JPH07179460A

JPH07179460A - １，３−オキサジン−４−オン誘導体及びそれを有効成分とする除草剤

Info

Publication number: JPH07179460A
Application number: JP32525193A
Authority: JP
Inventors: Keiichi Hayashizaki; 恵一林崎; Yoshihiro Usui; 義浩臼井; Atsushi Go; 敦郷; Rika Higure; 理加日暮; Miki Furumine; 美樹古峰
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1993-12-22
Filing date: 1993-12-22
Publication date: 1995-07-18

Abstract

(57)【要約】【目的】除草活性を有する新規化合物の創製。【構成】１,３−オキサジン−４−オン誘導体［例え
ば、６−メチル−３−[１−メチル−１−(３,５−ジク
ロロフェニル）エチル]−５−(２−チエニル)−２,３−
ジヒドロ−４Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン］およ
びそれを有効成分とする除草剤。該化合物は、１,３−
ジオキシン−４−オン誘導体とＮ−メチレンアミン類と
の反応により合成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、文献未記載の新規な
１,３−オキサジン−４−オン誘導体及びそれを有効成
分とする除草剤に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】１,３−オキサジン−４−オン誘導体は
除草活性を有することがＷＯ９３/１５０６４明細書に
おいて示されているが、この文献中に記載されている化
合物は５位が複素環基で置換されていない点で、本発明
の化合物と異なっている。また、特開平３−２０４８５
５公報において１−(１−メチル−１−フェニルエチル)
−３−フェニル−２−オン誘導体の除草活性が開示され
ている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
公知の化合物は、除草効果、およびその選択性において
必ずしも充分とは言えないという欠点がある。本発明の
目的は、従来の化合物よりも効果および選択性に優れた
除草活性を有する１.３−オキサジン−４−オン誘導体
およびそれを有効成分として含有する除草剤を提供する
ことにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、５位に複
素環基を持つ新規な１,３−オキサジン−４−オン誘導
体を種々合成すると共にそれらの生理活性を鋭意検討
し、これらの１,３−オキサジン−４−オン誘導体の中
から、有用作物を害する事なく種々の雑草に対して極め
て低薬量で除草活性を発揮するものを見いだし、本発明
を完成した。斯くして本発明によれば、下記一般式
（Ｉ）：

【０００５】

【化３】

【０００６】［式中Ｒ¹は置換されていてもよい複素環
基を、Ｒ²は水素原子または低級アルキル基を、Ｒ³は置
換されていても良いアリール基をそれぞれ示し、Ｒ⁴お
よびＲ⁵は互いに独立して低級アルキル基を示すかまた
は、Ｒ⁴およびＲ⁵が共に結合している根本の炭素と一緒
になり、低級アルキル基の分岐を有していても良い３〜
８員環の炭素環を形成する］で表わされる１,３−オキ
サジン−４−オン誘導体およびそれを有効成分として含
有することを特徴とする除草剤が提供される。次に、本
発明の前記一般式（Ｉ）で表わされる１,３−オキサジ
ン−４−オン誘導体についてさらに詳細に説明する。

【０００７】本発明の前記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵の基の具体例を以下に説明す
る。置換されていてもよい複素環基；ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低
級ハロアルコキシ基または低級アルコキシカルボニル基
で随時置換されていても、あるいはベンゼン環と縮環し
ていてもよい５または６員環の複素環基であり、その具
体例としては、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリ
ジル、２−フリル、３−フリル、２−チエニル、３−チ
エニル、２−ピリミジニル、１−メチル−２−イミダゾ
リル、２−メチル−３−ピラゾリル、２−チアゾリル、
４,６−ジメトキシ−２−ピリミジニル、４,６−ジメチ
ル−２−ピリミジニルまたは４−メチル−６−メトキシ
−２−ピリミジニル基等を挙げることができる。

【０００８】ハロゲン原子；フッ素、塩素、臭素または
ヨウ素原子を挙げることができる。低級アルキル基；例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、第二ブチ
ル、第三ブチル、ｎ−ペンチル、ネオペンチル、第三ペ
ンチルまたはヘキシル基等の如き炭素数１〜６の直鎖ま
たは分岐した低級アルキル基を挙げることができる。低級ハロアルキル基；例えば、ブロモメチル、ジクロロ
メチル、トリフルオロメチル、１−クロロエチル、２−
ヨードエチル、３−クロロプロピル、２−メチル−２−
クロロプロピルまたは２,２,２−トリフルオロエチル基
等の如き、炭素数１〜４の低級ハロアルキル基等を挙げ
ることができる。

【０００９】低級アルコキシ基；例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシまたは
ペントキシ基等の如き、前記低級アルキル基をアルキル
部分として含む低級アルコキシ基等を挙げることができ
る。低級ハロアルコキシ基；例えば、トリフルオロメトキ
シ、ジフルオロメトキシ、クロロジフルオロメトキシ、
２−クロロエトキシ、１,１,２,２−テトラフルオロエ
トキシ、３−クロロプロポキシまたは２,２,３,３,３−
ペンタフルオロプロポキシ基等の如き、上記ハロアルキ
ル基をアルキル部分として含む低級ハロアルコキシ基等
を挙げることができる。低級アルコキシカルボニル基；例えば、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニルまたはイソプロポキシカルボ
ニル基等の如き炭素数２〜７の低級アルコキシカルボニ
ル基等を挙げることができる。

【００１０】置換されていてもよいアリール基；フェニ
ル基またはナフチル基等のアリール基、およびこれらの
アリール基がハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、低級ハロアルキル基または低級ハロアルコキ
シ基等で置換されたものを示し、置換されていても良い
アリール基の具体例として、フェニル、２−ナフチル、
２−フルオロフェニル、３−トルイル、３−(トリフル
オロメチル)フェニル、３−クロロフェニル、３−ニト
ロフェニル、４−クロロ−２−ナフチル、３,５−ジク
ロロフェニル、３,５−ジメトキシフェニル、３,５−ビ
ス(ジフルオロメトキシ)フェニルまたは３,５−ジクロ
ロ−４−メチルフェニル基等を挙げることができる。低級アルキル基の分岐を有していても良い３〜８員環の
炭素環；例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シク
ロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロ
オクタン、２,２−ジメチルシクロプロパンまたは３,５
−ジエチルシクロヘキサン等の炭素環を挙げることがで
きる。

【００１１】また、上記例示に具体的に示されていない
基は、既に挙げた原子及び基から任意に組み合わせて、
或いは一般的に知られた常識に従って選択される。これ
らの置換基の中で好ましいものは、それぞれ、Ｒ¹とし
ては、３−ピリジル基、２−チエニル基または３−チエ
ニル基、Ｒ²としてはメチル基またはエチル基、Ｒ³とし
ては、フェニル基、２−ナフチル基またはオルト位が無
置換の１から３置換のフェニル基、さらに好ましくは、
３−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−クロロフ
ェニル基、３,５−ジクロロフェニル基または３,５−ビ
ス(ジフルオロメトキシ)フェニル基であり、そしてＲ⁴
およびＲ⁵としてはメチル基またはエチル基が好まし
い。これらの基の組み合わせとしては、Ｒ¹が２−チエ
ニル基、３−チエニル基または３−ピリジル基であり、
Ｒ²、Ｒ⁴およびＲ⁵が共にメチル基であり、Ｒ³がフェニ
ル基、オルト位無置換の置換フェニル基または２−ナフ
チル基である組み合わせが好ましく、特に好ましくは、
Ｒ¹が２−チエニル基、３−チエニル基または３−ピリ
ジル基であり、Ｒ²、Ｒ⁴およびＲ⁵が共にメチル基であ
り、Ｒ³が３−クロロフェニル基、３,５−ジクロロフェ
ニル基、３−(トリフルオロメチル)フェニル基または２
−ナフチル基である。前記一般式（Ｉ）で表わされる本
発明の化合物の具体例を下記表１および表２に例示す
る。なお、本明細書の表中で用いる略号の意味は下記の
通りである。 Me；メチル基 Et；エチル基 Pr；プロピ
ル基 iPr；イソプロピル基 Bu；ブチル基 iBu；イソブ
チル基 sBu；sec.-ブチル基 Hex；ヘキシル基 Ph；フェニ
ル基 -；無置換基

【００１２】

【表１】

【００１３】

【表２】

【００１４】

【表３】

【００１５】

【表４】

【００１６】

【表５】

【００１７】

【表６】

【００１８】

【表７】

【００１９】

【表８】

【００２０】

【表９】

【００２１】

【表１０】

【００２２】

【表１１】

【００２３】本発明における前記一般式（Ｉ）の化合物
はいかなる方法によって得られた物でもよいが、例え
ば，下記に示すＡ法またはＢ法等の方法により製造する
ことができる。Ａ法

【００２４】

【化４】

【００２５】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は
前記と同じ意味を示す］

【００２６】一般式（Ｉ）で表される本発明化合物は、
一般式（II）で表わされる化合物と一般式（III）で表
わされる化合物とを、適当な溶媒中または無溶媒で反応
させることにより得ることが出来る。反応温度は、９０
℃から１６０℃もしくは溶媒の沸点の範囲で任意に設定
できる。使用する溶媒としては、原料と反応しないもの
であれば使用し得るが、反応温度を考慮するとトルエ
ン、キシレン、メシチレン等の沸点の高い溶媒が好まし
い。反応時間は、設定条件によって変化するが、通常１
〜２４０分で終了させることができる。一般式（Ｉ）で
表される本発明化合物は、常法によって反応混合物から
単離する事ができ、例えば、再結晶またはカラムクロマ
トグラフィー等により容易に精製することができる。

【００２７】出発原料の一般式（II）および（III）の
化合物はいかなる方法によって得られた物でもよいが、
公知の方法［一般式（II）の化合物については、例え
ば、Chem. Pham. Bull. 31(6) 1896-1901 (1983）、一
般式（III）の化合物については、例えば、米国特許第
2,582,128号明細書参照]、あるいはそれに準ずる製造方
法によって得ることができる。一般式（III）で表され
る化合物は、その置換基によって異なるが、室温付近で
は下記反応式で示される如くその３量体との平衡状態に
あることが多く、両者の混合物として、また場合によっ
ては完全に３量体のみで存在し得る。本明細書において
は、これらの化合物およびその混合物を一般式（III）
で表す。本明細書中におけるＮ−メチレンアミン類は、
単量体のみならず、同時に３量体および３量体と単量体
の混合物をも表わす。

【００２８】

【化５】

【００２９】［式中、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は前記と同じ
意味を示す］Ｂ法

【００３０】

【化６】

【００３１】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は
前記一般式（Ｉ）における定義と同じ意味を示し、Ｘは
ハロゲン原子、Ｍはトリメチルスタニル基、トリブチル
スタニル基またはジヒドロキシボリル基［−B(OH)₂］等
の典型金属原子団をそれぞれ示す］

【００３２】本法は、一般式（IV）で表わされる化合物
と一般式（V）で表わされる化合物とを適当な溶媒中ま
たは無溶媒で、遷移金属錯体を触媒として用いて反応さ
せる方法である。使用する遷移金属錯体は、例えば、テ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（０)、
ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（II）臭化物
または１,１'−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン
パラジウム（II）塩化物等のような単離された錯体でも
よく、また、例えば酢酸パラジウム（II）のような遷移
金属化合物および、例えばトリフェニルホスフィンのよ
うな配位性化合物をそれぞれ別々に添加して反応系内で
生成される錯体でもよい。一般式（IV）で表わされる化
合物と一般式（V）で表わされる化合物との量関係は任
意である。また遷移金属錯体触媒の量も任意で良いが、
通常は反応基質に対して 0.001〜 0.2 モル当量用い
る。

【００３３】反応温度は、−７８℃から１５０℃もしく
は溶媒の沸点の範囲で任意に設定できる。溶媒を使用す
る場合の溶媒としては、原料と反応しないものであれば
特に制限は無いが、トルエン、キシレンまたはメシチレ
ン等の炭化水素溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フランまたはジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；ジ
メチルホルムアミドまたはジメチルスルホキシド等の極
性溶媒等が例示できる。これらの溶媒は、場合によって
は水と混合して、もしくは、例えばトルエンと水のよう
に混じり合わない２層系で用いることもできる。また例
えば、炭酸ナトリウム、燐酸カリウム、炭酸タリウムま
たは水酸化タリウムのような塩基類もしくは塩類を助剤
として用いることもできる。反応時間は、設定条件によ
って変化するが、通常１時間から数日程度で終了させる
ことができる。

【００３４】これら一般式（IV）および（V）の化合物
はそれ自体公知の方法［一般式（IV）の化合物について
は、例えば、特開平4-89485公報、Chem. Pharm. Bull.,
34( 11) (1986) 4577、一般式（V）の化合物について
は、例えば、Journal ofOrganometallic Chemistry, 24
6 (1983) 163-168 参照]、あるいはそれに準ずる製造方
法によって得ることができる。

【００３５】本発明の除草剤は前記一般式（Ｉ）の新規
化合物を有効成分として含有している。本発明の前記化
合物を除草剤として用いる場合には、担体もしくは希釈
剤、添加剤及び補助剤等と公知の手法で混合して、通常
農薬として用いられる製剤形態、例えば、粉剤、粒剤、
水和剤、乳剤、水溶剤またはフロアブル剤等に調製して
使用される。また他の農薬、例えば、殺菌剤、殺虫剤、
殺ダニ剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料および土壌改
良剤等と混合または併用して使用することができる。特
に他の除草剤と混合使用することにより、使用薬量を減
少させ、また省力化をもたらすのみならず、両薬剤の共
力作用による殺草スペクトラムの拡大及び相乗作用によ
る一層高い効果も期待できる。

【００３６】製剤に際して用いられる担体もしくは希釈
剤としては、一般に使用される固体ないしは液体の担体
が挙げられる。固体担体としては、例えば、カオリナイ
ト群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはポリグ
ロスカイト群等で代表されるクレー類；詳しくはパイロ
フイライト、アタパルジャイト、セピオライト、カオリ
ナイト、ベントナイト、バーミキュライト、雲母、タル
ク等；石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう
土、マグネシウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケ
イ酸、合成ケイ酸カルシウム等のその他無機物質；大豆
粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結
晶セルロース等の植物性有機物質；クマロン樹脂、石油
樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレ
ングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガ
ム、ダンマルガム等の合成叉は天然の高分子化合物；カ
ルナウバロウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が
例示できる。

【００３７】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系又はナフテン系炭化水素；キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素；ト
リクロルエチレン、モノクロルベンゼン、オルトクロル
トルエン等の塩素化炭化水素；ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフ
ェノン、イソホロン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ア
ミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレングリ
コールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエ
チル等のエステル類；メタノール、ｎ−ヘキサノール、
エチレングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘ
キサノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；エ
チレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルブチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒、あ
るいは水等が挙げられる。

【００３８】その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆および凍結防止等の目的で界面活性剤
その他の補助剤を使用することもできる。使用される界
面活性剤の例としては、非イオン性、陰イオン性、陽イ
オン性及び両性イオン性のいずれも使用しうるが、通常
は非イオン性及び／又は陰イオン性のものが使用され
る。適当な非イオン性界面活性剤としては、例えば、ラ
ウリルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルア
ルコール、等の高級アルコールにエチレンオキシドを重
合付加させた化合物；ブチルナフトール、オクチルナフ
トール等のアルキルナフトールにエチレンオキシドを重
合付加させた化合物；パルミチン酸、ステアリン酸、オ
レイン酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを重合付加
させた化合物；ソルビタン等の多価アルコールの高級脂
肪酸エステル及びそれにエチレンオキシドを重合付加さ
せた化合物等が挙げられる。

【００３９】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩；スル
ホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、２−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩；イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。更
に、本発明の除草剤には、製剤の性状を改善し、効果を
高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、ニカ
ワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセルロース、
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリ
ビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を併用
することもできる。

【００４０】上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤系
および適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単
独あるいは組み合わせて適宜使用される。このようにし
て得られた各種製剤形における本発明化合物有効成分含
有率は製剤形により種々変化するものであるが、通常
０.１〜９９重量％が適当であり、好ましくは１〜８０
重量％が最も適当である。水和剤の場合は、例えば、有
効成分化合物を通常２５〜９０％含有し、残部は固体担
体及び分散湿潤剤であって、必要に応じて保護コロイド
剤、消泡剤等が加えられる。粒剤の場合は、例えば有効
成分化合物を通常１〜３５重量％含有し、残部は固体担
体及び界面活性剤である。有効成分化合物は固体担体と
均一に混合されているか、あるいは固体担体の表面に均
一に固着または吸着されており、粒の径は約０.２ない
し１.５ｍｍである。乳剤の場合は、例えば有効成分化
合物を通常５〜３０重量％含有しており、これに約５な
いし２０重量％の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であ
り、必要に応じて展着剤及び防錆剤等が加えられる。フ
ロアブル剤の場合は、例えば有効成分化合物を通常５〜
５０重量％含有しており、これに３ないし１０重量％の
分散湿潤剤が含まれ、残部は水であり必要に応じて保護
コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えられる。

【００４１】本発明の前記一般式（Ｉ）の化合物誘導体
は、化合物そのまま、あるいは上述した様な任意の製剤
形態で除草剤として使用することができる。本発明の組
成物は、水田及び畑地等の農耕地並びに非農耕地に生育
する発生前から生育期までの諸雑草に適用できる。その
施用量は有効成分量として１ｈａ当たり、０.１〜１０,
０００ｇ程度、好ましくは１〜５,０００ｇ程度であ
る。またその施用量は、目的とする雑草の種類、生育段
階、施用場所および天候等によって、適宜に選択変更で
きる。以下実施例により、本発明をさらに詳細に説明す
るが、本発明はこれらの実施例により些かも制限される
ものではない。

【００４２】

【実施例】製造例１：６−メチル−３−(１−メチル−１−フェニルエチル)−
５−(２−チエニル)−２,３−ジヒドロ−４Ｈ−１,３−
オキサジン−４−オン（化合物番号２）の製造（Ａ法）２,２,６−トリメチル−５−(２−チエニル)−４Ｈ−
１,３−ジオキシン−４−オン０.６７ｇとＮ−メチレ
ン−１−メチル−１−フェニルエチルアミン０.４９ｇ
との混合物にキシレン５ｍｌを添加し、３０分間加熱
還流して反応させた。反応混合物をシリカゲルクロマト
グラフィーで精製し、標題化合物０.７１ｇ（収率７６
％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.８５（ｓ,６
Ｈ), ２.１０（ｓ,３Ｈ）,５.０２（ｓ,２Ｈ), ６.９２
（ｄｄ,１Ｈ), ６.９９（ｄｄ,１Ｈ), ７.２２−７.４
３（ｍ,７Ｈ）融点；１２９〜１３７℃］

【００４３】製造例２：６−メチル−３−[１−メチル−１−(３−クロロフェニ
ル)エチル]−５−(２−チエニル)−２,３−ジヒドロ−
４Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン（化合物番号４）
の製造（Ａ法）２,２,６−トリメチル−５−(２−チエニル)−４Ｈ−
１,３−ジオキシン−４−オン０.６７ｇとＮ−メチレ
ン−１−メチル−１−(３−クロロフェニル)エチルアミ
ン０.５６ｇとの混合物にキシレン６ｍｌを添加し、
３０分間加熱還流して反応させた。反応混合物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し、標題化合物０.７４
ｇ（収率７３％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.８０（ｓ,６
Ｈ), ２.１２（ｓ,３Ｈ),５.１３（ｓ,２Ｈ), ６.９２
（ｄｄ,Ｊ＝３.３and０.９Ｈｚ,１Ｈ),６.９９（ｄｄ,
Ｊ＝５.２and３.３Ｈｚ,１Ｈ), ７.１８-７.２８（ｍ,
３Ｈ),７.３０（ｄｄ,Ｊ＝５.２and０.９Ｈｚ,１Ｈ),
７.３４（ｂｒｓ,１Ｈ) 融点；６０〜６７℃］

【００４４】製造例３：６−メチル−３−[１−メチル−１−(３,５−ジクロロ
フェニル)エチル]−５−(２−チエニル)−２,３−ジヒ
ドロ−４Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン（化合物番
号５）の製造（Ａ法）２,２,６−トリメチル−５−(２−チエニル)−４Ｈ−
１,３−ジオキシン−４−オン０.２３ｇとＮ−メチレ
ン−１−メチル−１−(３,５−ジクロロフェニル)エチ
ルアミン０.４０ｇとの混合物にキシレン４ｍｌを添
加し、３０分間加熱還流して反応させた。反応混合物を
シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、標題化合物
０.２９ｇ（収率７２％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.７４（ｓ,６
Ｈ), ２.１３（ｓ,３Ｈ),５.２２（ｓ,２Ｈ), ６.９１
（ｄｄ,Ｊ＝３.６and１.２Ｈｚ,１Ｈ),６.９８（ｄｄ,
Ｊ＝５.２and３.６Ｈｚ,１Ｈ), ７.２１（ｓ,３Ｈ),７.
２９（ｄｄ,Ｊ＝５.２and１.２Ｈｚ,１Ｈ) 融点；１２１〜１２４℃］

【００４５】製造例４：６−メチル−３−(１−メチル−１−フェニルエチル)−
５−(３−チエニル)−２,３−ジヒドロ−４Ｈ−１,３−
オキサジン−４−オン（化合物番号２２）の製造（Ａ
法）２,２,６−トリメチル−５−(３−チエニル)−４Ｈ−
１,３−ジオキシン−４−オン０.２２ｇとＮ−メチレ
ン−１−メチル−１−フェニルエチルアミン０.２２ｇ
との混合物にキシレン３ｍｌを添加し、３０分間加熱
還流して反応させた。反応混合物をシリカゲルクロマト
グラフィーで精製し、標題化合物０.２２ｇ（収率７０
％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.８２（ｓ,６
Ｈ), １.９９（ｓ,３Ｈ),５.０６（ｓ,２Ｈ), ７.０８
（ｄｄ,Ｊ＝４.８and１.４Ｈｚ,１Ｈ),７.２３-７.２９
（ｍ,３Ｈ), ７.３１-７.４３（ｍ,４Ｈ) 融点；９６〜１０５℃］

【００４６】製造例５：６−メチル−３−[１−メチル−１−(３,５−ジクロロ
フェニル)エチル]−５−(３−チエニル)−２,３−ジヒ
ドロ−４Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン（化合物番
号２４）の製造（Ａ法）２,２,６−トリメチル−５−(３−チエニル)−４Ｈ−
１,３−ジオキシン−４−オン０.２２ｇとＮ−メチレ
ン−１−メチル−１−(３,５−ジクロロフェニル)エチ
ルアミン０.２２ｇとの混合物にキシレン３ｍｌを添
加し、３０分間加熱還流して反応させた。反応混合物を
シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、標題化合物
０.２２ｇ（収率３５％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.７３（ｓ,６
Ｈ), ２.０２（ｓ,３Ｈ),５.２４（ｓ,２Ｈ), ７.０４
（ｄｄ,Ｊ＝３.９and２.４Ｈｚ,１Ｈ),７.１９-７.２３
（ｍ,３Ｈ), ７.２４-７.２７（ｍ,２Ｈ)］

【００４７】製造例６：５−(２−フリル)−６−メチル−３−(１−メチル−１
−フェニルエチル)−２ ,３−ジヒドロ−４Ｈ−１,３−
オキサジン−４−オン（化合物番号３２）の製造（Ｂ
法）トリブチル(２−フリル)スズ０.８６ｇ、５−ヨード−
６−メチル−３−(１−メチル−１−フェニルエチル)−
２,３−ジヒドロ−４Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン
０.７１ｇ、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
（ＩＩ）塩化物０.０７ｇ、およびテトラヒドロフラン
４ｍｌの混合物を、窒素雰囲気下で５０℃に保ち４８
時間反応させた。溶媒を減圧下留去して得られた混合物
をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、標題化合物
０.４０ｇ（収率６７％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.８３（ｓ,６
Ｈ), ２.１３（ｓ,３Ｈ),５.０４（ｓ,２Ｈ), ６.４０
（ｄｄ,Ｊ＝３.３and１.８Ｈｚ,１Ｈ),６.６６（ｄ,Ｊ
＝３.３,１Ｈ), ７.２０-７.４２（ｍ,６Ｈ) 融点；１２３〜１２６℃］

【００４８】製造例７：５−(２−フリル)−６−メチル−３−[１−メチル−１
−(３−クロロフェニル )エチル]−２,３−ジヒドロ−４
Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン（化合物番号３３）
の製造（Ａ法）５−(２−フリル)−２,２,６−トリメチル−４Ｈ−１,
３−ジオキシン−４−オン０.３１ｇとＮ−メチレン−
１−メチル−１−(３−クロロフェニル)エチルアミン
０.２７ｇとの混合物にキシレン１０ｍｌを添加し、３
０分間加熱還流して反応させた。反応混合物をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製し、標題化合物０.１３ｇ
（収率２６％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.７７（ｓ,６
Ｈ), ２.１５（ｓ,３Ｈ),５.１４（ｓ,２Ｈ), ６.３９
（ｄｄ,Ｊ＝３.３and１.９Ｈｚ,１Ｈ),６.６４（ｄｄ,
Ｊ＝３.３and０.７Ｈｚ,１Ｈ), ７.１７-７.２８（ｍ,
３Ｈ),７.３２-７.３５（ｍ,１Ｈ), ７.３９（ｄｄ,Ｊ
＝０.７and１.９Ｈｚ,１Ｈ)］

【００４９】製造例８：５−(２−フリル)−６−メチル−３−[１−メチル−１
−(３,５−ジクロロフェニル)エチル]−２,３−ジヒド
ロ−４Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン（化合物番号
３４）の製造（Ｂ法）トリブチル(２−フリル)スズ０.７１ｇ、５−ヨード−
６−メチル−３−[１−メチル−１−(３,５−ジクロロ
フェニル)エチル]−２,３−ジヒドロ−４Ｈ−１,３−オ
キサジン−４−オン０.６４ｇ、ビス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム（ＩＩ）塩化物０.０５３ｇ、お
よびテトラヒドロフラン３ｍｌの混合物を窒素雰囲気
下で５０℃に保ち４８時間反応させた。溶媒を減圧下留
去して得られた混合物をシリカゲルクロマトグラフィー
で精製し、標題化合物０.２８ｇ（収率５１％）を得
た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.７３（ｓ,６
Ｈ), ２.１７（ｓ,３Ｈ),５.２２（ｓ,２Ｈ), ６.４０
（ｄｄ,Ｊ＝３.３and１.７Ｈｚ,１Ｈ),６.６２（ｄ,Ｊ
＝３.３,１Ｈ), ７.２１（ｓ,３Ｈ),７.３９（ｄ,Ｊ＝
１.７,１Ｈ) 融点；１４４〜１４８℃］

【００５０】製造例９：６−メチル−３−(１−メチル−１−フェニルエチル)−
５−(３−ピリジル)−２,３−ジヒドロ−４Ｈ−１,３−
オキサジン−４−オン（化合物番号４６）の製造（Ａ
法）２,２,６−トリメチル−５−(３−ピリジル)−４Ｈ−
１,３−ジオキシン−４−オン０.２２ｇとＮ−メチレ
ン−１−メチル−１−フェニルエチルアミン０.２７ｇ
との混合物にキシレン５ｍｌを添加し、３０分間加熱
還流して反応させた。反応混合物をシリカゲルクロマト
グラフィーで精製し、標題化合物０.１４ｇ（収率４５
％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.８２（ｓ,６
Ｈ), １.９３（ｓ,３Ｈ),５.１３(ｓ,２Ｈ), ７.２０-
７.２８(ｍ,２Ｈ), ７.３２-７.４４(ｍ,４Ｈ),７.７２
（ｄｄ,Ｊ＝７.９and１.９Ｈｚ,１Ｈ),８.４３（ｄ,Ｊ
＝１.７Ｈｚ,１Ｈ),８.４９（ｄｄ,Ｊ＝４.９and１.７
Ｈｚ,１Ｈ)］

【００５１】製造例１０：６−メチル−３−[１−メチル−１−(３,５−ジクロロ
フェニル)エチル]−５−(３−ピリジル)−２,３−ジヒ
ドロ−４Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン（化合物番
号４８）の製造（Ａ法）２,２,６−トリメチル−５−(３−ピリジル)−４Ｈ−
１,３−ジオキシン−４−オン０.２２ｇとＮ−メチレ
ン−１−メチル−１−(３,５−ジクロロフェニル)エチ
ルアミン０.３２ｇとの混合物にキシレン５ｍｌを添
加し、３０分間加熱還流して反応させた。反応混合物を
シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、標題化合物
０.１１ｇ（収率２９％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.７３（ｓ,６
Ｈ), １.９７（ｓ,３Ｈ),５.３０（ｓ,２Ｈ), ７.２０-
７.２８（ｍ,４Ｈ),７.６７（ｄｄｄ,Ｊ＝７.９,２.２a
nd１.７Ｈｚ,１Ｈ),８.４１（ｄ,Ｊ＝２.２Ｈｚ,１Ｈ),
８.５０（ｄｄ,Ｊ＝４.９and１.７Ｈｚ,１Ｈ) 融点；１５８〜１６０℃］

【００５２】製造例１１：６−メチル−３−(１−メチル−１−フェニルエチル)−
５−(１−メチル−２−ピロリル)−２,３−ジヒドロ−
４Ｈ−１,３−オキサジン−４−オン（化合物番号３
７）の製造（Ｂ法）トリブチル(１−メチル−２−ピロリル)スズ０.６６
ｇ、５−ヨード−６−メチル−３−(１−メチル−１−
フェニルエチル)−２,３−ジヒドロ−４Ｈ−１,３−オ
キサジン−４−オン１.０２ｇ、ビス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム（II）塩化物０.０６３ｇ、およ
びテトラヒドロフラン４ｍｌの混合物を窒素雰囲気下
で５０℃に保ち９６時間反応させた。溶媒を減圧下留去
して得られた混合物をシリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、標題化合物０.０７ｇ（収率１３％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.８０（ｓ,６
Ｈ), １.９２（ｓ,３Ｈ),３.３６（ｓ,３Ｈ), ５.１０
（ｓ,２Ｈ),５.９９（ｄｄ,Ｊ＝３.５and１.８Ｈｚ,１
Ｈ),６.０７（ｄｄ,Ｊ＝３.５and２.６Ｈｚ,１Ｈ),６.
６１（ｄｄ,Ｊ＝２.６and１.８Ｈｚ,１Ｈ), ７.１９-
７.４２（ｍ,５Ｈ)］

【００５３】製造例１２：６−メチル−３−[１−メチル−１−(２−ナフチル)エ
チル]−５−(３−チエニル)−２,３−ジヒドロ−４Ｈ−
１,３−オキサジン−４−オン（化合物番号１１１）の
製造（Ａ法）２,２,６−トリメチル−５−(３−チエニル)−４Ｈ−
１,３−ジオキシン−４−オン０.２５ｇとＮ−メチレ
ン−１−メチル−１−(２−ナフチル)エチルアミン０.
２０ｇとの混合物にキシレン１０ｍｌを添加し、１２
０分間加熱還流して反応させた。反応混合物をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製し、標題化合物０.１５ｇ
（収率４１％）を得た。［¹Ｈ−ＮＭＲ δ(ＴＭＳ＝０ppm)；１.９２（ｓ,６
Ｈ), １.９８（ｓ,３Ｈ),５.０５(ｓ,２Ｈ), ７.０７-
７.１０(ｍ,１Ｈ), ７.２３-７.２８(ｍ,２Ｈ),７.４２
-７.５１（ｍ,２Ｈ), ７.５６-７.６０（ｍ,１Ｈ),７.
７８-７.８６（ｍ,４Ｈ)］

【００５４】次に、本発明の化合物を用いた製剤例の数
様態を示す。なお、下記製剤中の「部」は重量基準であ
る。製剤例１（乳剤）化合物番号４２０部キシレン５０部シクロヘキサノン２０部ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム５部ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル５部以上を均一に混合溶解して乳剤１００部を得た。製剤例２（水和剤）化合物番号４２０部クレー７０部リグニンスルホン酸カルシウム７部アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物３部以上を混合し、ジェットミルで粉砕して水和剤１００部
を得た。

【００５５】製剤例３（フロアブル剤）化合物番号４２０部スルホコハク酸ジ−２−エチルヘキシルエステルナトリウム塩２部ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル２部消泡剤０.５部プロピレングリコール５部水７０.５部以上を湿式ボールミルで均一に粉砕混合し、フロアブル
剤１００部を得た。上述の製剤例に準じて本発明の化合
物を用いた除草剤がそれぞれ製剤できる。次に、本発明
化合物の除草効果を試験例を挙げて説明する。

【００５６】試験例１（水田土壌処理）１３０ｃｍ² プラスチックポットに水田土壌を充填し、
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が２枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗（品種：コシヒカリ）を２本１株として１株／ポッ
ト移植し、更に、ノビエ、コナギ及びアゼナの各種子を
一定量播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例２
に準じて水和剤を調製し、有効成分量で１ｈａ当り５ｋ
ｇ又は１ｋｇとなるように適量の水で希釈して、ピペッ
トで滴下処理した。薬剤処理を行ってから２１日後に、
各雑草への除草効果及び水稲に対する薬害程度を下記基
準に従い判別した。その結果を表３に示す。

【００５７】

【表１２】

【００５８】

【表１３】

【００５９】試験例２（水田茎葉処理）１３０ｃｍ² プラスチックポットに水田土壌を充填し、
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が２枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗（品種：コシヒカリ）を２本１株として１株／ポッ
ト移植し、更に、ノビエ、コナギ及びアゼナの各種子を
一定量播種し、水深３ｃｍに湛水した。ノビエが１.５
葉期になるまで温室内で生育させた後、製剤例２に準じ
て水和剤を調製し、有効成分で１ｈａ当り５ｋｇまたは
１ｋｇとなるように適量の水で希釈して、ピペットで滴
下処理した。薬剤処理を行ってから２１日後に、各雑草
への除草効果及び水稲に対する薬害程度を試験例１の基
準に従って判別した。その結果を表４に示す。

【００６０】

【表１４】

【００６１】試験例３（畑地土壌処理）１３０ｃｍ² プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
ノビエ、メヒシバ、エノコログサの各種子を一定量ずつ
播種した後、１ｃｍの覆土をした。播種翌日、製剤例２
に準じて水和剤を調製し、有効成分で１ｈａ当り５ｋｇ
となるように適量の水で希釈して、土壌表面にむらなく
散布した。薬剤散布を行ってから２１日後に、各雑草へ
の除草効果を試験例１の基準に従って判別した。その結
果を下記表５に示す。

【００６２】

【表１５】

【００６３】

【発明の効果】上記試験例に示した通り、本発明の前記
一般式（Ｉ）で表される化合物およびそれを有効成分と
して含有する除草剤は、種々の雑草に対する除草活性を
有しながら、栽培作物に対しては高い安全性を有する。
即ち、本発明の化合物およびそれを有効成分として含有
する除草剤は、例えば、水田に発生するヒエ、タマガヤ
ツリ、コナギ、キカシグサ、アゼナ、アブノメ等の一年
生雑草及びホタルイ、マツバイ、ヘラオモダカ、ミズガ
ヤツリ等の多年生雑草の発芽時から生育期の広い範囲に
わたって、極めて低い薬量で優れた除草効果を発揮する
と同時に、移植水稲、湛水直播水稲及び乾田直播稲に対
しては高い安全性を有するものである。また、畑地にお
いても問題となる種々の雑草、例えば、タデ、アオビ
ユ、シロザ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマス
ゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年
生及び一年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エ
ノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ワ
イルドオート、スズメノテッポウ等のイネ科雑草に対し
て、土壌処理あるいは茎葉処理で高い除草効果を示すと
同時に大豆、綿、砂糖ダイコン、ナタネ、ヒマワリ、ト
ウモロコシ、陸稲、小麦等に対しては高い安全性を示す
という効果を奏することができる。

【００６４】また、水田、畑地のみならず、果樹園、桑
園、芝生、非農耕地においても使用することができる。
更に、本発明化合物を公知化合物と混合して使用するこ
とにより、それぞれの化合物単剤では防除困難な雑草に
対して優れた除草効果を示すと共に、相乗的な除草効果
により単剤では防除困難な薬量においても種々の雑草を
有効に防除し、且つ水稲、大豆、綿、砂糖ダイコン、ナ
タネ、ヒマワリ、トウモロコシ、陸稲、小麦等に対して
高い安全性を示す農業上非常に有用な除草剤を提供する
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｄ 413/04 ２３３２３５２３９２４９３０７Ａ０１Ｎ 43/86 １０１Ｃ０７Ｄ 417/04 ２６５ (72)発明者日暮理加茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者古峰美樹茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号三菱油化株式会社筑波総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（Ｉ）：【化１】［式中Ｒ¹は置換されていてもよい複素環基を、Ｒ²は水
素原子または低級アルキル基を、Ｒ³は置換されていて
も良いアリール基をそれぞれ示し、Ｒ⁴およびＲ⁵は互い
に独立して低級アルキル基を示すかまたは、Ｒ⁴および
Ｒ⁵が共に結合している根本の炭素と一緒になり、低級
アルキル基の分岐を有していても良い３〜８員環の炭素
環を形成する］で表わされる１,３−オキサジン−４−
オン誘導体。
【請求項２】一般式（Ｉ）：【化２】［式中Ｒ¹は置換されていてもよい複素環基を、Ｒ²は水
素原子または低級アルキル基を、Ｒ³は置換されていて
も良いアリール基をそれぞれ示し、Ｒ⁴およびＲ⁵は互い
に独立して低級アルキル基を示すかまたは、Ｒ⁴および
Ｒ⁵が共に結合している根本の炭素と一緒になり、低級
アルキル基の分岐を有していても良い３〜８員環の炭素
環を形成する］で表わされる１,３−オキサジン−４−
オン誘導体を有効成分として含有することを特徴とする
除草剤。