JPS6321887B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6321887B2 JPS6321887B2 JP54114161A JP11416179A JPS6321887B2 JP S6321887 B2 JPS6321887 B2 JP S6321887B2 JP 54114161 A JP54114161 A JP 54114161A JP 11416179 A JP11416179 A JP 11416179A JP S6321887 B2 JPS6321887 B2 JP S6321887B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- original image
- display device
- liquid crystal
- crystal display
- transmissive liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はパターン形成装置に関する。
プリント基板、高密度モジユール用配線パター
ン、フオトマスク等の各種パターンの形成を従来
例を第１図に示す。図に於いて、レーザ発振器１
から発生したレーザ光又は凹レンズ３によつて拡
大され、コリメートレンズ４によつて平行光にさ
れて原画５に照射される。原画５を通過したレー
ザ光は投影レンズ６を経て試料７の表面に集光照
射される。この際、投影レンズ６は原画５の像を
試料７の表面に縮小投影されるように配置されて
おり、試料面には、原画５の縮少像が瞬時にして
焼付けられる。
ン、フオトマスク等の各種パターンの形成を従来
例を第１図に示す。図に於いて、レーザ発振器１
から発生したレーザ光又は凹レンズ３によつて拡
大され、コリメートレンズ４によつて平行光にさ
れて原画５に照射される。原画５を通過したレー
ザ光は投影レンズ６を経て試料７の表面に集光照
射される。この際、投影レンズ６は原画５の像を
試料７の表面に縮小投影されるように配置されて
おり、試料面には、原画５の縮少像が瞬時にして
焼付けられる。
以上の従来例では、試料面に加工したいと思う
像の拡大像を一旦原画に作り、これを光路中にセ
ツトしてやる必要があり、像が変ると、そのたび
に原画を交換してやらなければならない。
像の拡大像を一旦原画に作り、これを光路中にセ
ツトしてやる必要があり、像が変ると、そのたび
に原画を交換してやらなければならない。
本発明の目的は、光路中の原画を交換すること
なく、即時新しい原画に入れかえて試料面上に照
射できるようにしたパターン形成装置を提供する
ものである。
なく、即時新しい原画に入れかえて試料面上に照
射できるようにしたパターン形成装置を提供する
ものである。
本発明の要旨は、第１に透過形液晶表示装置を
光路中に設けた点にある。第２にこの透過形液晶
表示装置への表示画像（パターン）の制御を外部
から自動的に行うようにした点にある。以下、本
発明を詳述する。
光路中に設けた点にある。第２にこの透過形液晶
表示装置への表示画像（パターン）の制御を外部
から自動的に行うようにした点にある。以下、本
発明を詳述する。
第２図は本発明の実施例を示す図である。図に
於いて新しく設けたものは、透過形液晶表示装置
１０、信号制御部１１、撮像管１２、撮像レンズ
１４、原画１３である。透過形液晶表示装置１０
は、信号制御部１１によつて制御をうける。この
際の制御は、透過形液晶表示装置に対してどの画
像パターンを表示させるかということ、及びその
表示時期の設定である。信号制御部１１によつて
制御をうけた表示装置１０に対してコリメータレ
ンズ４を介して送出されてきた平行レーザ光から
入射する。この表示装置１０に入射したレーザ光
は上記画像パターンに対応する位置を介して該表
示装置１０の投影レンズ６側に出力する。この出
力したレーザ光は投影レンズ６を介して試料７に
照射し、試料面上に画像パターンを形成する。
於いて新しく設けたものは、透過形液晶表示装置
１０、信号制御部１１、撮像管１２、撮像レンズ
１４、原画１３である。透過形液晶表示装置１０
は、信号制御部１１によつて制御をうける。この
際の制御は、透過形液晶表示装置に対してどの画
像パターンを表示させるかということ、及びその
表示時期の設定である。信号制御部１１によつて
制御をうけた表示装置１０に対してコリメータレ
ンズ４を介して送出されてきた平行レーザ光から
入射する。この表示装置１０に入射したレーザ光
は上記画像パターンに対応する位置を介して該表
示装置１０の投影レンズ６側に出力する。この出
力したレーザ光は投影レンズ６を介して試料７に
照射し、試料面上に画像パターンを形成する。
透過形液晶表示装置１０は、レーザ光の入射面
に対してガラス−透明電極−液晶本体部−透明電
極−ガラス−偏光板を一体化させて形成させた構
造となつている。上記２つの透明電極は相互にマ
トリツクスになるように配置されている。このマ
トリツクス構成の電極によつて表示位置の設定が
行われる。マトリツクス電極の選択制御が信号制
御部１１によつてなされる。
に対してガラス−透明電極−液晶本体部−透明電
極−ガラス−偏光板を一体化させて形成させた構
造となつている。上記２つの透明電極は相互にマ
トリツクスになるように配置されている。このマ
トリツクス構成の電極によつて表示位置の設定が
行われる。マトリツクス電極の選択制御が信号制
御部１１によつてなされる。
信号制御部１１への表示画像パターンは撮像管
１２で撮像された原画１３である。信号制御部１
１は、撮像管１２から得られる映像信号を一時的
にメモリに記憶させ、表示モードに該メモリから
読出し表示装置１０に表示させている。信号制御
１１の具体的構成図を第３図に示す。先ず、撮像
管１２からの映像信号を信号変換部１１０に入力
し、メモリ１１２に記憶可能なデータ、例えば２
値信号に変換する。この変換された映像信号を書
込み読出し回路１１１を介してメモリ１１２に送
り、アドレスに従つてメモリ１１２に記憶させ
る。メモリ１１２は、１つの表示パターン分の容
量を持つものであつても、複数の表示パターン分
の容量を持つものであつてもよい。表示に際して
は、書込み読出し回路１１１を読出しモードとし
てメモリ１１２を駆動し信号変換部１１３に必要
なデータを読出す。この信号変換部１１３は、メ
モリ１１２から読出された２値信号を液晶表示装
置１０を駆動するに必要な信号、即ちＸ、Ｙ信号
に変換する。このＸ、Ｙ信号を表示装置１０に送
り、必要な表示を行う。信号変換部１１０，１１
３、読出し書込み回路１１１は制御回路１１４の
制御をうける。この制御回路１１４での制御は、
第１にモード指定、第２にそのタイミング指定で
ある。制御回路１１４は、更に、レーザ発振器１
の制御も行つている。モータ用テレビ１５はつい
ては省略している。
１２で撮像された原画１３である。信号制御部１
１は、撮像管１２から得られる映像信号を一時的
にメモリに記憶させ、表示モードに該メモリから
読出し表示装置１０に表示させている。信号制御
１１の具体的構成図を第３図に示す。先ず、撮像
管１２からの映像信号を信号変換部１１０に入力
し、メモリ１１２に記憶可能なデータ、例えば２
値信号に変換する。この変換された映像信号を書
込み読出し回路１１１を介してメモリ１１２に送
り、アドレスに従つてメモリ１１２に記憶させ
る。メモリ１１２は、１つの表示パターン分の容
量を持つものであつても、複数の表示パターン分
の容量を持つものであつてもよい。表示に際して
は、書込み読出し回路１１１を読出しモードとし
てメモリ１１２を駆動し信号変換部１１３に必要
なデータを読出す。この信号変換部１１３は、メ
モリ１１２から読出された２値信号を液晶表示装
置１０を駆動するに必要な信号、即ちＸ、Ｙ信号
に変換する。このＸ、Ｙ信号を表示装置１０に送
り、必要な表示を行う。信号変換部１１０，１１
３、読出し書込み回路１１１は制御回路１１４の
制御をうける。この制御回路１１４での制御は、
第１にモード指定、第２にそのタイミング指定で
ある。制御回路１１４は、更に、レーザ発振器１
の制御も行つている。モータ用テレビ１５はつい
ては省略している。
次に具体的数値事例に基づく説明を行う。レー
ザ光のパワー密度は液晶を損傷しない程度に選
ぶ。例えば、104W／cm2以下になるようにビーム
径を約300mmとし、レーザ出力は7MWを用いた。
透過形液晶表示装置５を通過したレーザ光は約1/
１００に縮少投影するための投影レンズ１０に入り、
液晶表示された平面像を試料７の表面に1/100の
寸法で焼付けた。この時の試料面上に最大パワー
密度は約108W／cm2に達した。試料７は、ガラス
基板上に数100Åの金属膜を蒸着したものを使用
し、レーザ光が照射すると、金属膜が除去され、
液晶パターンが1/100の寸法でそのまま瞬時に転
写できた。
ザ光のパワー密度は液晶を損傷しない程度に選
ぶ。例えば、104W／cm2以下になるようにビーム
径を約300mmとし、レーザ出力は7MWを用いた。
透過形液晶表示装置５を通過したレーザ光は約1/
１００に縮少投影するための投影レンズ１０に入り、
液晶表示された平面像を試料７の表面に1/100の
寸法で焼付けた。この時の試料面上に最大パワー
密度は約108W／cm2に達した。試料７は、ガラス
基板上に数100Åの金属膜を蒸着したものを使用
し、レーザ光が照射すると、金属膜が除去され、
液晶パターンが1/100の寸法でそのまま瞬時に転
写できた。
以上の実施例に於いて、表示パターンの種類を
光路以外で設定できるため極めて汎用性の高いパ
ターン形成が可能になつた。更に、パターンの拡
大、縮少もメモリのデータそのものを拡大、縮少
可能なため、汎用性が高まつた。
光路以外で設定できるため極めて汎用性の高いパ
ターン形成が可能になつた。更に、パターンの拡
大、縮少もメモリのデータそのものを拡大、縮少
可能なため、汎用性が高まつた。
次に、他の実施例を説明する。上記実施例で
は、信号制御部１１への入力情報を撮像管１７か
ら与えたが、この他に第４図、第５図の如きやり
方もある。第４図は、ビデオ信号記録部１６を設
け、該ビデオ信号記録部１６からの情報を原画情
報として与えてなるものである。第５図は、ビデ
オ信号を無線方式によつて伝達してなるものであ
つて、ビデオ信号送信器１８から無線によりビデ
オ信号をビデオ信号受信器１７に送り、更に信号
制御部１１に原画情報として入力せしめている。
但し、この２つの実施例ではメモリ１１２は必ず
しも必要としない。前者の実施例によれば、パタ
ーン情報をビデオ記録部にストツクしておくこと
により、必要なパターンを必要な時に形成するこ
とができる利点を持つ。後者の実施例によれば、
パターン形成を行う部所とそのパターン供給部所
とが離れている場合の遠隔操作に好適である。
は、信号制御部１１への入力情報を撮像管１７か
ら与えたが、この他に第４図、第５図の如きやり
方もある。第４図は、ビデオ信号記録部１６を設
け、該ビデオ信号記録部１６からの情報を原画情
報として与えてなるものである。第５図は、ビデ
オ信号を無線方式によつて伝達してなるものであ
つて、ビデオ信号送信器１８から無線によりビデ
オ信号をビデオ信号受信器１７に送り、更に信号
制御部１１に原画情報として入力せしめている。
但し、この２つの実施例ではメモリ１１２は必ず
しも必要としない。前者の実施例によれば、パタ
ーン情報をビデオ記録部にストツクしておくこと
により、必要なパターンを必要な時に形成するこ
とができる利点を持つ。後者の実施例によれば、
パターン形成を行う部所とそのパターン供給部所
とが離れている場合の遠隔操作に好適である。
本発明によれば、電気信号として原画を扱うこ
とができるようになつたため、原画の入れ換え、
連続転写加工等の操作が高速に実行できるように
なつた。
とができるようになつたため、原画の入れ換え、
連続転写加工等の操作が高速に実行できるように
なつた。
第１図は従来例図、第２図は本発明の実施例
図、第３図、第４図および第５図は本発明の他の
実施例図である。 １……レーザ発振器、７……試料、１０……透
過形液晶表示装置、１１……信号制御部、１２…
…撮像管。
図、第３図、第４図および第５図は本発明の他の
実施例図である。 １……レーザ発振器、７……試料、１０……透
過形液晶表示装置、１１……信号制御部、１２…
…撮像管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ レーザ発振器と、該発振器のレーザ光が照射
される透過形液晶表示装置と、原画を撮像する撮
像管は、該撮像管で撮像した原画を読出して上記
透過形液晶表示装置を駆動する制御部と、該駆動
によつて上記表示装置から得られる原画対応の透
過レーザ光を投影する投影レンズと、該投影レン
ズの出力光が照射される試料と、より成るパター
ン形成装置。 ２ レーザ発振器と、該発振器のレーザ光が照射
される透過形液晶表示装置と、原画を記録するビ
デオ記録部と、該ビデオ記録部からの原画を読出
して上記透過形液晶表示装置を駆動する制御部
と、該駆動によつて上記表示装置から得られる原
画対応の透過レーザ光を投影する投影レンズと、
該投影レイズの出力光が照射される試料と、より
成るパターン形成装置。 ３ 上記ビデオ記録部は遠隔に設けられており、
この記録部からの原画はビデオ送信器からビデオ
受信器を介して上記制御部に送出されてなる特許
請求の範囲第２項記載のパターン形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11416179A JPS5638888A (en) | 1979-09-07 | 1979-09-07 | Pattern forming method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11416179A JPS5638888A (en) | 1979-09-07 | 1979-09-07 | Pattern forming method |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1086802A Division JPH0259A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | パターン投影装置 |
| JP1086803A Division JPH02307A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | パターン形成装置及びその方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5638888A JPS5638888A (en) | 1981-04-14 |
| JPS6321887B2 true JPS6321887B2 (ja) | 1988-05-10 |
Family
ID=14630681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11416179A Granted JPS5638888A (en) | 1979-09-07 | 1979-09-07 | Pattern forming method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5638888A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59220923A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-12 | Toshiba Corp | 半導体集積回路のパタ−ン形成方法 |
| JPS605685U (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-16 | 東芝テック株式会社 | 振動式電気かみそり |
| JPS63129619A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-02 | Toshiba Corp | パタ−ン露光方法およびパタ−ン露光転写用マスク |
| JP2602266B2 (ja) * | 1987-03-02 | 1997-04-23 | 株式会社日立製作所 | レーザマーカ及びそれを利用したレーザ発振器 |
| JPH01157791A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-06-21 | Komatsu Ltd | レーザ転写処理装置 |
| CH673680A5 (ja) * | 1987-12-21 | 1990-03-30 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
| JP2644865B2 (ja) * | 1988-12-16 | 1997-08-25 | 株式会社日立製作所 | レーザーマーカ |
| JPH02237011A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Mitsubishi Electric Corp | 縮小投影型露光装置用レチクル，縮小投影型露光装置，大規模集積回路製造法及び大規模集積回路 |
| JP2520041B2 (ja) * | 1989-08-31 | 1996-07-31 | 株式会社小松製作所 | レ―ザ印字装置 |
| JP2799080B2 (ja) * | 1991-03-18 | 1998-09-17 | 株式会社日立製作所 | レーザ加工方法とその装置並びに透過型液晶素子、配線パターン欠陥修正方法とその装置 |
| JP2671868B2 (ja) * | 1995-05-29 | 1997-11-05 | 井関農機株式会社 | ロータリ耕耘装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1411063A (en) * | 1973-02-14 | 1975-10-22 | Ciba Geigy Uk Ltd | Polymerisation process |
| JPS515953A (en) * | 1974-07-03 | 1976-01-19 | Nippon Electron Optics Lab | Shiryohyomennikansuru 2 jidenshisosazono kansatsuhohooyobisochi |
| JPS5724987B2 (ja) * | 1975-01-30 | 1982-05-27 | ||
| JPS5322424B2 (ja) * | 1975-01-31 | 1978-07-08 | ||
| JPS5945218B2 (ja) * | 1977-05-04 | 1984-11-05 | 松下電器産業株式会社 | ホトマスク |
-
1979
- 1979-09-07 JP JP11416179A patent/JPS5638888A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5638888A (en) | 1981-04-14 |
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