JPH0797680A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
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- JPH0797680A JPH0797680A JP24437293A JP24437293A JPH0797680A JP H0797680 A JPH0797680 A JP H0797680A JP 24437293 A JP24437293 A JP 24437293A JP 24437293 A JP24437293 A JP 24437293A JP H0797680 A JPH0797680 A JP H0797680A
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- crucible
- thin film
- film
- film forming
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ルツボ内の酸化物を蒸発部分から効果的に除
去することができ、浮遊物によって引き起こされる液滴
の飛散が抑止され、材料の無駄が少なく、そして異物の
付着が無く、かつ、均一な薄膜を形成でき、しかも装置
内部の汚染が起き難く、メンテナンスも簡単な薄膜形成
装置を提供することである。 【構成】 容器に入れられた材料を蒸発させ、前記材料
を支持体に堆積させることにより薄膜を構成する薄膜形
成装置であって、前記容器を傾動させる傾動手段を具備
してなる薄膜形成装置。
去することができ、浮遊物によって引き起こされる液滴
の飛散が抑止され、材料の無駄が少なく、そして異物の
付着が無く、かつ、均一な薄膜を形成でき、しかも装置
内部の汚染が起き難く、メンテナンスも簡単な薄膜形成
装置を提供することである。 【構成】 容器に入れられた材料を蒸発させ、前記材料
を支持体に堆積させることにより薄膜を構成する薄膜形
成装置であって、前記容器を傾動させる傾動手段を具備
してなる薄膜形成装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気記録媒体等
の製造装置に関するものである。
の製造装置に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】即ち、無電解メッキといった湿式メッキ手
段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレーテ
ィングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成した
磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の磁気
記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記
録に適したものである。特に、蒸着手段により磁性膜を
構成する手段は、スパッタリングによる場合よりも成膜
速度が速いことから好ましいものであると言われてい
る。
段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレーテ
ィングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成した
磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の磁気
記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記
録に適したものである。特に、蒸着手段により磁性膜を
構成する手段は、スパッタリングによる場合よりも成膜
速度が速いことから好ましいものであると言われてい
る。
【０００４】このような蒸着手段による磁気記録媒体の
製造装置は、図１２に示す如く構成されているものが一
般的である。尚、図１２中、３１は冷却キャン、３２は
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの供給
側ロール、３３はＰＥＴフィルムの巻取側ロール、３４
は遮蔽板、３５はルツボ、３６は磁性合金、３７は真空
容器である。
製造装置は、図１２に示す如く構成されているものが一
般的である。尚、図１２中、３１は冷却キャン、３２は
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの供給
側ロール、３３はＰＥＴフィルムの巻取側ロール、３４
は遮蔽板、３５はルツボ、３６は磁性合金、３７は真空
容器である。
【０００５】そして、真空容器３７内を所定の真空度と
なるように排気した後、電子銃（図示せず）を作動させ
てルツボ３５内の磁性合金３６を加熱・蒸発させ、ＰＥ
Ｔフィルムに対して磁性合金３６を堆積（蒸着）させる
ことによって磁気記録媒体が製造されている。ところ
で、この作業時においてルツボ３５内で溶融した磁性合
金３６の液面に酸化物等が浮遊していると、この浮遊物
によって重大な障害が引き起こされることがある。
なるように排気した後、電子銃（図示せず）を作動させ
てルツボ３５内の磁性合金３６を加熱・蒸発させ、ＰＥ
Ｔフィルムに対して磁性合金３６を堆積（蒸着）させる
ことによって磁気記録媒体が製造されている。ところ
で、この作業時においてルツボ３５内で溶融した磁性合
金３６の液面に酸化物等が浮遊していると、この浮遊物
によって重大な障害が引き起こされることがある。
【０００６】即ち、浮遊物に電子銃から電子ビームが照
射されると、この浮遊物は融点が高いので容易に融解せ
ず、高温に加熱される。そして、これが周囲の液に触れ
た際に急激に液が蒸発するので、液滴の飛散が誘発され
る。このようにして飛散した液滴はスプラッシュと呼ば
れており、被蒸着材であるＰＥＴフィルムに付着して突
起状の異物を生じるので、記録・再生時に磁気ヘッドに
接触して、例えば正常な記録・再生ができなくなるとい
った欠陥を引き起こす原因となる。
射されると、この浮遊物は融点が高いので容易に融解せ
ず、高温に加熱される。そして、これが周囲の液に触れ
た際に急激に液が蒸発するので、液滴の飛散が誘発され
る。このようにして飛散した液滴はスプラッシュと呼ば
れており、被蒸着材であるＰＥＴフィルムに付着して突
起状の異物を生じるので、記録・再生時に磁気ヘッドに
接触して、例えば正常な記録・再生ができなくなるとい
った欠陥を引き起こす原因となる。
【０００７】又、飛散した液滴による装置内部の汚染も
重大な問題であり、これによってメンテナンスが著しく
面倒なものとなっている。又、浮遊物があると、この部
分からの蒸発がなくなり、従ってＰＥＴフィルムに堆積
する蒸発粒子が少なくなり、磁性粒子の堆積に欠陥が起
き、良好な磁性膜が形成されない。
重大な問題であり、これによってメンテナンスが著しく
面倒なものとなっている。又、浮遊物があると、この部
分からの蒸発がなくなり、従ってＰＥＴフィルムに堆積
する蒸発粒子が少なくなり、磁性粒子の堆積に欠陥が起
き、良好な磁性膜が形成されない。
【０００８】
【発明の開示】本発明は上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、この本発明の目的は、ルツボ内の酸
化物を蒸発部分から効果的に除去することができ、浮遊
物によって引き起こされる液滴の飛散が抑止され、材料
の無駄が少なく、そして異物の付着が無く、かつ、均一
な薄膜を形成でき、しかも装置内部の汚染が起き難く、
メンテナンスも簡単な薄膜形成装置を提供することであ
る。
されたものであり、この本発明の目的は、ルツボ内の酸
化物を蒸発部分から効果的に除去することができ、浮遊
物によって引き起こされる液滴の飛散が抑止され、材料
の無駄が少なく、そして異物の付着が無く、かつ、均一
な薄膜を形成でき、しかも装置内部の汚染が起き難く、
メンテナンスも簡単な薄膜形成装置を提供することであ
る。
【０００９】この本発明の目的は、容器に入れられた材
料を蒸発させ、前記材料を支持体に堆積させることによ
り薄膜を構成する薄膜形成装置であって、前記容器を傾
動させる傾動手段を具備してなることを特徴とする薄膜
形成装置によって達成される。尚、この薄膜形成装置に
おける傾動手段は、例えば容器を回動軸によって支持
し、この回動軸に駆動手段を接続し、前記駆動手段の作
用によって前記容器が揺動するよう構成されたり、ある
いは容器の底面における一点を支点として支持し、前記
底面に対して当接しながら前記支点の周囲を回転する回
転体を具備させ、前記回転体の運動によって前記容器が
傾動するよう構成することができる。
料を蒸発させ、前記材料を支持体に堆積させることによ
り薄膜を構成する薄膜形成装置であって、前記容器を傾
動させる傾動手段を具備してなることを特徴とする薄膜
形成装置によって達成される。尚、この薄膜形成装置に
おける傾動手段は、例えば容器を回動軸によって支持
し、この回動軸に駆動手段を接続し、前記駆動手段の作
用によって前記容器が揺動するよう構成されたり、ある
いは容器の底面における一点を支点として支持し、前記
底面に対して当接しながら前記支点の周囲を回転する回
転体を具備させ、前記回転体の運動によって前記容器が
傾動するよう構成することができる。
【００１０】そして、上記のような傾動手段による容器
の傾斜度は３〜４５°であることが好ましい。又、傾動
手段による容器の傾動による酸化物などの浮遊物を除去
する効率を高める為、容器の内壁面には、例えばフラン
ジのような凸面が設けられてなることが好ましい。
の傾斜度は３〜４５°であることが好ましい。又、傾動
手段による容器の傾動による酸化物などの浮遊物を除去
する効率を高める為、容器の内壁面には、例えばフラン
ジのような凸面が設けられてなることが好ましい。
【００１１】そして、上述の如く構成させることによっ
て、材料を溶融した際に発生する酸化物等は、容器が傾
斜させられた際に容器の壁面に付着し、中心部（蒸発
部）から除去されるようになる。従って、浮遊物の存在
に起因した障害、即ちスプラッシュの発生が皆無とな
り、被蒸着材に突起状の異物を生じることがない。又、
蒸発部が浮遊物によって覆われるといったことも無く、
蒸発が続いて起きるので、堆積する膜も均一なものとな
り、欠陥のないものができる。このように、均一な厚み
で突起がない薄膜が形成されるので、走行性が良く、か
つ、記録・再生特性に優れた高品質な磁気記録媒体を効
率良く得ることができる。
て、材料を溶融した際に発生する酸化物等は、容器が傾
斜させられた際に容器の壁面に付着し、中心部（蒸発
部）から除去されるようになる。従って、浮遊物の存在
に起因した障害、即ちスプラッシュの発生が皆無とな
り、被蒸着材に突起状の異物を生じることがない。又、
蒸発部が浮遊物によって覆われるといったことも無く、
蒸発が続いて起きるので、堆積する膜も均一なものとな
り、欠陥のないものができる。このように、均一な厚み
で突起がない薄膜が形成されるので、走行性が良く、か
つ、記録・再生特性に優れた高品質な磁気記録媒体を効
率良く得ることができる。
【００１２】又、液滴の飛散が防止されるので装置内部
の汚染状態も大幅に軽減され、従ってクリーニング作業
等のメンテナンス回数は少なく、しかもメンテナンス自
体も簡単なものであり、更には高価な材料の浪費を抑え
ることができるようになる。
の汚染状態も大幅に軽減され、従ってクリーニング作業
等のメンテナンス回数は少なく、しかもメンテナンス自
体も簡単なものであり、更には高価な材料の浪費を抑え
ることができるようになる。
【００１３】
【実施例】図１〜図８は本発明の薄膜形成装置の第１実
施例に係るものであり、図１は薄膜形成装置の概略図、
図２は薄膜形成装置の要部（ルツボ部）正面図、図３は
薄膜形成装置の要部（ルツボ部）断面図、図４〜図８は
装置の作用を示す概略断面図である。
施例に係るものであり、図１は薄膜形成装置の概略図、
図２は薄膜形成装置の要部（ルツボ部）正面図、図３は
薄膜形成装置の要部（ルツボ部）断面図、図４〜図８は
装置の作用を示す概略断面図である。
【００１４】各図中、１は冷却キャン、２はＰＥＴフィ
ルム等の非磁性の支持体２１の供給側ロール、３は支持
体２１の巻取側ロール、４は遮蔽板、５はＣｏ−Ｎｉ等
の磁性合金、６は真空容器であり、これらの部分につい
ては従来から公知であるから詳細な説明は省略する。７
はルツボであり、例えばＭｇＯ，ＺｒＯ，ＢｅＯ，Ａｌ
2 Ｏ3 ，Ｓｉ3 Ｎ4，ＢＮ，ＴｈＯ2 ，ＣａＯ，ＳｉＯ
2 等のセラミックス材料を用いて所定の形状に成形した
内型と外型との間に炭素系繊維材料、特に炭素系繊維布
を配設し、これらの上下から力を加えると共に、加熱・
焼成することにより構成されたものである。
ルム等の非磁性の支持体２１の供給側ロール、３は支持
体２１の巻取側ロール、４は遮蔽板、５はＣｏ−Ｎｉ等
の磁性合金、６は真空容器であり、これらの部分につい
ては従来から公知であるから詳細な説明は省略する。７
はルツボであり、例えばＭｇＯ，ＺｒＯ，ＢｅＯ，Ａｌ
2 Ｏ3 ，Ｓｉ3 Ｎ4，ＢＮ，ＴｈＯ2 ，ＣａＯ，ＳｉＯ
2 等のセラミックス材料を用いて所定の形状に成形した
内型と外型との間に炭素系繊維材料、特に炭素系繊維布
を配設し、これらの上下から力を加えると共に、加熱・
焼成することにより構成されたものである。
【００１５】８ａ，８ｂはルツボ７の内壁面に設けられ
たフランジであり、このフランジ８ａ，８ｂは、図２か
ら判るように断面が略Ｌ字状のものであり、又、溶融し
た磁性合金は透過させ、酸化物等の固形分のみを漉し取
る為にメッシュ状のものが用いられている。尚、ルツボ
７の所定位置には誘導加熱用のコイルが配置されてい
て、ルツボ７内の磁性合金５は予備加熱されており、電
子銃（図示せず）からの電子ビームが照射されると、そ
の部分から直ちに蒸発が起きるようになっている。
たフランジであり、このフランジ８ａ，８ｂは、図２か
ら判るように断面が略Ｌ字状のものであり、又、溶融し
た磁性合金は透過させ、酸化物等の固形分のみを漉し取
る為にメッシュ状のものが用いられている。尚、ルツボ
７の所定位置には誘導加熱用のコイルが配置されてい
て、ルツボ７内の磁性合金５は予備加熱されており、電
子銃（図示せず）からの電子ビームが照射されると、そ
の部分から直ちに蒸発が起きるようになっている。
【００１６】９はルツボ７の底部に取付けられた扇形ギ
ア、１０は扇形ギア９と噛合するギアであり、真空容器
６の外に設置されたモータ１１によってルツボ７が所定
方向に傾斜するように構成されている。尚、ある角度だ
けルツボ７が傾いた時点で、モータ１１は逆転するよう
に制御される。１２，１３は、ルツボ７を支持する為の
支柱である。
ア、１０は扇形ギア９と噛合するギアであり、真空容器
６の外に設置されたモータ１１によってルツボ７が所定
方向に傾斜するように構成されている。尚、ある角度だ
けルツボ７が傾いた時点で、モータ１１は逆転するよう
に制御される。１２，１３は、ルツボ７を支持する為の
支柱である。
【００１７】上記の如く構成させた装置において、真空
容器６内を所定の真空度のものに排気した後、電子銃を
作動させてルツボ７内の磁性合金５を蒸発させ、ＰＥＴ
フィルム等の支持体２１に対して磁性合金５の蒸着作業
を開始すると、酸化物等からなる浮遊物Ｓが生じ、図４
に示す如く、対流の作用でルツボ７の壁面側付近に集ま
る。
容器６内を所定の真空度のものに排気した後、電子銃を
作動させてルツボ７内の磁性合金５を蒸発させ、ＰＥＴ
フィルム等の支持体２１に対して磁性合金５の蒸着作業
を開始すると、酸化物等からなる浮遊物Ｓが生じ、図４
に示す如く、対流の作用でルツボ７の壁面側付近に集ま
る。
【００１８】ここで、モータ１１を作動させて、ルツボ
７を図５に示す如く右側に傾けると、右フランジ８ａが
液中に浸漬する。この状態からルツボ７を図６に示す如
く元の状態に復帰させると、浮遊物Ｓは右フランジ８ａ
によって漉し取られ、右フランジ８ａ上に残留する。次
に、ルツボ７を図７に示す如く左側に傾けると、左フラ
ンジ８ｂが液中に浸漬し、この後、ルツボ７を図８に示
す如く元の状態に復帰させると、浮遊物Ｓは左フランジ
８ｂによって漉し取られ、右フランジ８ｂ上に残留す
る。
７を図５に示す如く右側に傾けると、右フランジ８ａが
液中に浸漬する。この状態からルツボ７を図６に示す如
く元の状態に復帰させると、浮遊物Ｓは右フランジ８ａ
によって漉し取られ、右フランジ８ａ上に残留する。次
に、ルツボ７を図７に示す如く左側に傾けると、左フラ
ンジ８ｂが液中に浸漬し、この後、ルツボ７を図８に示
す如く元の状態に復帰させると、浮遊物Ｓは左フランジ
８ｂによって漉し取られ、右フランジ８ｂ上に残留す
る。
【００１９】このようにして、浮遊物Ｓは液中から除去
され、常に液のクリーンな状態が保たれるようになるの
で、スプラッシュが起き難く、支持体２１へ異物が付着
するといったことが無くなり、記録・再生時の走行特性
が良好な製品を得ることができる。かつ、中心部におけ
る蒸発作用が浮遊物Ｓによって邪魔されることがなく、
従って堆積磁性粒子の欠陥がなく、均一な磁性膜が形成
される。
され、常に液のクリーンな状態が保たれるようになるの
で、スプラッシュが起き難く、支持体２１へ異物が付着
するといったことが無くなり、記録・再生時の走行特性
が良好な製品を得ることができる。かつ、中心部におけ
る蒸発作用が浮遊物Ｓによって邪魔されることがなく、
従って堆積磁性粒子の欠陥がなく、均一な磁性膜が形成
される。
【００２０】又、装置内部の汚染も軽微なものであるか
ら、メンテナンスが容易であり、材料の無駄も少ない。
ここで、本発明の薄膜形成装置によって得られた磁気記
録媒体の概略断面図を図９に示す。図９中、２１は非磁
性の支持体であり、この支持体２１はＰＥＴ等のポリエ
ステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポ
リカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
高分子材料、ガラスやセラミック等の無機系材料、アル
ミニウム合金等の金属材料が用いられる。
ら、メンテナンスが容易であり、材料の無駄も少ない。
ここで、本発明の薄膜形成装置によって得られた磁気記
録媒体の概略断面図を図９に示す。図９中、２１は非磁
性の支持体であり、この支持体２１はＰＥＴ等のポリエ
ステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポ
リカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
高分子材料、ガラスやセラミック等の無機系材料、アル
ミニウム合金等の金属材料が用いられる。
【００２１】支持体２１面上には磁性層の密着性を向上
させる為のアンダーコート層２２が設けられている。即
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより斜め蒸着法によ
り構成される磁性層の密着性を向上させ、更に磁気記録
媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善す
る為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．
００５〜０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダ
ーコート層２２が構成されている。
させる為のアンダーコート層２２が設けられている。即
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより斜め蒸着法によ
り構成される磁性層の密着性を向上させ、更に磁気記録
媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善す
る為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．
００５〜０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダ
ーコート層２２が構成されている。
【００２２】アンダーコート層２２の上に、上記した薄
膜形成装置により磁性層２３が設けられる。例えば、１
０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気下で強磁性金属
材料を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等により
蒸発させ、支持体２１のアンダーコート層２２面上に蒸
着させることにより、磁性層２３が０．０４〜１μｍ厚
形成される。磁性層２３を構成する材料としては、例え
ばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、
Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等
が挙げられる。
膜形成装置により磁性層２３が設けられる。例えば、１
０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気下で強磁性金属
材料を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱等により
蒸発させ、支持体２１のアンダーコート層２２面上に蒸
着させることにより、磁性層２３が０．０４〜１μｍ厚
形成される。磁性層２３を構成する材料としては、例え
ばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、
Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等
が挙げられる。
【００２３】磁性層２３の形成に際して、蒸着部分に酸
素を供給し、強制酸化させることによって磁性層２３の
表層部分を酸化させ、酸化膜による保護層２４を形成す
る。尚、この酸化膜から構成される保護層２４の厚さは
数十Å程度のものであり、この程度の厚さの酸化膜は自
然酸化で構成される場合もあり、このような時には強制
酸化の手段を講じなくても良い。
素を供給し、強制酸化させることによって磁性層２３の
表層部分を酸化させ、酸化膜による保護層２４を形成す
る。尚、この酸化膜から構成される保護層２４の厚さは
数十Å程度のものであり、この程度の厚さの酸化膜は自
然酸化で構成される場合もあり、このような時には強制
酸化の手段を講じなくても良い。
【００２４】２５は酸化膜からなる保護層２４の上に設
けられた潤滑剤層である。即ち、潤滑剤を含有させた塗
料、例えばフッ素パーフルオロポリエーテル（グレー
ド：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル基変
性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体（フロ
リナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に０．１
％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方式とい
った所定の手段で塗布することにより、潤滑剤層２５が
約５〜５０Å、好ましくは約１０〜３０Å程度の厚さ設
けられる。
けられた潤滑剤層である。即ち、潤滑剤を含有させた塗
料、例えばフッ素パーフルオロポリエーテル（グレー
ド：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル基変
性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体（フロ
リナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に０．１
％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方式とい
った所定の手段で塗布することにより、潤滑剤層２５が
約５〜５０Å、好ましくは約１０〜３０Å程度の厚さ設
けられる。
【００２５】２６は、支持体２１の他面に設けられたカ
ーボンブラック等を含有させたバックコート層である。
図１０及び図１１は本発明の薄膜形成装置の第２実施例
を示すものであり、図９は薄膜形成装置の要部（ルツボ
部）斜視図、図１０は薄膜形成装置の要部（ルツボ部）
断面図である。
ーボンブラック等を含有させたバックコート層である。
図１０及び図１１は本発明の薄膜形成装置の第２実施例
を示すものであり、図９は薄膜形成装置の要部（ルツボ
部）斜視図、図１０は薄膜形成装置の要部（ルツボ部）
断面図である。
【００２６】尚、この第２実施例にあっても、装置全体
の基本的な構成は上述した第１実施例のものと略同様で
あるから、特に要部（ルツボ部）のみを説明する。図１
０及び図１１中、１４はルツボ、１４ａはルツボ１４の
底面部に設けられたガイド溝である。１５はルツボ１４
を支持する支柱であり、ルツボ１４と支柱１５との間に
は、例えばボールジョイントやユニバーサルジョイント
等が介在させられる。
の基本的な構成は上述した第１実施例のものと略同様で
あるから、特に要部（ルツボ部）のみを説明する。図１
０及び図１１中、１４はルツボ、１４ａはルツボ１４の
底面部に設けられたガイド溝である。１５はルツボ１４
を支持する支柱であり、ルツボ１４と支柱１５との間に
は、例えばボールジョイントやユニバーサルジョイント
等が介在させられる。
【００２７】１６は環状レールであり、図１１に示す如
く、上表面にはガイド溝１６ａが形成されている。１
７，１８はルツボ１４の底部と環状レール１６との間に
配置される円錐台状のローラであり、ルツボ１４のガイ
ド溝１４ａ及び環状レール１６のガイド溝１６ａに対応
した環状凸部１７ａ，１８ａがそれぞれ形成されてい
る。
く、上表面にはガイド溝１６ａが形成されている。１
７，１８はルツボ１４の底部と環状レール１６との間に
配置される円錐台状のローラであり、ルツボ１４のガイ
ド溝１４ａ及び環状レール１６のガイド溝１６ａに対応
した環状凸部１７ａ，１８ａがそれぞれ形成されてい
る。
【００２８】そして、これらのローラ１７，１８は、図
示していない駆動手段によって、環状レール１６上を走
行するように構成されている。１９はルツボ１４の内壁
面に設けられた環状のフランジであり、このフランジ１
９は図１１から判るように断面が略Ｌ字形のものであ
り、しかも浮遊物のみを漉し取る為にメッシュ状のもの
から構成されている。
示していない駆動手段によって、環状レール１６上を走
行するように構成されている。１９はルツボ１４の内壁
面に設けられた環状のフランジであり、このフランジ１
９は図１１から判るように断面が略Ｌ字形のものであ
り、しかも浮遊物のみを漉し取る為にメッシュ状のもの
から構成されている。
【００２９】上述した如く構成された薄膜形成装置で
は、ローラ１７，１８が環状レール１６上を走行するこ
とによって、ルツボ１４の内部の液が波のような運動を
行うようになる。尚、ローラ１７，１８の走行速度は、
ルツボ１４の大きさ、ルツボ１４の傾斜度、材料の粘
度、電子銃の出力等によって異なるが、例えばルツボの
直径を８０ｍｍ、傾斜度を１０°とした場合には、最大
で６０ｒｐｍ程度となるようにする。
は、ローラ１７，１８が環状レール１６上を走行するこ
とによって、ルツボ１４の内部の液が波のような運動を
行うようになる。尚、ローラ１７，１８の走行速度は、
ルツボ１４の大きさ、ルツボ１４の傾斜度、材料の粘
度、電子銃の出力等によって異なるが、例えばルツボの
直径を８０ｍｍ、傾斜度を１０°とした場合には、最大
で６０ｒｐｍ程度となるようにする。
【００３０】上述した如く構成することによって、第１
実施例と同様に浮遊物が除去される。従って、液滴の飛
散が防止され、第１実施例で詳述した如くの高品質な製
品を効率良く得ることができるようになり、又、装置の
汚染も起き難く、材料の無駄も無い。
実施例と同様に浮遊物が除去される。従って、液滴の飛
散が防止され、第１実施例で詳述した如くの高品質な製
品を効率良く得ることができるようになり、又、装置の
汚染も起き難く、材料の無駄も無い。
【００３１】
【効果】本発明によれば、ルツボ内の浮遊物を効果的に
取り除くことができ、この浮遊物によって引き起こされ
るスプラッシュ等の問題を解決でき、異物等の付着が無
く、しかも欠陥のない高品質な製品が効率良く得られ、
又、装置の汚染も軽微なのであるからメンテナンスも簡
単であり、材料の無駄も少ない。
取り除くことができ、この浮遊物によって引き起こされ
るスプラッシュ等の問題を解決でき、異物等の付着が無
く、しかも欠陥のない高品質な製品が効率良く得られ、
又、装置の汚染も軽微なのであるからメンテナンスも簡
単であり、材料の無駄も少ない。
【図１】本発明の薄膜形成装置（第１実施例）の概略図
である。
である。
【図２】本発明の薄膜形成装置（第１実施例）の要部
（ルツボ部）正面図である。
（ルツボ部）正面図である。
【図３】本発明の薄膜形成装置（第１実施例）の要部
（ルツボ部）断面図である。
（ルツボ部）断面図である。
【図４】本発明の薄膜形成装置（第１実施例）の作用を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図５】本発明の薄膜形成装置（第１実施例）の作用を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図６】本発明の薄膜形成装置（第１実施例）の作用を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図７】本発明の薄膜形成装置（第１実施例）の作用を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図８】本発明の薄膜形成装置（第１実施例）の作用を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図９】本発明の薄膜形成装置によって得られた製品の
断面図である。
断面図である。
【図１０】本発明の薄膜形成装置（第２実施例）の要部
（ルツボ部）斜視図である。
（ルツボ部）斜視図である。
【図１１】本発明の薄膜形成装置（第２実施例）の要部
（ルツボ部）断面図である。
（ルツボ部）断面図である。
【図１２】従来の薄膜形成装置の概略図である。
１ 冷却キャン ５ 磁性合金 ６ 真空容器 ７ ルツボ ８ａ，８ｂ フランジ ９ 扇形ギア １０ ギア １１ モータ Ｓ 浮遊物
フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 容器に入れられた材料を蒸発させ、前記
材料を支持体に堆積させることにより薄膜を構成する薄
膜形成装置であって、前記容器を傾動させる傾動手段を
具備してなることを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項２】 容器は回動軸によって支持され、この回
動軸には駆動手段が接続されており、前記駆動手段の作
用によって前記容器が揺動するよう構成されてなること
を特徴とする請求項１の薄膜形成装置。 - 【請求項３】 容器はその底面における一点を支点とし
て支持され、前記底面に対して当接しながら前記支点の
周囲を回転する回転体を具備してなり、前記回転体の運
動によって前記容器が傾動するよう構成されてなること
を特徴とする請求項１の薄膜形成装置。 - 【請求項４】 傾動手段による容器の傾斜度が３〜４５
°であることを特徴とする請求項１〜請求項３の薄膜形
成装置。 - 【請求項５】 容器の内壁面には凸面が設けられてなる
ことを特徴とする請求項１〜請求項４の薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24437293A JPH0797680A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24437293A JPH0797680A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0797680A true JPH0797680A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17117716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24437293A Pending JPH0797680A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0797680A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008515133A (ja) * | 2004-08-23 | 2008-05-08 | コラス、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップ | ある量の導電性材料を浮揚させる装置および方法 |
| JP2009228098A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | ルツボ、真空蒸着方法、および真空蒸着装置 |
| WO2010116697A1 (ja) * | 2009-04-08 | 2010-10-14 | パナソニック株式会社 | 薄膜の製造装置および製造方法 |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP24437293A patent/JPH0797680A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008515133A (ja) * | 2004-08-23 | 2008-05-08 | コラス、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップ | ある量の導電性材料を浮揚させる装置および方法 |
| KR101143067B1 (ko) * | 2004-08-23 | 2012-05-08 | 타타 스틸 네덜란드 테크날러지 베.뷔. | 전도성 재료의 공중부양 방법 및 장치 |
| JP2009228098A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | ルツボ、真空蒸着方法、および真空蒸着装置 |
| WO2010116697A1 (ja) * | 2009-04-08 | 2010-10-14 | パナソニック株式会社 | 薄膜の製造装置および製造方法 |
| CN102272346A (zh) * | 2009-04-08 | 2011-12-07 | 松下电器产业株式会社 | 薄膜的制造装置和制造方法 |
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