JPH0619131A - 感光性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は、印刷に用いられる処理薬品
に対する耐性に優れ、かつ感度が高く、現像許容性に優
れた感光性平版印刷版に適する感光性組成物を得ること
にある。 【構成】 本発明は、少なくともキノンジアジド化合物
及びフェノール性水酸基を有するポリマーを含有する感
光性組成物において、該フェノール性水酸基を有するポ
リマーはフェノール樹脂であり、かつガラス転移温度
(Tg )が120〜250℃であることを特徴とする感光性組
成物に関する。
に対する耐性に優れ、かつ感度が高く、現像許容性に優
れた感光性平版印刷版に適する感光性組成物を得ること
にある。 【構成】 本発明は、少なくともキノンジアジド化合物
及びフェノール性水酸基を有するポリマーを含有する感
光性組成物において、該フェノール性水酸基を有するポ
リマーはフェノール樹脂であり、かつガラス転移温度
(Tg )が120〜250℃であることを特徴とする感光性組
成物に関する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性平版印刷版に適す
る感光性組成物に関し、更に詳しくは印刷に用いられる
処理薬品に対する耐性に優れ、かつ感度が高く、現像許
容性に優れた感光性平版印刷版に適する感光性組成物に
関するものである。
る感光性組成物に関し、更に詳しくは印刷に用いられる
処理薬品に対する耐性に優れ、かつ感度が高く、現像許
容性に優れた感光性平版印刷版に適する感光性組成物に
関するものである。
【0002】
【発明の背景】ポジ型の感光性平版印刷版は、印刷の際
使用される種々の処理薬品、例えば湿し水に含まれるイ
ソプロピルアルコールや、インキ、プレートクリーナー
等に含まれる溶剤に対して耐性が低く、その結果とし
て、耐刷力が低下するという欠点を有している。またポ
ジ型の感光性平版印刷版の現像処理は通常アルカリ水溶
液から成る現像液中で行われるが、現像液の現像能力は
種々の条件で変動を受け易く、例えば大量処理よる疲労
や空気酸化による劣化で現像能力が低下し、処理しても
印刷版の非画像部の感光層が完全に溶解されなくなる場
合がある。このような処理能力が低下した現像液でも、
標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示す幅広い
現像許容性を有することが望まれている(以下、適正な
現像結果が得られる現像能力低下の許容範囲を「アンダ
ー現像性」という。)。印刷に用いられる処理薬品に対
する耐性を向上させる試みとして、感光性組成物にフェ
ノール性水酸基を有するTg 100〜300℃のビニル系高分
子あるいはアクリル系高分子を添加することが知られて
いる(特開平1-291245、特開平1-291244)。しかし、こ
のフェノール性水酸基を有するTg 100〜300℃のビニル
系高分子あるいはアクリル系高分子は、感度が低く、現
像許容性が低いという欠点を有していた。
使用される種々の処理薬品、例えば湿し水に含まれるイ
ソプロピルアルコールや、インキ、プレートクリーナー
等に含まれる溶剤に対して耐性が低く、その結果とし
て、耐刷力が低下するという欠点を有している。またポ
ジ型の感光性平版印刷版の現像処理は通常アルカリ水溶
液から成る現像液中で行われるが、現像液の現像能力は
種々の条件で変動を受け易く、例えば大量処理よる疲労
や空気酸化による劣化で現像能力が低下し、処理しても
印刷版の非画像部の感光層が完全に溶解されなくなる場
合がある。このような処理能力が低下した現像液でも、
標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示す幅広い
現像許容性を有することが望まれている(以下、適正な
現像結果が得られる現像能力低下の許容範囲を「アンダ
ー現像性」という。)。印刷に用いられる処理薬品に対
する耐性を向上させる試みとして、感光性組成物にフェ
ノール性水酸基を有するTg 100〜300℃のビニル系高分
子あるいはアクリル系高分子を添加することが知られて
いる(特開平1-291245、特開平1-291244)。しかし、こ
のフェノール性水酸基を有するTg 100〜300℃のビニル
系高分子あるいはアクリル系高分子は、感度が低く、現
像許容性が低いという欠点を有していた。
【0003】
【発明が解決すべき課題】本発明は上記問題点を解決す
べくなされたものであり、本発明の目的は、印刷に用い
られる処理薬品に対する耐性に優れ、かつ感度が高く、
現像許容性に優れた感光性平版印刷版に適する感光性組
成物を提供することにある。
べくなされたものであり、本発明の目的は、印刷に用い
られる処理薬品に対する耐性に優れ、かつ感度が高く、
現像許容性に優れた感光性平版印刷版に適する感光性組
成物を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、少
なくともキノンジアジド化合物及びフェノール性水酸基
を有するポリマーを含有する感光性組成物において、該
フェノール性水酸基を有するポリマーはフェノール樹脂
であり、かつガラス転移温度(Tg )が120〜250℃であ
ることを特徴とする感光性組成物を提供することにより
達成された。
なくともキノンジアジド化合物及びフェノール性水酸基
を有するポリマーを含有する感光性組成物において、該
フェノール性水酸基を有するポリマーはフェノール樹脂
であり、かつガラス転移温度(Tg )が120〜250℃であ
ることを特徴とする感光性組成物を提供することにより
達成された。
【0005】以下本発明を更に詳しく説明する。
【0006】本発明におけるキノンジアジド化合物とし
ては例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フ
ェノール類とアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエ
ステル化合物が挙げられる。
ては例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フ
ェノール類とアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエ
ステル化合物が挙げられる。
【0007】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。また、前記ケトン
としてはアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられ
る。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。また、前記ケトン
としてはアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられ
る。
【0008】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。
【0009】前記o−ナフトキノンジアジド化合物のフ
ェノール類のOH基に対するo−ナフトキノンジアジド
スルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応率)は、
15〜80%が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
ェノール類のOH基に対するo−ナフトキノンジアジド
スルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応率)は、
15〜80%が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
【0010】更に本発明に用いられるキノンジアジド化
合物としては特開昭58-43451号公報明細書に記載のある
以下の化合物も使用できる。すなわち例えば1,2−ベ
ンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ナフ
トキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾ
キノンジアジドスルホン酸アミド、1,2−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,2−キノ
ンジアジド化合物、さらに具体的にはジェイ・コサール
(J.Kosar)著「ライト・センシティブ システム
ズ」(“Light-Sensitive Systems”)第339〜352頁
(1965年)、ジョン・ウィリー アンド サンズ(Joh
n Wiley & Sons)社(ニューヨーク)やダブリュー
・エス・ディー・フォレスト(W.S.De Forest)
著「フォトレジスト」(“Photoresist”)第50巻,
(1975年)、マグローヒル(Mc Graw-Hill)社(ニ
ューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノンジ
アジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,2,
1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−スルホ
ニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチル)−
スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメ
チルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸−4″−ヒドロキシジフェニル−4″−アゾ
−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、
2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニ
ルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2
−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,4−ジ
ヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒド
ロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4′−
ジアミノベンゾフェノン1モルの縮合物、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニルスルホ
ン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリン1モルの
縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−ジ
ヒドロアビエチル)−スルホンアミドなどの1,2−キ
ノンジアジド化合物を例示することができる。また特公
昭37-1953号、同37-3627号、同37-13109号、同40-26126
号、同40-3801号、同45-5604号、同45-27345号、同51-1
3013号、特開昭48-96575号、同48-63802号、同48-63803
号各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物を
も挙げることができる。
合物としては特開昭58-43451号公報明細書に記載のある
以下の化合物も使用できる。すなわち例えば1,2−ベ
ンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ナフ
トキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾ
キノンジアジドスルホン酸アミド、1,2−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,2−キノ
ンジアジド化合物、さらに具体的にはジェイ・コサール
(J.Kosar)著「ライト・センシティブ システム
ズ」(“Light-Sensitive Systems”)第339〜352頁
(1965年)、ジョン・ウィリー アンド サンズ(Joh
n Wiley & Sons)社(ニューヨーク)やダブリュー
・エス・ディー・フォレスト(W.S.De Forest)
著「フォトレジスト」(“Photoresist”)第50巻,
(1975年)、マグローヒル(Mc Graw-Hill)社(ニ
ューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノンジ
アジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,2,
1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−スルホ
ニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチル)−
スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメ
チルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸−4″−ヒドロキシジフェニル−4″−アゾ
−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、
2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニ
ルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2
−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,4−ジ
ヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒド
ロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4′−
ジアミノベンゾフェノン1モルの縮合物、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニルスルホ
ン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリン1モルの
縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−ジ
ヒドロアビエチル)−スルホンアミドなどの1,2−キ
ノンジアジド化合物を例示することができる。また特公
昭37-1953号、同37-3627号、同37-13109号、同40-26126
号、同40-3801号、同45-5604号、同45-27345号、同51-1
3013号、特開昭48-96575号、同48-63802号、同48-63803
号各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物を
も挙げることができる。
【0011】本発明に用いられるオルトキノンジアジド
化合物としては上記化合物を各々単独で用いてもよい
し、2種以上組合わせて用いてもよい。本発明に用いら
れるキノンジアジド化合物の感光性組成物中に占める割
合は、5〜60重量%が好ましく、特に好ましくは、10〜
50重量%である。
化合物としては上記化合物を各々単独で用いてもよい
し、2種以上組合わせて用いてもよい。本発明に用いら
れるキノンジアジド化合物の感光性組成物中に占める割
合は、5〜60重量%が好ましく、特に好ましくは、10〜
50重量%である。
【0012】本発明のガラス転移温度が120〜250℃であ
るフェノール樹脂(以下「本発明の高分子化合物」と称
す)は、フェノール類とホルムアルデヒドを酸触媒の存
在下で縮合して得られる樹脂であり、該フェノール類と
しては、例えばフェノール、o−クレゾール、m−クレ
ゾール、p−クレゾール、3,5−キシレノール、2,
4−キシレノール、2,5−キシレノール、カルバクロ
ール、チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノ
ン、ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。上
記フェノール類化合物は単独で又は2種以上組み合わせ
てホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる。
これらのうち好ましいフェノール樹脂は、フェノール、
m−クレゾール(又はo−クレゾール)及びp−クレゾ
ールから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒドと
を共重縮合して得られる樹脂であり、例えば、フェノー
ル・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、o−クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂、フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共
重合体樹脂、m−クレゾール・p−クレゾール・ホルム
アルデヒド共重縮合体樹脂、o−クレゾール・p−クレ
ゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノール
・m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合体樹脂、フェノール・o−クレゾール・p−ク
レゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げられ
る。本発明においては上記のフェノール樹脂のうち、下
記一般式で示されるようなフェノール・m−クレゾール
・p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂が好ましい。
るフェノール樹脂(以下「本発明の高分子化合物」と称
す)は、フェノール類とホルムアルデヒドを酸触媒の存
在下で縮合して得られる樹脂であり、該フェノール類と
しては、例えばフェノール、o−クレゾール、m−クレ
ゾール、p−クレゾール、3,5−キシレノール、2,
4−キシレノール、2,5−キシレノール、カルバクロ
ール、チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノ
ン、ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。上
記フェノール類化合物は単独で又は2種以上組み合わせ
てホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる。
これらのうち好ましいフェノール樹脂は、フェノール、
m−クレゾール(又はo−クレゾール)及びp−クレゾ
ールから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒドと
を共重縮合して得られる樹脂であり、例えば、フェノー
ル・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、o−クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂、フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共
重合体樹脂、m−クレゾール・p−クレゾール・ホルム
アルデヒド共重縮合体樹脂、o−クレゾール・p−クレ
ゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノール
・m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合体樹脂、フェノール・o−クレゾール・p−ク
レゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げられ
る。本発明においては上記のフェノール樹脂のうち、下
記一般式で示されるようなフェノール・m−クレゾール
・p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂が好ましい。
【0013】
【化1】
【0014】本発明においては、上記フェノール樹脂は
単独で用いてもよいし、また2種以上組合わせて用いて
もよい。
単独で用いてもよいし、また2種以上組合わせて用いて
もよい。
【0015】上記フェノール・m−クレゾール・p−ク
レゾール・ホルムアルデヒド樹脂において、フェノール
量は、0〜50モル%、好ましくは、0〜20モル%、より
好ましくは、0〜10モル%であり、m−クレゾール量
は、10〜60モル%、好ましくは、20〜50モル%であり、
p−クレゾール量は、10〜50モル%、好ましくは、20〜
40モル%である。
レゾール・ホルムアルデヒド樹脂において、フェノール
量は、0〜50モル%、好ましくは、0〜20モル%、より
好ましくは、0〜10モル%であり、m−クレゾール量
は、10〜60モル%、好ましくは、20〜50モル%であり、
p−クレゾール量は、10〜50モル%、好ましくは、20〜
40モル%である。
【0016】また、本発明の高分子化合物中における、
未反応のモノマー量は、5モル%以下、好ましくは、2
モル%以下である。
未反応のモノマー量は、5モル%以下、好ましくは、2
モル%以下である。
【0017】本発明の高分子化合物の重量平均分子量M
wは、好ましくは、3.0×102〜2.0×104であり、より好
ましくは、1.0×103〜1.0×104である。
wは、好ましくは、3.0×102〜2.0×104であり、より好
ましくは、1.0×103〜1.0×104である。
【0018】本発明の高分子化合物は、120〜250℃のガ
ラス転移温度を有していればよいが、好ましくは該ガラ
ス転移温度が120〜200℃であり、より好ましくは120〜1
60℃である。
ラス転移温度を有していればよいが、好ましくは該ガラ
ス転移温度が120〜200℃であり、より好ましくは120〜1
60℃である。
【0019】また、本発明の感光性組成物中における本
発明の高分子化合物の占める割合は、30〜95重量%であ
り、より好ましくは、50〜90重量%である。
発明の高分子化合物の占める割合は、30〜95重量%であ
り、より好ましくは、50〜90重量%である。
【0020】本発明の感光性組成物は、前述の如き各素
材のほか、必要に応じて他の添加剤を含むことができ
る。可塑剤として各種低分子化合物類、例えばフタル酸
エステル類、トリフェニルホスフェート類、マレイン酸
エステル類、塗布性向上剤として界面活性剤、例えばフ
ッ素系界面活性剤、エチルセルロースポリアルキレンエ
ーテル等に代表されるノニオン活性剤等、更に露光によ
り可視画像を形成させるためのプリントアウト材料等が
挙げられる。プリントアウト材料は露光により酸もしく
は遊離基を生成する化合物と、これと相互作用すること
によりその色調を変える有機染料よりなるもので、露光
により酸もしくは遊離基を生成する化合物としては、例
えば特開昭50-36209号公報に記載されているo−ナフト
キノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53
-36223号公報に記載されているトリハロメチル−2−ピ
ロンやトリハロメチル−トリアジン、特開昭55-6244号
公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−
スルホン酸のクロライドと電子吸引性置換基を有するフ
ェノール類又はアニリン類とのエステル化合物、特開昭
55-77742号公報に記載されているハロメチル−ビニル−
オキサジアゾール化合物およびジアゾニウム塩等が挙げ
られる。
材のほか、必要に応じて他の添加剤を含むことができ
る。可塑剤として各種低分子化合物類、例えばフタル酸
エステル類、トリフェニルホスフェート類、マレイン酸
エステル類、塗布性向上剤として界面活性剤、例えばフ
ッ素系界面活性剤、エチルセルロースポリアルキレンエ
ーテル等に代表されるノニオン活性剤等、更に露光によ
り可視画像を形成させるためのプリントアウト材料等が
挙げられる。プリントアウト材料は露光により酸もしく
は遊離基を生成する化合物と、これと相互作用すること
によりその色調を変える有機染料よりなるもので、露光
により酸もしくは遊離基を生成する化合物としては、例
えば特開昭50-36209号公報に記載されているo−ナフト
キノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53
-36223号公報に記載されているトリハロメチル−2−ピ
ロンやトリハロメチル−トリアジン、特開昭55-6244号
公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−
スルホン酸のクロライドと電子吸引性置換基を有するフ
ェノール類又はアニリン類とのエステル化合物、特開昭
55-77742号公報に記載されているハロメチル−ビニル−
オキサジアゾール化合物およびジアゾニウム塩等が挙げ
られる。
【0021】これらのうち、ハロメチル−ビニル−オキ
サジアゾール化合物が好ましく、特に特開昭60-138539
号公報に記載されている、ベンゾフリル基のような酸素
を含む複素環式基をビニル基を介して5位に有する2−
ハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール化合物が更
に好ましい。
サジアゾール化合物が好ましく、特に特開昭60-138539
号公報に記載されている、ベンゾフリル基のような酸素
を含む複素環式基をビニル基を介して5位に有する2−
ハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール化合物が更
に好ましい。
【0022】又、前記の有機染料としては、例えば、ビ
クトリアピュアーブルーBOH[保土ヶ谷化学]、オイ
ルブルー#603[オリエント化学]、パテントピュアー
ブルー[住友三国化学製]、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグ
リーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マラカ
イトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープ
ル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミ
ノフェニルイミノナフトキノン、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系又は
アントラキノン系の色素が挙げられる。これらのうちト
リフェニルメタン系色素が好ましい。
クトリアピュアーブルーBOH[保土ヶ谷化学]、オイ
ルブルー#603[オリエント化学]、パテントピュアー
ブルー[住友三国化学製]、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグ
リーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マラカ
イトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープ
ル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミ
ノフェニルイミノナフトキノン、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系又は
アントラキノン系の色素が挙げられる。これらのうちト
リフェニルメタン系色素が好ましい。
【0023】又、感度を向上させるための増感剤も本発
明の感光性組成物に添加することができる。増感剤とし
ては、特開昭57-118237号公報に記載されている没食子
酸誘導体、特開昭52-80022号公報に記載されているよう
な5員環状酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水マ
レイン酸、無水コハク酸等、及び特開昭58-11932号公報
に記載されているような6員環状酸無水物、例えば、無
水グルタル酸及びその誘導体等が挙げられる。これらの
うち、好ましいのは環状酸無水物であり、特に6員環状
酸無水物が好ましい。
明の感光性組成物に添加することができる。増感剤とし
ては、特開昭57-118237号公報に記載されている没食子
酸誘導体、特開昭52-80022号公報に記載されているよう
な5員環状酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水マ
レイン酸、無水コハク酸等、及び特開昭58-11932号公報
に記載されているような6員環状酸無水物、例えば、無
水グルタル酸及びその誘導体等が挙げられる。これらの
うち、好ましいのは環状酸無水物であり、特に6員環状
酸無水物が好ましい。
【0024】更に、本発明の感光性組成物には、該感光
性組成物の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加
することもできる。
性組成物の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加
することもできる。
【0025】これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
更にこれを適当な支持体の表面に塗布乾燥させることに
より、感光性層を設けて、感光性平版印刷版を形成する
ことができる。
更にこれを適当な支持体の表面に塗布乾燥させることに
より、感光性層を設けて、感光性平版印刷版を形成する
ことができる。
【0026】本発明の感光性組成物の各成分を溶解する
際に使用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチ
ルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブアセテート等のセロソルブ類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエ
チルケトン等が挙げられる。これら溶媒は、単独である
いは2種以上混合して使用する。
際に使用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチ
ルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブアセテート等のセロソルブ類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエ
チルケトン等が挙げられる。これら溶媒は、単独である
いは2種以上混合して使用する。
【0027】上記感光性組成物を支持体表面に塗布する
際に用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例え
ば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布等が可能である。この際塗布量は用途により異なる
が、例えば固形分として0.5〜5.0g/m2が好ましい。
際に用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例え
ば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布等が可能である。この際塗布量は用途により異なる
が、例えば固形分として0.5〜5.0g/m2が好ましい。
【0028】本発明の感光性平版印刷版において感光層
を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅
等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アル
ミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、プ
ラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された
紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理
したプラスチックフィルム等が挙げられる。このうち好
ましいのはアルミニウム板である。本発明の感光性平版
印刷版の支持体としては砂目立て処理、陽極酸化処理お
よび必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されている
アルミニウム板を用いることがより好ましい。
を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅
等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アル
ミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、プ
ラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された
紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理
したプラスチックフィルム等が挙げられる。このうち好
ましいのはアルミニウム板である。本発明の感光性平版
印刷版の支持体としては砂目立て処理、陽極酸化処理お
よび必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されている
アルミニウム板を用いることがより好ましい。
【0029】これらの処理には公知の方法を適用するこ
とができる。
とができる。
【0030】砂目立て処理の方法としては、例えば、機
械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられ
る。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等
が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の
各種方法を単独あるいは組み合わせて用いることができ
る。好ましいのは電解エッチングによる方法である。
械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられ
る。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等
が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の
各種方法を単独あるいは組み合わせて用いることができ
る。好ましいのは電解エッチングによる方法である。
【0031】電解エッチングは、りん酸、硫酸、塩酸、
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行
なわれる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリあ
るいは酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和し
て水洗する。
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行
なわれる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリあ
るいは酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和し
て水洗する。
【0032】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2
種以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電
解して行なわれる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50
mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/dm2であ
る。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミニウム板をリン
酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35ml、酸化クロム(V
I):20gを1リットルの水に溶解して作製)に浸漬し、
酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重量変化測定等
から求められる。
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2
種以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電
解して行なわれる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50
mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/dm2であ
る。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミニウム板をリン
酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35ml、酸化クロム(V
I):20gを1リットルの水に溶解して作製)に浸漬し、
酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重量変化測定等
から求められる。
【0033】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
【0034】本発明の感光性平版印刷版は、通常の方法
で現像処理することができる。例えば、透明陽画フィル
ムを通して超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセ
ノンランプ、タングステンランプ等の光源により露光
し、次いで、種々のアルカリ現像液にて現像する。この
結果未露光部分のみが支持体表面に残り、ポジ−ポジ型
のレリーフ像が形成される。
で現像処理することができる。例えば、透明陽画フィル
ムを通して超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセ
ノンランプ、タングステンランプ等の光源により露光
し、次いで、種々のアルカリ現像液にて現像する。この
結果未露光部分のみが支持体表面に残り、ポジ−ポジ型
のレリーフ像が形成される。
【0035】上記アルカリ現像液としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩
の濃度は0.1〜10重量%が好ましい。又、該現像液中に
必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やア
ルコール等の有機溶媒を加えることができる。
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩
の濃度は0.1〜10重量%が好ましい。又、該現像液中に
必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やア
ルコール等の有機溶媒を加えることができる。
【0036】
(アルミニウム板の作製)厚さ0.24mmのアルミニウム板
(材質1050、調質H16)を5重量%の水酸化ナトリウム
水溶液中で60℃で1分間脱脂処理を行った後、1リット
ルの0.5モル塩酸水溶液中において温度;25℃、電流密
度;60A/dm2、処理時間;30秒間の条件で電解エッチ
ング処理を行った。次いで、5重量%水酸化ナトリウム
水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を施した後、
20重量%硫酸溶液中で温度;20℃、電流密度;3A/dm
2、処理時間;1分間の条件で陽極酸化処理を行った。
更に、30℃の熱水で20秒間、熱水封孔処理を行い、平版
印刷版材料用支持体のアルミニウム板を作製した。
(材質1050、調質H16)を5重量%の水酸化ナトリウム
水溶液中で60℃で1分間脱脂処理を行った後、1リット
ルの0.5モル塩酸水溶液中において温度;25℃、電流密
度;60A/dm2、処理時間;30秒間の条件で電解エッチ
ング処理を行った。次いで、5重量%水酸化ナトリウム
水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を施した後、
20重量%硫酸溶液中で温度;20℃、電流密度;3A/dm
2、処理時間;1分間の条件で陽極酸化処理を行った。
更に、30℃の熱水で20秒間、熱水封孔処理を行い、平版
印刷版材料用支持体のアルミニウム板を作製した。
【0037】上記のように作成したアルミニウム板に下
記組成の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗
布し、90℃で4分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試
料を得た。 (感光性組成物塗布液組成) ・キノンジアジド化合物 1.4 g ・表1に示す本発明の高分子化合物 (又は比較アクリル系樹脂) 5.0 g ・2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル) −1,3,4−オキサジアゾール (特公昭54-74728号公報実施例1に記載の化合物) 0.11g ・ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.07g ・メチルセロソルブ 100ml 上記組成のキノンジアジド化合物および本発明の高分子
化合物を第1表に示すように用いて、感光性平版印刷版
試料1〜4を得た。
記組成の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗
布し、90℃で4分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試
料を得た。 (感光性組成物塗布液組成) ・キノンジアジド化合物 1.4 g ・表1に示す本発明の高分子化合物 (又は比較アクリル系樹脂) 5.0 g ・2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル) −1,3,4−オキサジアゾール (特公昭54-74728号公報実施例1に記載の化合物) 0.11g ・ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.07g ・メチルセロソルブ 100ml 上記組成のキノンジアジド化合物および本発明の高分子
化合物を第1表に示すように用いて、感光性平版印刷版
試料1〜4を得た。
【0038】得られた感光性平版印刷版試料1〜4の各
々に絵柄の入ったポジ型フィルムを密着して2KWメタ
ルハライドランプ(岩崎電気社製アイドルフィン2000)
を光源として 8.0mW/cmの条件で、露光した。次にこ
の試料にSDR−1(コニカ(株)社製)を水で6倍に
希釈した現像液(標準現像液)、及び8〜11倍に希釈し
た現像液(アンダー現像液)を用いて25℃にて40秒間現
像処理を施した。処理後の試料表面を目視で観察して、
下記に示す評価基準に従い評価を行なった。その結果を
表1に示す。アンダー現像性の評価基準 ○:非画線部の感光層が完全に溶解除去されている △:非画線部の感光層が一部残存している ×:非画線部の感光層がほとんど溶解していない
々に絵柄の入ったポジ型フィルムを密着して2KWメタ
ルハライドランプ(岩崎電気社製アイドルフィン2000)
を光源として 8.0mW/cmの条件で、露光した。次にこ
の試料にSDR−1(コニカ(株)社製)を水で6倍に
希釈した現像液(標準現像液)、及び8〜11倍に希釈し
た現像液(アンダー現像液)を用いて25℃にて40秒間現
像処理を施した。処理後の試料表面を目視で観察して、
下記に示す評価基準に従い評価を行なった。その結果を
表1に示す。アンダー現像性の評価基準 ○:非画線部の感光層が完全に溶解除去されている △:非画線部の感光層が一部残存している ×:非画線部の感光層がほとんど溶解していない
【0039】耐処理薬品性を検討するために、印刷中に
非画像部に発生する地汚れを除去する洗浄液として用い
られるウルトラプレートクリーナー(UPC)(A.
B.C.ケミカル社製)及び現像インキ盛りに用いられ
る現像インキPI−2(富士写真フィルム(株)製)に
対する耐久性を調べた。画像が形成された印刷版を前記
各処理液に室温で所定時間(UPC:2時間,PI−
2:30分)浸漬した後、水洗し、浸漬前の画像部と比較
することにより、画線部の処理薬品に対する侵食度を判
定した。但し耐処理薬品性の評価において記号「○」は
画像部の侵食が無かった状態を表わす。
非画像部に発生する地汚れを除去する洗浄液として用い
られるウルトラプレートクリーナー(UPC)(A.
B.C.ケミカル社製)及び現像インキ盛りに用いられ
る現像インキPI−2(富士写真フィルム(株)製)に
対する耐久性を調べた。画像が形成された印刷版を前記
各処理液に室温で所定時間(UPC:2時間,PI−
2:30分)浸漬した後、水洗し、浸漬前の画像部と比較
することにより、画線部の処理薬品に対する侵食度を判
定した。但し耐処理薬品性の評価において記号「○」は
画像部の侵食が無かった状態を表わす。
【0040】上記の結果を表1に示す。
【0041】また、下記方法に従いクリア感度を求め
た。その結果を表1に示す。クリア感度の評価方法 感光性平版印刷版に感度測定用ステップタブレット(イ
ーストマン・コダック社製No.2,濃度差0.5ずつで21
段階のグレースケール)を密着して、2KWメタルハラ
イドランプ(岩崎電気社製アイドルフィン2000)を光源
として8.0mW/cmの条件で露光した。次にこの試料にS
DR−1(コニカ(株)社製)を水で6倍に希釈した現
像液(標準現像液)を用いて25℃にて40秒間現像処理を
施した。処理後、上記ステップタブレットの完全に現像
されている段数をクリア感度とした。
た。その結果を表1に示す。クリア感度の評価方法 感光性平版印刷版に感度測定用ステップタブレット(イ
ーストマン・コダック社製No.2,濃度差0.5ずつで21
段階のグレースケール)を密着して、2KWメタルハラ
イドランプ(岩崎電気社製アイドルフィン2000)を光源
として8.0mW/cmの条件で露光した。次にこの試料にS
DR−1(コニカ(株)社製)を水で6倍に希釈した現
像液(標準現像液)を用いて25℃にて40秒間現像処理を
施した。処理後、上記ステップタブレットの完全に現像
されている段数をクリア感度とした。
【0042】
【表1】
【0043】
【化2】
【0044】表1より明らかなように、本発明の感光性
平版印刷版は、処理薬品に対する耐性に優れ、かつクリ
アー感度が高く、現像許容性に優れていることがわかっ
た。
平版印刷版は、処理薬品に対する耐性に優れ、かつクリ
アー感度が高く、現像許容性に優れていることがわかっ
た。
【0045】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
より印刷に用いられる処理薬品に対する耐性に優れ、か
つ感度が高く、現像許容性に優れた感光性平版印刷版に
適する感光性組成物を提供することができた。
より印刷に用いられる処理薬品に対する耐性に優れ、か
つ感度が高く、現像許容性に優れた感光性平版印刷版に
適する感光性組成物を提供することができた。
フロントページの続き (72)発明者 中井 英之 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 佐々木 充 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 金沢 大輔 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】 少なくともキノンジアジド化合物及びフ
ェノール性水酸基を有するポリマーを含有する感光性組
成物において、該フェノール性水酸基を有するポリマー
はフェノール樹脂であり、かつガラス転移温度(Tg )
が120〜250℃であることを特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19485192A JPH0619131A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19485192A JPH0619131A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0619131A true JPH0619131A (ja) | 1994-01-28 |
Family
ID=16331341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19485192A Pending JPH0619131A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0619131A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0895127A3 (en) * | 1997-08-01 | 2000-01-26 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photoresist composition |
| KR101103939B1 (ko) * | 2009-09-04 | 2012-01-12 | 한전케이피에스 주식회사 | 송전탑 매설지선의 정비 방법 및 그 구조 |
-
1992
- 1992-06-29 JP JP19485192A patent/JPH0619131A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0895127A3 (en) * | 1997-08-01 | 2000-01-26 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photoresist composition |
| KR101103939B1 (ko) * | 2009-09-04 | 2012-01-12 | 한전케이피에스 주식회사 | 송전탑 매설지선의 정비 방법 및 그 구조 |
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