JPH0643628A - レーザ光によるパターン刻印方法 - Google Patents
レーザ光によるパターン刻印方法Info
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- JPH0643628A JPH0643628A JP5061587A JP6158793A JPH0643628A JP H0643628 A JPH0643628 A JP H0643628A JP 5061587 A JP5061587 A JP 5061587A JP 6158793 A JP6158793 A JP 6158793A JP H0643628 A JPH0643628 A JP H0643628A
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- Japan
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- original image
- liquid crystal
- display device
- crystal display
- transmissive liquid
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】レーザ発振器から出射されるビーム径より大き
な透過形液晶表示装置上の領域に所望の拡大原画像を表
示して、損傷なく、交換しないで、即時新しい拡大原画
に入れかえてタイミングよく透過レーザ光として試料面
上に縮小投影照射して除去加工して転写刻印できるよう
にしたパターン刻印方法を提供する。 【構成】記憶部（信号制御部）１１に記憶させた原画情
報を拡大または縮小させて所望の原画を透過形液晶表示
装置１０に駆動表示し、制御信号によりレーザ発振器１
からレーザ光を照射し、これに表示された所望の原画全
域に亘ってパワー密度が１０4Ｗ／ｃｍ2以下でこの面に
対してほぼ垂直に入射させ、１０に表示された所望の原
画を投影レンズで試料７上に縮小投影して除去加工して
刻印することを特徴とするレーザ光によるパターン刻印
する。
な透過形液晶表示装置上の領域に所望の拡大原画像を表
示して、損傷なく、交換しないで、即時新しい拡大原画
に入れかえてタイミングよく透過レーザ光として試料面
上に縮小投影照射して除去加工して転写刻印できるよう
にしたパターン刻印方法を提供する。 【構成】記憶部（信号制御部）１１に記憶させた原画情
報を拡大または縮小させて所望の原画を透過形液晶表示
装置１０に駆動表示し、制御信号によりレーザ発振器１
からレーザ光を照射し、これに表示された所望の原画全
域に亘ってパワー密度が１０4Ｗ／ｃｍ2以下でこの面に
対してほぼ垂直に入射させ、１０に表示された所望の原
画を投影レンズで試料７上に縮小投影して除去加工して
刻印することを特徴とするレーザ光によるパターン刻印
する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光を用いて透過
形液晶表示装置により試料上にパターンを転写刻印する
レーザ光によるパターン刻印方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来技術として、特開昭５０−３５２７
５号公報に記載されたレーザ加工装置が知られていた。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、レーザ発振器から出射されたレーザ光をパターンを
切り抜いたマスク上に照射し、上記パターンを結像レン
ズで被加工物上に結像させて穴あけまたは刻印等の加工
を行うレーザ加工装置であり、パターンを変更する場
合、その都度上記マスクを交換しなければならないとい
う課題を有するものである。また、上記従来技術におい
ては、被加工物上に加工したいと思う拡大パターンをマ
スクに作って、該拡大パターンを大巾に縮小投影して加
工することについても考慮されていないものである。 【０００４】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決すべく、レーザ発振器から出射されるビーム径より大
きな透過形液晶表示装置上の領域に所望の大きな原画像
を表示して、該透過形液晶表示装置を損傷させることな
く、しかも原画を交換することなく、即時新しい原画に
入れかえてこの大きな原画をタイミングよく透過レーザ
光として試料面上に縮小投影照射して除去加工して転写
刻印できるようにしたレーザ光によるパターン刻印方法
を提供するものである。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明は、入力部に入力
された原画情報に基づいて所望の原画を透過形液晶表示
装置に駆動表示し、制御信号によりレーザ発振器からレ
ーザ光を照射し、該照射されるレーザ光を前記透過形液
晶表示装置に表示された所望の原画全域に亘ってパワー
密度が１０4Ｗ／ｃｍ2以下で前記透過形液晶表示装置の
面に対してほぼ垂直に入射させ、前記透過形液晶表示装
置に表示された所望の原画を投影レンズで試料上に縮小
投影して除去加工して刻印することを特徴とするレーザ
光によるパターン刻印方法である。 【０００６】また、本発明は、原画情報を記憶部に記憶
させ、該記憶部に記憶された原画情報を拡大または縮小
させて所望の原画を透過形液晶表示装置に駆動表示し、
制御信号によりレーザ発振器からレーザ光を照射し、該
照射されるレーザ光を前記透過形液晶表示装置に表示さ
れた所望の原画全域に亘ってパワー密度が１０4Ｗ／ｃ
ｍ2以下で前記透過形液晶表示装置の面に対してほぼ垂
直に入射させ、前記透過形液晶表示装置に表示された所
望の原画を投影レンズで試料上に縮小投影して除去加工
して刻印することを特徴とするレーザ光によるパターン
刻印方法である。 【０００７】 【作用】一方、プリント基板、高密度モジュール用配線
パターン、フォトマスク等の各種パターンの形成におい
て、発明者が試みられていた例を図１に示す。図に於い
て、レーザ発振器１から発生したレーザ光又は凹レンズ
３によって拡大され、コリメートレンズ４によって平行
光にされて拡大原画５に照射される。拡大原画５を通過
したレーザ光は投影レンズ６を経て試料７の表面に集光
照射される。この際、投影レンズ６は拡大原画５の像を
試料７の表面に縮小投影されるように配置されており、
試料面には、拡大原画５の縮少像が瞬時にして焼付けら
れる。しかしながら、試料上に加工したいと思う像の拡
大像を一旦原画に作り、これを光路中にセットしてやる
必要があり、像が変るたびに拡大原画を交換してやらな
ければならないという課題を有するものであった。 【０００８】しかし、本発明によれば、上記構成によ
り、原画を交換することなく、レーザ発振器から出射さ
れるビーム径より大きな透過形液晶表示装置上の領域に
所望の大きな原画像を表示して、該透過形液晶表示装置
を損傷させることなく、所望の大きな原画に対応するパ
ターンを試料上に縮小投影して除去加工を施して鮮明で
正確に転写刻印することができる。 【０００９】 【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳述
する。即ち図２は本発明の実施例を示す図である。図に
於いて新しく設けたものは、透過形液晶表示装置１０、
信号制御部１１、撮像管１２、撮像レンズ１４、原画１
３である。透過形液晶表示装置１０は、信号制御部１１
によって制御を受ける。この際の制御は、透過形液晶表
示装置に対してどの画像パターンを表示させるかという
こと、及びその表示時期の設定である。信号制御部１１
によって制御をうけた表示装置１０に対してコリメータ
レンズ４を介して送出されてきた平行レーザ光から入射
する。この表示装置１０に入射したレーザ光は上記画像
パターンに対応する位置を介して該表示装置１０の投影
レンズ６側に出力する。この出力したレーザ光は投影レ
ンズ６を介して試料７に照射し、試料面上に画像パター
ンを形成する。 【００１０】透過形液晶表示装置１０は、従来からよく
知られているように、レーザ光の入射面に対して、偏向
板−ガラス−透明電極−液晶本体部−透明電極−ガラス
とを一体化させて形成させた構造となっている。上記２
つの透明電極は相互にマトリックスになるように配置さ
れている。このマトリックス構成の電極によって表示位
置の設定が行われる。マトリックス電極の選択制御が信
号制御部１１によってなされる。 【００１１】信号制御部１１への表示画像パターンは撮
像管１２で撮像された原画１３である。信号制御部１１
は、撮像管１２から得られる映像信号を一時的にメモリ
に記憶させ、表示モード時に該メモリから読出し表示装
置１０に表示させている。信号制御部１１の具体的構成
図を図３に示す。先ず、撮像管１２からの映像信号を信
号変換部１１０に入力し、メモリ１１２に記憶可能なデ
ータ、例えば２値信号に変換する。この変換された映像
信号を書込み読出し回路１１１を介してメモリ１１２に
送り、アドレスに従ってメモリ１１２に記憶させる。メ
モリ１１２は、１つの表示パターン分の容量を持つもの
であっても、複数の表示パターン分の容量を持つもので
あってもよい。表示に際しては、書込み読出し回路１１
１を読出しモードとしてメモリ１１２を駆動し信号変換
部１１３に必要なデータを読出す。この信号変換部１１
３は、メモリ１１２から読出された２値信号を液晶表示
装置１０を駆動するに必要な信号、即ちＸ，Ｙ信号に変
換する。このＸ，Ｙ信号を表示装置１０に送り、必要な
表示を行う。信号変換部１１０，１１３、読出し書込み
回路１１１は制御回路１１４の制御をうける。この制御
回路１１４での制御は、第１にモード指定、第２にその
タイミング指定である。制御回路１１４は、更に、レー
ザ発振器１の制御も行っている。図３では図２に示すモ
ニタ用テレビ１５への制御については省略している。 【００１２】次に具体的数値事例に基づく説明を行う。
レーザ光のパワー密度は液晶を損傷しない程度に選ぶ。
例えば、１０4Ｗ／ｃｍ2以下になるようにビーム径を約
３００ｍｍとし、レーザ出力は７ＭＷを用いた。透過形
液晶表示装置１０を通過したレーザ光は約１／１００に
縮少投影するための投影レンズ６に入り、液晶表示され
た平面像を試料７の表面に１／１００の寸法で焼付け
た。この時の試料面上の最大パワー密度は約１０8Ｗ／
ｃｍ2に達した。試料７は、ガラス基板上に約１００Å
の金属膜を蒸着したものを使用し、レーザ光が照射する
と、金属膜が除去され、液晶パターンが１／１００の寸
法でそのまま瞬時に転写刻印できた。 【００１３】以上の実施例に於いて、表示パターンの種
類を光路以外で設定できるため極めて汎用性の高いパタ
ーン形成が可能になった。更に、パターンの拡大、縮少
もメモリのデータそのものを拡大、縮少可能なため、汎
用性が高まった。 【００１４】次に、他の実施例を説明する。上記実施例
では、信号制御部１１への入力情報を撮像管１２から与
えたが、この他に図４、図５の如きやり方もある。図４
は、ビデオ信号記録部１６を設け、該ビデオ信号記録部
１６からの情報を原画情報として与えてなるものであ
る。図５は、ビデオ信号を無線方式によって伝達してな
るものであって、ビデオ信号送信器１８から無線により
ビデオ信号をビデオ信号受信器１７に送り、更に信号制
御部１１に原画情報として入力せしめている。但し、こ
の２つの実施例ではメモリ１１２は必ずしも必要としな
い。前者の実施例によれば、パターン情報をビデオ記録
部にストックしておくことにより、必要なパターンを必
要な時に形成することができる利点を持つ。後者の実施
例によれば、パターン形成を行う部所とそのパターン供
給部所とが離れている場合の遠隔操作に好適である。 【００１５】 【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、電
気信号として大きな原画（製品名、製造番号、製造年月
日等）を扱うことができ、原画の入れ換えを容易にし、
しかも透過形液晶表示装置を損傷させることなく、透過
形液晶表示装置に表示された大きな原画を縮小投影して
除去加工して鮮明で正確なパターンを試料上に転写刻印
することができる効果を奏する。
形液晶表示装置により試料上にパターンを転写刻印する
レーザ光によるパターン刻印方法に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来技術として、特開昭５０−３５２７
５号公報に記載されたレーザ加工装置が知られていた。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、レーザ発振器から出射されたレーザ光をパターンを
切り抜いたマスク上に照射し、上記パターンを結像レン
ズで被加工物上に結像させて穴あけまたは刻印等の加工
を行うレーザ加工装置であり、パターンを変更する場
合、その都度上記マスクを交換しなければならないとい
う課題を有するものである。また、上記従来技術におい
ては、被加工物上に加工したいと思う拡大パターンをマ
スクに作って、該拡大パターンを大巾に縮小投影して加
工することについても考慮されていないものである。 【０００４】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決すべく、レーザ発振器から出射されるビーム径より大
きな透過形液晶表示装置上の領域に所望の大きな原画像
を表示して、該透過形液晶表示装置を損傷させることな
く、しかも原画を交換することなく、即時新しい原画に
入れかえてこの大きな原画をタイミングよく透過レーザ
光として試料面上に縮小投影照射して除去加工して転写
刻印できるようにしたレーザ光によるパターン刻印方法
を提供するものである。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明は、入力部に入力
された原画情報に基づいて所望の原画を透過形液晶表示
装置に駆動表示し、制御信号によりレーザ発振器からレ
ーザ光を照射し、該照射されるレーザ光を前記透過形液
晶表示装置に表示された所望の原画全域に亘ってパワー
密度が１０4Ｗ／ｃｍ2以下で前記透過形液晶表示装置の
面に対してほぼ垂直に入射させ、前記透過形液晶表示装
置に表示された所望の原画を投影レンズで試料上に縮小
投影して除去加工して刻印することを特徴とするレーザ
光によるパターン刻印方法である。 【０００６】また、本発明は、原画情報を記憶部に記憶
させ、該記憶部に記憶された原画情報を拡大または縮小
させて所望の原画を透過形液晶表示装置に駆動表示し、
制御信号によりレーザ発振器からレーザ光を照射し、該
照射されるレーザ光を前記透過形液晶表示装置に表示さ
れた所望の原画全域に亘ってパワー密度が１０4Ｗ／ｃ
ｍ2以下で前記透過形液晶表示装置の面に対してほぼ垂
直に入射させ、前記透過形液晶表示装置に表示された所
望の原画を投影レンズで試料上に縮小投影して除去加工
して刻印することを特徴とするレーザ光によるパターン
刻印方法である。 【０００７】 【作用】一方、プリント基板、高密度モジュール用配線
パターン、フォトマスク等の各種パターンの形成におい
て、発明者が試みられていた例を図１に示す。図に於い
て、レーザ発振器１から発生したレーザ光又は凹レンズ
３によって拡大され、コリメートレンズ４によって平行
光にされて拡大原画５に照射される。拡大原画５を通過
したレーザ光は投影レンズ６を経て試料７の表面に集光
照射される。この際、投影レンズ６は拡大原画５の像を
試料７の表面に縮小投影されるように配置されており、
試料面には、拡大原画５の縮少像が瞬時にして焼付けら
れる。しかしながら、試料上に加工したいと思う像の拡
大像を一旦原画に作り、これを光路中にセットしてやる
必要があり、像が変るたびに拡大原画を交換してやらな
ければならないという課題を有するものであった。 【０００８】しかし、本発明によれば、上記構成によ
り、原画を交換することなく、レーザ発振器から出射さ
れるビーム径より大きな透過形液晶表示装置上の領域に
所望の大きな原画像を表示して、該透過形液晶表示装置
を損傷させることなく、所望の大きな原画に対応するパ
ターンを試料上に縮小投影して除去加工を施して鮮明で
正確に転写刻印することができる。 【０００９】 【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳述
する。即ち図２は本発明の実施例を示す図である。図に
於いて新しく設けたものは、透過形液晶表示装置１０、
信号制御部１１、撮像管１２、撮像レンズ１４、原画１
３である。透過形液晶表示装置１０は、信号制御部１１
によって制御を受ける。この際の制御は、透過形液晶表
示装置に対してどの画像パターンを表示させるかという
こと、及びその表示時期の設定である。信号制御部１１
によって制御をうけた表示装置１０に対してコリメータ
レンズ４を介して送出されてきた平行レーザ光から入射
する。この表示装置１０に入射したレーザ光は上記画像
パターンに対応する位置を介して該表示装置１０の投影
レンズ６側に出力する。この出力したレーザ光は投影レ
ンズ６を介して試料７に照射し、試料面上に画像パター
ンを形成する。 【００１０】透過形液晶表示装置１０は、従来からよく
知られているように、レーザ光の入射面に対して、偏向
板−ガラス−透明電極−液晶本体部−透明電極−ガラス
とを一体化させて形成させた構造となっている。上記２
つの透明電極は相互にマトリックスになるように配置さ
れている。このマトリックス構成の電極によって表示位
置の設定が行われる。マトリックス電極の選択制御が信
号制御部１１によってなされる。 【００１１】信号制御部１１への表示画像パターンは撮
像管１２で撮像された原画１３である。信号制御部１１
は、撮像管１２から得られる映像信号を一時的にメモリ
に記憶させ、表示モード時に該メモリから読出し表示装
置１０に表示させている。信号制御部１１の具体的構成
図を図３に示す。先ず、撮像管１２からの映像信号を信
号変換部１１０に入力し、メモリ１１２に記憶可能なデ
ータ、例えば２値信号に変換する。この変換された映像
信号を書込み読出し回路１１１を介してメモリ１１２に
送り、アドレスに従ってメモリ１１２に記憶させる。メ
モリ１１２は、１つの表示パターン分の容量を持つもの
であっても、複数の表示パターン分の容量を持つもので
あってもよい。表示に際しては、書込み読出し回路１１
１を読出しモードとしてメモリ１１２を駆動し信号変換
部１１３に必要なデータを読出す。この信号変換部１１
３は、メモリ１１２から読出された２値信号を液晶表示
装置１０を駆動するに必要な信号、即ちＸ，Ｙ信号に変
換する。このＸ，Ｙ信号を表示装置１０に送り、必要な
表示を行う。信号変換部１１０，１１３、読出し書込み
回路１１１は制御回路１１４の制御をうける。この制御
回路１１４での制御は、第１にモード指定、第２にその
タイミング指定である。制御回路１１４は、更に、レー
ザ発振器１の制御も行っている。図３では図２に示すモ
ニタ用テレビ１５への制御については省略している。 【００１２】次に具体的数値事例に基づく説明を行う。
レーザ光のパワー密度は液晶を損傷しない程度に選ぶ。
例えば、１０4Ｗ／ｃｍ2以下になるようにビーム径を約
３００ｍｍとし、レーザ出力は７ＭＷを用いた。透過形
液晶表示装置１０を通過したレーザ光は約１／１００に
縮少投影するための投影レンズ６に入り、液晶表示され
た平面像を試料７の表面に１／１００の寸法で焼付け
た。この時の試料面上の最大パワー密度は約１０8Ｗ／
ｃｍ2に達した。試料７は、ガラス基板上に約１００Å
の金属膜を蒸着したものを使用し、レーザ光が照射する
と、金属膜が除去され、液晶パターンが１／１００の寸
法でそのまま瞬時に転写刻印できた。 【００１３】以上の実施例に於いて、表示パターンの種
類を光路以外で設定できるため極めて汎用性の高いパタ
ーン形成が可能になった。更に、パターンの拡大、縮少
もメモリのデータそのものを拡大、縮少可能なため、汎
用性が高まった。 【００１４】次に、他の実施例を説明する。上記実施例
では、信号制御部１１への入力情報を撮像管１２から与
えたが、この他に図４、図５の如きやり方もある。図４
は、ビデオ信号記録部１６を設け、該ビデオ信号記録部
１６からの情報を原画情報として与えてなるものであ
る。図５は、ビデオ信号を無線方式によって伝達してな
るものであって、ビデオ信号送信器１８から無線により
ビデオ信号をビデオ信号受信器１７に送り、更に信号制
御部１１に原画情報として入力せしめている。但し、こ
の２つの実施例ではメモリ１１２は必ずしも必要としな
い。前者の実施例によれば、パターン情報をビデオ記録
部にストックしておくことにより、必要なパターンを必
要な時に形成することができる利点を持つ。後者の実施
例によれば、パターン形成を行う部所とそのパターン供
給部所とが離れている場合の遠隔操作に好適である。 【００１５】 【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、電
気信号として大きな原画（製品名、製造番号、製造年月
日等）を扱うことができ、原画の入れ換えを容易にし、
しかも透過形液晶表示装置を損傷させることなく、透過
形液晶表示装置に表示された大きな原画を縮小投影して
除去加工して鮮明で正確なパターンを試料上に転写刻印
することができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来例を示す図である。
【図２】本発明の実施例を示す図である。
【図３】本発明の他の実施例を示す図である。
【図４】本発明の他の実施例を示す図である。
【図５】本発明の他の実施例を示す図である。
【符号の説明】
１…レーザ発振器、 ７…試料、 １０…透過形液晶表
示装置 １１…信号制御部、 １２…撮像管。
示装置 １１…信号制御部、 １２…撮像管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １．入力部に入力された原画情報に基づいて所望の原画
を透過形液晶表示装置に駆動表示し、制御信号によりレ
ーザ発振器からレーザ光を照射し、該照射されるレーザ
光を前記透過形液晶表示装置に表示された所望の原画全
域に亘ってパワー密度が１０4Ｗ／ｃｍ2以下で前記透過
形液晶表示装置の面に対してほぼ垂直に入射させ、前記
透過形液晶表示装置に表示された所望の原画を投影レン
ズで試料上に縮小投影して除去加工して刻印することを
特徴とするレーザ光によるパターン刻印方法。 ２．原画情報を記憶部に記憶させ、該記憶部に記憶され
た原画情報を拡大または縮小させて所望の原画を透過形
液晶表示装置に駆動表示し、制御信号によりレーザ発振
器からレーザ光を照射し、該照射されるレーザ光を前記
透過形液晶表示装置に表示された所望の原画全域に亘っ
てパワー密度が１０4Ｗ／ｃｍ2以下で前記透過形液晶表
示装置の面に対してほぼ垂直に入射させ、前記透過形液
晶表示装置に表示された所望の原画を投影レンズで試料
上に縮小投影して除去加工して刻印することを特徴とす
るレーザ光によるパターン刻印方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6158793A JP2531921B2 (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | レ―ザ光によるパタ―ン刻印方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6158793A JP2531921B2 (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | レ―ザ光によるパタ―ン刻印方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1086803A Division JPH02307A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | パターン形成装置及びその方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0643628A true JPH0643628A (ja) | 1994-02-18 |
| JP2531921B2 JP2531921B2 (ja) | 1996-09-04 |
Family
ID=13175435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6158793A Expired - Lifetime JP2531921B2 (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | レ―ザ光によるパタ―ン刻印方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2531921B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09108881A (ja) * | 1995-10-12 | 1997-04-28 | Sanyo Electric Co Ltd | レーザ加工法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5035275A (ja) * | 1973-02-14 | 1975-04-03 | ||
| JPS5187970A (ja) * | 1975-01-31 | 1976-07-31 | Hitachi Ltd |
-
1993
- 1993-03-22 JP JP6158793A patent/JP2531921B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5035275A (ja) * | 1973-02-14 | 1975-04-03 | ||
| JPS5187970A (ja) * | 1975-01-31 | 1976-07-31 | Hitachi Ltd |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09108881A (ja) * | 1995-10-12 | 1997-04-28 | Sanyo Electric Co Ltd | レーザ加工法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2531921B2 (ja) | 1996-09-04 |
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