで表
わされる化合物を安定剤として、有機材料に添加する
か、又は適用することからなる有機材料を安定化する方
法。 - 【請求項17】 潤滑剤、金属加工用流体、油圧用流
体、及び合成、天然もしくは半合成ポリマーを安定化す
る請求項16記載の方法。
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5441653A (en) * | 1994-08-09 | 1995-08-15 | The Lubrizol Corporation | Two-stroke cycle engine lubricant and method of using same |
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| DE3401503A1 (de) * | 1984-01-18 | 1985-07-25 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von hydroxyphenylessigsaeureamiden |
| GB8617335D0 (en) * | 1986-07-16 | 1986-08-20 | Minnesota Mining & Mfg | Photographic light-sensitive systems |
| FR2611715B1 (fr) * | 1987-02-27 | 1989-05-12 | Adir | Nouveaux acetamides derives de la dihydro-2,3 phenyl-3 benzofurannone-2, leurs procedes de preparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent |
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- 1991-08-01 JP JP21603491A patent/JPH054953A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5863699A (en) * | 1995-10-12 | 1999-01-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photo-sensitive composition |
| JP2008538381A (ja) * | 2005-04-19 | 2008-10-23 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 酸化防止剤 |
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