JPH0769583B2 - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
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- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/08—Sensitivity-increasing substances
- G03C1/28—Sensitivity-increasing substances together with supersensitising substances
- G03C1/29—Sensitivity-increasing substances together with supersensitising substances the supersensitising mixture being solely composed of dyes ; Combination of dyes, even if the supersensitising effect is not explicitly disclosed
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた
超硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真
製版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料及びそ
れを用いた超硬調ネガ画像形成方法に関するものであ
る。
超硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真
製版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料及びそ
れを用いた超硬調ネガ画像形成方法に関するものであ
る。
(従来技術) グラフイツク・アーツの分野においては網点画像による
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマが10以上)の写真特
性を示す画像形成システムが必要である。
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマが10以上)の写真特
性を示す画像形成システムが必要である。
従来この目的のためにはリス現像液と呼ばれる特別な現
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く(通常0.1モル/l以下)してある。そのためリス現像
液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える保存に耐
えられないという重大な欠点を持つている。
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く(通常0.1モル/l以下)してある。そのためリス現像
液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える保存に耐
えられないという重大な欠点を持つている。
高コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る
方法としては米国特許第4,224,401号、同第4,168,977
号、同第4,166,742号、同第4,311,781号、同第4,272,60
6号、同第4,211,857号、同第4,243,739号等に記載され
ているヒドラジン誘導体を用いる方法がある。この方法
によれば、超硬調で感度の高い写真特性が得られ、更に
現像液中に高濃度の亜硫酸塩を加えることが許容される
ので、現像液の空気酸化に対する安定性はリス現像液に
比べて飛躍的に向上する。
方法としては米国特許第4,224,401号、同第4,168,977
号、同第4,166,742号、同第4,311,781号、同第4,272,60
6号、同第4,211,857号、同第4,243,739号等に記載され
ているヒドラジン誘導体を用いる方法がある。この方法
によれば、超硬調で感度の高い写真特性が得られ、更に
現像液中に高濃度の亜硫酸塩を加えることが許容される
ので、現像液の空気酸化に対する安定性はリス現像液に
比べて飛躍的に向上する。
一方、写真感光材料の露光用に種々の光源(たとえばLE
D、He−Neレーザー、Arレーザー等)が開発・実用化さ
れており、これらの光源の分光エネルギー分布に対し最
適の分光感度を持たせるために、分光増感色素を選択す
る必要があり、従来のリス現像液を用いるシステムでも
行われて来た。すなわち、ヒドラジン誘導体を用い、高
コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る上
記画像形成システムでは、従来知られているようにカチ
オン系化合物(特願昭58−24891号、同昭60−9347号)
によつて高感・硬調化が促進され実技Dmax(後述)が高
くなる。
D、He−Neレーザー、Arレーザー等)が開発・実用化さ
れており、これらの光源の分光エネルギー分布に対し最
適の分光感度を持たせるために、分光増感色素を選択す
る必要があり、従来のリス現像液を用いるシステムでも
行われて来た。すなわち、ヒドラジン誘導体を用い、高
コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る上
記画像形成システムでは、従来知られているようにカチ
オン系化合物(特願昭58−24891号、同昭60−9347号)
によつて高感・硬調化が促進され実技Dmax(後述)が高
くなる。
分光増感色素でもカチオン色素を用いることによつてア
ニオン色素、ベタイン色素を用いた場合よりも高い実技
Dmaxが実現される。
ニオン色素、ベタイン色素を用いた場合よりも高い実技
Dmaxが実現される。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、同時に黒ポツ(ブラツク・ペツパーなど
とも称せられる)の増加という好ましくない現象をひき
起し、写真製版工程上大きな問題となる。
とも称せられる)の増加という好ましくない現象をひき
起し、写真製版工程上大きな問題となる。
その為に、分光増感色素としてカチオン色素を用い、そ
の高い実技Dmaxを維持した上で黒ポツを改良することに
多大な努力が払われている。
の高い実技Dmaxを維持した上で黒ポツを改良することに
多大な努力が払われている。
黒ポツ改良の手段としては、特開昭62−25,745には、ア
スコルビン酸、酢酸、クエン酸、サリチル酸などの有機
酸を用いて、膜面pHを5.8以下にすることが開示されて
いる。しかしながら、この手段だけでは、黒ポツを完全
に除くことができないこと、また、膜面pHが低くなる
と、ハロゲン化銀感光層の硬膜が阻害され、引掻き傷が
つきやすくなるなどの問題を生じる。
スコルビン酸、酢酸、クエン酸、サリチル酸などの有機
酸を用いて、膜面pHを5.8以下にすることが開示されて
いる。しかしながら、この手段だけでは、黒ポツを完全
に除くことができないこと、また、膜面pHが低くなる
と、ハロゲン化銀感光層の硬膜が阻害され、引掻き傷が
つきやすくなるなどの問題を生じる。
(発明の目的) 従つて本発明の目的は安定は現像液を用いてγが10を越
える極めて高感硬調で、実技Dmax及び感度が高くかつ黒
ポツが少ない写真特性を有し、種々の光源の分光エネル
ギー分布に対して最適の分光感度を有するハロゲン化銀
写真感光材料を提供することである。
える極めて高感硬調で、実技Dmax及び感度が高くかつ黒
ポツが少ない写真特性を有し、種々の光源の分光エネル
ギー分布に対して最適の分光感度を有するハロゲン化銀
写真感光材料を提供することである。
本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層のハロゲン
化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層もしくはその
他の親水性コロイド層中に、ヒドラジン誘導体、シアニ
ン、ヘミシアニンおよびロダシアニンから選ばれる少な
くとも一種のカチオン色素及び下記一般式(I)で表わ
される実質的に可視域に吸収極大を持たない化合物を含
有することを特徴とするネガ型ハロゲン化銀写真感光材
料により達成された。
化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層もしくはその
他の親水性コロイド層中に、ヒドラジン誘導体、シアニ
ン、ヘミシアニンおよびロダシアニンから選ばれる少な
くとも一種のカチオン色素及び下記一般式(I)で表わ
される実質的に可視域に吸収極大を持たない化合物を含
有することを特徴とするネガ型ハロゲン化銀写真感光材
料により達成された。
一般式(I) Z11及びZ12は各々ベンズオキサゾール核、ベンゾチアゾ
ール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。R11及びR12はアルキル基またはアラルキル基を
表わし、そのうち少なくとも一つは酸基を有する。Xは
電荷バランス対イオンであり、nは0又は1を表わす。
ール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。R11及びR12はアルキル基またはアラルキル基を
表わし、そのうち少なくとも一つは酸基を有する。Xは
電荷バランス対イオンであり、nは0又は1を表わす。
以下に、本発明を詳細に説明する。
一般式(I)において、Z11及びZ12で形成される複素環
として好ましくはベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾ
ール核、ナフトオキサゾール核、ナフトチアゾール核、
チアゾール核、またはオキサゾール核であり、更に好ま
しくは、ベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、
またはナフトオキサゾール核であり、最も好ましくは、
ベンゾオキサゾール核またはナフトオキサゾール核であ
る。一般式(I)において、Z11又はZ12で形成される複
素環は少くとも一つの置換基で置換されていてもよく、
その置換基としてはハロゲン原子(例えば弗素、塩素、
臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好ましくは炭素
数1〜4のもの、例えばメチル基、エチル基、トリフル
オロメチル基、ベンジル基、フエネチル基)、アリール
基(例えばフエニル基)、アルコキシ基(好ましくは炭
素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基(好ましくは炭素数2〜5のもの、例え
ばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ基、シアノ基等
を挙げることができる。
として好ましくはベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾ
ール核、ナフトオキサゾール核、ナフトチアゾール核、
チアゾール核、またはオキサゾール核であり、更に好ま
しくは、ベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、
またはナフトオキサゾール核であり、最も好ましくは、
ベンゾオキサゾール核またはナフトオキサゾール核であ
る。一般式(I)において、Z11又はZ12で形成される複
素環は少くとも一つの置換基で置換されていてもよく、
その置換基としてはハロゲン原子(例えば弗素、塩素、
臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好ましくは炭素
数1〜4のもの、例えばメチル基、エチル基、トリフル
オロメチル基、ベンジル基、フエネチル基)、アリール
基(例えばフエニル基)、アルコキシ基(好ましくは炭
素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基(好ましくは炭素数2〜5のもの、例え
ばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ基、シアノ基等
を挙げることができる。
一般式(I)でZ11及びZ12に関し、ベンゾチアゾール核
としては、例えばベンゾチアゾール、5−クロロベンゾ
チアゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、5−メチル
ベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5−
ヨードベンゾチアゾール、5−フエニルベンゾチアゾー
ル、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベン
ゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチアゾール、5−
エトキシカルボニルベンゾチアゾール、5−フルオロベ
ンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾチアゾ
ール、5−トリフルオロメチルベンゾチアゾール、など
を、ナフトチアゾール核としては例えば、ナフト〔2,1
−d〕チアゾール、ナフト〔1,2−d〕チアゾール、ナ
フト〔2,3−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔1,2
−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔2,3−d〕チ
アゾール、などを、ベンゾセレナゾール核としては例え
ば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾー
ル、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシ
ベンゾセレナゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾセ
レナゾール、などを、ナフトセレナゾール核としては例
えば、ナフト〔1,2−d〕セレナゾール、ナフト〔2,1−
d〕セレナゾールなどを、チアゾール核としては例え
ば、チアゾール核、4−メチルチアゾール核、4−フエ
ニルチアゾール核、4,5−ジメチルチアゾール核、など
を、チアゾリン核としては例えば、チアゾリン核、4−
メチルチアゾリン核などが挙げられる。
としては、例えばベンゾチアゾール、5−クロロベンゾ
チアゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、5−メチル
ベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5−
ヨードベンゾチアゾール、5−フエニルベンゾチアゾー
ル、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベン
ゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチアゾール、5−
エトキシカルボニルベンゾチアゾール、5−フルオロベ
ンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾチアゾ
ール、5−トリフルオロメチルベンゾチアゾール、など
を、ナフトチアゾール核としては例えば、ナフト〔2,1
−d〕チアゾール、ナフト〔1,2−d〕チアゾール、ナ
フト〔2,3−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔1,2
−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔2,3−d〕チ
アゾール、などを、ベンゾセレナゾール核としては例え
ば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾー
ル、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシ
ベンゾセレナゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾセ
レナゾール、などを、ナフトセレナゾール核としては例
えば、ナフト〔1,2−d〕セレナゾール、ナフト〔2,1−
d〕セレナゾールなどを、チアゾール核としては例え
ば、チアゾール核、4−メチルチアゾール核、4−フエ
ニルチアゾール核、4,5−ジメチルチアゾール核、など
を、チアゾリン核としては例えば、チアゾリン核、4−
メチルチアゾリン核などが挙げられる。
一般式(I)においてZ11及びZ12に関し、ベンゾオキサ
ゾール核としては例えば、ベンゾオキサゾール、5−ク
ロロベンゾオキサゾール核、5−メチルベンゾオキサゾ
ール核、5−ブロモベンゾオキサゾール核、5−フルオ
ロベンゾオキサゾール核、5−フエニルベンゾオキサゾ
ール核、5−メトキシベンゾオキサゾール核、5−エト
キシベンゾオキサゾール核、5−トリフルオロメチルベ
ンゾオキサゾール核、5−ヒドロキシベンゾオキサゾー
ル核、5−カルボキシベンゾオキサゾール核、6−メチ
ルベンゾオキサゾール核、6−クロロベンゾオキサゾー
ル核、6−メトキシベンゾオキサゾール核、6−ヒドロ
キシベンゾオキサゾール核、5,6−ジメチルベンゾオキ
サゾール核などを、ナフトオキサゾール核としては例え
ば、ナフト〔2,1−d〕オキサゾール核、ナフト〔1,2−
d〕オキサゾール核、ナフト〔2,3−d〕オキサゾール
核、5−メトキシナフト〔1,2−d〕オキサゾール核、
などを挙げる事ができる。
ゾール核としては例えば、ベンゾオキサゾール、5−ク
ロロベンゾオキサゾール核、5−メチルベンゾオキサゾ
ール核、5−ブロモベンゾオキサゾール核、5−フルオ
ロベンゾオキサゾール核、5−フエニルベンゾオキサゾ
ール核、5−メトキシベンゾオキサゾール核、5−エト
キシベンゾオキサゾール核、5−トリフルオロメチルベ
ンゾオキサゾール核、5−ヒドロキシベンゾオキサゾー
ル核、5−カルボキシベンゾオキサゾール核、6−メチ
ルベンゾオキサゾール核、6−クロロベンゾオキサゾー
ル核、6−メトキシベンゾオキサゾール核、6−ヒドロ
キシベンゾオキサゾール核、5,6−ジメチルベンゾオキ
サゾール核などを、ナフトオキサゾール核としては例え
ば、ナフト〔2,1−d〕オキサゾール核、ナフト〔1,2−
d〕オキサゾール核、ナフト〔2,3−d〕オキサゾール
核、5−メトキシナフト〔1,2−d〕オキサゾール核、
などを挙げる事ができる。
更にZ11及びZ12に関し、オキサゾール核としては例え
ば、オキサゾール核、4−メチルオキサゾール核、4−
フエニルオキサゾール核、4−メトキシオキサゾール
核、4,5−ジメチルオキサゾール核、5−フエニルオキ
サゾール核又は4−メトキシオキサゾール核などを、ピ
リジン核としては例えば2−ピリジン核、4−ピリジン
核、5−メチル−2−ピリジン核、3−メチル−4−ピ
リジン核などを、又キノリン核としては例えば、2−キ
ノリン核、4−キノリン核、3−メチル−2−キノリン
核、5−エチル−2−キノリン核、8−フルオロ−2−
キノリン核、6−メトキシ−2−キノリン核、8−クロ
ロ−4−キノリン核、8−メチル−4−キノリン核、な
どを挙げる事ができる。ベンズイミダゾール核として
は、例えば5,6−ジクロロ−1−エチルベンズイミダゾ
ール核、6−クロロ−1−エチル−5−トリフルオロメ
チルベンズイミダゾール核などを挙げる事ができる。
ば、オキサゾール核、4−メチルオキサゾール核、4−
フエニルオキサゾール核、4−メトキシオキサゾール
核、4,5−ジメチルオキサゾール核、5−フエニルオキ
サゾール核又は4−メトキシオキサゾール核などを、ピ
リジン核としては例えば2−ピリジン核、4−ピリジン
核、5−メチル−2−ピリジン核、3−メチル−4−ピ
リジン核などを、又キノリン核としては例えば、2−キ
ノリン核、4−キノリン核、3−メチル−2−キノリン
核、5−エチル−2−キノリン核、8−フルオロ−2−
キノリン核、6−メトキシ−2−キノリン核、8−クロ
ロ−4−キノリン核、8−メチル−4−キノリン核、な
どを挙げる事ができる。ベンズイミダゾール核として
は、例えば5,6−ジクロロ−1−エチルベンズイミダゾ
ール核、6−クロロ−1−エチル−5−トリフルオロメ
チルベンズイミダゾール核などを挙げる事ができる。
一般式(I)において、R11及びR12で表わされるアルキ
ル基は無置換及び置換アルキル基を含み、少なくとも一
方がスルホ基もしくはカルボキシル基などの酸基を有す
る。無置換アルキル基としては、炭素原子の数が18以
下、特に8以下が好ましく、例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、
n−オクタデシル基などがあげられる。また、置換アル
キル基としては、アルキル部分の炭素数原子の数が6以
下のものが好ましく、特に炭素原子の数が4以下のもの
が好ましく、例えば、スルホ基で置換されたアルキル基
(スルホ基はアルコキシ基やアリール基等を介して結合
していてもよい。例えば2−スルホエチル基、3−スル
ホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホブチル
基、2−(3−スルホプロポキシ)エチル基、2−〔2
−(3−スルホプロポキシ)エトキシ〕エチル基、2−
ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、p−スルホフエネ
チル基、p−スルホフエニルプロピル基など)カルボキ
シ基で置換されたアルキル基(カルボキシ基はアルコキ
シ基やアリール基等を介して結合していてもよい。例え
ば、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、3
−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基、な
ど)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシ
エチル基、3−ヒドロキシプロピル基、など)、アシロ
キシアルキル基(例えば、2−アセトキシエチル基、3
−アセトキシプロピル基など)、アルコキシアルキル基
(例えば2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル
基、など)、アルコキシカルボニルアルキル基(例え
ば、2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカ
ルボニルプロピル基、4−エトキシカルボニルブチル
基、など)、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル
基)、シアノアルキル基(例えば2−シアノエチル基な
ど)、カルバモイルアルキル基(例えば2−カルバモイ
ルエチル基など)、アリーロキシアルキル基(例えば2
−フエノキシエチル基、3−フエノキシプロピル基な
ど)、アラルキル基(例えば2−フエネチル基、3−フ
エニルプロピル基など)、又はアリーロキシアルキル基
(例えば2−フエノキシエチル基、3−フエノキシプロ
ピル基など)などがあげられる。
ル基は無置換及び置換アルキル基を含み、少なくとも一
方がスルホ基もしくはカルボキシル基などの酸基を有す
る。無置換アルキル基としては、炭素原子の数が18以
下、特に8以下が好ましく、例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、
n−オクタデシル基などがあげられる。また、置換アル
キル基としては、アルキル部分の炭素数原子の数が6以
下のものが好ましく、特に炭素原子の数が4以下のもの
が好ましく、例えば、スルホ基で置換されたアルキル基
(スルホ基はアルコキシ基やアリール基等を介して結合
していてもよい。例えば2−スルホエチル基、3−スル
ホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホブチル
基、2−(3−スルホプロポキシ)エチル基、2−〔2
−(3−スルホプロポキシ)エトキシ〕エチル基、2−
ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、p−スルホフエネ
チル基、p−スルホフエニルプロピル基など)カルボキ
シ基で置換されたアルキル基(カルボキシ基はアルコキ
シ基やアリール基等を介して結合していてもよい。例え
ば、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、3
−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基、な
ど)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシ
エチル基、3−ヒドロキシプロピル基、など)、アシロ
キシアルキル基(例えば、2−アセトキシエチル基、3
−アセトキシプロピル基など)、アルコキシアルキル基
(例えば2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル
基、など)、アルコキシカルボニルアルキル基(例え
ば、2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカ
ルボニルプロピル基、4−エトキシカルボニルブチル
基、など)、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル
基)、シアノアルキル基(例えば2−シアノエチル基な
ど)、カルバモイルアルキル基(例えば2−カルバモイ
ルエチル基など)、アリーロキシアルキル基(例えば2
−フエノキシエチル基、3−フエノキシプロピル基な
ど)、アラルキル基(例えば2−フエネチル基、3−フ
エニルプロピル基など)、又はアリーロキシアルキル基
(例えば2−フエノキシエチル基、3−フエノキシプロ
ピル基など)などがあげられる。
電荷バランス対イオンXは、複素環中の四級アンモニウ
ム塩で生じた正電荷を相殺することができる任意の陰イ
オンであり、例えば、臭素イオン、塩素イオン、沃素イ
オン、p−トルエンスルホン酸イオン、エチルスルホン
酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオロメタンスルホ
ン酸イオン、チオシアンイオンなどである。この場合n
は1である。
ム塩で生じた正電荷を相殺することができる任意の陰イ
オンであり、例えば、臭素イオン、塩素イオン、沃素イ
オン、p−トルエンスルホン酸イオン、エチルスルホン
酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオロメタンスルホ
ン酸イオン、チオシアンイオンなどである。この場合n
は1である。
電荷バランス対イオンXは、R11又はR12のどちらか一方
がスルホアルキル置換基のような陰イオン置換基を含む
場合は、塩はベタインの形をとることができ、その場合
には対イオンは必要なく、nは0である。R11及びR12が
2個の陰イオン置換基、たとえば2個のスルホアルキル
基を有する場合には、X4は陽イオン性対イオンであり、
例えばアルカリ金属イオン(ナトリウムイオン、カリウ
ムイオンなど)やアンモニウム塩(トリエチルアンモニ
ウムなど)などがあげられる。
がスルホアルキル置換基のような陰イオン置換基を含む
場合は、塩はベタインの形をとることができ、その場合
には対イオンは必要なく、nは0である。R11及びR12が
2個の陰イオン置換基、たとえば2個のスルホアルキル
基を有する場合には、X4は陽イオン性対イオンであり、
例えばアルカリ金属イオン(ナトリウムイオン、カリウ
ムイオンなど)やアンモニウム塩(トリエチルアンモニ
ウムなど)などがあげられる。
ここで、「実質的に可視光域に吸収極大を持たない」化
合物とは写真感光材料上の残色が実用上問題のないレベ
ル以下の色調をもつ化合物を意味し、より詳しくは、現
像処理後の残色が実用上問題のないレベル以下の色調を
もつ化合物である。
合物とは写真感光材料上の残色が実用上問題のないレベ
ル以下の色調をもつ化合物を意味し、より詳しくは、現
像処理後の残色が実用上問題のないレベル以下の色調を
もつ化合物である。
好ましくは、上記化合物のメタノール中での吸収極大が
460nm以下のもの、より好ましくは430nm以下のものであ
る。
460nm以下のもの、より好ましくは430nm以下のものであ
る。
一般式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
次に本発明で用いるヒドラジン誘導体としては下記の一
般式(II)で示されるものが好ましい。
般式(II)で示されるものが好ましい。
一般式(II) 式中、Aは脂肪族基、または芳香族基を表わし、Bはホ
ルミル基、アシル基、アルキルもしくはアリールスルホ
ニル基、アルキルもしくはアリールスルフイニル基、カ
ルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシカル
ボニル基、スルフイナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、スルフアニイ
ル基又はヘテロ環基を表わし、R0、R1はともに水素原子
あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換の
アルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリ
ールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基
を表わす。
ルミル基、アシル基、アルキルもしくはアリールスルホ
ニル基、アルキルもしくはアリールスルフイニル基、カ
ルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシカル
ボニル基、スルフイナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、スルフアニイ
ル基又はヘテロ環基を表わし、R0、R1はともに水素原子
あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換の
アルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリ
ールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基
を表わす。
ただし、B、B1およびそれらが結合する窒素原子がヒド
ラゾンの部分構造−N=Cを形成してもよい。
ラゾンの部分構造−N=Cを形成してもよい。
次に一般式(II)について詳しく説明する。
一般式(II)において、Aで表わされる脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであつて、特に炭素数1〜20
の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで分
岐アルキル基はその中に一つまたはそれ以上のヘテロ原
子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化されて
いてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、アル
コキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボン
アミド基等の置換基を有していてもよい。
しくは炭素数1〜30のものであつて、特に炭素数1〜20
の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで分
岐アルキル基はその中に一つまたはそれ以上のヘテロ原
子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化されて
いてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、アル
コキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボン
アミド基等の置換基を有していてもよい。
例えばt−ブチル基、n−オクチル基、t−オクチル
基、シクロヘキシル基、ピロリジル基、イミダゾリル
基、テトラヒドロフリル基、モルフオリノ基などをその
例として挙げることができる。
基、シクロヘキシル基、ピロリジル基、イミダゾリル
基、テトラヒドロフリル基、モルフオリノ基などをその
例として挙げることができる。
一般式(II)においてAで表わされる芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。
ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
たは2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。
ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
Aとして特に好ましいものはアリール基である。Aのア
リール基または不飽和ヘテロ環基は置換基を持つていて
もよい。代表的な置換基としては、直鎖、分岐または環
状のアルキル基、(好ましくは炭素数1〜20のもの)、
アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜
3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭
素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシ
ルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、ス
ルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)などがある。
リール基または不飽和ヘテロ環基は置換基を持つていて
もよい。代表的な置換基としては、直鎖、分岐または環
状のアルキル基、(好ましくは炭素数1〜20のもの)、
アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜
3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭
素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシ
ルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、ス
ルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)などがある。
一般式(II)のAはその中にカプラー等の不動性写真用
添加剤において常用されているバラスト基が組み込まれ
ているものでもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有
する写真性に対して比較的不活性な基であり、例えばア
ルキル基、アルコキシ基、フエニル基、アルキルフエニ
ル基、フエノキシ基、アルキルフエノキシ基などの中か
ら選ぶことができる。
添加剤において常用されているバラスト基が組み込まれ
ているものでもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有
する写真性に対して比較的不活性な基であり、例えばア
ルキル基、アルコキシ基、フエニル基、アルキルフエニ
ル基、フエノキシ基、アルキルフエノキシ基などの中か
ら選ぶことができる。
一般式(II)のAはその中にハロゲン化銀粒子表面に対
する吸着を強める基が組み込まれているものでもよい。
かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チオアミド
基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特
許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,045号、同59−201,04
6号、同59−201,047号、同59−201,048号、同59−201,0
49号、特願昭59−36,788号、同60−11459号、同60−197
39号等に記載された基が挙げられる。
する吸着を強める基が組み込まれているものでもよい。
かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チオアミド
基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特
許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,045号、同59−201,04
6号、同59−201,047号、同59−201,048号、同59−201,0
49号、特願昭59−36,788号、同60−11459号、同60−197
39号等に記載された基が挙げられる。
Bは、具体的にはホルミル基、アシル基(アセチル基、
プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセ
チル基、ベンゾイル基、4−クロロベンゾイル基、ピル
ボイル基、メトキシサリル基、メチルオキサモイル基
等)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル基、2
−クロロエタンスルホニル基等)、アリールスルホニル
基(ベンゼンスルホニル基等)、アルキルスルフイニル
基(メタンスルフイニル基等)、アリールスルフイニル
基(ベンゼンスルフイニル基等)、カルバモイル基(メ
チルカルバモイル基、フエニルカルバモイル基等)、ス
ルフアモイル基(ジメチルスルフアモイル基等)、アル
コキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、メトキシ
エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(フエノキシカルボニル基等)、スルフイナモイル基
(メチルスルフイナモイル基等)、アルコキシスルホニ
ル(メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基
等)、チオアシル基(メチルチオカルボニル基等)、チ
オカルバモイル基(メチルチオカルバモイル基等)又は
ヘテロ環基(ピリジン環等)を表わす。
プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセ
チル基、ベンゾイル基、4−クロロベンゾイル基、ピル
ボイル基、メトキシサリル基、メチルオキサモイル基
等)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル基、2
−クロロエタンスルホニル基等)、アリールスルホニル
基(ベンゼンスルホニル基等)、アルキルスルフイニル
基(メタンスルフイニル基等)、アリールスルフイニル
基(ベンゼンスルフイニル基等)、カルバモイル基(メ
チルカルバモイル基、フエニルカルバモイル基等)、ス
ルフアモイル基(ジメチルスルフアモイル基等)、アル
コキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、メトキシ
エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(フエノキシカルボニル基等)、スルフイナモイル基
(メチルスルフイナモイル基等)、アルコキシスルホニ
ル(メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基
等)、チオアシル基(メチルチオカルボニル基等)、チ
オカルバモイル基(メチルチオカルバモイル基等)又は
ヘテロ環基(ピリジン環等)を表わす。
Bとしてはホルミル基又はアシル基が特に好ましい。
一般式(II)のBはR1及びこれらが結合している窒素原
子とともにヒドラゾンの部分構造 を形成してもよい。
子とともにヒドラゾンの部分構造 を形成してもよい。
上記においてR2はアルキル基、アリール基又はヘテロ環
基を表わす。R3は水素原子、アルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表わす。
基を表わす。R3は水素原子、アルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表わす。
R0、R1は水素原子、炭素数20以下のアルキルスルホニル
基およびアリールスルホニル基(好ましくはフエニルス
ルホニル基又はハメツトの置換基定数の和が−0.5以上
となるように置換されたフエニルスルホニル基)、炭素
数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又はハ
メツトの置換基定数の和が−0.5以上となるように置換
されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状又は環状
の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては例え
ばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基が
挙げられる。)) R1、R1としては水素原子が最も好ましい。本発明に用い
られるヒドラジン誘導体としては、上記のものの他に、
RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983年11月号、P.34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4,080,2
07号、同4,269,929号、同4,276,364号、同4,278,748
号、同4,385,108号、同4,459,347号、同4,560,638号、
同4,478,928号、英国特許2,011,391B、特開昭60−17973
4号に記載されたものを用いることができる。
基およびアリールスルホニル基(好ましくはフエニルス
ルホニル基又はハメツトの置換基定数の和が−0.5以上
となるように置換されたフエニルスルホニル基)、炭素
数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又はハ
メツトの置換基定数の和が−0.5以上となるように置換
されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状又は環状
の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては例え
ばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基が
挙げられる。)) R1、R1としては水素原子が最も好ましい。本発明に用い
られるヒドラジン誘導体としては、上記のものの他に、
RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983年11月号、P.34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4,080,2
07号、同4,269,929号、同4,276,364号、同4,278,748
号、同4,385,108号、同4,459,347号、同4,560,638号、
同4,478,928号、英国特許2,011,391B、特開昭60−17973
4号に記載されたものを用いることができる。
次に一般式(II)で表わされる化合物を例示する。
本発明において、一般式(I)で表される化合物および
一般式(II)で表されるヒドラジン誘導体を写真感光材
料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層に含有
させるのが好ましいがそれ以外の非感光性の親水性コロ
イド層(例えば保護層、中間層、フイルター層、ハレー
シヨン防止層など)に含有させてもよい。具体的には使
用する化合物が水溶性の場合には水溶液として、また難
水溶性の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン類
などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親水性コ
ロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀乳剤層に添
加する場合は化学熟成の開始から塗布前までの任意の時
期に行つてよいが、化学熟成終了後から塗布前の間に添
加するのが好ましい。特に塗布のために用意された塗布
液中に添加するのがよい。
一般式(II)で表されるヒドラジン誘導体を写真感光材
料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層に含有
させるのが好ましいがそれ以外の非感光性の親水性コロ
イド層(例えば保護層、中間層、フイルター層、ハレー
シヨン防止層など)に含有させてもよい。具体的には使
用する化合物が水溶性の場合には水溶液として、また難
水溶性の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン類
などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親水性コ
ロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀乳剤層に添
加する場合は化学熟成の開始から塗布前までの任意の時
期に行つてよいが、化学熟成終了後から塗布前の間に添
加するのが好ましい。特に塗布のために用意された塗布
液中に添加するのがよい。
本発明の一般式(I)で表わされる化合物の含有量はハ
ロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方
法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤
の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の量
を選択することが望ましく、その選択のための試験の方
法は等業者のよく知るところである。通常は好ましくは
ハロゲン化銀1モル当り10-6モルないし1×10-2モル、
特に10-5ないし5×10-3モルの範囲で用いられる。
ロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方
法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤
の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の量
を選択することが望ましく、その選択のための試験の方
法は等業者のよく知るところである。通常は好ましくは
ハロゲン化銀1モル当り10-6モルないし1×10-2モル、
特に10-5ないし5×10-3モルの範囲で用いられる。
本発明において、一般式(II)で表わされるヒドラジン
誘導体は、前記一般式(I)の化合物と同様の方法で添
加することができ、ハロゲン化銀1モル当り1×10-6モ
ルないし1×10-1モル含有させるのが好ましく特に1×
10-5ないし4×10-3モル含有させるのが好ましい。
誘導体は、前記一般式(I)の化合物と同様の方法で添
加することができ、ハロゲン化銀1モル当り1×10-6モ
ルないし1×10-1モル含有させるのが好ましく特に1×
10-5ないし4×10-3モル含有させるのが好ましい。
次に本発明に用いられるカチオン色素について記載す
る。シアニン色素は下記一般式(III)で表わされる。
る。シアニン色素は下記一般式(III)で表わされる。
一般式(III) 式中、Z1およびZ2は5ないし6員複素環を形成するに必
要な原子群を表わし、それぞれが同じでも異つていても
よい。ここでR1およびR2は同一でも異なつてもよく、ア
ルキル基あるいは置換アルキル基を表わす。L1、L2およ
びL3はメチン基あるいは置換メチン基を表わす。pおよ
びqは0または1を表わす。mは0、1、2または3を
表わす。X1 はアニオンを表わす。kは0または1を表
わす。ヘミシアニン色素は下記一般式(IV)で表わされ
る。
要な原子群を表わし、それぞれが同じでも異つていても
よい。ここでR1およびR2は同一でも異なつてもよく、ア
ルキル基あるいは置換アルキル基を表わす。L1、L2およ
びL3はメチン基あるいは置換メチン基を表わす。pおよ
びqは0または1を表わす。mは0、1、2または3を
表わす。X1 はアニオンを表わす。kは0または1を表
わす。ヘミシアニン色素は下記一般式(IV)で表わされ
る。
一般式(IV) 式中、Z3は、Z1およびZ2と同義であり、R3はR1およびR2
と同義である。L4、L5、L6およびL7は、L1、L2およびL3と
同義であり、rはpおよびqと同義である。X2 はX1
と同義であり、jはkと同義である。nは0、1または
2を表わしG1およびG2は同じでも異つていてもよく、水
素原子、アルキル基あるいは置換アルキル基、アリール
基あるいは置換アリール基を表わしまたG1とG2とで環状
2級アミンから誘導される環を形成してもよい。
と同義である。L4、L5、L6およびL7は、L1、L2およびL3と
同義であり、rはpおよびqと同義である。X2 はX1
と同義であり、jはkと同義である。nは0、1または
2を表わしG1およびG2は同じでも異つていてもよく、水
素原子、アルキル基あるいは置換アルキル基、アリール
基あるいは置換アリール基を表わしまたG1とG2とで環状
2級アミンから誘導される環を形成してもよい。
ロダシアニン色素は下記一般式(V)で表わされる。
一般式(V) 式中、Z4、Z5はZ1、Z2と同義である。R4、R5はR1、R2と同義
である。R6は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基または複素環基を表わす。
である。R6は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基または複素環基を表わす。
L8、L9、L10、L11、L12は、L1、L2、L3と同義である。W1は5
ないし6員複素環を形成するに必要な原子群を表わす。
h、lはmと同義である。s、tはp、qと同義であ
る。X2 はX1 と同義である。iはkと同義である。
ないし6員複素環を形成するに必要な原子群を表わす。
h、lはmと同義である。s、tはp、qと同義であ
る。X2 はX1 と同義である。iはkと同義である。
Z1、Z2、Z3、Z4、Z5によつて形成される5ないし6員複素環
としては次のものが挙げられる。
としては次のものが挙げられる。
チアゾール核(例えば、チアゾール、4−メチルチアゾ
ール、4−フエニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾ
ール、4,5−ジフエニルチアゾールなど)、ベンゾチア
ゾール核(例えば、ベンゾチアゾール、4−クロロベン
ゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロ
ロベンゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、4
−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾー
ル、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチ
アゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5−ヨードベ
ンゾチアゾール、5−フエニルベンゾチアゾール、5−
メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾ
ール、5−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシカ
ルボニルベンゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチア
ゾール、5−フエネチルベンゾチアゾール、5−フルオ
ロベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾチ
アゾール、5,6−メチルベンゾチアゾール、5−ヒドロ
キシ−6−メチルベンゾチアゾール、テトラヒドロベン
ゾチアゾール、4−フエニルベンゾチアゾールなど)、
ナフトチアゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕チア
ゾール、ナフト〔1,2−d〕チアゾール、ナフト〔2,3−
d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔1,2−d〕チア
ゾール、7−エトキシナフト〔2,1−d〕チアゾール、
8−メトキシナフト〔2,1−d〕チアゾール、5−メト
キシナフト〔2,3−d〕チアゾールなど)、チアゾリン
核(例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、4−
ニトロチアゾリンなど)、オキサゾール核(例えば、オ
キサゾール、4−メチルオキサゾール、4−ニトロオキ
サゾール、5−メチルオキサゾール、4−フエニルオキ
ゾール、4,5−ジフエニルオキサゾール、4−エチルオ
キサゾールなど)、ベンゾオキサゾール核(ベンゾオキ
サゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5−メチル
ベンゾオキサゾール、5−ブロモベンゾオキサゾール、
5−フルオロベンゾオキサゾール、5−フエニルベンゾ
オキサゾール、5−メトキシベンゾオキサゾール、5−
ニトロベンゾオキサゾール、5−トリフルオロメチルベ
ンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾー
ル、5−カルボキシベンゾオキサゾール、6−メチルベ
ンゾオキサゾール、6−クロロベンゾオキサゾール、6
−ニトロベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキ
サゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、5,6−
ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾオ
キサゾール、5−エトキシベンゾオキサゾールなど)、
ナフトオキサゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕オ
キサゾール、ナフト〔1,2−d〕オキサゾール、ナフト
〔2,3−d〕オキサゾール、5−ニトロナフト〔2,1−
d〕オキサゾールなど)、イソオキサゾール核(たとえ
ば5−メチルイソオキサゾール、ベンゾイソオキサゾー
ルなど)、オキサゾリン核(例えば、4,4−ジメチルオ
キサゾリンなど)、セレナゾール核(例えば、4−メチ
ルセレナゾール、4−ニトロセレナゾール、4−フエニ
ルセレナゾールなど)、ベンゾセレナゾール核(例え
ば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾー
ル、5−ニトロベンゾセレナゾール、5−メトキシベン
ゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、
6−ニトロベンゾセレナゾール、5−クロロ−6−ニト
ロベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール核
(例えば、ナフト〔2,1−d〕セレナゾール、ナフト
〔1,2−d〕セレナゾールなど)、テトラゾール核(た
とえばベンゾテトラゾール、5−メチルベンゾテトラゾ
ール、5,6−ジメチルテトラゾール、5−メトキシベン
ゾテトラゾール、5−ヒドロキシベンゾテトラゾール、
5−メチルチオベンゾテトラゾール、5,6−ジメトキシ
ベンゾテトラゾール、ナフト〔1,2−d〕テトラゾー
ル、8−メチルナフト〔1,2−d〕テトラゾール、6−
メトキシナフト〔1,2−d〕テトラゾールなど)、3,3−
ジアルキルインドレニン核(例えば、3,3−ジメチルイ
ンドレニン、3,3−ジエチルインドレニン、3,3−ジメチ
ル−5−シアノインドレニン、3,3−ジメチル−6−ニ
トロインドレニン、3,3−ジメチル−5−ニトロインド
レニン、3,3−ジメチル−5−メトキシインドレニン、
3,3,5−トリメチルインドレニン、3,3−ジメチル−5−
クロロインドレニンなど)、イミダゾール核(例えば、
1−アルキルイミダゾール、1−アルキル−4−フエニ
ルイミダゾール、1−アルキルベンゾイミダゾール、1
−アルキル−5−クロロベンゾイミダゾール、1−アル
キル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾール、1−アルキ
ル−5−メトキシベンゾイミダゾール、1−アルキル−
5−シアノベンゾイミダゾール、1−アルキル−5−フ
ルオロベンゾイミダゾール、1−アルキル−5−トリフ
ルオロメチルベンゾイミダゾール、1−アルキル−6−
クロロ−5−シアノベンゾイミダゾール、1−アルキル
−6−クロロ−5−トリフルオロメチルベンゾイミダゾ
ール、1−アルキルナフト〔1,2−d〕イミダゾール、
1−アリル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾール、1−
アリル−5−クロロベンゾイミダゾール、1−アリール
イミダゾール、1−アリールベンゾイミダゾール、1−
アリール−5−クロロベンゾイミダゾール、1−アリー
ル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾール、1−アリール
−5−メトキシベンゾイミダゾール、1−アリール−5
−シアノベンゾイミダゾール、1−アリールナフト〔1.
2−d〕イミダゾール、前述のアルキル基は炭素原子1
〜8個のもの、たとえば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル等の無置換アルキル基やヒドロキ
シアルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル、3−ヒ
ドロキシプロピル等)等が好ましい。特に好ましくはメ
チル基、エチル基である。前述のアリールは、フエニ
ル、ハロゲン(例えばクロロ)置換フエニル、アルキル
(例えばメチル)置換フエニル、アルコキシ(例えばメ
トキシ)置換フエニルなどを表わす。)、ピリジン核
(例えば、2−ピリジン、4−ピリジン、5−メチル−
2−ピリジン、3−メチル−4−ピリジンなど)、キノ
リン核(例えば、2−キノリン、3−メチル−2−キノ
リン、5−エチル−2−キノリン、6−メチル−2−キ
ノリン、6−ニトロ−2−キノリン、8−フルオロ−2
−キノリン、6−メトキシ−2−キノリン、6−ヒドロ
キシ−2−キノリン、8−クロロ−2−キノリン、4−
キノリン、6−エトキシ−4−キノリン、6−ニトロ−
4−キノリン、8−クロロ−4−キノリン、8−フルオ
ロ−4−キノリン、8−メチル−4−キノリン、8−メ
トキシ−4−キノリン、イソキノリン、6−ニトロ−1
−イソキノリン、3,4−ジヒドロ−1−イソキノリン、
6−ニトロ−3−イソキノリンなど)、イミダゾ〔4,5
−b〕キノキザリン核(例えば、1,3−ジエチルイミダ
ゾ〔4,5−b〕キノキザリン、6−クロロ−1,3−ジアリ
ルイミダゾ〔4,5−b〕キノキザリンなど)、オキサジ
アゾール核、チアジアゾール核テトラゾール核、ピリミ
ジン核などを挙げることができる。
ール、4−フエニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾ
ール、4,5−ジフエニルチアゾールなど)、ベンゾチア
ゾール核(例えば、ベンゾチアゾール、4−クロロベン
ゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロ
ロベンゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、4
−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾー
ル、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチ
アゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5−ヨードベ
ンゾチアゾール、5−フエニルベンゾチアゾール、5−
メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾ
ール、5−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシカ
ルボニルベンゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチア
ゾール、5−フエネチルベンゾチアゾール、5−フルオ
ロベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾチ
アゾール、5,6−メチルベンゾチアゾール、5−ヒドロ
キシ−6−メチルベンゾチアゾール、テトラヒドロベン
ゾチアゾール、4−フエニルベンゾチアゾールなど)、
ナフトチアゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕チア
ゾール、ナフト〔1,2−d〕チアゾール、ナフト〔2,3−
d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔1,2−d〕チア
ゾール、7−エトキシナフト〔2,1−d〕チアゾール、
8−メトキシナフト〔2,1−d〕チアゾール、5−メト
キシナフト〔2,3−d〕チアゾールなど)、チアゾリン
核(例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、4−
ニトロチアゾリンなど)、オキサゾール核(例えば、オ
キサゾール、4−メチルオキサゾール、4−ニトロオキ
サゾール、5−メチルオキサゾール、4−フエニルオキ
ゾール、4,5−ジフエニルオキサゾール、4−エチルオ
キサゾールなど)、ベンゾオキサゾール核(ベンゾオキ
サゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5−メチル
ベンゾオキサゾール、5−ブロモベンゾオキサゾール、
5−フルオロベンゾオキサゾール、5−フエニルベンゾ
オキサゾール、5−メトキシベンゾオキサゾール、5−
ニトロベンゾオキサゾール、5−トリフルオロメチルベ
ンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾー
ル、5−カルボキシベンゾオキサゾール、6−メチルベ
ンゾオキサゾール、6−クロロベンゾオキサゾール、6
−ニトロベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキ
サゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、5,6−
ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾオ
キサゾール、5−エトキシベンゾオキサゾールなど)、
ナフトオキサゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕オ
キサゾール、ナフト〔1,2−d〕オキサゾール、ナフト
〔2,3−d〕オキサゾール、5−ニトロナフト〔2,1−
d〕オキサゾールなど)、イソオキサゾール核(たとえ
ば5−メチルイソオキサゾール、ベンゾイソオキサゾー
ルなど)、オキサゾリン核(例えば、4,4−ジメチルオ
キサゾリンなど)、セレナゾール核(例えば、4−メチ
ルセレナゾール、4−ニトロセレナゾール、4−フエニ
ルセレナゾールなど)、ベンゾセレナゾール核(例え
ば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾー
ル、5−ニトロベンゾセレナゾール、5−メトキシベン
ゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、
6−ニトロベンゾセレナゾール、5−クロロ−6−ニト
ロベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール核
(例えば、ナフト〔2,1−d〕セレナゾール、ナフト
〔1,2−d〕セレナゾールなど)、テトラゾール核(た
とえばベンゾテトラゾール、5−メチルベンゾテトラゾ
ール、5,6−ジメチルテトラゾール、5−メトキシベン
ゾテトラゾール、5−ヒドロキシベンゾテトラゾール、
5−メチルチオベンゾテトラゾール、5,6−ジメトキシ
ベンゾテトラゾール、ナフト〔1,2−d〕テトラゾー
ル、8−メチルナフト〔1,2−d〕テトラゾール、6−
メトキシナフト〔1,2−d〕テトラゾールなど)、3,3−
ジアルキルインドレニン核(例えば、3,3−ジメチルイ
ンドレニン、3,3−ジエチルインドレニン、3,3−ジメチ
ル−5−シアノインドレニン、3,3−ジメチル−6−ニ
トロインドレニン、3,3−ジメチル−5−ニトロインド
レニン、3,3−ジメチル−5−メトキシインドレニン、
3,3,5−トリメチルインドレニン、3,3−ジメチル−5−
クロロインドレニンなど)、イミダゾール核(例えば、
1−アルキルイミダゾール、1−アルキル−4−フエニ
ルイミダゾール、1−アルキルベンゾイミダゾール、1
−アルキル−5−クロロベンゾイミダゾール、1−アル
キル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾール、1−アルキ
ル−5−メトキシベンゾイミダゾール、1−アルキル−
5−シアノベンゾイミダゾール、1−アルキル−5−フ
ルオロベンゾイミダゾール、1−アルキル−5−トリフ
ルオロメチルベンゾイミダゾール、1−アルキル−6−
クロロ−5−シアノベンゾイミダゾール、1−アルキル
−6−クロロ−5−トリフルオロメチルベンゾイミダゾ
ール、1−アルキルナフト〔1,2−d〕イミダゾール、
1−アリル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾール、1−
アリル−5−クロロベンゾイミダゾール、1−アリール
イミダゾール、1−アリールベンゾイミダゾール、1−
アリール−5−クロロベンゾイミダゾール、1−アリー
ル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾール、1−アリール
−5−メトキシベンゾイミダゾール、1−アリール−5
−シアノベンゾイミダゾール、1−アリールナフト〔1.
2−d〕イミダゾール、前述のアルキル基は炭素原子1
〜8個のもの、たとえば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル等の無置換アルキル基やヒドロキ
シアルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル、3−ヒ
ドロキシプロピル等)等が好ましい。特に好ましくはメ
チル基、エチル基である。前述のアリールは、フエニ
ル、ハロゲン(例えばクロロ)置換フエニル、アルキル
(例えばメチル)置換フエニル、アルコキシ(例えばメ
トキシ)置換フエニルなどを表わす。)、ピリジン核
(例えば、2−ピリジン、4−ピリジン、5−メチル−
2−ピリジン、3−メチル−4−ピリジンなど)、キノ
リン核(例えば、2−キノリン、3−メチル−2−キノ
リン、5−エチル−2−キノリン、6−メチル−2−キ
ノリン、6−ニトロ−2−キノリン、8−フルオロ−2
−キノリン、6−メトキシ−2−キノリン、6−ヒドロ
キシ−2−キノリン、8−クロロ−2−キノリン、4−
キノリン、6−エトキシ−4−キノリン、6−ニトロ−
4−キノリン、8−クロロ−4−キノリン、8−フルオ
ロ−4−キノリン、8−メチル−4−キノリン、8−メ
トキシ−4−キノリン、イソキノリン、6−ニトロ−1
−イソキノリン、3,4−ジヒドロ−1−イソキノリン、
6−ニトロ−3−イソキノリンなど)、イミダゾ〔4,5
−b〕キノキザリン核(例えば、1,3−ジエチルイミダ
ゾ〔4,5−b〕キノキザリン、6−クロロ−1,3−ジアリ
ルイミダゾ〔4,5−b〕キノキザリンなど)、オキサジ
アゾール核、チアジアゾール核テトラゾール核、ピリミ
ジン核などを挙げることができる。
W1によつて形成される5ないし6員複素環としては次の
ものが挙げられる。例えばロダニン核、2−チオヒダン
トイン核、2−チオキソオキサゾリジン−4−オン核、
2−ピラゾリン−5−オン核、バルビツール酸核、2−
チオバルビツール酸核、チアゾリジン−2,4−ジオン
核、チアゾリジン−4−オン核、イソオキサゾロン核、
ヒダントイン核、インダンジオン核などがある。
ものが挙げられる。例えばロダニン核、2−チオヒダン
トイン核、2−チオキソオキサゾリジン−4−オン核、
2−ピラゾリン−5−オン核、バルビツール酸核、2−
チオバルビツール酸核、チアゾリジン−2,4−ジオン
核、チアゾリジン−4−オン核、イソオキサゾロン核、
ヒダントイン核、インダンジオン核などがある。
L1、L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11、L12、で表わされ
るメチン基および置換メチン基のうち、その置換基とし
ては、例えばアルキル基(例えばメチル、エチルな
ど)、アリール基(例えばフエニル等)、アラルキル基
(例えばベンジル基)又はハロゲン(例えば、クロロ、
ブロモなど)アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ
など)などであり、またメチン鎖の置換基同志で4ない
し6員環を形成してもよい。
るメチン基および置換メチン基のうち、その置換基とし
ては、例えばアルキル基(例えばメチル、エチルな
ど)、アリール基(例えばフエニル等)、アラルキル基
(例えばベンジル基)又はハロゲン(例えば、クロロ、
ブロモなど)アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ
など)などであり、またメチン鎖の置換基同志で4ない
し6員環を形成してもよい。
R1、R2、R3、R4、R5、で表わされる置換されていてもよいア
ルキル基としては例えば、炭素原子1〜18好ましくは1
〜7特に好ましくは1〜4のアルキル基{無置換アルキ
ル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、オクチル、ドデシ
ル、オクタデシルなど)、置換アルキル基、例えばアラ
ルキル基(例えばベンジル、2−フエニルエチルな
ど)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシ
エチル、3−ヒドロキシプロピルなど)、アルコキシア
ルキル基(例えば、2−メトキシエチル、2−メトキシ
エトキシ)エチルなど)、複素環置換アルキル基(例え
ば2−(ピロリジン−2−オン−1−イル)エチル、テ
トラヒドロフルフリルなど)、2−アセトキシエチル、
カルボメトキシメチル、2−メタンスルホニルアミノエ
チル、アリル基など}がある。
ルキル基としては例えば、炭素原子1〜18好ましくは1
〜7特に好ましくは1〜4のアルキル基{無置換アルキ
ル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、オクチル、ドデシ
ル、オクタデシルなど)、置換アルキル基、例えばアラ
ルキル基(例えばベンジル、2−フエニルエチルな
ど)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシ
エチル、3−ヒドロキシプロピルなど)、アルコキシア
ルキル基(例えば、2−メトキシエチル、2−メトキシ
エトキシ)エチルなど)、複素環置換アルキル基(例え
ば2−(ピロリジン−2−オン−1−イル)エチル、テ
トラヒドロフルフリルなど)、2−アセトキシエチル、
カルボメトキシメチル、2−メタンスルホニルアミノエ
チル、アリル基など}がある。
R6で表わされるアルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、複素環基としては、例えば炭素数
1〜18、好ましくは1〜7、特に好ましくは1〜4のア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基など)、
置換アルキル基{例えばアラルキル基(例えばベンジル
基、2−フエニルエチル基など)、ヒドロキシアルキル
基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシ
プロピル基など)、アルコキシアルキル基(例えば、2
−メトキシエチル基、2−(2−メトキシエトキシ)エ
チル基など)、複素環置換アルキル基(例えば2−(ピ
ロリジン−2−オン−1−イル)エチル基、テトラヒド
ロフルフリル基、2−モルホリノエチル基など)、2−
アセトキシエチル基、カルボメトキシメチル基、2−メ
タンスルホニルアミノエチル基、アリル基など}、アリ
ール基(例えばフエニル基、2−ナフチル基など)、置
換アリール基(例えば、4−カルボキシフエニル基、4
−スルホフエニル基、3−クロロフエニル基、3−メチ
ルフエニル基など)、複素環基(例えば、2−ピリジル
基、2−チアゾリル基など)などがある。
基、置換アリール基、複素環基としては、例えば炭素数
1〜18、好ましくは1〜7、特に好ましくは1〜4のア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基など)、
置換アルキル基{例えばアラルキル基(例えばベンジル
基、2−フエニルエチル基など)、ヒドロキシアルキル
基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシ
プロピル基など)、アルコキシアルキル基(例えば、2
−メトキシエチル基、2−(2−メトキシエトキシ)エ
チル基など)、複素環置換アルキル基(例えば2−(ピ
ロリジン−2−オン−1−イル)エチル基、テトラヒド
ロフルフリル基、2−モルホリノエチル基など)、2−
アセトキシエチル基、カルボメトキシメチル基、2−メ
タンスルホニルアミノエチル基、アリル基など}、アリ
ール基(例えばフエニル基、2−ナフチル基など)、置
換アリール基(例えば、4−カルボキシフエニル基、4
−スルホフエニル基、3−クロロフエニル基、3−メチ
ルフエニル基など)、複素環基(例えば、2−ピリジル
基、2−チアゾリル基など)などがある。
p、q、r、s、tは0または1を表わす。m、l、h
は0、1、2、3のいずれかを表わす。k、j、iは0
または1を表わす。nは0、1または2を表わす。
は0、1、2、3のいずれかを表わす。k、j、iは0
または1を表わす。nは0、1または2を表わす。
以下に具体例を挙げて示すが、本発明の範囲はこれのみ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
これらは単独で用いてもよいし二者以上を併用してもよ
い。これらの色素の使用量に特に制限はないが、ハロゲ
ン化銀1モル当り1×10-7〜1×10-2モル、特に1×10
-6〜1×10-3モルであることが好ましい。
い。これらの色素の使用量に特に制限はないが、ハロゲ
ン化銀1モル当り1×10-7〜1×10-2モル、特に1×10
-6〜1×10-3モルであることが好ましい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない
が、70モル%以上、とくに90モル%以上が臭化銀からな
るハロゲン化銀が好ましい。沃化銀の含量は10モル%以
下、特に0.1〜5モル%であることが好ましい。
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない
が、70モル%以上、とくに90モル%以上が臭化銀からな
るハロゲン化銀が好ましい。沃化銀の含量は10モル%以
下、特に0.1〜5モル%であることが好ましい。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.5μ以
下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限はない
が、単分散である方が好ましい。ここでいう単分散とは
重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒子サ
イズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から構成されて
いることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.5μ以
下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限はない
が、単分散である方が好ましい。ここでいう単分散とは
重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒子サ
イズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から構成されて
いることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular)な結晶体を有するものでもよく、
また球状、板状などのような変則的(irregular)な結
晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形の複合形を持つ
ものであつてもよい。
な規則的(regular)な結晶体を有するものでもよく、
また球状、板状などのような変則的(irregular)な結
晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形の複合形を持つ
ものであつてもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成つてい
ても、異なる相からなつていてもよい。別々に形成した
2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して使用してもよ
い。
ても、異なる相からなつていてもよい。別々に形成した
2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して使用してもよ
い。
ここで、二種併用する場合には、特開昭61−223734号及
び同62−90646号に開示されているような平均粒子サイ
ズの異なる二種類の単分散乳剤を含むことが最高濃度
(Dmax)上昇という点で好ましく、小サイズ単分散粒子
は化学増感されていることが好ましく、化学増感の方法
は硫黄増感が最も好ましい。大サイズ単分散乳剤の化学
増感はされていなくてもよいが、化学増感されていても
よい。大サイズ単分散粒子は一般に黒ポツが発生しやす
いので化学増感を行なわないか、化学増感するときは黒
ポツが発生しない程度に浅く施すことが特に好ましい。
ここで「浅く施す」とは小サイズ粒子の化学増感に較べ
化学増感を施す時間を短かくしたり、温度を低くしたり
化学増感剤の添加量を抑えたりして行なうことである。
大サイズ単分散乳剤と小サイズ単分散乳剤の感度差には
特に制限はないがΔlogEとして0.1〜1.0、より好ましく
は0.2〜0.7であり、大サイズ単分散乳剤が高い方が好ま
しい。
び同62−90646号に開示されているような平均粒子サイ
ズの異なる二種類の単分散乳剤を含むことが最高濃度
(Dmax)上昇という点で好ましく、小サイズ単分散粒子
は化学増感されていることが好ましく、化学増感の方法
は硫黄増感が最も好ましい。大サイズ単分散乳剤の化学
増感はされていなくてもよいが、化学増感されていても
よい。大サイズ単分散粒子は一般に黒ポツが発生しやす
いので化学増感を行なわないか、化学増感するときは黒
ポツが発生しない程度に浅く施すことが特に好ましい。
ここで「浅く施す」とは小サイズ粒子の化学増感に較べ
化学増感を施す時間を短かくしたり、温度を低くしたり
化学増感剤の添加量を抑えたりして行なうことである。
大サイズ単分散乳剤と小サイズ単分散乳剤の感度差には
特に制限はないがΔlogEとして0.1〜1.0、より好ましく
は0.2〜0.7であり、大サイズ単分散乳剤が高い方が好ま
しい。
また、ハロゲン化銀乳剤層は単層であつてもよいし、ま
た重層(2層、3層など)であつてもよい。重層の場
合、互に異なつたハロゲン化銀乳剤を用いてもよいし、
同一のものを用いてもよい。
た重層(2層、3層など)であつてもよい。重層の場
合、互に異なつたハロゲン化銀乳剤を用いてもよいし、
同一のものを用いてもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、オジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、オジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
本発明に用いるに特に適したハロゲン化銀は、銀1モル
当り10-8〜10-5モルのイリジウム塩若しくはその錯塩を
存在させて調整され、かつ粒子表面の沃化銀含有率が粒
子平均の沃化銀含有率よりも大きいハロ沃化銀である。
かかるハロ沃化銀を含む乳剤を用いるとより一層高感度
でガンマの高い写真特性が得られる。
当り10-8〜10-5モルのイリジウム塩若しくはその錯塩を
存在させて調整され、かつ粒子表面の沃化銀含有率が粒
子平均の沃化銀含有率よりも大きいハロ沃化銀である。
かかるハロ沃化銀を含む乳剤を用いるとより一層高感度
でガンマの高い写真特性が得られる。
上記においては、ハロゲン化銀乳剤の製造工程の物理熟
成終了前とくに粒子形成時に上記の量のイリジウム塩を
加えることが望ましい。
成終了前とくに粒子形成時に上記の量のイリジウム塩を
加えることが望ましい。
ここで用いられるイリジウム塩は水溶性のイリジウム塩
またはイリジウム錯塩で、例えば三塩化イリジウム、四
塩化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム(III)酸カ
リウム、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム、ヘ
キサクロロイリジウム(III)酸アンモニウムなどがあ
る。
またはイリジウム錯塩で、例えば三塩化イリジウム、四
塩化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム(III)酸カ
リウム、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム、ヘ
キサクロロイリジウム(III)酸アンモニウムなどがあ
る。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エス
テル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、
澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニル
ピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ
アクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニル
ピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成
親水性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エス
テル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、
澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニル
ピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ
アクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニル
ピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成
親水性高分子物質を用いることができる。
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感されていな
くてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロゲン化
銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元増感及
び貴金属増感法が知られており、これらのいずれをも単
独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
くてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロゲン化
銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元増感及
び貴金属増感法が知られており、これらのいずれをも単
独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩を含有しても
差支えない。
合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩を含有しても
差支えない。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフイン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
ジンスルフイン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明の写真感光材料には、高感、硬調化促進を目的と
して特開昭60−140340号及び同61−167939号に記載され
た化合物を添加することができる。これらは単独で用い
てもよく2種以上の組合せで用いてもよい。
して特開昭60−140340号及び同61−167939号に記載され
た化合物を添加することができる。これらは単独で用い
てもよく2種以上の組合せで用いてもよい。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止し、あるいは写真性能
を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させること
ができる。すなわちアゾール類たとえば、ベンゾチアゾ
リウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダ
ゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチ
アゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプ
トチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチ
アゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メル
カプトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえ
ばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイ
ンデン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイ
ンデン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラ
ザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼン
チオスルフオン酸、ベンゼンスルフイン酸、ベンゼンス
ルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤
として知られた多くの化合物を加えることができる。こ
れらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾール類
(例えば、5−メチル・ベンゾトリアゾール)及びニト
ロインダゾール類(例えば、5−ニトロインダゾール)
である。また、これらの化合物を処理液に含有させても
よい。
るいは写真処理中のカブリを防止し、あるいは写真性能
を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させること
ができる。すなわちアゾール類たとえば、ベンゾチアゾ
リウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダ
ゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチ
アゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプ
トチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチ
アゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メル
カプトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえ
ばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイ
ンデン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイ
ンデン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラ
ザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼン
チオスルフオン酸、ベンゼンスルフイン酸、ベンゼンス
ルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤
として知られた多くの化合物を加えることができる。こ
れらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾール類
(例えば、5−メチル・ベンゾトリアゾール)及びニト
ロインダゾール類(例えば、5−ニトロインダゾール)
である。また、これらの化合物を処理液に含有させても
よい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えば、クロム塩(クロムミヨウバンなど)、アルデヒ
ド類(ホルムアルデヒドなど)、N−メチロール化合物
(ジメチロール尿素など)、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ
−s−トリアジン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロ
パノールなど)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル
−6−ヒドロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲ
ン酸類(ムコクロル酸、ムコフエノキシクロル酸な
ど)、などを単独または組み合わせて用いることができ
る。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えば、クロム塩(クロムミヨウバンなど)、アルデヒ
ド類(ホルムアルデヒドなど)、N−メチロール化合物
(ジメチロール尿素など)、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ
−s−トリアジン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロ
パノールなど)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル
−6−ヒドロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲ
ン酸類(ムコクロル酸、ムコフエノキシクロル酸な
ど)、などを単独または組み合わせて用いることができ
る。
本発明の感光材料の写真乳剤層または他の親水性コロイ
ド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性改良、乳化分
散、接着防止及び写真特性改良(例えば、現像促進、硬
調化、増感)等種々の目的で、種々の界面活性剤を含ん
でもよい。
ド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性改良、乳化分
散、接着防止及び写真特性改良(例えば、現像促進、硬
調化、増感)等種々の目的で、種々の界面活性剤を含ん
でもよい。
例えば、サポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサ
イド誘導体(例えば、ポリエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、
ポリエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエ
チレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエ
チレングリコールエステル類、ポリエチレングリコール
ソルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアル
キルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオ
キサイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えば、ア
ルケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフエノール
ポリグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル
類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性
剤;アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフオン酸塩、
アルキルベンゼンスルフオン酸塩、アルキルナフタレン
スルフオン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリ
ン酸エステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン
類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオ
キシエチレンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシ
エチレンアルキルリン酸エステル類などのような、カル
ボキシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン
酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;ア
ミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキ
ル硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、ア
ミンオキシド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン
塩類、脂肪族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、
ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アン
モニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウ
ム又はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用
いることができる。
イド誘導体(例えば、ポリエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、
ポリエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエ
チレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエ
チレングリコールエステル類、ポリエチレングリコール
ソルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアル
キルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオ
キサイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えば、ア
ルケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフエノール
ポリグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル
類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性
剤;アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフオン酸塩、
アルキルベンゼンスルフオン酸塩、アルキルナフタレン
スルフオン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリ
ン酸エステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン
類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオ
キシエチレンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシ
エチレンアルキルリン酸エステル類などのような、カル
ボキシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン
酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;ア
ミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキ
ル硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、ア
ミンオキシド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン
塩類、脂肪族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、
ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アン
モニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウ
ム又はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用
いることができる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭58−9412号公報に記載された分子量600以上のポリ
アルキレンオキサイド類である。
公昭58−9412号公報に記載された分子量600以上のポリ
アルキレンオキサイド類である。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレート等のマツト剤を含むこと
ができる。
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレート等のマツト剤を含むこと
ができる。
本発明の感光材料には寸度安定性の改良などの目的で、
水溶性または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえば、アルキル(メタ)アクリレート、ア
ルコキシアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル
(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニ
ルエステル(たとえば、酢酸ビニル)、アクリロニトリ
ル、オレフイン、スチレンなどの単独もしくは組合せ
や、またはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、α,
β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート、スルフオアルキル(メタ)アクリレー
ト、スチレンスルフオン酸などの組合せを単量体成分と
するポリマーを用いることができる。
水溶性または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえば、アルキル(メタ)アクリレート、ア
ルコキシアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル
(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニ
ルエステル(たとえば、酢酸ビニル)、アクリロニトリ
ル、オレフイン、スチレンなどの単独もしくは組合せ
や、またはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、α,
β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート、スルフオアルキル(メタ)アクリレー
ト、スチレンスルフオン酸などの組合せを単量体成分と
するポリマーを用いることができる。
本発明の感光材料の支持体としては、セルローストリア
セテート、セルロースジアセテート、ニトロセルロー
ス、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートなどを
用いうるがポリエチレンテレフタレートフイルムである
ことが最も好ましい。
セテート、セルロースジアセテート、ニトロセルロー
ス、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートなどを
用いうるがポリエチレンテレフタレートフイルムである
ことが最も好ましい。
これらの支持体は、公知の方法でコロナ処理されてもよ
く、又、必要に応じて公知の方法で下引き加工されても
よい。
く、又、必要に応じて公知の方法で下引き加工されても
よい。
また、温度や湿度の変化によつて寸法が変化する、いわ
ゆる寸度安定性を高めるために、ポリ塩化ビニリデン系
ポリマーを含む防水層を設けてもよい。
ゆる寸度安定性を高めるために、ポリ塩化ビニリデン系
ポリマーを含む防水層を設けてもよい。
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭53−77616、同54−3773
2、同53−137,133、同60−140,340、同60−14959、など
に開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各種
の化合物が有効である。
現像の促進剤としては、特開昭53−77616、同54−3773
2、同53−137,133、同60−140,340、同60−14959、など
に開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各種
の化合物が有効である。
次に具体例を列挙する。
これらの促進剤は、化合物の種類によつて最適添加量が
異なるが1.0×10-3〜0.5g/m2、好ましくは5.0×10-3〜
0.1g/m2の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進剤
は適当な溶媒(H2O)メタノールやエタノールなどのア
ルコール類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチル
セルソルブなど)に溶解して塗布液に添加される。
異なるが1.0×10-3〜0.5g/m2、好ましくは5.0×10-3〜
0.1g/m2の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進剤
は適当な溶媒(H2O)メタノールやエタノールなどのア
ルコール類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチル
セルソルブなど)に溶解して塗布液に添加される。
n−C4H9N(C2H4OH)2 本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他
の層には酸基を有する化合物を含有することが好まし
い。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、ア
スコルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、
フタル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有する
ポリマー又はコポリマーを挙げることができる。これら
の化合物に関しては特開昭61−223834号、同61−228437
号、同62−25745号、同62−55642号及び特願昭61−6274
0号明細書の記録を参考にすることができる。これらの
化合物の中でも特に好ましいのは、低分子化合物として
はアスコルビン酸であり、高分子化合物としてはアクリ
ル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの如き2個以
上の不飽和基を有する架橋性モノマーからなるコポリマ
ーの水分散性ラテツクスである。
の層には酸基を有する化合物を含有することが好まし
い。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、ア
スコルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、
フタル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有する
ポリマー又はコポリマーを挙げることができる。これら
の化合物に関しては特開昭61−223834号、同61−228437
号、同62−25745号、同62−55642号及び特願昭61−6274
0号明細書の記録を参考にすることができる。これらの
化合物の中でも特に好ましいのは、低分子化合物として
はアスコルビン酸であり、高分子化合物としてはアクリ
ル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの如き2個以
上の不飽和基を有する架橋性モノマーからなるコポリマ
ーの水分散性ラテツクスである。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調で高感度
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第
2,419,975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液
を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることができ
る。
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第
2,419,975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液
を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることができ
る。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0.15モル/l以上含み、pH10.5〜1
2.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によつて充分に超硬調
のネガ画像を得ることができる。
しての亜硫酸イオンを0.15モル/l以上含み、pH10.5〜1
2.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によつて充分に超硬調
のネガ画像を得ることができる。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な制
限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシベ
ンゼン類と1−フエニル−3−ピラゾリドン類の組合せ
またはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフエノール
類の組合せを用いる場合もある。
限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシベ
ンゼン類と1−フエニル−3−ピラゾリドン類の組合せ
またはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフエノール
類の組合せを用いる場合もある。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジクロ
ロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、2,5
−ジメチルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロキ
ノンが好ましい。
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジクロ
ロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、2,5
−ジメチルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロキ
ノンが好ましい。
本発明に用いる1−フエニル−3−ピラゾリドン又はそ
の誘導体の現像主薬としては1−フエニル−3−ピラゾ
リドン、1−フエニル−4,4−ジメチル−4−ピラゾリ
ドン、1−フエニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−3−ピラゾリドン、1−フエニル−4,4−ジヒドロ
キシメチル−3−ピラゾリドン、1−フエニル−5−メ
チル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフエニル−4,
4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
の誘導体の現像主薬としては1−フエニル−3−ピラゾ
リドン、1−フエニル−4,4−ジメチル−4−ピラゾリ
ドン、1−フエニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−3−ピラゾリドン、1−フエニル−4,4−ジヒドロ
キシメチル−3−ピラゾリドン、1−フエニル−5−メ
チル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフエニル−4,
4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル−4,4
−ジメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるp−アミノフエノール系現像主薬として
はN−メチル−p−アミノフエノール、p−アミノフエ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
エノール、N−(4−ヒドロキシフエニル)グリシン、
2−メチル−p−アミノフエノール、p−ベンジルアミ
ノフエノール等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミノフエノールが好ましい。
はN−メチル−p−アミノフエノール、p−アミノフエ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
エノール、N−(4−ヒドロキシフエニル)グリシン、
2−メチル−p−アミノフエノール、p−ベンジルアミ
ノフエノール等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミノフエノールが好ましい。
現像主薬は通常0.05モル/l〜0.8モル/lの量で用いられ
るのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と1−フ
エニル−3−ピラゾリドン類又はp・アミノ・フエノー
ル類との組合せを用いる場合には前者を0.05モル/l〜0.
5モル/l、後者を0.06モル/l以下の量で用いるのが好ま
しい。
るのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と1−フ
エニル−3−ピラゾリドン類又はp・アミノ・フエノー
ル類との組合せを用いる場合には前者を0.05モル/l〜0.
5モル/l、後者を0.06モル/l以下の量で用いるのが好ま
しい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.4モル/l以上特に0.5モル/l以上が好ましい。ま
た上限は2.5モル/lまでとするのが好ましい。
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.4モル/l以上特に0.5モル/l以上が好ましい。ま
た上限は2.5モル/lまでとするのが好ましい。
pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きpH調
節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.5〜12.3の間に設
定される。
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きpH調
節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.5〜12.3の間に設
定される。
上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホウ
砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化
カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチル
ホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコー
ル、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:1−フエニ
ル−5−メルカプトテトラゾール、5−ニトロインダゾ
ール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンツトリ
アゾール等のベンツトリアゾール系化合物などのカブリ
防止剤又は黒ポツ(black pepper)防止剤:を含んでも
よく、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、
硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56−106244号記載のアミノ
化合物などを含んでもよい。
砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化
カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチル
ホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコー
ル、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:1−フエニ
ル−5−メルカプトテトラゾール、5−ニトロインダゾ
ール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンツトリ
アゾール等のベンツトリアゾール系化合物などのカブリ
防止剤又は黒ポツ(black pepper)防止剤:を含んでも
よく、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、
硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56−106244号記載のアミノ
化合物などを含んでもよい。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤して特開昭56−24,347
号に記載の化合物を用いることができる。現像液中に添
加する溶解助剤して特願昭60−109,743号に記載の化合
物を用いることができる。さらに現像液に用いるpH緩衝
剤として特開昭60−93,433号に記載の化合物あるいは特
願昭61−28708号に記載の化合物を用いることができ
る。
号に記載の化合物を用いることができる。現像液中に添
加する溶解助剤して特願昭60−109,743号に記載の化合
物を用いることができる。さらに現像液に用いるpH緩衝
剤として特開昭60−93,433号に記載の化合物あるいは特
願昭61−28708号に記載の化合物を用いることができ
る。
定着剤としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤として
水溶性アルミニウム(例えば硫酸アルミニウム、明バン
など)を含んでもよい。ここで水溶性アルミニウム塩の
量としては通常0.4〜2.0g−Al/lである。さらに三価の
鉄化合物を酸化剤としてエチレンジアミン4酢酸との錯
体として用いることもできる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤として
水溶性アルミニウム(例えば硫酸アルミニウム、明バン
など)を含んでもよい。ここで水溶性アルミニウム塩の
量としては通常0.4〜2.0g−Al/lである。さらに三価の
鉄化合物を酸化剤としてエチレンジアミン4酢酸との錯
体として用いることもできる。
現像処理温度は通常18℃から50℃の間で選ばれるがより
好しくは25℃から43℃である。
好しくは25℃から43℃である。
(実施例) 次に、本発明について実施例にもとづいてより具体的に
説明する。
説明する。
(現像液処方) ハイドロキノン 45.0g N・メチルp・アミノフエノール1/2硫酸塩 0.8g 水酸化ナトリウム 18.0g 水酸化カリウム 55.0g 5−スルホサリチル酸 45.0g ホウ酸 25.0g 亜硫酸カリウム 110.0g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1.0g 臭化カリウム 6.0g 5メチルベンゾトリアゾール 0.6g n・ブチル・ジエタノールアミン 15.0g 水を加えて 1 (pH=11.6) 現像温度および時間は34℃30秒である。
なお、黒ポツの評価のためには、強制条件として、34℃
40秒で現像した。
40秒で現像した。
(比較例−1) 50℃に保つたゼラチン水溶液にAg1モル当り、4×10-7
モルの6塩化イリジウム(IV)カリおよびアンモニアの
存在下で硝酸塩水溶液と沃化カリウム、臭化カリウム水
溶液を同時に60分間で加え、その間のpAgを7.8に保つこ
とにより平均粒径0.25μ、平均ヨウ化銀含有量1モル%
の立方体単分散乳剤を調製した。これらのヨウ臭化銀乳
剤に、増感色素として、オルソ増感のための5,5′−ジ
クロロ−9−エチル−3,3′−ビス(3−スルホプロピ
ル)オキサカルボシアニンのナトリウム塩を銀1モル当
り3.0×10-4モルを加え、パンクロ増感のために本発明
のカチオン色素を表−1に示すように添加した。
モルの6塩化イリジウム(IV)カリおよびアンモニアの
存在下で硝酸塩水溶液と沃化カリウム、臭化カリウム水
溶液を同時に60分間で加え、その間のpAgを7.8に保つこ
とにより平均粒径0.25μ、平均ヨウ化銀含有量1モル%
の立方体単分散乳剤を調製した。これらのヨウ臭化銀乳
剤に、増感色素として、オルソ増感のための5,5′−ジ
クロロ−9−エチル−3,3′−ビス(3−スルホプロピ
ル)オキサカルボシアニンのナトリウム塩を銀1モル当
り3.0×10-4モルを加え、パンクロ増感のために本発明
のカチオン色素を表−1に示すように添加した。
さらに、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a,7−テトラザインデン、ポリエチルアクリレートラ
テツクス、ポリエチレングリコール、1,3−ビニルスル
ホニル−2−プロパノール、1−フエニル−5−メルカ
プトテトラゾール、1,4−ビス〔3−(4−アセチルア
ミノ−ピリジニオ)プロピオニルオキシ〕−テトラメチ
レンジブロミドおよびヒドラジン誘導体としてII−30を
銀1モル当り3.0×10-3モルを添加し、厚み100μのポリ
エチレンテレフタレートフイルム上に銀量3.4g/m2にな
るように塗布を行つた。ゼラチンの塗布量は3.2g/m2で
あつた。
3,3a,7−テトラザインデン、ポリエチルアクリレートラ
テツクス、ポリエチレングリコール、1,3−ビニルスル
ホニル−2−プロパノール、1−フエニル−5−メルカ
プトテトラゾール、1,4−ビス〔3−(4−アセチルア
ミノ−ピリジニオ)プロピオニルオキシ〕−テトラメチ
レンジブロミドおよびヒドラジン誘導体としてII−30を
銀1モル当り3.0×10-3モルを添加し、厚み100μのポリ
エチレンテレフタレートフイルム上に銀量3.4g/m2にな
るように塗布を行つた。ゼラチンの塗布量は3.2g/m2で
あつた。
この上に保護層としてゼラチン1.3g/m2、粒径2.5μのポ
リメチルメタクリレート50mg/m2、メタノールシリカ0.1
5g/m2、塗布助剤として下記構造式で示されるフツ素系
界面活性剤およびドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ムを含む層を同時に塗布した。
リメチルメタクリレート50mg/m2、メタノールシリカ0.1
5g/m2、塗布助剤として下記構造式で示されるフツ素系
界面活性剤およびドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ムを含む層を同時に塗布した。
実施例−1 比較例−1に対して、表−1に示すように、本発明の一
般式(I)で表わされる化合物をハロゲン化銀乳剤層に
添加した。その他は比較例−1と同様にした。
般式(I)で表わされる化合物をハロゲン化銀乳剤層に
添加した。その他は比較例−1と同様にした。
(写真性能の評価) 比較例および実施例の各試料を露光および現像を行つ
た。その結果を表−1に示す。表−1より明らかなよう
に、本発明の試料は、比較例に比べて著るしく黒ポツが
減少しているのがわかる。
た。その結果を表−1に示す。表−1より明らかなよう
に、本発明の試料は、比較例に比べて著るしく黒ポツが
減少しているのがわかる。
(1)相対感度は濃度1.5を与える露光量の逆数の相対
値で比較試料−aの値を100とした。
値で比較試料−aの値を100とした。
(2)黒ポツは顕微鏡観察により直径約4mmの視野を25
倍に拡大してその中にある黒ポツの数をカウントするこ
とにより評価した。従つて数値が小さいほど黒ポツは良
いことを表わす。
倍に拡大してその中にある黒ポツの数をカウントするこ
とにより評価した。従つて数値が小さいほど黒ポツは良
いことを表わす。
感度、階調(γ)、画像の最高濃度(Dmax)は表−1か
らわかるように実質的に大きくは変らなかつた。
らわかるように実質的に大きくは変らなかつた。
実施例−2 ヒドラジン誘導体として、II−30の代りにII−33を銀1
モルに対して2.5×10-4モル用いる他は、比較例−1と
同様にして、さらに、表−2に示すようにカチオン色
素、および一般式(I)の化合物を添加した。
モルに対して2.5×10-4モル用いる他は、比較例−1と
同様にして、さらに、表−2に示すようにカチオン色
素、および一般式(I)の化合物を添加した。
実施例−1と同様にして評価した結果を表−2に示し
た。
た。
実施例−3 実施例2−4に対して、さらに次の現像促進剤を18mg/m
2を添加した。
2を添加した。
得られた写真性能は、感度108、階調(γ)21、Dmax4.
4、黒ポツ6と良好な結果を得た。
4、黒ポツ6と良好な結果を得た。
実施例−4 実施例2−4に対して、さらに、次の酸ポリマーラテツ
クスを0.2g/m2、0.4g/m2添加した。それぞれ実施例4−
1、および4−2の試料をテストした。得られた結果は
表−3に示すように、さらに黒ポツが改良された。
クスを0.2g/m2、0.4g/m2添加した。それぞれ実施例4−
1、および4−2の試料をテストした。得られた結果は
表−3に示すように、さらに黒ポツが改良された。
Claims (1)
- 【請求項1】支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀
乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層もしくはその他の
親水性コロイド層中に、ヒドラジン誘導体、シアニン、
ヘミシアニンおよびロダシアニンから選ばれる少なくと
も一種のカチオン色素及び下記一般式(I)で表わされ
る実質的に可視域に吸収極大を持たない化合物を含有す
ることを特徴とするネガ型ハロゲン化銀写真感光材料; 一般式(I) Z11及びZ12は各々ベンズオキサゾール核、ベンゾチアゾ
ール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。R11及びR12はアルキル基またはアラルキル基を
表わし、そのうち少くとも1つは酸基を有する。Xは電
荷バランス対イオンであり、nは0又は1を表わす。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62269928A JPH0769583B2 (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE88117842T DE3884131T2 (de) | 1987-10-26 | 1988-10-26 | Photographisches Silberhalogenidmaterial. |
| EP88117842A EP0314104B1 (en) | 1987-10-26 | 1988-10-26 | Silver halide photographic materials |
| US07/262,634 US5093222A (en) | 1987-10-26 | 1988-10-26 | Silver halide photographic materials |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62269928A JPH0769583B2 (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JPH0769583B2 true JPH0769583B2 (ja) | 1995-07-31 |
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|---|---|---|---|
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| EP (1) | EP0314104B1 (ja) |
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| JPH03168634A (ja) * | 1989-11-28 | 1991-07-22 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料の写真処理方法 |
| EP0599384B1 (en) * | 1992-11-19 | 2000-01-19 | Eastman Kodak Company | Dye compounds and photographic elements containing such dyes |
| JPH0713290A (ja) * | 1993-06-22 | 1995-01-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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| EP0677782B1 (en) * | 1994-04-15 | 2003-10-29 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing emulsion with particular blue sensitivity and method of processing such element |
| US5474887A (en) * | 1994-04-15 | 1995-12-12 | Eastman Kodak Company | Photographic elements containing particular blue sensitized tabular grain emulsion |
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| JP5207728B2 (ja) | 2006-12-21 | 2013-06-12 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜およびその製造方法 |
| US20100291706A1 (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-18 | Millipore Corporation | Dye conjugates and methods of use |
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| JPS5434534B2 (ja) * | 1974-07-25 | 1979-10-27 | ||
| JPS599900B2 (ja) * | 1975-03-29 | 1984-03-06 | コニカ株式会社 | ハロゲンカギンカラ−シヤシンカンコウザイリヨウ |
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| JPS61123832A (ja) * | 1984-11-20 | 1986-06-11 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH0766159B2 (ja) * | 1985-09-04 | 1995-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法 |
| US4725532A (en) * | 1986-01-30 | 1988-02-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic light-sensitive material and high contrast negative image forming process using them |
| JPH0736075B2 (ja) * | 1986-02-04 | 1995-04-19 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法 |
| JPH0782219B2 (ja) * | 1986-04-03 | 1995-09-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 超硬調ネガ型写真感光材料 |
| JPS63104048A (ja) * | 1986-10-21 | 1988-05-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
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| JPH0612406B2 (ja) * | 1986-11-14 | 1994-02-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JP2533333B2 (ja) * | 1987-09-01 | 1996-09-11 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1987
- 1987-10-26 JP JP62269928A patent/JPH0769583B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-10-26 US US07/262,634 patent/US5093222A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-26 EP EP88117842A patent/EP0314104B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-26 DE DE88117842T patent/DE3884131T2/de not_active Expired - Fee Related
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| EP0314104B1 (en) | 1993-09-15 |
| EP0314104A2 (en) | 1989-05-03 |
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| DE3884131T2 (de) | 1994-04-14 |
| EP0314104A3 (en) | 1990-01-31 |
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