JPS6220227A - イオン源 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はイオン注入機やイオンビーム加工機に係り、特
に、処理対象物の形状、大きさが変る場合に好適なイオ
ン源に関する。

〔発明の背景〕

ワイ・アンド−他４名“ア　ニュー　マシンフォー　フ
ィルム　フォーメーション　バイ　イオン　アンド　ペ
ーパー　デポジション”ニュークリア　インストラメン
ト　アンド　メソズ　イン　フィジックス　リサーチ　
ビー６（１９８５）１１１−１１５Ｙ、ａｎｄｏｈ他４
名”ａ　Ｎｅｗ　Ｍａｃｈｉｎｅ　ｆ。

ｒ　Ｆｉｌｍ　Ｆｏｒ＋ｍａｔｉｏｎ　ｂｙ　Ｉｏｎ　
ａｎｄ　Ｖａｐｏ＋＋＋ｒＤｅｓｐｏｓｉｔｉｏｎ”　
Ｎｕｃｌｅａｒ　Ｔｎｓｔｒｕａ＋＊ｅｎｔ　ａｎｄ　
Ｍｅｔｈｏｄｓｉｎ　Ｐｈｓｉｃｇ　Ｒｅ５ｅａｒｃｈ
　Ｂ６（１９８５）　１１１−１１５に記載のイオン注
入による金属の表面改質や、薄膜作成装置は、イオン源
の電極の大きさいっばいのビームを試料に当っている。

しかし、装置が大形化し、イオン源が大きくなって来た
時に、処理対象が細長いものや、小形のものでは、処理
対象に当らないビームは、エネルギを損するばかりでな
く、不必要な所を加熱したり、それによる不純ガスの発
注など、試料形状の変化には論及されていなかった。

トカソード間のインピーダンスより高く、コンデンサに
は電流が流れない。従って、オンゲート電流の転流によ
り急峻な立上りのゲート電流を供給する効果は得られな
い。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、急峻な立上りのオンゲート電流をスイ
ッチング素子に供給する駆動回路を提供することにある
。

〔発明の概要〕

本発明の特徴は、スイッチング素子の制御端子にオンゲ
ート電流を転流させる機能をもつ並列口″：′−を設け
たことにある。すなわち、本発明では駆動回路に並列な
形で、転流機能をもつ回路をスイッチング素子の制御端
子にインダクタンスを無視できる程度の配線長で接続し
、ターンオン開始直後には配線インダクタンスの影響を
受けるオンゲート電流をこの並列回路に流すようにした
。

〔発明の実施例〕

本発明の一実施例を第１図により説明する。

第１図は、スイッチング素子１にＧ　Ｔ　Ｏを用いれば
、大形のイオン源でも、エネルギ損、不要部の加熱、ガ
スの発生なく、効率および処理性能の良い各種試料形状
に対応可能なイオンの注入及び加工ができる。

第３図は本発明のしゃへい板を複数の板７で構成し、各
々の板をピン８を軸に回転させることにより、しやへい
板の孔形状を連続的に変えられるようにしたものである
。

また、第４図は本発明の他の実施例である。第３図のよ
うなしやへい板９を１０のベローを通しイオン源外部か
ら、しやへい板の孔形状を変えられるようにしたもので
ある。

〔発明の効果〕

本発明によれば、試料形状に応じイオンビームの形状を
制御できるので、不要箇所の加熱、不低ガスの発生を妨
げるため、経済的で性能のよい処理が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のイオン源構造の断面図、第
２図は、第１図に用いられているしやへい板の平面図、
第３図は本発明のしゃへい板の平面図、第４図は本発明
のイオン源の断面図である。 １・・・プラズマ室、２，３．４・・・多孔電極、５・
・フィラメント、６・・・しやへい板。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、プラズマ室と、そのプラズマからイオンを引出すた
   めの多数の孔をあけた複数の電極を設けたイオン源にお
   いて、 前記電極の前記プラズマ室側に、引出しビームの形状を
   変えるため、必要ビーム形状の孔のあけた遮へい板を取
   付けたことを特徴とするイオン源。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記遮へい板が移
   動することにより前記孔の形状を変えられるように構成
   したことを特徴とするイオン源。 ３、特許請求の範囲第２項において、 前記遮へい板の前記孔の形状を変えるための操作が外部
   より可能なように構成したことを特徴とするイオン源。