JPH0798499A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 感度、硬調性、耐刷性が良好であり、ボール
ペン適性、セロファン粘着テープ適性に優れ、さらに、
現像液中にカス、ヘドロが蓄積されず現像液の汚染がな
い感光性平版印刷版を提供すること。 【構成】 陽極酸化処理を行い、次いで亜硝酸塩水溶液
での処理を行ったアルミニウムまたはその合金よりなる
支持体に、(a)o−キノンジアジド化合物及び(b)
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホン
酸またはビスフェニルヨードニウムトリフルオロメタン
スルホン酸を含有する感光層を設けたことを特徴とする
感光性平版印刷版。
ペン適性、セロファン粘着テープ適性に優れ、さらに、
現像液中にカス、ヘドロが蓄積されず現像液の汚染がな
い感光性平版印刷版を提供すること。 【構成】 陽極酸化処理を行い、次いで亜硝酸塩水溶液
での処理を行ったアルミニウムまたはその合金よりなる
支持体に、(a)o−キノンジアジド化合物及び(b)
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホン
酸またはビスフェニルヨードニウムトリフルオロメタン
スルホン酸を含有する感光層を設けたことを特徴とする
感光性平版印刷版。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版に関
する。
する。
【0002】
【発明の背景】感光性平版印刷版は、親水性支持体上に
インク受容性の感光層を設けたもので、例えば、ポジ型
感光性平版印刷版においては、親水性支持体上に紫外線
等の活性光線による露光により可溶化するインク受容性
感光層が形成されている。
インク受容性の感光層を設けたもので、例えば、ポジ型
感光性平版印刷版においては、親水性支持体上に紫外線
等の活性光線による露光により可溶化するインク受容性
感光層が形成されている。
【0003】このようなポジ型感光性平版印刷版の感光
層に原稿フィルムより画像露光を施し、次いで現像する
と、露光した部分の感光層は除去されて親水性支持体の
表面が露出する一方、露光されない部分の感光層は支持
体に残留してインキ受容層を形成する。平版印刷におい
ては、上記感光した部分が親水性で、感光されない部分
が親油性であるという性質の差が利用される。
層に原稿フィルムより画像露光を施し、次いで現像する
と、露光した部分の感光層は除去されて親水性支持体の
表面が露出する一方、露光されない部分の感光層は支持
体に残留してインキ受容層を形成する。平版印刷におい
ては、上記感光した部分が親水性で、感光されない部分
が親油性であるという性質の差が利用される。
【0004】しかしながら、感光性平版印刷版に原稿フ
ィルムより画像露光する際問題となるのは、画像露光す
る環境が必ずしも清浄でないことである。そのために、
原稿フィルムや感光性平版印刷版にゴミ等の異物が付着
するのを避けることができない。 原稿フィルムや感光
性平版印刷版にゴミ等の異物が付着していると、その付
着部分から極少量の光が入り込み、シャープなレジスト
像が形成できなくなり、焼きボケ現象を起こす恐れがあ
った。
ィルムより画像露光する際問題となるのは、画像露光す
る環境が必ずしも清浄でないことである。そのために、
原稿フィルムや感光性平版印刷版にゴミ等の異物が付着
するのを避けることができない。 原稿フィルムや感光
性平版印刷版にゴミ等の異物が付着していると、その付
着部分から極少量の光が入り込み、シャープなレジスト
像が形成できなくなり、焼きボケ現象を起こす恐れがあ
った。
【0005】また、感光性平版印刷版を白色灯(蛍光灯
等)の下で長時間(10分程度)の露光、現像等の作業
をすると、感光性平版印刷版の感光されない部分も現像
され、印刷版の感光層の膜減りが起こるという間題があ
った。これらの問題を避けるためには感光性平版印刷版
のセーフライト性を高める必要があった。
等)の下で長時間(10分程度)の露光、現像等の作業
をすると、感光性平版印刷版の感光されない部分も現像
され、印刷版の感光層の膜減りが起こるという間題があ
った。これらの問題を避けるためには感光性平版印刷版
のセーフライト性を高める必要があった。
【0006】そこで、原稿フィルムや感光性平版印刷版
にゴミ等の異物が付着していても、シャープなレジスト
像が得られ、また、セーフライト性を高めるられるよう
な硬調性に優れた感光性平版印刷版の開発が進められて
いる。
にゴミ等の異物が付着していても、シャープなレジスト
像が得られ、また、セーフライト性を高めるられるよう
な硬調性に優れた感光性平版印刷版の開発が進められて
いる。
【0007】また、感光性平版印刷版に複数の原稿フィ
ルムの位置を変えて次々と焼き付けをする所謂多面焼付
を行う際、原稿フィルム間の位置合わせのため、原稿の
位置を感光層上にマークすることがしばしば行われてい
る。このマーク付けの筆記用具として、通常、油性ボー
ルペンが用いられているが、油性ボールペンでマーク付
けを行った場合、油性ボールペンのインキの溶剤が感光
性平版印刷版の感光層を侵食し、感光層が溶解してしま
うという問題が発生する。特に、マークした箇所が画像
部である場合、このまま現像処理すると画像部のマーク
部分の感光層が除去され、印刷時にマーク跡が印刷物に
再現してしまうという故障が生じるので、感光層が油性
ボールペンのインキの溶剤で侵食されない、即ち、ボー
ルペン適性を有する感光性平版印刷版の開発が望まれて
いる。
ルムの位置を変えて次々と焼き付けをする所謂多面焼付
を行う際、原稿フィルム間の位置合わせのため、原稿の
位置を感光層上にマークすることがしばしば行われてい
る。このマーク付けの筆記用具として、通常、油性ボー
ルペンが用いられているが、油性ボールペンでマーク付
けを行った場合、油性ボールペンのインキの溶剤が感光
性平版印刷版の感光層を侵食し、感光層が溶解してしま
うという問題が発生する。特に、マークした箇所が画像
部である場合、このまま現像処理すると画像部のマーク
部分の感光層が除去され、印刷時にマーク跡が印刷物に
再現してしまうという故障が生じるので、感光層が油性
ボールペンのインキの溶剤で侵食されない、即ち、ボー
ルペン適性を有する感光性平版印刷版の開発が望まれて
いる。
【0008】さらに、感光性平版印刷版に原稿フィルム
を焼き付けをする際、原稿フィルムを固定したり、重ね
て露光したりするために、感光性平版印刷版上に直接セ
ロハン粘着テープを貼ることが多く行われている。これ
らセロハン粘着テープは原稿フィルムを焼き付けた後剥
離されるが、セロハン粘着テープの粘着剤が感光性平版
印刷版上に残留することが避けられず、粘着剤が感光性
平版印刷版上に残留すると現像不良を起こし、印刷時に
版面汚れが発生し問題となるので、貼られたセロハン粘
着テープを剥した後においても現像不良を起こさない、
即ち、セロファン粘着テープ適性を有する感光性平版印
刷版の開発が望まれている。
を焼き付けをする際、原稿フィルムを固定したり、重ね
て露光したりするために、感光性平版印刷版上に直接セ
ロハン粘着テープを貼ることが多く行われている。これ
らセロハン粘着テープは原稿フィルムを焼き付けた後剥
離されるが、セロハン粘着テープの粘着剤が感光性平版
印刷版上に残留することが避けられず、粘着剤が感光性
平版印刷版上に残留すると現像不良を起こし、印刷時に
版面汚れが発生し問題となるので、貼られたセロハン粘
着テープを剥した後においても現像不良を起こさない、
即ち、セロファン粘着テープ適性を有する感光性平版印
刷版の開発が望まれている。
【0009】感光性平版印刷版の支持体は、耐摩耗性、
耐薬品性、保水性を向上させるために、通常、粗面化処
理を行い、さらに陽極酸化処理によって酸化皮膜を形成
させているが、この酸化皮膜は強アルカリ性の現像液に
溶解するため、現像中に溶解し、現像液に蓄積されてカ
スだとかヘドロとかになり、現像液を汚染してしまう。
これら酸化皮膜の溶解を防止するために、陽極酸化皮膜
を封孔する後処理が施される。
耐薬品性、保水性を向上させるために、通常、粗面化処
理を行い、さらに陽極酸化処理によって酸化皮膜を形成
させているが、この酸化皮膜は強アルカリ性の現像液に
溶解するため、現像中に溶解し、現像液に蓄積されてカ
スだとかヘドロとかになり、現像液を汚染してしまう。
これら酸化皮膜の溶解を防止するために、陽極酸化皮膜
を封孔する後処理が施される。
【0010】従来、硬調性を向上させるために、使用す
るo−キノンジアジド化合物の高分子量化、アルカリ可
溶性樹脂の高分子量化等が行われてきているが、そのい
ずれも感光性平版印刷版の感度が低下してしまうという
問題があった。
るo−キノンジアジド化合物の高分子量化、アルカリ可
溶性樹脂の高分子量化等が行われてきているが、そのい
ずれも感光性平版印刷版の感度が低下してしまうという
問題があった。
【0011】ボールペン適性、セロファン粘着テープ適
性を向上させるためには、従来、感光層にフッ素系界面
活性剤、非イオン系界面活性剤を添加することが行われ
ているが、これら界面活性剤をボールペン適性、セロフ
ァン粘着テープ適性を向上させるために多量に添加する
と感光性平版印刷版の感度が低下するとか、現像性が悪
くなるとかの問題がある。
性を向上させるためには、従来、感光層にフッ素系界面
活性剤、非イオン系界面活性剤を添加することが行われ
ているが、これら界面活性剤をボールペン適性、セロフ
ァン粘着テープ適性を向上させるために多量に添加する
と感光性平版印刷版の感度が低下するとか、現像性が悪
くなるとかの問題がある。
【0012】また、酸化皮膜の溶解を防止するために行
う封孔処理としては、熱水による封孔処理、亜硝酸塩水
溶液による封孔処理が行われているが、これらの封孔処
理をした支持体を用いると、感度の向上を目的として、
有機酸の添加、o−キノンジアジド化合物脂の低分子量
化、アルカリ可溶性樹脂の低分子量化を行うと硬調性が
劣るようになり、また、耐刷力も低下してしまう。
う封孔処理としては、熱水による封孔処理、亜硝酸塩水
溶液による封孔処理が行われているが、これらの封孔処
理をした支持体を用いると、感度の向上を目的として、
有機酸の添加、o−キノンジアジド化合物脂の低分子量
化、アルカリ可溶性樹脂の低分子量化を行うと硬調性が
劣るようになり、また、耐刷力も低下してしまう。
【0013】
【発明の目的】従って、本発明の目的は、感度、硬調
性、耐刷性が良好であり、ボールペン適性、セロファン
粘着テープ適性に優れ、さらに、現像液中にカス、ヘド
ロが蓄積されず現像液の汚染がない感光性平版印刷版を
提供することにある。
性、耐刷性が良好であり、ボールペン適性、セロファン
粘着テープ適性に優れ、さらに、現像液中にカス、ヘド
ロが蓄積されず現像液の汚染がない感光性平版印刷版を
提供することにある。
【0014】
【発明の構成】本発明の上記目的は、 (1)陽極酸化処理を行い、次いで亜硝酸塩水溶液での
処理を行ったアルミニウムまたはその合金よりなる支持
体に、(a)o−キノンジアジド化合物及び(b)トリ
フェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホン酸ま
たはビスフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホン酸を含有する感光層を設けたことを特徴とする感光
性平版印刷版。 (2)陽極酸化処理に先立ち、支持体の表面を粗面化す
ることを特徴とする上記(1)記載の感光性平版印刷
版。 によって達成することができる。
処理を行ったアルミニウムまたはその合金よりなる支持
体に、(a)o−キノンジアジド化合物及び(b)トリ
フェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホン酸ま
たはビスフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホン酸を含有する感光層を設けたことを特徴とする感光
性平版印刷版。 (2)陽極酸化処理に先立ち、支持体の表面を粗面化す
ることを特徴とする上記(1)記載の感光性平版印刷
版。 によって達成することができる。
【0015】以下、本発明を詳細に説明する。
【0016】まず、(a)o−キノンジアジド化合物及
び(b)トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタン
スルホン酸またはビスフェニルヨードニウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸を含有する感光層(以下、本発明の
感光層という。)について説明する。
び(b)トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタン
スルホン酸またはビスフェニルヨードニウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸を含有する感光層(以下、本発明の
感光層という。)について説明する。
【0017】o−キノンジアジド化合物とは、分子中に
o−キノンジアジド基を有する化合物であって、本発明
の感光層に使用されるo−キノンジアジド化合物として
は、o−ナフトキノンジアジド化合物、例えば、o−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸と、フェノール類及びア
ルデヒドまたはケトンとの重縮合樹脂とのエステル化合
物等が挙げられる。
o−キノンジアジド基を有する化合物であって、本発明
の感光層に使用されるo−キノンジアジド化合物として
は、o−ナフトキノンジアジド化合物、例えば、o−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸と、フェノール類及びア
ルデヒドまたはケトンとの重縮合樹脂とのエステル化合
物等が挙げられる。
【0018】上記フェノール類及びアルデヒドまたはケ
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
【0019】フェノール類及びアルデヒドまたはケトン
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
【0020】前記o−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、15%〜80%が好ましく、より好ましくは2
0%〜45%である。
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、15%〜80%が好ましく、より好ましくは2
0%〜45%である。
【0021】更に本発明に用いられるo−キノンジアジ
ド化合物としては、特開昭58−43451号公報に記
載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」(Light-Sensitive Systems)第
339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・
アンドサンズ(John Willey & Sons)社(ニューヨー
ク)やダブリュ・エス・ディ・フォレスト(W.S.De For
est)著「フォトレジスト」(Photoresist)第50巻、
(1975年)、マックローヒル(Mc GrawHi1l)社
(ニューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,
2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチ
ル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5
−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′
−アゾ−β−ナフトール−エステル、N,N−ジ−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
アニリン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノ
ン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2
−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4,4′−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェ
ニルスルホン酸1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノ
ンジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロ
ガリン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミド
などの1,2−キノンジアジド化合物を例示することが
できる。又、特公昭37−1953号、同37−362
7号、同37−13109号、同40−26126号、
同40−3801号、同45−5604号、同45−2
7345号、同51−13013号、特開昭48−96
575号、同48−63802号、同48−63803
号各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も
挙げることができる。
ド化合物としては、特開昭58−43451号公報に記
載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」(Light-Sensitive Systems)第
339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・
アンドサンズ(John Willey & Sons)社(ニューヨー
ク)やダブリュ・エス・ディ・フォレスト(W.S.De For
est)著「フォトレジスト」(Photoresist)第50巻、
(1975年)、マックローヒル(Mc GrawHi1l)社
(ニューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,
2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチ
ル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5
−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′
−アゾ−β−ナフトール−エステル、N,N−ジ−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
アニリン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノ
ン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2
−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4,4′−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェ
ニルスルホン酸1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノ
ンジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロ
ガリン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミド
などの1,2−キノンジアジド化合物を例示することが
できる。又、特公昭37−1953号、同37−362
7号、同37−13109号、同40−26126号、
同40−3801号、同45−5604号、同45−2
7345号、同51−13013号、特開昭48−96
575号、同48−63802号、同48−63803
号各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も
挙げることができる。
【0022】上記o−キノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。
【0023】本発明の感光層において、o−キノンジア
ジド化合物は、上記化合物を各々単独で用いてもよい
し、2種以上を組合せて用いてもよい。
ジド化合物は、上記化合物を各々単独で用いてもよい
し、2種以上を組合せて用いてもよい。
【0024】次に、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロメタンスルホン酸及びビスフェニルヨードニウムト
リフルオロメタンスルホン酸について説明する。
オロメタンスルホン酸及びビスフェニルヨードニウムト
リフルオロメタンスルホン酸について説明する。
【0025】上記トリフェニルスルホニウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸としては、トリフェニルスルホニウ
ムカチオン部に1個以上のメトキシ基を含む化合物が好
ましい。また、ビスフェニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホン酸としては、ビス(tert−ブチルフ
ェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホン酸が
好ましい。これらの化合物の感光性組成物における含有
量は0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜5重量
%がさらに好ましい。
ロメタンスルホン酸としては、トリフェニルスルホニウ
ムカチオン部に1個以上のメトキシ基を含む化合物が好
ましい。また、ビスフェニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホン酸としては、ビス(tert−ブチルフ
ェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホン酸が
好ましい。これらの化合物の感光性組成物における含有
量は0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜5重量
%がさらに好ましい。
【0026】本発明の感光層を形成する感光性組成物に
は、さらに、アルカリ可溶性樹脂を添加することが好ま
しい。
は、さらに、アルカリ可溶性樹脂を添加することが好ま
しい。
【0027】これらアルカリ可溶性樹脂としては、ノボ
ラック樹脂、フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体、特開昭55−57841号公報に記載されている多
価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等が
挙げられる。
ラック樹脂、フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体、特開昭55−57841号公報に記載されている多
価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等が
挙げられる。
【0028】上記ノボラック樹脂としては、例えば、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルム
アルデヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載
されているようなフェノール・クレゾール・ホルムアル
デヒド共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報
に記載されているようなp−置換フェノールとフェノー
ルもしくはクレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体
樹脂等が挙げられる。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルム
アルデヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載
されているようなフェノール・クレゾール・ホルムアル
デヒド共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報
に記載されているようなp−置換フェノールとフェノー
ルもしくはクレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体
樹脂等が挙げられる。
【0029】ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標
準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×10
2〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.00×
103〜3.00×104、より好ましくはMnが5.0
0×102〜4.00×103、Mwが3.00×103
〜2.00×104である。
準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×10
2〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.00×
103〜3.00×104、より好ましくはMnが5.0
0×102〜4.00×103、Mwが3.00×103
〜2.00×104である。
【0030】上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよい
し、2種を以上組合せて用いてもよい。
し、2種を以上組合せて用いてもよい。
【0031】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は5〜95重量%が好ましい。
める割合は5〜95重量%が好ましい。
【0032】また、本発明に用いられる上記フェノール
性水酸基を有するビニル系重合体とは、フェノール性水
酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体であり、
下記一般式[I]〜[V]で表される構造単位を少なく
とも1つの含む重合体が好ましい。
性水酸基を有するビニル系重合体とは、フェノール性水
酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体であり、
下記一般式[I]〜[V]で表される構造単位を少なく
とも1つの含む重合体が好ましい。
【0033】
【化1】
【0034】一般式[I]〜一般式[V]において、R
1およびR2は、それぞれ水素原子、アルキル基又はカル
ボキシル基を表わし、好ましくは水素原子である。R3
は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、好
ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のアルキル
基である。R4は、水素原子、アルキル基、アリール基
又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子である。
Aは、窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子とを連結
する、置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、
mは、0〜10の整数を表し、Bは、置換基を有してい
てもよいフェニレン基又は置換基を有してもよいナフチ
レン基を表す。
1およびR2は、それぞれ水素原子、アルキル基又はカル
ボキシル基を表わし、好ましくは水素原子である。R3
は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、好
ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のアルキル
基である。R4は、水素原子、アルキル基、アリール基
又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子である。
Aは、窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子とを連結
する、置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、
mは、0〜10の整数を表し、Bは、置換基を有してい
てもよいフェニレン基又は置換基を有してもよいナフチ
レン基を表す。
【0035】本発明に用いられる上記フェノール性水酸
基を有するビニル系重合体としては、共重合体型の構造
を有するものが好ましく、前記一般式[I]〜一般式
[V]でそれぞれ表される構造単位と共重合させる単量
体としては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不飽和オ
フィレン類、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、
p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチレン
類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸
類、例えば、イタコン、マレイン酸、無水マレイン酸等
の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、ア
クリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸
−2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロ
アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モ
ノカルボン酸のエステル類、例えば、アクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えば、ア
クリルアミド等のアミド類、例えば、アクリルアニリ
ド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロアクリル
アニリド、m−メトキシアクリルアニリド等のアニリド
類、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾ
エ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、例え
ば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエー
テル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンク
ロライド、ビニリデンシアナイド、例えば、1−メチル
−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエチレ
ン、1,2−ジメトキシエテレン、1,1−ジメトキシ
カルボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えば、N−ビニルピロール、
N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−
ビニルピロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニ
ル系単量体がある。これらの単量体は、不飽和二重結合
が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
基を有するビニル系重合体としては、共重合体型の構造
を有するものが好ましく、前記一般式[I]〜一般式
[V]でそれぞれ表される構造単位と共重合させる単量
体としては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不飽和オ
フィレン類、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、
p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチレン
類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸
類、例えば、イタコン、マレイン酸、無水マレイン酸等
の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、ア
クリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸
−2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロ
アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モ
ノカルボン酸のエステル類、例えば、アクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えば、ア
クリルアミド等のアミド類、例えば、アクリルアニリ
ド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロアクリル
アニリド、m−メトキシアクリルアニリド等のアニリド
類、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾ
エ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、例え
ば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イ
ソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエー
テル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンク
ロライド、ビニリデンシアナイド、例えば、1−メチル
−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエチレ
ン、1,2−ジメトキシエテレン、1,1−ジメトキシ
カルボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えば、N−ビニルピロール、
N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−
ビニルピロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニ
ル系単量体がある。これらの単量体は、不飽和二重結合
が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
【0036】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。
【0037】これらの単量体は、本発明に用いられる重
合体中にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結
合していてもよい。
合体中にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結
合していてもよい。
【0038】上記フェノール性水酸基を有するビニル系
重合体の感光性組成物中に占める割合は0.5〜70重
量%が好ましい。
重合体の感光性組成物中に占める割合は0.5〜70重
量%が好ましい。
【0039】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又2種以上
を組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又2種以上
を組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
【0040】アルカリ可溶性樹脂を併用する場合、o−
キノンジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合は
5〜60重量%が好ましく、特に好ましくは、10重量
%〜50重量%である。
キノンジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合は
5〜60重量%が好ましく、特に好ましくは、10重量
%〜50重量%である。
【0041】感光性組成物には、露光により可視画像を
形成させるプリントアウト材料を添加することができ
る。プリントアウト材料は露光により酸もしくは遊離基
を生成する化合物と該生成された酸もしくは遊離基と相
互作用することによってその色調を変える有機染料より
成るもので、露光により酸もしくは遊離基を生成する化
合物としては、例えば、特開昭50−36209号公報
に記載のo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハ
ロゲニド、特開昭53−36223号公報に記載のトリ
ハロメチル−2−ピロンやトリハロメチル−トリアジ
ン、特開昭55−6244号公報に記載のo−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子吸引性
置換基を有するフェノール類またはアニリンとのエステ
ル化合物またはアミド化合物、特開昭55−77742
号公報、特開昭57−148784号公報等に記載のハ
ロメチルビニルオキサジアゾール化合物及びジアゾニウ
ム塩等が挙げられる。
形成させるプリントアウト材料を添加することができ
る。プリントアウト材料は露光により酸もしくは遊離基
を生成する化合物と該生成された酸もしくは遊離基と相
互作用することによってその色調を変える有機染料より
成るもので、露光により酸もしくは遊離基を生成する化
合物としては、例えば、特開昭50−36209号公報
に記載のo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハ
ロゲニド、特開昭53−36223号公報に記載のトリ
ハロメチル−2−ピロンやトリハロメチル−トリアジ
ン、特開昭55−6244号公報に記載のo−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子吸引性
置換基を有するフェノール類またはアニリンとのエステ
ル化合物またはアミド化合物、特開昭55−77742
号公報、特開昭57−148784号公報等に記載のハ
ロメチルビニルオキサジアゾール化合物及びジアゾニウ
ム塩等が挙げられる。
【0042】また前記の有機染料としては、ビクトリア
ピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製)、パテ
ントピュアーブルー(住友三国化学(株)製)、オイル
ブルー#603(オリエント化学工業(株)製)、スー
ダンブルーII(BASF製)、クリスタルバイオレッ
ト、マラカイトグリーン、フクシン、メチルバイオレッ
ト、エチルバイオレット、メチルオレンジ、ブリリアン
トグリーン、コンゴーレッド、エオシン、ローダミン6
6等を挙げることができる。
ピュアーブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製)、パテ
ントピュアーブルー(住友三国化学(株)製)、オイル
ブルー#603(オリエント化学工業(株)製)、スー
ダンブルーII(BASF製)、クリスタルバイオレッ
ト、マラカイトグリーン、フクシン、メチルバイオレッ
ト、エチルバイオレット、メチルオレンジ、ブリリアン
トグリーン、コンゴーレッド、エオシン、ローダミン6
6等を挙げることができる。
【0043】また、感光性組成物には、上記の素材の
他、必要に応じて可塑剤、界面活性剤、有機酸、酸無水
物などを添加することができる。
他、必要に応じて可塑剤、界面活性剤、有機酸、酸無水
物などを添加することができる。
【0044】さらに、本発明に用いられる感光性組成物
には、該感光性組成物の感脂性を向上するために、例え
ば、p−tert−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂、p−n−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
あるいはこれらの樹脂がo−キノンジアジド化合物で部
分的にエスチル化されている樹脂などを添加することも
できる。
には、該感光性組成物の感脂性を向上するために、例え
ば、p−tert−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂、p−n−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
あるいはこれらの樹脂がo−キノンジアジド化合物で部
分的にエスチル化されている樹脂などを添加することも
できる。
【0045】本発明の感光層は、これらの各成分よりな
る感光性組成物を溶媒に溶解した塗布液を、支持体上に
塗布し、乾燥することにより形成することができる。
る感光性組成物を溶媒に溶解した塗布液を、支持体上に
塗布し、乾燥することにより形成することができる。
【0046】これら感光性組成物を溶解する際に使用し
得る溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピ
ルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエー
テル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、アセチルアセトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの溶媒は、単独であるいは
2種以上を混合して使用することができる。
得る溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピ
ルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエー
テル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、アセチルアセトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの溶媒は、単独であるいは
2種以上を混合して使用することができる。
【0047】感光性組成物を支持体表面に塗布する際に
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、静電エア
ースプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、静電エア
ースプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。
【0048】塗布量は用途により異るが、例えば、固形
分として0.05g〜5.0g/m2の塗布量が好まし
い。
分として0.05g〜5.0g/m2の塗布量が好まし
い。
【0049】本発明においては、支持体として、陽極酸
化処理を行い、次いで亜硝酸塩水溶液での処理を行った
アルミニウムまたはその合金よりなる支持体が用いられ
る。また、陽極酸化処理に先立ち、支持体の表面を粗面
化しておくことが好ましい。
化処理を行い、次いで亜硝酸塩水溶液での処理を行った
アルミニウムまたはその合金よりなる支持体が用いられ
る。また、陽極酸化処理に先立ち、支持体の表面を粗面
化しておくことが好ましい。
【0050】通常、アルミニウムまたはその合金よりな
る板の表面には圧延油等の油脂成分が付着しているので
これら油脂成分を除去するために脱脂処理が行われる。
る板の表面には圧延油等の油脂成分が付着しているので
これら油脂成分を除去するために脱脂処理が行われる。
【0051】脱脂処理としては、トリクレン、シンナー
等の溶剤を用いる脱脂処理、例えばケロシンとトリエタ
ノールのエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等
が用いられる。また、脱脂のみでは除去できない汚れや
酸化皮膜を除去するためには、濃度1%〜10%の苛性
ソーダ水溶液等のアルカリ溶液に、20℃〜70℃で5
秒〜10分浸漬し、次いで濃度10〜20%の硝酸又は
硫酸等の酸性溶液に10℃〜50℃で5秒〜5分浸漬す
る方法を用いることができる。
等の溶剤を用いる脱脂処理、例えばケロシンとトリエタ
ノールのエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等
が用いられる。また、脱脂のみでは除去できない汚れや
酸化皮膜を除去するためには、濃度1%〜10%の苛性
ソーダ水溶液等のアルカリ溶液に、20℃〜70℃で5
秒〜10分浸漬し、次いで濃度10〜20%の硝酸又は
硫酸等の酸性溶液に10℃〜50℃で5秒〜5分浸漬す
る方法を用いることができる。
【0052】支持体表面の粗面化は、感光層との密着性
を良好にし、かつ、保水性を改善するために行われてお
り、砂目立て処理を行うことにより粗面化することがで
きる。支持体表面の粗面化方法は周知であり、本発明に
おいてはこれらいずれの粗面化方法も用いることができ
る。
を良好にし、かつ、保水性を改善するために行われてお
り、砂目立て処理を行うことにより粗面化することがで
きる。支持体表面の粗面化方法は周知であり、本発明に
おいてはこれらいずれの粗面化方法も用いることができ
る。
【0053】砂目立て処理の方法としては、例えば、機
械的に表面を粗面化する、いわゆる機械的粗面化法と、
電気化学的に表面を粗面化する、いわゆる電気化学的粗
面化法を挙げることができる。機械的粗面化法には、例
えば、ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研
磨等の方法があり、また、電気化学的粗面化法には、例
えば、塩酸または硝酸等を含む電解液中で交流或いは直
流によって電解処理する方法等がある。
械的に表面を粗面化する、いわゆる機械的粗面化法と、
電気化学的に表面を粗面化する、いわゆる電気化学的粗
面化法を挙げることができる。機械的粗面化法には、例
えば、ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研
磨等の方法があり、また、電気化学的粗面化法には、例
えば、塩酸または硝酸等を含む電解液中で交流或いは直
流によって電解処理する方法等がある。
【0054】砂目立て処理により、支持体の表面にスマ
ットが形成されるが、これらスマットは、水洗あるいは
アルカリエッチング等の処理を行うことにより除去する
ことができる。また、スマットの除去には、例えば、特
公昭48−28123号公報に記載されているアルカリ
エッチング法や特開昭53−12739号公報に記載さ
れている硫酸デスマット法も用いることができる。
ットが形成されるが、これらスマットは、水洗あるいは
アルカリエッチング等の処理を行うことにより除去する
ことができる。また、スマットの除去には、例えば、特
公昭48−28123号公報に記載されているアルカリ
エッチング法や特開昭53−12739号公報に記載さ
れている硫酸デスマット法も用いることができる。
【0055】陽極酸化処理は、支持体に酸化被膜を形成
させ、耐摩耗性、耐薬品性、さらには保水性を向上させ
るために行われている。陽極酸化処理には、一般的に
は、硫酸および/またはリン酸等を10〜50%の濃度
で含む水溶液を電解液として電流密度1〜10A/dm2
で電解する方法が好ましく用いられるが、米国特許第
1,412,768号明細書に記載されている硫酸中で
高電流密度で電解する方法や米国特許第3,511,6
61号明細書に記戴されている燐酸を用いて電解する方
法等を用いることもできる。
させ、耐摩耗性、耐薬品性、さらには保水性を向上させ
るために行われている。陽極酸化処理には、一般的に
は、硫酸および/またはリン酸等を10〜50%の濃度
で含む水溶液を電解液として電流密度1〜10A/dm2
で電解する方法が好ましく用いられるが、米国特許第
1,412,768号明細書に記載されている硫酸中で
高電流密度で電解する方法や米国特許第3,511,6
61号明細書に記戴されている燐酸を用いて電解する方
法等を用いることもできる。
【0056】本発明においては、上記前処理に続いて亜
硝酸塩水溶液による処理が施される。
硝酸塩水溶液による処理が施される。
【0057】上記亜硝酸塩水溶液による処理において用
いられる亜硝酸塩の例としては、周期律表のIa、II
a、IIb、IIIb、IVa、IVb、VIa、VIIa、VIII族の
金属の亜硝酸塩または亜硝酸アンモニウムが挙げられ
る。上記金属の亜硝酸塩としては、例えば、LiN
O2、NaNO2、KNO2、Mg(NO2)2、Ca(N
O2)2、Zn(NO2)2、Al(NO2)3、Zr(NO
2)4、Sn(NO2)4、Cr(NO2)3、Co(N
O2)2、Mn(NO2)2、Ni(NO2)2等が好まし
く、特に、アルカリ金属亜硝酸塩が好ましい。このよう
な亜硝酸塩は単独で用いてもよいし、又2種以上を組合
せて用いてもよい。さらに亜硝酸と組合せて用いること
もできる。
いられる亜硝酸塩の例としては、周期律表のIa、II
a、IIb、IIIb、IVa、IVb、VIa、VIIa、VIII族の
金属の亜硝酸塩または亜硝酸アンモニウムが挙げられ
る。上記金属の亜硝酸塩としては、例えば、LiN
O2、NaNO2、KNO2、Mg(NO2)2、Ca(N
O2)2、Zn(NO2)2、Al(NO2)3、Zr(NO
2)4、Sn(NO2)4、Cr(NO2)3、Co(N
O2)2、Mn(NO2)2、Ni(NO2)2等が好まし
く、特に、アルカリ金属亜硝酸塩が好ましい。このよう
な亜硝酸塩は単独で用いてもよいし、又2種以上を組合
せて用いてもよい。さらに亜硝酸と組合せて用いること
もできる。
【0058】上記処理に用いる亜硝酸塩水溶液は、水溶
液中に0.001〜10重量%の亜硝酸塩を含有してい
るものが好ましい。
液中に0.001〜10重量%の亜硝酸塩を含有してい
るものが好ましい。
【0059】支持体の亜硝酸塩水溶液による処理は、室
温〜100℃程度に保った亜硝酸塩水溶液中に処理する
支持体を3〜300秒間浸漬するか、または、支持体に
亜硝酸塩水溶液を塗布して行うのが好ましい。
温〜100℃程度に保った亜硝酸塩水溶液中に処理する
支持体を3〜300秒間浸漬するか、または、支持体に
亜硝酸塩水溶液を塗布して行うのが好ましい。
【0060】さらには、支持体を、70〜95℃に保持
した亜硝酸塩濃度0.1〜2重量%の水溶液に5〜60
秒間浸漬して処理することが好ましい。亜硝酸塩処理の
効果を高めるために処理中に超音波を照射してもよく、
また、処理の前に支持体を80〜95℃の熱水又はアル
カリ水溶液中に浸漬してもよい。
した亜硝酸塩濃度0.1〜2重量%の水溶液に5〜60
秒間浸漬して処理することが好ましい。亜硝酸塩処理の
効果を高めるために処理中に超音波を照射してもよく、
また、処理の前に支持体を80〜95℃の熱水又はアル
カリ水溶液中に浸漬してもよい。
【0061】本発明の感光性平版印刷版は、従来から常
用されている方法により露光、現像することができる。
例えば、線画像、網点画像などを有する透明原画を感光
面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液を用い
て非画像部の感光性層を除去することによりレリーフ像
が得られる。露光に好適な光源としては、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯などが挙げられ、また、現像に使用す
る現像液としては、アルカリ水溶液が好ましく、例え
ば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの水
溶液が挙げられる。このときのアルカリ水溶液の濃度
は、感光性組成物及びアルカリの種類により異るが、概
して0.1〜10重量%の範囲が適当であり、また、ア
ルカリ水溶液には、必要に応じ界面活性剤やアルコール
などのような有機溶媒を加えることもできる。
用されている方法により露光、現像することができる。
例えば、線画像、網点画像などを有する透明原画を感光
面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液を用い
て非画像部の感光性層を除去することによりレリーフ像
が得られる。露光に好適な光源としては、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯などが挙げられ、また、現像に使用す
る現像液としては、アルカリ水溶液が好ましく、例え
ば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの水
溶液が挙げられる。このときのアルカリ水溶液の濃度
は、感光性組成物及びアルカリの種類により異るが、概
して0.1〜10重量%の範囲が適当であり、また、ア
ルカリ水溶液には、必要に応じ界面活性剤やアルコール
などのような有機溶媒を加えることもできる。
【0062】
実施例1 [支持体の作成] 〈支持体Aの作成〉厚さ0.3mmのアルミニウム板(材
質1050、調質H16)を、65℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行
った後水洗した。この脱脂したアルミニウム板を、25
℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間浸漬して中和
した後水洗した。次いで、このアルミニウム板を1.0
重量%の塩酸水溶液中において、温度25℃、電流密度
100A/dm2の条件で交流電流により60秒間電解粗
面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリウ
ム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行った。その
後、20%硫酸溶液中で、温度20℃、電流密度3A/
dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行った。さらに、9
0℃に保たれた0.5重量%の亜硝酸ナトリウム水溶液
中に10秒浸漬してから水洗し、80℃で5分間乾燥
し、支持体Aを作成した。
質1050、調質H16)を、65℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行
った後水洗した。この脱脂したアルミニウム板を、25
℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間浸漬して中和
した後水洗した。次いで、このアルミニウム板を1.0
重量%の塩酸水溶液中において、温度25℃、電流密度
100A/dm2の条件で交流電流により60秒間電解粗
面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリウ
ム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行った。その
後、20%硫酸溶液中で、温度20℃、電流密度3A/
dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行った。さらに、9
0℃に保たれた0.5重量%の亜硝酸ナトリウム水溶液
中に10秒浸漬してから水洗し、80℃で5分間乾燥
し、支持体Aを作成した。
【0063】〈支持体Bの作成〉厚さ0.3mmのアルミ
ニウム板(材質1050、調質H16)を、65℃に保
たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分間
脱脂処理を行った後水洗した。この脱脂したアルミニウ
ム板を、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間
浸漬して中和した後水洗した。次いで、このアルミニウ
ム板を1.0重量%の塩酸水溶液中において、温度25
℃、電流密度100A/dm2の条件で交流電流により6
0秒間電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を
行った。その後、20%硫酸溶液中で、温度20℃、電
流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行っ
た。次いで、30℃の熱水に20秒間浸漬し、80℃で
5分間乾燥し、支持体Bを作成した。
ニウム板(材質1050、調質H16)を、65℃に保
たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分間
脱脂処理を行った後水洗した。この脱脂したアルミニウ
ム板を、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間
浸漬して中和した後水洗した。次いで、このアルミニウ
ム板を1.0重量%の塩酸水溶液中において、温度25
℃、電流密度100A/dm2の条件で交流電流により6
0秒間電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を
行った。その後、20%硫酸溶液中で、温度20℃、電
流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行っ
た。次いで、30℃の熱水に20秒間浸漬し、80℃で
5分間乾燥し、支持体Bを作成した。
【0064】[感光性平版印刷版試料の作成]上記支持
体A及びB上に、下記の感光性組成物塗布液1〜4をワ
イヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥し、感
光性平版印刷版試料1〜5を得た。表1に各試料に用い
られた支持体の種類、感光性組成物塗布液の種類及び化
合物の種類を示す。
体A及びB上に、下記の感光性組成物塗布液1〜4をワ
イヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥し、感
光性平版印刷版試料1〜5を得た。表1に各試料に用い
られた支持体の種類、感光性組成物塗布液の種類及び化
合物の種類を示す。
【0065】 (試料1及び5) 〈感光性組成物塗布液1〉 化合物(I) 0.1g o−キノンジアジド−5−スルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹脂 (重量平均分子量3000)とのエステル(縮合率30%) 1.0g ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が1 0/54/36、重量平均分子量4000) 6.7g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g メチルセロソルフ゛ 100ミリリットル
【0066】 (試料2) 〈感光性組成物塗布液2〉 化合物(II) 0.1g o−キノンジアジド−5−スルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹脂 (重量平均分子量3000)とのエステル(縮合率30%) 1.0g ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が1 0/54/36、重量平均分子量4000) 6.7g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g メチルセロソルフ゛ 100ミリリットル
【0067】 (試料3) 〈感光性組成物塗布液3〉 化合物(III) 0.1g o−キノンジアジド−5−スルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹脂 (重量平均分子量3000)とのエステル(縮合率30%) 1.0g ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が1 0/54/36、重量平均分子量4000) 6.7g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g メチルセロソルフ゛ 100ミリリットル
【0068】 (試料4) 〈感光性組成物塗布液4〉 o−キノンジアジド−5−スルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹脂 (重量平均分子量3000)とのエステル(縮合率30%) 1.0g ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が1 0/54/36、重量平均分子量4000) 6.7g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g メチルセロソルフ゛ 100ミリリットル
【0069】
【化1】
【0070】
【表1】
【0071】得られた平版印刷版試料1〜5のそれぞれ
について、下記評価方法によってクリア段数、硬調性、
耐刷性、ボールペン適性、セロファン粘着テープ適性、
カス、ヘドロの蓄積及びアルミニウムの溶出量を評価し
た。得られた結果を表2に示す。
について、下記評価方法によってクリア段数、硬調性、
耐刷性、ボールペン適性、セロファン粘着テープ適性、
カス、ヘドロの蓄積及びアルミニウムの溶出量を評価し
た。得られた結果を表2に示す。
【0072】[評価方法] 〈クリア段数の評価〉感光性平版印刷版試料に、感度測
定用ステップタブレット(イーストマン・コダック社製
No.2、濃度差0.15ずつで21段階のグレースケ
ール)を密着して、6Kwメタルハライドランプを光源
として使用し、60秒間(真空引き20秒間)照射する
ことにより露光した。次に、この試料をSD−32(コ
ニカ(株)製)現像液を水で5倍に希釈した現像液で2
5℃にて30秒間現像し、平版印刷版を得た。得られた
平版印刷版のグレースケール現像画像から完全に現像さ
れているクリア段数を求めた。この値が大きいほど感度
が優れている。
定用ステップタブレット(イーストマン・コダック社製
No.2、濃度差0.15ずつで21段階のグレースケ
ール)を密着して、6Kwメタルハライドランプを光源
として使用し、60秒間(真空引き20秒間)照射する
ことにより露光した。次に、この試料をSD−32(コ
ニカ(株)製)現像液を水で5倍に希釈した現像液で2
5℃にて30秒間現像し、平版印刷版を得た。得られた
平版印刷版のグレースケール現像画像から完全に現像さ
れているクリア段数を求めた。この値が大きいほど感度
が優れている。
【0073】〈硬調性の評価〉上記クリア段数の評価に
おいて得られた平版印刷版のグレースケール現像画像か
ら完全に現像されていないベタ段数と完全に現像されて
いるクリア段数を求め、〔ベタ段数−クリア段数〕の値
から硬調性を評価した。この値が小さいほど硬調性が優
れている。
おいて得られた平版印刷版のグレースケール現像画像か
ら完全に現像されていないベタ段数と完全に現像されて
いるクリア段数を求め、〔ベタ段数−クリア段数〕の値
から硬調性を評価した。この値が小さいほど硬調性が優
れている。
【0074】〈耐刷性の評価〉上記クリア段数の評価に
おいて得られた平版印刷版を印刷機(ハイデルベルグ社
製印刷機GTO)にかけ、コート紙、印刷インキ(東洋
インキ製造(株)製ハイプラスM紅)及び湿し水(コニ
カ(株)製SEU−3;2.5%)を使用し印刷を行
い、印刷物の画像部のべタ部に着肉不良が現れるかまた
は非画像部にインキが着肉するまで印刷を続け、その時
の印刷枚数を求め、耐刷性を評価した。
おいて得られた平版印刷版を印刷機(ハイデルベルグ社
製印刷機GTO)にかけ、コート紙、印刷インキ(東洋
インキ製造(株)製ハイプラスM紅)及び湿し水(コニ
カ(株)製SEU−3;2.5%)を使用し印刷を行
い、印刷物の画像部のべタ部に着肉不良が現れるかまた
は非画像部にインキが着肉するまで印刷を続け、その時
の印刷枚数を求め、耐刷性を評価した。
【0075】〈ボールペン適性の評価〉感光性平版印刷
版試料にトンボ描画機にてトンボを描き、2分間経過後
現像し、トンボのボールペンによる感光層の侵され方に
よりボールペン適性を評価した。 ○…画線部が全く侵されない ×…画線部が侵され支持体の露出が確認される
版試料にトンボ描画機にてトンボを描き、2分間経過後
現像し、トンボのボールペンによる感光層の侵され方に
よりボールペン適性を評価した。 ○…画線部が全く侵されない ×…画線部が侵され支持体の露出が確認される
【0076】〈セロファン粘着テープ適性の評価〉感光
性平版印刷版試料にセロファン粘着テープを貼って24
時間放置した後、はがして露光、現像する。セロファン
粘着テープの貼ってあった箇所の現像不良の程度により
セロファン粘着テープ適性を評価した。 ○…全く影響無し ×…現像不良が認められる
性平版印刷版試料にセロファン粘着テープを貼って24
時間放置した後、はがして露光、現像する。セロファン
粘着テープの貼ってあった箇所の現像不良の程度により
セロファン粘着テープ適性を評価した。 ○…全く影響無し ×…現像不良が認められる
【0077】〈カス、ヘドロの蓄積及びアルミニウムの
溶出量の評価〉感光性平版印刷版試料を露光し、現像液
1リットル当り5m2の感光性平版印刷版試料を処理した
後、現像液中のカス、ヘドロの蓄積を評価した。 ○…蓄積は認められない ×…蓄積が認められる また、アルミニウムの溶出量をICP発光分析法により
測定した。
溶出量の評価〉感光性平版印刷版試料を露光し、現像液
1リットル当り5m2の感光性平版印刷版試料を処理した
後、現像液中のカス、ヘドロの蓄積を評価した。 ○…蓄積は認められない ×…蓄積が認められる また、アルミニウムの溶出量をICP発光分析法により
測定した。
【0078】
【表2】
【0079】
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版は、感度、硬
調性、耐刷性が良好であり、ボールペン適性、セロファ
ン粘着テープ適性に優れ、さらに、現像液中にカス、ヘ
ドロの蓄積されず現像液の汚染もない。
調性、耐刷性が良好であり、ボールペン適性、セロファ
ン粘着テープ適性に優れ、さらに、現像液中にカス、ヘ
ドロの蓄積されず現像液の汚染もない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松原 真一 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 佐々木 充 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 太田 勝子 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 松尾 史之 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 陽極酸化処理を行い、次いで亜硝酸塩水
溶液での処理を行ったアルミニウムまたはその合金より
なる支持体に、(a)o−キノンジアジド化合物及び
(b)トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンス
ルホン酸またはビスフェニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホン酸を含有する感光層を設けたことを特徴
とする感光性平版印刷版。 - 【請求項2】 陽極酸化処理に先立ち、支持体の表面を
粗面化することを特徴とする請求項1記載の感光性平版
印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26439893A JPH0798499A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | 感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26439893A JPH0798499A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | 感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0798499A true JPH0798499A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17402611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26439893A Pending JPH0798499A (ja) | 1993-09-28 | 1993-09-28 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0798499A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1315044A1 (en) * | 2001-11-27 | 2003-05-28 | Fujitsu Limited | Resist composition and method for manufacturing a semiconductor device using the resist composition |
| WO2008105230A1 (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 平版印刷版材料 |
-
1993
- 1993-09-28 JP JP26439893A patent/JPH0798499A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1315044A1 (en) * | 2001-11-27 | 2003-05-28 | Fujitsu Limited | Resist composition and method for manufacturing a semiconductor device using the resist composition |
| US7465527B2 (en) | 2001-11-27 | 2008-12-16 | Fujitsu Limited | Resist material, resist pattern and forming method for the same, and a semiconductor device and manufacturing method for the same |
| US7723016B2 (en) | 2001-11-27 | 2010-05-25 | Fujitsu Limited | Method for forming resist pattern and method for manufacturing a semiconductor device |
| US8057986B2 (en) | 2001-11-27 | 2011-11-15 | Fujitsu Limited | Method for forming resist pattern and method for manufacturing a semiconductor device |
| WO2008105230A1 (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 平版印刷版材料 |
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