JPH08771Y2 - 窒素レーザ用放電電極装置 - Google Patents
窒素レーザ用放電電極装置Info
- Publication number
- JPH08771Y2 JPH08771Y2 JP1990047234U JP4723490U JPH08771Y2 JP H08771 Y2 JPH08771 Y2 JP H08771Y2 JP 1990047234 U JP1990047234 U JP 1990047234U JP 4723490 U JP4723490 U JP 4723490U JP H08771 Y2 JPH08771 Y2 JP H08771Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- electrode
- electrodes
- discharge electrode
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 41
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 title claims description 20
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 9
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- -1 nitrogen ions Chemical class 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、窒素レーザ用放電電極装置に関する。
窒素レーザは、窒素(N2)ガスを収容した容器内に
対向配置された2個の放電電極の電極間に高電圧のパル
スを印加し、その放電電極でパルス放電を行わせ、これ
によって放電電極間で放電が行われることによって得ら
れるレーザである。
対向配置された2個の放電電極の電極間に高電圧のパル
スを印加し、その放電電極でパルス放電を行わせ、これ
によって放電電極間で放電が行われることによって得ら
れるレーザである。
第4図及び第5図は、従来の放電電極装置の構造及び
等価回路の一例を示し、これらの図において、C1,C2は
一方の電極を互いに共用するように互いに並列接続され
たコンデンサで、例えば誘電体としてのセラミック1の
下面に銀又は銅などの薄い金属板を蒸着あるいは接着な
どの手段で止着して、共用側の一方の電極としての下部
電極2を形成する一方、セラミック1の上面に銀又は銅
などの薄い金属板を蒸着あるいは接着などの手段で止着
して、前記下部電極2に対向する他方の電極としての上
部電極3、4を形成し、コンデンサC1を上部電極3と
下部電極2とにより、また、コンデンサC2を上部電極
4と下部電極2とにより夫々構成してある。
等価回路の一例を示し、これらの図において、C1,C2は
一方の電極を互いに共用するように互いに並列接続され
たコンデンサで、例えば誘電体としてのセラミック1の
下面に銀又は銅などの薄い金属板を蒸着あるいは接着な
どの手段で止着して、共用側の一方の電極としての下部
電極2を形成する一方、セラミック1の上面に銀又は銅
などの薄い金属板を蒸着あるいは接着などの手段で止着
して、前記下部電極2に対向する他方の電極としての上
部電極3、4を形成し、コンデンサC1を上部電極3と
下部電極2とにより、また、コンデンサC2を上部電極
4と下部電極2とにより夫々構成してある。
5、6は上部電極3、4の上面に所定の間隔を置いて
夫々取り付けられている放電電極である。これら放電電
極5、6は例えば真鍮よりなり、その間隔を調整できる
ようにネジ止めされている。
夫々取り付けられている放電電極である。これら放電電
極5、6は例えば真鍮よりなり、その間隔を調整できる
ようにネジ止めされている。
なお、第5図において、SはコンデンサC1の上部電
極3と下部電極2との間を短絡するように設けられた常
開スイッチである。
極3と下部電極2との間を短絡するように設けられた常
開スイッチである。
而して、上記構成の放電電極装置において、所定の放
電を発生させるには、まず、図外の電源によりコンデン
サC1、C2を所定の電圧に充電する。次いで、スイッチ
Sを瞬時に閉じると、コンデンサC1の極性が逆転し、
これによって放電電極5、6間に高電圧が印加されるた
め、両電極5、6間において主放電が生ずるのである。
電を発生させるには、まず、図外の電源によりコンデン
サC1、C2を所定の電圧に充電する。次いで、スイッチ
Sを瞬時に閉じると、コンデンサC1の極性が逆転し、
これによって放電電極5、6間に高電圧が印加されるた
め、両電極5、6間において主放電が生ずるのである。
この場合、前記主放電によって窒素分子が励起されて
電離し、窒素イオンが発生する。そして、この窒素イオ
ンは再結合や拡散によって発生してから約10ms後に消滅
する。
電離し、窒素イオンが発生する。そして、この窒素イオ
ンは再結合や拡散によって発生してから約10ms後に消滅
する。
しかしながら、上記構成による放電電極装置では、繰
り返し周波数が100Hz以下で動作させる場合には、発生
した窒素イオンが次の放電開始時までにほとんど消滅し
てしまうため問題とならないが、繰り返し周波数が100H
z以上になると、前記主放電によって発生する窒素イオ
ンが放電電極5、6表面及びその周辺に残留したままの
状態で次の放電が開始されてしまうため、低いブレイク
ダウン電圧で放電してしまい、窒素分子に十分なエネル
ギーを与えることができず、放電は行われているがレー
ザ発振が起こらないという事態が発生したり、あるい
は、放電は1kHzで行われているにも係わらず、レーザ発
振自体は、100Hz以下の繰り返し動作になる恐れがあ
る。
り返し周波数が100Hz以下で動作させる場合には、発生
した窒素イオンが次の放電開始時までにほとんど消滅し
てしまうため問題とならないが、繰り返し周波数が100H
z以上になると、前記主放電によって発生する窒素イオ
ンが放電電極5、6表面及びその周辺に残留したままの
状態で次の放電が開始されてしまうため、低いブレイク
ダウン電圧で放電してしまい、窒素分子に十分なエネル
ギーを与えることができず、放電は行われているがレー
ザ発振が起こらないという事態が発生したり、あるい
は、放電は1kHzで行われているにも係わらず、レーザ発
振自体は、100Hz以下の繰り返し動作になる恐れがあ
る。
本考案は、上述の事柄に留意してなされたもので、そ
の目的とするところは、高繰り返し動作が可能で、安定
に高出力が得られる窒素レーザ用の放電電極装置を提供
することにある。
の目的とするところは、高繰り返し動作が可能で、安定
に高出力が得られる窒素レーザ用の放電電極装置を提供
することにある。
上述の目的を達成するため、本考案は、一方の電極を
互いに共用した2つのコンデンサの前記一方の電極にそ
れぞれ対応する2つの他方の電極にそれぞれ放電電極を
設けた窒素レーザ用放電電極装置において、前記各放電
電極と他方の電極間に隙間を設けるとともに、各放電電
極に、前記隙間と連通する複数の貫通孔を放電電極間の
間隙と平行に設け、窒素ガスを前記放電電極に強制循環
させるようにしている。
互いに共用した2つのコンデンサの前記一方の電極にそ
れぞれ対応する2つの他方の電極にそれぞれ放電電極を
設けた窒素レーザ用放電電極装置において、前記各放電
電極と他方の電極間に隙間を設けるとともに、各放電電
極に、前記隙間と連通する複数の貫通孔を放電電極間の
間隙と平行に設け、窒素ガスを前記放電電極に強制循環
させるようにしている。
上記特徴構成によれば、放電電極と上部電極間にスペ
ーサ等によって隙間を設け、さらに、放電電極に複数の
貫通孔を設けているので、これらにファン等によって、
強制的に新鮮なN2を吹きつけることにより、放電電極
表面及びその周辺に存在する残留イオンは速やかに除去
され、放電電極周辺には、常に新鮮なN2が充たされる
ようになる。
ーサ等によって隙間を設け、さらに、放電電極に複数の
貫通孔を設けているので、これらにファン等によって、
強制的に新鮮なN2を吹きつけることにより、放電電極
表面及びその周辺に存在する残留イオンは速やかに除去
され、放電電極周辺には、常に新鮮なN2が充たされる
ようになる。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図〜第3図は本考案に係る窒素レーザ用放電電極
装置の一例を示し、7はアルミニウム又は鉄等の金属よ
りなる容器で、その側壁7a、7bにはそれぞれ開閉弁を設
けたN2の導入部8、導出部9が形成されている。
装置の一例を示し、7はアルミニウム又は鉄等の金属よ
りなる容器で、その側壁7a、7bにはそれぞれ開閉弁を設
けたN2の導入部8、導出部9が形成されている。
そして容器7の内部上方には、N2の強制循環用ファ
ン10及びダクト11が設けられている。
ン10及びダクト11が設けられている。
12は容器7の内部に設けられた窒素レーザ用放電電極
装置である。ここで、この放電電極装置12が従来の放電
電極装置と大きく異なる点は、上部電極3、4と放電電
極13、14との間に台座15、15をそれぞれ一対ずつ設けて
隙間g1(第3図参照)を形成したことと、放電電極1
3、14に複数の貫通孔16をそれぞれ設けたことである。
装置である。ここで、この放電電極装置12が従来の放電
電極装置と大きく異なる点は、上部電極3、4と放電電
極13、14との間に台座15、15をそれぞれ一対ずつ設けて
隙間g1(第3図参照)を形成したことと、放電電極1
3、14に複数の貫通孔16をそれぞれ設けたことである。
これらの台座15、15は例えば銅等の導電性の良好な材
料よりなり、例えばハンダ付け等の手段により上部電極
3、4及び放電電極13、14に止着されている。
料よりなり、例えばハンダ付け等の手段により上部電極
3、4及び放電電極13、14に止着されている。
なお、前記放電電極13,14に設けられる貫通孔16の形
状や個数は任意である。そして、第3図において、g2
は放電電極13,14間の隙間である。また、第2図、第3
図において、符号1、2、3、C1、C2は第4図で説明
したものと同じである。
状や個数は任意である。そして、第3図において、g2
は放電電極13,14間の隙間である。また、第2図、第3
図において、符号1、2、3、C1、C2は第4図で説明
したものと同じである。
容器7内にN2を充たした状態で、図外のスイッチを
操作して、ファン10を矢印A方向に回転させると、N2
はダクト11の吸入口11aから吸入され、矢印Bで示され
るように排出口11bを経て、前記放電電極装置12に導か
れ、貫通孔16および放電電極13,14間の隙間g2を抜け、
さらに上部電極3,4と放電電極13,14との間の隙間g1を
通って、容器1内の空間に開放される。
操作して、ファン10を矢印A方向に回転させると、N2
はダクト11の吸入口11aから吸入され、矢印Bで示され
るように排出口11bを経て、前記放電電極装置12に導か
れ、貫通孔16および放電電極13,14間の隙間g2を抜け、
さらに上部電極3,4と放電電極13,14との間の隙間g1を
通って、容器1内の空間に開放される。
従って、放電電極13、14間及びその周辺に残留するイ
オンに対しN2が強制的に吹き付けられ、さらに放電電
極13、14に設けられた複数の貫通孔16及び上部電極3、
4と放電電極13、14間に設けられた隙間g1を流れるN2
によってイオンは効率よく除去されるので、高繰り返し
動作でレーザ発振を得ることができ、しかも常に均一な
放電が得られるので、出力の安定性も高くなる。
オンに対しN2が強制的に吹き付けられ、さらに放電電
極13、14に設けられた複数の貫通孔16及び上部電極3、
4と放電電極13、14間に設けられた隙間g1を流れるN2
によってイオンは効率よく除去されるので、高繰り返し
動作でレーザ発振を得ることができ、しかも常に均一な
放電が得られるので、出力の安定性も高くなる。
以上説明したように、本考案においては、2つの放電
電極と他方の電極間に隙間を設けるとともに、各放電電
極に、前記隙間と連通する複数の貫通孔を放電電極間の
間隙と平行に設け、窒素ガスを前記放電電極に強制循環
させるようにしているので、放電電極間およびその周辺
は通気性がよくなり、常にその周辺に新鮮な窒素ガスが
充たされるようになるとともに放電が安定し、その結
果、レーザの高繰り返し動作が可能となり、非常に安定
なレーザ出力を得ることができる。
電極と他方の電極間に隙間を設けるとともに、各放電電
極に、前記隙間と連通する複数の貫通孔を放電電極間の
間隙と平行に設け、窒素ガスを前記放電電極に強制循環
させるようにしているので、放電電極間およびその周辺
は通気性がよくなり、常にその周辺に新鮮な窒素ガスが
充たされるようになるとともに放電が安定し、その結
果、レーザの高繰り返し動作が可能となり、非常に安定
なレーザ出力を得ることができる。
第1図〜第3図は本考案に係る窒素レーザ用放電電極装
置を示し、第1図は窒素レーザ装置の全体図、第2図は
窒素レーザ用放電電極装置を示す斜視図、第3図はその
縦断面図である。 第4図および第5図は従来の窒素レーザ用放電電極装置
を示し、第4図は縦断面図、第5図は等価回路を示す図
である。 2……一方の電極、3,4……他方の電極、12……窒素レ
ーザ用放電電極装置、13,14……放電電極、16……貫通
孔、C1,C2……コンデンサ、g1……放電電極と他方の
電極との間の間隙、g2……放電電極間の隙間。
置を示し、第1図は窒素レーザ装置の全体図、第2図は
窒素レーザ用放電電極装置を示す斜視図、第3図はその
縦断面図である。 第4図および第5図は従来の窒素レーザ用放電電極装置
を示し、第4図は縦断面図、第5図は等価回路を示す図
である。 2……一方の電極、3,4……他方の電極、12……窒素レ
ーザ用放電電極装置、13,14……放電電極、16……貫通
孔、C1,C2……コンデンサ、g1……放電電極と他方の
電極との間の間隙、g2……放電電極間の隙間。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−176178(JP,A) 特開 昭61−116889(JP,A) 特開 昭56−125883(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】一方の電極を互いに共用した2つのコンデ
ンサの前記一方の電極にそれぞれ対応する2つの他方の
電極にそれぞれ放電電極を設けた窒素レーザ用放電電極
装置において、前記各放電電極と他方の電極間に隙間を
設けるとともに、各放電電極に、前記隙間と連通する複
数の貫通孔を放電電極間の間隙と平行に設け、窒素ガス
を前記放電電極に強制循環させるようにしたことを特徴
とする窒素レーザ用放電電極装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990047234U JPH08771Y2 (ja) | 1990-05-02 | 1990-05-02 | 窒素レーザ用放電電極装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990047234U JPH08771Y2 (ja) | 1990-05-02 | 1990-05-02 | 窒素レーザ用放電電極装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH045667U JPH045667U (ja) | 1992-01-20 |
| JPH08771Y2 true JPH08771Y2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=31562989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990047234U Expired - Lifetime JPH08771Y2 (ja) | 1990-05-02 | 1990-05-02 | 窒素レーザ用放電電極装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08771Y2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56125883A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-02 | Agency Of Ind Science & Technol | Lateral-direction excitation type gas laser oscillator |
| JPS61116889A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-04 | Mitsubishi Electric Corp | 放電励起型短パルスレ−ザ装置 |
| JPS61176178A (ja) * | 1985-01-31 | 1986-08-07 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | ガス循環式放電型レ−ザ−チヤンバ− |
-
1990
- 1990-05-02 JP JP1990047234U patent/JPH08771Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH045667U (ja) | 1992-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6005349A (en) | Method for generating and maintaining a glow plasma discharge | |
| US6147452A (en) | AC glow plasma discharge device having an electrode covered with apertured dielectric | |
| KR880009539A (ko) | 이온 발생 장치 | |
| KR930021036A (ko) | 플라즈마 발생방법 및 그 장치 | |
| JPH08771Y2 (ja) | 窒素レーザ用放電電極装置 | |
| JPH01221847A (ja) | ガスフェーズイオン源における高圧導入部 | |
| JPH08131884A (ja) | コロナ放電を利用した空気流発生装置 | |
| KR940025403A (ko) | 저에너지 중성입자빔의 생성방법 및 장치 | |
| JP2001042099A (ja) | 高周波負イオン源 | |
| JP2657909B2 (ja) | 気体放電閉路スイッチ | |
| JPH079970U (ja) | アーク放電デバイスにおける低電圧作動 | |
| JPH05159851A (ja) | 高電流密度グロー放電スイッチ | |
| JPH0732851U (ja) | イオン源装置 | |
| JP3213135B2 (ja) | 高速原子線源 | |
| JPH0521245Y2 (ja) | ||
| JPS5916979A (ja) | プラズマエツチング装置 | |
| JPS6220227A (ja) | イオン源 | |
| JP2757963B2 (ja) | イオン源加速電極 | |
| JPH02129977A (ja) | ガスレーザ発振器 | |
| JPH01176688A (ja) | スパーク・スイッチ装置 | |
| JPH0188100U (ja) | ||
| JPS55110774A (en) | High vacuum ion plating apparatus | |
| JPS63229769A (ja) | 高繰返しパルスレ−ザ発振装置 | |
| JP2002197987A (ja) | 負イオン源 | |
| JP2002176213A (ja) | 交流放電ガスレーザ発振器 |