JPH076313A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH076313A JPH076313A JP5171239A JP17123993A JPH076313A JP H076313 A JPH076313 A JP H076313A JP 5171239 A JP5171239 A JP 5171239A JP 17123993 A JP17123993 A JP 17123993A JP H076313 A JPH076313 A JP H076313A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- head
- magnetic
- sealing glass
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 封着ガラスの残留応力を緩和し、磁気特性を
向上する。 【構成】 封着ガラスによって封着した一対のコアを個
々のチップに切断した後、チップを前記封着ガラスの転
移点以上でかつ屈伏点未満の温度で熱処理する。
向上する。 【構成】 封着ガラスによって封着した一対のコアを個
々のチップに切断した後、チップを前記封着ガラスの転
移点以上でかつ屈伏点未満の温度で熱処理する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープやＤＡ
Ｔ、フロッピーディスク、ハードディスク、オーディオ
テープ、磁気カードなどの磁気記録媒体を用いた磁気記
録および／または再生装置における磁気ヘッドの製造方
法に関する。
Ｔ、フロッピーディスク、ハードディスク、オーディオ
テープ、磁気カードなどの磁気記録媒体を用いた磁気記
録および／または再生装置における磁気ヘッドの製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１はフェライトヘッドの代表的な製造
工程を示している。フェライトインゴットから材料取り
を行い、これを外形研削によって適当な大きさの棒１と
する（ａ）。次に、トラック加工によって、封着ガラス
用の溝２を形成し（ｂ）、この溝２に封着ガラス３をモ
ールドする（ｃ）。次に、余分のガラスを研削し、巻線
用溝４を加工した後、ギャップ面５を研磨する（ｄ）。
次に、ギャップ面に二酸化珪素などのギャップ材をスパ
ッタ法などにより被着する。このように加工したコア１
ａと１ｂとをギャップ面を突き合わせて封着ガラスによ
って封着し、ギャップ形成を行う（ｅ）。次に、この封
着した一対のコアを個々のチップ６に切断し（ｆ）、さ
らに側面研磨によってチップ６を適当な大きさとする
（ｇ）。次に、チップ６をベース７に接着し（ｈ）、さ
らに、テープ走行面を研磨し、巻線してヘッドを完成す
る。このようにして得たフェライトヘッドの代表的な構
造を図２に示す。１０、１１はフェライトコア、１２は
ギャップ、１３は封着ガラスを表す。
工程を示している。フェライトインゴットから材料取り
を行い、これを外形研削によって適当な大きさの棒１と
する（ａ）。次に、トラック加工によって、封着ガラス
用の溝２を形成し（ｂ）、この溝２に封着ガラス３をモ
ールドする（ｃ）。次に、余分のガラスを研削し、巻線
用溝４を加工した後、ギャップ面５を研磨する（ｄ）。
次に、ギャップ面に二酸化珪素などのギャップ材をスパ
ッタ法などにより被着する。このように加工したコア１
ａと１ｂとをギャップ面を突き合わせて封着ガラスによ
って封着し、ギャップ形成を行う（ｅ）。次に、この封
着した一対のコアを個々のチップ６に切断し（ｆ）、さ
らに側面研磨によってチップ６を適当な大きさとする
（ｇ）。次に、チップ６をベース７に接着し（ｈ）、さ
らに、テープ走行面を研磨し、巻線してヘッドを完成す
る。このようにして得たフェライトヘッドの代表的な構
造を図２に示す。１０、１１はフェライトコア、１２は
ギャップ、１３は封着ガラスを表す。
【０００３】従来、ＶＴＲヘッドとして、フェライトが
最も広く用いられてきたが、飽和磁束密度が低いため、
近年登場してきたメタルテープ等の高密度記録媒体に使
用した場合、ヘッドの磁気飽和が問題となり対応できな
い。そこで、フェライトにかわる磁性体として高透磁
率、高飽和磁束密度の磁性合金、すなわちセンダスト合
金、アモルファス合金や超構造窒化合金が発明され、放
送局用やＳ−ＶＨＳと呼ばれるＶＴＲに実用化されてい
る。これらの磁性体を使用したヘッドはＭＩＧヘッドと
呼ばれ、図１の製造工程において、溝２を形成する前
に、棒１の上面に磁性体の薄膜を形成する工程を付加し
て製造される。また、図３はコアとしてセラミック基板
を使用した積層型ヘッドの代表的な構造を示している。
１４、１５はセラミック基板、１６はギャップ、１７は
積層磁性合金、１８は封着ガラスを表す。
最も広く用いられてきたが、飽和磁束密度が低いため、
近年登場してきたメタルテープ等の高密度記録媒体に使
用した場合、ヘッドの磁気飽和が問題となり対応できな
い。そこで、フェライトにかわる磁性体として高透磁
率、高飽和磁束密度の磁性合金、すなわちセンダスト合
金、アモルファス合金や超構造窒化合金が発明され、放
送局用やＳ−ＶＨＳと呼ばれるＶＴＲに実用化されてい
る。これらの磁性体を使用したヘッドはＭＩＧヘッドと
呼ばれ、図１の製造工程において、溝２を形成する前
に、棒１の上面に磁性体の薄膜を形成する工程を付加し
て製造される。また、図３はコアとしてセラミック基板
を使用した積層型ヘッドの代表的な構造を示している。
１４、１５はセラミック基板、１６はギャップ、１７は
積層磁性合金、１８は封着ガラスを表す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】コアを封着する封着ガ
ラスは、フェライトに比較すると強度が劣るため、製造
工程においてチップに切断するときガラスに加工歪を生
じ、これがチップ全体に応力を及ぼしてヘッドの磁気特
性が低下するという問題を生じていた。特に、センダス
ト合金、アモルファス合金や超構造窒化合金は、熱によ
って磁気特性が変化しやすいため、封着ガラスの作業温
度を６００℃以下にする必要があり、そのため酸化鉛
（ＰｂＯ）含有量の多い低融点ガラスが用いられる。こ
のようなガラスは、フェライトコアを封着するための例
えば作業温度が７００〜９００℃程度の高融点のガラス
に比較して著しく強度が劣る。このためＭＩＧヘッドや
積層型ヘッドでは、きわめて大きな加工歪がガラスに残
り、得られたヘッドチップの磁気特性が低下するという
問題が多数発生していた。
ラスは、フェライトに比較すると強度が劣るため、製造
工程においてチップに切断するときガラスに加工歪を生
じ、これがチップ全体に応力を及ぼしてヘッドの磁気特
性が低下するという問題を生じていた。特に、センダス
ト合金、アモルファス合金や超構造窒化合金は、熱によ
って磁気特性が変化しやすいため、封着ガラスの作業温
度を６００℃以下にする必要があり、そのため酸化鉛
（ＰｂＯ）含有量の多い低融点ガラスが用いられる。こ
のようなガラスは、フェライトコアを封着するための例
えば作業温度が７００〜９００℃程度の高融点のガラス
に比較して著しく強度が劣る。このためＭＩＧヘッドや
積層型ヘッドでは、きわめて大きな加工歪がガラスに残
り、得られたヘッドチップの磁気特性が低下するという
問題が多数発生していた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、加工歪を
緩和することによってヘッドの磁気特性を向上させる方
法について種々検討した結果、本発明に至ったものであ
る。すなわち、本発明は、封着ガラスによって封着した
一対のコアをチップに切断した後、チップを前記封着ガ
ラスの転移点以上で屈伏点未満の温度で熱処理すること
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法である。
緩和することによってヘッドの磁気特性を向上させる方
法について種々検討した結果、本発明に至ったものであ
る。すなわち、本発明は、封着ガラスによって封着した
一対のコアをチップに切断した後、チップを前記封着ガ
ラスの転移点以上で屈伏点未満の温度で熱処理すること
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法である。
【０００６】
【作用】ガラスの転移点とは、ガラスが固体状態から粘
性流体に変化しはじめる温度である。また、屈伏点と
は、ガラスが自重で変形してしまう温度であって、屈伏
点またはこれを越えた温度での熱処理は、せっかく封着
したコアがまた離れてしまうことになる。したがって、
熱処理は必ず屈伏点より低い温度で行わなければならな
い。なお、以上の特性点は力学的には粘度で定義され、
転移点におけるガラスの粘度は１０13.3ポアズ付近、屈
伏点におけるそれは１０11ポアズ付近である。ここで、
付近というのは、ガラスの種類によって特性点における
粘度に多少の差異があるからである。本発明の製造方法
によれば、チップ切断工程においてガラスに発生した加
工歪を緩和できるので、ヘッドの磁気特性が向上する。
性流体に変化しはじめる温度である。また、屈伏点と
は、ガラスが自重で変形してしまう温度であって、屈伏
点またはこれを越えた温度での熱処理は、せっかく封着
したコアがまた離れてしまうことになる。したがって、
熱処理は必ず屈伏点より低い温度で行わなければならな
い。なお、以上の特性点は力学的には粘度で定義され、
転移点におけるガラスの粘度は１０13.3ポアズ付近、屈
伏点におけるそれは１０11ポアズ付近である。ここで、
付近というのは、ガラスの種類によって特性点における
粘度に多少の差異があるからである。本発明の製造方法
によれば、チップ切断工程においてガラスに発生した加
工歪を緩和できるので、ヘッドの磁気特性が向上する。
【０００７】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。なお、
以下の実施例は本発明を具現化した例であって、本発明
の技術的範囲を限定する性格のものではない。以下の実
施例および比較例においては、図１に示す製造工程にお
ける（ｇ）に相当する工程の後に、所定の温度で３０分
間、熱処理をした。
以下の実施例は本発明を具現化した例であって、本発明
の技術的範囲を限定する性格のものではない。以下の実
施例および比較例においては、図１に示す製造工程にお
ける（ｇ）に相当する工程の後に、所定の温度で３０分
間、熱処理をした。
【０００８】［実施例１］封着ガラスとして重量％で、
ＳｉＯ2＝３５％，ＰｂＯ＝５１％，ＺｎＯ＝５％，Ｎ
ａ2Ｏ＝５％，Ｋ2Ｏ＝４％のガラス（転移点４２０℃、
屈伏点４６０℃）を使用して図２のフェライトヘッドを
組み立てる。熱処理温度は４４０℃とする。
ＳｉＯ2＝３５％，ＰｂＯ＝５１％，ＺｎＯ＝５％，Ｎ
ａ2Ｏ＝５％，Ｋ2Ｏ＝４％のガラス（転移点４２０℃、
屈伏点４６０℃）を使用して図２のフェライトヘッドを
組み立てる。熱処理温度は４４０℃とする。
【０００９】［実施例２］封着ガラスとして重量％で、
ＳｉＯ2＝１５．５％，Ｂ2Ｏ3＝６％，ＰｂＯ＝７６．
５％，Ａｌ2Ｏ3＝１％，Ｋ2Ｏ＝１％のガラス（転移点
３８７℃、屈伏点４１５℃）を使用し、高透磁率、高飽
和磁束密度の磁性合金としてＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ−Ｎから
なる超構造窒化合金を使用してＭＩＧヘッドを組み立て
る。熱処理温度は４００℃とする。
ＳｉＯ2＝１５．５％，Ｂ2Ｏ3＝６％，ＰｂＯ＝７６．
５％，Ａｌ2Ｏ3＝１％，Ｋ2Ｏ＝１％のガラス（転移点
３８７℃、屈伏点４１５℃）を使用し、高透磁率、高飽
和磁束密度の磁性合金としてＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ−Ｎから
なる超構造窒化合金を使用してＭＩＧヘッドを組み立て
る。熱処理温度は４００℃とする。
【００１０】［実施例３］封着ガラスとして重量％で、
ＳｉＯ2＝５．５％，Ｂ2Ｏ3＝８．５％，ＰｂＯ＝７３
％，ＺｎＯ＝２．５％，Ａｌ2Ｏ3＝２％，ＣｄＯ＝８．
５％のガラス（転移点３４３℃、屈伏点３７２℃）を使
用し、高透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金としてＣｏ
−Ｎｂ−Ｚｒ−Ｔａからなるアモルファス合金を使用し
て図３の積層型ヘッドを組み立てる。熱処理温度は３５
５℃とする。
ＳｉＯ2＝５．５％，Ｂ2Ｏ3＝８．５％，ＰｂＯ＝７３
％，ＺｎＯ＝２．５％，Ａｌ2Ｏ3＝２％，ＣｄＯ＝８．
５％のガラス（転移点３４３℃、屈伏点３７２℃）を使
用し、高透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金としてＣｏ
−Ｎｂ−Ｚｒ−Ｔａからなるアモルファス合金を使用し
て図３の積層型ヘッドを組み立てる。熱処理温度は３５
５℃とする。
【００１１】［比較例１］実施例２において熱処理温度
を３５０℃とする。 ［比較例２］実施例２において、熱処理温度を３８０℃
とする。
を３５０℃とする。 ［比較例２］実施例２において、熱処理温度を３８０℃
とする。
【００１２】上記実施例および比較例のヘッドについ
て、チップ切断直後および熱処理後に７ＭＨｚにおいて
ヘッド出力（Ｃ／Ｎ）を測定した。表１に、熱処理温度
と、熱処理により上昇した出力値とを示す。
て、チップ切断直後および熱処理後に７ＭＨｚにおいて
ヘッド出力（Ｃ／Ｎ）を測定した。表１に、熱処理温度
と、熱処理により上昇した出力値とを示す。
【００１３】
【表１】
【００１４】表１からわかるように、熱処理することに
よってヘッドチップの磁気特性が大幅に向上する。この
原因を調べるために、実施例２のヘッドに用いた封着ガ
ラスを使用して以下の実験を行った。すなわち、図４に
示すように、封着ガラス用の溝入れをした棒状のコア素
材１と封着ガラス３（ａ）から封着体を作り（ｂ）、そ
の封着体の両側をチップ切断工程で使用するスライス装
置で削り落として応力測定用試片１ｃとする（ｃ）。そ
して東芝硝子製精密歪計ＳＶＰ−３０−２型でガラス内
に発生した応力を測定する。
よってヘッドチップの磁気特性が大幅に向上する。この
原因を調べるために、実施例２のヘッドに用いた封着ガ
ラスを使用して以下の実験を行った。すなわち、図４に
示すように、封着ガラス用の溝入れをした棒状のコア素
材１と封着ガラス３（ａ）から封着体を作り（ｂ）、そ
の封着体の両側をチップ切断工程で使用するスライス装
置で削り落として応力測定用試片１ｃとする（ｃ）。そ
して東芝硝子製精密歪計ＳＶＰ−３０−２型でガラス内
に発生した応力を測定する。
【００１５】その結果、前記試片作成直後の、ガラスに
残留した圧縮応力は８７ｋｇ／ｃｍ2であった。しか
し、前記試料を４００℃で熱処理した後の圧縮応力は６
７ｋｇ／ｃｍ2であった。すなわち、熱処理した結果、
残留応力が緩和されていることが証明された。したがっ
て、熱処理することによってヘッドチップの磁気特性が
大幅に向上している原因は、加工歪の緩和によるものと
判明した。
残留した圧縮応力は８７ｋｇ／ｃｍ2であった。しか
し、前記試料を４００℃で熱処理した後の圧縮応力は６
７ｋｇ／ｃｍ2であった。すなわち、熱処理した結果、
残留応力が緩和されていることが証明された。したがっ
て、熱処理することによってヘッドチップの磁気特性が
大幅に向上している原因は、加工歪の緩和によるものと
判明した。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、磁気特性
の向上した磁気ヘッドを得ることができる。
の向上した磁気ヘッドを得ることができる。
【図１】磁気ヘッドの代表的な製造工程を示す図であ
る。
る。
【図２】フェライトヘッドの代表的な構造を示す斜視図
である。
である。
【図３】積層型ヘッドの代表的な構造を示す斜視図であ
る。
る。
【図４】ガラスに発生した残留応力の測定用試片の作製
工程を示す図である。
工程を示す図である。
１ コア素材 １ａ コア １ｂ コア ２ 封着ガラス用溝 ３ 封着ガラス ４ 巻線用溝 ５ ギャップ面 ６ チップ ７ ベース
Claims (1)
- 【請求項１】 封着ガラスによって封着した一対のコア
を個々のチップに切断した後、チップを前記封着ガラス
の転移点以上で屈伏点未満の温度で熱処理する工程を有
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5171239A JPH076313A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5171239A JPH076313A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076313A true JPH076313A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15919627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5171239A Pending JPH076313A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076313A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001003128A1 (en) * | 1999-07-02 | 2001-01-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Sealing glass for magnetic head and magnetic head using the same |
-
1993
- 1993-06-16 JP JP5171239A patent/JPH076313A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001003128A1 (en) * | 1999-07-02 | 2001-01-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Sealing glass for magnetic head and magnetic head using the same |
| US6631050B1 (en) | 1999-07-02 | 2003-10-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Sealing glass for magnetic head and magnetic head using the same |
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