JPH0980664A - ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法Info
- Publication number
- JPH0980664A JPH0980664A JP7236925A JP23692595A JPH0980664A JP H0980664 A JPH0980664 A JP H0980664A JP 7236925 A JP7236925 A JP 7236925A JP 23692595 A JP23692595 A JP 23692595A JP H0980664 A JPH0980664 A JP H0980664A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silver halide
- group
- acid
- sensitive material
- silver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 111
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 76
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 76
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 55
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 53
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 43
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 82
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 14
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 39
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 28
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- IEIREBQISNYNTN-UHFFFAOYSA-K [Ag](I)(Br)Cl Chemical compound [Ag](I)(Br)Cl IEIREBQISNYNTN-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 1
- ZEUDGVUWMXAXEF-UHFFFAOYSA-L bromo(chloro)silver Chemical compound Cl[Ag]Br ZEUDGVUWMXAXEF-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- OIPQUBBCOVJSNS-UHFFFAOYSA-L bromo(iodo)silver Chemical compound Br[Ag]I OIPQUBBCOVJSNS-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 73
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 50
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 41
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 41
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 41
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 41
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 41
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 41
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 32
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 32
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 21
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 20
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 19
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 14
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 14
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 13
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 13
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 13
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 8
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 8
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 6
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 5
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 4
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000656 azaniumyl group Chemical group [H][N+]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 4
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 4
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 4
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical class C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 3
- DBHJVDJOBHPDRW-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-1,3,5-triazine;sodium Chemical compound [Na].ClC1=NC=NC(Cl)=N1 DBHJVDJOBHPDRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 3
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 3
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 3
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 2-nitro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC([N+](=O)[O-])=NC2=C1 KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNHFAGRBSMMFKL-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3,7-dihydropurin-6-one Chemical compound O=C1NC(=S)NC2=C1NC=N2 XNHFAGRBSMMFKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical class [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000388 Polyphosphate Chemical class 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 125000003739 carbamimidoyl group Chemical group C(N)(=N)* 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 2
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000002012 dioxanes Chemical class 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 2
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 2
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical class OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 239000001205 polyphosphate Chemical class 0.000 description 2
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 2
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 2
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 2
- UBXAKNTVXQMEAG-UHFFFAOYSA-L strontium sulfate Chemical compound [Sr+2].[O-]S([O-])(=O)=O UBXAKNTVXQMEAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 2
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003452 thorium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- SQBBHCOIQXKPHL-UHFFFAOYSA-N tributylalumane Chemical compound CCCC[Al](CCCC)CCCC SQBBHCOIQXKPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PWQJLHAAQVOCFG-NDNWHDOQSA-L (2s)-2-amino-4-methylsulfanylbutanoic acid;dichlorocobalt;propane-1,2-diol Chemical group Cl[Co]Cl.CC(O)CO.CSCC[C@H](N)C(O)=O PWQJLHAAQVOCFG-NDNWHDOQSA-L 0.000 description 1
- HCDFDZAFAJYERI-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-chloroethyl)urea Chemical compound ClCCN(C(=O)N)CCCl HCDFDZAFAJYERI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical class C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical class C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCTDKZOUZXYHNA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,2-diol Chemical compound OC1(O)COCCO1 FCTDKZOUZXYHNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZFSRQQVIKFYON-UHFFFAOYSA-N 1-(3-acetyl-5-prop-2-enoyl-1,3,5-triazinan-1-yl)prop-2-en-1-one Chemical compound CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 MZFSRQQVIKFYON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 1h-tetrazol-1-ium-5-thiolate Chemical class SC1=NN=NN1 JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 1h-triazine-6-thione Chemical class SC1=CC=NN=N1 HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRAJOOPKIIUZRM-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,4-dioxane Chemical compound ClC1(Cl)COCCO1 PRAJOOPKIIUZRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKQCSJBQLWJEPU-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzenesulfonic acid Chemical compound OC1=CC=C(O)C(S(O)(=O)=O)=C1 IKQCSJBQLWJEPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1,3-oxazole-4-carbaldehyde Chemical compound FC1=CC=CC(C=2OC=C(C=O)N=2)=C1 BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)phenol Chemical compound CNC1=CC=CC=C1O JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCDBYAPSWOPDRN-UHFFFAOYSA-N 2-[dichloro(fluoro)methyl]sulfanylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)F)C(=O)C2=C1 NCDBYAPSWOPDRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,6-dichloropyrimidine-5-carbaldehyde Chemical group NC1=NC(Cl)=C(C=O)C(Cl)=N1 GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCKMMSIFQUPKCK-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1CC1=CC=CC=C1 NCKMMSIFQUPKCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Br)=NC2=C1 PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Cl)=NC2=C1 AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-1-en-3-yne Chemical compound CCC#CC(C)=C IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940061334 2-phenylphenol Drugs 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 2-propanol Substances CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylideneimidazolidin-4-one Chemical compound O=C1CNC(=S)N1 UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 2-sulfobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1S(O)(=O)=O YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAADBCJYJHQQBI-UHFFFAOYSA-N 2-sulfoterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(S(O)(=O)=O)=C1 RAADBCJYJHQQBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 2-thiobarbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=S)N1 RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 2h-triazol-4-amine Chemical class NC1=CNN=N1 JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 2h-triazolo[4,5-c]pyridazine Chemical class N1=NC=CC2=C1N=NN2 CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVDJGOAHCVLUCZ-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)-2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCN(CC)C=C(C)C(O)=O ZVDJGOAHCVLUCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTURATSJVPIURD-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-benzo[g]indazole Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C([N+](=O)[O-])=NN2 JTURATSJVPIURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-indazole Chemical class C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=NNC2=C1 OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical class SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIQIXIBZLTPGQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethoxy)benzoic acid Chemical compound OCCOC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 QLIQIXIBZLTPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQQGQVUWBXURTA-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(CC)CN1C1=CC=CC=C1 FQQGQVUWBXURTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRVILNMDVRHVGJ-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-3-(hydroxymethyl)but-2-enamide Chemical compound C(O)C(=CC(=O)N)CO WRVILNMDVRHVGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=CC=C1 ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1h-1,2,3-benzotriazole Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=NNN=C12 UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSYUFUJLFRBMEN-UHFFFAOYSA-N 4-sulfobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C(O)=O)=C1 JSYUFUJLFRBMEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBLRZDACQHNPJT-UHFFFAOYSA-N 4-sulfonaphthalene-2,7-dicarboxylic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 HBLRZDACQHNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNKQDGLSQUASME-UHFFFAOYSA-N 4-sulfophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1C(O)=O WNKQDGLSQUASME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNJAFCPRJMLMGT-UHFFFAOYSA-N 5-(4-sulfophenoxy)benzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(=O)O)=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(O)(=O)=O)=C1 LNJAFCPRJMLMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1CC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAHAMKQVODCJTO-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound CCCC1=NC(=S)NN1 ZAHAMKQVODCJTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical class NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021556 Chromium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-araboascorbic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 1
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002085 Dialdehyde starch Polymers 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDNWOSOZYLHTCG-UHFFFAOYSA-N Dichlorophen Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1CC1=CC(Cl)=CC=C1O MDNWOSOZYLHTCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Chemical class 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- MNSGOOCAMMSKGI-UHFFFAOYSA-N N-(hydroxymethyl)phthalimide Chemical class C1=CC=C2C(=O)N(CO)C(=O)C2=C1 MNSGOOCAMMSKGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100028255 Renin Human genes 0.000 description 1
- 108090000783 Renin Proteins 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEFQLINVKFYRCS-UHFFFAOYSA-N Triclosan Chemical compound OC1=CC(Cl)=CC=C1OC1=CC=C(Cl)C=C1Cl XEFQLINVKFYRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1CO XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940037003 alum Drugs 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- XIWMTQIUUWJNRP-UHFFFAOYSA-N amidol Chemical compound NC1=CC=C(O)C(N)=C1 XIWMTQIUUWJNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N ammonium thiocyanate Chemical compound [NH4+].[S-]C#N SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N benzyl n-(2-oxopyrrolidin-3-yl)carbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC1CCNC1=O DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N bis($l^{2}-silanylidene)molybdenum Chemical compound [Si]=[Mo]=[Si] YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000359 chromic chloride Drugs 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIISBNCSMVCNIP-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2-dione Chemical compound O=C1CCCC1=O CIISBNCSMVCNIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 1
- 229960003887 dichlorophen Drugs 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000005044 dihydroquinolinyl group Chemical group N1(CC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- DTDCCPMQHXRFFI-UHFFFAOYSA-N dioxido(dioxo)chromium lanthanum(3+) Chemical compound [La+3].[La+3].[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O DTDCCPMQHXRFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L dipotassium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=S FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNTVVJMTSHKIO-UHFFFAOYSA-L disodium;2-decyl-3-(3-methylbutyl)-2-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCC(S(O)(=O)=O)(C([O-])=O)C(C([O-])=O)CCC(C)C RBNTVVJMTSHKIO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004318 erythorbic acid Substances 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000002431 foraging effect Effects 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 1
- AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N hydroxy-oxo-phenyl-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound SS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- WARQUFORVQESFF-UHFFFAOYSA-N isocyanatoethene Chemical compound C=CN=C=O WARQUFORVQESFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012968 metallocene catalyst Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 229910021343 molybdenum disilicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000010413 mother solution Substances 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C=C ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVVUWCYTDNBWJC-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-n-methyldodecan-1-amine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[NH+](C)CC1=CC=CC=C1 PVVUWCYTDNBWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 1
- 238000001225 nuclear magnetic resonance method Methods 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000010292 orthophenyl phenol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002918 oxazolines Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 150000004686 pentahydrates Chemical class 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical group 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M potassium thiocyanate Chemical compound [K+].[S-]C#N ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940116357 potassium thiocyanate Drugs 0.000 description 1
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 239000012629 purifying agent Substances 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGZVCHWAXABBHR-UHFFFAOYSA-O pyridin-1-ium-1-carboxamide Chemical class NC(=O)[N+]1=CC=CC=C1 UGZVCHWAXABBHR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical class SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003236 pyrrolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical compound O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- IYKVLICPFCEZOF-UHFFFAOYSA-N selenourea Chemical compound NC(N)=[Se] IYKVLICPFCEZOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940087562 sodium acetate trihydrate Drugs 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940006186 sodium polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N thiadiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSN=N1 JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003549 thiazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFTFJSFQGQCHQW-UHFFFAOYSA-N triformin Chemical compound O=COCC(OC=O)COC=O UFTFJSFQGQCHQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUBZKXFFIDEZKG-UHFFFAOYSA-K trisodium;5-sulfonatobenzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC(C([O-])=O)=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 NUBZKXFFIDEZKG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);disulfate Chemical compound [Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 現像補充量を低減させて処理をしても、経時
で感度変動や網点品質の劣化が少なく、カブリの増大し
ないハロゲン化銀写真感光材料の提供。又、処理時間を
大幅に短縮した状態で処理した場合にも、印刷製版用感
光材料において25ミクロン以下の微少な点を再現させ
る場合に、網点品質良好なハロゲン化銀写真感光材料の
提供。 【構成】 シンジオタクティックポリスチレンを主成分
とするフィルム支持体上に、少なくとも一層の平均粒径
が0.1μ以下のハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン
化銀乳剤層を有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料及びその処理方法。
で感度変動や網点品質の劣化が少なく、カブリの増大し
ないハロゲン化銀写真感光材料の提供。又、処理時間を
大幅に短縮した状態で処理した場合にも、印刷製版用感
光材料において25ミクロン以下の微少な点を再現させ
る場合に、網点品質良好なハロゲン化銀写真感光材料の
提供。 【構成】 シンジオタクティックポリスチレンを主成分
とするフィルム支持体上に、少なくとも一層の平均粒径
が0.1μ以下のハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン
化銀乳剤層を有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料及びその処理方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀写真感光材
料及びその処理方法に関し、更に詳しくは印刷製版用黒
白ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法に関す
る。
料及びその処理方法に関し、更に詳しくは印刷製版用黒
白ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料、特に印刷製
版用黒白感光材料は、一般に透明支持体上に塗布され、
その透明支持体としてのプラスチックフィルムベースが
使われる。その中でもポリエチレンテレフタレート(以
下PETと略する)からなる透明支持体が寸法安定性、
強度等から多く使われている。
版用黒白感光材料は、一般に透明支持体上に塗布され、
その透明支持体としてのプラスチックフィルムベースが
使われる。その中でもポリエチレンテレフタレート(以
下PETと略する)からなる透明支持体が寸法安定性、
強度等から多く使われている。
【0003】さらに、印刷製版作業の中には、網点画像
を忠実に再現させる工程が含まれる。優れた印刷物を作
成するためには、製版用感光材料上で目的の網点が忠実
に再現されることが必要である。近年、印刷製版の分野
では、網点品質の向上が要求されており、例えば600
線/インチ以上の高精細印刷や均一な極小点のランダム
パターンで構成されるFMスクリーニングと呼ばれる手
法は、25μm以下の微小な点を再現することが必要で
ある。これらは、Arレーザー、He−Neレーザー、
半導体レーザー等のレーザー光源を搭載した画像出力
機、いわゆる製版用スキャナーでの露光や、透過の網点
画像原稿をプリンターで露光する返し作業を行った際
に、目的の微小な網点が忠実に再現されることが必要で
ある。
を忠実に再現させる工程が含まれる。優れた印刷物を作
成するためには、製版用感光材料上で目的の網点が忠実
に再現されることが必要である。近年、印刷製版の分野
では、網点品質の向上が要求されており、例えば600
線/インチ以上の高精細印刷や均一な極小点のランダム
パターンで構成されるFMスクリーニングと呼ばれる手
法は、25μm以下の微小な点を再現することが必要で
ある。これらは、Arレーザー、He−Neレーザー、
半導体レーザー等のレーザー光源を搭載した画像出力
機、いわゆる製版用スキャナーでの露光や、透過の網点
画像原稿をプリンターで露光する返し作業を行った際
に、目的の微小な網点が忠実に再現されることが必要で
ある。
【0004】一方、ハロゲン化銀乳剤としては種々の粒
径のハロゲン化銀粒子が用いられるが、その中でも高解
像度の画像、例えば上記のような微小網点を忠実に再現
するためには、平均粒径0.1μm以下の微細な粒子が
好ましく用いられる。
径のハロゲン化銀粒子が用いられるが、その中でも高解
像度の画像、例えば上記のような微小網点を忠実に再現
するためには、平均粒径0.1μm以下の微細な粒子が
好ましく用いられる。
【0005】また、印刷製版用黒白感光材料は、一般に
露光後、少なくとも、現像部、定着部、水洗部或いは安
定化浴部、及び乾燥部を有する自動現像機で処理され
る。
露光後、少なくとも、現像部、定着部、水洗部或いは安
定化浴部、及び乾燥部を有する自動現像機で処理され
る。
【0006】近年、環境に対する関心の高まりととも
に、写真処理廃液量の低減にも関心が集まっている。写
真廃液は通常公共下水道に放出することができず、廃液
を回収して面倒でかつ費用のかかる焼却法により破壊処
理している。これらの点から写真処理廃液の低減化が強
く望まれていた。このような写真処理廃液の低減を解決
する手段としては、自動現像機を用いて処理する際、通
常300ml/m2以上である現像液補充量を減少させ
ることが考えられる。
に、写真処理廃液量の低減にも関心が集まっている。写
真廃液は通常公共下水道に放出することができず、廃液
を回収して面倒でかつ費用のかかる焼却法により破壊処
理している。これらの点から写真処理廃液の低減化が強
く望まれていた。このような写真処理廃液の低減を解決
する手段としては、自動現像機を用いて処理する際、通
常300ml/m2以上である現像液補充量を減少させ
ることが考えられる。
【0007】しかしながら、上記のPET支持体を用い
て、平均粒径0.1μm以下のハロゲン化銀乳剤を含有
するハロゲン化銀写真感光材料では、上記のように現像
補充量を単純に低減させて処理をした場合には、経時で
感度変動が大きくなったり、網点品質の劣化や、カブリ
の増大などの問題点があった。
て、平均粒径0.1μm以下のハロゲン化銀乳剤を含有
するハロゲン化銀写真感光材料では、上記のように現像
補充量を単純に低減させて処理をした場合には、経時で
感度変動が大きくなったり、網点品質の劣化や、カブリ
の増大などの問題点があった。
【0008】また、近年、迅速処理の要望が高まってい
る。上記のような従来から知られている技術では、微小
な点を露光し、迅速処理して、大量の感光材料をランニ
ング処理した場合に網点品質が大幅に劣化してしまう現
象が顕著に起こるようになってきた。
る。上記のような従来から知られている技術では、微小
な点を露光し、迅速処理して、大量の感光材料をランニ
ング処理した場合に網点品質が大幅に劣化してしまう現
象が顕著に起こるようになってきた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
し、本発明の目的は、現像補充量を低減させて処理をし
ても、経時で感度変動や網点品質の劣化が少なく、カブ
リの増大しないハロゲン化銀写真感光材料を提供するこ
とにある。
し、本発明の目的は、現像補充量を低減させて処理をし
ても、経時で感度変動や網点品質の劣化が少なく、カブ
リの増大しないハロゲン化銀写真感光材料を提供するこ
とにある。
【0010】本発明のもうひとつの目的は、処理時間を
大幅に短縮した状態で処理した場合にも、印刷製版用感
光材料において25ミクロン以下の微少な点を再現させ
る場合に、網点品質良好なハロゲン化銀写真感光材料を
提供することにある。
大幅に短縮した状態で処理した場合にも、印刷製版用感
光材料において25ミクロン以下の微少な点を再現させ
る場合に、網点品質良好なハロゲン化銀写真感光材料を
提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成される。
記構成により達成される。
【0012】1) シンジオタクティックポリスチレン
を主成分とするフィルム支持体上に、少なくとも一層の
平均粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子を含有す
るハロゲン化銀乳剤層を有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。
を主成分とするフィルム支持体上に、少なくとも一層の
平均粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子を含有す
るハロゲン化銀乳剤層を有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。
【0013】2) 前記1記載のハロゲン化銀写真感光
材料を、少なくとも現像槽、定着槽、水洗槽或いは安定
化浴槽、及び乾燥部を有する自動現像機で処理し、該ハ
ロゲン化銀写真感光材料が現像に入ってから乾燥ゾーン
を出るまでの全処理時間(Dry to Dry)が1
0秒以上80秒以下で処理されることを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
材料を、少なくとも現像槽、定着槽、水洗槽或いは安定
化浴槽、及び乾燥部を有する自動現像機で処理し、該ハ
ロゲン化銀写真感光材料が現像に入ってから乾燥ゾーン
を出るまでの全処理時間(Dry to Dry)が1
0秒以上80秒以下で処理されることを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0014】3) 自動現像機で、少なくとも現像補充
液を補充しながら現像するハロゲン化銀写真感光材料の
処理方法において、現像補充液の量が、ハロゲン化銀感
光材料1m2あたり30ml以上250ml以下で処理
することを特徴とする前記2記載のハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。
液を補充しながら現像するハロゲン化銀写真感光材料の
処理方法において、現像補充液の量が、ハロゲン化銀感
光材料1m2あたり30ml以上250ml以下で処理
することを特徴とする前記2記載のハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。
【0015】本発明に用いられる平均粒径0.1μm以
下のハロゲン化銀乳剤はいわゆるリップマン乳剤を使用
できる。リップマン乳剤はGB−1139062号記
載、US−3573057号、特公昭49−8333号
記載の乳剤などを用いる事ができる。特に好ましい乳剤
は特開昭58−160948号、特開昭60−1254
0号記載の乳剤を使用するのが好ましい。好ましい平均
粒径は平均粒径0.005〜0.09μmである。
下のハロゲン化銀乳剤はいわゆるリップマン乳剤を使用
できる。リップマン乳剤はGB−1139062号記
載、US−3573057号、特公昭49−8333号
記載の乳剤などを用いる事ができる。特に好ましい乳剤
は特開昭58−160948号、特開昭60−1254
0号記載の乳剤を使用するのが好ましい。好ましい平均
粒径は平均粒径0.005〜0.09μmである。
【0016】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤中の
ハロゲン化銀のハロゲン組成は特に制限はなく、塩化
銀、塩臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀が用いら
れる。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家には常用
されており、容易に理解される用語である。粒径とは、
粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒子直径
を意味する。粒子が立方体である場合には球に換算し、
その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方法の詳
細については、ミース、ジェームス:ザ・セオリー・オ
ブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.Mee
s&T.H.James著:The theory o
f the photographicproces
s)、第3版、36〜43頁(1966年(マクミラン
「Mcmillan」社刊))を参照すればよい。
ハロゲン化銀のハロゲン組成は特に制限はなく、塩化
銀、塩臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀が用いら
れる。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家には常用
されており、容易に理解される用語である。粒径とは、
粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒子直径
を意味する。粒子が立方体である場合には球に換算し、
その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方法の詳
細については、ミース、ジェームス:ザ・セオリー・オ
ブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.Mee
s&T.H.James著:The theory o
f the photographicproces
s)、第3版、36〜43頁(1966年(マクミラン
「Mcmillan」社刊))を参照すればよい。
【0017】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよいが、立方体状の粒子が好まし
い。
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよいが、立方体状の粒子が好まし
い。
【0018】本発明のハロゲン化銀粒子は粒径分布の狭
い単分散乳剤が好ましく、具体的には (粒径の標準偏差/平均粒径)×100=粒径分布の広
さ(%) によって分布の広さを定義したとき25%以下のものが
好ましく、更に好ましくは20%以下のものであり、特
に好ましくは15%以下である。
い単分散乳剤が好ましく、具体的には (粒径の標準偏差/平均粒径)×100=粒径分布の広
さ(%) によって分布の広さを定義したとき25%以下のものが
好ましく、更に好ましくは20%以下のものであり、特
に好ましくは15%以下である。
【0019】本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲ
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。粒子
を銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわゆる
逆混合法)を用いることもできる。同時混合法の一つの
形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを
一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル
ジェット法を用いることができ、この方法によると、結
晶形が規則的で粒子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳
剤が得られる。
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。粒子
を銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわゆる
逆混合法)を用いることもできる。同時混合法の一つの
形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを
一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル
ジェット法を用いることができ、この方法によると、結
晶形が規則的で粒子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳
剤が得られる。
【0020】物理熟成時や化学熟成時に亜鉛、鉛、タリ
ウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、オスミウ
ム、パラジウム、プラチナ等の金属塩等を共存させるこ
とができる。高照度特性を得るためにイリジウムをハロ
ゲン化銀1モルあたり10-9モルから10-3モルの範囲
で添加させることは、ハロゲン化銀乳剤においてしばし
ば常用される。本発明においては、印刷製版用感光材料
として最適な硬調乳剤を得るためにはロジウム、ルテニ
ウム、オスミウム及び/またはレニウムをハロゲン化銀
乳剤中に添加することが好ましい。添加位置としては粒
子中に均一に分布させる方法、コア・シェル構造にして
コア部にあるいはシェル部に多く局在させる方法があ
る。
ウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、オスミウ
ム、パラジウム、プラチナ等の金属塩等を共存させるこ
とができる。高照度特性を得るためにイリジウムをハロ
ゲン化銀1モルあたり10-9モルから10-3モルの範囲
で添加させることは、ハロゲン化銀乳剤においてしばし
ば常用される。本発明においては、印刷製版用感光材料
として最適な硬調乳剤を得るためにはロジウム、ルテニ
ウム、オスミウム及び/またはレニウムをハロゲン化銀
乳剤中に添加することが好ましい。添加位置としては粒
子中に均一に分布させる方法、コア・シェル構造にして
コア部にあるいはシェル部に多く局在させる方法があ
る。
【0021】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(RD)
176号17643、22〜23頁(1978年12
月)に記載もしくは引用された文献に記載されている。
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(RD)
176号17643、22〜23頁(1978年12
月)に記載もしくは引用された文献に記載されている。
【0022】本発明において、シンジオタクティックポ
リスチレン(SPS)を主成分とするフィルムとは、立
体規則性構造(タクティシティー)が主としてシンジオ
タクティック構造、即ち炭素−炭素結合〜形成される主
鎖に対して側鎖であるフェニール基や置換フェニール基
が交互に反対方向に位置する立体構造を有するものであ
り、主鎖の主たる連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系
重合体あるいは、それを含む組成物であり、スチレンの
単独重合体であれば、特開昭62−117708号記載
の方法で重合することが可能であり、またその他の重合
体については、特開平1−46912号、同1−178
505号等に記載された方法により重合することにより
得ることができる。
リスチレン(SPS)を主成分とするフィルムとは、立
体規則性構造(タクティシティー)が主としてシンジオ
タクティック構造、即ち炭素−炭素結合〜形成される主
鎖に対して側鎖であるフェニール基や置換フェニール基
が交互に反対方向に位置する立体構造を有するものであ
り、主鎖の主たる連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系
重合体あるいは、それを含む組成物であり、スチレンの
単独重合体であれば、特開昭62−117708号記載
の方法で重合することが可能であり、またその他の重合
体については、特開平1−46912号、同1−178
505号等に記載された方法により重合することにより
得ることができる。
【0023】そのタクティシティーは同位体炭素によ
る、核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量され
る。
る、核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量され
る。
【0024】13C−NMR法により測定されるタクティ
シティーは、連続する複数個の構成単位の存在割合、例
えば2個の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッ
ド、5個の場合はペンタッドによって示すことができる
が、本発明に言う主としてシンジオタクティック構造を
有するスチレン系重合体とは、通常ラセミダイアッドで
75%以上、好ましくは85%以上、若しくはラセミト
リアッド60%以上、好ましくは75%以上、若しくは
ラセミペンタッド30%以上、好ましくは50%以上で
あることが好ましい。
シティーは、連続する複数個の構成単位の存在割合、例
えば2個の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッ
ド、5個の場合はペンタッドによって示すことができる
が、本発明に言う主としてシンジオタクティック構造を
有するスチレン系重合体とは、通常ラセミダイアッドで
75%以上、好ましくは85%以上、若しくはラセミト
リアッド60%以上、好ましくは75%以上、若しくは
ラセミペンタッド30%以上、好ましくは50%以上で
あることが好ましい。
【0025】シンジオタクティックポリスチレン系組成
物を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチ
レン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメ
チルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化(アルキ
ル)スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。特
に、アルキルスチレンとスチレンの共重合体は、50μ
m以上の膜厚を有するフィルムを得るためには、好まし
い組み合わせである。
物を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチ
レン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメ
チルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化(アルキ
ル)スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。特
に、アルキルスチレンとスチレンの共重合体は、50μ
m以上の膜厚を有するフィルムを得るためには、好まし
い組み合わせである。
【0026】本発明のシンジオタクティック構造を有す
るポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを
重合用の触媒として、特開平5−320448号、4頁
〜10頁に記載の(イ)(a)遷移金属化合物及び
(b)アルミノキサンを主成分とするもの、又は(ロ)
(a)遷移金属化合物及び(c)遷移金属化合物と反応
してイオン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするも
のを用いて重合して製造することができる。
るポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを
重合用の触媒として、特開平5−320448号、4頁
〜10頁に記載の(イ)(a)遷移金属化合物及び
(b)アルミノキサンを主成分とするもの、又は(ロ)
(a)遷移金属化合物及び(c)遷移金属化合物と反応
してイオン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするも
のを用いて重合して製造することができる。
【0027】本発明フィルムに用いられるスチレン系重
合体を製造するには、まず、前記スチレン系単量体を十
分に精製してから上記触媒のいずれかの存在下に重合さ
せる。この際、重合方法、重合条件(重合温度、重合時
間)、溶媒などは適宜選定すればよい。通常は−50〜
200℃、好ましくは30〜100℃の温度において、
1秒〜10時間、好ましくは1分〜6時間程度重合が行
われる。また、重合方法としては、スラリー重合法、溶
液重合法、塊状重合法、気相重合法など、いずれも用い
ることができるし、連続重合、非連続重合のいずれであ
ってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒とし
て、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素、シクロペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素などを一
種又は二種以上を組合わせて使用することができる。こ
の場合、単量体/溶媒(体積比)は任意に選択すること
ができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、通
常用いられている方法によって行えばよい。分子量制御
は例えば温度、モノマー濃度などで行うことができる。
合体を製造するには、まず、前記スチレン系単量体を十
分に精製してから上記触媒のいずれかの存在下に重合さ
せる。この際、重合方法、重合条件(重合温度、重合時
間)、溶媒などは適宜選定すればよい。通常は−50〜
200℃、好ましくは30〜100℃の温度において、
1秒〜10時間、好ましくは1分〜6時間程度重合が行
われる。また、重合方法としては、スラリー重合法、溶
液重合法、塊状重合法、気相重合法など、いずれも用い
ることができるし、連続重合、非連続重合のいずれであ
ってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒とし
て、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素、シクロペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素などを一
種又は二種以上を組合わせて使用することができる。こ
の場合、単量体/溶媒(体積比)は任意に選択すること
ができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、通
常用いられている方法によって行えばよい。分子量制御
は例えば温度、モノマー濃度などで行うことができる。
【0028】また、本発明の効果を損なわない程度に、
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。
【0029】SPS(シンジオタクティック・ポリスチ
レン)を製膜するに用いる重合体は、重量平均分子量が
10,000以上、更に好ましくは30,000以上で
ある。重量平均分子量が10,000未満のものでは、
強度特性や耐熱性に優れたフィルムにならない場合があ
る。重量平均分子量の上限については、特に限定される
ものではないが、1,500,000以上では延伸張力
の増加に伴う破断の発生などが生じる可能性がある。
レン)を製膜するに用いる重合体は、重量平均分子量が
10,000以上、更に好ましくは30,000以上で
ある。重量平均分子量が10,000未満のものでは、
強度特性や耐熱性に優れたフィルムにならない場合があ
る。重量平均分子量の上限については、特に限定される
ものではないが、1,500,000以上では延伸張力
の増加に伴う破断の発生などが生じる可能性がある。
【0030】本発明のSPSフィルムの分子量は、製膜
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10,000〜3,000,000であることが好
ましく、特には30,000〜1,500,000のも
のが好ましい。またこの時の分子量分布(数平均分子量
/重量平均分子量)は、1.5〜8が好ましい。この分
子量分布については、異なる分子量のものを混合するこ
とにより調整することも可能である。更に本発明のシン
ジオタクティックポリスチレン系フィルムは、シンジオ
タクティックポリスチレン系ペレットを120〜180
℃で、1〜24時間、真空下或いは、常圧下で空気又は
窒素等の不活性気体雰囲気下で乾燥する。目的とする含
有水分率は、特に限定されないが加水分解による機械的
強度等の低下を防ぐ観点から、0.05%以下、好まし
くは0.01%以下、更に好ましくは0.005%以下
が良い。しかしながら目的を達成すれば、これらの方法
に特に限定されるものではない。
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10,000〜3,000,000であることが好
ましく、特には30,000〜1,500,000のも
のが好ましい。またこの時の分子量分布(数平均分子量
/重量平均分子量)は、1.5〜8が好ましい。この分
子量分布については、異なる分子量のものを混合するこ
とにより調整することも可能である。更に本発明のシン
ジオタクティックポリスチレン系フィルムは、シンジオ
タクティックポリスチレン系ペレットを120〜180
℃で、1〜24時間、真空下或いは、常圧下で空気又は
窒素等の不活性気体雰囲気下で乾燥する。目的とする含
有水分率は、特に限定されないが加水分解による機械的
強度等の低下を防ぐ観点から、0.05%以下、好まし
くは0.01%以下、更に好ましくは0.005%以下
が良い。しかしながら目的を達成すれば、これらの方法
に特に限定されるものではない。
【0031】《重合例》特開平3−131843号に準
じてSPSペレットを作製した。触媒の調整から重合反
応までは、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積5
00mlのガラス性容器に硫酸銅5水塩(CuSO4・
5H2O)17.8g(71mmol)精製ベンゼン2
00mlおよびトリメチルアルミニウム24mlをい
れ、40℃で8時間撹拌して触媒の調整を行った。これ
をアルゴン気流下No.3ガラスフィルターで濾過し
て、濾液を凍結乾燥させた。これを取り出し、2lのス
テンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブチルアル
ミニウム、ペンタシクロメチル−ペンタジエチルチタン
−トリメトキシドを混合し90℃に加熱した。
じてSPSペレットを作製した。触媒の調整から重合反
応までは、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積5
00mlのガラス性容器に硫酸銅5水塩(CuSO4・
5H2O)17.8g(71mmol)精製ベンゼン2
00mlおよびトリメチルアルミニウム24mlをい
れ、40℃で8時間撹拌して触媒の調整を行った。これ
をアルゴン気流下No.3ガラスフィルターで濾過し
て、濾液を凍結乾燥させた。これを取り出し、2lのス
テンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブチルアル
ミニウム、ペンタシクロメチル−ペンタジエチルチタン
−トリメトキシドを混合し90℃に加熱した。
【0032】この中に、精製したスチレンを1l入れ、
さらに、精製したp−メチルスチレン70mlを入れ、
この温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで
冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に
滴下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノ
ールで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロ
ルベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレン
で検量したGPCの測定の結果から求めたこの重合体の
重量平均分子量は、415,000であった。またこの
重合体の融点は、245℃で13C−NMRの測定からも
得られた重合体のは、シンジオタクティック構造を有す
ることを確認した。これを押出機でペレット化した後
に、130℃で乾燥させた。
さらに、精製したp−メチルスチレン70mlを入れ、
この温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで
冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に
滴下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノ
ールで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロ
ルベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレン
で検量したGPCの測定の結果から求めたこの重合体の
重量平均分子量は、415,000であった。またこの
重合体の融点は、245℃で13C−NMRの測定からも
得られた重合体のは、シンジオタクティック構造を有す
ることを確認した。これを押出機でペレット化した後
に、130℃で乾燥させた。
【0033】本発明のSPSフィルムとしては、スチレ
ンから作られるSPS単独であることが好ましいが、さ
らにSPSを含むフィルムとして、SPSに、主鎖がメ
ソ連鎖であるアイソタクティック構造を有するスチレン
系重合体(IPS)を混合することにより結晶化速度の
コントロールが可能であり、より強固なフィルムとする
ことが可能である。
ンから作られるSPS単独であることが好ましいが、さ
らにSPSを含むフィルムとして、SPSに、主鎖がメ
ソ連鎖であるアイソタクティック構造を有するスチレン
系重合体(IPS)を混合することにより結晶化速度の
コントロールが可能であり、より強固なフィルムとする
ことが可能である。
【0034】SPSとIPSとを混合する際には、その
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、30:7
0〜99:1好ましくは、50:50〜98:2であ
る。
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、30:7
0〜99:1好ましくは、50:50〜98:2であ
る。
【0035】支持体中には、本発明の目的を妨げない範
囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。
囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。
【0036】製膜時に押し出す方法は、公知の方法が適
用出来るが、例えばTダイで押し出すことが好ましい。
シンジオタクティックポリスチレンペレットを280〜
350℃で溶融、押出して、キャスティングロール上で
静電印加しながら冷却固化させて未延伸フィルムを作製
する。
用出来るが、例えばTダイで押し出すことが好ましい。
シンジオタクティックポリスチレンペレットを280〜
350℃で溶融、押出して、キャスティングロール上で
静電印加しながら冷却固化させて未延伸フィルムを作製
する。
【0037】次にこの未延伸フィルムを2軸延伸し、2
軸配向させる。延伸方法としては、公知の方法、例え
ば、縦延伸及び横延伸を順に行う逐次2軸延伸法のほ
か、横延伸・縦延伸の逐次2軸延伸法、横・縦・縦延伸
法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、または同時
2軸延伸法等を採用することができ、要求される機械的
強度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択すること
ができる。
軸配向させる。延伸方法としては、公知の方法、例え
ば、縦延伸及び横延伸を順に行う逐次2軸延伸法のほ
か、横延伸・縦延伸の逐次2軸延伸法、横・縦・縦延伸
法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、または同時
2軸延伸法等を採用することができ、要求される機械的
強度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択すること
ができる。
【0038】一般に、最初に長手方向に、次に幅手方向
に延伸を行う逐次2軸延伸方法が好ましく、この場合、
縦横の延伸倍率としては、2.5〜6倍で、縦延伸温度
は、ポリマーのガラス転移温度(Tg)に依存するが、
通常(Tg+10)℃〜(Tg+50)℃の温度範囲で
延伸する。シンジオタクティックポリスチレン系フィル
ムの場合は、110〜150℃行うことが好ましい。幅
手方向の延伸温度としては、長手方向より若干高くして
115〜160℃で行うことが好ましい。つぎに、この
延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度とし
ては、用途に応じて適宜変更出来る。高い収縮率を要求
される収縮包装用途には150℃以下、寸法安定性を要
求される写真、印刷、医用用途には、目的に応じて適宜
150〜270℃の温度が採用される。熱処理時間は、
特に限定されないが通常1秒から2分程度が採用され
る。
に延伸を行う逐次2軸延伸方法が好ましく、この場合、
縦横の延伸倍率としては、2.5〜6倍で、縦延伸温度
は、ポリマーのガラス転移温度(Tg)に依存するが、
通常(Tg+10)℃〜(Tg+50)℃の温度範囲で
延伸する。シンジオタクティックポリスチレン系フィル
ムの場合は、110〜150℃行うことが好ましい。幅
手方向の延伸温度としては、長手方向より若干高くして
115〜160℃で行うことが好ましい。つぎに、この
延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度とし
ては、用途に応じて適宜変更出来る。高い収縮率を要求
される収縮包装用途には150℃以下、寸法安定性を要
求される写真、印刷、医用用途には、目的に応じて適宜
150〜270℃の温度が採用される。熱処理時間は、
特に限定されないが通常1秒から2分程度が採用され
る。
【0039】必要に応じて、縦熱弛緩、横熱弛緩処理等
を施してもよいことは言うまでもない。
を施してもよいことは言うまでもない。
【0040】この後にフィルムを、急冷して巻き取って
も良いが、Tg〜熱処理温度の間で0.1分〜1500
時間かけて徐冷し大きな径のコアに巻取り40℃〜Tg
間でさらに−0.01〜−20℃/分の間の平均冷却速
度で冷却すると、支持体に巻ぐせを付けにくくする効果
がある点で好ましい。もちろん40℃〜Tg間での熱処
理は、支持体を巻とってから乳剤塗布後製法品断裁まで
に0.1分〜1500時間恒温槽に入れて行うことが好
ましい。
も良いが、Tg〜熱処理温度の間で0.1分〜1500
時間かけて徐冷し大きな径のコアに巻取り40℃〜Tg
間でさらに−0.01〜−20℃/分の間の平均冷却速
度で冷却すると、支持体に巻ぐせを付けにくくする効果
がある点で好ましい。もちろん40℃〜Tg間での熱処
理は、支持体を巻とってから乳剤塗布後製法品断裁まで
に0.1分〜1500時間恒温槽に入れて行うことが好
ましい。
【0041】上述の製膜法に加えて、易滑性、接着性、
帯電防止性能等の諸特性を付与するため、SPS支持体
の少なくとも片面に、前述の特性等を付与したSPS支
持体を積層した、SPS積層フィルムを作製することも
出来る。積層の方法は、樹脂が溶融された状態で層流で
積層した後、ダイより押し出すとか、冷却、固化したS
PS未延伸支持体又はSPS一軸延伸支持体に、溶融S
PSを押出ラミネートし、しかる後縦・横両方向に又
は、一軸延伸方向と直角方向に延伸、熱固定して得られ
る。SPS樹脂の押出条件、延伸温度、延伸倍率、熱固
定温度等は、SPS積層支持体の組み合わせによっては
若干異なるが、最適条件を選ぶよう微調整すれば良く、
大幅な変更にはならない。
帯電防止性能等の諸特性を付与するため、SPS支持体
の少なくとも片面に、前述の特性等を付与したSPS支
持体を積層した、SPS積層フィルムを作製することも
出来る。積層の方法は、樹脂が溶融された状態で層流で
積層した後、ダイより押し出すとか、冷却、固化したS
PS未延伸支持体又はSPS一軸延伸支持体に、溶融S
PSを押出ラミネートし、しかる後縦・横両方向に又
は、一軸延伸方向と直角方向に延伸、熱固定して得られ
る。SPS樹脂の押出条件、延伸温度、延伸倍率、熱固
定温度等は、SPS積層支持体の組み合わせによっては
若干異なるが、最適条件を選ぶよう微調整すれば良く、
大幅な変更にはならない。
【0042】勿論、積層は2層以上の積層からなり、同
種ポリマーの組み合わせ(共重合ポリマーの組み合わせ
を含む)であっても良いし、異種ポリマーであっても良
いことは言うまでもない。
種ポリマーの組み合わせ(共重合ポリマーの組み合わせ
を含む)であっても良いし、異種ポリマーであっても良
いことは言うまでもない。
【0043】上述の製膜法は、その用途、目的に応じて
適宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、こ
れらの方法に限定されるものではない。
適宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、こ
れらの方法に限定されるものではない。
【0044】このようにして得られたシンジオタクティ
ック・ポリスチレン系延伸フィルムの厚さは、用途に応
じて異なるが、極薄コンデンサー用の0.3μm厚さの
もの、通常コンデンサー用の6μm、12μm厚み、医
用、印刷感材用の100μm、電気絶縁材料(スロット
ライナー等)用の250μm厚さと、多岐に亘るが、上
記製膜条件は、0.3〜500μmの厚さのものに有効
である。
ック・ポリスチレン系延伸フィルムの厚さは、用途に応
じて異なるが、極薄コンデンサー用の0.3μm厚さの
もの、通常コンデンサー用の6μm、12μm厚み、医
用、印刷感材用の100μm、電気絶縁材料(スロット
ライナー等)用の250μm厚さと、多岐に亘るが、上
記製膜条件は、0.3〜500μmの厚さのものに有効
である。
【0045】つぎにハロゲン化銀写真感光材料用親水性
コロイド層塗布前の支持体の下引処理に付いてのべる。
コロイド層塗布前の支持体の下引処理に付いてのべる。
【0046】下引層を塗設する際には、薬品処理、機械
的粗面化処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などを施すことが好ましい。これらの処理
により表面の表面張力を50dyne/cm以上にする
事が好ましい。
的粗面化処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などを施すことが好ましい。これらの処理
により表面の表面張力を50dyne/cm以上にする
事が好ましい。
【0047】下引層に付いては、当業界で用いられてい
るものならいずれを用いても構わない。また下引層は、
単層でも構わないが、より機能性を求め、接着力を高め
るためには、重層であることが望ましい。
るものならいずれを用いても構わない。また下引層は、
単層でも構わないが、より機能性を求め、接着力を高め
るためには、重層であることが望ましい。
【0048】以下に下引の重層法について説明する。重
層法においては、下引第1層は、支持体に良く接着する
ことが好ましく、素材としては、メタクリル酸、アクリ
ル酸、等の不飽和カルボン酸もしくはそのエステル、ス
チレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、等の単量体から
得られる重合体もしくは、共重合体、水分散系のポリエ
ステル、ポリウレタン、ポリエチレンイミン、エポキシ
樹脂などが挙げられる。
層法においては、下引第1層は、支持体に良く接着する
ことが好ましく、素材としては、メタクリル酸、アクリ
ル酸、等の不飽和カルボン酸もしくはそのエステル、ス
チレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、等の単量体から
得られる重合体もしくは、共重合体、水分散系のポリエ
ステル、ポリウレタン、ポリエチレンイミン、エポキシ
樹脂などが挙げられる。
【0049】この中で好ましいものは、水分散性ポリエ
ステルとスチレン系重合体を構成要素とする共重合体で
ある。この水分散性ポリエステルとスチレン系重合体を
構成要素とする共重合体または、組成物について説明す
る。
ステルとスチレン系重合体を構成要素とする共重合体で
ある。この水分散性ポリエステルとスチレン系重合体を
構成要素とする共重合体または、組成物について説明す
る。
【0050】水分散性ポリエステルとは、多塩基酸また
はそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはそのエ
ステル形成性誘導体との縮重合反応により得られる実質
的に線状のポリマーである。このポリマーの多塩基酸成
分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、
無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸な
どを例示することができる。これら成分と共にマレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やp
−ヒドロキシ安息香酸、p−(β−ヒドロキシエトキ
シ)安息香酸などのヒドロキシカルボン酸を小割合用い
ることができる。
はそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはそのエ
ステル形成性誘導体との縮重合反応により得られる実質
的に線状のポリマーである。このポリマーの多塩基酸成
分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、
無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸な
どを例示することができる。これら成分と共にマレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やp
−ヒドロキシ安息香酸、p−(β−ヒドロキシエトキ
シ)安息香酸などのヒドロキシカルボン酸を小割合用い
ることができる。
【0051】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、
ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールなどを例示
することができる。
グリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、
ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールなどを例示
することができる。
【0052】該水分散性ポリエステルに水分散性及び水
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分(スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び/
又はそのエステル形成性誘導体)を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して5〜15モル%含有
することが好ましい。
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分(スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び/
又はそのエステル形成性誘導体)を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して5〜15モル%含有
することが好ましい。
【0053】本発明の下引層に用いられるスルホン酸塩
を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル形成性誘
導体としてはスルホン酸アルカリ金属塩の基を有するも
のが特に好ましく、例えば4−スルホイソフタル酸、5
−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、4−スル
ホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7−ジカルボ
ン酸、5−(4−スルホフェノキシ)イソフタル酸など
のアルカリ金属塩又はそのエステル形成性誘導体が用い
られるが、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩又はそ
のエステル形成性誘導体が特に好ましい。これらのスル
ホン酸塩を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル
形成性誘導体は、水溶性及び耐水性の点から全ジカルボ
ン酸成分に対し6〜10モル%で用いられることが特に
好ましい。
を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル形成性誘
導体としてはスルホン酸アルカリ金属塩の基を有するも
のが特に好ましく、例えば4−スルホイソフタル酸、5
−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、4−スル
ホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7−ジカルボ
ン酸、5−(4−スルホフェノキシ)イソフタル酸など
のアルカリ金属塩又はそのエステル形成性誘導体が用い
られるが、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩又はそ
のエステル形成性誘導体が特に好ましい。これらのスル
ホン酸塩を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル
形成性誘導体は、水溶性及び耐水性の点から全ジカルボ
ン酸成分に対し6〜10モル%で用いられることが特に
好ましい。
【0054】本発明の下引層に用いるスチレン系重合体
のモノマーとしては、スチレン単独でかまわないし又共
重合する際には、例えばアルキルアクリレート、アルキ
ルメタクリレート(アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等);2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミ
ド、N−メチルアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−
ジメチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアク
リルアミド等のアミド基含有モノマー;N,N−ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
メタクリレートのアミノ基含有モノマー;グリシジルア
クリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基
含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの
塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等の
カルボキシル基またはその塩を含有するモノマー;スチ
レンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそれらの塩(ナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等のスルホ
ン酸基又はその塩を含有するモノマー;イタコン酸、マ
レイン酸、フマール酸及びそれらの塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩)等のカルボキシル基また
はその塩を含有するモノマー;無水マレイン酸、無水イ
タコン酸等の酸無水物を含有するモノマー;ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、ビニルメチルエー
テル、ビニルエチルエーテル、アクリロニトリル、塩化
ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。
上述のモノマーは、1種もしくは2種以上を用いて共重
合させることができる。
のモノマーとしては、スチレン単独でかまわないし又共
重合する際には、例えばアルキルアクリレート、アルキ
ルメタクリレート(アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等);2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミ
ド、N−メチルアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−
ジメチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアク
リルアミド等のアミド基含有モノマー;N,N−ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
メタクリレートのアミノ基含有モノマー;グリシジルア
クリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基
含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの
塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等の
カルボキシル基またはその塩を含有するモノマー;スチ
レンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそれらの塩(ナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等のスルホ
ン酸基又はその塩を含有するモノマー;イタコン酸、マ
レイン酸、フマール酸及びそれらの塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩)等のカルボキシル基また
はその塩を含有するモノマー;無水マレイン酸、無水イ
タコン酸等の酸無水物を含有するモノマー;ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、ビニルメチルエー
テル、ビニルエチルエーテル、アクリロニトリル、塩化
ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。
上述のモノマーは、1種もしくは2種以上を用いて共重
合させることができる。
【0055】水分散性ポリエステルをビニル系重合体に
変性するには、水分散性ポリエステルの末端に付加重合
可能な基を導入してビニル系共重合体のモノマーと共重
合することによりグラフト化する方法、ビニル系共重合
体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジル基も
しくはアミノ基等水分散性ポリエステルを縮重合する際
に反応可能基を導入しグラフト化する方法等がある。
変性するには、水分散性ポリエステルの末端に付加重合
可能な基を導入してビニル系共重合体のモノマーと共重
合することによりグラフト化する方法、ビニル系共重合
体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジル基も
しくはアミノ基等水分散性ポリエステルを縮重合する際
に反応可能基を導入しグラフト化する方法等がある。
【0056】また、重合開始剤には、過硫酸アンモニウ
ム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなどがあり、好
ましくは過硫酸アンモニウムが使用される。
ム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなどがあり、好
ましくは過硫酸アンモニウムが使用される。
【0057】更に、重合については、特に界面活性剤を
必要とせず、ソープフリーで反応可能である。しかし、
重合安定性を改良する目的で、系内に界面活性剤を乳化
剤として用いることができ、一般のノニオン・アニオン
いずれの界面活性剤も使用できる。
必要とせず、ソープフリーで反応可能である。しかし、
重合安定性を改良する目的で、系内に界面活性剤を乳化
剤として用いることができ、一般のノニオン・アニオン
いずれの界面活性剤も使用できる。
【0058】上記の水分散性ポリエステルとスチレン系
共重合体の変性する割合は、99/1〜5/95、好ま
しくは97/3〜50/50、更に好ましくは95/5
〜80/20がよい。
共重合体の変性する割合は、99/1〜5/95、好ま
しくは97/3〜50/50、更に好ましくは95/5
〜80/20がよい。
【0059】下引第1層中には、塗布性を向上させるた
めに活性剤の添加やメチルセルロース等のセルロース化
合物を含有させることが好ましい。
めに活性剤の添加やメチルセルロース等のセルロース化
合物を含有させることが好ましい。
【0060】下引処理は、前記フィルム製膜後に行って
も構わないが、下引組成物が延伸可能であるならば、製
膜途中である縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延伸
後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能である。
も構わないが、下引組成物が延伸可能であるならば、製
膜途中である縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延伸
後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能である。
【0061】延伸ができない場合例えば、親水性基を有
するポリマーを用いるには、親水性高分子間での相互作
用が強く、延伸できないことがあるが、スチーム下で延
伸したり、延伸助剤としてポリグリセリンなどを添加す
ることにより延伸が可能となる。
するポリマーを用いるには、親水性高分子間での相互作
用が強く、延伸できないことがあるが、スチーム下で延
伸したり、延伸助剤としてポリグリセリンなどを添加す
ることにより延伸が可能となる。
【0062】親水基を有するモノマーの中で好ましい物
としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等の不飽和カルボン酸が挙げられる。この含有量として
は、耐水性の点からみて、1〜10重量%が好ましく、
更に好ましくは1〜8重量%、より好ましくは、1〜6
重量%、最も好ましくは、1〜4重量%である。またこ
の共重合体の第4成分として、その他の共重合可能な単
量体を0〜15重量%、好ましくは、0〜10重量%の
範囲で、必要に応じて共重合させる事ができる。この例
としては、メチルスチレン等のアルキル置換スチレン、
クロロスチレン、クロルメチルスチレン等のハロゲン化
スチレン、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合
物、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸t−ブチル等の脂肪族、メタクリル酸シクロヘキシル
等の脂環族、アクリル酸ベンジル等の芳香族(メタ)ア
クリル酸エステル化合物、更にはゴム変性化合物であ
る、ブタジエン、イソプレン等を挙げることができる。
としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等の不飽和カルボン酸が挙げられる。この含有量として
は、耐水性の点からみて、1〜10重量%が好ましく、
更に好ましくは1〜8重量%、より好ましくは、1〜6
重量%、最も好ましくは、1〜4重量%である。またこ
の共重合体の第4成分として、その他の共重合可能な単
量体を0〜15重量%、好ましくは、0〜10重量%の
範囲で、必要に応じて共重合させる事ができる。この例
としては、メチルスチレン等のアルキル置換スチレン、
クロロスチレン、クロルメチルスチレン等のハロゲン化
スチレン、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合
物、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸t−ブチル等の脂肪族、メタクリル酸シクロヘキシル
等の脂環族、アクリル酸ベンジル等の芳香族(メタ)ア
クリル酸エステル化合物、更にはゴム変性化合物であ
る、ブタジエン、イソプレン等を挙げることができる。
【0063】これらの共重合体の製法は、特に制限がな
く、通常は一般公知のラジカル開始剤を用いて、ラジカ
ル重合により得る事ができる。
く、通常は一般公知のラジカル開始剤を用いて、ラジカ
ル重合により得る事ができる。
【0064】これらの単量体からなる共重合体の、GP
C法により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均
分子量としては、1,500〜700,000であるこ
とが好ましく、2,000〜500,000であること
が更に好ましい。
C法により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均
分子量としては、1,500〜700,000であるこ
とが好ましく、2,000〜500,000であること
が更に好ましい。
【0065】下引第2層は、写真乳剤層と良く接着する
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を構
成するバインダーとして、ゼラチン、ゼラチン誘導体、
ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水
溶性ポリマー類、ポリスチレンスルホン酸ソーダ共重合
体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げられる
が、ゼラチンが好ましい。
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を構
成するバインダーとして、ゼラチン、ゼラチン誘導体、
ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水
溶性ポリマー類、ポリスチレンスルホン酸ソーダ共重合
体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げられる
が、ゼラチンが好ましい。
【0066】これら下引2層中には、硬膜剤を用いて膜
強度を高めることが好ましく、このような硬膜剤として
は、例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドのよ
うなアルデヒド化合物、反応性ハロゲンを有する化合
物、ジアセチル、シクロペンタンジオンの如きケトン化
合物、ビス(2−クロロエチル)尿素、2−ヒドロキシ
−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン、ジビニ
ルスルホン、5−アセチル−1,3−ジアクリロイルヘ
キサヒドロ−1,3,5−トリアジン、反応性オレフィ
ンを有する化合物、ビニルスルホン化合物、N−ヒドロ
キシメチルフタルイミド、N−メチロール化合物、イソ
シアネート化合物、アジリジン化合物、酸誘導体類、カ
ルボジイミド系化合物、エポキシ系化合物、イソオキサ
ゾール系化合物、ムコクロル酸のようなハロゲノカルボ
キシアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサン、ジクロロ
ジオキサン等のジオキサン誘導体等の有機硬膜剤及びク
ロムミョウバン、硫酸ジルコニウム、三塩化クロム等の
無機硬膜剤である。またゼラチンに対して硬膜作用が比
較的速い硬膜剤としては、ジヒドロキノリン骨格を有す
る化合物、N−カルバモイルピリジニウム塩類、アシル
イミダゾール類、N−アシルオキシイミダゾール類、N
−アシルオキシイミノ基を分子内に2個以上有する化合
物、N−スルホニルオキシイミド基を有する化合物、リ
ン−ハロゲン結合を有する化合物、クロロホルムアミジ
ニウム化合物等が知られている。
強度を高めることが好ましく、このような硬膜剤として
は、例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドのよ
うなアルデヒド化合物、反応性ハロゲンを有する化合
物、ジアセチル、シクロペンタンジオンの如きケトン化
合物、ビス(2−クロロエチル)尿素、2−ヒドロキシ
−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン、ジビニ
ルスルホン、5−アセチル−1,3−ジアクリロイルヘ
キサヒドロ−1,3,5−トリアジン、反応性オレフィ
ンを有する化合物、ビニルスルホン化合物、N−ヒドロ
キシメチルフタルイミド、N−メチロール化合物、イソ
シアネート化合物、アジリジン化合物、酸誘導体類、カ
ルボジイミド系化合物、エポキシ系化合物、イソオキサ
ゾール系化合物、ムコクロル酸のようなハロゲノカルボ
キシアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサン、ジクロロ
ジオキサン等のジオキサン誘導体等の有機硬膜剤及びク
ロムミョウバン、硫酸ジルコニウム、三塩化クロム等の
無機硬膜剤である。またゼラチンに対して硬膜作用が比
較的速い硬膜剤としては、ジヒドロキノリン骨格を有す
る化合物、N−カルバモイルピリジニウム塩類、アシル
イミダゾール類、N−アシルオキシイミダゾール類、N
−アシルオキシイミノ基を分子内に2個以上有する化合
物、N−スルホニルオキシイミド基を有する化合物、リ
ン−ハロゲン結合を有する化合物、クロロホルムアミジ
ニウム化合物等が知られている。
【0067】この下引第2層には、滑り剤として2酸化
珪素、2酸化チタン等の無機微粒子や、ポリメタクリル
酸メチル等の有機系マット材(1〜10μm)を含有す
ることが好ましい。
珪素、2酸化チタン等の無機微粒子や、ポリメタクリル
酸メチル等の有機系マット材(1〜10μm)を含有す
ることが好ましい。
【0068】これ以外にも必要に応じて、各種の添加剤
例えば、帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色用染
料、顔料、塗布助剤を含有することができる。
例えば、帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色用染
料、顔料、塗布助剤を含有することができる。
【0069】この中でも帯電防止剤を含有させることが
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子を挙げられる。
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子を挙げられる。
【0070】本発明の下引層に用いられる非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子とは、粒子中に存在
する電荷担体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔
等によって導電性を示すもので、有機材料、無機材料あ
るいは両者の複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性
を示す化合物であり、有機材料であればポリアニリン、
ポリピロール、ポリアセチレン等の高分子微粒子等を挙
げることができる。無機材料であれば酸素不足酸化物、
金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の
不定比化合物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げら
れる。また電荷移動錯体もしくは有機−無機複合材料で
あればホスファゼン金属錯体等を挙げることができる。
この中で本発明の下引層に最も好ましい化合物は製造方
法などが多様な方式をとることが可能な金属酸化物微粒
子である。また、本発明の下引層に中における導電体は
体積固有抵抗が103Ω・cm以下のものを、半導体に
ついては1012Ω・cm以下のものをそれぞれ導電体、
半導体として定義する。
電体および/もしくは半導体微粒子とは、粒子中に存在
する電荷担体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔
等によって導電性を示すもので、有機材料、無機材料あ
るいは両者の複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性
を示す化合物であり、有機材料であればポリアニリン、
ポリピロール、ポリアセチレン等の高分子微粒子等を挙
げることができる。無機材料であれば酸素不足酸化物、
金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の
不定比化合物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げら
れる。また電荷移動錯体もしくは有機−無機複合材料で
あればホスファゼン金属錯体等を挙げることができる。
この中で本発明の下引層に最も好ましい化合物は製造方
法などが多様な方式をとることが可能な金属酸化物微粒
子である。また、本発明の下引層に中における導電体は
体積固有抵抗が103Ω・cm以下のものを、半導体に
ついては1012Ω・cm以下のものをそれぞれ導電体、
半導体として定義する。
【0071】以下に好ましい導電性微粒子の作成方法を
例示する。
例示する。
【0072】(半導体微粒子溶液の調製)塩化第二スズ
水和物65gを水/エタノール混合溶液2000ccに
溶解し、均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物
を得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り
出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄し
た蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないこ
とを確認後、蒸留水1000cc添加し全量を2000
ccとする。さらに30%アンモニア水を40cc加
え、水浴中で加温し、コロイド状ゲル分散液を得た。
水和物65gを水/エタノール混合溶液2000ccに
溶解し、均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物
を得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り
出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄し
た蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないこ
とを確認後、蒸留水1000cc添加し全量を2000
ccとする。さらに30%アンモニア水を40cc加
え、水浴中で加温し、コロイド状ゲル分散液を得た。
【0073】(半導体微粒子粉末の調製)塩化第二スズ
水和物65gと三塩化アンチモン1.5gをエタノール
1000gに溶解し均一溶液を得た。この溶液に1N−
水酸化ナトリウム水溶液を前記溶液のpHが3になるま
で滴下してコロイド状酸化第二スズと酸化アンチモンの
共沈殿を得た。得られた共沈澱を50℃に24時間放置
し赤褐色のコロイド状沈澱を得た。
水和物65gと三塩化アンチモン1.5gをエタノール
1000gに溶解し均一溶液を得た。この溶液に1N−
水酸化ナトリウム水溶液を前記溶液のpHが3になるま
で滴下してコロイド状酸化第二スズと酸化アンチモンの
共沈殿を得た。得られた共沈澱を50℃に24時間放置
し赤褐色のコロイド状沈澱を得た。
【0074】赤褐色のコロイド状沈澱を遠心分離により
分離した。過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心
分離によって水洗した。この操作を3回繰り返し過剰イ
オンを除去した。
分離した。過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心
分離によって水洗した。この操作を3回繰り返し過剰イ
オンを除去した。
【0075】過剰イオンを除去したコロイド状沈澱10
0gを平均粒径0.3μmの硫酸バリウム50gおよび
水1000gに混合し900℃に加熱された焼成炉中に
噴霧し青みがかった平均粒径0.1μmの酸化第二スズ
と硫酸バリウムからなる粉末混合物を得た。
0gを平均粒径0.3μmの硫酸バリウム50gおよび
水1000gに混合し900℃に加熱された焼成炉中に
噴霧し青みがかった平均粒径0.1μmの酸化第二スズ
と硫酸バリウムからなる粉末混合物を得た。
【0076】下引層組成物の塗布液濃度は、通常20重
量%以下であり、好ましくは15重量%以下である。塗
布量は、フィルム1m2あたり塗布液重量で1〜30g
さらには5〜20gであることが好ましい。
量%以下であり、好ましくは15重量%以下である。塗
布量は、フィルム1m2あたり塗布液重量で1〜30g
さらには5〜20gであることが好ましい。
【0077】塗布方法としては、公知の種々の方法が適
用できる。例えば、ロールコート法グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バー
コート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独もしく
は組み合わせて適用することができる。
用できる。例えば、ロールコート法グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バー
コート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独もしく
は組み合わせて適用することができる。
【0078】本発明において、ハロゲン化銀粒子の保護
コロイド用分散媒としてはゼラチンを用いることが好ま
しく、ゼラチンとしてはオセインゼラチン、ピッグスキ
ンゼラチンなど用いる。また、それらゼラチンのアルカ
リ処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、低分子量ゼラチン
(分子量が2万〜10万)、フタル化ゼラチン等の修飾
ゼラチンが用いられる。また、これ以外の親水性コロイ
ドも使用できる。
コロイド用分散媒としてはゼラチンを用いることが好ま
しく、ゼラチンとしてはオセインゼラチン、ピッグスキ
ンゼラチンなど用いる。また、それらゼラチンのアルカ
リ処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、低分子量ゼラチン
(分子量が2万〜10万)、フタル化ゼラチン等の修飾
ゼラチンが用いられる。また、これ以外の親水性コロイ
ドも使用できる。
【0079】本発明のハロゲン化銀粒子の作成におい
て、ハロゲン化銀粒子の成長時に不要な可溶性塩類を除
去してもよいし、或いは含有させたままでもよい。該塩
類を除去する場合にはRD第176巻No.17643
のII項に記載の方法に基づいて行うことができる。好ま
しくはヌードル水洗や限外濾過が良い。通常用いられて
いる高分子凝集剤(例えば花王株式会社製デモールN
等)による塩類除去方法でも構わない。
て、ハロゲン化銀粒子の成長時に不要な可溶性塩類を除
去してもよいし、或いは含有させたままでもよい。該塩
類を除去する場合にはRD第176巻No.17643
のII項に記載の方法に基づいて行うことができる。好ま
しくはヌードル水洗や限外濾過が良い。通常用いられて
いる高分子凝集剤(例えば花王株式会社製デモールN
等)による塩類除去方法でも構わない。
【0080】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されても、さ
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感、セ
レン増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。硫黄増感剤としては、公知の硫黄増感剤が使
用できるが、好ましい硫黄増感剤としては、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えば
チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィ
ド化合物等を用いることができる。
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感、セ
レン増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。硫黄増感剤としては、公知の硫黄増感剤が使
用できるが、好ましい硫黄増感剤としては、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えば
チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィ
ド化合物等を用いることができる。
【0081】貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
【0082】ハロゲン化銀乳剤は増感色素により所望の
波長に分光増感できる。用いることができる増感色素に
は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色
素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色
素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミオキソノ
ール色素が包含される。
波長に分光増感できる。用いることができる増感色素に
は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色
素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色
素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミオキソノ
ール色素が包含される。
【0083】これらの色素類は通常利用されている核の
いずれをも適用できる。即ち、ピロリン核、オキサゾリ
ン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラ
ゾール核、ピリジン核などで、これらの核に脂肪式炭化
水素環が融合した核、即ちインドレニン核、ベンズイン
ドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナ
フトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール
核、キノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原
子上に置換基を有していてもよい。
いずれをも適用できる。即ち、ピロリン核、オキサゾリ
ン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラ
ゾール核、ピリジン核などで、これらの核に脂肪式炭化
水素環が融合した核、即ちインドレニン核、ベンズイン
ドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナ
フトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール
核、キノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原
子上に置換基を有していてもよい。
【0084】メロシアニン色素又は複合メロシアニン色
素にはケトメチン構造を有する核として、ピラゾリン−
5−オン核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリ
ジン−2,4−ジオン核、チアゾリン−2,4−ジオン
核、ローダニン核、チオバルビツール酸核などの5〜6
員異節環核を適用することができる。
素にはケトメチン構造を有する核として、ピラゾリン−
5−オン核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリ
ジン−2,4−ジオン核、チアゾリン−2,4−ジオン
核、ローダニン核、チオバルビツール酸核などの5〜6
員異節環核を適用することができる。
【0085】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組み合わせを用いてもよく、増感色素の組
み合わせは特に強色増感の目的でしばしば用いられる。
有用な強色増感を示す色素の組み合わせ及び強色増感を
示す物質はリサーチ・ディスクロージャー(RD)17
6巻17643(1978年12月発行)第23頁IVの
J項に記載されている。
が、それらの組み合わせを用いてもよく、増感色素の組
み合わせは特に強色増感の目的でしばしば用いられる。
有用な強色増感を示す色素の組み合わせ及び強色増感を
示す物質はリサーチ・ディスクロージャー(RD)17
6巻17643(1978年12月発行)第23頁IVの
J項に記載されている。
【0086】本発明に用いられるポリマーラテックス
は、一般的にハロゲン化銀写真感光材料に用いられるポ
リマーラテックスを使用する事が出来る。すなわち、重
合性エチレン系化合物、重合性ジオレフィン系化合物で
あり、疎水性モノマー、親水性モノマーに大別される。
疎水性モノマーとしては、アクリル酸アルキルエステル
類、メタクリル酸アルキルエステル類、グリシジルエス
テル類、アルケニルベンゼン類、ビニルエステル類、ビ
ニルエーテル類、ハロゲン化ビニル類、ジエン単量体等
をあげることができる。また、親水性単量体としては、
アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類、メタクリル
酸ヒドロキシアルキルエステル類、(メタ)アクリル酸
エチレングリコール類、イオン性単量体が挙げられる。
これらの単量体は、単独で用いてもよく、二種類以上併
用しても良いが、親水性単量体を用いる場合は、疎水性
の単量体との併用が好ましく、安定したラテックスを得
るには、親水性単量体はあまり用いない方がよい。
は、一般的にハロゲン化銀写真感光材料に用いられるポ
リマーラテックスを使用する事が出来る。すなわち、重
合性エチレン系化合物、重合性ジオレフィン系化合物で
あり、疎水性モノマー、親水性モノマーに大別される。
疎水性モノマーとしては、アクリル酸アルキルエステル
類、メタクリル酸アルキルエステル類、グリシジルエス
テル類、アルケニルベンゼン類、ビニルエステル類、ビ
ニルエーテル類、ハロゲン化ビニル類、ジエン単量体等
をあげることができる。また、親水性単量体としては、
アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類、メタクリル
酸ヒドロキシアルキルエステル類、(メタ)アクリル酸
エチレングリコール類、イオン性単量体が挙げられる。
これらの単量体は、単独で用いてもよく、二種類以上併
用しても良いが、親水性単量体を用いる場合は、疎水性
の単量体との併用が好ましく、安定したラテックスを得
るには、親水性単量体はあまり用いない方がよい。
【0087】本発明に用いられる感光材料には、感光材
料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防
止し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の
化合物を含有させることができる。即ちアゾール類、ニ
トロインダゾール類、ニトロベンズイミダゾール類、ク
ロロベンズイミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール
類、メルカプトチアゾール類、メルカプトベンゾチアゾ
ール類、メルカプトベンズイミダゾール類、メルカプト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾトリ
アゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、メルカプト
テトラゾール類、メルカプトピリミジン類、メルカプト
トリアジン類、アザインデン類、テトラザインデン類、
ペンタザインデン類、ベンゼンチオスルホン酸、ベンゼ
ンスルフィン酸、ベンゼンスルホン酸アミド等のような
カブリ防止剤又は安定剤として知られた多くの化合物を
加えることができる。好ましくは、メルカプト化合物を
用いる事である。
料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防
止し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の
化合物を含有させることができる。即ちアゾール類、ニ
トロインダゾール類、ニトロベンズイミダゾール類、ク
ロロベンズイミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール
類、メルカプトチアゾール類、メルカプトベンゾチアゾ
ール類、メルカプトベンズイミダゾール類、メルカプト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾトリ
アゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、メルカプト
テトラゾール類、メルカプトピリミジン類、メルカプト
トリアジン類、アザインデン類、テトラザインデン類、
ペンタザインデン類、ベンゼンチオスルホン酸、ベンゼ
ンスルフィン酸、ベンゼンスルホン酸アミド等のような
カブリ防止剤又は安定剤として知られた多くの化合物を
加えることができる。好ましくは、メルカプト化合物を
用いる事である。
【0088】本発明に係る写真乳剤の結合剤又は保護コ
ロイドとしてはゼラチン、ゼラチン誘導体、ゼラチンと
他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイ
ン等の蛋白質、セルロース誘導体、糖誘導体、単一ある
いは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用い
ることができる。
ロイドとしてはゼラチン、ゼラチン誘導体、ゼラチンと
他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイ
ン等の蛋白質、セルロース誘導体、糖誘導体、単一ある
いは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用い
ることができる。
【0089】本発明においては、マット剤として米国特
許第2,992,101号、同第2,701,245
号、同第4,142,894号、同第4,396,70
6号に記載のようなポリメチルメタクリレートのホモポ
リマーまたはメチルメタクリレートとメタクリル酸との
ポリマー、デンプンなどの有機化合物、シリカ、二酸化
チタン、硫酸ストロンチウム、硫酸バリウム等の無機化
合物の微粒子を併用することができる。粒子サイズとし
ては、0.6〜10μm、特に1〜5μmであることが
好ましい。
許第2,992,101号、同第2,701,245
号、同第4,142,894号、同第4,396,70
6号に記載のようなポリメチルメタクリレートのホモポ
リマーまたはメチルメタクリレートとメタクリル酸との
ポリマー、デンプンなどの有機化合物、シリカ、二酸化
チタン、硫酸ストロンチウム、硫酸バリウム等の無機化
合物の微粒子を併用することができる。粒子サイズとし
ては、0.6〜10μm、特に1〜5μmであることが
好ましい。
【0090】本発明の写真要素の表面層には滑り剤とし
て米国特許第3,489,576号、同第4,047,
958号等に記載のシリコーン化合物、特公昭56−2
3139号公報に記載のコロイダルシリカの他に、パラ
フィンワックス、高級脂肪酸エステル、デンプン誘導体
等を用いることができる。
て米国特許第3,489,576号、同第4,047,
958号等に記載のシリコーン化合物、特公昭56−2
3139号公報に記載のコロイダルシリカの他に、パラ
フィンワックス、高級脂肪酸エステル、デンプン誘導体
等を用いることができる。
【0091】本発明の硬膜剤は、クロム塩、アルデヒド
類、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物、活性ハロゲン化合物、ムコハロゲン酸類、
イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱粉、2−クロロ−
6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチン、カルボキシル
基活性化型硬膜剤等を、単独又は組み合わせて用いるこ
とができる。
類、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物、活性ハロゲン化合物、ムコハロゲン酸類、
イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱粉、2−クロロ−
6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチン、カルボキシル
基活性化型硬膜剤等を、単独又は組み合わせて用いるこ
とができる。
【0092】本発明に用いられる感光材料には、その他
の種々の添加剤として界面活性剤、減感剤、可塑剤、滑
り剤、現像促進剤、オイルなどが用いられる。
の種々の添加剤として界面活性剤、減感剤、可塑剤、滑
り剤、現像促進剤、オイルなどが用いられる。
【0093】本発明の効果を更に顕著に発現させるため
には、ハロゲン化銀写真乳剤層の反対側に少なくとも一
層の親水性コロイド層を有し、その外側に少なくとも一
層の疎水性ポリマー層を有することが好ましい。
には、ハロゲン化銀写真乳剤層の反対側に少なくとも一
層の親水性コロイド層を有し、その外側に少なくとも一
層の疎水性ポリマー層を有することが好ましい。
【0094】本発明においては、下記に記載された化合
物をハロゲン化銀写真感光材料の構成層中に含有させる
ことが好ましい。
物をハロゲン化銀写真感光材料の構成層中に含有させる
ことが好ましい。
【0095】(1)染料の固体分散微粒子体 特開平7−5629号公報(3)頁[0017]〜(1
6)頁[0042]記載の化合物 (2)酸基を有する化合物 特開昭62−237445号公報292(8)頁左下欄
11行目〜309(25)頁右下欄3行目記載の化合物 (3)酸性ポリマー 特開平6−186659号公報(10)頁[0036]
〜(17)頁[0062]記載の化合物 (4)増感色素 特開平5−224330号公報(3)頁[0017]〜
(13)頁[0040]記載の化合物 特開平6−194771号公報(11)頁[0042]
〜(22)頁[0094]記載の化合物 特開平6−242533号公報(2)頁[0015]〜
(8)頁[0034]記載の化合物 特開平6−337492号公報(3)頁[0012]〜
(34)頁[0056]記載の化合物 特開平6−337494号公報(4)頁[0013]〜
(14)頁[0039]記載の化合物 (5)強色増感剤 特開平6−347938号公報(3)頁[0011]〜
(16)頁[0066]記載の化合物 (6)ヒドラジン誘導体 特開平7−114126号公報(23)頁[0111]
〜(32)頁[0157]記載の化合物 (7)造核促進剤 特開平7−114126号公報(32)頁[0158]
〜(36)頁[0169]記載の化合物 (8)テトラゾリウム化合物 特開平6−208188号公報(8)頁[0059]〜
(10)頁[0067]記載の化合物 (9)ピリジニウム化合物 特開平7−110556号公報(5)頁[0028]〜
(29)頁[0068]記載の化合物 (10)レドックス化合物 特開平4−245243号公報235(7)頁〜250
(22)頁記載の化合物。
6)頁[0042]記載の化合物 (2)酸基を有する化合物 特開昭62−237445号公報292(8)頁左下欄
11行目〜309(25)頁右下欄3行目記載の化合物 (3)酸性ポリマー 特開平6−186659号公報(10)頁[0036]
〜(17)頁[0062]記載の化合物 (4)増感色素 特開平5−224330号公報(3)頁[0017]〜
(13)頁[0040]記載の化合物 特開平6−194771号公報(11)頁[0042]
〜(22)頁[0094]記載の化合物 特開平6−242533号公報(2)頁[0015]〜
(8)頁[0034]記載の化合物 特開平6−337492号公報(3)頁[0012]〜
(34)頁[0056]記載の化合物 特開平6−337494号公報(4)頁[0013]〜
(14)頁[0039]記載の化合物 (5)強色増感剤 特開平6−347938号公報(3)頁[0011]〜
(16)頁[0066]記載の化合物 (6)ヒドラジン誘導体 特開平7−114126号公報(23)頁[0111]
〜(32)頁[0157]記載の化合物 (7)造核促進剤 特開平7−114126号公報(32)頁[0158]
〜(36)頁[0169]記載の化合物 (8)テトラゾリウム化合物 特開平6−208188号公報(8)頁[0059]〜
(10)頁[0067]記載の化合物 (9)ピリジニウム化合物 特開平7−110556号公報(5)頁[0028]〜
(29)頁[0068]記載の化合物 (10)レドックス化合物 特開平4−245243号公報235(7)頁〜250
(22)頁記載の化合物。
【0096】なお、前述の添加剤およびその他の公知の
添加剤については、例えばリサーチ・ディスクロージャ
ーNo.17643(1978年12月)、同No.1
8716(1979年11月)及び同No.30811
9(1989年12月)に記載された化合物が挙げられ
る。これら三つのリサーチ・ディスクロージャーに示さ
れている化合物種類と記載箇所を以下に掲載した。
添加剤については、例えばリサーチ・ディスクロージャ
ーNo.17643(1978年12月)、同No.1
8716(1979年11月)及び同No.30811
9(1989年12月)に記載された化合物が挙げられ
る。これら三つのリサーチ・ディスクロージャーに示さ
れている化合物種類と記載箇所を以下に掲載した。
【0097】
【表1】
【0098】本発明に使用する各種写真添加剤は、水溶
液や有機溶媒に溶かして使用してもよいが、水に難溶性
の場合、微粒子結晶状態にして水、ゼラチン、親水性あ
るは疎水性ポリマー中に分散させて使用することができ
る。染料、色素、減感色素、ヒドラジン、レドックス化
合物、カブリ抑制剤、紫外線吸収剤等を分散するには、
公知の分散機で分散できる。具体的には、ボールミル、
サンドミル、コロイドミル、超音波分散機、高速インペ
ラー分散機が挙げられる。
液や有機溶媒に溶かして使用してもよいが、水に難溶性
の場合、微粒子結晶状態にして水、ゼラチン、親水性あ
るは疎水性ポリマー中に分散させて使用することができ
る。染料、色素、減感色素、ヒドラジン、レドックス化
合物、カブリ抑制剤、紫外線吸収剤等を分散するには、
公知の分散機で分散できる。具体的には、ボールミル、
サンドミル、コロイドミル、超音波分散機、高速インペ
ラー分散機が挙げられる。
【0099】本発明の2層から10層の複数の構成層を
1分当たり30から1000メートルの高速で同時塗布
するには米国特許第3,636,374号、同3,50
8,947号記載の公知のスライドホッパー式、あるい
はカーテン塗布を使用することができる。
1分当たり30から1000メートルの高速で同時塗布
するには米国特許第3,636,374号、同3,50
8,947号記載の公知のスライドホッパー式、あるい
はカーテン塗布を使用することができる。
【0100】本発明の写真要素からなる写真感光材料を
包装する方法として公知の方法を使用される。
包装する方法として公知の方法を使用される。
【0101】ハロゲン化銀写真感光材料は熱、湿度に弱
いので過酷な条件で保存することは避けるのが好まし
い。一般的には、5℃から30℃に保存するのが良い。
湿度は相対湿度で35%から60%の間にするのがよ
い。湿度から守るために1〜2000μのポリエチレン
に包装することが一般に行われている。ポリエチレン
は、メタロセン触媒を使用することにより結晶の規則性
を向上させることにより水分の透過を抑制させることが
できる。また、ポリエチレンの表面を0.1〜1000
μの厚さでシリカ蒸着被覆することにより水分透過を抑
制することができる。
いので過酷な条件で保存することは避けるのが好まし
い。一般的には、5℃から30℃に保存するのが良い。
湿度は相対湿度で35%から60%の間にするのがよ
い。湿度から守るために1〜2000μのポリエチレン
に包装することが一般に行われている。ポリエチレン
は、メタロセン触媒を使用することにより結晶の規則性
を向上させることにより水分の透過を抑制させることが
できる。また、ポリエチレンの表面を0.1〜1000
μの厚さでシリカ蒸着被覆することにより水分透過を抑
制することができる。
【0102】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の
現像処理において用いられる現像液の現像主薬は公知の
化合物を用いることができるが、アスコルビン酸及びそ
の誘導体を現像主薬として用いることが好ましい。
現像処理において用いられる現像液の現像主薬は公知の
化合物を用いることができるが、アスコルビン酸及びそ
の誘導体を現像主薬として用いることが好ましい。
【0103】アスコルビン酸及びその誘導体は、現像主
薬としては公知であり、例えば、米国特許第2,68
8,548号、同第2,688,549号、同第3,0
22,168号、同第3,512,981号、同第4,
975,354号および同第5,326,816号等に
記載のものを使用することができる。その中でも、下記
一般式(A)で表される化合物を好ましく用いることが
できる。
薬としては公知であり、例えば、米国特許第2,68
8,548号、同第2,688,549号、同第3,0
22,168号、同第3,512,981号、同第4,
975,354号および同第5,326,816号等に
記載のものを使用することができる。その中でも、下記
一般式(A)で表される化合物を好ましく用いることが
できる。
【0104】
【化1】
【0105】式中、R1、R2は各々独立して置換または
非置換のアルキル基、置換または非置換のアミノ基、置
換または非置換のアルコキシ基、置換または非置換のア
ルキルチオ基、またはR1とR2が互いに結合して環を形
成してもよい。kは0または1を表し、k=1のときX
は−CO−または−CS−を表す。M1,M2は各々水素
原子またはアルカリ金属を表す。
非置換のアルキル基、置換または非置換のアミノ基、置
換または非置換のアルコキシ基、置換または非置換のア
ルキルチオ基、またはR1とR2が互いに結合して環を形
成してもよい。kは0または1を表し、k=1のときX
は−CO−または−CS−を表す。M1,M2は各々水素
原子またはアルカリ金属を表す。
【0106】前記一般式(A)で表される化合物を説明
する。
する。
【0107】前記一般式(A)で示される化合物におい
て、R1とR2が互いに結合して環を形成した下記一般式
〔A−a〕で示される化合物が好ましい。
て、R1とR2が互いに結合して環を形成した下記一般式
〔A−a〕で示される化合物が好ましい。
【0108】
【化2】
【0109】式中、R3は水素原子、置換又は未置換の
アルキル基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未
置換のアミノ基、置換または未置換のアルコキシ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
を表し、Y1はO又はSを表し、Y2はO、SまたはNR
4を表す。R4は置換又は無置換のアルキル基、置換又は
無置換のアリール基を表す。M1,M2は各々水素原子ま
たはアルカリ金属を表す。
アルキル基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未
置換のアミノ基、置換または未置換のアルコキシ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
を表し、Y1はO又はSを表し、Y2はO、SまたはNR
4を表す。R4は置換又は無置換のアルキル基、置換又は
無置換のアリール基を表す。M1,M2は各々水素原子ま
たはアルカリ金属を表す。
【0110】前記一般式(A)又は一般式〔A−a〕に
おけるアルキル基としては、低級アルキル基が好まし
く、たとえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ
基としては無置換のアミノ基あるいは低級アルキル基で
置換されたアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては
低級アルコキシ基が好ましく、アリール基としては好ま
しくはフェニル基あるいはナフチル基等であり、これら
の基は置換基を有していてもよく、置換しうる基として
は、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
等が好ましい置換基として挙げられる。
おけるアルキル基としては、低級アルキル基が好まし
く、たとえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ
基としては無置換のアミノ基あるいは低級アルキル基で
置換されたアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては
低級アルコキシ基が好ましく、アリール基としては好ま
しくはフェニル基あるいはナフチル基等であり、これら
の基は置換基を有していてもよく、置換しうる基として
は、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基
等が好ましい置換基として挙げられる。
【0111】本発明に係る前記一般式(A)又は一般式
〔A−a〕で表される具体的化合物例を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
〔A−a〕で表される具体的化合物例を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0112】
【化3】
【0113】
【化4】
【0114】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸又はそれらから誘導される誘
導体であり、市販品として入手できるか或いは容易に公
知の合成法により合成することができる。
ン酸或いはエリソルビン酸又はそれらから誘導される誘
導体であり、市販品として入手できるか或いは容易に公
知の合成法により合成することができる。
【0115】本発明においては、一般式(A)の現像主
薬と3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4−エチル−3−ピラゾリドン、
1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン等)やア
ミノフェノール類(例えばo−アミノフェノール、p−
アミノフェノール、N−メチル−o−アミノフェノー
ル、N−メチル−p−アミノフェノール、2,4−ジア
ミノフェノール等)やジヒドロキシベンゼン類(例えば
ハイドロキノン、ハイドロキノンモノスルホネート等)
の現像主薬を組み合わせて使用することが出来る。組み
合わせて使用する場合、3−ピラゾリドン類やアミノフ
ェノール類やジヒドロキシベンゼン類の現像主薬は、通
常現像液1リットルあたり0.01〜1.4モルの量で
用いられるのが好ましい。
薬と3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4−エチル−3−ピラゾリドン、
1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン等)やア
ミノフェノール類(例えばo−アミノフェノール、p−
アミノフェノール、N−メチル−o−アミノフェノー
ル、N−メチル−p−アミノフェノール、2,4−ジア
ミノフェノール等)やジヒドロキシベンゼン類(例えば
ハイドロキノン、ハイドロキノンモノスルホネート等)
の現像主薬を組み合わせて使用することが出来る。組み
合わせて使用する場合、3−ピラゾリドン類やアミノフ
ェノール類やジヒドロキシベンゼン類の現像主薬は、通
常現像液1リットルあたり0.01〜1.4モルの量で
用いられるのが好ましい。
【0116】本発明による黒白ハロゲン化銀写真感光材
料は、露光後、現像、定着、水洗(または安定化浴)及
び乾燥の少なくとも4プロセスを持つ自動現像機で写真
処理されることが好ましい。
料は、露光後、現像、定着、水洗(または安定化浴)及
び乾燥の少なくとも4プロセスを持つ自動現像機で写真
処理されることが好ましい。
【0117】本発明においては、現像液には、アルカリ
剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩
衝剤(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸
櫞酸、アルカノールアミン等)が添加されることが好ま
しい。pH緩衝剤としては、炭酸塩が好ましく、その添
加量は1リットル当たり0.5モル以上2.5モル以下
が好ましく、更に好ましくは、0.75モル以上1.5
モル以下の範囲である。また、必要により溶解助剤(例
えばポリエチレングリコール類、それらのエステル、ア
ルカノールアミン等)、増感剤、界面活性剤、消泡剤、
カブリ防止剤(例えば臭化カリウム、臭化ナトリウムの
如きハロゲン化物、ニトロベンズインダゾール、ニトロ
ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチア
ゾール、テトラゾール類、チアゾール類等)、キレート
化剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又はそのアルカリ
金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進
剤(例えば米国特許2,304,025号、特公昭47
−45541号に記載の化合物等)、硬膜剤(例えばグ
ルタルアルデヒド又は、その重亜硫酸塩付加物等)、あ
るいは消泡剤などを添加することができる。
剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩
衝剤(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸
櫞酸、アルカノールアミン等)が添加されることが好ま
しい。pH緩衝剤としては、炭酸塩が好ましく、その添
加量は1リットル当たり0.5モル以上2.5モル以下
が好ましく、更に好ましくは、0.75モル以上1.5
モル以下の範囲である。また、必要により溶解助剤(例
えばポリエチレングリコール類、それらのエステル、ア
ルカノールアミン等)、増感剤、界面活性剤、消泡剤、
カブリ防止剤(例えば臭化カリウム、臭化ナトリウムの
如きハロゲン化物、ニトロベンズインダゾール、ニトロ
ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチア
ゾール、テトラゾール類、チアゾール類等)、キレート
化剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又はそのアルカリ
金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進
剤(例えば米国特許2,304,025号、特公昭47
−45541号に記載の化合物等)、硬膜剤(例えばグ
ルタルアルデヒド又は、その重亜硫酸塩付加物等)、あ
るいは消泡剤などを添加することができる。
【0118】本発明において、現像液に銀スラッジ防止
剤が含有されることが好ましい。銀スラッジ防止剤とし
ては様々なものが知られているが、好ましくは下記一般
式(S)であらわされる化合物が含有されることが好ま
しい。
剤が含有されることが好ましい。銀スラッジ防止剤とし
ては様々なものが知られているが、好ましくは下記一般
式(S)であらわされる化合物が含有されることが好ま
しい。
【0119】本発明の好ましい実施態様として、本発明
のハロゲン化銀写真感光材料を現像液に銀スラッジ防止
剤が含有した現像液で処理するものが挙げられる。銀ス
ラッジ防止剤としては様々なものが知られているが、好
ましくは下記一般式(S)で表される化合物が含有され
ることが好ましい。
のハロゲン化銀写真感光材料を現像液に銀スラッジ防止
剤が含有した現像液で処理するものが挙げられる。銀ス
ラッジ防止剤としては様々なものが知られているが、好
ましくは下記一般式(S)で表される化合物が含有され
ることが好ましい。
【0120】本発明の現像液には、下記一般式(S)で
あらわされる化合物が含有されることができる。
あらわされる化合物が含有されることができる。
【0121】一般式(S) Z1−SM1 式中Z1は、アルキル基、芳香族基若しくはヘテロ環基
であって、ヒドロキシル基、−SO3M1基、−COOM
1基(ここでM1は水素原子、アルカリ金属原子、または
置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置
換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のア
ンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つまた
は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基
によって置換されているものを表す。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基
(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形
成していてもよい)を表す。
であって、ヒドロキシル基、−SO3M1基、−COOM
1基(ここでM1は水素原子、アルカリ金属原子、または
置換若しくは無置換のアンモニウムイオンを表す)、置
換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のア
ンモニオ基からなる群から選ばれる少なくとも1つまた
は、この群より選ばれる少なくとも1つを有する置換基
によって置換されているものを表す。M1は水素原子、
アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ基
(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を形
成していてもよい)を表す。
【0122】また、一般式(S)において、Z1で表さ
れるアルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のもので
あって特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のア
ルキル基であって上記の置換基の他に置換基を有してい
てもよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素数
6〜32の単環又は縮合環のものであって上記の置換基
の他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘテ
ロ環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環で
あり、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテ
ロ原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、上記の他に置換基を有していてもよい。一般式
(S)であらわされる化合物のうち、好ましくはZ
1が、1個以上の窒素原子を有するヘテロ環基である化
合物である。
れるアルキル基は好ましくは、炭素数1〜30のもので
あって特に炭素数2〜20の直鎖、分岐、又は環状のア
ルキル基であって上記の置換基の他に置換基を有してい
てもよい。Z1で表される芳香族基は好ましくは炭素数
6〜32の単環又は縮合環のものであって上記の置換基
の他に置換基を有していてもよい。Z1で表されるヘテ
ロ環基は好ましくは炭素数1〜32の単環又は縮合環で
あり、窒素、酸素、硫黄のうちから独立に選ばれるヘテ
ロ原子を1つの環中に1〜6個有する5又は6員環であ
り、上記の他に置換基を有していてもよい。一般式
(S)であらわされる化合物のうち、好ましくはZ
1が、1個以上の窒素原子を有するヘテロ環基である化
合物である。
【0123】式中Z1は、ヒドロキシル基、−SO3M1
基、−COOM1基(ここでM1は水素原子、アルカリ金
属原子、または置換若しくは無置換のアンモニウムイオ
ンを表す)、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若し
くは無置換のアンモニオ基からなる群から選ばれる少な
くとも1つまたは、この群より選ばれる少なくとも1つ
を有する置換基によって置換されている。M1は水素原
子、アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ
基(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を
形成していてもよい)を表す。アンモニオ基としては好
ましくは炭素数20以下であって置換基としては置換又
は無置換の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、ベンジル基、エトキシプロピ
ル基、シクロヘキシル基など)、置換又は無置換のフェ
ニル基、ナフチル基を表す。
基、−COOM1基(ここでM1は水素原子、アルカリ金
属原子、または置換若しくは無置換のアンモニウムイオ
ンを表す)、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若し
くは無置換のアンモニオ基からなる群から選ばれる少な
くとも1つまたは、この群より選ばれる少なくとも1つ
を有する置換基によって置換されている。M1は水素原
子、アルカリ金属原子、置換若しくは無置換のアミジノ
基(これはハロゲン化水素酸塩若しくはスルホン酸塩を
形成していてもよい)を表す。アンモニオ基としては好
ましくは炭素数20以下であって置換基としては置換又
は無置換の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、ベンジル基、エトキシプロピ
ル基、シクロヘキシル基など)、置換又は無置換のフェ
ニル基、ナフチル基を表す。
【0124】さらに一般式(S)で表される化合物のう
ち、更に好ましいものは下記一般式(S−a)で表され
る化合物である。
ち、更に好ましいものは下記一般式(S−a)で表され
る化合物である。
【0125】
【化5】
【0126】式中、Zは窒素原子を有する不飽和の5員
ヘテロ環または、6員ヘテロ環(例えば、ピロール、イ
ミダゾール、ピラゾール、ピリミジン、ピリダジン、ピ
ラジン等)を形成するのに必要な基である。式中、
R11、R12は、水素原子、−SM1基、ハロゲン原子、
アルキル基(置換基を有するものを含む)、アルコキシ
基(置換基を有するものを含む)、ヒドロキシル基、−
COOM1基、−SO3M1基、アルケニル基(置換基を
有するものを含む)、アミノ基(置換基を有するものを
含む)、カルバモイル基(置換基を有するものを含
む)、フェニル基(置換基を有するものを含む)から選
ばれた少なくとも一つの基であり、R11とR12で環を形
成してもよい。形成できる環としては、5員環または6
員環を少なくとも一つ有する環であり、好ましくは含窒
素ヘテロ環である。M1は、前記一般式(S)で表され
る化合物で定義されたM1と同じである。式中、一般式
(S−a)で表される化合物は、少なくとも一つの−S
M1基またはチオン基を有する化合物であって、かつヒ
ドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1基、置換も
しくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアンモ
ニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一つの置換基
を有する。前記−SM1基もしくはチオン基以外の置換
基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン原
子(例えば、フッ素、塩素、臭素)、低級アルキル基
(置換基を有するものを含む。メチル基、エチル基等の
炭素数5以下のものが好ましい。)、低級アルコキシ基
(置換基を有するものを含む。メトキシ、エトキシ、ブ
トキシ等の炭素数5以下のものが好ましい。)、低級ア
ルケニル基(置換基を有するものを含む。炭素数5以下
のものが好ましい。)、カルバモイル基、フェニル基等
が挙げられる。以下に一般式(S)で表される化合物の
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
ヘテロ環または、6員ヘテロ環(例えば、ピロール、イ
ミダゾール、ピラゾール、ピリミジン、ピリダジン、ピ
ラジン等)を形成するのに必要な基である。式中、
R11、R12は、水素原子、−SM1基、ハロゲン原子、
アルキル基(置換基を有するものを含む)、アルコキシ
基(置換基を有するものを含む)、ヒドロキシル基、−
COOM1基、−SO3M1基、アルケニル基(置換基を
有するものを含む)、アミノ基(置換基を有するものを
含む)、カルバモイル基(置換基を有するものを含
む)、フェニル基(置換基を有するものを含む)から選
ばれた少なくとも一つの基であり、R11とR12で環を形
成してもよい。形成できる環としては、5員環または6
員環を少なくとも一つ有する環であり、好ましくは含窒
素ヘテロ環である。M1は、前記一般式(S)で表され
る化合物で定義されたM1と同じである。式中、一般式
(S−a)で表される化合物は、少なくとも一つの−S
M1基またはチオン基を有する化合物であって、かつヒ
ドロキシル基、−COOM1基、−SO3M1基、置換も
しくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアンモ
ニオ基からなる群から選ばれた少なくとも一つの置換基
を有する。前記−SM1基もしくはチオン基以外の置換
基を有していてもよく、該置換基としては、ハロゲン原
子(例えば、フッ素、塩素、臭素)、低級アルキル基
(置換基を有するものを含む。メチル基、エチル基等の
炭素数5以下のものが好ましい。)、低級アルコキシ基
(置換基を有するものを含む。メトキシ、エトキシ、ブ
トキシ等の炭素数5以下のものが好ましい。)、低級ア
ルケニル基(置換基を有するものを含む。炭素数5以下
のものが好ましい。)、カルバモイル基、フェニル基等
が挙げられる。以下に一般式(S)で表される化合物の
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【0127】
【化6】
【0128】
【化7】
【0129】
【化8】
【0130】
【化9】
【0131】
【化10】
【0132】
【化11】
【0133】本発明の一般式(S)化合物の使用量は、
現像液1リットル中に10-6から10-1モルであること
が好ましく、さらには10-5から10-2モルであること
が好ましい。
現像液1リットル中に10-6から10-1モルであること
が好ましく、さらには10-5から10-2モルであること
が好ましい。
【0134】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
【0135】本発明に用いられる現像液のpHは8以上
11未満に調整されることが好ましい。更に好ましく
は、pH8.5以上10.5未満である。
11未満に調整されることが好ましい。更に好ましく
は、pH8.5以上10.5未満である。
【0136】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に通常pHは3
〜8である。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チ
オ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸
塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、
チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可
溶性安定銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤と
して知られているものを用いることができる。
のを用いることができる。定着液は一般に通常pHは3
〜8である。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チ
オ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸
塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、
チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可
溶性安定銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤と
して知られているものを用いることができる。
【0137】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬、アルデヒド化合物(例えば、グルタ
ルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜硫酸付加物等)
などを加えることができる。
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬、アルデヒド化合物(例えば、グルタ
ルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜硫酸付加物等)
などを加えることができる。
【0138】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸、ク
エン酸、酒石酸、りんご酸、こはく酸等及びその塩及び
これらの光学異性体)、pH調整剤(例えば硫酸等及び
その塩)、硬水軟化能のあるキレート剤等の化合物を含
むことができる。
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸、ク
エン酸、酒石酸、りんご酸、こはく酸等及びその塩及び
これらの光学異性体)、pH調整剤(例えば硫酸等及び
その塩)、硬水軟化能のあるキレート剤等の化合物を含
むことができる。
【0139】定着処理後、水洗及び/または安定化浴で
処理されることが好ましい。安定化浴としては、画像を
安定化させる目的で、膜pHを調整(処理後の膜面pH
を3〜8に)するための無機及び有機の酸及びその塩、
またはアルカリ剤及びその塩(例えばほう酸塩、メタほ
う酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジ
カルボン酸、ポリカルボン酸、くえん酸、蓚酸、リンゴ
酸、酢酸等を組み合わせて使用)、アルデヒド類(例え
ばホルマリン、グリオキザール、グルタルアルデヒド
等)、キレート剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又は
そのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩
等)、防バイ剤(例えばフェノール、4−クロロフェノ
ール、クレゾール、2−フェニルフェノール、クロロフ
ェン、ジクロロフェン、ホルムアルデヒド、4−ヒドロ
キシ安息香酸エステル、2−(4−チアゾリン)−ベン
ゾイミダゾール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ド
デシル−ベンジル−メチルアンモニウム−クロライド、
N−(フルオロジクロロメチルチオ)フタルイミド、
2,4,4′−トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフ
ェニルエーテル等)、色調調整剤及び/または残色改良
剤(例えばメルカプト基を置換基として有する含窒素ヘ
テロ環化合物;具体的には2−メルカプト−5−スルホ
ン酸ナトリウム−ベンズイミダゾール、1−フェニル−
5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンズチ
アゾール、2−メルカプト−5−プロピル−1,3,4
−トリアゾール、2−メルカプトヒポキサンチン等)を
含有させる。その中でも安定化浴中には防バイ剤が含ま
れることが好ましい。これらは、液状でも固体状で補充
されてもよい。
処理されることが好ましい。安定化浴としては、画像を
安定化させる目的で、膜pHを調整(処理後の膜面pH
を3〜8に)するための無機及び有機の酸及びその塩、
またはアルカリ剤及びその塩(例えばほう酸塩、メタほ
う酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジ
カルボン酸、ポリカルボン酸、くえん酸、蓚酸、リンゴ
酸、酢酸等を組み合わせて使用)、アルデヒド類(例え
ばホルマリン、グリオキザール、グルタルアルデヒド
等)、キレート剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又は
そのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩
等)、防バイ剤(例えばフェノール、4−クロロフェノ
ール、クレゾール、2−フェニルフェノール、クロロフ
ェン、ジクロロフェン、ホルムアルデヒド、4−ヒドロ
キシ安息香酸エステル、2−(4−チアゾリン)−ベン
ゾイミダゾール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ド
デシル−ベンジル−メチルアンモニウム−クロライド、
N−(フルオロジクロロメチルチオ)フタルイミド、
2,4,4′−トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフ
ェニルエーテル等)、色調調整剤及び/または残色改良
剤(例えばメルカプト基を置換基として有する含窒素ヘ
テロ環化合物;具体的には2−メルカプト−5−スルホ
ン酸ナトリウム−ベンズイミダゾール、1−フェニル−
5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンズチ
アゾール、2−メルカプト−5−プロピル−1,3,4
−トリアゾール、2−メルカプトヒポキサンチン等)を
含有させる。その中でも安定化浴中には防バイ剤が含ま
れることが好ましい。これらは、液状でも固体状で補充
されてもよい。
【0140】本発明は廃液量の低減の要望から、感光材
料の面積に比例した一定量の現像液を補充しながら処理
される。その補充量は、1m2当たり30〜250ml
である。好ましくは、1m2当たり30〜200mlで
ある。ここでいう現像補充量とは、補充される量を示
す。具体的には、現像母液と同じ液を補充する場合の液
の補充量であり、現像濃縮液を水で希釈した液で補充さ
れる場合の濃縮液と水の合計量であり、固体現像処理剤
を水で溶解した液で補充される場合の固体処理剤容積と
水の容積の合計量であり、また固体現像処理剤溶解後の
現像液と水を別々に補充する場合のそれぞれの固体処理
剤溶解後の現像液と水の容積の合計量である。その現像
補充液は自動現像機のタンク内の現像母液と同じ液で
も、異なった液または固形処理剤でも良い。
料の面積に比例した一定量の現像液を補充しながら処理
される。その補充量は、1m2当たり30〜250ml
である。好ましくは、1m2当たり30〜200mlで
ある。ここでいう現像補充量とは、補充される量を示
す。具体的には、現像母液と同じ液を補充する場合の液
の補充量であり、現像濃縮液を水で希釈した液で補充さ
れる場合の濃縮液と水の合計量であり、固体現像処理剤
を水で溶解した液で補充される場合の固体処理剤容積と
水の容積の合計量であり、また固体現像処理剤溶解後の
現像液と水を別々に補充する場合のそれぞれの固体処理
剤溶解後の現像液と水の容積の合計量である。その現像
補充液は自動現像機のタンク内の現像母液と同じ液で
も、異なった液または固形処理剤でも良い。
【0141】現像、定着、水洗及び/または安定化浴の
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。
【0142】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が80秒以下10秒以上であ
る。ここでいう全処理時間とは、黒白感光材料を処理す
るのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理に必要
な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処理、乾燥
等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりDry to
Dryの時間である。全処理時間が10秒未満では減
感、軟調化等で満足な写真性能が得られない。更に好ま
しくは全処理時間(Dry to Dry)が15〜6
0秒である。また、100m2以上の大量の感光材料を
安定にランニング処理するためには、現像時間は40秒
以下2秒以上であることが好ましい。
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が80秒以下10秒以上であ
る。ここでいう全処理時間とは、黒白感光材料を処理す
るのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理に必要
な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処理、乾燥
等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりDry to
Dryの時間である。全処理時間が10秒未満では減
感、軟調化等で満足な写真性能が得られない。更に好ま
しくは全処理時間(Dry to Dry)が15〜6
0秒である。また、100m2以上の大量の感光材料を
安定にランニング処理するためには、現像時間は40秒
以下2秒以上であることが好ましい。
【0143】本発明の効果を顕著に発現させるために
は、自動現像機には60℃以上の伝熱体(例えば60℃
〜130℃のヒートローラー等)あるいは150℃以上
の輻射物体(例えばタングステン、炭素、ニクロム、酸
化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウムの混
合物、炭化ケイ素などに直接電流を通して発熱放射させ
たり、抵抗発熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミックなどの放射体に伝達させて発
熱させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥するゾー
ンを持つものが好ましく用いられる。
は、自動現像機には60℃以上の伝熱体(例えば60℃
〜130℃のヒートローラー等)あるいは150℃以上
の輻射物体(例えばタングステン、炭素、ニクロム、酸
化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウムの混
合物、炭化ケイ素などに直接電流を通して発熱放射させ
たり、抵抗発熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミックなどの放射体に伝達させて発
熱させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥するゾー
ンを持つものが好ましく用いられる。
【0144】用いられる60℃以上の伝熱体としては、
ヒートローラーが例として挙げられる。ヒートローラー
はアルミ製の中空とされたローラーの外周部がシリコン
ゴム、ポリウレタン、テフロンによって被覆されている
ことが好ましい。このヒートローラーの両端部は、耐熱
性樹脂(例えば商品名ルーロン)の軸受によって乾燥部
の搬送口近傍内側に配設され側壁に回転自在に軸支され
ていることが好ましい。
ヒートローラーが例として挙げられる。ヒートローラー
はアルミ製の中空とされたローラーの外周部がシリコン
ゴム、ポリウレタン、テフロンによって被覆されている
ことが好ましい。このヒートローラーの両端部は、耐熱
性樹脂(例えば商品名ルーロン)の軸受によって乾燥部
の搬送口近傍内側に配設され側壁に回転自在に軸支され
ていることが好ましい。
【0145】また、ヒートローラーの一方の端部にはギ
アが固着されており、駆動手段及び駆動伝達手段によっ
て搬送方向に回転されることが好ましい。ヒートローラ
ーのローラー内には、ハロゲンヒーターが挿入されてお
り、このハロゲンヒーターは自動現像機に配設された温
度コントローラーに接続されていることが好ましい。
アが固着されており、駆動手段及び駆動伝達手段によっ
て搬送方向に回転されることが好ましい。ヒートローラ
ーのローラー内には、ハロゲンヒーターが挿入されてお
り、このハロゲンヒーターは自動現像機に配設された温
度コントローラーに接続されていることが好ましい。
【0146】また、温度コントローラーには、ヒートロ
ーラーの外周面に接触配置されたサーミスタが接続され
ており、温度コントローラーはサーミスタからの検出温
度が60℃〜150℃、好ましくは70℃〜130℃と
なるように、ハロゲンヒーターをオンオフ制御するよう
になっていることが好ましい。
ーラーの外周面に接触配置されたサーミスタが接続され
ており、温度コントローラーはサーミスタからの検出温
度が60℃〜150℃、好ましくは70℃〜130℃と
なるように、ハロゲンヒーターをオンオフ制御するよう
になっていることが好ましい。
【0147】150℃以上の放射温度を発する輻射物体
としては以下の例が挙げられる。(好ましくは250℃
以上が良い)タングステン、炭素、タンタル、ニクロ
ム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウ
ムの混合物、炭化ケイ素、二ケイ化モリブデン、クロム
酸ランタンに直接電流を通して発熱放射させて放射温度
を制御するか、抵抗発熱体から熱エネルギーを放射体に
伝達させて制御する方法があるが、放射体例として銅、
ステンレス、ニッケル、各種セラミックスなどが挙げら
れる。
としては以下の例が挙げられる。(好ましくは250℃
以上が良い)タングステン、炭素、タンタル、ニクロ
ム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウ
ムの混合物、炭化ケイ素、二ケイ化モリブデン、クロム
酸ランタンに直接電流を通して発熱放射させて放射温度
を制御するか、抵抗発熱体から熱エネルギーを放射体に
伝達させて制御する方法があるが、放射体例として銅、
ステンレス、ニッケル、各種セラミックスなどが挙げら
れる。
【0148】本発明では60℃以上の伝熱体と150℃
以上の反射温度の輻射物体を組み合わせてもよい。又、
従来のような60℃以下の温風を組み合わせてもよい。
以上の反射温度の輻射物体を組み合わせてもよい。又、
従来のような60℃以下の温風を組み合わせてもよい。
【0149】また、本発明には下記に記載された方法及
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。
【0150】(1)脱臭装置:特開昭64−37560
号544(2)頁左上欄〜545(3)頁左上欄 (2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−2503
52号(3)頁「0011」〜(8)頁「0058」 (3)廃液処理方法:特開平2−64638号388
(2)頁左下欄〜391(5)頁左下欄 (4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31
3749号(18)頁「0054」〜(21)頁「00
65」 (5)水補充方法:特開平1−281446号250
(2)頁左下欄〜右下欄(6)外気温度湿度検出して自
動現像機の乾燥風を制御する方法:特開平1−3157
45号496(2)頁右下欄〜501(7)頁右下欄お
よび特開平2−108051号588(2)頁左下欄〜
589(3)頁左下欄 (7)定着廃液の銀回収方法:特開平6−27623号
(4)頁「0012」〜(7)頁「0071」。
号544(2)頁左上欄〜545(3)頁左上欄 (2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平6−2503
52号(3)頁「0011」〜(8)頁「0058」 (3)廃液処理方法:特開平2−64638号388
(2)頁左下欄〜391(5)頁左下欄 (4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特開平4−31
3749号(18)頁「0054」〜(21)頁「00
65」 (5)水補充方法:特開平1−281446号250
(2)頁左下欄〜右下欄(6)外気温度湿度検出して自
動現像機の乾燥風を制御する方法:特開平1−3157
45号496(2)頁右下欄〜501(7)頁右下欄お
よび特開平2−108051号588(2)頁左下欄〜
589(3)頁左下欄 (7)定着廃液の銀回収方法:特開平6−27623号
(4)頁「0012」〜(7)頁「0071」。
【0151】
(支持体の作成) (SPSの合成)特開平3−131843号に準じてS
PSペレットを作製した。触媒の調整から重合反応まで
は、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積500m
lのガラス製容器に硫酸銅5水塩(CuSO4・5H
2O)17.8g(71mmol)精製ベンゼン200
mlおよびトリメチルアルミニウム24mlをいれ、4
0℃で8時間撹拌して触媒の調整を行った。これをアル
ゴン気流下No.3ガラスフィルターで濾過して、濾液
を凍結乾燥させた。これを取り出し、2lのステンレス
製容器にいれ、この中にさらにトリブチルアルミニウ
ム、ペンタシクロメチル−ペンタジエチルチタン−トリ
メトキシドを混合し90℃に加熱した。
PSペレットを作製した。触媒の調整から重合反応まで
は、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積500m
lのガラス製容器に硫酸銅5水塩(CuSO4・5H
2O)17.8g(71mmol)精製ベンゼン200
mlおよびトリメチルアルミニウム24mlをいれ、4
0℃で8時間撹拌して触媒の調整を行った。これをアル
ゴン気流下No.3ガラスフィルターで濾過して、濾液
を凍結乾燥させた。これを取り出し、2lのステンレス
製容器にいれ、この中にさらにトリブチルアルミニウ
ム、ペンタシクロメチル−ペンタジエチルチタン−トリ
メトキシドを混合し90℃に加熱した。
【0152】この中に、精製したスチレンを1l入れ、
さらに、精製したp−メチルスチレン70mlを入れ、
この温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで
冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に
滴下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノ
ールで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロ
ルベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレン
で検量したGPCの測定の結果から求めたこの重合体の
重量平均分子量は、415,000であった。
さらに、精製したp−メチルスチレン70mlを入れ、
この温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで
冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に
滴下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノ
ールで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロ
ルベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレン
で検量したGPCの測定の結果から求めたこの重合体の
重量平均分子量は、415,000であった。
【0153】またこの重合体の融点は、245℃で13C
−NMRの測定からも得られた重合体のは、シンジオタ
クティック構造を有することを確認した。これを押出機
でペレット化した後に、130℃で乾燥させた。
−NMRの測定からも得られた重合体のは、シンジオタ
クティック構造を有することを確認した。これを押出機
でペレット化した後に、130℃で乾燥させた。
【0154】(SPSフィルムの作成)押出機で330
℃で前記重合例により得られたペレットを溶融押出し
た。この溶融ポリマーをパイプを通じて押し出しダイに
押し出した。そしてダイスリットより冷却したキャステ
ィングドラムに静電印可させながら押し出して冷却する
ことにより膜厚100μmのSPSフィルムを得た。
℃で前記重合例により得られたペレットを溶融押出し
た。この溶融ポリマーをパイプを通じて押し出しダイに
押し出した。そしてダイスリットより冷却したキャステ
ィングドラムに静電印可させながら押し出して冷却する
ことにより膜厚100μmのSPSフィルムを得た。
【0155】得られたSPSフィルム上に、23W/m
2・minのコロナ放電を施しさらにイオン風を吹き付
けた後に、下引加工液1を乾燥膜厚が1μmとなるよう
に設け140℃で乾燥した。
2・minのコロナ放電を施しさらにイオン風を吹き付
けた後に、下引加工液1を乾燥膜厚が1μmとなるよう
に設け140℃で乾燥した。
【0156】 下引加工液1 スチレンブタジエン系ラテックス(No619日本合成ゴム製)40重量部 スチレンブタジエン系ラテックス(No640日本合成ゴム製)50重量部 ポリスチレン系マット剤(平均粒径3μm) 5重量部 2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジンソーダ塩 3重量部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 2重量部 更にこの上に18W/m2・minのコロナ放電を施した後に ゼラチン 80重量部 メチルセルロース 15重量部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 3重量部 2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジンソーダ 2重量部 純水で100gに仕上げた加工液を乾燥膜厚が0.1μmとなるように設け1 40℃で更に乾燥させた。
【0157】次にこの裏面に23W/m2・minのコ
ロナ放電を施しさらにイオン風を吹き付けた後に、下引
加工液2を乾燥膜厚が1μmとなるように設け140℃
で乾燥した。
ロナ放電を施しさらにイオン風を吹き付けた後に、下引
加工液2を乾燥膜厚が1μmとなるように設け140℃
で乾燥した。
【0158】 スチレンブタジエン系ラテックス(No619日本合成ゴム製)50重量部 スチレンブタジエン系ラテックス(No640日本合成ゴム製)40重量部 ポリスチレン系マット剤(平均粒径3μm) 5重量部 2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジンソーダ塩 3重量部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 2重量部 更にこの上に18W/m2・minのコロナ放電を施した後に ゼラチン 20重量部 メチルセルロース 5重量部 結晶性酸化錫微粒子(アンチモンドープ) 70重量部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 3重量部 2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジンソーダ 2重量部 純水で100gに仕上げた加工液を乾燥膜厚が0.1μmとなるように設け1 40℃で更に乾燥させた。
【0159】さらにこの下引済支持体を50℃で40c
m径コアに巻き取りこの温度で3日間熱処理した。比較
として、膜厚100μmのポリエチレンフタレート(P
ET)フィルムに同様の下引加工を施したものを用い
た。
m径コアに巻き取りこの温度で3日間熱処理した。比較
として、膜厚100μmのポリエチレンフタレート(P
ET)フィルムに同様の下引加工を施したものを用い
た。
【0160】実施例1 下記の方法で乳剤を調製した。
【0161】 (乳剤A:本発明) A液 純水 1000cc ゼラチン 120g KBr 1g B液 硝酸銀 100g 純水 700cc アンモニア水 25cc C液 KBr 70g KI 4.8g K2IrCl6 2×10-7モル 純水 700cc 混合釜にA液をいれ、B液とC液を70秒掛け、同時混
合した。添加終了して10秒後にクエン酸(40%)1
0cc添加しpHを調整した。得られた乳剤を限外濾過
で脱塩した。得られた乳剤の平均粒径は0.03μm、
粒子分布の広さは10%であった。次にセレノウレア及
び塩化金酸を添加し、60℃で最高感度が出るよう化学
熟成した。
合した。添加終了して10秒後にクエン酸(40%)1
0cc添加しpHを調整した。得られた乳剤を限外濾過
で脱塩した。得られた乳剤の平均粒径は0.03μm、
粒子分布の広さは10%であった。次にセレノウレア及
び塩化金酸を添加し、60℃で最高感度が出るよう化学
熟成した。
【0162】(乳剤B:比較)B液とC液の混合時間を
調節して、平均粒径0.15μmの粒子を得た。乳剤A
と同様にして化学熟成を行った。
調節して、平均粒径0.15μmの粒子を得た。乳剤A
と同様にして化学熟成を行った。
【0163】(印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真
感光材料の調製)本発明及び比較のフィルムの一方の下
塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量
が0.5g/m2になるように、その上に処方2のハロ
ゲン化銀乳剤層を銀量2.9g/m2、ゼラチン量が
1.0g/m2になるように、さらにその上層に乳剤保
護層下層として下記処方3の塗布液をゼラチン量が0.
2g/m2になるように、さらにその上層に処方4の乳
剤保護層上層をゼラチン量が0.2g/m2になるよう
同時重層塗布した。また反対側の下塗層上には下記処方
5のバッキング層をゼラチン量が0.4g/m2になる
ように、その上に下記処方6のポリマー層を、さらにそ
の上に下記処方7のバッキング保護層をゼラチン量が
0.4g/m2になるように乳剤層側と同時重層塗布す
ることで試料を得た。
感光材料の調製)本発明及び比較のフィルムの一方の下
塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量
が0.5g/m2になるように、その上に処方2のハロ
ゲン化銀乳剤層を銀量2.9g/m2、ゼラチン量が
1.0g/m2になるように、さらにその上層に乳剤保
護層下層として下記処方3の塗布液をゼラチン量が0.
2g/m2になるように、さらにその上層に処方4の乳
剤保護層上層をゼラチン量が0.2g/m2になるよう
同時重層塗布した。また反対側の下塗層上には下記処方
5のバッキング層をゼラチン量が0.4g/m2になる
ように、その上に下記処方6のポリマー層を、さらにそ
の上に下記処方7のバッキング保護層をゼラチン量が
0.4g/m2になるように乳剤層側と同時重層塗布す
ることで試料を得た。
【0164】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料AD−1(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) 25mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 レドックス化合物RE−1 20mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層組成) ハロゲン化銀乳剤 表2に示す 増感色素d−1 6mg/m2 ヒドラジン誘導体HY−1 30mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 1.0g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 10mg/m2 EDTA 50mg/m2。
【0165】 処方3(乳剤保護層下層組成) ゼラチン 0.2g/m2 アミノ化合物AM−1 40mg/m2 S−1 2mg/m2 処方4(乳剤保護層上層組成) ゼラチン 0.2g/m2 染料AD−2(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) 40mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 硬膜剤l 30mg/m2。
【0166】 処方5(バッキング層組成) ゼラチン 0.4g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方6(ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方7(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 シクロデキストリン(親水性ポリマー) 0.5g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤l 20mg/m2
【0167】
【化12】
【0168】
【化13】
【0169】
【化14】
【0170】なお塗布乾燥後のバッキング側の表面比抵
抗値は23℃20%RHで5×1011Ωであった。得
られた試料を23℃48%RHで1日間調湿した後、温
度湿度を遮断したバリヤー袋で包装した。その後経時の
代用環境条件として55℃の状態で3日間加熱処理し
た。バリヤー袋で包装したのち23℃で保管したものを
経時条件の比較とした。
抗値は23℃20%RHで5×1011Ωであった。得
られた試料を23℃48%RHで1日間調湿した後、温
度湿度を遮断したバリヤー袋で包装した。その後経時の
代用環境条件として55℃の状態で3日間加熱処理し
た。バリヤー袋で包装したのち23℃で保管したものを
経時条件の比較とした。
【0171】経時代用環境条件で加熱処理したもの及び
比較の条件で保管された試料をステップウェッジと密着
し赤色半導体レーザー光の代用特性として波長670n
mの露光を行ってから、下記組成の現像液及び定着液を
用いて迅速処理用自動現像機(GR−26SR コニカ
(株)製)にて下記条件で処理した。なお微小な網点品
質の評価をするために大日本スクリーン(株)社製SG
−747RUで16μのランダムパターンの網点(FM
スクリーン)で露光を行った後同様の処理を行った。さ
らにフィルム1m2あたり現像液及び定着液を120m
lずつ補充しながら1日に面積の80%を黒化させた大
全サイズのフィルムを100枚処理しこれを8日間ラン
ニングを行い計800枚処理した。ランニング前のもの
と800枚ランニング後の性能を比較した。なお処理後
のバッキング側の表面比抵抗値は23℃20%RHで9
×1011Ωであった。
比較の条件で保管された試料をステップウェッジと密着
し赤色半導体レーザー光の代用特性として波長670n
mの露光を行ってから、下記組成の現像液及び定着液を
用いて迅速処理用自動現像機(GR−26SR コニカ
(株)製)にて下記条件で処理した。なお微小な網点品
質の評価をするために大日本スクリーン(株)社製SG
−747RUで16μのランダムパターンの網点(FM
スクリーン)で露光を行った後同様の処理を行った。さ
らにフィルム1m2あたり現像液及び定着液を120m
lずつ補充しながら1日に面積の80%を黒化させた大
全サイズのフィルムを100枚処理しこれを8日間ラン
ニングを行い計800枚処理した。ランニング前のもの
と800枚ランニング後の性能を比較した。なお処理後
のバッキング側の表面比抵抗値は23℃20%RHで9
×1011Ωであった。
【0172】 (現像液組成) 濃縮現像液処方A ジエチルトリアミン5酢酸・5ナトリウム塩 9g/l 一般式(A)の化合物 A−17 0.6モル/l 亜硫酸ナトリウム 0.45モル/l 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 7g/l 炭酸カリウム 2.4モル/l 5−メチルベンゾトリアゾール 0.75g/l 臭化カリウム 22g/l ほう酸 6g/l ジエチレングリコール 80g/l 一般式(S)の化合物 S−36 1.5g/l KOHを使用液がpH9.9になる量を加えた。
【0173】使用時には、上記濃縮現像液Aを1部に対
して水2部を加えて使用液とした。またこの使用液は現
像母液及び現像補充液として使用した。
して水2部を加えて使用液とした。またこの使用液は現
像母液及び現像補充液として使用した。
【0174】 (定着液組成) 濃縮定着液A チオ硫酸アンモニウム(70%水溶液) 400ml/l 亜硫酸ナトリウム 45g/l ほう酸 20g/l 酢酸ナトリウム・3水和物 70g/l 酢酸(90%水溶液) 30g/l 酒石酸 6g/l グルタルアルデヒド 6g/l 硫酸アルミニウム(27%水溶液) 50ml/l 硫酸にて使用液のpHが4.9になるように調整した。
【0175】使用時には、上記濃縮定着液A1部に対し
て水1部を加えて使用液とした。またこの使用液は定着
母液及び定着補充液として使用した。
て水1部を加えて使用液とした。またこの使用液は定着
母液及び定着補充液として使用した。
【0176】(処理条件) (工程) (温度) (時間) 現像 38℃ 12秒 定着 35℃ 10秒 水洗 40℃ 10秒 乾燥 50℃ 12秒 合計 44秒 (感度の評価)得られた現像済み試料をのPDA−65
(コニカデジタル濃度計)で測定した。表中の感度は資
料No.101の濃度3.0における感度を100とし
た場合の相対感度で表した。
(コニカデジタル濃度計)で測定した。表中の感度は資
料No.101の濃度3.0における感度を100とし
た場合の相対感度で表した。
【0177】(カブリの評価)得られた現像済みの試料
の未露光部分をPDA−65(コニカデジタル濃度計)
で測定した。0.06以上は実用できないレベルであ
る。
の未露光部分をPDA−65(コニカデジタル濃度計)
で測定した。0.06以上は実用できないレベルであ
る。
【0178】(網点品質(以下DQと略)の評価方法)
SG−747RUで16μ径のランダムパターンの網点
(FMスクリーン)で露光を行ったもの中点(目標50
%)を100倍のルーペを使って網点品質(DQ)を評
価した。最高ランク5とし、網点品質に応じて4、3、
2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2は実用上
好ましくないレベルである。
SG−747RUで16μ径のランダムパターンの網点
(FMスクリーン)で露光を行ったもの中点(目標50
%)を100倍のルーペを使って網点品質(DQ)を評
価した。最高ランク5とし、網点品質に応じて4、3、
2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2は実用上
好ましくないレベルである。
【0179】評価結果を表2に示す。
【0180】
【表2】
【0181】平均粒径0.1μm以下のハロゲン化銀乳
剤を用い、かつSPS支持体を使用すると、経時させた
試料でも、感度の変動が少なく、カブリが増加が少な
く、かつ微小な点を再現させる場合にも網点品質が劣化
したりするという問題が少ないことがわかる。また自動
現像機で現像液補充量を低減させて補充し、かつ迅速処
理した場合にも効果があることが分かる。
剤を用い、かつSPS支持体を使用すると、経時させた
試料でも、感度の変動が少なく、カブリが増加が少な
く、かつ微小な点を再現させる場合にも網点品質が劣化
したりするという問題が少ないことがわかる。また自動
現像機で現像液補充量を低減させて補充し、かつ迅速処
理した場合にも効果があることが分かる。
【0182】実施例2 下記の方法で乳剤を調製した。
【0183】 混合釜にA液をいれ、硝酸によりpHを2に合わせた
後、B液とC液を同時混合法により流量制御しながら混
合した。添加終了して炭酸ナトリウム水溶液でpHを6
に調整した。得られた乳剤を減圧限外濾過で脱塩した。
得られた乳剤の平均粒径は0.07μm、粒子分布の広
さは10%であった。次に無機硫黄を添加し、60℃で
最高感度が出るよう化学熟成した。
後、B液とC液を同時混合法により流量制御しながら混
合した。添加終了して炭酸ナトリウム水溶液でpHを6
に調整した。得られた乳剤を減圧限外濾過で脱塩した。
得られた乳剤の平均粒径は0.07μm、粒子分布の広
さは10%であった。次に無機硫黄を添加し、60℃で
最高感度が出るよう化学熟成した。
【0184】得られたハロゲン化銀乳剤に、ゼラチンが
1.2g/m2となるようにゼラチンを添加後、下記の
添加剤を加えて乳剤塗布液E−0を調製し、ついで乳剤
保護層塗布液P−0、バッキング層塗布液B−0、バッ
キング保護層塗布液BP−0を下記組成にて調製した。
1.2g/m2となるようにゼラチンを添加後、下記の
添加剤を加えて乳剤塗布液E−0を調製し、ついで乳剤
保護層塗布液P−0、バッキング層塗布液B−0、バッ
キング保護層塗布液BP−0を下記組成にて調製した。
【0185】 (乳剤塗布液E−0の調製) ハロゲン化銀乳剤 表3に示す NaOH(0.5N) pH5.6に調整 テトラゾリウム化合物(T−1) 30mg/m2 サポニン(20%) 0.5cc/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 20mg/m2 5−メチルベンゾトリアゾール 10mg/m2 化合物(b) 2mg/m2 化合物(c) 6mg/m2 ラテックスLa 1.0g/m2 スチレン−マレイン酸共重合体ポリマー(増粘剤) 90mg/m2
【0186】
【化15】
【0187】 (乳剤保護層塗布液P−0) ゼラチン 1.1g/m2 化合物(d)(1%) 25cc/m2 化合物(e) 20mg/m2 p−パーフロロ−4−ノネニル−ベンゼンスルホン酸ソーダ 2mg/m2 球状単分散シリカ(8μm) 20mg/m2 〃 (3μm) 10mg/m2 化合物(f) 100mg/m2 クエン酸 pH6.0に調整 スチレン−マレイン酸共重合体ポリマー(増粘剤) 100mg/m2 (バッキング層塗布液B−0) ゼラチン 1.0g/m2 化合物(g) 100mg/m2 化合物(h) 18mg/m2 化合物(i) 100mg/m2 サポニン(20%) 0.6cc/m2 ラテックス(j) 300mg/m2 5−ニトロインダゾール 20mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体ポリマー(増粘剤) 45mg/m2 グリオキザール 4mg/m2 化合物(k) 10mg/m2 化合物(l) 10mg/m2 5−メチルベンゾトリアゾール 20mg/m2 (バッキング保護層塗布液BP−0) ゼラチン 0.5g/m2 化合物(d)(1%) 2cc/m2 球状ポリメチルメタクリレート(4μ) 25mg/m2 塩化ナトリウム 70mg/m2 グリオキザール 22mg/m2
【0188】
【化16】
【0189】
【化17】
【0190】
【化18】
【0191】実施例1における下塗層を施した支持体上
にまず乳剤面側として支持体に近い側より乳剤層、乳剤
保護層の順に35℃に保ちながらスライドホッパー方式
により硬膜剤として実施例1で用いた硬膜剤lをゼラチ
ン1g当たり30mgとなるように加えながら同時重層
塗布した。支持体の反対面にバッキング層及びバッキン
グ保護層をスライドホッパーにて硬膜剤を加えながら重
層塗布した。
にまず乳剤面側として支持体に近い側より乳剤層、乳剤
保護層の順に35℃に保ちながらスライドホッパー方式
により硬膜剤として実施例1で用いた硬膜剤lをゼラチ
ン1g当たり30mgとなるように加えながら同時重層
塗布した。支持体の反対面にバッキング層及びバッキン
グ保護層をスライドホッパーにて硬膜剤を加えながら重
層塗布した。
【0192】得られた試料を、露光を大日本スクリーン
(株)社製明室プリンターで行う以外は実施例1と同様
に評価し、結果を表3に示す。
(株)社製明室プリンターで行う以外は実施例1と同様
に評価し、結果を表3に示す。
【0193】
【表3】
【0194】平均粒径0.1μm以下のハロゲン化銀乳
剤を用い、かつSPS支持体を使用すると、経時させた
試料でも、感度の変化が少なく、カブリの増加が少な
く、かつ微小な点を再現させる場合にも網点品質が劣化
したりするという問題が少ないことがわかる。また自動
現像機で現像液補充量を低減させて補充し、かつ迅速処
理した場合にも効果があることが分かる。
剤を用い、かつSPS支持体を使用すると、経時させた
試料でも、感度の変化が少なく、カブリの増加が少な
く、かつ微小な点を再現させる場合にも網点品質が劣化
したりするという問題が少ないことがわかる。また自動
現像機で現像液補充量を低減させて補充し、かつ迅速処
理した場合にも効果があることが分かる。
【0195】
【発明の効果】本発明により、現像補充量を低減させて
処理をしても、経時で感度変動や網点品質の劣化が少な
く、カブリの増大しないハロゲン化銀写真感光材料を得
た。又、処理時間を大幅に短縮した状態で処理した場合
にも、印刷製版用感光材料において25ミクロン以下の
微少な点を再現させる場合に、網点品質良好なハロゲン
化銀写真感光材料を得た。
処理をしても、経時で感度変動や網点品質の劣化が少な
く、カブリの増大しないハロゲン化銀写真感光材料を得
た。又、処理時間を大幅に短縮した状態で処理した場合
にも、印刷製版用感光材料において25ミクロン以下の
微少な点を再現させる場合に、網点品質良好なハロゲン
化銀写真感光材料を得た。
Claims (3)
- 【請求項1】 シンジオタクティックポリスチレンを主
成分とするフィルム支持体上に、少なくとも一層の平均
粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子を含有するハ
ロゲン化銀乳剤層を有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。 - 【請求項2】 請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材
料を、少なくとも現像槽、定着槽、水洗槽或いは安定化
浴槽、及び乾燥部を有する自動現像機で処理し、該ハロ
ゲン化銀写真感光材料が現像に入ってから乾燥ゾーンを
出るまでの全処理時間(Dry to Dry)が10
秒以上80秒以下で処理されることを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項3】 自動現像機で、少なくとも現像補充液を
補充しながら現像するハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法において、現像補充液の量が、ハロゲン化銀感光材
料1m2あたり30ml以上250ml以下で処理する
ことを特徴とする請求項2記載のハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7236925A JPH0980664A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7236925A JPH0980664A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0980664A true JPH0980664A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=17007791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7236925A Pending JPH0980664A (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0980664A (ja) |
-
1995
- 1995-09-14 JP JP7236925A patent/JPH0980664A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3448724B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料用現像剤及びその処理方法 | |
| US5705325A (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
| JPH0980664A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JP3508081B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料用固体処理剤および処理方法 | |
| JPH0968777A (ja) | 下引層を有する写真用支持体 | |
| JP3467667B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料用支持体の製造方法およびハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH09160170A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JPH09106050A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
| JPH0961966A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JPH0961964A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH11223908A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
| JP3379037B2 (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
| JPH0943774A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH09101591A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその支持体 | |
| JPH03288843A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法 | |
| JPH0934053A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 | |
| JPH09101599A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法及び現像液 | |
| JPH0968775A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料、およびその製造方法 | |
| JPH0468344A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0990553A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP2000122223A (ja) | 微粉状の天然有機物を含有するハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0968776A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH09106035A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成方法 | |
| JP2004226439A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0990548A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |