JPH0674273B2 - イミダゾ−ルスルホンアミド誘導体、製法および除草剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なイミダゾールスルホンアミド誘導体、当
該化合物の製法および当該化合物を有効成分とする除草
剤に関するものである。イネ、小麦、トウモロコシ、大
豆、ワタ、ビート等重要な作物を雑草害から守り増収を
はかる為に除草剤を使用することは欠くことができな
い。特に近年はこれらの有用作物と雑草の混在する耕地
において、作物と雑草の茎葉部へ同時処理しても作物に
対して薬害を示さず雑草のみを選択的に枯殺しうる選択
性除草剤が望まれている。また、環境汚染防止、輸送、
散布の際の経済コスト低減等の観点から、できるだけ低
薬量で高い除草効果をあげる化合物の探索研究が長年に
わたり続けられている。このような特性を有する化合物
のいくつかは選択性除草剤として現在使用されている
が、以前としてこれらの性質を備える新しい化合物の需
要も存在する。

本発明者らは、重要作物に対して選択性のある除草剤を
開発するため長年にわたたる研鑽をつづけ殺草力のより
高い、かつ選択性をもつ化合物を生み出すべく、多くの
化合物についてその除草特性を検討してきた。その結果
前記一般式（Ｉ） 〔式中B,D.R,Q,Tおよびｍは前記と同様の意味を示
す。〕で表されるイミダゾールスルホンアミド誘導体
（以下本発明化合物と称する）が土壌処理，茎葉処理の
いずれの場合にも多くの雑草に対して強い殺草力を有し
かつ重要作物に対して高い安全性を有することを見いだ
して本発明を完成した。一方、本発明化合物は従来の除
草剤に比して非常に低薬量で高い除草活性を示すことか
ら果樹園、非耕地用の除草剤としても有用である。

本発明化合物に構造が類似する先行技術としては、例え
ば特開昭58−162587号公報、特開昭59−1480号公報にイ
ミダゾールスルホニルウレアが開示されているが本発明
化合物のごとくイミダゾールに複素環が置換した化合物
は従来全く知られておらず新規化合物である。

一般式（Ｉ）で表わされる本発明化合物は下記の反応式
１〜６のいずれかを選ぶことにより容易に製造できる。

反応式１ 〔式中、B,D,E,G,Q,R,W¹,mは前記と同様の意味を示
す。〕 すなわち、イミダゾールスルホニル（チオ）イソシアナ
ート誘導体（II）を、充分に乾燥したジオキサン、アセ
トニトリル等の不活性溶媒に溶かし、これに式（III）
で表わされるピリミジン、トリアジンまたはトリアゾー
ル誘導体を添加し、撹拌することにより、一般的に速や
かに反応して本発明化合物の一部である（Ｉ）′が得ら
れる。反応が進行しがたい場合には適当な塩基、例えば
トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ピリジン、
ナトリウムアルコキシド、水素化ナトリウム等の微少量
を添加することにより容易に反応が進行する。

反応式２ 〔式中、B,D,E,G,Q,R,W¹,mは前記と同様の意味を示す。
R²⁹は低級アルキル基またはフェニル基を示す。〕 すなわち、イミダゾールスルホンアミド誘導体（Ｖ）
を、アセトン，メチルエチルケトン，アセトニトリル等
の溶媒中、炭酸カリウム等の塩基の存在下クロルギ酸
（チオ）エステルもしくは炭酸（チオ）エステルと反応
させることにより化合物（IV）を得る。次いでトルエン
等の溶媒中にて化合物（III）と加熱することにより本
発明化合物の一部である（Ｉ）′を得ることができる。

反応式３ 〔式中、B,D,E,G,Q,R,m,R²²,R²³は前記と同様の意味を
示す。〕 反応式４ 〔式中、Az,B,D,E,G,Q,R,W¹,m,R²²,R²³は前記と同様の
意味を示す。〕 反応式５ 〔式中、Az,B,D,E,G,Q,R,mは前記と同様の意味を示
す。〕 すなわち反応式３〜５においては特開昭59−167570号公
報，特開昭60−6654号公報，特開昭60−36467号公報，
特開昭61−60670号公報，特開昭61−60684号公報および
特開昭61−72783号公報記載の方法に準じて本発明化合
物の一部である上記イミダゾールスルホンアミド誘導体
を合成することができる。

反応式６ 〔式中、B,D,E,G,Q,R,W,mは前記と同様の意味を示し、H
alはハロゲン原子を示す。〕 すなわち、1H−イミダゾールスルホニルウレアを適当な
塩基の存在下、Hal−（CHR）_ｍ−Ｑと反応させることに
より本発明化合物の一部である（Ｉ）′を得ることがで
きる。但しｍが０の時、多くの場合Ｑの置換基としてニ
トロ基、CF₃、ハロゲン原子の電子吸引性基を持つこと
が望ましく、Hal−基の反応性の高いいことが必要であ
る。

反応式１および反応式２で用いられる原料のイミダゾー
ルスルホニル（チオ）イソシアナート（II）或いはイミ
ダゾールスルホニル基（チオ）カーバメート誘導体（I
V）は以下に記載する方法を適宜選択してイミダゾール
スルホンアミド（Ｖ）を合成し、さらにヨーロッパ特許
出願公開No87,780号公報及び特開昭55−13266号公報等
に記載されている方法を参考にして合成できる。

本発明に用いられる中間体のイミダゾールスルホンアミ
ドもまた新規化合物でありこれらは以下の反応式７〜11
の方法および特開昭58−162587号公報、特開昭59−1480
号公報等に記載の方法を適宜選択することによって得る
ことができる。

反応式７ 反応式８ 反応式９ 反応式10 反応式11 （ａ） NaNO₂・HCl or NaNO₂・HBr （ｂ） SO₂・Cu塩 （ｃ） NH₄OH or 炭酸アンモニウム （ｄ） Cu塩 （ｅ） NaSH （ｆ） NaOH・NH₄OH/NaOCl （ｇ） 酸化剤 （ｈ） NaSCH₂Ph （ｉ） Cl₂/CH₃CO₂H・H₂O or NaOCl/HCl （ｊ） １）ClSO₃H 2）SOCl₂ or PCl₃ （ｋ） １）BuLi or LiN（ｉ−Pr）_２ ２）SO₂ ３）Ｎ−クロルコハク酸イミド （ｌ） Ｑ−（CHR）_ｍ−Hal/塩基 〔反応式７〜11中、B,D,Q,R,mは前記と同様の意味を示
し、Halはハロゲン原子を示す。〕 イミダゾールスルホンアミド（Ｖ）は反応するイミダゾ
ールスルホニルクロライドをアンモニア水または炭酸ア
ンモニウムと反応させて得るのが通常である。イミダゾ
ール環にスルホニル基を導入するには二酸化イオウ存
在下アミノ基をジアゾニウム分解し、イミダゾールスル
ホニルクロライドを得る、ハロゲン原子等を求核置換
反応によりイミダゾール環にイオウ原子を導入し、場合
によりさらに酸化することによりイミダゾールスルホニ
ルクロライドを得る、塩基を用いてイミダゾールのカ
ルバニオンを生成させ二酸化イオウを作用させ、ついで
ハロゲン化することによってイミダゾールスルホニルク
ロライドを得る、クロルスルホン酸等を用いて親電子
置換反応により直接イミダゾールスルホニルクロライド
を得る、等の方法があげられる。

即ち、 反応式７に従えばアミノイミダゾールを塩酸または
臭化水素酸等のなかで亜硝酸ナトリウム等でジアゾニウ
ム塩とし、銅塩等のジアゾニウム分解に通常用いられる
触媒存在下、二酸化イオウを作用させることで対応する
イミダゾールスルホニルクロライドを得る。これにアン
モニウア水を作用させると目的とするイミダゾールスル
ホンアミド（Ｖ）が得られる。

反応式８に従えば、ハロゲン化イミダゾールを硫化
ソーダ、ベンジルメルカプタンナトリウム塩等で処理す
ることによりイミダゾール環にイオウ原子を導入し、酢
酸／水等の溶媒中塩素で酸化することによりイミダゾー
ルスルホニルクロライドを得ることができる。反応式７
と同様、アンモニア水を作用させると目的とするイミダ
ゾールスルホンアミド（Ｖ）が得られる。中間で得られ
るメルカプトイミダゾールをスルフェンアミドとし、こ
れを酸化することにより目的のイミダゾールスルホンア
ミド（Ｖ）を得ることもできる。出発原料のハロゲン化
イミダゾールは、アミノイミダゾールのジアゾ分解、ヒ
ドロキシイミダゾールとオキシ塩化リン或いはオキシ臭
化リンとの反応或いはブチルリチウム、リチウムジイソ
プロピルアミド等の強塩基を用いてアニオンとしその後
ハロゲン化させることによっても得ることができる。

反応式９に従えばブチルリチウム、リチウムジイソプ
ロピルアミド等の強塩基を用いてイミダゾール環にアニ
オンを生成させ、さらに二酸化イオウ、Ｎ−ハロゲノコ
ハク酸イミドを処理しイミダゾールスルホニルクロライ
ドとしアンモニア水を処理することにより目的とするイ
ミダゾールスルホンアミド（Ｖ）を得ることができる。

反応式10に従えば、クロルスルホン酸で直接イミダ
ゾールスルホニルクロライドを得ることができる。

上記の他、反応式11に従えば、１位に置換基のないイミ
ダゾールスルホンアミドを適当な塩基の存在下、適当な
ハロゲン誘導体Hal−（CHR）_ｍＱ〔式中、Q,R,m,Halは
前記と同様の意味を示す。〕と反応させることにより、
目的とするイミダゾールスルホンアミド（Ｖ）を得るこ
とができる。反応は反応式６に準ずる。反応式９〜11の
反応においては、場合により異性体混合物を生じること
もあるが、再結晶またはカラムクロマトグラフィー等に
より分離し、本発明化合物の中間体として用いることが
できる。上記の反応の出発原料として用いられるイミダ
ゾール類の化学に関する一般的文献には下記のものがあ
る。M.R.グリメット（Grimmett）、アンバンスト・ヘテ
ロサイクリック・ケミストリー（Adv.Heterocycl.Che
m.）12巻104頁1970年,R.C.エルダーフィールド（Elderf
ield）、ヘテロサイクリック・コンパウンズ（Heterocy
clic Compounds）Ｖ巻194頁1957年、ジョーン・ウィリ
ー・アンド・サンズ・インコーポレーテッド，ニューヨ
ーク（Wiley,New York）,K.ショーフィールド（Schofie
ld）、M.R.グリメット（Grimmett）およびB.R.T.ケーネ
（Keene）、ヘテロアロマティック・ナイトロェン・コ
ンパウンズ・ジ・アゾール（Heteroaromatic Nitrogen
Compounds The Azoles）ケンブリッジユニバーシティプ
レス（Cambridge University Press）1976年,M.R.グリ
メット（Grimmett）、コンプリヘンシブ・ヘテロサイク
リック・ケミストリー（Comprehensive Heterocyclic C
hemistry）５巻345頁1984年，パーガモンプレス（Perga
mon Press）。

例えば、メルカプトイミダゾール誘導体に関しては、反
応式12に示すように、R.G.ジョーンズ（Jones）、E.C.
コーンフェルド（Kornfeld）、K.C.マックローリン（Mc
LaughIin）およびR.C.アンダーソン（Anderson）、J.A
m.Chem.Soc.,71巻4000頁1949年中に記載されている方法
に準じて合成することができる。

反応式12 〔式中、Ｑ、Ｒ、R¹¹、ｍは前記と同様の意味を示し、
Ｂ、Ｄはそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル
基を示す。〕 反応式13 〔式中、Ｑ、Ｒ、R¹¹、W¹、ｍ、Halは前記と同様の意味
を示し、Ｂは水素原子、低級アルキル基または低級アル
キルメルカプト基を、Ｄはアルキルカルボニル基、ベン
ゾイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、フェニル
スルホニル基、COOR¹⁴、またはCONR¹⁵R¹⁶を、R¹⁴、
R¹⁵、R¹⁶は前記と同様の意味を示す。〕 反応式14 〔式中、Ｑ、Ｒ、R¹¹、ｍは前記と同様の意味を示し、
Ｂは水素原子または低級アルキル基を、Ｄは水素原子、
アルキルカルボニル基、ベンゾイル基、シアノ基、アル
キルスルホニル基、フェニルスルホニル基、COOR¹⁴また
はCONR¹⁵R¹⁶を、R¹⁴、R¹⁵、R¹⁶は前記と同様の意味を示
す。〕 アミノイミダゾールに関しては、反応式13に示すよう
に、K.ゲワルド（Gewald）およびG.ハインホルド（Hein
hold）、Monatsh.Chem.,107巻1413頁1976年，東独特許1
18,640号公報ならびにA.エデンホッファー（Edenhofe
r）Helv.Chim.Acta.,58巻2192頁1975年中に記載されて
いる方法に準じて合成することにより、各種置換基を有
する４−アミノイミダゾール誘導体を得ることができ
る。また、５−アミノイミダゾールに関しては反応式14
に示すように、D.H.ロビンソン（Robinson）およびG.シ
ョー（Shaw）,J.Chem.Soc.,Perkin Trans.I,1715頁1972
年中に記載されている方法に準じて合成することができ
る。

通常当業者であれば、前記の記載および前述の公知技術
より実験条件等の検討を行うことにより、本発明化合物
の中間体を得ることは可能である。以下に、本発明化合
物及び中間体のイミダゾールスルホンアミドの合成例を
実施例、参考例として具体的に述べるが、本発明はこれ
らに限られるものではない。

参考例１ １−（２−ピリジル）イミダゾール−２−スルホンアミ
ドの合成 （１）１−（２−ピリジル）イミダゾール−２−チオー
ルの合成 ２−ピリジルイソチオシアネート11.1gのエタノール100
ml溶液に、アミノアセトアルデヒドジエチルアセタール
10.0gを加え、加熱還流下40分撹拌した。反応後、溶媒
を減圧留去し、析出した結晶を濾取すると、13.8gのＮ
−2,2−ジエトキシエチル−Ｎ′−（２−ピリジル）−
チオウレア（融点132〜133℃）を得た。得られた結晶に
10％希塩酸120mlを加え、加熱還流下、30分撹拌した。
反応混合物を冷却し、50％水酸化ナトリウム水溶液に
て、pH5〜６とすると、結晶が析出した。析出した結晶
を濾過し、水洗、乾燥すると、8.3gの目的物を得た。融
点162−163℃ （２）１−（２−ピリジル）イミダゾール−２−スルホ
ンアミドの合成 １−（２−ピリジル）イミダゾール−２−チオール5.1
g、無水炭酸カリウム5.2g、塩化ベンジル3.7gおよびア
セトニトリル50mlの混合物を室温にて４時間撹拌した。
反応後、固体を濾別し、濾液を減圧濃縮し、析出した結
晶を濾取すると、２−ベンジルチオ−１−（２−ピリジ
ル）イミダゾール7.1g（融点76〜77℃）を得た。得られ
た結晶7.1g,塩化メチレン50ml、水50mlおよび濃塩酸22g
の混合物に、激しく撹拌しつつ、６％次亜塩素酸ナトリ
ウム液80gを−10〜０℃にて１時間にわたり滴下した。
滴下後、同温度にて30分撹拌した後、有機層を分離し、
水層は塩化メチレンにて抽出した。有機層を合わせ、水
洗後、有機層に氷冷下激しく撹拌しつつ、28％アンモニ
ア水10mlを滴下した。滴下後、室温にて1.5時間撹拌し
反応混合物を減圧下、濃縮乾固した。得られた濃縮残渣
を酢酸エチルにて抽出し、有機層を減圧濃縮すると粗製
の目的物3.0gを得た。得られた粗製物より析出した結晶
を濾取することにより、目的物0.8gを得た。融点187〜1
88℃ 参考例２ ４−エトキシカルボニル−１−（２−ピリジル）イミダ
ゾール−５−スルホンアミドの合成 （１）５−アミノ−４−エトキシカルボニル−１−（２
−ピリジル）イミダゾールの合成 α−アミノシアノ酢酸エチル8.5g、オルトギ酸エチル1
0.8gおよび２−アミノピリジン6.2gをアセトニトリル23
0ml中、1.5時間加熱還流した。反応後、溶媒を減圧留去
し、析出した結晶を濾過し、ベンゼンにて洗浄すること
により、目的物11.0gを得た。融点129−131℃ （２）４−エトキシカルボニル−１−（２−ピリジル）
イミダゾール−５−チオールの合成 ５−アミノ−４−エトキシカルボニル−１−（２−ピリ
ジル）イミダゾール11.0gを濃塩酸60mlに溶解し、−５
℃に冷却した。次に亜硝酸ナトリウム3.9gを水10mlに溶
解し、温度を−５℃以下に保ちながら滴下し、滴下後、
同温度にて0.5時間撹拌した。この溶液を、塩化第一銅
1.0gおよび二酸化イオウ12gを含むクロロホルム溶液150
ml中に５℃前後にて滴下した。室温撹拌１時間後、水30
0mlを加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムに
て抽出し、有機層を合わせ、水洗後脱水、溶媒留去し
て、５−クロロ−４−エトキシカルボニル−１−（２−
ピリジル）イミダゾール11.6gを油状物として得た。

得られた５−クロロイミダゾール誘導体11.6gをジメチ
ルホルムアミド30mlに溶解し、水硫化ナトリウム（70％
含有）9.2gを加え、室温にて１時間撹拌した。反応混合
物を氷水にあけ、不溶物を濾別後、濾液を濃塩酸にて、
弱酸性とし、析出した結晶を濾取、水洗、乾燥すると、
目的物10.6gを得た。融点84〜87℃ （３）４−エトキシカルボニル−１−（２−ピリジル）
イミダゾール−５−スルホンアミドの合成 ４−エトキシカルボニル−１−（２−ピリジル）イミダ
ゾール−５−チオール10.6g、水50ml、クロロホルム100
mlおよび濃塩酸35.5gの混合物に、激しく撹拌しつつ、
次亜塩素酸ナトリウム液（６％含有）128gを−10〜０℃
にて１時間にわたり滴下した。滴下後同温度にて0.5時
間撹拌した後、有機層を分離し、水層はクロロホルムに
て抽出した。有機層を合わせ、水洗後、有機層に28％ア
ンモニア水10mlを氷冷下滴下し、室温にて1.5時間撹拌
した。反応混合物を減圧下、濃縮乾固し、残渣を酢酸エ
チルにて抽出した。溶媒留去後、析出した結晶を濾取す
ることにより、目的物4.1gを得た。融点138〜139℃ 上記参考例で得られた中間体を用いて、本発明化合物の
具体的な合成例を以下に示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

実施例１ Ｎ−〔（4,6−ジメトキシピリジン−２−イル）アミノ
カルボニル〕−１−（２−ピリジル）イミダゾール−２
−スルホンアミドの合成 １−（２−ピリジル）イミダゾール−２−スルホンアミ
ド0.8g、クロルギ酸メチル0.5g、無水炭酸カリウム0.75
gをアセトニトリル15ml中１時間加熱還流した。反応
後、溶媒を減圧留去し、氷水を加え、塩化メチレンにて
抽出した。水層を希塩酸にて弱酸性とし、減圧下濃縮す
ると、結晶が析出した。析出した結晶を濾別し、水洗、
乾燥すると、Ｎ−〔１−（２−ピリジル）イミダゾール
−２−スルホニル〕メチルカーバメート0.46gを得た。
融点154−156℃ 得られたメチルカーバメート0.46gおよび２−アミノ−
4,6−ジメトキシピリミジン0.25gをトルエン30ml中、ト
ルエンを少量ずつ留去しつつ、1.5時間加熱還流した。
反応後、熱時濾過し、濾液より析出した結晶を濾別する
ことにより目的物0.3gを得た。融点146−149℃ 但し、表中の記号はそれぞれ以下の意味を表す。

Me:メチル基、Et:エチル基、 Pr−n:ノルマルプロピル基、Pr−i:イソプロピル基、 Gnは以下の意味を表す。 基、 Ga＝G₁〜G₃₅、Gb＝G₁〜G₆、Gc＝G₁〜G₃ Qnは以下の意味を表す。

J1〜J5は以下の意味を表す。

前記実施例に準じて合成した化合物およびその物性値を
以下に示す。

本発明化合物を除草剤として施用するにあたっては一般
には適当な担体、例えばクレー、タルク、ベントナイ
ト、珪藻土等の固体担体あるいは水、アルコール（メタ
ノール、エタノール等）、芳香族炭化水素類（ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等）、塩素化炭化水素類、エー
テル類、ケトン類、エステル類（酢酸エチル等）、酸ア
ミド類（ジメチルホルムアミド等）などの液体担体と混
用して適用することができ、所望により乳化剤、分散
剤、懸濁剤、浸透剤、展着剤、安定剤などを添加し、液
剤、乳剤、水和剤、粉剤、粒剤等任意の剤型にて実用に
供することができる。

次に本発明化合物を有効成分とする除草剤の配合例を示
すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下
の配合例において「部」は重量部を意味する。

配合例１ 水和剤 本発明化合物 No4 ……20部 ジークライトＡ ……76部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール5039 ……２部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤） ……２部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。

配合例２ 水和剤 本発明化合物 No1 ……40部 ジークライトＡ ……54部 （カオリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名） ソルポール5039 ……２部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） カープレックス（固結防止剤） ……４部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。

配合例３ 乳剤 本発明化合物 No2 ……５部 キシレン ……75部 ジメチルホルムアミド ……15部 ソルポール2680 ……５部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学（株）商品名） 以上を均一に混合して乳剤とする。使用に際しては上記
乳剤を10〜10,000倍に希釈して有効成分量がヘクタール
当たり0.005kg〜10kgになるように散布する。

配合例４ フロアブル 本発明化合物 No4 ……25部 アグリゾールＳ−710 ……10部 （非イオン性界面活性剤：花王（株）商品名） ルノックス1000C ……0.5部 （アニオン性界面活性剤：東邦化学（株）商品名） １％ロドポール水 ………20部 （増粘剤：ローン・プーラン社商品名） 水 ……44.5部 以上を均一に混合してフロアブル剤とする。

配合例５ フロアブル 本発明化合物 No1 ……40部 アグリゾールＳ−710 ……10部 （非イオン性界面活性剤：花王（株）商品名） ルノックス1000C ……0.5部 （アニオン性界面活性剤：東邦化学（株）商品名） １％ロドポール水 ……20部 （増粘剤：ローン・プーラン社商品名） 水 ……29.5部 以上を均一に混合してフロアブル剤とする。

配合例６ 粒剤 本発明化合物 No3 ……１部 ベントナイト ……55部 タルク ……44部 以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて撹拌混
合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤にす
る。

また、本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時に
他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、共力剤などと混合
施用しても良い。

上記の他種の除草剤としては、例えば、ファーム．ケミ
カルズ．ハンドブック（Farm Chemicals Handbook）198
5年版に記載されている化合物などがある。

なお、本発明化合物は畑地、水田、果樹園などの農園芸
分野以外に運動場、空地、線路端など非農耕地における
各種雑草の防除にも適用することができ、その施用薬量
は適用場面、施用時期、施用方法、対象草種、栽培作物
等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘク
タール当たり0.005〜10kg程度が適当である。

次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試
験例において具体的に説明する。

試験例−１ 土壌処理による除草効果試験 縦15cm、横22cm、深さ6cmのプラスチック製箱に殺菌し
た洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、カヤツリグサ、
イヌホーズキ、ハキダメギク、イヌガラシ、稲、トーモ
ロコシ、コムギ、ダイズ、ワタを混播し、約1.5cm覆土
した後有効成分量が所定の割合となるように土壌表面へ
均一に散布した。

散布の際の薬液は、前記配合例の水和剤を水で希釈して
小型スプレーで全面に散布した。薬液散布４週間後に稲
および各種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従
い調査した。

結果は第16表に示す。

本発明化合物のいくつかは、ある種の作物に対して選択
性を有する。

判定基準 ５……殺草率 90％以上（ほとんど完全枯死） ４……殺草率 70〜90％ ３……殺草率 40〜70％ ２……殺草率 20〜40％ １……殺草率 ５〜20％ ０……殺草率 ５％以下（ほとんど効力なし） 但し、上記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重およ
び無処理区の地上生草重を測定して下記の式により求め
たものである。

試験例−２ 茎葉処理による除草効果試験 縦15cm、横22cm、深さ6cmのプラスチック製箱に殺菌し
た洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、カヤツリグサ、
イヌホーズキ、ハキダメギク、イヌガラシ、稲、トーモ
ロコシ、コムギ、ダイズ、ワタ、ビートの種子をそれぞ
れスポット状に播種し約1.5cm覆土した。各種植物が２
〜３葉期に達したとき、有効成分量が所定の割合となる
ように茎葉部へ均一に散布した。散布の際の薬液は、前
記配合例の水和剤を水で希釈して小型スプレーで各種雑
草の茎葉部の全面に散布した。薬液散布４週間後に稲お
よび各種雑草に対する除草効果を試験例−１の判定基準
に従い調査した。結果は第17表に示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 47/42 Ａ 9159−4Ｈ 47/44 9159−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 403/14 ２３３ 7602−4Ｃ // Ｃ０７Ｄ 401/04 ２３３ 7602−4Ｃ 403/04 ２３３ 7602−4Ｃ (Ｃ０７Ｄ 401/14 213:00 8217−4Ｃ 233:00 9360−4Ｃ 239:00） 8615−4Ｃ (Ｃ０７Ｄ 401/04 213:00 8217−4Ｃ 233:00） 9360−4Ｃ (72)発明者 大屋 栄一 千葉県船橋市坪井町722番地１ 日産化学 工業株式会社中央研究所内 (72)発明者 猪飼 隆 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 (72)発明者 縄巻 勤 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 (72)発明者 服部 憲治 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産 化学工業株式会社生物化学研究所内 審査官 池田 正人

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ）： 【式中はＱは を示す。 〔R¹、R²およびR³はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲ
   ン原子、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロゲン化ア
   ルキル基、COOR¹⁰、Ｓ（Ｏ）_ｎR¹¹、NR¹²R¹³、低級アル
   コキシ基、SO₂NR⁸R⁹、SO²OR¹¹または置換されていても
   よいフェニル基（置換基はハロゲン原子、ニトロ基、CO
   OR¹⁰、低級アルコキシ基または低級アルキル基から選ば
   れる。）を示す。 R⁴およびR⁵はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級ハロゲン化アルキル基、ニト
   ロ基、COOR¹⁰、Ｓ（Ｏ）_ｎR¹¹、低級アルコキシ基また
   は置換されていてもよいフェニル基（置換基はハロゲン
   原子、COOR¹⁰、ニトロ基、低級アルコキシ基または低級
   アルキル基から選ばれる。）を示す。 R⁶およびR⁷はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を示す。 R⁸およびR⁹はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル
   基またはフェニル基を示す。 R¹⁰は水素原子または低級アルキル基を示す。 R¹¹は低級アルキル基、ｎは0,1または２の整数を示す。 R¹²およびR¹³はそれぞれ独立して水素原子または低級ア
   ルキル基を示す。〕 ｍは0,1または２の整数を示す。Ｒは水素原子または低
   級アルキル基を示す。 B,Dはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニト
   ロ基、低級アルキル基、アリルアルキル基、低級アルコ
   キシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルケニル
   基、低級アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル
   基、COOR¹⁴、CONR¹⁵R¹⁶、Ｓ（Ｏ）_ｎR¹⁷、シアノ基、NR
   ¹⁸R¹⁹、SO²NR²⁰R²¹、OH、置換されていてもよいベンゾ
   イル基（置換基はハロゲン原子または低級アルキル基か
   ら選ばれる。）または置換されていてもよいフェニル基
   （置換基はハロゲン原子、ニトロ基、COOR¹⁰、低級アル
   コキシ基または低級アルキル基から選ばれる。）を示
   す。 R¹⁴は水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基
   （置換基はOR¹⁰で置換されていてもよい低級アルコキシ
   基、ハロゲン原子、ハロゲン化低級アルコキシ基、シア
   ノ基、フェノキシ基、低級アルコキシカルボニル基、NR
   ¹⁰R¹¹、低級シクロアルキル基、低級アルキルチオ基ま
   たは低級アルキルカルボニル基から選ばれる。）、低級
   アルケニル基、ハロゲン化低級アルケニル基、低級アル
   キニル基、ハロゲン化低級アルキニル基、低級シクロア
   ルキル基またはベンジル基を示す。 R¹⁵は水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を示
   す。R¹⁶は水素原子、低級アルキル基または低級アルコ
   キシ基を示す。 R¹⁷は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル
   基、ハロゲン化アルキル基、低級アルケニルオキシ基ま
   たは低級アルキニルオキシ基を示す。ｎは0,1または２
   の整数を示す。 R¹⁸およびR¹⁹はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキ
   ル基、低級アルキルカルボニル基または低級アルキルス
   ルホニル基を示す。 R²⁰およびR²¹はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキ
   ル基、低級アルケニル基または低級アルキニル基を示
   す。 Ｔは または を示す。 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
   級アルキニル基または低級アルコキシ基を示す。 Ｇは を示す。 〔ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
   シアルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級ハロゲン化
   アルコキシ基、NR²⁴R²⁵、OCH（R¹⁰）COOR¹⁰、COOR¹⁰、
   シクロプロピル基、CH（OR²⁶）_２、低級アルキルチオ基
   または低級ハロゲン化アルキルチオ基を示す。 R²⁴およびR²⁵はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキ
   ル基または低級アルコキシ基を示す。 R²⁶は低級アルキル基を示す。 X¹およびY¹はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基または低級
   アルコキシ基を示す。 X²は低級アルキル基、低級アルキルチオ基または低級ア
   ルコキシ基を、Y²は低級アルキル基を示す。 Ｚは窒素原子またはＣ−R²⁷を示す。 R²⁷は水素原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化アル
   キル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはＹある
   いはY¹と共に酸素原子を含む５員環構造を示す。 X³は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
   シアルキル基またはハロゲン原子を示す。 Y³は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
   子、モノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を
   示す。 Y⁴はシアノ基、CO₂R¹⁰、ニトロ基、Ｓ（Ｏ）_ｎR¹¹、ア
   ルキル基またはハロゲン化アルキル基を示す。 Z¹は窒素原子またはCHを示す。 X⁴およびY⁵はそれぞれ独立して、低級アルキル基または
   低級アルコキシ基を示す。〕 Ｗは酸素原子、硫黄原子またはＮ−R²⁸を示す。 R²⁸は水素原子または低級アルコキシ基を示す。 W¹は酸素原子または硫黄原子を示す。 R²²は低級アルキル基を示す。 Azはハロゲン原子ニトロ基もしくは低級アルキル基でモ
   ノ、ジもしくはトリ置換されていてもよいイミダゾリ
   ル、イミダゾリニル、ピラゾリル、トリアゾリル又はベ
   ンズイミダゾリル基を示す。 Ｊは低級アルキル基または （Q,R,m,BおよびＤは前記と同じ意味を示す。）を示
   す。 R²³は水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ
   基を示す。】 で表わされるイミダゾールスルホンアミド誘導体。
2. 【請求項２】一般式（Ｉ）： 【式中Ｑは を示す。 〔R¹、R²およびR³はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲ
   ン原子、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロゲン化ア
   ルキル基、COOR¹⁰、Ｓ（Ｏ）_ｎR¹¹、NR¹²R¹³、低級アル
   コキシ基、SO₂NR⁸R₂、SO²OR¹¹または置換されていても
   よいフェニル基（置換基はハロゲン原子、ニトロ基、CO
   OR¹⁰、低級アルコキシ基または低級アルキル基から選ば
   れる。）を示す。 R⁴およびR⁵はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級ハロゲン化アルキル基、ニト
   ロ基、COOR¹⁰、Ｓ（Ｏ）_ｎR¹¹、低級アルコキシ基また
   は置換されていてもよいフェニル基（置換基はハロゲン
   原子、COOR¹⁰、ニトロ基、低級アルコキシ基または低級
   アルキル基から選ばれる。）を示す。 R⁶およびR⁷はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を示す。 R⁸およびR⁹はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル
   基またはフェニル基を示す。 R¹⁰は水素原子または低級アルキル基を示す。 R¹¹は低級アルキル基、ｎは0,1または２の整数を示す。 R¹²およびR¹³はそれぞれ独立して水素原子または低級ア
   ルキル基を示す。〕 ｍは0,1または２の整数を示す。Ｒは水素原子または低
   級アルキル基を示す。 B,Dはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニト
   ロ基、低級アルキル基、アリルアルキル基、低級アルコ
   キシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルケニル
   基、低級アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル
   基、COOR¹⁴、CONR¹⁵R¹⁶、Ｓ（Ｏ）_ｎR¹⁷、シアノ基、NR
   ¹⁸R¹⁹、SO₂NR²⁰R²¹、OH、置換されていてもよいベンゾ
   イル基（置換基はハロゲン原子または低級アルキル基か
   ら選ばれる。）または置換されていてもよいフェニル基
   （置換基はハロゲン原子、ニトロ基、COOR¹⁰、低級アル
   コキシ基または低級アルキル基から選ばれる。）を示
   す。 R¹⁴は水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基
   （置換基はOR¹⁰で置換されていてもよい低級アルコキシ
   基、ハロゲン原子、ハロゲン化低級アルコキシ基、シア
   ノ基、フェノキシ基、低級アルコキシカルボニル基、NR
   ¹⁰R¹¹、低級シクロアルキル基、低級アルキルチオ基ま
   たは低級アルキルカルボニル基から選ばれる。）、低級
   アルケニル基、ハロゲン化低級アルケニル基、低級アル
   キニル基、ハロゲン化低級アルキニル基、低級シクロア
   ルキル基またはベンジル基を示す。 R¹⁵は水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を示
   す。R¹⁶は水素原子、低級アルキル基または低級アルコ
   キシ基を示す。 R¹⁷は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル
   基、ハロゲン化アルキル基、低級アルケニルオキシ基ま
   たは低級アルキニルオキシ基を示す。ｎは0,1または２
   の整数を示す。 R¹⁸およびR¹⁹はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキ
   ル基、低級アルキルカルボニル基または低級アルキルス
   ルホニル基を示す。 R²⁰およびR²¹はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキ
   ル基、低級アルケニル基または低級アルキニル基を示
   す。 Ｔは または を示す。 Ｅは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
   級アルキニル基または低級アルコキシ基を示す。 Ｇは を示す。 〔ＸおよびＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
   シアルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級ハロゲン化
   アルコキシ基、NR²⁴R²⁵、OCH（R¹⁰）COOR¹⁰、COOR¹⁰、
   シクロプロピル基、CH（OR²⁶）_２、低級アルキルチオ基
   または低級ハロゲン化アルキルチオ基を示す。 R²⁴およびR²⁵はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキ
   ル基または低級アルコキシ基を示す。 R²⁶は低級アルキル基を示す。 X¹およびY¹はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基または低級
   アルコキシ基を示す。 X²は低級アルキル基、低級アルキルチオ基または低級ア
   ルコキシ基を、Y²は低級アルキル基を示す。 Ｚは窒素原子またはＣ−R²⁷を示す。 R²⁷は水素原子、低級アルキル基、低級ハロゲン化アル
   キル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはＹある
   いはY¹と共に酸素原子を含む５員環構造を示す。 X³は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
   シアルキル基またはハロゲン原子を示す。 Y³は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
   子、モノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を
   示す。 Y⁴はシアノ基、CO₂R¹⁰、ニトロ基、Ｓ（Ｏ）_ｎR¹¹、ア
   ルキル基またはハロゲン化アルキル基を示す。 Z¹は窒素原子またはCHを示す。 X⁴およびY⁵はそれぞれ独立して、低級アルキル基または
   低級アルコキシ基を示す。〕 Ｗは酸素原子、硫黄原子またはＮ−R²⁸を示す。 R²⁸は水素原子または低級アルコキシ基を示す。 W¹は酸素原子または硫黄原子を示す。 R²²は低級アルキル基を示す。 Azはハロゲン原子ニトロ基もしくは低級アルキル基でモ
   ノ、ジもしくは置換されていてもよいイミダゾリル、イ
   ミダゾリニル、ピラゾリル、トリアゾリル又はベンズイ
   ミダゾリル基を示す。 Ｊは低級アルキル基または （Q,R,m,BおよびＤは前記と同じ意味を示す。）を示
   す。 R²³は水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ
   基を示す。】 で表わされるイミダゾールスルホンアミド誘導体の１種
   または２種以上を有効成分として含有することを特徴と
   する除草剤。