JPH0573549B2

JPH0573549B2 -

Info

Publication number: JPH0573549B2
Application number: JP60232501A
Authority: JP
Inventors: Nobutaka Yamaguchi; Eiichi Tadokoro
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1985-10-18
Filing date: 1985-10-18
Publication date: 1993-10-14
Also published as: US4756960A; JPS6294267A

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野）本発明は磁気記録再生装置の磁気ヘツドの精密
研磨に用いる研磨テープに関するものであり、と
くにビデオ用あるいは高級オーデイオ用の磁気ヘ
ツドの平滑仕上に用いる研磨テープに関するもの
である。（従来技術）ビデオ用あるいは高級オーデイオ用磁気ヘツド
等はテープ摺動面の平滑性がとくに要求されるた
め、一般に磁気ヘツドを製作する際粗削りの後研
磨テープを用いてテープ摺動面を平滑に仕上げて
いる。このような研磨テープは可撓性を有する非
磁性支持体上に微細な研磨粒子等を塗着したもの
であり、磁気ヘツドのテープ摺動面の曲面形状に
なじんでこの面を精密に研磨仕上することができ
る。従来、このようなテープとしては例えば、酸化
亜鉛（ZnO）等からなる研磨剤と塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体等からなるバインダを混練して
支持体上に塗着したクリーニングテープが知られ
ている。（特開昭53−102017号）。しかしながら上記テープは主に磁気ヘツドに付
着した塵埃等を除去することを目的としたもので
あつてその目的からして研磨剤もモース硬度４〜
５程度の酸化亜鉛等を使用しているため、研磨剤
の硬度が小さ過ぎて磁気ヘツド研磨用のテープと
しては不十分であつた。また、従来の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
等を用いたバインダはしなやかさに欠けており、
したがつてこのようなバインダを用いた研磨テー
プによつてはとくに磁気ヘツドの曲面部分におい
て研磨が不十分になるから、高感度、高Ｓ／Ｎ比
が要求されるビデオ用あるいは高級オーデイオ用
磁気ヘツドの特性を上げることが困難であつた。（発明の目的）本発明は上記事情に鑑みてなされたものであ
り、磁気ヘツドをむらなくかつ十分に研磨でき、
高特性の磁気ヘツドを製作し得る研磨テープを提
供することを目的とするものである。（発明の構成）本発明の研磨テープは、モース硬度６以上の硬
度を有する研磨剤、塩化ビニル−酢酸ビニル系共
重合体と末端にイソシアネート基を有するプレポ
リマーと有機アミンからなる結合剤（バインダ）、
および添加剤を混練してなる塗布層を非磁性支持
体上に形成したことを特徴とするものである。上記研磨テープとは、いわゆるテープ形状のも
ののほかデイスク形状あるいはシート形状のもの
も広く含むものとする。（発明の効果）本発明の研磨テープによれば、モース硬度６以
上の硬い研磨剤を用いているから磁気ヘツドのテ
ープ摺動面を確実に研磨することができる。ま
た、比較的硬いバインダである塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体と軟らかいバインダである末端
にイソシアネート基を有するプレポリマーと硬化
促進剤である有機アミンにより、硬化系ではある
が硬すぎない結合剤を形成しているため従来の塗
布層に比べて可撓性が大きいので、この研磨テー
プが磁気ヘツドテープ摺動面の形状によくなじん
でその面の全面に亘つて十分に研磨することがで
きる。これにより、本発明の研磨テープを用いて研磨
仕上をした磁気ヘツドは、ビデオ用あるいは高級
オーデイオ用の磁気ヘツドとしても十分に満足で
きる高特性を得ることができる。（実施態様）以下、本発明の実施態様について詳細に説明す
る。本発明の実施態様による研磨テープは、図示す
るように非磁性支持体１と、この支持体上に形成
された塗布層２から構成されている。塗布層２
は、研磨剤、結合剤（バインダ）と添加剤を混練
して形成したものである。また、この研磨剤はモ
ース硬度６以上の硬い研磨粒子からなり、この結
合剤は塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、末端
にイソシアネート基を有するプレポリマーおよび
有機アミンからなる。上述した硬い研磨粒子により、磁気ヘツド３の
テープ摺動面が平滑に研磨される。この研磨粒子
はその目的に応じて粒子径を調節すればよく、例
えば荒仕上であれば16μm〜1μm程度、最終仕上
であれば1μm〜0.1μm程度の粒子径とすればよ
い。また研磨粒子の材質としては、Cr₂O₃，Al₂
O₃、カーボランダム、ダイヤモンド等が使用さ
れる。上記研磨粒子を分散させる結合剤は、比較
的硬いバインダである塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体に対して軟らかいバインダである末端にイ
ソシアネート基を有するプレポリマーと硬化促進
剤である有機アミンを適当な割合で混合せしめて
形成する。これにより従来の結合剤に比べて耐熱
性、耐溶剤性のある硬化系ではありながら可撓性
が大きいという特徴を有するため、研磨テープを
磁気ヘツド３の曲面形状にしつかりとなじませる
ことができる。塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコールや塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイ
ン酸等がある。上記２つの例は塩化ビニル−酢酸
ビニルに第３成分としてのビニルアルコールやマ
レイン酸を結合させたものである。これら第３成
分を結合させることにより研磨粒子を分散させる
力が大きくなり、従来研磨粒子が部分的に凝集す
ることにより生じていた磁気ヘツドの研磨むらを
防止することができる。また、末端にイソシアネ
ートを有するプレポリマーとしては、例えば「タ
ケネートＬ−1007、タケネートＬ−1307、タケネ
ートＬ−2710、タケネートＬ−6001（武田薬
品）」；「コロネート4076、コロネート4080、コロ
ネート4096（日本ポリウレタン）」；「ハイプレンＬ
−320、ハイプレンＵ−51（三井日曹ウレタン）」
がある。また、有機アミンとしては、例えば脂肪
族アミンとしては「アミンＴ（アンカーケミカ
ル）」；「エポダイトＫ−20，Ｋ−40（高分子化学工
業）」等が、芳香族アミンとしては「キユアミン
Ｍ（イハラケミカル）」；「エポダイトＫ−52（高分
子化学工業）」；「キユアリングエージエント
DDM（アンカーケミカル）」等が、」；その他複素
環状ジアミンを骨格とする変性アミン型硬化剤と
して「エポメートＢ，Ｃ，Ｓ（味の素）」等があ
る。上記３者の混合割合は、研磨粒子の十分な分散
効果を得ることができ、かつ十分な可撓性を得る
ことができる割合とすべきであり、このような観
点から塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体を30〜
70重量％、末端にイソシアネート基を有するプレ
ポリマーを20〜60重量％、有機アミンを１〜10重
量％とするのが好ましい。また、前述した添加剤としては、分散剤、潤滑
剤、フエラー等がある。さらに、前述した非磁性支持体１としては、ポ
リエチレンテレフタレート（PET）、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート等のポリエステル類、
ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイ
ン類、セルロース・ダイアセテート、セルロー
ス・トリアセテート、セルロースアセテート・ブ
チレート、セルロースアセテートプロピオネート
等のセルロース誘導体等が用いられる。なお、塗布層２の厚みは、磁気ヘツド３の形
状、材質にもよるが、この厚みがあまり大きい
と、磁気ヘツドと研磨テープの接触が悪くなるの
で、50μm以下が好ましい。つぎに実施例を挙げてさらに詳細に説明する。実施例厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート
（PET）支持体上に下記の塗布組成の混合液を塗
布して研磨テープ１を作つた。なお、以下の説明
において部はすべて重量部を示す。塗布液組成・γ−Fe₂O₃ ……300部（サイズ1.0μm×0.1μm×0.1μm）・Al₂O₃ ……150部（サイズ0.6μm径、モース硬度９）・塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（積水化学製エスレツクＡ）……80部・末端イソシアネートプレポリマー ……60部（武田薬品製タケネートＬ−1007）・有機アミン ……５部（イハラケミカル製キユアミンＭ）・オレイン酸 ……15部・アミルステアレート ……５部・カーボンブラツク ……30部（粒子サイズ20mμ）・酢酸ブチル ……900部次に、上記実施例に対する比較例として上記実
施例と略同様の支持体上に下記の塗布組成の混合
液を塗布して研磨テープ２を作つた。なお、本比
較例は特開昭53−102017号公報に開示されたサン
プルNo.24と同様のものである。塗布液組成・ ZnO ……300部（サイズ120mμ径、モース硬度4.5）・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体……34.7部（共重合比87：13、重合度350）・ポリエステルポリオール ……21部（アジピン酸１モルとジエチレングリコール１モルとトリメチロールプロパン 0.06モルの反応生成物粘度（75℃）1000CP、比重1.18 OH価60、酸価＜２）・大豆レシチン ……2.4部・シリコーン油（ジメチル・ポリシロキサン）
……0.1部・ポリイソシアネート ……18部（３モルの２，４−トリレンジイソシアネート化合物と１モルのトリメチロールプロパンの反応生成物の75wt％酢酸エチル溶液）・メチルエチルケトン ……400部・トルエン ……400部以上の実施例と比較例の各研磨テープについて
ヘツド研削時間と研削後におけるヘツド表面傷の
状態を調べた。その結果を下記の表に示す。

【表】上記の表において、ヘツド研削時間はフエライ
トヘツド1μmを研削するのに必要な時間である。
またヘツド表面の傷は研削後の磁気ヘツドのギヤ
ツプ面を顕微鏡で見て確認された幅2μm以上の傷
である。上の表から明らかなように、本実施例によりヘ
ツド研削時間を極めて短縮することができるとと
もに、研削による磁気ヘツド表面のすり傷を極め
て小さいものとすることができる。

【図面の簡単な説明】

図面は磁気ヘツドの研磨時における、本発明の
一実施態様による研磨テープの拡大断面図であ
る。１……非磁性支持体（PET）、２……塗布層、
３……磁気ヘツド。

Claims

【特許請求の範囲】１研磨剤、結合剤および添加剤を混練した研磨
塗膜を可撓性を有する非磁性支持体上に塗着して
なる研磨テープにおいて、前記研磨剤がモース硬度６以上の硬度を有し、
前記結合剤が塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体
と末端にイソシアネート基を有するプレポリマー
と有機アミンとからなるものであることを特徴と
する研磨テープ。２前記結合剤が、該結合剤総重量の30〜70重量
％の塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体と20〜60
重量％の末端にイソシアネート基を有するプレポ
リマーと１〜10重量％の有機アミンとからなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の研磨
テープ。