JPH0575755B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はイソカルバサイクリン類の製造法およ
びその原料に関する。さらに詳細には新規な９−
（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグラ
ンジンF2〓類を鍵物質とし、シリル化カルバサイ
クリン類を経由してイソカルバサイクリン類を製
造する方法に関する。 〈技術背景〉 カルバサイクリンは生体内生理活性物質である
プロスタグランジン（PGと略記することがある）
I2（PGI2）の６，９−位の酸素原子がメチレン基
で置換されたプロスタグランジンI2類縁体であ
り、分子内にエノールエーテルの部分構造を有す
る天然のプロスタグランジンI2に比較して化学的
に安定であるために抗血栓剤等の医薬品として有
用な化合物である。近年、カルバサイクリンの二
重結合異性体の一種であるイソカルバサイクリ
ン、すなわち、９(O)−メタノ−△6(9〓)−プロスタ
グランジンI1類がこの同族体の中でも最も強い血
小板凝集抑制作用を示すことが発見され、医薬品
としての応用が期待されるようになつた〔池上
ら、テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron
letters），33，3493および3497（1983）ならびに特
開昭59−137445号および59−210044号参照〕。従
来、かかる９(O)−メタノール△6(9〓)−プロスタグ
ランジンI1（イソカルバサイクリン）の製法に関
しては数例知られており、その方法の概要と用い
られた鍵合成中間体、および報告書をまとめて例
記すると (1) 池上ら、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron letters），24，3493（1983）およ
びケミストリー・レターズ（Chemistry
Letters）1984，1069： 【化】 【化】 (2) 池上ら、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron Letters），24，3497（1983）： 【化】 (3) 池上ら、ジヤーナル・オブ・ザ・ケミカル・
ソサイエテイー，ケミカル・コミユニケーシヨ
ン（J.Chem.Soc.，Chemical Communica−
tions），1984，1602： 【化】 (4) 柴崎ら、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron Letters），255087（1984）：ケミ
ストリーレターズ（Chemis−try Letters），
579（1984）： 【化】 【化】 (5) 柴崎ら、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron Letters），251067（1984）およ
び特開昭60−94934号： 【化】 (6) 小島ら、ケミカル・アンド・フアーマシユー
テイカル・ブレテイン（Chem.Pharm.Bull.），
32，2866（1984）： 【化】 (7) 小島ら、特開昭60−28943号： 【化】 (8) 坂内ら、日本薬学会第106年会講演要旨集
p379（1986）： 【化】 (9) 羽里ら、日本薬学会第106年会講演要旨集
p379（1986）： 【化】 (10) 岡村ら、日本薬学会第106年会講演要旨集
p380（1986）： 【化】 の10方法がある。 これら10種類の方法のうち、方法(1)と方法(5)は
PGE2を出発原料とし、数工程を経て鍵中間体に
導き、さらに数工程を経て目的物のイソカルバサ
イクリンを得るもので工業的な製法とはいいがた
い。また、方法(2)と方法(3)は、いずれも、対応す
る出発原料、および鍵中間体を得るために高価な
コーリーラクトンから多段階の工程を要し、通算
収率も高くなく、必ずしも工業的に有利な方法と
はいえないという難点がある。なお方法(6)および
方法(7)は最終生成物がdl体でしか得られず医薬品
化を意図する製法としては論外の方法である。方
法(4)はその出発原料が本発明者らの方法により光
学活性な(R)−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンから容易に得られるばかりでなく（特開昭57
−155116号公報参照）、その出発原料から鍵中間
体への誘導も工業的に何ら問題なく製造できる方
法である。しかし、鍵中間体からの最終のイソカ
ルバサイクリン類へ到る工程において、有機水銀
化合物の使用や、位置特異性の喪失、さらには分
離不可能の副生成物の混入等の数々の難点のため
に全収率が低くなり実用的、工業的製造法とはな
り易いという大きな難点がある。また方法(8)は鍵
中間体からのイソカルバサイクリンの誘導は最も
有利であり実用性が高いが、出発原料からの鍵中
間体の工程数が比較的長いという難点がある。方
法(9)は生成物であるイソカルバサイクリン製造時
にカルバサイクリンが副生するという欠点があ
る。また方法(10)は出発原料から最も短い工程数で
イソカルバサイクリンを製造しうるのであるが収
率が低く、工業的に満足しうる方法とはいえな
い。 最近、本発明者らによつて報告（日本化学会第
53秋季年会講演要旨集p499（1986））された方法
は下記に示すように 【化】 鍵中間体として（メチルチオ）チオカルボニルオ
キシシリルメチル誘導体を経由する方法である
が、本鍵中間体を選択的に製造することに難点が
あり、イソカルバサイクリン類の工業的に有利な
製造法の開拓は依然、残された課題である。 〈発明の目的〉 本発明の目的はイソカルバサイクリン類の工業
的な製造を可能とする新規な鍵中間体の開拓と、
それを経由する効率的な製造法を提供することに
ある。（なお、本明細書中の化合物の命名は原則
としてプロスタグランジン命名法による）。 〈発明の構成および効果〉 本発明者らは上述した諸点に着目し、上記目的
にあつた(9)(O)−メタノ△6(9〓)−プロスタグランジ
ンI1類（イソカルバサイクリン類）の実用的な新
規製造法を見出すべく鋭意研究した結果、本発明
に到達したものである。すなわち本発明では下記
式［］ 【化】 ［式中、R1，R2、およびR3は同一もしくは
異なり、C1〜C7のアルキル基またはアリール
基を表わし、R4はC1〜C6のアルキルを表わし、
R5，R6は同一もしくは異なり、トリ（C1〜C7）
炭化水素シリル基を表わし、R7は水素原子を
表わし、R8は直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9の
アルキル基を表わし、R9は水素原子を表わし、
ｎは０または１を表わす。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の化合物（以下、「代表される化
合物」の表現も「表わされる化合物、その鏡像
体、あるいはそれらの任意の割合の化合物「と同
義である）である５，６−デヒドロ−９−デオキ
シ−９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロ
スタグランジンF2〓類が上記目的を達成する鍵中
間体として提供される。 上記式〔〕においてR1，R2、およびR3は同
一もしくは異なりC1〜C7の炭化水素基を表わし、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ｔ−ブチル、フエニル、ベンジル、
トリル基などが挙げられるが、特にメチル、ｔ−
ブチル、フエニル基が好ましい。なかでも
R1R2R3Si基におけるR1，R2，R3の組み合わせ
が、ジメチルフエニルシリル基である場合が最も
好ましい。 また、上記式〔〕においてR4はC1〜C5のア
ルキル基を表わし、かかるC1〜C6のアルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基
などが挙げられる。尚R4についての参考例とし
て、C3〜C6のアルケニル基が挙げられ、その具
体例としては２−プロペニル、２−ブテニル、２
−ヘキセニル、フエニル基などが挙げられる。
R4としては、メチル、エチル基が好ましい。 また、上記式〔〕においてR5，R6は同一も
しくは異なり、トリ（C1〜C7）炭化水素シリル
基を表わすが、その他の参考例として水酸基の酸
素原子とともにアセタール結合を形成する基が挙
げられる。 トリ（C1〜C7）炭化水素シリル基としては、
例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメ
チルシリル基のようなトリ（C1〜C4）アルキル
シリル基、ｔ−ブチルジフエニルシリル基のよう
なジフエニル（C1〜C4）アルキルシリル基、ジ
メチルフエニル基のようなジ（C1〜C4）アルキ
ルフエニル基、またはトリベンジルシリル基など
を好ましいものとして挙げることができる。なか
でもトリ（C1〜C4）アルキルシリル、ジフエニ
ル（C1〜C4）アルキルシリル、フエニルジ（C1
〜C4）アルキルシリル基が好ましく、とりわけ
ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリメチルシリル
基が好ましい。 水酸基の酸素原子とともにアセタール結合を形
成する基としては、例えば、メトキシメチル基、
１−エトキシエチル基、２−メトキシ−２−プロ
ピル基、２−エトキシ−２−プロピル基、（２−
メトキシエトキシ）メチル基、ベンジルオキシメ
チル基、２−テトラヒドロピラニル基、２−テト
ラヒドロフラニル基、または６，６−ジメチル−
３−オキサ−２−オキソビシクロ〔3.1.0〕ヘキ
ス−４−イル基を挙げることができる。２−テト
ラヒドロピラニル、２−テトラヒドロフラニル、
１−エトキシエチル、２−エトキシ−２−プロピ
ル、（２−メトキシエトキシ）メチル、６，６−
ジメチル−３−オキサ−２−オキソビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−４−イルが特に好ましい。なか
でも２−テトラヒドロピラニルが特に好ましい。 これらのシリル基およびアセタール結合を形成
する基は水酸基の保護基であると理解されるべき
である。これらの保護基は最終生成物の段階で弱
酸性から中性の条件で容易に除去されて、薬剤と
して有用な遊離の水酸基とすることができる。し
たがつてこのような性状を有している水酸基の保
護基はシリル基やアセタール結合を形成する基の
変わりとして使用することができる。 また、上記式〔〕においてR7は水素原子を
表わすが、その他の参考例としてメチル基または
ビニル基が挙げられる。 また、上記式〔〕においてR8は直鎖もしく
は分岐鎖のC3〜C9アルキル基を表わす。尚、R8
の他の参考例として、酸素原子で中断されたC3
〜C9アルキル基、酸素原子で中断されていても
よいアルケニル基もしくはアルキニル基；置換ま
たは非置換のフエニル基、フエノキシ基、もしく
はC3〜C10のシクロアルキル基；またはC1〜C6ア
ルコキシ基、置換されていてもよいフエニル基、
置換されていてもよいフエノキシもしくは置換さ
れていてもよいC3〜C10シクロアルキル基で置換
されている直鎖もしくは分岐鎖C1〜C5アルキル
基を表わす。 R8に関する直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9アル
キル基としては、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、２−メチル−２−ヘキシ
ル、２−メチルブチル、２−メチルペンチル、２
−メチルヘキシル、２，２−ジメチルヘキシル基
などを挙げることができる。ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、２−ヘキシル基、２−メチ
ル−２−ヘキシル、２−メチルブチル、２−メチ
ルペンチル基が好ましい。 尚、R8についての参考例である酸素原子で中
断されたアルキル基の具体例としては、２−メト
キシエチル、２−エトキシエチルが挙げられる。
さらに酸素原子で中断されていてもよい直鎖もし
くは分岐鎖のC3〜C9アルケニル基としては、例
えば、１−ブチルビニル、２−プロピルアリル、
２−ペンテニル、４−ペンテニル、２−メチル−
３−ペンテニル、４−ヘキセニル、１，４−ジメ
チル−３−ペンテニル、５−ヘプテニル、１−メ
チル−５−ヘキセニル、６−メチル−５−ヘプテ
ニル、２，６−ジメチル−５−ヘプテニル基など
が好ましい。 酸素原子で中断されていてもよい直鎖もしくは
分岐鎖のC3〜C9アルキニル基としては、例えば、
２−ブチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニ
ル、１−メチル−２−ペンチニル、１−メチル−
３−ペンチニル基が好ましい。 置換フエニル基、置換フエノキシ基、もしくは
C3〜C10の置換シクロアルキル基の置換基として
は、例えばハロゲン原子、保護された水素基（例
えばシリルオキシ基、C1〜C6アルコキシ基な
ど）、トリフルオロメチル基、C1〜C4アルキル基
などが挙げられる。 C3〜C10のシクロアルキル基としては、例えば、
シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘキセニル、シクロヘプチル、シクロ
オクチル、シクロデシル基などを挙げることがで
きる。シクロペンチル、シクロヘキシル基が好ま
しい。 C1〜C6アルコキシ基、置換されていてもよい
フエニル基、置換されていてもよいフエノキシ
基、もしくは置換されていてもよいC3〜C10シク
ロアルキル基で置換されている直鎖もしくは分岐
鎖C1〜C5アルキル基において、C1〜C6アルコキ
シ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロ
ピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、ｔ
−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などが挙げられ
る。置換されていてもよいフエニル基、置換され
ていてもよいフエノキシ基、もしくは置換されて
いてもよいC3〜C10シクロアルキル基の置換基お
よびC3〜C10シクロアルキル基としては前述の例
示と同じものを挙げることができる。直鎖もしく
は分岐鎖C1〜C5アルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル基などを挙げることができる。かかるR8
としてはブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、２−ヘキシル、２−メチル−２−ヘキシル、
２−メチルブチル、２−メチルペンチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、フエニル、フエノキ
シ、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチ
ル基などを好ましいものとして挙げることができ
る。なお、置換基はその任意の位置に結合してい
てもよい。 また、上記式〔〕においてR9は水素原子を
表わす。尚、R9の他の参考例として置換基が挙
げられるが、かかる置換基としては上述のR8の
置換フエニル基に関して列挙したものと同様の置
換基が挙げられ、その置換位置はオルト位、メタ
位、パラ位のいずれも挙げられる。なかでもトリ
フルオロメチル基、塩素原子が好ましい。R9と
しては水素原子、ｐ−クロロ基、ｍ−トリフルオ
ロメチル基が好ましく、特にｍ−トリフルオロメ
チル基が好適に挙げられる。 また、上記式〔〕においてｎは０または１を
表わし、ｎが０が特に好ましい。 また、上記式〔〕で表わされる化合物におい
てシクロペンタン環上および側鎖状に、結合して
いる置換基の結合している炭素は不斉な環境のた
めに立体異性体が存在するが本発明ではいずれの
立体異性をも含むものであり、またこれらの任意
の割合の立体異性混合物でもさしつかえない。ま
た、式で代表される化合物とはこれらの立体異性
体すべて、およびそれらの異性体の任意の割合の
混合物をあらわすが、式であらわされた立体構造
を有する化合物が最も好ましいものとしてあげら
れる。 本発明により提供される上記式〔〕で代表さ
れる５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−（ベ
ンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグランジ
ンF2〓類の好ましい具体例を下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8
およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ
−９−（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグラ
ンジンF2〓類についてR4，R5，R6が水素原子の誘
導体の形で列挙すると以下のようになる。尚、
（02），（05）〜（14）は参考例である。 (01) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）
PGF2〓 (02) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
15−メチルPGF2〓 (03) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
16，16−ジメチルPGF2〓 (04) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17，20−ジメチルPGF2〓 (05) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
18，19，20−トリノル−17−エトキシPGF2〓 (06) ５，６，17，18−テトラデヒドロ−９−デ
オキシ−９−（ヒドロキシジメチルフエニルシ
リルメチル）PGF2〓 (07) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17−メチル−19，20−ジノル−18−（１−プロ
ピニル）PGF2〓 (08) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17−メチル−20−イソプロピリデンPGF2〓 (09) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17，18，19，20−テトラノル−16−フエノキシ
PGF2〓 (10) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17，18，19，20−テトラノル−16−ｍ−クロロ
フエノキシPGF2〓 (11) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
16，17，18，19，20−ペンタノル−15−シクロ
ヘキシルPGF2〓 (12) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
16，17，18，19，20−ペンタノル−15−シクロ
ペンチルPGF2〓 (13) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17，18，19，20−テトラノル−16−シクロヘキ
シルPGF2〓 (14) ５，６−デヒドロ−９，15−ビスデオキシ
−16−ヒドロキシ−９−（ヒドロキシジメチル
フエニルシリルメチル）−16−メチルPGF2〓 (15) ５，６−デヒドロ−９，15−ビスデオキシ
−16−ヒドロキシ−９−（ヒドロキシジメチル
フエニルシリルメチル）PGF2〓 (16) （01）〜（15）のヒドロキシジメチルフエ
ニルシリルメチル基がヒドロキシトリメチルシ
リルメチル基で置換された化合物 (17) （01）〜（15）のヒドロキシジメチルフエ
ニルシリルメチル基がヒドロキシジメチル−ｔ
−ブチルシリルメチル基で置換された化合物 (18) （01）〜（15）のヒドロキシジメチルフエ
ニルシリルメチル基がヒドロキシジ−ｔ−ブチ
ルフエニルシリルメチル基で置換された化合物 (19) （01）〜（15）のヒドロキシジメチルフエ
ニルシリルメチル基がヒドロキシジフエニルメ
チルシリルメチル基で置換された化合物 ここでR4，R5，R6の定義を加味した化合物例
を挙げると以下のようになる。尚（21），（23），
（24），（27）は参考例である。 (20) （01）〜（19）の11，15（または16）−ビス
−ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル (21) （01）〜（19）の11，15（または16）−ビス
テトラヒドロピラニルエーテル (22) （01）〜（19）の11，15（または16）−ビス
−ｔ−ブチルジフエニルシリルエーテル (23) （01）〜（19）の11−ｔ−ブチルジメチル
シリル−15（または16）−テトラヒドロピラニル
エーテル (24) （01）〜（19）の11−テトラヒドロピラニ
ル−15（または16）−ｔ−ブチルジメチルシリル
エーテル (25) （01）〜（24）のメチルエステル (26) （01）〜（24）のエチルエステル (27) （01）〜（24）のアリルエステル (28) （01）〜（24）のｔ−ブチルエステル (29) （01）〜（24）のヘキシルエステル 上記式〔〕で代表される化合物の具体例は、
かかる上記式〔〕で代表される化合物のベンゾ
イル化体として列挙され例えば、（30）が挙げら
れる。尚（31），（32）は参考例である。 (30) （01）〜（29）に9α−ベンゾイル誘導体 (31) （01）〜（29）の9α−（ｍ−トリフルオロ
メチルベンゾイル）誘導体 (32) （01）〜（29）の9α−（ｐ−クロロベンゾ
イル）誘導体 上記式〔〕で代表される本発明の５，６−デ
ヒドロ−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシ
シリルメチル）プロスタグランジンF2〓類は容易
に入手可能な５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−ホルミルプロスタグランジンF2〓類（式
〔〕）を出発原料として次の工程を経て製造さ
れ、イソカルバサイクリン類に誘導可能なシリル
化カルバサイクリン類に導びかれる。 【化】 すなわち、本発明の製造法は、第一段階とし
て、下記式〔〕 【化】 ［式中、R4，R5，R6，R7，R8、およびｎは前
記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−ホルミルプロスタグランジンF2〓類に下記式
〔〕 （R1R2R3Si）q(L)2-qCuLi ……〔〕 ［式中、R1，R2、およびR3は前記定義に同じ
であり、Ｌはシアノ基、フエニルチオ基、１−
ペンチニル基またはヨウ素原子を表わし、ｑは
１または２を表わす。］ で表わされるシリル銅リチウム化合物反応（シリ
ル付加反応）せしめて下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグラン
ジンF2〓類を得、第二段階として、上記式〔〕
で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグラン
ジンF2〓類を塩基性物質の存在下に下記式〔〕 【化】 〔式中、R9は前記定義に同じである。〕 で表わされる安息香酸類の酸ハロゲン化物または
酸無水物と反応（ベンゾイル化反応）せしめて下
記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタ
グランジンF2〓類を得る製造法である。 さらに、本発明では第三段階としてこうして製
造された上記式〔〕で代表される５，６−デヒ
ドロ−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシ
リルメチル）プロスタグランジンF2〓類を溶媒の
存在下に光照射（光環化反応）することにより、
イソカルバサイクリン類に誘導可能な、下記式
〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じであり、〜は二重結
合の立体がＥ，Ｚ、またはＥとＺの任意の割合
の混合物であることを表わす。］ で代表されるシリル化カルバサイクリン類が製造
される。以下、各工程について詳細に説明する。 (1) シリル付加反応； 本発明における第一段階で原料として用いられ
る上記式〔〕で代表される５，６−デヒドロ−
９−デオキシ−９−ホルミルプロスタグランジン
F2〓類は上述した池上らの方法（池上ら、ケミス
トリー・レターズ（Chemistry Letters）、1069
（1984））の方法に準拠し、５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−メチレンプロスタグランジン
E2類を出発原料として、ハイドロボレーシヨン
一酸化反応および酸化反応を組み合わせることに
より容易に製造される。該５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−メチレンプロスタグランジン
E2類の一は既知化合物であり、ジ−、エル、バ
ンデイ−（Ｇ，Ｌ，Bundy）らの方法
〔USP4144253，同4098805，同4118584（特開昭53
−135957号）、同4130720，同4166187各号明細書
参照〕により合成される。すなわち５，６−デヒ
ドロプロスタグランジンE2類の９位のカルボニ
ル基のメチレン化によつて５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−メチレンプロスタグランジン
E2類を製造することが出来る。 上記式〔〕においてR4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じであり、前記式〔〕
で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタ
グランジンF2〓類で例示した基が同様に好ましく
挙げられ、上記式〔〕で代表される５，６−デ
ヒドロ−９−デオキシ−９−ホルミルプロスタグ
ランジンF2〓類の具体例も前述の式〔〕で代表
される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグラ
ンジンF2〓類で例示した化合物に対応する誘導体
が好適に挙げられる。 本発明方法のシリル付加反応は式〔〕で代表
される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−ホ
ルミルプロスタグランジンF2〓類を有機媒体中で
前記式〔〕で表わされるシリル銅リチウム化合
物と反応せしめることにより達成される。前記式
〔〕においてR1，R2、およびR3は同一もしくは
異なり、C1〜C7の炭化水素基を表わし、例えば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔ−ブチ
ル、フエニル、ベンジル、トリル基が挙げられ、
特にメチル、ｔ−ブチル、フエニル基が好まし
い。例えば上記シリル銅リチウム化合物の具体例
として最も好ましいものはビス（ジメチルフエニ
ル）銅リチウムを挙げることが出来る。これらの
上記シリル銅リチウム化合物の使用量は式〔〕
の５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−ホルミ
ルプロスタグランジンF2〓類１モルに対して0.8〜
５モル倍、好ましくは0.9〜３モル倍である。反
応を円滑に進行させるための有機媒体としては上
記シリル銅リチウム化合物に対して不活性の媒
体、例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、ペンタン、ヘキ
サン等の炭化水素類またはこれらの任意の混合物
が用いられ、好ましくはテトラヒドロフランが用
いられる。反応温度は−100℃〜０℃、好ましく
は−78℃〜−40℃で実施され、反応時間は通常
は、約５分〜30分程度で十分である。反応後、反
応液は常法によつて処理される。すなわち反応液
は飽和塩化アンモニウム水、または飽和硫酸アン
モニウム水と混合した後、例えばヘキサン、ペン
タン、石油エーテル、エチルエーテル、酢酸エチ
ルなどの水に難溶の有機溶媒を用いて抽出し、得
られた有機混合物を必要に応じて食塩水などで洗
浄し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウ
ム、無水塩化カルシウムなどの乾燥剤にて乾燥
後、有機媒体を減圧除去して粗生成物が得られ
る。粗生成物は、所望により、カラムクロマトグ
ラフイー、薄層クロマトグラフイー、液体クロマ
トグラフイーなどの精製手段により、精製するこ
とが出来る。かくして下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3.R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグラン
ジンF2〓類が製造される。 (2) ベンゾイル化反応； 第２段階のベンゾイル化反応は第１段階で得ら
れた式〔〕で代表される５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−（ヒドロキシシリルメチル）プ
ロスタグランジンF2〓類を塩基性物質の存在下に
前記式〔〕で表わされる安息香酸類の酸ハロゲ
ン化物または酸無水物と反応せしめることにより
達成される。 前記式〔〕中、R9は水素原子もしくは置換
基を表わし、かかる置換基としては上述のR8の
置換フエニル基に関して列挙したものと同様の置
換基が好ましく挙げられ、例えば、フツ素原子、
塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、メトキ
シ基、エトキシ基、メチル基、エチル基、ｔ−ブ
チル基、トリフルオロメチル基などが挙げれる
が、塩素原子、トリフルオロメチル基が特に好ま
しい。かかる置換基の置換位置はオルト位、メタ
位、バラ位のいずれも挙げられるが、組み合わせ
において最も好ましいのはｐ−クロロ基、ｍ−ト
リフルオロメチル基である。前記式〔〕で表わ
される安息香酸類は酸ハロゲン化物または酸無水
物として反応に供せられる。酸ハロゲン化物とし
ては酸塩化物または酸臭化物を好適に挙げること
ができる。 これらの酸ハロゲン化物または酸無水物の使用
量は式〔〕で代表される５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−（ヒドロキシシリルメチル）プ
ロスタグランジンF2〓類１モルに対して0.8〜10モ
ル倍、好ましくは0.9〜５モル倍、特に好ましく
は1.0〜３モル倍である。反応は塩基性物質の存
在下に実施される。かかる塩基性物質としては、
ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、イ
ミダゾールなどの芳香族塩基類、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミンなどの脂肪族塩基類、炭酸
水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
などの無機塩基類などを挙げることができる。か
かる塩基性物質の使用量は用いる酸ハロゲン化物
または酸無水物１モルに対して0.8〜10モル倍、
好ましくは0.9〜５モル倍、特に好ましくは1.0〜
３モル倍である。反応を円滑に進行させるために
は有機媒体中で反応を実施するのが好ましい。か
かる有機媒体としては、通常かかるエステル化反
応に用いられる不活性有機媒体、例えば、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタンなどのエーテル類、ペンタン、ヘ
キサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トル
エンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどの
ハロゲン化炭化水素類またはアセトニトリルある
いはこれらの任意の混合物が用いられ、好ましく
はテトラヒドロフラン、塩化メチレン、アセトニ
トリルなどが挙げられる。反応温度は−100℃〜
100℃、好ましくは−78℃〜50℃、さらに好まし
くは０℃〜30℃で実施され、反応時間は反応温度
により異なるが、例えば20℃では１時間〜１日間
程度で十分である。反応後、反応液は常法によつ
て後処理される。すなわち、反応液は飽和塩化ア
ンモニウム水溶液などを加えて反応を終結させた
後、ヘキサン、ペンタン、エチルエーテル、酢酸
エチルなどの通常使用される水に難溶な有機溶媒
を用いて抽出し、得られた有機混合物を必要に応
じて硫酸水素カリウム水溶液、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水
硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
に有機媒体を減圧留去することにより粗生成物が
得られる。粗生成物は、所望によりカラムクロマ
トグラフイー、薄層クロマトグラフイー、液体ク
ロマトグラフイーなどの精製手段により製取する
ことができる。かくして下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタ
グランジンF2〓類が製造される。 (3) 光環化反応； 第３段階の光環化反応は第２段階で得られた式
〔〕で代表される５，６−デヒドロ−９−デオ
キシ−９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プ
ロスタグランジンF2〓類をＮ−メチルカルバゾー
ル共存下に溶媒中で光照射することにより前記式
〔〕で代表されるシリル化カルバサイクリン類
を製造することができる。 かかる光環化反応は松浦らによつて報告された
方法（ジヤーナル オブ ザ アメリカン ケミ
カル ソサエテイ（J.Amer.Chem.Soc.），108，
3115（1986））に準拠して実施される。使用される
Ｎ−メチルカルバゾールは式〔〕で代表される
５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−（ベンゾ
イルオキシシリルメチル）プロスタグランジン
F2〓類１モルに対して0.1〜10モル倍、好ましくは
0.5〜５モル倍、特に好ましくは0.8〜３モル倍量
用いて実施される。Ｎ−メチルカルバゾールの代
わりに１，２，４，５−テトラメトキシベンゼ
ン、１，５−ジメトキシナフタレン、１−（ジメ
チルアミノ）ナフタレンを用いることもできる。
用いられる溶媒としてはテトラヒドロフランまた
はイソプロパノール、プロパノールなどのアルコ
ール類を水の共存下に使用される。水の含量は10
％前後用いて実施される。光照射は、通常の方法
により、例えば100W高圧水銀ランプを光源とし
て用い、パイレツクスフイルターなどを使用して
実施される。かかる光環化反応は過塩素酸マグネ
シウムの存在下に実施すると加速効果が認められ
る。使用される過塩素酸マグネシウムは式〔〕
で代表される化合物と等量使用するのが好まし
い。反応後の後処理は第二段階のベンゾイル化反
応の後処理と同様の態様により好適に実施され、
下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じであり、〜は二重結
合の立体がＥ，Ｚ、またはＥとＺの任意の割合
の混合物であることを表わす。］ で代表されるシリル化カルバサイクリン類が製造
される。 かくして得られる式〔〕で代表されるシリル
化カルバサイクリン類の具体例としては、本発明
方法の出発原料として式〔〕で代表される５，
６−デヒドロ−９−デオキシ−９−（ベンゾイル
オキシシリルメチル）プロスタグランジンF2〓類
で具体的に例示した化合物に対応する生成物をそ
のまま例示することができる。 かくして本発明方法により、新規鍵中間体であ
る式〔〕で代表される５，６−デヒドロ−９−
デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）
プロスタグランジンF2〓類を経由して工業的に有
利に製造される式〔〕で代表されるシリ化カル
バサイクリン類は、本発明者らが別途提案した方
法（野依ら、日本化学会、第53秋季年会講演要旨
集p499（1986））により脱シリル的異性化、脱保
護反応を経て医薬品として有用なイソカルバサイ
クリン類に誘導することが可能である。しかし
て、本発明及び前記の参考例等も合せて再掲する
と以下の通りである。 １ 下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2、およびR3は同一もしくは異
なりC1〜C7の炭化水素基を表わし、R4はC1〜
C6のアルキル基またはC3〜C6のアルケニル基
を表わし、R5，R6は同一もしくは異なり、ト
リ（C1〜C7）炭化水素シリル基または水酸基
の酸素原子とともにアセタール結合を形成する
基を表わし、R7は水素原子、メチル基、また
はビニル基を表わし、R8は酸素原子で中断さ
れていてもよい直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9
のアルキル基、アルケニル基もしくはアルキニ
ル基；置換または非置換のフエニル基、フエノ
キシ基、もしくはC3〜C10のシクロアルキル
基；またはC1〜C6アルコキシ基、置換されて
いてもよいフエニル基、置換されていてもよい
フエノキシ基もしくは置換されていてもよい
C3〜C10のシクロアルキル基で置換されている
直鎖もしくは分岐鎖C1〜C5アルキル基を表わ
し、R9は水素原子もしくは置換基を表わし、
ｎは０または１を表わす。〕 で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリル
メチル）プロスタグランジンF2〓類。 ２ R1，R2，R3の組み合わせがジメチルフエニ
ルである第１項記載の化合物。 ３ R4がC1〜C4のアルキル基である第１項記載
の化合物。 ４ R7が水素原子またはメチル基である第１項
記載の化合物。 ５ R8が直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9のアルキ
ル基またはC3〜C10のシクロアルキル基である
第１項記載の化合物。 ６ R8がｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、２−ヘキシル基、２−メチルヘキ
シル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキ
シル基である第１項記載の化合物。 ７ R9が水素原子、ｐ−クロロ基、またはｍ−
トリフルオロメチル基である第１項記載の化合
物。 ８ R9がｍ−トリフルオロメチル基である第１
項記載の化合物。 ９ ｎが０である第１項記載の化合物。 10 式〔〕で表わされる立体構造である第１項
記載の化合物。 11 下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ヒドロキシシリルメチル）
プロスタグランジンF2〓類を塩基性物質の存在下
に下記式〔〕 【化】 ［式中、R9は前記定義に同じである。］ で表わされる安息香酸類の酸ハロゲン化物または
酸無水物と反応せしめる下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリル
メチル）プロスタグランジンF2〓類の製造法。 12 当該５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグランジ
ンF2〓類が下記式〔〕 【化】 ［式中、R4，R5，R6，R7，R8、およびｎは前
記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−ホルミルプロスタグランジ
ンF2〓類に下記式〔〕 （R1R2R3Si）q(L)2-qCuLi ……〔〕 ［式中、R1，R2、およびR3は前記定義に同じ
であり、Ｌはシアノ基、フエニルチオ基、１−
ペンチニル基またはヨウ素原子を表わし、ｑは
１または２を表わす。］ で表わされるシリル銅リチウム化合物を反応せし
めて得られたものである特許請求の範囲第11項記
載の５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−（ベ
ンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグランジ
ンF2〓類の製造法。 13 下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリル
メチル）プロスタグランジンF2〓類を溶媒の存在
下に光照射することを特徴とする下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じであり、〜は二重結
合の立体がＥ，Ｚ、またはＥとＺの任意の割合
の混合物であることを表わす。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物であるシリル化カルバサ
イクリン類の製造法。 14 当該溶媒が含水テトラヒドロフランである第
13項記載の製造法。 15 当該溶媒が含水イソプロパノールである第13
項記載の製造法。 16 Ｎ−メチルカルバゾール共存下に光照射する
上記第13項〜第15項のいずれか１項記載の製造
法。 17 過塩素酸マグネシウム共存下に光照射する上
記第13項〜第16項のいずれか１項記載の製造
法。 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。なお実施例中Ｚの記号はSi（CH3）2−ｔ−
C4H9すなわちｔ−ブチルジメチルシリル基を表
わす。 実施例 １ 【化】 アルデヒド１〜（159.0mg，0.262mmol）のテト
ラヒドロフラン（15.0ml）溶液にビス（ジメチル
フエニルシリル）銅リチウムのテトラヒドロフラ
ン溶液（0.27M，1.20ml，0314mmol）を−78℃
で加え、30分間撹拌した。反応溶液に飽和塩化ア
ンモニウム水溶液（10ml）を加えて反応を終了さ
せ、得られた混合物をエーテル抽出（10ml×３）
した。エーテル層を飽和食塩水（25ml）で洗浄、
分離されたエーテル層を無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後に減圧濃縮して粗生成物を得た。これをカ
ラムクロマトグラフイー（シリカゲル６ｇ、使用
溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝15：１）に供して
目的物のシリルアルコール２〜（165.0mg，
0.222mmol，84.7％）を無色の油状物質（ジアス
テレオ混合物）として得た。 TLC（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）；
Rf0.31， IR（CHCl3）； 3400，1740，1250，830cm-1， 1H−NMR（CDCl3，270MHz）δ； −0.02，0.01，0.03（ｓ 各々、12，OSi
（CH3）2×２）0.36，0.37（ｓ 各々、６，
SiCH3×２），0.85，0.87（ｓ 各々、21，
OSiC（CH3）3×２，（CH3），1.1−1.7（ｍ，
10，CH2×５），1.73（tt，２，Ｊ＝7.3，7.3
Hz，CH2CH2C(O)），1.93（dt，１，Ｊ＝
7.1，7.3Hz，CH），2.0−2.3（ｍ，６，CH2
×２，CH×２），2.38（ｔ，２，Ｊ＝7.4
Hz，CH2C(O)），3.66（ｓ，３，OCH3），3.9
−4.1（ｍ，３，CHO×３），5.29（dd，１，
Ｊ＝8.4，15.7Hz，ビニル），5.40（dd，１，
Ｊ＝5.4，15.3Hz，ビニル），7.3−7.6（ｍ，
５，フエニル）， 13C−NMR（CDCl3，22.5MHz）δ； 13.9，18.1，18.3，18.4，22.6，24.5， 25.0，26.0，32.0，33.1，37.5，38.8， 42.0，48.7，51.2，57.4，64.6，73.2， 79.4，79.5，80.7，127.9，129.1， 131.2，134，１，135.2，138.1， 173.4， MS（ｍ／ｅ）；743（Ｍ＋１），135. 実施例 ２ 【化】 実施例１で得られたシリルアルコール２〜（62.3
mg，0.084mmol）のアセトニトリル（3.0ml）溶
液に18℃にて４−ジメチルアミノピリジン（25.0
mg，0.21mmol）とｍ−トリフルオロメチル安息
香酸クロライド（0.03ml，0.18mmol）を加え、
得られた反応混合物を18℃で15時間撹拌した。反
応後、飽和塩化アンモニウム水溶液（３ml）に注
ぎ込み、得られた混合物をエーテル抽出（３ml×
３）した。集めたエーテル層を無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥後に減圧濃縮し、残つた粗生成物をカ
ラムクロマトグラフイー（シリカゲル５ｇ、使用
溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝20：１）に供して
目的物のシリルベンゾエート３〜（69.3mg，
0.076mmol，90.1％）を無色の油状物質（ジアス
テレオ混合物）として得た。 TLC（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）；
Rf0.33， IR（CHCl3）； 1710，1610，1320，1250， 1150，830cm-1， 1H−NMR（CDCl3，270MHz）δ； −0.04，−0.03，0.00，（ｓ 各々，12，
OSiCH3×４），0.40， 0.41（ｓ 各々，６，SiCH3×２），0.85， 0.86（ｓ 各々，21，OSiC（CH3）2×２，
CH3）， 1.1−1.6（ｍ，10，CH2×５）， 1.74（tt，２，Ｊ＝7.3，7.3Hz，CH2CHC
(O)）， 1.8−2.3（ｍ，７，CH2×２，CH×３）， 2.40（ｔ，２，Ｊ＝7.6Hz，CH2C(O)）， 2.4−2.5（ｍ，１，アリル CH）， 3.69（ｓ，３，OCH3）， 3.76（dd，１，Ｊ＝7.3，15.5Hz，CHO）， 3.9−4.0（ｍ，１，アリル CHO）， 5.20（ｓ，１，ビニル）， 5.22（ｄ，１，Ｊ＝2.0Hz），ビニル）， 5.65（ｄ，１，Ｊ＝2.3Hz，CH（Si）Ｏ）， 7.3−8.4（ｍ，９，フエニル）， 13C−NMR（CDCl3，22.5MHz）δ； −4.6，−4.4，−4.1，−3.9，−3.7，13.9 18.1，18.3，18.5，18.6，22.6，24.5， 25.0，26.0，32.0，33.1，36.9，38.7， 39.5，46.2，51.2，55.7，70.7，73.1， 78.2，79.8，80.0，126.6（ｑ，JC-F＝4.1Hz，
CF3），127.9，128.3，129.0， 129.5，129.9，130.6，132.0 132.76，134.2，135.8，136.24， 164.9，173.47， MS（ｍ／ｅ）； 実施例 ３ 【化】 実施例２で得られたシリルベンゾエート３〜
（14.0mg，15.3μmol）と過塩素酸マグネシウム
（3.4mg，15.3μmol），Ｎ−メチルカルバゾール
（3.0mg，16.6μmol）の含水テトラヒドロフラン
（テトラヒドロフラン：水＝10：１，８ml）溶液
を10mlの試験管に入れ、500Wの高圧水銀ランプ
を用いて18℃で16時間光照射した。反応溶液を飽
和炭酸ナトリウム水溶液（５ml）に注ぎ込み、反
応混合物をエーテル（３ml×３）で抽出した。集
められたエーテル層を減圧濃縮し、残渣をカラム
クロマトグラフイー（シリカゲル1.5ｇ、使用溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝100：１）に供して
目的物のシリル化カルバサイクリン４〜（8.3mg，
11.4μmol1，74.7％）を無色の油状物質（Ｅ，Ｚ
体の混合物）として得た。 TLC（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）；
Rf0.46， IR（CHCl3）； 1740，1360，1250，1100， 830cm-1， 1H−NMR（CDCl3，500MHz）δ； 0.00，0.02，0.03，（ｓ，各々，12，
OSICH3×４），0.24，0.25，0.26，0.28，
（ｓ，各々，６，SiCH3×２）， 0.7−1.0（ｍ，21，OSiC（CH3）3×２，
CH3）， 1.0−1.7（ｍ，12，CH2×６）， 1.7−2.0（ｍ，５，CH3×３，CH2）， 2.0−2.3（ｍ，５，アリル CH2×２，アリ
ルCH）， 3.5−3.7（ｍ，１，CHO），3.66， 3.67（ｓ 各々３，OCH3）， 4.02（br，１，CHO），4.92， 5.09（br 各々，１，ビニル）， 5.3−5.5（ｍ，２，ビニル）， 7.3−7.5（ｍ，５，フエニル）， 13C−NMR（CDCl3，22.5MHz）δ； −4.6，−4.5，−4.4，−4.1，−3.9，−3.4， 14.1，18.1，18.3，22.6，25.1，25.4， 26.0，29.2，31.8，33.6，33.9，38.7， 39.4，39.7，43.5，43.7，44.5，45.0， 46.0，51.4，56.1，73.3，78.2， 119.2，119.7，127.7，128.9， 129.0，130.9，133.8，134.0， 134.3，134.4，138.3，138.4， 143.1，144.3，174.1， MS（ｍ／ｅ）；726（M+）， 高分解能MS；C42H74O4Si3（M+）に対する計
算値： 726，4895， 測定値：726，4906。
びその原料に関する。さらに詳細には新規な９−
（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグラ
ンジンF2〓類を鍵物質とし、シリル化カルバサイ
クリン類を経由してイソカルバサイクリン類を製
造する方法に関する。 〈技術背景〉 カルバサイクリンは生体内生理活性物質である
プロスタグランジン（PGと略記することがある）
I2（PGI2）の６，９−位の酸素原子がメチレン基
で置換されたプロスタグランジンI2類縁体であ
り、分子内にエノールエーテルの部分構造を有す
る天然のプロスタグランジンI2に比較して化学的
に安定であるために抗血栓剤等の医薬品として有
用な化合物である。近年、カルバサイクリンの二
重結合異性体の一種であるイソカルバサイクリ
ン、すなわち、９(O)−メタノ−△6(9〓)−プロスタ
グランジンI1類がこの同族体の中でも最も強い血
小板凝集抑制作用を示すことが発見され、医薬品
としての応用が期待されるようになつた〔池上
ら、テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron
letters），33，3493および3497（1983）ならびに特
開昭59−137445号および59−210044号参照〕。従
来、かかる９(O)−メタノール△6(9〓)−プロスタグ
ランジンI1（イソカルバサイクリン）の製法に関
しては数例知られており、その方法の概要と用い
られた鍵合成中間体、および報告書をまとめて例
記すると (1) 池上ら、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron letters），24，3493（1983）およ
びケミストリー・レターズ（Chemistry
Letters）1984，1069： 【化】 【化】 (2) 池上ら、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron Letters），24，3497（1983）： 【化】 (3) 池上ら、ジヤーナル・オブ・ザ・ケミカル・
ソサイエテイー，ケミカル・コミユニケーシヨ
ン（J.Chem.Soc.，Chemical Communica−
tions），1984，1602： 【化】 (4) 柴崎ら、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron Letters），255087（1984）：ケミ
ストリーレターズ（Chemis−try Letters），
579（1984）： 【化】 【化】 (5) 柴崎ら、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron Letters），251067（1984）およ
び特開昭60−94934号： 【化】 (6) 小島ら、ケミカル・アンド・フアーマシユー
テイカル・ブレテイン（Chem.Pharm.Bull.），
32，2866（1984）： 【化】 (7) 小島ら、特開昭60−28943号： 【化】 (8) 坂内ら、日本薬学会第106年会講演要旨集
p379（1986）： 【化】 (9) 羽里ら、日本薬学会第106年会講演要旨集
p379（1986）： 【化】 (10) 岡村ら、日本薬学会第106年会講演要旨集
p380（1986）： 【化】 の10方法がある。 これら10種類の方法のうち、方法(1)と方法(5)は
PGE2を出発原料とし、数工程を経て鍵中間体に
導き、さらに数工程を経て目的物のイソカルバサ
イクリンを得るもので工業的な製法とはいいがた
い。また、方法(2)と方法(3)は、いずれも、対応す
る出発原料、および鍵中間体を得るために高価な
コーリーラクトンから多段階の工程を要し、通算
収率も高くなく、必ずしも工業的に有利な方法と
はいえないという難点がある。なお方法(6)および
方法(7)は最終生成物がdl体でしか得られず医薬品
化を意図する製法としては論外の方法である。方
法(4)はその出発原料が本発明者らの方法により光
学活性な(R)−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンから容易に得られるばかりでなく（特開昭57
−155116号公報参照）、その出発原料から鍵中間
体への誘導も工業的に何ら問題なく製造できる方
法である。しかし、鍵中間体からの最終のイソカ
ルバサイクリン類へ到る工程において、有機水銀
化合物の使用や、位置特異性の喪失、さらには分
離不可能の副生成物の混入等の数々の難点のため
に全収率が低くなり実用的、工業的製造法とはな
り易いという大きな難点がある。また方法(8)は鍵
中間体からのイソカルバサイクリンの誘導は最も
有利であり実用性が高いが、出発原料からの鍵中
間体の工程数が比較的長いという難点がある。方
法(9)は生成物であるイソカルバサイクリン製造時
にカルバサイクリンが副生するという欠点があ
る。また方法(10)は出発原料から最も短い工程数で
イソカルバサイクリンを製造しうるのであるが収
率が低く、工業的に満足しうる方法とはいえな
い。 最近、本発明者らによつて報告（日本化学会第
53秋季年会講演要旨集p499（1986））された方法
は下記に示すように 【化】 鍵中間体として（メチルチオ）チオカルボニルオ
キシシリルメチル誘導体を経由する方法である
が、本鍵中間体を選択的に製造することに難点が
あり、イソカルバサイクリン類の工業的に有利な
製造法の開拓は依然、残された課題である。 〈発明の目的〉 本発明の目的はイソカルバサイクリン類の工業
的な製造を可能とする新規な鍵中間体の開拓と、
それを経由する効率的な製造法を提供することに
ある。（なお、本明細書中の化合物の命名は原則
としてプロスタグランジン命名法による）。 〈発明の構成および効果〉 本発明者らは上述した諸点に着目し、上記目的
にあつた(9)(O)−メタノ△6(9〓)−プロスタグランジ
ンI1類（イソカルバサイクリン類）の実用的な新
規製造法を見出すべく鋭意研究した結果、本発明
に到達したものである。すなわち本発明では下記
式［］ 【化】 ［式中、R1，R2、およびR3は同一もしくは
異なり、C1〜C7のアルキル基またはアリール
基を表わし、R4はC1〜C6のアルキルを表わし、
R5，R6は同一もしくは異なり、トリ（C1〜C7）
炭化水素シリル基を表わし、R7は水素原子を
表わし、R8は直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9の
アルキル基を表わし、R9は水素原子を表わし、
ｎは０または１を表わす。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の化合物（以下、「代表される化
合物」の表現も「表わされる化合物、その鏡像
体、あるいはそれらの任意の割合の化合物「と同
義である）である５，６−デヒドロ−９−デオキ
シ−９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロ
スタグランジンF2〓類が上記目的を達成する鍵中
間体として提供される。 上記式〔〕においてR1，R2、およびR3は同
一もしくは異なりC1〜C7の炭化水素基を表わし、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ｔ−ブチル、フエニル、ベンジル、
トリル基などが挙げられるが、特にメチル、ｔ−
ブチル、フエニル基が好ましい。なかでも
R1R2R3Si基におけるR1，R2，R3の組み合わせ
が、ジメチルフエニルシリル基である場合が最も
好ましい。 また、上記式〔〕においてR4はC1〜C5のア
ルキル基を表わし、かかるC1〜C6のアルキル基
としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基
などが挙げられる。尚R4についての参考例とし
て、C3〜C6のアルケニル基が挙げられ、その具
体例としては２−プロペニル、２−ブテニル、２
−ヘキセニル、フエニル基などが挙げられる。
R4としては、メチル、エチル基が好ましい。 また、上記式〔〕においてR5，R6は同一も
しくは異なり、トリ（C1〜C7）炭化水素シリル
基を表わすが、その他の参考例として水酸基の酸
素原子とともにアセタール結合を形成する基が挙
げられる。 トリ（C1〜C7）炭化水素シリル基としては、
例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメ
チルシリル基のようなトリ（C1〜C4）アルキル
シリル基、ｔ−ブチルジフエニルシリル基のよう
なジフエニル（C1〜C4）アルキルシリル基、ジ
メチルフエニル基のようなジ（C1〜C4）アルキ
ルフエニル基、またはトリベンジルシリル基など
を好ましいものとして挙げることができる。なか
でもトリ（C1〜C4）アルキルシリル、ジフエニ
ル（C1〜C4）アルキルシリル、フエニルジ（C1
〜C4）アルキルシリル基が好ましく、とりわけ
ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリメチルシリル
基が好ましい。 水酸基の酸素原子とともにアセタール結合を形
成する基としては、例えば、メトキシメチル基、
１−エトキシエチル基、２−メトキシ−２−プロ
ピル基、２−エトキシ−２−プロピル基、（２−
メトキシエトキシ）メチル基、ベンジルオキシメ
チル基、２−テトラヒドロピラニル基、２−テト
ラヒドロフラニル基、または６，６−ジメチル−
３−オキサ−２−オキソビシクロ〔3.1.0〕ヘキ
ス−４−イル基を挙げることができる。２−テト
ラヒドロピラニル、２−テトラヒドロフラニル、
１−エトキシエチル、２−エトキシ−２−プロピ
ル、（２−メトキシエトキシ）メチル、６，６−
ジメチル−３−オキサ−２−オキソビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−４−イルが特に好ましい。なか
でも２−テトラヒドロピラニルが特に好ましい。 これらのシリル基およびアセタール結合を形成
する基は水酸基の保護基であると理解されるべき
である。これらの保護基は最終生成物の段階で弱
酸性から中性の条件で容易に除去されて、薬剤と
して有用な遊離の水酸基とすることができる。し
たがつてこのような性状を有している水酸基の保
護基はシリル基やアセタール結合を形成する基の
変わりとして使用することができる。 また、上記式〔〕においてR7は水素原子を
表わすが、その他の参考例としてメチル基または
ビニル基が挙げられる。 また、上記式〔〕においてR8は直鎖もしく
は分岐鎖のC3〜C9アルキル基を表わす。尚、R8
の他の参考例として、酸素原子で中断されたC3
〜C9アルキル基、酸素原子で中断されていても
よいアルケニル基もしくはアルキニル基；置換ま
たは非置換のフエニル基、フエノキシ基、もしく
はC3〜C10のシクロアルキル基；またはC1〜C6ア
ルコキシ基、置換されていてもよいフエニル基、
置換されていてもよいフエノキシもしくは置換さ
れていてもよいC3〜C10シクロアルキル基で置換
されている直鎖もしくは分岐鎖C1〜C5アルキル
基を表わす。 R8に関する直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9アル
キル基としては、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、２−メチル−２−ヘキシ
ル、２−メチルブチル、２−メチルペンチル、２
−メチルヘキシル、２，２−ジメチルヘキシル基
などを挙げることができる。ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、２−ヘキシル基、２−メチ
ル−２−ヘキシル、２−メチルブチル、２−メチ
ルペンチル基が好ましい。 尚、R8についての参考例である酸素原子で中
断されたアルキル基の具体例としては、２−メト
キシエチル、２−エトキシエチルが挙げられる。
さらに酸素原子で中断されていてもよい直鎖もし
くは分岐鎖のC3〜C9アルケニル基としては、例
えば、１−ブチルビニル、２−プロピルアリル、
２−ペンテニル、４−ペンテニル、２−メチル−
３−ペンテニル、４−ヘキセニル、１，４−ジメ
チル−３−ペンテニル、５−ヘプテニル、１−メ
チル−５−ヘキセニル、６−メチル−５−ヘプテ
ニル、２，６−ジメチル−５−ヘプテニル基など
が好ましい。 酸素原子で中断されていてもよい直鎖もしくは
分岐鎖のC3〜C9アルキニル基としては、例えば、
２−ブチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニ
ル、１−メチル−２−ペンチニル、１−メチル−
３−ペンチニル基が好ましい。 置換フエニル基、置換フエノキシ基、もしくは
C3〜C10の置換シクロアルキル基の置換基として
は、例えばハロゲン原子、保護された水素基（例
えばシリルオキシ基、C1〜C6アルコキシ基な
ど）、トリフルオロメチル基、C1〜C4アルキル基
などが挙げられる。 C3〜C10のシクロアルキル基としては、例えば、
シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘキセニル、シクロヘプチル、シクロ
オクチル、シクロデシル基などを挙げることがで
きる。シクロペンチル、シクロヘキシル基が好ま
しい。 C1〜C6アルコキシ基、置換されていてもよい
フエニル基、置換されていてもよいフエノキシ
基、もしくは置換されていてもよいC3〜C10シク
ロアルキル基で置換されている直鎖もしくは分岐
鎖C1〜C5アルキル基において、C1〜C6アルコキ
シ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロ
ピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、ｔ
−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などが挙げられ
る。置換されていてもよいフエニル基、置換され
ていてもよいフエノキシ基、もしくは置換されて
いてもよいC3〜C10シクロアルキル基の置換基お
よびC3〜C10シクロアルキル基としては前述の例
示と同じものを挙げることができる。直鎖もしく
は分岐鎖C1〜C5アルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル基などを挙げることができる。かかるR8
としてはブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、２−ヘキシル、２−メチル−２−ヘキシル、
２−メチルブチル、２−メチルペンチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、フエニル、フエノキ
シ、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチ
ル基などを好ましいものとして挙げることができ
る。なお、置換基はその任意の位置に結合してい
てもよい。 また、上記式〔〕においてR9は水素原子を
表わす。尚、R9の他の参考例として置換基が挙
げられるが、かかる置換基としては上述のR8の
置換フエニル基に関して列挙したものと同様の置
換基が挙げられ、その置換位置はオルト位、メタ
位、パラ位のいずれも挙げられる。なかでもトリ
フルオロメチル基、塩素原子が好ましい。R9と
しては水素原子、ｐ−クロロ基、ｍ−トリフルオ
ロメチル基が好ましく、特にｍ−トリフルオロメ
チル基が好適に挙げられる。 また、上記式〔〕においてｎは０または１を
表わし、ｎが０が特に好ましい。 また、上記式〔〕で表わされる化合物におい
てシクロペンタン環上および側鎖状に、結合して
いる置換基の結合している炭素は不斉な環境のた
めに立体異性体が存在するが本発明ではいずれの
立体異性をも含むものであり、またこれらの任意
の割合の立体異性混合物でもさしつかえない。ま
た、式で代表される化合物とはこれらの立体異性
体すべて、およびそれらの異性体の任意の割合の
混合物をあらわすが、式であらわされた立体構造
を有する化合物が最も好ましいものとしてあげら
れる。 本発明により提供される上記式〔〕で代表さ
れる５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−（ベ
ンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグランジ
ンF2〓類の好ましい具体例を下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8
およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ
−９−（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグラ
ンジンF2〓類についてR4，R5，R6が水素原子の誘
導体の形で列挙すると以下のようになる。尚、
（02），（05）〜（14）は参考例である。 (01) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）
PGF2〓 (02) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
15−メチルPGF2〓 (03) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
16，16−ジメチルPGF2〓 (04) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17，20−ジメチルPGF2〓 (05) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
18，19，20−トリノル−17−エトキシPGF2〓 (06) ５，６，17，18−テトラデヒドロ−９−デ
オキシ−９−（ヒドロキシジメチルフエニルシ
リルメチル）PGF2〓 (07) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17−メチル−19，20−ジノル−18−（１−プロ
ピニル）PGF2〓 (08) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17−メチル−20−イソプロピリデンPGF2〓 (09) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17，18，19，20−テトラノル−16−フエノキシ
PGF2〓 (10) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17，18，19，20−テトラノル−16−ｍ−クロロ
フエノキシPGF2〓 (11) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
16，17，18，19，20−ペンタノル−15−シクロ
ヘキシルPGF2〓 (12) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
16，17，18，19，20−ペンタノル−15−シクロ
ペンチルPGF2〓 (13) ５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシジメチルフエニルシリルメチル）−
17，18，19，20−テトラノル−16−シクロヘキ
シルPGF2〓 (14) ５，６−デヒドロ−９，15−ビスデオキシ
−16−ヒドロキシ−９−（ヒドロキシジメチル
フエニルシリルメチル）−16−メチルPGF2〓 (15) ５，６−デヒドロ−９，15−ビスデオキシ
−16−ヒドロキシ−９−（ヒドロキシジメチル
フエニルシリルメチル）PGF2〓 (16) （01）〜（15）のヒドロキシジメチルフエ
ニルシリルメチル基がヒドロキシトリメチルシ
リルメチル基で置換された化合物 (17) （01）〜（15）のヒドロキシジメチルフエ
ニルシリルメチル基がヒドロキシジメチル−ｔ
−ブチルシリルメチル基で置換された化合物 (18) （01）〜（15）のヒドロキシジメチルフエ
ニルシリルメチル基がヒドロキシジ−ｔ−ブチ
ルフエニルシリルメチル基で置換された化合物 (19) （01）〜（15）のヒドロキシジメチルフエ
ニルシリルメチル基がヒドロキシジフエニルメ
チルシリルメチル基で置換された化合物 ここでR4，R5，R6の定義を加味した化合物例
を挙げると以下のようになる。尚（21），（23），
（24），（27）は参考例である。 (20) （01）〜（19）の11，15（または16）−ビス
−ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル (21) （01）〜（19）の11，15（または16）−ビス
テトラヒドロピラニルエーテル (22) （01）〜（19）の11，15（または16）−ビス
−ｔ−ブチルジフエニルシリルエーテル (23) （01）〜（19）の11−ｔ−ブチルジメチル
シリル−15（または16）−テトラヒドロピラニル
エーテル (24) （01）〜（19）の11−テトラヒドロピラニ
ル−15（または16）−ｔ−ブチルジメチルシリル
エーテル (25) （01）〜（24）のメチルエステル (26) （01）〜（24）のエチルエステル (27) （01）〜（24）のアリルエステル (28) （01）〜（24）のｔ−ブチルエステル (29) （01）〜（24）のヘキシルエステル 上記式〔〕で代表される化合物の具体例は、
かかる上記式〔〕で代表される化合物のベンゾ
イル化体として列挙され例えば、（30）が挙げら
れる。尚（31），（32）は参考例である。 (30) （01）〜（29）に9α−ベンゾイル誘導体 (31) （01）〜（29）の9α−（ｍ−トリフルオロ
メチルベンゾイル）誘導体 (32) （01）〜（29）の9α−（ｐ−クロロベンゾ
イル）誘導体 上記式〔〕で代表される本発明の５，６−デ
ヒドロ−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシ
シリルメチル）プロスタグランジンF2〓類は容易
に入手可能な５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−ホルミルプロスタグランジンF2〓類（式
〔〕）を出発原料として次の工程を経て製造さ
れ、イソカルバサイクリン類に誘導可能なシリル
化カルバサイクリン類に導びかれる。 【化】 すなわち、本発明の製造法は、第一段階とし
て、下記式〔〕 【化】 ［式中、R4，R5，R6，R7，R8、およびｎは前
記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−ホルミルプロスタグランジンF2〓類に下記式
〔〕 （R1R2R3Si）q(L)2-qCuLi ……〔〕 ［式中、R1，R2、およびR3は前記定義に同じ
であり、Ｌはシアノ基、フエニルチオ基、１−
ペンチニル基またはヨウ素原子を表わし、ｑは
１または２を表わす。］ で表わされるシリル銅リチウム化合物反応（シリ
ル付加反応）せしめて下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグラン
ジンF2〓類を得、第二段階として、上記式〔〕
で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグラン
ジンF2〓類を塩基性物質の存在下に下記式〔〕 【化】 〔式中、R9は前記定義に同じである。〕 で表わされる安息香酸類の酸ハロゲン化物または
酸無水物と反応（ベンゾイル化反応）せしめて下
記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタ
グランジンF2〓類を得る製造法である。 さらに、本発明では第三段階としてこうして製
造された上記式〔〕で代表される５，６−デヒ
ドロ−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシ
リルメチル）プロスタグランジンF2〓類を溶媒の
存在下に光照射（光環化反応）することにより、
イソカルバサイクリン類に誘導可能な、下記式
〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じであり、〜は二重結
合の立体がＥ，Ｚ、またはＥとＺの任意の割合
の混合物であることを表わす。］ で代表されるシリル化カルバサイクリン類が製造
される。以下、各工程について詳細に説明する。 (1) シリル付加反応； 本発明における第一段階で原料として用いられ
る上記式〔〕で代表される５，６−デヒドロ−
９−デオキシ−９−ホルミルプロスタグランジン
F2〓類は上述した池上らの方法（池上ら、ケミス
トリー・レターズ（Chemistry Letters）、1069
（1984））の方法に準拠し、５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−メチレンプロスタグランジン
E2類を出発原料として、ハイドロボレーシヨン
一酸化反応および酸化反応を組み合わせることに
より容易に製造される。該５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−メチレンプロスタグランジン
E2類の一は既知化合物であり、ジ−、エル、バ
ンデイ−（Ｇ，Ｌ，Bundy）らの方法
〔USP4144253，同4098805，同4118584（特開昭53
−135957号）、同4130720，同4166187各号明細書
参照〕により合成される。すなわち５，６−デヒ
ドロプロスタグランジンE2類の９位のカルボニ
ル基のメチレン化によつて５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−メチレンプロスタグランジン
E2類を製造することが出来る。 上記式〔〕においてR4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じであり、前記式〔〕
で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタ
グランジンF2〓類で例示した基が同様に好ましく
挙げられ、上記式〔〕で代表される５，６−デ
ヒドロ−９−デオキシ−９−ホルミルプロスタグ
ランジンF2〓類の具体例も前述の式〔〕で代表
される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグラ
ンジンF2〓類で例示した化合物に対応する誘導体
が好適に挙げられる。 本発明方法のシリル付加反応は式〔〕で代表
される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−ホ
ルミルプロスタグランジンF2〓類を有機媒体中で
前記式〔〕で表わされるシリル銅リチウム化合
物と反応せしめることにより達成される。前記式
〔〕においてR1，R2、およびR3は同一もしくは
異なり、C1〜C7の炭化水素基を表わし、例えば
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔ−ブチ
ル、フエニル、ベンジル、トリル基が挙げられ、
特にメチル、ｔ−ブチル、フエニル基が好まし
い。例えば上記シリル銅リチウム化合物の具体例
として最も好ましいものはビス（ジメチルフエニ
ル）銅リチウムを挙げることが出来る。これらの
上記シリル銅リチウム化合物の使用量は式〔〕
の５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−ホルミ
ルプロスタグランジンF2〓類１モルに対して0.8〜
５モル倍、好ましくは0.9〜３モル倍である。反
応を円滑に進行させるための有機媒体としては上
記シリル銅リチウム化合物に対して不活性の媒
体、例えばエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、ペンタン、ヘキ
サン等の炭化水素類またはこれらの任意の混合物
が用いられ、好ましくはテトラヒドロフランが用
いられる。反応温度は−100℃〜０℃、好ましく
は−78℃〜−40℃で実施され、反応時間は通常
は、約５分〜30分程度で十分である。反応後、反
応液は常法によつて処理される。すなわち反応液
は飽和塩化アンモニウム水、または飽和硫酸アン
モニウム水と混合した後、例えばヘキサン、ペン
タン、石油エーテル、エチルエーテル、酢酸エチ
ルなどの水に難溶の有機溶媒を用いて抽出し、得
られた有機混合物を必要に応じて食塩水などで洗
浄し、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウ
ム、無水塩化カルシウムなどの乾燥剤にて乾燥
後、有機媒体を減圧除去して粗生成物が得られ
る。粗生成物は、所望により、カラムクロマトグ
ラフイー、薄層クロマトグラフイー、液体クロマ
トグラフイーなどの精製手段により、精製するこ
とが出来る。かくして下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3.R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグラン
ジンF2〓類が製造される。 (2) ベンゾイル化反応； 第２段階のベンゾイル化反応は第１段階で得ら
れた式〔〕で代表される５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−（ヒドロキシシリルメチル）プ
ロスタグランジンF2〓類を塩基性物質の存在下に
前記式〔〕で表わされる安息香酸類の酸ハロゲ
ン化物または酸無水物と反応せしめることにより
達成される。 前記式〔〕中、R9は水素原子もしくは置換
基を表わし、かかる置換基としては上述のR8の
置換フエニル基に関して列挙したものと同様の置
換基が好ましく挙げられ、例えば、フツ素原子、
塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、メトキ
シ基、エトキシ基、メチル基、エチル基、ｔ−ブ
チル基、トリフルオロメチル基などが挙げれる
が、塩素原子、トリフルオロメチル基が特に好ま
しい。かかる置換基の置換位置はオルト位、メタ
位、バラ位のいずれも挙げられるが、組み合わせ
において最も好ましいのはｐ−クロロ基、ｍ−ト
リフルオロメチル基である。前記式〔〕で表わ
される安息香酸類は酸ハロゲン化物または酸無水
物として反応に供せられる。酸ハロゲン化物とし
ては酸塩化物または酸臭化物を好適に挙げること
ができる。 これらの酸ハロゲン化物または酸無水物の使用
量は式〔〕で代表される５，６−デヒドロ−９
−デオキシ−９−（ヒドロキシシリルメチル）プ
ロスタグランジンF2〓類１モルに対して0.8〜10モ
ル倍、好ましくは0.9〜５モル倍、特に好ましく
は1.0〜３モル倍である。反応は塩基性物質の存
在下に実施される。かかる塩基性物質としては、
ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、イ
ミダゾールなどの芳香族塩基類、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミンなどの脂肪族塩基類、炭酸
水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
などの無機塩基類などを挙げることができる。か
かる塩基性物質の使用量は用いる酸ハロゲン化物
または酸無水物１モルに対して0.8〜10モル倍、
好ましくは0.9〜５モル倍、特に好ましくは1.0〜
３モル倍である。反応を円滑に進行させるために
は有機媒体中で反応を実施するのが好ましい。か
かる有機媒体としては、通常かかるエステル化反
応に用いられる不活性有機媒体、例えば、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタンなどのエーテル類、ペンタン、ヘ
キサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トル
エンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどの
ハロゲン化炭化水素類またはアセトニトリルある
いはこれらの任意の混合物が用いられ、好ましく
はテトラヒドロフラン、塩化メチレン、アセトニ
トリルなどが挙げられる。反応温度は−100℃〜
100℃、好ましくは−78℃〜50℃、さらに好まし
くは０℃〜30℃で実施され、反応時間は反応温度
により異なるが、例えば20℃では１時間〜１日間
程度で十分である。反応後、反応液は常法によつ
て後処理される。すなわち、反応液は飽和塩化ア
ンモニウム水溶液などを加えて反応を終結させた
後、ヘキサン、ペンタン、エチルエーテル、酢酸
エチルなどの通常使用される水に難溶な有機溶媒
を用いて抽出し、得られた有機混合物を必要に応
じて硫酸水素カリウム水溶液、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水
硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
に有機媒体を減圧留去することにより粗生成物が
得られる。粗生成物は、所望によりカラムクロマ
トグラフイー、薄層クロマトグラフイー、液体ク
ロマトグラフイーなどの精製手段により製取する
ことができる。かくして下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で代表される５，６−デヒドロ−９−デオキシ−
９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタ
グランジンF2〓類が製造される。 (3) 光環化反応； 第３段階の光環化反応は第２段階で得られた式
〔〕で代表される５，６−デヒドロ−９−デオ
キシ−９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）プ
ロスタグランジンF2〓類をＮ−メチルカルバゾー
ル共存下に溶媒中で光照射することにより前記式
〔〕で代表されるシリル化カルバサイクリン類
を製造することができる。 かかる光環化反応は松浦らによつて報告された
方法（ジヤーナル オブ ザ アメリカン ケミ
カル ソサエテイ（J.Amer.Chem.Soc.），108，
3115（1986））に準拠して実施される。使用される
Ｎ−メチルカルバゾールは式〔〕で代表される
５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−（ベンゾ
イルオキシシリルメチル）プロスタグランジン
F2〓類１モルに対して0.1〜10モル倍、好ましくは
0.5〜５モル倍、特に好ましくは0.8〜３モル倍量
用いて実施される。Ｎ−メチルカルバゾールの代
わりに１，２，４，５−テトラメトキシベンゼ
ン、１，５−ジメトキシナフタレン、１−（ジメ
チルアミノ）ナフタレンを用いることもできる。
用いられる溶媒としてはテトラヒドロフランまた
はイソプロパノール、プロパノールなどのアルコ
ール類を水の共存下に使用される。水の含量は10
％前後用いて実施される。光照射は、通常の方法
により、例えば100W高圧水銀ランプを光源とし
て用い、パイレツクスフイルターなどを使用して
実施される。かかる光環化反応は過塩素酸マグネ
シウムの存在下に実施すると加速効果が認められ
る。使用される過塩素酸マグネシウムは式〔〕
で代表される化合物と等量使用するのが好まし
い。反応後の後処理は第二段階のベンゾイル化反
応の後処理と同様の態様により好適に実施され、
下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じであり、〜は二重結
合の立体がＥ，Ｚ、またはＥとＺの任意の割合
の混合物であることを表わす。］ で代表されるシリル化カルバサイクリン類が製造
される。 かくして得られる式〔〕で代表されるシリル
化カルバサイクリン類の具体例としては、本発明
方法の出発原料として式〔〕で代表される５，
６−デヒドロ−９−デオキシ−９−（ベンゾイル
オキシシリルメチル）プロスタグランジンF2〓類
で具体的に例示した化合物に対応する生成物をそ
のまま例示することができる。 かくして本発明方法により、新規鍵中間体であ
る式〔〕で代表される５，６−デヒドロ−９−
デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリルメチル）
プロスタグランジンF2〓類を経由して工業的に有
利に製造される式〔〕で代表されるシリ化カル
バサイクリン類は、本発明者らが別途提案した方
法（野依ら、日本化学会、第53秋季年会講演要旨
集p499（1986））により脱シリル的異性化、脱保
護反応を経て医薬品として有用なイソカルバサイ
クリン類に誘導することが可能である。しかし
て、本発明及び前記の参考例等も合せて再掲する
と以下の通りである。 １ 下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2、およびR3は同一もしくは異
なりC1〜C7の炭化水素基を表わし、R4はC1〜
C6のアルキル基またはC3〜C6のアルケニル基
を表わし、R5，R6は同一もしくは異なり、ト
リ（C1〜C7）炭化水素シリル基または水酸基
の酸素原子とともにアセタール結合を形成する
基を表わし、R7は水素原子、メチル基、また
はビニル基を表わし、R8は酸素原子で中断さ
れていてもよい直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9
のアルキル基、アルケニル基もしくはアルキニ
ル基；置換または非置換のフエニル基、フエノ
キシ基、もしくはC3〜C10のシクロアルキル
基；またはC1〜C6アルコキシ基、置換されて
いてもよいフエニル基、置換されていてもよい
フエノキシ基もしくは置換されていてもよい
C3〜C10のシクロアルキル基で置換されている
直鎖もしくは分岐鎖C1〜C5アルキル基を表わ
し、R9は水素原子もしくは置換基を表わし、
ｎは０または１を表わす。〕 で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリル
メチル）プロスタグランジンF2〓類。 ２ R1，R2，R3の組み合わせがジメチルフエニ
ルである第１項記載の化合物。 ３ R4がC1〜C4のアルキル基である第１項記載
の化合物。 ４ R7が水素原子またはメチル基である第１項
記載の化合物。 ５ R8が直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9のアルキ
ル基またはC3〜C10のシクロアルキル基である
第１項記載の化合物。 ６ R8がｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、２−ヘキシル基、２−メチルヘキ
シル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキ
シル基である第１項記載の化合物。 ７ R9が水素原子、ｐ−クロロ基、またはｍ−
トリフルオロメチル基である第１項記載の化合
物。 ８ R9がｍ−トリフルオロメチル基である第１
項記載の化合物。 ９ ｎが０である第１項記載の化合物。 10 式〔〕で表わされる立体構造である第１項
記載の化合物。 11 下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ヒドロキシシリルメチル）
プロスタグランジンF2〓類を塩基性物質の存在下
に下記式〔〕 【化】 ［式中、R9は前記定義に同じである。］ で表わされる安息香酸類の酸ハロゲン化物または
酸無水物と反応せしめる下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリル
メチル）プロスタグランジンF2〓類の製造法。 12 当該５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−
（ヒドロキシシリルメチル）プロスタグランジ
ンF2〓類が下記式〔〕 【化】 ［式中、R4，R5，R6，R7，R8、およびｎは前
記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−ホルミルプロスタグランジ
ンF2〓類に下記式〔〕 （R1R2R3Si）q(L)2-qCuLi ……〔〕 ［式中、R1，R2、およびR3は前記定義に同じ
であり、Ｌはシアノ基、フエニルチオ基、１−
ペンチニル基またはヨウ素原子を表わし、ｑは
１または２を表わす。］ で表わされるシリル銅リチウム化合物を反応せし
めて得られたものである特許請求の範囲第11項記
載の５，６−デヒドロ−９−デオキシ−９−（ベ
ンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグランジ
ンF2〓類の製造法。 13 下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリル
メチル）プロスタグランジンF2〓類を溶媒の存在
下に光照射することを特徴とする下記式〔〕 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じであり、〜は二重結
合の立体がＥ，Ｚ、またはＥとＺの任意の割合
の混合物であることを表わす。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物であるシリル化カルバサ
イクリン類の製造法。 14 当該溶媒が含水テトラヒドロフランである第
13項記載の製造法。 15 当該溶媒が含水イソプロパノールである第13
項記載の製造法。 16 Ｎ−メチルカルバゾール共存下に光照射する
上記第13項〜第15項のいずれか１項記載の製造
法。 17 過塩素酸マグネシウム共存下に光照射する上
記第13項〜第16項のいずれか１項記載の製造
法。 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。なお実施例中Ｚの記号はSi（CH3）2−ｔ−
C4H9すなわちｔ−ブチルジメチルシリル基を表
わす。 実施例 １ 【化】 アルデヒド１〜（159.0mg，0.262mmol）のテト
ラヒドロフラン（15.0ml）溶液にビス（ジメチル
フエニルシリル）銅リチウムのテトラヒドロフラ
ン溶液（0.27M，1.20ml，0314mmol）を−78℃
で加え、30分間撹拌した。反応溶液に飽和塩化ア
ンモニウム水溶液（10ml）を加えて反応を終了さ
せ、得られた混合物をエーテル抽出（10ml×３）
した。エーテル層を飽和食塩水（25ml）で洗浄、
分離されたエーテル層を無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後に減圧濃縮して粗生成物を得た。これをカ
ラムクロマトグラフイー（シリカゲル６ｇ、使用
溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝15：１）に供して
目的物のシリルアルコール２〜（165.0mg，
0.222mmol，84.7％）を無色の油状物質（ジアス
テレオ混合物）として得た。 TLC（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）；
Rf0.31， IR（CHCl3）； 3400，1740，1250，830cm-1， 1H−NMR（CDCl3，270MHz）δ； −0.02，0.01，0.03（ｓ 各々、12，OSi
（CH3）2×２）0.36，0.37（ｓ 各々、６，
SiCH3×２），0.85，0.87（ｓ 各々、21，
OSiC（CH3）3×２，（CH3），1.1−1.7（ｍ，
10，CH2×５），1.73（tt，２，Ｊ＝7.3，7.3
Hz，CH2CH2C(O)），1.93（dt，１，Ｊ＝
7.1，7.3Hz，CH），2.0−2.3（ｍ，６，CH2
×２，CH×２），2.38（ｔ，２，Ｊ＝7.4
Hz，CH2C(O)），3.66（ｓ，３，OCH3），3.9
−4.1（ｍ，３，CHO×３），5.29（dd，１，
Ｊ＝8.4，15.7Hz，ビニル），5.40（dd，１，
Ｊ＝5.4，15.3Hz，ビニル），7.3−7.6（ｍ，
５，フエニル）， 13C−NMR（CDCl3，22.5MHz）δ； 13.9，18.1，18.3，18.4，22.6，24.5， 25.0，26.0，32.0，33.1，37.5，38.8， 42.0，48.7，51.2，57.4，64.6，73.2， 79.4，79.5，80.7，127.9，129.1， 131.2，134，１，135.2，138.1， 173.4， MS（ｍ／ｅ）；743（Ｍ＋１），135. 実施例 ２ 【化】 実施例１で得られたシリルアルコール２〜（62.3
mg，0.084mmol）のアセトニトリル（3.0ml）溶
液に18℃にて４−ジメチルアミノピリジン（25.0
mg，0.21mmol）とｍ−トリフルオロメチル安息
香酸クロライド（0.03ml，0.18mmol）を加え、
得られた反応混合物を18℃で15時間撹拌した。反
応後、飽和塩化アンモニウム水溶液（３ml）に注
ぎ込み、得られた混合物をエーテル抽出（３ml×
３）した。集めたエーテル層を無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥後に減圧濃縮し、残つた粗生成物をカ
ラムクロマトグラフイー（シリカゲル５ｇ、使用
溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝20：１）に供して
目的物のシリルベンゾエート３〜（69.3mg，
0.076mmol，90.1％）を無色の油状物質（ジアス
テレオ混合物）として得た。 TLC（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）；
Rf0.33， IR（CHCl3）； 1710，1610，1320，1250， 1150，830cm-1， 1H−NMR（CDCl3，270MHz）δ； −0.04，−0.03，0.00，（ｓ 各々，12，
OSiCH3×４），0.40， 0.41（ｓ 各々，６，SiCH3×２），0.85， 0.86（ｓ 各々，21，OSiC（CH3）2×２，
CH3）， 1.1−1.6（ｍ，10，CH2×５）， 1.74（tt，２，Ｊ＝7.3，7.3Hz，CH2CHC
(O)）， 1.8−2.3（ｍ，７，CH2×２，CH×３）， 2.40（ｔ，２，Ｊ＝7.6Hz，CH2C(O)）， 2.4−2.5（ｍ，１，アリル CH）， 3.69（ｓ，３，OCH3）， 3.76（dd，１，Ｊ＝7.3，15.5Hz，CHO）， 3.9−4.0（ｍ，１，アリル CHO）， 5.20（ｓ，１，ビニル）， 5.22（ｄ，１，Ｊ＝2.0Hz），ビニル）， 5.65（ｄ，１，Ｊ＝2.3Hz，CH（Si）Ｏ）， 7.3−8.4（ｍ，９，フエニル）， 13C−NMR（CDCl3，22.5MHz）δ； −4.6，−4.4，−4.1，−3.9，−3.7，13.9 18.1，18.3，18.5，18.6，22.6，24.5， 25.0，26.0，32.0，33.1，36.9，38.7， 39.5，46.2，51.2，55.7，70.7，73.1， 78.2，79.8，80.0，126.6（ｑ，JC-F＝4.1Hz，
CF3），127.9，128.3，129.0， 129.5，129.9，130.6，132.0 132.76，134.2，135.8，136.24， 164.9，173.47， MS（ｍ／ｅ）； 実施例 ３ 【化】 実施例２で得られたシリルベンゾエート３〜
（14.0mg，15.3μmol）と過塩素酸マグネシウム
（3.4mg，15.3μmol），Ｎ−メチルカルバゾール
（3.0mg，16.6μmol）の含水テトラヒドロフラン
（テトラヒドロフラン：水＝10：１，８ml）溶液
を10mlの試験管に入れ、500Wの高圧水銀ランプ
を用いて18℃で16時間光照射した。反応溶液を飽
和炭酸ナトリウム水溶液（５ml）に注ぎ込み、反
応混合物をエーテル（３ml×３）で抽出した。集
められたエーテル層を減圧濃縮し、残渣をカラム
クロマトグラフイー（シリカゲル1.5ｇ、使用溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝100：１）に供して
目的物のシリル化カルバサイクリン４〜（8.3mg，
11.4μmol1，74.7％）を無色の油状物質（Ｅ，Ｚ
体の混合物）として得た。 TLC（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）；
Rf0.46， IR（CHCl3）； 1740，1360，1250，1100， 830cm-1， 1H−NMR（CDCl3，500MHz）δ； 0.00，0.02，0.03，（ｓ，各々，12，
OSICH3×４），0.24，0.25，0.26，0.28，
（ｓ，各々，６，SiCH3×２）， 0.7−1.0（ｍ，21，OSiC（CH3）3×２，
CH3）， 1.0−1.7（ｍ，12，CH2×６）， 1.7−2.0（ｍ，５，CH3×３，CH2）， 2.0−2.3（ｍ，５，アリル CH2×２，アリ
ルCH）， 3.5−3.7（ｍ，１，CHO），3.66， 3.67（ｓ 各々３，OCH3）， 4.02（br，１，CHO），4.92， 5.09（br 各々，１，ビニル）， 5.3−5.5（ｍ，２，ビニル）， 7.3−7.5（ｍ，５，フエニル）， 13C−NMR（CDCl3，22.5MHz）δ； −4.6，−4.5，−4.4，−4.1，−3.9，−3.4， 14.1，18.1，18.3，22.6，25.1，25.4， 26.0，29.2，31.8，33.6，33.9，38.7， 39.4，39.7，43.5，43.7，44.5，45.0， 46.0，51.4，56.1，73.3，78.2， 119.2，119.7，127.7，128.9， 129.0，130.9，133.8，134.0， 134.3，134.4，138.3，138.4， 143.1，144.3，174.1， MS（ｍ／ｅ）；726（M+）， 高分解能MS；C42H74O4Si3（M+）に対する計
算値： 726，4895， 測定値：726，4906。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記式［］ 【化】 ［式中、R1，R2、およびR3は同一もしくは異
なりC1〜C7のアルキル基またはアリール基を
表わし、R4はC1〜C6のアルキル基を表わし、
R5，R6は同一もしくは異なり、トリ（C1〜C7）
炭化水素シリル基を表わし、R7は水素原子を
表わし、R8は直鎖もしくは分岐鎖のC3〜C9の
アルキル基を表わし、R9は水素原子を表わし、
ｎは０または１を表わす。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリル
メチル）プロスタグランジンF2〓類。 ２ 下記式［］ 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8、
およびｎは前記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ヒドロキシシリルメチル）
プロスタグランジンF2〓類を塩基性物質の存在下
に下記式［］ 【化】 ［式中、R9は前記定義に同じである。］ で表わされる安息香酸類の酸ハロゲン化物または
酸無水物と反応せしめる下記式［］ 【化】 ［式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，
R9、およびｎは前記定義に同じである。］ で表わされる化合物、その鏡像体、あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である５，６−デヒドロ
−９−デオキシ−９−（ベンゾイルオキシシリル
メチル）プロスタグランジンF2〓類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62143326A JPS63310863A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | ９―（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグランジンＦ２α類およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62143326A JPS63310863A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | ９―（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグランジンＦ２α類およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63310863A JPS63310863A (ja) | 1988-12-19 |
| JPH0575755B2 true JPH0575755B2 (ja) | 1993-10-21 |
Family
ID=15336185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62143326A Granted JPS63310863A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | ９―（ベンゾイルオキシシリルメチル）プロスタグランジンＦ２α類およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63310863A (ja) |
-
1987
- 1987-06-10 JP JP62143326A patent/JPS63310863A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63310863A (ja) | 1988-12-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |