JPH07157368A - セラミック原料粉体の製造方法 - Google Patents
セラミック原料粉体の製造方法Info
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- JPH07157368A JPH07157368A JP5302956A JP30295693A JPH07157368A JP H07157368 A JPH07157368 A JP H07157368A JP 5302956 A JP5302956 A JP 5302956A JP 30295693 A JP30295693 A JP 30295693A JP H07157368 A JPH07157368 A JP H07157368A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 セラミック基本組成物の個々の粉体表面に、
特性の改変や向上を目的として添加する金属元素の酸化
物層を均一に形成する。 【構成】 有機溶剤に対して不溶なセラミック基本組成
物粉体を有機溶剤および少なくとも一種類以上の添加金
属元素を含有する有機脂肪酸金属塩化合物とともに混合
してスラリー化し、このスラリーを乾燥させて前記セラ
ミック基本組成物粉体の表面に添加金属元素を含有する
有機脂肪酸金属塩化合物を担持固定させた後、このセラ
ミック基本組成物粉体を仮焼または焼成する。
特性の改変や向上を目的として添加する金属元素の酸化
物層を均一に形成する。 【構成】 有機溶剤に対して不溶なセラミック基本組成
物粉体を有機溶剤および少なくとも一種類以上の添加金
属元素を含有する有機脂肪酸金属塩化合物とともに混合
してスラリー化し、このスラリーを乾燥させて前記セラ
ミック基本組成物粉体の表面に添加金属元素を含有する
有機脂肪酸金属塩化合物を担持固定させた後、このセラ
ミック基本組成物粉体を仮焼または焼成する。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミック原料粉体、
特にセラミック電子部品の材料として有用なセラミック
原料粉体の製造方法に関する。
特にセラミック電子部品の材料として有用なセラミック
原料粉体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、セラミック電子部品を製造する
場合、基本となる磁器組成物、例えば、セラミック誘電
体の基本組成物に種々の元素を添加してその電気特性の
改変や向上を図ることが行われている。この元素の添加
方法としては、セラミック誘電体の基本組成物粉体の個
々の粒子の表面に添加金属元素の化合物を被覆する方法
が採用されている。この具体的な被覆方法を以下に示
す。
場合、基本となる磁器組成物、例えば、セラミック誘電
体の基本組成物に種々の元素を添加してその電気特性の
改変や向上を図ることが行われている。この元素の添加
方法としては、セラミック誘電体の基本組成物粉体の個
々の粒子の表面に添加金属元素の化合物を被覆する方法
が採用されている。この具体的な被覆方法を以下に示
す。
【0003】(1)セラミック誘電体の基本組成物粉体
に添加すべき元素の炭酸塩もしくは酸化物またはそれら
の混合物を添加し、混合粉砕した後、仮焼する方法。
に添加すべき元素の炭酸塩もしくは酸化物またはそれら
の混合物を添加し、混合粉砕した後、仮焼する方法。
【0004】(2)セラミック誘電体の基本組成物粉体
のスラリー中に添加すべき元素のイオンを含む水溶液を
添加し、これに沈殿剤を加えて添加すべき元素のイオン
の沈殿物を生成させ、これを濾過、乾燥させて仮焼する
方法。
のスラリー中に添加すべき元素のイオンを含む水溶液を
添加し、これに沈殿剤を加えて添加すべき元素のイオン
の沈殿物を生成させ、これを濾過、乾燥させて仮焼する
方法。
【0005】(3)セラミック誘電体の基本組成物粉体
に有機バインダおよび添加すべき元素の化合物の溶液を
添加してスラリー化し、これを噴霧乾燥して造粒した
後、仮焼する方法。
に有機バインダおよび添加すべき元素の化合物の溶液を
添加してスラリー化し、これを噴霧乾燥して造粒した
後、仮焼する方法。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、(1)
の乾式法では、セラミック基本組成物粉体に対して複数
の添加金属元素の炭酸塩もしくは酸化物をミクロ的に均
一に分散させることは不可能である。したがって、セラ
ミック基本組成物粉体中で添加金属元素の化合物が偏析
し、セラミック基本組成物粉体の個々の粒子間で元素添
加の効果に差が生じて、目的とする特性を得ることが困
難となり、セラミック電子部品の特性にばらつきが多く
なるという問題点を有していた。
の乾式法では、セラミック基本組成物粉体に対して複数
の添加金属元素の炭酸塩もしくは酸化物をミクロ的に均
一に分散させることは不可能である。したがって、セラ
ミック基本組成物粉体中で添加金属元素の化合物が偏析
し、セラミック基本組成物粉体の個々の粒子間で元素添
加の効果に差が生じて、目的とする特性を得ることが困
難となり、セラミック電子部品の特性にばらつきが多く
なるという問題点を有していた。
【0007】一方、(2)の湿式法は、乾式法に比べて
添加金属元素の分散性が向上するが、十分とはいえず、
しかも、複数の添加金属元素のイオンを一種類の沈殿剤
で共沈させることは困難な場合があった。例えば、S
r,CaおよびMg等は炭酸イオン(CO3 -2)と反応
させて複合炭酸塩として沈殿させることは可能であが、
Ti4+等は炭酸イオンでは、炭酸塩として沈殿させるこ
とは不可能である。また、沈殿剤としてアンモニウム塩
を用いた場合、Zn,Mn,Ni,Co等の元素はアン
ミン錯体を形成して可溶性となり、沈殿物を生成するこ
とができないという問題点を有していた。
添加金属元素の分散性が向上するが、十分とはいえず、
しかも、複数の添加金属元素のイオンを一種類の沈殿剤
で共沈させることは困難な場合があった。例えば、S
r,CaおよびMg等は炭酸イオン(CO3 -2)と反応
させて複合炭酸塩として沈殿させることは可能であが、
Ti4+等は炭酸イオンでは、炭酸塩として沈殿させるこ
とは不可能である。また、沈殿剤としてアンモニウム塩
を用いた場合、Zn,Mn,Ni,Co等の元素はアン
ミン錯体を形成して可溶性となり、沈殿物を生成するこ
とができないという問題点を有していた。
【0008】さらに、(3)の方法は、セラミック基本
組成物粉体を造粒する際、その粒子表面に添加金属元素
のイオンを付着させる方法であるが、スラリー形成時に
共存する陰イオンおよび陽イオンの種類によっては、有
機バインダとの相互作用によりスラリーがゲル化し、添
加金属元素を均一に分散付着させることができなくなる
という問題点を有していた。
組成物粉体を造粒する際、その粒子表面に添加金属元素
のイオンを付着させる方法であるが、スラリー形成時に
共存する陰イオンおよび陽イオンの種類によっては、有
機バインダとの相互作用によりスラリーがゲル化し、添
加金属元素を均一に分散付着させることができなくなる
という問題点を有していた。
【0009】そこで、本発明の目的は、セラミック基本
組成物の個々の粉体表面に、特性の改変や向上を目的と
して添加する金属元素の酸化物層を均一に形成すること
にある。
組成物の個々の粉体表面に、特性の改変や向上を目的と
して添加する金属元素の酸化物層を均一に形成すること
にある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のセラミック原料粉体の製造方法は、有機溶
剤に対して不溶なセラミック基本組成物粉体を有機溶剤
および少なくとも一種類以上の添加金属元素を含有する
有機脂肪酸金属塩化合物とともに混合してスラリー化
し、該スラリーを乾燥させて前記セラミック基本組成物
粉体の表面に前記添加金属元素を含有する有機脂肪酸金
属塩化合物を担持固定させた後、該セラミック基本組成
物粉体を仮焼または焼成することを特徴とする。
め、本発明のセラミック原料粉体の製造方法は、有機溶
剤に対して不溶なセラミック基本組成物粉体を有機溶剤
および少なくとも一種類以上の添加金属元素を含有する
有機脂肪酸金属塩化合物とともに混合してスラリー化
し、該スラリーを乾燥させて前記セラミック基本組成物
粉体の表面に前記添加金属元素を含有する有機脂肪酸金
属塩化合物を担持固定させた後、該セラミック基本組成
物粉体を仮焼または焼成することを特徴とする。
【0011】また、有機脂肪酸金属塩化合物は、有機溶
剤に可溶性で、かつ、一般式(CnH2n+1COO)m M
eで表され(但し、Meは添加金属元素、mは添加金属
元素の価数を示す。)nが5〜20の飽和脂肪酸金属塩
化合物またはシクロ構造を有する脂肪酸金属塩化合物の
群より選ばれた少なくとも一種類以上からなることを特
徴とする。具体的に、有機脂肪酸金属塩化合物として
は、カプリル酸金属塩化合物、カプリン酸金属塩化合
物、ミリスチン酸金属塩化合物、パルミチン酸金属塩化
合物、ステアリン酸金属塩化合物、ナフテン酸金属塩化
合物等があるが、これらに限定されるものではない。
剤に可溶性で、かつ、一般式(CnH2n+1COO)m M
eで表され(但し、Meは添加金属元素、mは添加金属
元素の価数を示す。)nが5〜20の飽和脂肪酸金属塩
化合物またはシクロ構造を有する脂肪酸金属塩化合物の
群より選ばれた少なくとも一種類以上からなることを特
徴とする。具体的に、有機脂肪酸金属塩化合物として
は、カプリル酸金属塩化合物、カプリン酸金属塩化合
物、ミリスチン酸金属塩化合物、パルミチン酸金属塩化
合物、ステアリン酸金属塩化合物、ナフテン酸金属塩化
合物等があるが、これらに限定されるものではない。
【0012】そして、仮焼温度は、添加金属元素を含有
する有機脂肪酸金属塩化合物を酸化し酸化物とする温度
から該添加金属元素がセラミック基本組成物粉体の表面
層において反応し固溶してコアーシェル構造を形成する
温度の間にあることを特徴とする。
する有機脂肪酸金属塩化合物を酸化し酸化物とする温度
から該添加金属元素がセラミック基本組成物粉体の表面
層において反応し固溶してコアーシェル構造を形成する
温度の間にあることを特徴とする。
【0013】さらに、有機脂肪酸金属塩化合物として
は、焼成によりセラミック基本組成物粉体の表面部分と
反応してコアーシェル構造の二層構造を形成する化合
物、仮焼もしくは焼成によりセラミック基本組成物粉体
と反応して均一な固溶体を生成する化合物または仮焼も
しくは焼成によりセラミック原料の焼結助剤となるガラ
ス成分を構成する化合物が好ましい。
は、焼成によりセラミック基本組成物粉体の表面部分と
反応してコアーシェル構造の二層構造を形成する化合
物、仮焼もしくは焼成によりセラミック基本組成物粉体
と反応して均一な固溶体を生成する化合物または仮焼も
しくは焼成によりセラミック原料の焼結助剤となるガラ
ス成分を構成する化合物が好ましい。
【0014】そして、有機溶剤としては、沸点が120
℃以下のものが好適であり、その構成溶剤として一般式
Cn H2n+1OH(但し、n=2〜6)で示されるアルコ
ール等の親水性官能基を有する有機溶剤を含むこともで
きる。即ち、有機溶剤としては、親油性有機溶剤単独ま
たはこれに親水性有機溶剤を含んだ混合系のどちらの有
機溶剤をも用いることが可能である。具体的に、親油性
有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族系またはメチルエチルケトン等のケトン類があ
り、また、親水性有機溶剤としては、エタノール、イソ
プロパノールまたはそれらの混合物等があるが、これら
に限定されるものではない。
℃以下のものが好適であり、その構成溶剤として一般式
Cn H2n+1OH(但し、n=2〜6)で示されるアルコ
ール等の親水性官能基を有する有機溶剤を含むこともで
きる。即ち、有機溶剤としては、親油性有機溶剤単独ま
たはこれに親水性有機溶剤を含んだ混合系のどちらの有
機溶剤をも用いることが可能である。具体的に、親油性
有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族系またはメチルエチルケトン等のケトン類があ
り、また、親水性有機溶剤としては、エタノール、イソ
プロパノールまたはそれらの混合物等があるが、これら
に限定されるものではない。
【0015】
【作用】有機脂肪酸金属塩化合物は、脂肪酸基と金属イ
オンからなる化合物であり、溶媒中においては、陰イオ
ン系界面活性剤として作用する。一方、有機溶媒中にセ
ラミック基本組成物粉体と有機脂肪酸金属塩化合物を混
合分散処理するとき、一般にセラミック基本組成物粉体
の表面には水分が単分子層の状態で存在している。した
がって、混合分散時に、セラミック基本組成物粉体の親
水性を有する表面に有機脂肪酸金属塩化合物の脂肪酸基
サイトが配位した形のミセル構造を形成し、セラミック
基本組成物粉体の分散が向上する。そして、ミセル配位
構造をした外側は親油性であり、この親油基サイトに有
機脂肪酸金属塩化合物が優先的に配位吸着する。したが
って、セラミック基本組成物粉体は、個々の粉体表面に
添加金属元素を含む有機脂肪酸金属塩化合物がコーティ
ングされた形で分散されて、新たに界面活性剤を添加し
なくても、セラミック基本組成物粉体をスラリー中に均
一に分散させることが可能となる。
オンからなる化合物であり、溶媒中においては、陰イオ
ン系界面活性剤として作用する。一方、有機溶媒中にセ
ラミック基本組成物粉体と有機脂肪酸金属塩化合物を混
合分散処理するとき、一般にセラミック基本組成物粉体
の表面には水分が単分子層の状態で存在している。した
がって、混合分散時に、セラミック基本組成物粉体の親
水性を有する表面に有機脂肪酸金属塩化合物の脂肪酸基
サイトが配位した形のミセル構造を形成し、セラミック
基本組成物粉体の分散が向上する。そして、ミセル配位
構造をした外側は親油性であり、この親油基サイトに有
機脂肪酸金属塩化合物が優先的に配位吸着する。したが
って、セラミック基本組成物粉体は、個々の粉体表面に
添加金属元素を含む有機脂肪酸金属塩化合物がコーティ
ングされた形で分散されて、新たに界面活性剤を添加し
なくても、セラミック基本組成物粉体をスラリー中に均
一に分散させることが可能となる。
【0016】このスラリーを噴霧乾燥等の方法で乾燥さ
せると、セラミック基本組成物粉体の粒子表面が添加金
属元素を含有する有機脂肪酸金属塩化合物で均一に担持
固定された状態の乾燥粉体となる。つぎに、この乾燥粉
体を仮焼または焼成すると、添加金属元素を含有する化
合物が金属酸化物となり、セラミック基本組成物粉体の
粒子表面がこの金属酸化物で覆われた形態のセラミック
原料粉体となる。
せると、セラミック基本組成物粉体の粒子表面が添加金
属元素を含有する有機脂肪酸金属塩化合物で均一に担持
固定された状態の乾燥粉体となる。つぎに、この乾燥粉
体を仮焼または焼成すると、添加金属元素を含有する化
合物が金属酸化物となり、セラミック基本組成物粉体の
粒子表面がこの金属酸化物で覆われた形態のセラミック
原料粉体となる。
【0017】
【実施例】以下、本発明のセラミック原料粉体の製造方
法について、その実施例を説明する。 (実施例1)100gのチタン酸バリウム粉体、100
gのトルエン、500gの直径5mmの部分安定化ジル
コニア(PSZ)玉石、0.0193モルのナフテン酸
セリウム、および0.0193モルのノナデカン酸チタ
ンをポリエチレン製ポットに入れ、16時間粉砕分散処
理を行ないスラリーを得た。得られたスラリーをスプレ
ードライ法により乾燥して乾燥粉体を得た。その後、こ
の乾燥粉体を1000℃で仮焼してCeを4.5モル%
添加したチタン酸バリウム粉体を得た。
法について、その実施例を説明する。 (実施例1)100gのチタン酸バリウム粉体、100
gのトルエン、500gの直径5mmの部分安定化ジル
コニア(PSZ)玉石、0.0193モルのナフテン酸
セリウム、および0.0193モルのノナデカン酸チタ
ンをポリエチレン製ポットに入れ、16時間粉砕分散処
理を行ないスラリーを得た。得られたスラリーをスプレ
ードライ法により乾燥して乾燥粉体を得た。その後、こ
の乾燥粉体を1000℃で仮焼してCeを4.5モル%
添加したチタン酸バリウム粉体を得た。
【0018】つぎに、この粉体表面のCeの分布状態を
X線マイクロアナライザー(XMA)によりマッピング
分析を行なったところ、Ceの偏析は認められず、粉体
表面に均一に分散していることが確認できた。
X線マイクロアナライザー(XMA)によりマッピング
分析を行なったところ、Ceの偏析は認められず、粉体
表面に均一に分散していることが確認できた。
【0019】(実施例2)100gのチタン酸バリウム
粉体、100gのトルエン、500gの直径5mmの部
分安定化ジルコニア(PSZ)玉石、酸化コバルト換算
で0.05gのナフテン酸コバルト、酸化ニオブ換算で
2.00gのオクチル酸ニオブ、酸化ネオジウム換算で
0.60gのオクチル酸ネオジウムをポリエチレン製ポ
ットに入れ、16時間粉砕分散処理を行ないスラリーを
得た。得られたスラリーをスプレードライ法で乾燥して
乾燥粉体を得た。その後、この乾燥粉体を1000℃で
仮焼した。この仮焼粉体はチタン酸バリウム粒子を核と
し、その周囲をNb,NdおよびCoの酸化物が層状に
包囲した、コアーシェル構造を有していることが確認で
きた。
粉体、100gのトルエン、500gの直径5mmの部
分安定化ジルコニア(PSZ)玉石、酸化コバルト換算
で0.05gのナフテン酸コバルト、酸化ニオブ換算で
2.00gのオクチル酸ニオブ、酸化ネオジウム換算で
0.60gのオクチル酸ネオジウムをポリエチレン製ポ
ットに入れ、16時間粉砕分散処理を行ないスラリーを
得た。得られたスラリーをスプレードライ法で乾燥して
乾燥粉体を得た。その後、この乾燥粉体を1000℃で
仮焼した。この仮焼粉体はチタン酸バリウム粒子を核と
し、その周囲をNb,NdおよびCoの酸化物が層状に
包囲した、コアーシェル構造を有していることが確認で
きた。
【0020】(実施例3)100gのチタン酸バリウム
粉体、100gのキシレン、500gの直径5mmの部
分安定化ジルコニア(PSZ)玉石、酸化鉛換算で9.
575gのオクチル酸鉛、酸化チタン換算で1.710
gのノナデカン酸チタン、および酸化ジルコニウム換算
で2.637gのオクチル酸ジルコニウムをポリエチレ
ン製ポットに入れ、16時間粉砕分散処理を行ないスラ
リーを得た。得られたスラリーをスプレードライ法で乾
燥して乾燥粉体を得た。その後、この乾燥粉体を700
℃で仮焼した。この仮焼粉体はチタン酸バリウムを核と
し、その周囲をチタン酸ジルコン酸鉛層が包囲したコア
ーシェル構造を有していることが確認できた。
粉体、100gのキシレン、500gの直径5mmの部
分安定化ジルコニア(PSZ)玉石、酸化鉛換算で9.
575gのオクチル酸鉛、酸化チタン換算で1.710
gのノナデカン酸チタン、および酸化ジルコニウム換算
で2.637gのオクチル酸ジルコニウムをポリエチレ
ン製ポットに入れ、16時間粉砕分散処理を行ないスラ
リーを得た。得られたスラリーをスプレードライ法で乾
燥して乾燥粉体を得た。その後、この乾燥粉体を700
℃で仮焼した。この仮焼粉体はチタン酸バリウムを核と
し、その周囲をチタン酸ジルコン酸鉛層が包囲したコア
ーシェル構造を有していることが確認できた。
【0021】つぎに、この乾燥粉体および仮焼粉体につ
いて、その粒子表面のPb,TiおよびZrの分布状態
をX線マイクロアナライザー(XMA)によりマッピン
グ分析を行なったところ、乾燥粉体および仮焼粉体とも
に、これらの元素の偏析は認められず、粉体表面に均一
に分散していることが確認された。また、仮焼粉体につ
いてX線回折(XRD)分析を実施したところ、生成物
はチタン酸ジルコン酸鉛であることが確認された。
いて、その粒子表面のPb,TiおよびZrの分布状態
をX線マイクロアナライザー(XMA)によりマッピン
グ分析を行なったところ、乾燥粉体および仮焼粉体とも
に、これらの元素の偏析は認められず、粉体表面に均一
に分散していることが確認された。また、仮焼粉体につ
いてX線回折(XRD)分析を実施したところ、生成物
はチタン酸ジルコン酸鉛であることが確認された。
【0022】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
セラミック原料粉体の製造方法によれば、セラミック基
本組成物の個々の粉体表面に添加金属元素を含有する有
機脂肪酸金属塩化合物を均一にコーティングすることが
できるため、これを仮焼あるいは焼成することにより、
セラミック基本組成物粉体の表面に添加金属元素の酸化
物層を均一に形成することができる。
セラミック原料粉体の製造方法によれば、セラミック基
本組成物の個々の粉体表面に添加金属元素を含有する有
機脂肪酸金属塩化合物を均一にコーティングすることが
できるため、これを仮焼あるいは焼成することにより、
セラミック基本組成物粉体の表面に添加金属元素の酸化
物層を均一に形成することができる。
【0023】また酸化物を構成する金属を適宜選択をす
ることにより、セラミック基本組成物の個々の粉体に均
一なコアーシェル構造を容易に形成することができる。
ることにより、セラミック基本組成物の個々の粉体に均
一なコアーシェル構造を容易に形成することができる。
Claims (9)
- 【請求項1】 有機溶剤に対して不溶なセラミック基本
組成物粉体を有機溶剤および少なくとも一種類以上の添
加金属元素を含有する有機脂肪酸金属塩化合物とともに
混合してスラリー化し、該スラリーを乾燥させて前記セ
ラミック基本組成物粉体の表面に前記添加金属元素を含
有する有機脂肪酸金属塩化合物を担持固定させた後、該
セラミック基本組成物粉体を仮焼または焼成することを
特徴とするセラミック原料粉体の製造方法。 - 【請求項2】 有機脂肪酸金属塩化合物は、有機溶剤に
可溶性で、かつ、一般式(Cn H2n+1COO)m Meで
表され(但し、Meは添加金属元素、mは添加金属元素
の価数を示す。)nが5〜20の飽和脂肪酸金属塩化合
物またはシクロ構造を有する脂肪酸金属塩化合物の群よ
り選ばれた少なくとも一種類以上からなることを特徴と
する請求項1記載のセラミック原料粉体の製造方法。 - 【請求項3】 仮焼温度は、添加金属元素を含有する有
機脂肪酸金属塩化合物を酸化し酸化物とする温度から該
添加金属元素がセラミック基本組成物粉体の表面層にお
いて反応し固溶してコアーシェル構造を形成する温度の
間にあることを特徴とする請求項1記載のセラミック原
料粉体の製造方法。 - 【請求項4】 有機脂肪酸金属塩化合物は、焼成により
セラミック基本組成物粉体の表面部分と反応し、コアー
シェル構造の二層構造を形成する化合物からなることを
特徴とする請求項1、2または3のいずれかに記載のセ
ラミック原料粉体の製造方法。 - 【請求項5】 有機脂肪酸金属塩化合物は、仮焼または
焼成によりセラミック基本組成物粉体と反応し、均一な
固溶体を生成する化合物からなることを特徴とする請求
項1、2または3のいずれかに記載のセラミック原料粉
体の製造方法。 - 【請求項6】 有機脂肪酸金属塩化合物は、仮焼または
焼成によりセラミック原料の焼結助剤となるガラス成分
を構成する化合物からなることを特徴とする請求項1、
2または3のいずれかに記載のセラミック原料粉体の製
造方法。 - 【請求項7】 有機溶剤は、沸点が120℃以下であっ
て、少なくとも一種類以上の有機溶剤から構成されてい
ることを特徴とする請求項1、2または3のいずれかに
記載のセラミック原料粉体の製造方法。 - 【請求項8】 有機溶剤は、その構成溶剤として、親水
性官能基を有する有機溶剤を含むことを特徴とする請求
項1、2または3のいずれかに記載のセラミック原料粉
体の製造方法。 - 【請求項9】 親水性官能基を有する有機溶剤は、一般
式Cn H2n+1OH(但し、n=2〜6)で示されるアル
コールであることを特徴とする請求項8記載のセラミッ
ク原料粉体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5302956A JPH07157368A (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | セラミック原料粉体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5302956A JPH07157368A (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | セラミック原料粉体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07157368A true JPH07157368A (ja) | 1995-06-20 |
Family
ID=17915180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5302956A Pending JPH07157368A (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | セラミック原料粉体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07157368A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1149573A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-23 | Taiyo Yuden Co Ltd | セラミック複合材料の製造方法 |
| DE19752679A1 (de) * | 1997-11-28 | 1999-07-01 | Philips Patentverwaltung | Herstellung von beschichtetem, dielektrischem Keramikpulver |
-
1993
- 1993-12-02 JP JP5302956A patent/JPH07157368A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1149573A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-23 | Taiyo Yuden Co Ltd | セラミック複合材料の製造方法 |
| DE19752679A1 (de) * | 1997-11-28 | 1999-07-01 | Philips Patentverwaltung | Herstellung von beschichtetem, dielektrischem Keramikpulver |
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