JPH0991693A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0991693A JPH0991693A JP25302195A JP25302195A JPH0991693A JP H0991693 A JPH0991693 A JP H0991693A JP 25302195 A JP25302195 A JP 25302195A JP 25302195 A JP25302195 A JP 25302195A JP H0991693 A JPH0991693 A JP H0991693A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気特性、及び耐久性・耐蝕性に優れた磁気
記録媒体を提供することである。 【解決手段】 支持体上に金属磁性膜を設ける成膜工程
と、金属磁性膜上に有極性分子を供給する有極性分子供
給工程と、金属磁性膜上に付けられた有極性分子に対し
てマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程とを具備す
る磁気記録媒体の製造方法。
記録媒体を提供することである。 【解決手段】 支持体上に金属磁性膜を設ける成膜工程
と、金属磁性膜上に有極性分子を供給する有極性分子供
給工程と、金属磁性膜上に付けられた有極性分子に対し
てマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程とを具備す
る磁気記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に金属薄膜型の
磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】磁気テープ等の磁気記
録媒体においては、高密度記録化の要請から、非磁性支
持体上に設けられる磁性層として、バインダ樹脂を用い
た塗布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金属
薄膜型のものが提案されている。すなわち、湿式メッキ
手段、あるいは真空蒸着、スパッタリングあるいはイオ
ンプレーティングといった乾式メッキ手段により磁性層
を構成した磁気記録媒体が提案されている。そして、こ
の種の磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことか
ら、高密度記録に適したものである。
録媒体においては、高密度記録化の要請から、非磁性支
持体上に設けられる磁性層として、バインダ樹脂を用い
た塗布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金属
薄膜型のものが提案されている。すなわち、湿式メッキ
手段、あるいは真空蒸着、スパッタリングあるいはイオ
ンプレーティングといった乾式メッキ手段により磁性層
を構成した磁気記録媒体が提案されている。そして、こ
の種の磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことか
ら、高密度記録に適したものである。
【０００３】このような乾式メッキ手段による磁気記録
媒体の製造装置は、図２のように構成されているものが
一般的である。尚、図２中、２１は冷却キャンロール、
２２ａはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィル
ム２３の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の
巻取側ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は
真空槽である。そして、真空槽２６内を所定の真空度の
ものに排気した後、電子銃２７を作動させてルツボ２４
内の磁性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対
して磁性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させること
によって磁気記録媒体が製造されている。
媒体の製造装置は、図２のように構成されているものが
一般的である。尚、図２中、２１は冷却キャンロール、
２２ａはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィル
ム２３の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の
巻取側ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は
真空槽である。そして、真空槽２６内を所定の真空度の
ものに排気した後、電子銃２７を作動させてルツボ２４
内の磁性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対
して磁性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させること
によって磁気記録媒体が製造されている。
【０００４】ところで、このような装置により金属薄膜
型の磁気記録媒体を製造するに際して、磁性粒子の蒸着
部分に酸素を供給し、磁気特性の向上を図ろうとするこ
とが試みられた。すなわち、ＰＥＴフィルム２３の走行
方向とは逆方向に酸素を供給することが提案（特公昭６
１−５６５６３号公報）された。そして、このものは、
それなりの特長を奏するものであった。
型の磁気記録媒体を製造するに際して、磁性粒子の蒸着
部分に酸素を供給し、磁気特性の向上を図ろうとするこ
とが試みられた。すなわち、ＰＥＴフィルム２３の走行
方向とは逆方向に酸素を供給することが提案（特公昭６
１−５６５６３号公報）された。そして、このものは、
それなりの特長を奏するものであった。
【０００５】しかしながら、前記提案のものでも満足で
きないことが次第に判って来た。すなわち、酸素ガスの
供給は磁気特性の向上のみでなく、表面酸化膜の形成に
より保護膜を形成し、耐久性・耐蝕性の向上をも目的と
している。これらの目的を達成する為に、酸素ガスを吹
き付けているとは言え、真空中における成膜段階におい
て酸素ガス吹付量を多くすることは出来ず、従ってまば
らなものとなり、表面酸化膜が出来ている部分とそうで
ない部分とが斑のように出来てしまい、均一な皮膜が出
来ていないことから、耐久性の向上については決して満
足できるものではなかった。
きないことが次第に判って来た。すなわち、酸素ガスの
供給は磁気特性の向上のみでなく、表面酸化膜の形成に
より保護膜を形成し、耐久性・耐蝕性の向上をも目的と
している。これらの目的を達成する為に、酸素ガスを吹
き付けているとは言え、真空中における成膜段階におい
て酸素ガス吹付量を多くすることは出来ず、従ってまば
らなものとなり、表面酸化膜が出来ている部分とそうで
ない部分とが斑のように出来てしまい、均一な皮膜が出
来ていないことから、耐久性の向上については決して満
足できるものではなかった。
【０００６】又、酸素ガス吹付量を多くすると、磁性層
表面の酸素濃度が高く、ＰＥＴフィルムに近い側では酸
素濃度が低く、酸素含有量に濃度勾配が出来、時間の経
過につれて酸素の拡散が起き、飽和磁束密度の低下が起
きることも判って来た。従って、本発明は、磁気特性、
及び耐久性・耐蝕性に優れた磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。
表面の酸素濃度が高く、ＰＥＴフィルムに近い側では酸
素濃度が低く、酸素含有量に濃度勾配が出来、時間の経
過につれて酸素の拡散が起き、飽和磁束密度の低下が起
きることも判って来た。従って、本発明は、磁気特性、
及び耐久性・耐蝕性に優れた磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、支
持体上に金属磁性膜を設ける成膜工程と、金属磁性膜上
に有極性分子を供給する有極性分子供給工程と、金属磁
性膜上に付けられた有極性分子に対してマイクロ波を照
射するマイクロ波照射工程とを具備することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
持体上に金属磁性膜を設ける成膜工程と、金属磁性膜上
に有極性分子を供給する有極性分子供給工程と、金属磁
性膜上に付けられた有極性分子に対してマイクロ波を照
射するマイクロ波照射工程とを具備することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
【０００８】特に、支持体上に金属磁性膜を設ける成膜
工程と、金属磁性膜上に水を噴霧する工程と、金属磁性
膜上に付けられた水滴に対してマイクロ波を照射するマ
イクロ波照射工程とを具備することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法によって達成される。
工程と、金属磁性膜上に水を噴霧する工程と、金属磁性
膜上に付けられた水滴に対してマイクロ波を照射するマ
イクロ波照射工程とを具備することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法によって達成される。
【０００９】尚、マイクロ波照射工程における条件は、
マイクロ波発生源の出力４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波数
がマイクロ波帯のものが好ましい。例えば、マイクロ波
照射時間は１０秒以内、周波数が２．４５ＧＨｚ、出力
１〜５ｋｗのものとしておけば、磁気記録媒体（支持
体）が熱損傷を受けない。
マイクロ波発生源の出力４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波数
がマイクロ波帯のものが好ましい。例えば、マイクロ波
照射時間は１０秒以内、周波数が２．４５ＧＨｚ、出力
１〜５ｋｗのものとしておけば、磁気記録媒体（支持
体）が熱損傷を受けない。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明は、支持体上に金属磁性膜
を設ける成膜工程と、金属磁性膜上に有極性分子を供給
する有極性分子供給工程と、金属磁性膜上に付けられた
有極性分子に対してマイクロ波を照射するマイクロ波照
射工程とを具備する。有極性分子しては種々のものが挙
げられる。例えば、蒸留水などの水、アルコール、その
他にも多数のものが有る。しかし、使用のし易さから考
えると、水を用いるのが好ましい。
を設ける成膜工程と、金属磁性膜上に有極性分子を供給
する有極性分子供給工程と、金属磁性膜上に付けられた
有極性分子に対してマイクロ波を照射するマイクロ波照
射工程とを具備する。有極性分子しては種々のものが挙
げられる。例えば、蒸留水などの水、アルコール、その
他にも多数のものが有る。しかし、使用のし易さから考
えると、水を用いるのが好ましい。
【００１１】従って、本発明の好ましい形態として、支
持体上に金属磁性膜を設ける成膜工程と、金属磁性膜上
に水を噴霧する工程と、金属磁性膜上に付けられた水滴
に対してマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程とを
具備する磁気記録媒体の製造方法が挙げられる。そし
て、金属磁性膜上に付けられた有極性分子液滴（水滴）
に対してマイクロ波を照射すると、誘電加熱の原理によ
り有極性分子（水分子）には振動などの分子運動が起こ
り、これによって有極性分子液滴（水滴）が発熱し、中
に含まれている酸素によって金属磁性膜表面は効果的に
酸化される。特に、この酸化は、液滴（水滴）が酸素分
子に比べるとマクロなものである為、ミクロ的な領域で
酸化されるものとは異なり、マクロ的領域にわたって酸
化が一度に行われるから、真空中における成膜段階にお
いて酸素ガスを吹き付ける場合に比べ、酸化が均一に処
理される。すなわち、酸化皮膜が斑点のように斑なもの
ではなく、均一である為、酸化膜による耐久性・耐蝕性
が向上する。
持体上に金属磁性膜を設ける成膜工程と、金属磁性膜上
に水を噴霧する工程と、金属磁性膜上に付けられた水滴
に対してマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程とを
具備する磁気記録媒体の製造方法が挙げられる。そし
て、金属磁性膜上に付けられた有極性分子液滴（水滴）
に対してマイクロ波を照射すると、誘電加熱の原理によ
り有極性分子（水分子）には振動などの分子運動が起こ
り、これによって有極性分子液滴（水滴）が発熱し、中
に含まれている酸素によって金属磁性膜表面は効果的に
酸化される。特に、この酸化は、液滴（水滴）が酸素分
子に比べるとマクロなものである為、ミクロ的な領域で
酸化されるものとは異なり、マクロ的領域にわたって酸
化が一度に行われるから、真空中における成膜段階にお
いて酸素ガスを吹き付ける場合に比べ、酸化が均一に処
理される。すなわち、酸化皮膜が斑点のように斑なもの
ではなく、均一である為、酸化膜による耐久性・耐蝕性
が向上する。
【００１２】かつ、図２の成膜段階で酸素ガスを供給
し、磁気分離を行わせる場合にあっても、酸素ガス吹付
量を必要以上に多くする必要がないから、時間の経過に
つれての酸素の大幅な拡散を心配する必要がなく、飽和
磁束密度の低下を心配する必要もない。従って、この点
からも、磁気特性が良好である。本発明における磁気記
録媒体の支持体は、磁性を有するものでも非磁性のもの
でも良いが、一般的には非磁性のものである。例えば、
ＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレン等の
オレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル
系の樹脂といった高分子材料が用いられる。そして、セ
ラミックや金属に比べて耐熱性が劣る高分子材料を支持
体に用いる場合、酸化処理時の熱量が少ない本発明は好
適である。尚、支持体面上には、必要に応じて磁性層
（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアンダーコート
層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適度に粗
すことにより、斜め蒸着法により構成される磁性薄膜の
密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さ
を適度なものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ
2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜０．１μｍ
の塗膜を設けることによってアンダーコート層が構成さ
れている。
し、磁気分離を行わせる場合にあっても、酸素ガス吹付
量を必要以上に多くする必要がないから、時間の経過に
つれての酸素の大幅な拡散を心配する必要がなく、飽和
磁束密度の低下を心配する必要もない。従って、この点
からも、磁気特性が良好である。本発明における磁気記
録媒体の支持体は、磁性を有するものでも非磁性のもの
でも良いが、一般的には非磁性のものである。例えば、
ＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレン等の
オレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル
系の樹脂といった高分子材料が用いられる。そして、セ
ラミックや金属に比べて耐熱性が劣る高分子材料を支持
体に用いる場合、酸化処理時の熱量が少ない本発明は好
適である。尚、支持体面上には、必要に応じて磁性層
（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアンダーコート
層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適度に粗
すことにより、斜め蒸着法により構成される磁性薄膜の
密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さ
を適度なものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ
2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜０．１μｍ
の塗膜を設けることによってアンダーコート層が構成さ
れている。
【００１３】支持体上に斜め蒸着などの乾式メッキ手段
で構成される金属磁性膜の材料としては、例えばＦｅ，
Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐ
ｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ
−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、ある
いはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が挙げら
れる。尚、金属磁性膜としては、前記材料の酸化物、窒
化物（例えば、Ｆｅ−Ｎ，Ｆｅ−Ｎ−Ｏ）や炭化物（例
えば、Ｆｅ−Ｃ，Ｆｅ−Ｃ−Ｏ）等も挙げられる。そし
て、例えば真空槽内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度、例
えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排気した後、抵抗加
熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などによりルツボ内の
磁性金属を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体に対し
て４００〜２０００Å、例えば１８００Å厚さ磁性金属
を斜め蒸着させることによって金属薄膜型の磁気記録媒
体が製造される。尚、この磁性金属粒子の斜め蒸着に際
して、酸素ガス供給ノズルから微量の酸素が吹き込まれ
ている。これによって、磁性金属薄膜には磁気コラムが
形成される。そして、このようにして得られた磁性金属
薄膜の磁気特性は、磁気コラムの間が酸化膜によって磁
気分離されていることから、磁気特性が優れたものであ
る。尚、成膜は、スパッタ等の手段を用いても良い。
で構成される金属磁性膜の材料としては、例えばＦｅ，
Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐ
ｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ
−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、ある
いはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が挙げら
れる。尚、金属磁性膜としては、前記材料の酸化物、窒
化物（例えば、Ｆｅ−Ｎ，Ｆｅ−Ｎ−Ｏ）や炭化物（例
えば、Ｆｅ−Ｃ，Ｆｅ−Ｃ−Ｏ）等も挙げられる。そし
て、例えば真空槽内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度、例
えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排気した後、抵抗加
熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などによりルツボ内の
磁性金属を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体に対し
て４００〜２０００Å、例えば１８００Å厚さ磁性金属
を斜め蒸着させることによって金属薄膜型の磁気記録媒
体が製造される。尚、この磁性金属粒子の斜め蒸着に際
して、酸素ガス供給ノズルから微量の酸素が吹き込まれ
ている。これによって、磁性金属薄膜には磁気コラムが
形成される。そして、このようにして得られた磁性金属
薄膜の磁気特性は、磁気コラムの間が酸化膜によって磁
気分離されていることから、磁気特性が優れたものであ
る。尚、成膜は、スパッタ等の手段を用いても良い。
【００１４】図１は、本発明になる磁気記録媒体の製造
装置の概略説明図である。金属磁性膜の成膜（蒸着）部
分の構成は図２のものと基本的に同じであるから、同一
部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。１は
超音波噴霧装置であり、この超音波噴霧装置１により成
膜された金属磁性膜上に水滴が付着させられ、この後マ
イクロ波発生源２からのマイクロ波が導波管を介して金
属磁性膜上の水滴に照射される。
装置の概略説明図である。金属磁性膜の成膜（蒸着）部
分の構成は図２のものと基本的に同じであるから、同一
部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。１は
超音波噴霧装置であり、この超音波噴霧装置１により成
膜された金属磁性膜上に水滴が付着させられ、この後マ
イクロ波発生源２からのマイクロ波が導波管を介して金
属磁性膜上の水滴に照射される。
【００１５】すなわち、真空槽内において磁性膜が成膜
され、そして巻取側ロールに巻き取られる前段階、すな
わち真空槽２６外に導出された段階で、金属磁性膜上に
は超音波噴霧装置１により水滴が付着させられ、この後
マイクロ波発生源２からのマイクロ波が導波管を介して
金属磁性膜上の水滴に照射される。このマイクロ波が金
属磁性膜上の水滴に照射される結果、水滴は発熱し、温
度が高くなるから水滴中に含まれていた酸素により金属
磁性膜は表面が効果的に酸化される。
され、そして巻取側ロールに巻き取られる前段階、すな
わち真空槽２６外に導出された段階で、金属磁性膜上に
は超音波噴霧装置１により水滴が付着させられ、この後
マイクロ波発生源２からのマイクロ波が導波管を介して
金属磁性膜上の水滴に照射される。このマイクロ波が金
属磁性膜上の水滴に照射される結果、水滴は発熱し、温
度が高くなるから水滴中に含まれていた酸素により金属
磁性膜は表面が効果的に酸化される。
【００１６】尚、マイクロ波照射工程における条件は、
マイクロ波発生源の出力４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波数
がマイクロ波帯のものである。これによって、処理が効
率よく行われる。この後、カーボンブラックをバインダ
樹脂中に分散させてなるバックコート用の塗料をダイレ
クトグラビア法により磁性層とは反対側の支持体に塗布
し、バックコート層を設ける。尚、バックコート層は金
属薄膜型のものでも良い。
マイクロ波発生源の出力４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波数
がマイクロ波帯のものである。これによって、処理が効
率よく行われる。この後、カーボンブラックをバインダ
樹脂中に分散させてなるバックコート用の塗料をダイレ
クトグラビア法により磁性層とは反対側の支持体に塗布
し、バックコート層を設ける。尚、バックコート層は金
属薄膜型のものでも良い。
【００１７】そして、パーフルオロポリエーテル（グレ
ード：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル基
変性、日本モンテジソン社製）等の潤滑剤をフッ素不活
性液体（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社
製）に希釈・分散させた塗料を金属磁性面に塗布し、乾
燥させる。この後、所定の幅にスリットし、磁気テープ
を得る。
ード：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル基
変性、日本モンテジソン社製）等の潤滑剤をフッ素不活
性液体（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社
製）に希釈・分散させた塗料を金属磁性面に塗布し、乾
燥させる。この後、所定の幅にスリットし、磁気テープ
を得る。
【００１８】
【実施例１】真空度２×１０-4Ｔｏｒｒ、酸素ガス供給
量が２０ｓｃｃｍの真空槽中において、１０μｍ厚のＰ
ＥＴフィルム上にＣｏ磁性膜を１６００Å厚さ斜め蒸着
手段により成膜した。この成膜後、１ｍ／ｍｉｎの速度
で走行するＣｏ磁性膜に向けて超音波噴霧装置１により
蒸留水を吹き付け（噴霧量；２０ｃｃ／ｍｉｎ）た。
量が２０ｓｃｃｍの真空槽中において、１０μｍ厚のＰ
ＥＴフィルム上にＣｏ磁性膜を１６００Å厚さ斜め蒸着
手段により成膜した。この成膜後、１ｍ／ｍｉｎの速度
で走行するＣｏ磁性膜に向けて超音波噴霧装置１により
蒸留水を吹き付け（噴霧量；２０ｃｃ／ｍｉｎ）た。
【００１９】噴霧後、１ｍ／ｍｉｎの速度で走行するＣ
ｏ磁性膜に向けてマイクロ波（マイクロ波パワー５００
ｗ、周波数２．４５ＧＨｚ）が照射された。この後、バ
ックコート層を設け、潤滑剤を設け、磁気テープを得
た。
ｏ磁性膜に向けてマイクロ波（マイクロ波パワー５００
ｗ、周波数２．４５ＧＨｚ）が照射された。この後、バ
ックコート層を設け、潤滑剤を設け、磁気テープを得
た。
【００２０】
【実施例２】実施例１において、マイクロ波パワーを１
ｋｗにした以外は実施例１に準じて行い、磁気テープを
得た。
ｋｗにした以外は実施例１に準じて行い、磁気テープを
得た。
【００２１】
【実施例３】実施例１において、マイクロ波周波数を
５．８ＧＨｚにした以外は実施例１に準じて行い、磁気
テープを得た。
５．８ＧＨｚにした以外は実施例１に準じて行い、磁気
テープを得た。
【００２２】
【実施例４】実施例１において、マイクロ波周波数を２
２．１２５ＧＨｚにした以外は実施例１に準じて行い、
磁気テープを得た。
２．１２５ＧＨｚにした以外は実施例１に準じて行い、
磁気テープを得た。
【００２３】
【比較例１】実施例１において、超音波噴霧及びマイク
ロ波照射を省略した以外は実施例１に準じて行い、磁気
テープを得た。
ロ波照射を省略した以外は実施例１に準じて行い、磁気
テープを得た。
【００２４】
【比較例２】比較例１において、成膜時の酸素ガス供給
量を５０ｓｃｃｍとした以外は比較例１に準じて行い、
磁気テープを得た。
量を５０ｓｃｃｍとした以外は比較例１に準じて行い、
磁気テープを得た。
【００２５】
【特性】上記各例で得た磁気テープについて、保磁力、
飽和磁束密度、耐久性、及び耐蝕性を調べたので、その
結果を下記の表−１に示す。 表−１ 保磁力(Oe) 飽和磁束密度(G) 耐久性(dB) 耐蝕性(%) 実施例１ １３００ ５５００ １ ７ 実施例２ １４００ ５０００ １ ７ 実施例３ １３５０ ５５００ ０．５ ６ 実施例４ １４００ ５０００ ０．５ ６ 比較例１ １３００ ５５００ ０．５ ９ 比較例２ １０００ ４０００ ３ ６ ＊耐久性は３時間スチル再生した場合の再生出力の低下で表示 ＊耐蝕性は温度６０℃、湿度９０％ＲＨ下に３０日間放置後の飽和磁束密度の 低下で表示 これによれば、本発明によって得られたものは耐久性・
耐蝕性に富むことが判る。又、磁気特性にも優れてい
る。
飽和磁束密度、耐久性、及び耐蝕性を調べたので、その
結果を下記の表−１に示す。 表−１ 保磁力(Oe) 飽和磁束密度(G) 耐久性(dB) 耐蝕性(%) 実施例１ １３００ ５５００ １ ７ 実施例２ １４００ ５０００ １ ７ 実施例３ １３５０ ５５００ ０．５ ６ 実施例４ １４００ ５０００ ０．５ ６ 比較例１ １３００ ５５００ ０．５ ９ 比較例２ １０００ ４０００ ３ ６ ＊耐久性は３時間スチル再生した場合の再生出力の低下で表示 ＊耐蝕性は温度６０℃、湿度９０％ＲＨ下に３０日間放置後の飽和磁束密度の 低下で表示 これによれば、本発明によって得られたものは耐久性・
耐蝕性に富むことが判る。又、磁気特性にも優れてい
る。
【００２６】これに対して、比較例１のものは、磁気特
性が本発明と同様優れているものの、酸化膜の不均一性
に起因して耐久性・耐蝕性が劣っている。又、比較例２
になるものは、磁性膜の成膜時に酸素を多めに供給した
ことから、表面酸化が厚くなされ、この結果耐久性・耐
蝕性が比較的良好なるものの、磁気特性が良くない。
性が本発明と同様優れているものの、酸化膜の不均一性
に起因して耐久性・耐蝕性が劣っている。又、比較例２
になるものは、磁性膜の成膜時に酸素を多めに供給した
ことから、表面酸化が厚くなされ、この結果耐久性・耐
蝕性が比較的良好なるものの、磁気特性が良くない。
【００２７】
【効果】本発明によれば、耐久性、耐蝕性、及び磁気特
性に優れたものが得られる。
性に優れたものが得られる。
【図１】本発明になる磁気記録媒体の製造装置の概略説
明図
明図
【図２】蒸着装置の概略説明図
１ 超音波噴霧装置 ２ マイクロ波発生手段
Claims (3)
- 【請求項１】 支持体上に金属磁性膜を設ける成膜工程
と、 金属磁性膜上に有極性分子を供給する有極性分子供給工
程と、 金属磁性膜上に付けられた有極性分子に対してマイクロ
波を照射するマイクロ波照射工程とを具備することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 有極性分子供給工程が、金属磁性膜上に
水を噴霧する工程であることを特徴とする請求項１の磁
気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 マイクロ波照射工程が、マイクロ波発生
源の出力４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波数がマイクロ波帯
のものであることを特徴とする請求項１の磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25302195A JPH0991693A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25302195A JPH0991693A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0991693A true JPH0991693A (ja) | 1997-04-04 |
Family
ID=17245389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25302195A Pending JPH0991693A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0991693A (ja) |
-
1995
- 1995-09-29 JP JP25302195A patent/JPH0991693A/ja active Pending
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