JPH0788371B2 - (e)−又は(z)−3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類及びその製法 - Google Patents
(e)−又は(z)−3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類及びその製法Info
- Publication number
- JPH0788371B2 JPH0788371B2 JP12922086A JP12922086A JPH0788371B2 JP H0788371 B2 JPH0788371 B2 JP H0788371B2 JP 12922086 A JP12922086 A JP 12922086A JP 12922086 A JP12922086 A JP 12922086A JP H0788371 B2 JPH0788371 B2 JP H0788371B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- butene
- reaction
- phenylthio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- CQRLKSIDKBTDRC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylsulfanyl-2h-furan-5-one Chemical class O=C1OCC(SC=2C=CC=CC=2)=C1 CQRLKSIDKBTDRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 6
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 53
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 n-octyl Chemical group 0.000 description 9
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 7
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 4
- 238000006462 rearrangement reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 4
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 3
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- VIHAEDVKXSOUAT-UHFFFAOYSA-N but-2-en-4-olide Chemical compound O=C1OCC=C1 VIHAEDVKXSOUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002917 insecticide Substances 0.000 description 3
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003898 horticulture Methods 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M sodium periodate Chemical compound [Na+].[O-]I(=O)(=O)=O JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNCXXLQBHIIIOE-PTNGSMBKSA-N (5Z)-5-benzylidene-4-phenylsulfanylfuran-2-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC(=O)O\C1=C/C1=CC=CC=C1 GNCXXLQBHIIIOE-PTNGSMBKSA-N 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NYSGNNULGPBKOK-UHFFFAOYSA-N 4-phenylsulfanyl-2h-furan-5-one Chemical compound O=C1OCC=C1SC1=CC=CC=C1 NYSGNNULGPBKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTPBUCCXRGSDCR-UHFFFAOYSA-N 4-piperidin-1-ylpyridine Chemical compound C1CCCCN1C1=CC=NC=C1 MTPBUCCXRGSDCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJWQYVJVCXMTJP-UHFFFAOYSA-N 4-pyridin-4-ylmorpholine Chemical compound C1COCCN1C1=CC=NC=C1 QJWQYVJVCXMTJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGUKYNXWOWSRET-UHFFFAOYSA-N 4-pyrrolidin-1-ylpyridine Chemical compound C1CCCN1C1=CC=NC=C1 RGUKYNXWOWSRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006778 Pummerer Sulfoxide rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N [methyl(oxido){1-[6-(trifluoromethyl)pyridin-3-yl]ethyl}-lambda(6)-sulfanylidene]cyanamide Chemical compound N#CN=S(C)(=O)C(C)C1=CC=C(C(F)(F)F)N=C1 ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- PMOWTIHVNWZYFI-WAYWQWQTSA-N cis-2-coumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1O PMOWTIHVNWZYFI-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000010446 mirabilite Substances 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWUZCAVKPCRJPO-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-4-(6-methyl-1,3-benzothiazol-2-yl)aniline Chemical compound C1=CC(NCC)=CC=C1C1=NC2=CC=C(C)C=C2S1 KWUZCAVKPCRJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfate decahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規な(E)−又は(Z)−3−フエニルチオ
−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類及びその製
法に関する。更に詳しくは、本発明は医薬、農薬分野に
おける抗菌、殺菌、殺虫剤等として有用な生理活性化合
物又はその合成中間中間体として有用な(E)−又は
(Z)−3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン
−4−オリド類に関するものである。
−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類及びその製
法に関する。更に詳しくは、本発明は医薬、農薬分野に
おける抗菌、殺菌、殺虫剤等として有用な生理活性化合
物又はその合成中間中間体として有用な(E)−又は
(Z)−3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン
−4−オリド類に関するものである。
発明の構成 本発明者らは、例えば医薬分野、農園芸分野などにおい
て抗菌、殺菌、殺虫剤などとして有用な生理活性化合
物、更にはその合成中間体として有用な2−フエニルチ
オ−2−ブテン−4−オリド系化合物の合成研究を行っ
てきたが、今回、新規な(E)−もしくは(Z)−3−
フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド
類が存在できること及び該化合物が容易な手段で合成で
きることを発見した。
て抗菌、殺菌、殺虫剤などとして有用な生理活性化合
物、更にはその合成中間体として有用な2−フエニルチ
オ−2−ブテン−4−オリド系化合物の合成研究を行っ
てきたが、今回、新規な(E)−もしくは(Z)−3−
フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド
類が存在できること及び該化合物が容易な手段で合成で
きることを発見した。
即ち、本発明の新規な(E)−又は(Z)−3−フエニ
ルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類は式
(Ia) 又は式(Ib) [上記2式中、R1はハロゲン、好ましくはCl,Br及び
F、及び低級アルキルよりなる群より選ばれた置換基を
随意有してもよいフエニル基を示し、 R2はハロゲン、好ましはCl、Br及びF、及び低級アルキ
ル基よりなる群より選ばれた置換基を随意有してもよい
フエニル基もしくはベンジル基又はC1〜C10アルキル基
を示す] で表わされるものである。
ルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類は式
(Ia) 又は式(Ib) [上記2式中、R1はハロゲン、好ましくはCl,Br及び
F、及び低級アルキルよりなる群より選ばれた置換基を
随意有してもよいフエニル基を示し、 R2はハロゲン、好ましはCl、Br及びF、及び低級アルキ
ル基よりなる群より選ばれた置換基を随意有してもよい
フエニル基もしくはベンジル基又はC1〜C10アルキル基
を示す] で表わされるものである。
本発明で用いる(E)体はシス型、(Z)体はトランス
型の幾何学異性体を意味する。
型の幾何学異性体を意味する。
本発明は、更に、上記式(Ia)及び式(Ib)の新規な
(E)−又は(Z)−3−フエニル−4−イリデン−2
−ブテン−4−オリド類の製法を提供する。即ち、式
(Ia)及び式(Ib)の(E)−又は(Z)−3−フエニ
ル−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類は、式
(II) [ここで、R1は前記の意味を有する] の3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリド類を式
(III) R2−CHO (III) [ここで、R2は前記の意味を有する] のアルデヒドと反応させ、得られた生成物を、好ましく
は分離精製することなく、有機塩基触媒と接触させて分
子内脱水反応させることを特徴とする方法により容易に
製造することができることが今度発見された。
(E)−又は(Z)−3−フエニル−4−イリデン−2
−ブテン−4−オリド類の製法を提供する。即ち、式
(Ia)及び式(Ib)の(E)−又は(Z)−3−フエニ
ル−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類は、式
(II) [ここで、R1は前記の意味を有する] の3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリド類を式
(III) R2−CHO (III) [ここで、R2は前記の意味を有する] のアルデヒドと反応させ、得られた生成物を、好ましく
は分離精製することなく、有機塩基触媒と接触させて分
子内脱水反応させることを特徴とする方法により容易に
製造することができることが今度発見された。
前記式(Ia)、(Ib)及び(III)の化合物において、R
1が置換フエニル基である場合の該置換基としては、C
l、Br、F、Iのようなハロゲン及びメチル、エチル、
n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチ
ル、sec−ブチル、tert−ブチルのような低級アルキル
を例示することができる。
1が置換フエニル基である場合の該置換基としては、C
l、Br、F、Iのようなハロゲン及びメチル、エチル、
n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチ
ル、sec−ブチル、tert−ブチルのような低級アルキル
を例示することができる。
また、前記式(Ia)、(Ib)及び(III)の化合物にお
けるR2としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso
−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、
tert−ブチル、n−ペンチル、iso−ペンチル、n−ヘ
キシル、iso−ヘキシル、n−ヘプチル、iso−ヘプチ
ル、n−オクチル、iso−オクチル、ノニル、デシルの
ようなC1〜C10アルキルを例示することができる。
けるR2としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso
−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、
tert−ブチル、n−ペンチル、iso−ペンチル、n−ヘ
キシル、iso−ヘキシル、n−ヘプチル、iso−ヘプチ
ル、n−オクチル、iso−オクチル、ノニル、デシルの
ようなC1〜C10アルキルを例示することができる。
前記の式(II)の3−フエニルチオ−2−ブテン−4−
オリド類より式(Ia)又は式(Ib)の3−フエニルチオ
−4−イリデン−2−ブテン−4オリド類の製法は下記
反応式で示すことができる。
オリド類より式(Ia)又は式(Ib)の3−フエニルチオ
−4−イリデン−2−ブテン−4オリド類の製法は下記
反応式で示すことができる。
上記式(II)化合物→(Ia)又は(Ib)化合物への反応
のうち、式(II)化合物3−フエニルチオ−2−ブテン
−4−オリドと式(III)のアルデヒドとの付加反応
は、例えば下記のように行なうことができる。式(II)
化合物3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリドをテ
トラヒドロフラン(THF)溶媒中ジイソプロピルアミンT
HF溶液とn−ブチルリチウム・ヘキサン溶液との混合液
に不活性ガス(例えば、窒素、アルゴンなど)気流中、
−50℃で滴下した後、これに式(III)のベンツアルデ
ヒドのTHF溶液を滴下して、例えば、1時間、−50℃の
条件で反応させて、反応液を処理すると式(II)と式
(III)化合物の付加物が得られる。これをそのまま、
若しくは精製した後、不活性有機溶媒に溶解し、例えば
これにトリエチルアミンと触媒料の4−(N,N−ジメチ
ルアミノ)ピリジンを加え、これに無水酢酸・ベンゼン
溶液を滴下し、室温で2時間撹拌反応せしめた後、6〜
7時間煮沸還流し、分子内脱水反応を完結せしめる。反
応液を処理し、溶媒と蒸発除去した残留物を、石油エー
テル・テーテル(3:1)混合溶媒に溶解し、シリカゲル
・カラムクロマトグラフイーで分離精製すれば先づ
(Z)−4−ベンジリデン−3−フエニルチオ−2−ブ
テン−4−オリドが溶出し、次いで(E)−4−ベンジ
リデン−3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリドが
得られる。
のうち、式(II)化合物3−フエニルチオ−2−ブテン
−4−オリドと式(III)のアルデヒドとの付加反応
は、例えば下記のように行なうことができる。式(II)
化合物3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリドをテ
トラヒドロフラン(THF)溶媒中ジイソプロピルアミンT
HF溶液とn−ブチルリチウム・ヘキサン溶液との混合液
に不活性ガス(例えば、窒素、アルゴンなど)気流中、
−50℃で滴下した後、これに式(III)のベンツアルデ
ヒドのTHF溶液を滴下して、例えば、1時間、−50℃の
条件で反応させて、反応液を処理すると式(II)と式
(III)化合物の付加物が得られる。これをそのまま、
若しくは精製した後、不活性有機溶媒に溶解し、例えば
これにトリエチルアミンと触媒料の4−(N,N−ジメチ
ルアミノ)ピリジンを加え、これに無水酢酸・ベンゼン
溶液を滴下し、室温で2時間撹拌反応せしめた後、6〜
7時間煮沸還流し、分子内脱水反応を完結せしめる。反
応液を処理し、溶媒と蒸発除去した残留物を、石油エー
テル・テーテル(3:1)混合溶媒に溶解し、シリカゲル
・カラムクロマトグラフイーで分離精製すれば先づ
(Z)−4−ベンジリデン−3−フエニルチオ−2−ブ
テン−4−オリドが溶出し、次いで(E)−4−ベンジ
リデン−3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリドが
得られる。
上記反応では例えば、先づ不活性ガス気流中(例えば窒
素、アルゴンなど)、ジイソプロピルアミン・THF溶液
とn−ブチルリチウム・ヘキサン溶液を−50℃で混合す
る。ジイソプロピルアミンの使用料は適宜に選択できる
が、例えば式(II)化合物に基づいて約1〜約1.2倍モ
ルの如き使用量を例示することできる。n−ブチルリチ
ウムの使用量も適宜に選択できるが、ジイソプロピルア
ミンの使用量に基いて当モルを使用することができる。
素、アルゴンなど)、ジイソプロピルアミン・THF溶液
とn−ブチルリチウム・ヘキサン溶液を−50℃で混合す
る。ジイソプロピルアミンの使用料は適宜に選択できる
が、例えば式(II)化合物に基づいて約1〜約1.2倍モ
ルの如き使用量を例示することできる。n−ブチルリチ
ウムの使用量も適宜に選択できるが、ジイソプロピルア
ミンの使用量に基いて当モルを使用することができる。
又式(III)R2CHOの使用量は式(II)化合物に基づいて
約1〜約2倍モルの使用量を例示することができる。反
応温度は比較的低温度条件下で行うことが好ましく、例
えば−20〜−70℃の如き低温条件を例示することができ
る。反応時間は約0.5〜約2時間で付加反応は終了す
る。
約1〜約2倍モルの使用量を例示することができる。反
応温度は比較的低温度条件下で行うことが好ましく、例
えば−20〜−70℃の如き低温条件を例示することができ
る。反応時間は約0.5〜約2時間で付加反応は終了す
る。
上記付加反応に用いられる溶媒としては、ベンゼン、ア
セトニトリル、THF、塩化メチレン、ジクロロエタン当
の不活性有機溶媒を例示することができる。
セトニトリル、THF、塩化メチレン、ジクロロエタン当
の不活性有機溶媒を例示することができる。
付加反応後の後処理は常法に従い、例えば下記のような
行なうことができる。反応終了後、適量の飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、室温まで放置した後、エーテル
で反応生成物を抽出し、エーテル層を脱水芒硝(又は無
水硫酸マグネシウム)で脱水した後、エーテルを留去し
て付加反応生成物を得ることができるが、必要に応じシ
リカゲル・カラムクロマトグラフイーで精製を行っても
よい。
行なうことができる。反応終了後、適量の飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、室温まで放置した後、エーテル
で反応生成物を抽出し、エーテル層を脱水芒硝(又は無
水硫酸マグネシウム)で脱水した後、エーテルを留去し
て付加反応生成物を得ることができるが、必要に応じシ
リカゲル・カラムクロマトグラフイーで精製を行っても
よい。
次いで分子内脱水反応は、例えば、下記のように行なう
ことができる。上記のエーテル留去した残留物である付
加反応生成物又はシリカゲルカラムクロマトグラフイー
で精製した付加反応生成物を不活性有機溶媒に溶解し、
これにトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン
の如き第三アミン及び触媒量の有機塩基触媒、例えば、
4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、4−ピロリジ
ノピリジン、4−モルホリノピリジン、4−ピペリジノ
ピリジンなどの如き有機塩基触媒の存在下に、例えば無
水酢酸、トリフルオロ酢酸などの如き酸無水物と、室温
の如き緩かな温度条件下で2時間反応を行った後、6〜
7時間煮沸還流して分子内脱水反応を完結せしめる。反
応液をシリカゲル・シヨートカラムで過した後、液
を濃縮し、残留物をシリカゲル・カラムクロマトグラフ
イーを用い、石油エーテル・エーテル(3:1)混合溶媒
で分離製すれば式(I)の(Z)体、(E)体の順に得
られる。
ことができる。上記のエーテル留去した残留物である付
加反応生成物又はシリカゲルカラムクロマトグラフイー
で精製した付加反応生成物を不活性有機溶媒に溶解し、
これにトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン
の如き第三アミン及び触媒量の有機塩基触媒、例えば、
4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、4−ピロリジ
ノピリジン、4−モルホリノピリジン、4−ピペリジノ
ピリジンなどの如き有機塩基触媒の存在下に、例えば無
水酢酸、トリフルオロ酢酸などの如き酸無水物と、室温
の如き緩かな温度条件下で2時間反応を行った後、6〜
7時間煮沸還流して分子内脱水反応を完結せしめる。反
応液をシリカゲル・シヨートカラムで過した後、液
を濃縮し、残留物をシリカゲル・カラムクロマトグラフ
イーを用い、石油エーテル・エーテル(3:1)混合溶媒
で分離製すれば式(I)の(Z)体、(E)体の順に得
られる。
利用する不活性有機溶剤の例としては、例えばベンゼ
ン、アセトニトリル、THF、塩化メチレン、ジクロロエ
タンなどの如き有機溶媒を例示することができる。反応
は室温及び約2時間反応を行った後、約6〜7時間煮沸
還流して反応を完結させる。例えば焼0゜〜約80℃の温
度が例示できる。反応時間は適宜に選択することができ
るが、約2〜10時間程度の反応時間を例示できる。
ン、アセトニトリル、THF、塩化メチレン、ジクロロエ
タンなどの如き有機溶媒を例示することができる。反応
は室温及び約2時間反応を行った後、約6〜7時間煮沸
還流して反応を完結させる。例えば焼0゜〜約80℃の温
度が例示できる。反応時間は適宜に選択することができ
るが、約2〜10時間程度の反応時間を例示できる。
反応に使用する前記第三アミン塩基の種類及び使用量は
適宜に選択できるが、例えば式(II)化合物に基いて約
1〜約3モル、より好ましくは約1.5〜約2.5モルの如き
使用量を例示できる。又は有機酸例えば無水酢酸の使用
量についても適宜に選択できるが、例えば式(II)化合
物に基づいて約0.5〜約2.5モル、より好ましくは約0.7
〜2モルの使用量が例示できる。又有機塩基触媒、例え
ば4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンの使用量も適
宜に選択でき、式(II)化合物に基いて約1〜約10重量
%、より好ましくは約3〜6重量%の如き使用量を例示
できる。又溶媒の使用量も適宜に選択でき、例えば式
(II)化合物に対して約10〜約80倍容量のの如き使用量
が例示できる。
適宜に選択できるが、例えば式(II)化合物に基いて約
1〜約3モル、より好ましくは約1.5〜約2.5モルの如き
使用量を例示できる。又は有機酸例えば無水酢酸の使用
量についても適宜に選択できるが、例えば式(II)化合
物に基づいて約0.5〜約2.5モル、より好ましくは約0.7
〜2モルの使用量が例示できる。又有機塩基触媒、例え
ば4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンの使用量も適
宜に選択でき、式(II)化合物に基いて約1〜約10重量
%、より好ましくは約3〜6重量%の如き使用量を例示
できる。又溶媒の使用量も適宜に選択でき、例えば式
(II)化合物に対して約10〜約80倍容量のの如き使用量
が例示できる。
反応生成物は常法により処理される。例えば反応生成物
はシリカゲル・シヨートカラムで過した後、溶媒を除
去した残留物をシリカゲル・カラムクロマトグラフイー
を用いて石油エーテル・エーテル(3:11)混合溶媒によ
り分離精製すると先づシス型の(Z)対が溶出し、次い
でトランス型のE体が溶出し、分離される。
はシリカゲル・シヨートカラムで過した後、溶媒を除
去した残留物をシリカゲル・カラムクロマトグラフイー
を用いて石油エーテル・エーテル(3:11)混合溶媒によ
り分離精製すると先づシス型の(Z)対が溶出し、次い
でトランス型のE体が溶出し、分離される。
式(II)の中間体である3−フエニル−2−ブテン−4
−オリド類は、下記の反応式で示される製法によって製
造することができる。
−オリド類は、下記の反応式で示される製法によって製
造することができる。
即ち、該式(II)化合物は、例えば2−ブテン−4−オ
リド(V)を不活性ガス気流中でチオフエノール(又は
置換フエニル)とを有機塩基存在下に反応させると、3
−フエニル(又は置換フエニル)チオ−γ−プチロラク
トン(IV)が高収率で得られる。この(IV)化合物を不
活性溶媒に溶解し、不活性ガス気流中でメタクロロ安息
香酸(m−CPBA)で酸化した後、反応生成物を精製・分
離することなく、トルエン溶媒中で、例えば無水トリフ
ルオロ酢酸と触媒量のp−トルエンスルホン酸存在下に
加熱し、プンメレン転位反応(Pummerer Rearrangemen
t)を行えば高収率で(II)化合物が得られる。
リド(V)を不活性ガス気流中でチオフエノール(又は
置換フエニル)とを有機塩基存在下に反応させると、3
−フエニル(又は置換フエニル)チオ−γ−プチロラク
トン(IV)が高収率で得られる。この(IV)化合物を不
活性溶媒に溶解し、不活性ガス気流中でメタクロロ安息
香酸(m−CPBA)で酸化した後、反応生成物を精製・分
離することなく、トルエン溶媒中で、例えば無水トリフ
ルオロ酢酸と触媒量のp−トルエンスルホン酸存在下に
加熱し、プンメレン転位反応(Pummerer Rearrangemen
t)を行えば高収率で(II)化合物が得られる。
上記式で示した製造例に於て、式(V)2−ブテン−4
−オリドは、例えば文献Org・Syhth.,Coll.Vol.V,255記
載の方法によってγ−ブチロラクトンから容易に合成す
ることができる。
−オリドは、例えば文献Org・Syhth.,Coll.Vol.V,255記
載の方法によってγ−ブチロラクトンから容易に合成す
ることができる。
上記式(V)化合物→(IV)化合物への反応、即ち式
(V)化合物2−ブテン−4−オリドと式HS−R1チオフ
エノール類との反応は好ましくは不活性ガス(例えば窒
素、アルゴンなど)気流中で、例えば、適当な不活性有
機溶媒(例えば窒素、アルゴンなど)適当な有機塩基存
在下に反応せしめることにより(IV)化合物β−フエニ
ル(又は置換フエニル)チオ−γ−ブチロラクトを合成
することができる。
(V)化合物2−ブテン−4−オリドと式HS−R1チオフ
エノール類との反応は好ましくは不活性ガス(例えば窒
素、アルゴンなど)気流中で、例えば、適当な不活性有
機溶媒(例えば窒素、アルゴンなど)適当な有機塩基存
在下に反応せしめることにより(IV)化合物β−フエニ
ル(又は置換フエニル)チオ−γ−ブチロラクトを合成
することができる。
上記有機塩基の例としては、例えばトリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリヘキシルアミンなどの如き第三
アミン類の例えばベンゼン溶液を例示することができ
る。反応に利用する不活性有機溶媒の例としては、ベン
ゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素、THF、ジメトキ
シエタン、エチルエーテルそれらの適当な混合物などを
例示することができる。反応は、室温で行われ時に加熱
又は冷却を必要としないが、好ましくは10〜30℃の温度
条件を例示することができる。反応に利用する第三アミ
ン類の使用量は適宜に選択でき、例えば式(V)化合物
に基づいて約1〜約1.2モルの如き使用量を例示するこ
とができる。更に溶媒の使用量も適宜に選択できること
ができ、例えば式(V)化合物に基いて約30〜約100容
量倍の如き使用量を例示することができる。又式HS−R1
チオフエノール類の使用量も適宜に選択でき、例えば式
(V)化合物に基いて約1〜約2モルの如き使用量を例
示することができる。
トリエチルアミン、トリヘキシルアミンなどの如き第三
アミン類の例えばベンゼン溶液を例示することができ
る。反応に利用する不活性有機溶媒の例としては、ベン
ゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素、THF、ジメトキ
シエタン、エチルエーテルそれらの適当な混合物などを
例示することができる。反応は、室温で行われ時に加熱
又は冷却を必要としないが、好ましくは10〜30℃の温度
条件を例示することができる。反応に利用する第三アミ
ン類の使用量は適宜に選択でき、例えば式(V)化合物
に基づいて約1〜約1.2モルの如き使用量を例示するこ
とができる。更に溶媒の使用量も適宜に選択できること
ができ、例えば式(V)化合物に基いて約30〜約100容
量倍の如き使用量を例示することができる。又式HS−R1
チオフエノール類の使用量も適宜に選択でき、例えば式
(V)化合物に基いて約1〜約2モルの如き使用量を例
示することができる。
上記式(IV)化合物→化合物への反応、即ち式(IV)化
合物β−フエニル(又は置換フエニル)チオ−γ−プチ
ロラクトンの酸化及びプンメレン転位反応は好ましくは
不活性ガス(例えば窒素、アルゴンなど)気流中で、例
えば式(IV)化合物を不活性有機溶媒に溶解し、−50℃
で酸化剤m−クロロ過安息香酸(m−CPAB)のジクロロ
メタン溶液を滴下し撹拌して反応を行う。反応液を処理
し、溶媒を除去すれば粗製の(IV)化合物の酸化された
スルホキシド化合物が得られる。これを精製することな
く、不活性ガス気流中、無水トリフルオロ酢酸[(CF3C
O)3O)]と触媒量のp−トルエンスルホン酸存在下
に、トルエン溶媒中で30〜35℃で2時間撹拌し、更に60
〜70℃で2時間30分撹拌してプンメレル転位反応を完結
させる。反応液を処理し、溶媒を除去し残留物をシリカ
ゲル・カラムクロマトグラフイーでベンゼン・エーテル
(2:1)混合溶媒で分離精製すると式(II)化合物3−
フエニル(又は置換フエニル)チオ−2ブテン−4−オ
リドが高収率で得られる。
合物β−フエニル(又は置換フエニル)チオ−γ−プチ
ロラクトンの酸化及びプンメレン転位反応は好ましくは
不活性ガス(例えば窒素、アルゴンなど)気流中で、例
えば式(IV)化合物を不活性有機溶媒に溶解し、−50℃
で酸化剤m−クロロ過安息香酸(m−CPAB)のジクロロ
メタン溶液を滴下し撹拌して反応を行う。反応液を処理
し、溶媒を除去すれば粗製の(IV)化合物の酸化された
スルホキシド化合物が得られる。これを精製することな
く、不活性ガス気流中、無水トリフルオロ酢酸[(CF3C
O)3O)]と触媒量のp−トルエンスルホン酸存在下
に、トルエン溶媒中で30〜35℃で2時間撹拌し、更に60
〜70℃で2時間30分撹拌してプンメレル転位反応を完結
させる。反応液を処理し、溶媒を除去し残留物をシリカ
ゲル・カラムクロマトグラフイーでベンゼン・エーテル
(2:1)混合溶媒で分離精製すると式(II)化合物3−
フエニル(又は置換フエニル)チオ−2ブテン−4−オ
リドが高収率で得られる。
上記式(IV)化合物の酸化に用いる酸化剤としては、例
えば、m−クロロ安息香酸、過沃素酸ナトリウム、過酸
化水素の如き酸化剤を例示することができる。その使用
量は適宜に選択できるが、例えば、式(IV)化合物に基
いて約1〜約1.2倍モルの如き使用量を例示できる。又
不活性有機溶媒としてはジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン過脂肪
族炭化水素などを例示することができ、その使用量も適
宜に選択できるが、例れば式(IV)化合物に基いて約40
〜約80容量倍の使用量が例示できる。反応温度は比較的
低温条件下で行うことが好ましく、例えば約−20〜約−
70℃の如き低温条件を例示することができる。
えば、m−クロロ安息香酸、過沃素酸ナトリウム、過酸
化水素の如き酸化剤を例示することができる。その使用
量は適宜に選択できるが、例えば、式(IV)化合物に基
いて約1〜約1.2倍モルの如き使用量を例示できる。又
不活性有機溶媒としてはジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン過脂肪
族炭化水素などを例示することができ、その使用量も適
宜に選択できるが、例れば式(IV)化合物に基いて約40
〜約80容量倍の使用量が例示できる。反応温度は比較的
低温条件下で行うことが好ましく、例えば約−20〜約−
70℃の如き低温条件を例示することができる。
又プンメレル転位反応に用いられる試剤として無水トリ
フルオロ酢酸、無水酢酸を例示することができる。その
使用量は適宜に選択できるが、例えば、式(IV)化合物
に基いて約3〜約5倍モルの使用量を例示できる。触媒
として用いられるp−トルエンスルホン酸の使用量も適
宜に選択できることができ、式(IV)化合物に基いて約
0.5〜約2重量%の如き使用量を例示できる。不活性有
機溶媒としてはベンゼン、トルエンなどの如き芳香族炭
化水素を例示することができ、その使用量は適宜に選択
でき、例えば式(IV)化合物に基いて約2〜約10容量倍
の使用量を例示することができる。反応は不活性ガス
(例えば窒素、アルゴンなど)気流中で行われ、反応温
度は初め室温程度、好ましくは30〜35℃で約2時間、緩
やかに反応を行った後、加温し、好ましくは60〜70℃約
3時間、プンメレル転位反応を完結させる。反応液を処
理し、溶媒を除去し残留物をシリカゲル・カラムクロマ
トグラフイーでベンゼン・エーテル(2:1)混合溶媒で
分離精製すると式(II)化合物3−フエニル(又は置換
フエニル)チオ−2−ブテン−4−オリドが収率85%で
得られる。
フルオロ酢酸、無水酢酸を例示することができる。その
使用量は適宜に選択できるが、例えば、式(IV)化合物
に基いて約3〜約5倍モルの使用量を例示できる。触媒
として用いられるp−トルエンスルホン酸の使用量も適
宜に選択できることができ、式(IV)化合物に基いて約
0.5〜約2重量%の如き使用量を例示できる。不活性有
機溶媒としてはベンゼン、トルエンなどの如き芳香族炭
化水素を例示することができ、その使用量は適宜に選択
でき、例えば式(IV)化合物に基いて約2〜約10容量倍
の使用量を例示することができる。反応は不活性ガス
(例えば窒素、アルゴンなど)気流中で行われ、反応温
度は初め室温程度、好ましくは30〜35℃で約2時間、緩
やかに反応を行った後、加温し、好ましくは60〜70℃約
3時間、プンメレル転位反応を完結させる。反応液を処
理し、溶媒を除去し残留物をシリカゲル・カラムクロマ
トグラフイーでベンゼン・エーテル(2:1)混合溶媒で
分離精製すると式(II)化合物3−フエニル(又は置換
フエニル)チオ−2−ブテン−4−オリドが収率85%で
得られる。
本発明の効果 本発明によって提供される新規な(E)−又は(Z)−
3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オ
リド類は医薬や農園芸分野で抗菌、殺菌又は殺虫剤とし
て有用な生理活性化合物又はその合成中間体であり、当
該分野における技術の進歩に大きく貢献するものであ
る。
3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オ
リド類は医薬や農園芸分野で抗菌、殺菌又は殺虫剤とし
て有用な生理活性化合物又はその合成中間体であり、当
該分野における技術の進歩に大きく貢献するものであ
る。
実施例 以下実施例により本発明方法実施の数例について更に詳
しく例示する。
しく例示する。
実施例1.(Z)−4−ベンジリデン−3−フエニルチオ
−2−ブテン−4−オリド及び(E)−4−ベンジリデ
ン−3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリドの製造 アルゴンガス気流下にジイソプロピルアミン0.555g(5.
5ミリモル)をTHF10mlに溶解し、これに1.6M.n−ブチル
リチウム(ヘキサン溶液)3.4ml(5.5ミリモル)を滴下
した後、−50℃で15分間撹拌し、次いで3−フエニルチ
オ−2−ブテン−4−オリド0.960g(5ミリモル)をTH
F20mlに溶解した溶液を徐々に滴下する。−50℃約30分
撹拌した後、これにベンズアルデヒド0.795g(7.5ミリ
モル)をTHF15mlに溶解した溶液を徐々に滴下した後、
約1時間、−50℃で撹拌しつつ反応させる。反応終了
後、飽和塩化アンモニウム水溶液30mlを加え、室温まで
放置する。50mlのエーテルで3回抽出し、エーテル層を
無水硫酸マグネシウムで脱水乾燥した後、エーテルを蒸
発して除去すれば残留物として粗製の3−フエニルチオ
−2−ブテン−4−オリドとベンズアルデヒドの付加化
合物が得られる。この粗製付加化合物をそのまま精製す
ることなく、次の分子内脱水反応に使用することができ
る。又この付加化合物はシリカゲル・カラムクロマトグ
ラフイーを用い、ベンゼン・エーテル(3:1)混合溶媒
で分離精製すれば、精製付加化合物が0.91g得られる。
これを乾燥ベンゼン50mlに溶解し、これにトリエチルア
ミン0.913g(8.3ミリモル)と触媒量の4−(N,N−ジメ
チルアミノ)ピリジン(約45mg)とを加え、溶解する。
次にこの混合溶液に、乾燥ベンゼン50mlに溶解した無水
酢酸0.612g(6.0ミリモル)溶液を撹拌しながら除去に
滴下し、室温で2時間撹拌した後、加温して6〜7時間
煮沸還流する。反応終了後、反応液をシリカゲル・シヨ
ートカラムで過した後、液を濃縮心、残留物シリカ
ゲル・カラムクロマトグラフイーを用い、石油エーテル
・エーテル(3:1)混合溶媒で分離精製すると、初めに
(Z)−4−ベンジリデン−3−フエニルチオ−2−ブ
テン−4−オリドが収率65%出られ、次いで(E)−4
−ベンジリデン−3−フエニルチオ−2−ブテン−4−
オリドが収率14%で得られた。
−2−ブテン−4−オリド及び(E)−4−ベンジリデ
ン−3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリドの製造 アルゴンガス気流下にジイソプロピルアミン0.555g(5.
5ミリモル)をTHF10mlに溶解し、これに1.6M.n−ブチル
リチウム(ヘキサン溶液)3.4ml(5.5ミリモル)を滴下
した後、−50℃で15分間撹拌し、次いで3−フエニルチ
オ−2−ブテン−4−オリド0.960g(5ミリモル)をTH
F20mlに溶解した溶液を徐々に滴下する。−50℃約30分
撹拌した後、これにベンズアルデヒド0.795g(7.5ミリ
モル)をTHF15mlに溶解した溶液を徐々に滴下した後、
約1時間、−50℃で撹拌しつつ反応させる。反応終了
後、飽和塩化アンモニウム水溶液30mlを加え、室温まで
放置する。50mlのエーテルで3回抽出し、エーテル層を
無水硫酸マグネシウムで脱水乾燥した後、エーテルを蒸
発して除去すれば残留物として粗製の3−フエニルチオ
−2−ブテン−4−オリドとベンズアルデヒドの付加化
合物が得られる。この粗製付加化合物をそのまま精製す
ることなく、次の分子内脱水反応に使用することができ
る。又この付加化合物はシリカゲル・カラムクロマトグ
ラフイーを用い、ベンゼン・エーテル(3:1)混合溶媒
で分離精製すれば、精製付加化合物が0.91g得られる。
これを乾燥ベンゼン50mlに溶解し、これにトリエチルア
ミン0.913g(8.3ミリモル)と触媒量の4−(N,N−ジメ
チルアミノ)ピリジン(約45mg)とを加え、溶解する。
次にこの混合溶液に、乾燥ベンゼン50mlに溶解した無水
酢酸0.612g(6.0ミリモル)溶液を撹拌しながら除去に
滴下し、室温で2時間撹拌した後、加温して6〜7時間
煮沸還流する。反応終了後、反応液をシリカゲル・シヨ
ートカラムで過した後、液を濃縮心、残留物シリカ
ゲル・カラムクロマトグラフイーを用い、石油エーテル
・エーテル(3:1)混合溶媒で分離精製すると、初めに
(Z)−4−ベンジリデン−3−フエニルチオ−2−ブ
テン−4−オリドが収率65%出られ、次いで(E)−4
−ベンジリデン−3−フエニルチオ−2−ブテン−4−
オリドが収率14%で得られた。
その物理的データを表2に示した。
実施例2〜4 式(III)の化合物のR2:フエニルの化合物の代りに、後
掲表2に示したR2である化合物を用いる外は、実施例1
の手法に準じてい行ない、下掲表2に示した化合物が得
られた。
掲表2に示したR2である化合物を用いる外は、実施例1
の手法に準じてい行ない、下掲表2に示した化合物が得
られた。
その物理的データを表2に示した。
なお、実施例2における(Z)−4−ブチリデン−3−
フエニルチオ−2−ブテン−4−オリドの収率は45%、
(E)−4−ブチリデン−3−フエニルチオ−2−ブテ
ン−4−オリドの収率は33%であった。
フエニルチオ−2−ブテン−4−オリドの収率は45%、
(E)−4−ブチリデン−3−フエニルチオ−2−ブテ
ン−4−オリドの収率は33%であった。
実施例5〜6 式(II)化合物のR1:フエニルの化合物の代りに、後掲
表2に示したR1である化合物を用いる外は、実施例1の
手法に準じて行ない、下掲表2に示した化合物が得られ
た。
表2に示したR1である化合物を用いる外は、実施例1の
手法に準じて行ない、下掲表2に示した化合物が得られ
た。
その物理的データを表2に示した。
上記、実施例1〜6で用いた本発明原料の3−フエニル
チオ−2−ブテン−4−オリド類の物理的データを表1
に示した。
チオ−2−ブテン−4−オリド類の物理的データを表1
に示した。
Claims (2)
- 【請求項1】式(Ia) 又は式(Ib) [上記2式中、R1はハロゲン及び低級アルキルよりなる
群より選ばれた置換基を随意有してもよいフエニル基を
示し、 R2はハロゲン及び低級アルキル基よりなる群より選ばれ
た置換基を随意有してもよいフエニル基もしくはベンジ
ル基又はC1〜C10アルキ基を示す] で夫々表わされる(E)−又は(Z)−3−フエニルチ
オ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類。 - 【請求項2】式(Ia) 又は式(Ib) [上記2式中、R1はハロゲン及び低級アルキルよりなる
群より選ばれた置換基を随意有してもよいフエニル基を
示し、 R2はハロゲン及び低級アルキル基よりなる群より選ばれ
た置換基を随意有してもよいフエニル基もしくはベンジ
ル基又はC1〜C10アルキ基を示す] で夫々表わされる(E)−又は(Z)−3−フエニルチ
オ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類を製造す
るにあたり、式(II) [ここで、R1は前記の意味を有する] の3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリド類を式
(III) R2−CHO (III) [ここで、R2は前記の意味を有する] のアルデヒド類と反応させ、得られた生成物を、随意分
離精製を行った後、分子内脱水反応せしめることを特徴
とする製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12922086A JPH0788371B2 (ja) | 1986-06-05 | 1986-06-05 | (e)−又は(z)−3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12922086A JPH0788371B2 (ja) | 1986-06-05 | 1986-06-05 | (e)−又は(z)−3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類及びその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62286985A JPS62286985A (ja) | 1987-12-12 |
| JPH0788371B2 true JPH0788371B2 (ja) | 1995-09-27 |
Family
ID=15004111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12922086A Expired - Lifetime JPH0788371B2 (ja) | 1986-06-05 | 1986-06-05 | (e)−又は(z)−3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0788371B2 (ja) |
-
1986
- 1986-06-05 JP JP12922086A patent/JPH0788371B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62286985A (ja) | 1987-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6919484B2 (en) | Method for incorporation of pentafluorosulfanyl (SF5) substituents into aliphatic and aromatic compounds | |
| Burgstahler et al. | Synthesis of benzaldehyde-formyl-d from benzil | |
| JPH02180873A (ja) | 4,5―ジクロロ―6―エチルピリミジンの製造方法 | |
| Saidi et al. | Three component aminoalkylation of aldehydes by functionalized organozinc compounds promoted by lithium perchlorate (LiClO 4) | |
| JPS606332B2 (ja) | パ−フルオロアルキル基を有するカルボン酸又はスルフイン酸誘導体の製造法 | |
| JPH0788371B2 (ja) | (e)−又は(z)−3−フエニルチオ−4−イリデン−2−ブテン−4−オリド類及びその製法 | |
| JP2647635B2 (ja) | β−フエニルチオ−γ−ブチロラクトン類の製法 | |
| JPS6348269B2 (ja) | ||
| JP4428730B2 (ja) | 2,5−ジヒドロフランの製造法 | |
| JPH0739407B2 (ja) | 3−フエニルチオ−2−(1’−ヒドロキシ−1’−置換メチル)−4−ペンタノリド類及びその製法 | |
| JPH0115511B2 (ja) | ||
| JP3777407B2 (ja) | カルボン酸誘導体の製造法 | |
| JPS6011896B2 (ja) | キノン誘導体の製造方法 | |
| KR100713029B1 (ko) | 하이드로퀴논 유도체 제조방법 | |
| KR100195888B1 (ko) | 디엘-3-메칠-시크로펜타데칸-1-온의 제조방법 | |
| JPS6152133B2 (ja) | ||
| JPS6197251A (ja) | 3−(2,2−ジメチル−3−アルキル−6−メチレンシクロヘキシル)アクリロニトリルの製法 | |
| JPH02101035A (ja) | 2,2’−ジヒドロキシ−1,1’−ジナフチル化合物のアルコキシ化方法 | |
| JPS625413B2 (ja) | ||
| JPH0788372B2 (ja) | 3−フエニルチオ−2−ブテン−4−オリド類の製法 | |
| JPH0434552B2 (ja) | ||
| JPH07247267A (ja) | フェニルエーテル類の製造方法 | |
| JPH0454664B2 (ja) | ||
| JPH0543692B2 (ja) | ||
| JPS6310778A (ja) | 光学活性α,γ‐二置換‐γ‐ラクトン化合物の製造方法 |