JPH0895256A - ポジ型感光性平版印刷版用現像液・現像補充液及びポジ型感光性平版印刷版の現像方法 - Google Patents
ポジ型感光性平版印刷版用現像液・現像補充液及びポジ型感光性平版印刷版の現像方法Info
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 長期間にわたる繰り返し現像処理において
も、現像性が良好であり、現像浴中に析出物の発生がな
く、耐刷力低下という問題点もない感光性平版印刷版と
現像剤・補充液の組合わせを提供すること。 【構成】 陽極酸化されたアルミニウム支持体を更に珪
酸塩で処理した支持体に感光層を設けたポジ型感光性平
版印刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に現像補充
液を連続的または断続的に加えながらする現像処理方法
であって、アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液
が、アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液中にお
ける(SiO2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO
2のモル濃度を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度
を示す。)が0.15〜0.50であり、また、SiO
2濃度が現像液及び補充液の総重量に対して1.0〜
4.0重量%である現像処理方法。
も、現像性が良好であり、現像浴中に析出物の発生がな
く、耐刷力低下という問題点もない感光性平版印刷版と
現像剤・補充液の組合わせを提供すること。 【構成】 陽極酸化されたアルミニウム支持体を更に珪
酸塩で処理した支持体に感光層を設けたポジ型感光性平
版印刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に現像補充
液を連続的または断続的に加えながらする現像処理方法
であって、アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液
が、アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液中にお
ける(SiO2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO
2のモル濃度を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度
を示す。)が0.15〜0.50であり、また、SiO
2濃度が現像液及び補充液の総重量に対して1.0〜
4.0重量%である現像処理方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポジ型感光性平版印刷
版用現像液・現像補充液及びポジ型感光性平版印刷版の
現像方法に関する。
版用現像液・現像補充液及びポジ型感光性平版印刷版の
現像方法に関する。
【0002】
【従来技術】感光性平版印刷版は、親水性支持体上に感
光層を設けたもので、例えば、ポジ型感光性平版印刷版
においては、親水性支持体上に、紫外線等の活性光線に
よる露光により可溶化するインク受容性感光層が形成さ
れている。
光層を設けたもので、例えば、ポジ型感光性平版印刷版
においては、親水性支持体上に、紫外線等の活性光線に
よる露光により可溶化するインク受容性感光層が形成さ
れている。
【0003】このようなポジ型感光性平版印刷版は、感
光層に画像露光を施し、次いで現像すると、露光部のイ
ンク受容性である感光層は除去されて親水性支持体の表
面が露出する一方、露光されない部分のインク受容性で
ある感光層は支持体に残留してインキ受容層を形成す
る。平版印刷においては、上記露光部が親水性で、露光
されない部分が親油性であるという性質の差が利用され
る。
光層に画像露光を施し、次いで現像すると、露光部のイ
ンク受容性である感光層は除去されて親水性支持体の表
面が露出する一方、露光されない部分のインク受容性で
ある感光層は支持体に残留してインキ受容層を形成す
る。平版印刷においては、上記露光部が親水性で、露光
されない部分が親油性であるという性質の差が利用され
る。
【0004】通常、ポジ型感光性平版印刷版の感光層に
は、感光成分としてo−キノンジアジド化合物を、ま
た、皮膜強度とアルカリ可溶性とを高めるための成分と
してアルカリ可溶性樹脂を含有する感光性組成物が用い
られている。
は、感光成分としてo−キノンジアジド化合物を、ま
た、皮膜強度とアルカリ可溶性とを高めるための成分と
してアルカリ可溶性樹脂を含有する感光性組成物が用い
られている。
【0005】上記o−キノンジアジド化合物としては、
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル化合物及び1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
ド−4−スルホン酸エステル化合物が有用なものとして
一般に用いられており、特に、ピロガロールとアルデヒ
ド類またはケトン類との重縮合樹脂等とのエステル化合
物が好ましく使われている。
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル化合物及び1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
ド−4−スルホン酸エステル化合物が有用なものとして
一般に用いられており、特に、ピロガロールとアルデヒ
ド類またはケトン類との重縮合樹脂等とのエステル化合
物が好ましく使われている。
【0006】o−キノンジアジド化合物として、重縮合
樹脂等とのエステル化合物を用いる場合、耐刷性を向上
させるために、通常、重縮合樹脂の重量分子量が300
0以上の樹脂が用いられている。
樹脂等とのエステル化合物を用いる場合、耐刷性を向上
させるために、通常、重縮合樹脂の重量分子量が300
0以上の樹脂が用いられている。
【0007】また、現像は、一般に、補充現像液を補充
し、現像処理によって消費された現像液成分を補充しな
がら行うという現像方法が用いられている。
し、現像処理によって消費された現像液成分を補充しな
がら行うという現像方法が用いられている。
【0008】感光成分としてo−キノンジアジド化合物
を用いた上記の如きポジ型感光性平版印刷版を補充現像
液を補充しながら現像を行う場合、補充現像液の補充量
が多くなって、現像液が疲労した状態になってくると、
析出物が発生し、感光性平版印刷版を汚染する等の問題
が発生する。
を用いた上記の如きポジ型感光性平版印刷版を補充現像
液を補充しながら現像を行う場合、補充現像液の補充量
が多くなって、現像液が疲労した状態になってくると、
析出物が発生し、感光性平版印刷版を汚染する等の問題
が発生する。
【0009】上記現像液の疲労による析出物の発生を防
止し、長期間にわたる繰り返し現像処理においても、良
好な現像性を維持することができる製版方法として、特
開平5−2273号公報には、(SiO2)/(M)
(但し、(SiO2)はSiO 2のモル濃度を示し、
(M)はアルカリ金属のモル濃度を示す。)が0.15
〜0.50であり、SiO2濃度が補充液の総重量に対
して1.0〜3.0重量%である補充液を用いる方法が
提案されているが、上記問題点を十分に解決することが
できず、また、得られた平版印刷版の耐刷力が落ちてし
まうという欠点がある。
止し、長期間にわたる繰り返し現像処理においても、良
好な現像性を維持することができる製版方法として、特
開平5−2273号公報には、(SiO2)/(M)
(但し、(SiO2)はSiO 2のモル濃度を示し、
(M)はアルカリ金属のモル濃度を示す。)が0.15
〜0.50であり、SiO2濃度が補充液の総重量に対
して1.0〜3.0重量%である補充液を用いる方法が
提案されているが、上記問題点を十分に解決することが
できず、また、得られた平版印刷版の耐刷力が落ちてし
まうという欠点がある。
【0010】従って、現像液の疲労による析出物の発生
を防止し、長期間にわたる繰り返し現像処理において
も、良好な現像性を維持することができるとともに、優
れた耐刷力が得られるようにすることが望まれていた。
を防止し、長期間にわたる繰り返し現像処理において
も、良好な現像性を維持することができるとともに、優
れた耐刷力が得られるようにすることが望まれていた。
【0011】
【発明の目的】従って、本発明の目的は、長期間にわた
る繰り返し現像処理においても、現像性が良好であり、
現像浴中に析出物の発生がなく、耐刷力低下という問題
点もない感光性平版印刷版と現像剤・補充液の組合わせ
を提供することある。
る繰り返し現像処理においても、現像性が良好であり、
現像浴中に析出物の発生がなく、耐刷力低下という問題
点もない感光性平版印刷版と現像剤・補充液の組合わせ
を提供することある。
【0012】
【発明の構成】本発明の上記目的は、 (1)陽極酸化されたアルミニウム支持体を更に珪酸塩
で処理した支持体に感光層を設けたポジ型感光性平版印
刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に現像補充液を
連続的または断続的に加えながら現像処理する際のアル
カリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液であって、該ア
ルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液における(S
iO2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO 2のモル
濃度を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度を示
す。)を、0.15〜0.50とし、また、SiO2濃
度を現像液及び補充液の総重量に対して1.0〜4.0
重量%としたことを特徴とするポジ型感光性平版印刷版
用現像液及び補充液。 (2)ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成中にクレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂を含み、かつ、該クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂の組成がパラクレゾール/メタ
クレゾール=50/50〜100/0(モル比)である
ことを特徴とする上記(1)記載のポジ型感光性平版印
刷版用現像液及び補充液。 (3)ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層組成中に
アクリル系重合体を含み、かつ、該アクリル系重合体が
30%モル以下の一般式(I)〜一般式(VI)で表され
る構造単位を含む重合体であることを特徴とする上記
(1)又は(2)記載のポジ型感光性平版印刷版用現像
液及び補充液。
で処理した支持体に感光層を設けたポジ型感光性平版印
刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に現像補充液を
連続的または断続的に加えながら現像処理する際のアル
カリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液であって、該ア
ルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液における(S
iO2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO 2のモル
濃度を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度を示
す。)を、0.15〜0.50とし、また、SiO2濃
度を現像液及び補充液の総重量に対して1.0〜4.0
重量%としたことを特徴とするポジ型感光性平版印刷版
用現像液及び補充液。 (2)ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成中にクレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂を含み、かつ、該クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂の組成がパラクレゾール/メタ
クレゾール=50/50〜100/0(モル比)である
ことを特徴とする上記(1)記載のポジ型感光性平版印
刷版用現像液及び補充液。 (3)ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層組成中に
アクリル系重合体を含み、かつ、該アクリル系重合体が
30%モル以下の一般式(I)〜一般式(VI)で表され
る構造単位を含む重合体であることを特徴とする上記
(1)又は(2)記載のポジ型感光性平版印刷版用現像
液及び補充液。
【0013】
【化3】
【0014】[一般式(I)〜一般式(VI)において、
R1及びR2は水素原子、アルキル基またはカルボキシル
基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキ
ル基を表し、R4及びR5は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表す。Aは窒素原子または
酸素原子と芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有し
てもよいアルキレン基を表し、mは0〜10の整数を表
し、Bは置換基を有してもよいフェニレン基または置換
基を有してもよいナフチレン基を表す。] (4)ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成中の感光
剤として、オルトナフトキノンジアジドスルホン酸の縮
合率が20%以下であるオルトナフトキノンジアジドス
ルホン酸とピロガロール−アセトン樹脂とのエステルで
あるオルトキノンジアジド化合物が用いられたものであ
ることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかに記
載のポジ型感光性平版印刷版用現像液及び補充液。 (5)ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層組成中に
ノニオン界面活性剤を5%以上含むものであることを特
徴とする上記(1)〜(4)のいずれかに記載のポジ型
感光性平版印刷版用現像液及び補充液。 (6)陽極酸化されたアルミニウム支持体を更に珪酸塩
で処理した支持体に感光層を設けたポジ型感光性平版印
刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に現像補充液を
連続的または断続的に加えながらする現像処理方法にお
いて、該アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液
が、アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液中にお
ける(SiO2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO
2のモル濃度を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度
を示す。)が0.15〜0.50であり、また、SiO
2濃度が現像液及び補充液の総重量に対して1.0〜
4.0重量%であることを特徴とする現像処理方法。 (7)ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成中にクレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂を含み、かつ、該クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂の組成がパラクレゾール/メタ
クレゾール=50/50〜100/0(モル比)である
ことを特徴とする上記(6)記載の現像処理方法。 (8)ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層組成中に
アクリル系重合体を含み、かつ、該アクリル系重合体が
30モル%以下の一般式(I)〜一般式(VI)で表され
る構造単位を含む重合体であることを特徴とする上記
(6)又は(7)記載の現像処理方法。
R1及びR2は水素原子、アルキル基またはカルボキシル
基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキ
ル基を表し、R4及びR5は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表す。Aは窒素原子または
酸素原子と芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有し
てもよいアルキレン基を表し、mは0〜10の整数を表
し、Bは置換基を有してもよいフェニレン基または置換
基を有してもよいナフチレン基を表す。] (4)ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成中の感光
剤として、オルトナフトキノンジアジドスルホン酸の縮
合率が20%以下であるオルトナフトキノンジアジドス
ルホン酸とピロガロール−アセトン樹脂とのエステルで
あるオルトキノンジアジド化合物が用いられたものであ
ることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかに記
載のポジ型感光性平版印刷版用現像液及び補充液。 (5)ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層組成中に
ノニオン界面活性剤を5%以上含むものであることを特
徴とする上記(1)〜(4)のいずれかに記載のポジ型
感光性平版印刷版用現像液及び補充液。 (6)陽極酸化されたアルミニウム支持体を更に珪酸塩
で処理した支持体に感光層を設けたポジ型感光性平版印
刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に現像補充液を
連続的または断続的に加えながらする現像処理方法にお
いて、該アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液
が、アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液中にお
ける(SiO2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO
2のモル濃度を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度
を示す。)が0.15〜0.50であり、また、SiO
2濃度が現像液及び補充液の総重量に対して1.0〜
4.0重量%であることを特徴とする現像処理方法。 (7)ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成中にクレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂を含み、かつ、該クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂の組成がパラクレゾール/メタ
クレゾール=50/50〜100/0(モル比)である
ことを特徴とする上記(6)記載の現像処理方法。 (8)ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層組成中に
アクリル系重合体を含み、かつ、該アクリル系重合体が
30モル%以下の一般式(I)〜一般式(VI)で表され
る構造単位を含む重合体であることを特徴とする上記
(6)又は(7)記載の現像処理方法。
【0015】
【化4】
【0016】[一般式(I)〜一般式(VI)において、
R1及びR2は水素原子、アルキル基またはカルボキシル
基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキ
ル基を表し、R4及びR5は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表す。Aは窒素原子または
酸素原子と芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有し
てもよいアルキレン基を表し、mは0〜10の整数を表
し、Bは置換基を有してもよいフェニレン基または置換
基を有してもよいナフチレン基を表す。] (9)ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成中の感光
剤として、オルトナフトキノンジアジドスルホン酸の縮
合率が20%以下であるオルトナフトキノンジアジドス
ルホン酸とピロガロール−アセトン樹脂とのエステルで
あるオルトキノンジアジド化合物が用いられたものであ
ることを特徴とする上記(6)〜(8)のいずれかに記
載の現像処理方法。 (10)ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層組成中
にノニオン界面活性剤を5%以上含むものであることを
特徴とする上記(6)〜(9)のいずれかに記載の現像
処理方法。によって達成することができる。
R1及びR2は水素原子、アルキル基またはカルボキシル
基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキ
ル基を表し、R4及びR5は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表す。Aは窒素原子または
酸素原子と芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有し
てもよいアルキレン基を表し、mは0〜10の整数を表
し、Bは置換基を有してもよいフェニレン基または置換
基を有してもよいナフチレン基を表す。] (9)ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成中の感光
剤として、オルトナフトキノンジアジドスルホン酸の縮
合率が20%以下であるオルトナフトキノンジアジドス
ルホン酸とピロガロール−アセトン樹脂とのエステルで
あるオルトキノンジアジド化合物が用いられたものであ
ることを特徴とする上記(6)〜(8)のいずれかに記
載の現像処理方法。 (10)ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層組成中
にノニオン界面活性剤を5%以上含むものであることを
特徴とする上記(6)〜(9)のいずれかに記載の現像
処理方法。によって達成することができる。
【0017】以下、本発明を詳細に説明する。先ず、陽
極酸化されたアルミニウム支持体を更に珪酸塩で処理し
た支持体に感光層を設けたポジ型感光性平版印刷版につ
いて説明する。
極酸化されたアルミニウム支持体を更に珪酸塩で処理し
た支持体に感光層を設けたポジ型感光性平版印刷版につ
いて説明する。
【0018】本発明のアルミニウム支持体には、純アル
ミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支持体が含ま
れる。アルミニウム合金としては種々のものが使用で
き、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等の金属とアルミニ
ウムの合金が用いられる。
ミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支持体が含ま
れる。アルミニウム合金としては種々のものが使用で
き、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等の金属とアルミニ
ウムの合金が用いられる。
【0019】本発明においては、上記アルミニウム支持
体は、陽極酸化され、更に珪酸塩で処理されている。
体は、陽極酸化され、更に珪酸塩で処理されている。
【0020】本発明においてアルミニウム支持体は、陽
極酸化する前に、支持体表面に付着している圧延油等の
油脂成分を除去するために脱脂処理及び砂目立て処理を
行っておくことが好ましい。
極酸化する前に、支持体表面に付着している圧延油等の
油脂成分を除去するために脱脂処理及び砂目立て処理を
行っておくことが好ましい。
【0021】脱脂処理としては、トリクレン、シンナー
等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロンとトリエタノール
等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂等が用いら
れる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの
水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみで
は除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができ
る。
等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロンとトリエタノール
等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂等が用いら
れる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの
水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみで
は除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができ
る。
【0022】砂目立て処理としては、機械的に表面を粗
面化するいわゆる機械的粗面化法、化学的に表面を選択
溶解させ粗面化するいわゆる化学的粗面化法、電気化学
的に表面を粗面化するいわゆる電気化学的粗面化法等公
知の方法を用いることができる。
面化するいわゆる機械的粗面化法、化学的に表面を選択
溶解させ粗面化するいわゆる化学的粗面化法、電気化学
的に表面を粗面化するいわゆる電気化学的粗面化法等公
知の方法を用いることができる。
【0023】機械的粗面化法には、例えば、ボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
り、また、電気化学的粗面化法には、例えば、塩酸、硝
酸等を含む電解液中で交流あるいは直流によって電解処
理する方法がある。
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
り、また、電気化学的粗面化法には、例えば、塩酸、硝
酸等を含む電解液中で交流あるいは直流によって電解処
理する方法がある。
【0024】本発明の砂目立て処理は、この内のいずれ
か1つの方法であるいは2つ以上の方法を併用して行う
ことができる。
か1つの方法であるいは2つ以上の方法を併用して行う
ことができる。
【0025】砂目立て処理をして得られた支持体の表面
には、スマットが生成するので、このスマットを除去す
るために、適宜水洗あるいはアルカリエッチング等の処
理を行うことが一般に好ましい。このような処理として
は、例えば、特公昭48−28123号公報に記載され
ているアルカリエッチング法や特開昭53−12739
号公報に記載されている硫酸デスマット法等の処理方法
等が挙げられる。
には、スマットが生成するので、このスマットを除去す
るために、適宜水洗あるいはアルカリエッチング等の処
理を行うことが一般に好ましい。このような処理として
は、例えば、特公昭48−28123号公報に記載され
ているアルカリエッチング法や特開昭53−12739
号公報に記載されている硫酸デスマット法等の処理方法
等が挙げられる。
【0026】上記の如く処理された支持体は、次に、陽
極酸化処理が施される。陽極酸化処理により耐摩耗性、
耐薬品性、保水性を向上させることができる。陽極酸化
処理には公知の方法を用いることができ、例えば、硫酸
および/または燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶
液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解す
る方法が好ましく用いられるが、他に米国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で電解する方法や、米国特許第3,511,661
号明細書に記載されている燐酸を用いて電解する方法等
を用いることもできる。
極酸化処理が施される。陽極酸化処理により耐摩耗性、
耐薬品性、保水性を向上させることができる。陽極酸化
処理には公知の方法を用いることができ、例えば、硫酸
および/または燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶
液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解す
る方法が好ましく用いられるが、他に米国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で電解する方法や、米国特許第3,511,661
号明細書に記載されている燐酸を用いて電解する方法等
を用いることもできる。
【0027】本発明においては、上記アルミニウム支持
体は、陽極酸化され、更に珪酸塩で処理されている。
体は、陽極酸化され、更に珪酸塩で処理されている。
【0028】次いで、陽極酸化処理した後に行う珪酸塩
処理は公知であり、本発明においてはこれら公知の酸塩
処理、例えば、米国特許第3,181,461号明細書
に記載のアルカリ金属珪酸塩処理を用いることができ
る。
処理は公知であり、本発明においてはこれら公知の酸塩
処理、例えば、米国特許第3,181,461号明細書
に記載のアルカリ金属珪酸塩処理を用いることができ
る。
【0029】また、本発明において、陽極酸化処理され
た支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これ
ら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、重
クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理等公知の方法を用
いて行うことができる。
た支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これ
ら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、重
クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理等公知の方法を用
いて行うことができる。
【0030】本発明において、ポジ型感光性平版印刷版
の感光層を形成する感光性組成物には特に制限はなく、
各種のものを用いることができるが、通常広く用いられ
ているオルトキノンジアジド化合物が好ましい。
の感光層を形成する感光性組成物には特に制限はなく、
各種のものを用いることができるが、通常広く用いられ
ているオルトキノンジアジド化合物が好ましい。
【0031】上記オルトキノンジアジド化合物とは、分
子中にオルトキノンジアジド基を有する化合物であっ
て、本発明で使用することができるオルトキノンジアジ
ド化合物は特に限定されるものではなく、例えば、o−
ナフトキノンジアジド化合物、例えば、o−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸とフェノール類及びアルデヒド又
はケトンとの重縮合樹脂とのエステル化合物等が挙げら
れる。
子中にオルトキノンジアジド基を有する化合物であっ
て、本発明で使用することができるオルトキノンジアジ
ド化合物は特に限定されるものではなく、例えば、o−
ナフトキノンジアジド化合物、例えば、o−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸とフェノール類及びアルデヒド又
はケトンとの重縮合樹脂とのエステル化合物等が挙げら
れる。
【0032】上記フェノール類及びアルデヒドまたはケ
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
【0033】フェノール類及びアルデヒドまたはケトン
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
【0034】前記o−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、20%以下が好ましい。
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、20%以下が好ましい。
【0035】更に本発明に用いられるオルトキノンジア
ジド化合物としては、特開昭58−43451号公報に
記載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」(Light-Sensitive Systems)第
339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ(John Willey & Sons)社(ニューヨー
ク)やダブリュー・エス・ディ・フォレスト(W.S.De F
orest)著「フォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(McGraw Hill)社
(ニューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,
2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチ
ル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5
−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′
−アゾ−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリ
ン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフト
キノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,
4′−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2
モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニル
スルホン酸1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリ
ン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなど
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
ジド化合物としては、特開昭58−43451号公報に
記載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」(Light-Sensitive Systems)第
339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ(John Willey & Sons)社(ニューヨー
ク)やダブリュー・エス・ディ・フォレスト(W.S.De F
orest)著「フォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(McGraw Hill)社
(ニューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,
2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチ
ル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5
−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′
−アゾ−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリ
ン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフト
キノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,
4′−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2
モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニル
スルホン酸1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリ
ン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなど
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
【0036】上記オルトキノンジアジド化合物のうち、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリド等の
オルトナフトキノンジアジドスルホン酸成分とピロガロ
ール−アセトン樹脂との重縮合樹脂であるオルトキノン
ジアジド化合物が特に好ましく、また、該重縮合樹脂に
おける縮合率は20%以下であるものが好ましい。
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリド等の
オルトナフトキノンジアジドスルホン酸成分とピロガロ
ール−アセトン樹脂との重縮合樹脂であるオルトキノン
ジアジド化合物が特に好ましく、また、該重縮合樹脂に
おける縮合率は20%以下であるものが好ましい。
【0037】本発明において、オルトキノンジアジド化
合物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種
以上を組合せて用いてもよい。
合物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種
以上を組合せて用いてもよい。
【0038】オルトキノンジアジド化合物の感光性組成
物中に占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に
好ましいのは、10〜50重量%である。
物中に占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に
好ましいのは、10〜50重量%である。
【0039】本発明の感光層を形成する感光性組成物に
は、さらにアルカリ可溶性樹脂を添加することが好まし
い。
は、さらにアルカリ可溶性樹脂を添加することが好まし
い。
【0040】本発明で使用することができるアルカリ可
溶性樹脂は特に限定されるものではなく、例えば、ノボ
ラック樹脂、フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体、特開昭55−57841号公報に記載されている多
価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等を
挙げることができる。
溶性樹脂は特に限定されるものではなく、例えば、ノボ
ラック樹脂、フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体、特開昭55−57841号公報に記載されている多
価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等を
挙げることができる。
【0041】本発明で使用することができるノボラック
樹脂としては、例えば、フェノール・ホルムアルデヒド
樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭55
−57841号公報に記載されているようなフェノール
・クレゾール・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特開昭
55−127553号公報に記載されているようなp−
置換フェノールとフェノールもしくはクレゾールとホル
ムアルデヒドとの共重合体樹脂等が挙げられる。これら
の内で好ましいものは、クレゾール−ホルムアルデヒド
樹脂であり、クレゾール成分がパラクレゾール/メタク
レゾール=50/50〜100/0であるものが特に好
ましい。
樹脂としては、例えば、フェノール・ホルムアルデヒド
樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭55
−57841号公報に記載されているようなフェノール
・クレゾール・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特開昭
55−127553号公報に記載されているようなp−
置換フェノールとフェノールもしくはクレゾールとホル
ムアルデヒドとの共重合体樹脂等が挙げられる。これら
の内で好ましいものは、クレゾール−ホルムアルデヒド
樹脂であり、クレゾール成分がパラクレゾール/メタク
レゾール=50/50〜100/0であるものが特に好
ましい。
【0042】ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標
準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×10
2〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.00×
103〜3.00×104、より好ましくはMnが5.0
0×102〜4.00×103、Mwが3.00×103
〜2.00×104である。
準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×10
2〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.00×
103〜3.00×104、より好ましくはMnが5.0
0×102〜4.00×103、Mwが3.00×103
〜2.00×104である。
【0043】上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよい
し、2種以上を組合せて用いてもよい。ノボラック樹脂
は感光性組成物中に5〜95重量%含有させるのが好ま
しい。
し、2種以上を組合せて用いてもよい。ノボラック樹脂
は感光性組成物中に5〜95重量%含有させるのが好ま
しい。
【0044】また、フェノール性水酸基を有するビニル
系重合体とは、該フェノール性水酸基を有する単位を分
子構造中に有する重合体であり、下記一般式(I)〜一
般式(VI)で表される構造単位を少なくとも1つの含む
重合体が好ましい。
系重合体とは、該フェノール性水酸基を有する単位を分
子構造中に有する重合体であり、下記一般式(I)〜一
般式(VI)で表される構造単位を少なくとも1つの含む
重合体が好ましい。
【0045】
【化5】
【0046】[一般式(I)〜一般式(VI)において、
R1及びR2は水素原子、アルキル基またはカルボキシル
基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキ
ル基を表し、R4及びR5は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表す。Aは窒素原子または
酸素原子と芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有し
てもよいアルキレン基を表し、mは0〜10の整数を表
し、Bは置換基を有してもよいフェニレン基または置換
基を有してもよいナフチレン基を表す。]R1及びR2と
しては水素原子が好ましい。R3としては水素原子また
はメチル基、エチル基等のアルキル基が好ましい。R4
及びR5としては水素原子が好ましい。
R1及びR2は水素原子、アルキル基またはカルボキシル
基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキ
ル基を表し、R4及びR5は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表す。Aは窒素原子または
酸素原子と芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有し
てもよいアルキレン基を表し、mは0〜10の整数を表
し、Bは置換基を有してもよいフェニレン基または置換
基を有してもよいナフチレン基を表す。]R1及びR2と
しては水素原子が好ましい。R3としては水素原子また
はメチル基、エチル基等のアルキル基が好ましい。R4
及びR5としては水素原子が好ましい。
【0047】本発明に用いる上記フェノール性水酸基を
有するビニル系重合体は、前記一般式(I)〜一般式
(VI)で表される構造単位を有する共重合体型の構造を
有するものが好ましく、共重合させる単量体としては、
例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレフィン類、
例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルス
チレン、p−クロロスチレン等のスチレン類、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えば、
イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂
肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸イ
ソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−2−クロ
ロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、エ
タクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン
酸のエステル類、例えば、アクリロニトリル、メタアク
リロニトリル等のニトリル類、例えば、アクリルアミド
等のアミド類、例えば、アクリルアニリド、p−クロロ
アクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m−
メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えば、メチルビニル
エーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエ
ーテル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエ
ーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリ
デンシアナイド、例えば、1−メチル−1−メトキシエ
チレン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメト
キシエチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレ
ン、1−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導
体類、例えば、N−ビニルピロール、N−ビニルカルバ
ゾール、N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデ
ン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル系単量体があ
る。これらの単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造
で高分子化合物中に存在する。
有するビニル系重合体は、前記一般式(I)〜一般式
(VI)で表される構造単位を有する共重合体型の構造を
有するものが好ましく、共重合させる単量体としては、
例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレフィン類、
例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルス
チレン、p−クロロスチレン等のスチレン類、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えば、
イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂
肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸イ
ソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−2−クロ
ロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、エ
タクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン
酸のエステル類、例えば、アクリロニトリル、メタアク
リロニトリル等のニトリル類、例えば、アクリルアミド
等のアミド類、例えば、アクリルアニリド、p−クロロ
アクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m−
メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えば、メチルビニル
エーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエ
ーテル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエ
ーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリ
デンシアナイド、例えば、1−メチル−1−メトキシエ
チレン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメト
キシエチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレ
ン、1−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導
体類、例えば、N−ビニルピロール、N−ビニルカルバ
ゾール、N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデ
ン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル系単量体があ
る。これらの単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造
で高分子化合物中に存在する。
【0048】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。
【0049】これらの単量体は、本発明に用いられる重
合体中にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結
合していてもよい。
合体中にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結
合していてもよい。
【0050】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は感光性組成物中に0.5〜70重量%含有させるの
が好ましい。
体は感光性組成物中に0.5〜70重量%含有させるの
が好ましい。
【0051】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又2種以上
を組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又2種以上
を組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
【0052】また、本発明の感光層を形成する感光性組
成物には、先に挙げた一般式(I)〜一般式(VI)で表
される構造単位の少なくとも1つを30%以下含むアク
リル系重合体を添加することが好ましい。
成物には、先に挙げた一般式(I)〜一般式(VI)で表
される構造単位の少なくとも1つを30%以下含むアク
リル系重合体を添加することが好ましい。
【0053】上記アクリル系重合体を構成する他の単量
体としては、先に示した単量体を挙げることができる。
体としては、先に示した単量体を挙げることができる。
【0054】また、本発明の感光層を形成する感光性組
成物には、ノニオン界面活性剤を添加することが好まし
い。
成物には、ノニオン界面活性剤を添加することが好まし
い。
【0055】本発明に用いることができるノニオン界面
活性剤の具体例としては、例えば、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリル
エーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン
・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ア
ルキルアルカノールアミド等を挙げることができる。
活性剤の具体例としては、例えば、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリル
エーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン
・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ア
ルキルアルカノールアミド等を挙げることができる。
【0056】本発明のポジ型感光性組成物層には、更
に、露光により可視画像を形成させるプリントアウト材
料を添加することができる。プリントアウト材料は、露
光により酸もしくは遊離基を生成する化合物と該生成さ
れた酸もしくは遊離基と相互作用することによってその
色調を変える有機染料より成るもので、露光により酸も
しくは遊離基を生成する化合物としては、例えば、特開
昭50−36209号公報に記載のo−ナフトキノンジ
アジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−36
223号公報に記載のトリハロメチル−2−ピロンやト
リハロメチル−トリアジン、特開昭55−6244号公
報に記載のo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
クロライドと電子吸引性置換基を有するフェノール類ま
たはアニリンとのエステル化合物またはアミド化合物、
特開昭55−77742号公報、特開昭57−1487
84号公報等に記載のハロメチルビニルオキサジアゾー
ル化合物及びジアゾニウム塩等を挙げることができ、ま
た、有機染料としては、例えば、ビクトリアピュアーブ
ルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製)、パテントピュア
ーブルー(住友三国化学(株)製)、オイルブルー#6
03(オリエント化学工業(株)製)、スーダンブルー
II(BASF製)、クリスタルバイオレット、マラカ
イトグリーン、フクシン、メチルバイオレット、エチル
バイオレット、メチルオレンジ、ブリリアントグリー
ン、コンゴーレッド、エオシン、ローダミン66等を挙
げることができる。
に、露光により可視画像を形成させるプリントアウト材
料を添加することができる。プリントアウト材料は、露
光により酸もしくは遊離基を生成する化合物と該生成さ
れた酸もしくは遊離基と相互作用することによってその
色調を変える有機染料より成るもので、露光により酸も
しくは遊離基を生成する化合物としては、例えば、特開
昭50−36209号公報に記載のo−ナフトキノンジ
アジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−36
223号公報に記載のトリハロメチル−2−ピロンやト
リハロメチル−トリアジン、特開昭55−6244号公
報に記載のo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
クロライドと電子吸引性置換基を有するフェノール類ま
たはアニリンとのエステル化合物またはアミド化合物、
特開昭55−77742号公報、特開昭57−1487
84号公報等に記載のハロメチルビニルオキサジアゾー
ル化合物及びジアゾニウム塩等を挙げることができ、ま
た、有機染料としては、例えば、ビクトリアピュアーブ
ルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製)、パテントピュア
ーブルー(住友三国化学(株)製)、オイルブルー#6
03(オリエント化学工業(株)製)、スーダンブルー
II(BASF製)、クリスタルバイオレット、マラカ
イトグリーン、フクシン、メチルバイオレット、エチル
バイオレット、メチルオレンジ、ブリリアントグリー
ン、コンゴーレッド、エオシン、ローダミン66等を挙
げることができる。
【0057】また、本発明のポジ型感光性組成物層に
は、上記の素材の他、必要に応じて可塑剤、界面活性
剤、有機酸、酸無水物などを添加することができる。
は、上記の素材の他、必要に応じて可塑剤、界面活性
剤、有機酸、酸無水物などを添加することができる。
【0058】さらに、本発明のポジ型感光性組成物層に
は、該感光性組成物の感脂性を向上するために、例え
ば、p−tert−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂、p−n−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
あるいはこれらの樹脂がo−キノンジアジド化合物で部
分的にエステル化されている樹脂などを添加することも
できる。
は、該感光性組成物の感脂性を向上するために、例え
ば、p−tert−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂、p−n−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂
あるいはこれらの樹脂がo−キノンジアジド化合物で部
分的にエステル化されている樹脂などを添加することも
できる。
【0059】本発明のポジ型感光性組成物層は、これら
の各成分よりなる感光性組成物を溶媒に溶解又は分散し
た塗布液を、支持体上に塗布し、乾燥することにより形
成することができる。
の各成分よりなる感光性組成物を溶媒に溶解又は分散し
た塗布液を、支持体上に塗布し、乾燥することにより形
成することができる。
【0060】感光性組成物を溶解する際に使用し得る溶
媒としては、例えば、メチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブ
アセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ギ
酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プ
ロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、
酪酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジアセトン
アルコール、アセチルアセトン、γ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの溶媒は、単独であるいは2種以
上を混合して使用することができる。
媒としては、例えば、メチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブ
アセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ギ
酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プ
ロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、
酪酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジアセトン
アルコール、アセチルアセトン、γ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの溶媒は、単独であるいは2種以
上を混合して使用することができる。
【0061】感光性組成物を支持体表面に塗布する際に
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、静電エア
ースプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途によ
り異なるが、例えば、固形分として0.05〜5.0g
/m2の塗布量が好ましい。
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、静電エア
ースプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途によ
り異なるが、例えば、固形分として0.05〜5.0g
/m2の塗布量が好ましい。
【0062】次に、本発明のアルカリ金属珪酸塩を含む
現像液及び補充液について説明する。本発明のアルカリ
金属珪酸塩を含む現像液及び補充液において、(SiO
2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO 2のモル濃度
を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度を示す。)は
0.15〜0.50であり、また、SiO2濃度は現像
液及び補充液の総重量に対して1.0〜4.0重量%で
ある。
現像液及び補充液について説明する。本発明のアルカリ
金属珪酸塩を含む現像液及び補充液において、(SiO
2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO 2のモル濃度
を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度を示す。)は
0.15〜0.50であり、また、SiO2濃度は現像
液及び補充液の総重量に対して1.0〜4.0重量%で
ある。
【0063】上記現像液及び補充液を用いる現像処理
は、現像液に、現像処理量にみあった補充液を連続的に
又は断続的に補充しながら行われる。現像液及び補充液
には、必要に応じ有機溶媒を加えることができる。
は、現像液に、現像処理量にみあった補充液を連続的に
又は断続的に補充しながら行われる。現像液及び補充液
には、必要に応じ有機溶媒を加えることができる。
【0064】加えることができる有機溶剤としては、例
えば、ベンジルアルコール、2−ブトキシエタノール、
トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタ
ノールアミン、グリセリン、エチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングコールが挙げら
れる。これらの有機溶剤は、例えば、現像液又は現像補
充液の総重量に対して5重量%以下の範囲に維持される
ような範囲で用いることができる。
えば、ベンジルアルコール、2−ブトキシエタノール、
トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタ
ノールアミン、グリセリン、エチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングコールが挙げら
れる。これらの有機溶剤は、例えば、現像液又は現像補
充液の総重量に対して5重量%以下の範囲に維持される
ような範囲で用いることができる。
【0065】また、現像液又は補充液には更に界面活性
剤を含有させることができる。これにより現像液の処理
能力(単位容積の現像液が溶解除去できる感光層の量)
を向上させることができ、更に最適な結果を与える現像
条件(温度および処理時間など)の巾を広げることがで
きる。
剤を含有させることができる。これにより現像液の処理
能力(単位容積の現像液が溶解除去できる感光層の量)
を向上させることができ、更に最適な結果を与える現像
条件(温度および処理時間など)の巾を広げることがで
きる。
【0066】界面活性剤としては、アニオン界面活性剤
と両性界面活性剤が好ましい。アニオン界面活性剤の好
ましい具体例としては、例えばドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウムのようなアルキルベンゼンスルホン酸塩
類(アルキル基の炭素数は8〜18、より好ましくは1
2〜16)、例えばイソプロピルナフタレンスルホン酸
ナトリウムのようなアルキルナフタレンスルホン酸塩類
(アルキル基の炭素数は3〜10)、ナフタレンスルホ
ン酸塩のホルマリン縮合物、ジアルキルスルホこはく酸
塩類(アルキル基の炭素数は2〜18)、ジアルキルア
ミドスルホン酸塩類(アルキル基の炭素数は11〜1
7)などが挙げられる。また、両性界面活性剤の好まし
い具体例としては、イミダゾリン誘導体、例えばN−ア
ルキル−N,N,N−トリス(カルボキシメチル)アン
モニウム(アルキル基の炭素数は12〜18)、N−ア
ルキル−N−カルボキシメチル−N,N−ジヒドロキシ
エチルアンモニウム(アルキル基の炭素数は12〜1
8)などのベタイン型化合物が挙げられる。
と両性界面活性剤が好ましい。アニオン界面活性剤の好
ましい具体例としては、例えばドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウムのようなアルキルベンゼンスルホン酸塩
類(アルキル基の炭素数は8〜18、より好ましくは1
2〜16)、例えばイソプロピルナフタレンスルホン酸
ナトリウムのようなアルキルナフタレンスルホン酸塩類
(アルキル基の炭素数は3〜10)、ナフタレンスルホ
ン酸塩のホルマリン縮合物、ジアルキルスルホこはく酸
塩類(アルキル基の炭素数は2〜18)、ジアルキルア
ミドスルホン酸塩類(アルキル基の炭素数は11〜1
7)などが挙げられる。また、両性界面活性剤の好まし
い具体例としては、イミダゾリン誘導体、例えばN−ア
ルキル−N,N,N−トリス(カルボキシメチル)アン
モニウム(アルキル基の炭素数は12〜18)、N−ア
ルキル−N−カルボキシメチル−N,N−ジヒドロキシ
エチルアンモニウム(アルキル基の炭素数は12〜1
8)などのベタイン型化合物が挙げられる。
【0067】これらの界面活性剤は、例えば、使用時の
現像液又は現像補充液の総重量に対して約0.003〜
約3重量%、より好ましくは0.006〜1重量%の範
囲内で用いることができる。
現像液又は現像補充液の総重量に対して約0.003〜
約3重量%、より好ましくは0.006〜1重量%の範
囲内で用いることができる。
【0068】現像液又は補充液には、更に、消泡剤を含
有させることができる。好適な消泡剤には、米国特許第
3,250,727号、同第3,545,970号、英
国特許第1,382,901号、同第1,387,71
3号などの各明細書に記されている化合物がある。これ
らのうちでも有機シラン化合物が好ましい。
有させることができる。好適な消泡剤には、米国特許第
3,250,727号、同第3,545,970号、英
国特許第1,382,901号、同第1,387,71
3号などの各明細書に記されている化合物がある。これ
らのうちでも有機シラン化合物が好ましい。
【0069】現像を現像液に現像補充液を補充しながら
行う場合、補充液は、感光性平版印刷版が処理されるこ
とによって消費された現像液中の成分、処理された感光
性平版印刷版に付着して持ち出された現像液の成分、空
気中に存在する炭酸ガスにより中和された現像液中のア
ルカリ成分等を補償するような量添加される。
行う場合、補充液は、感光性平版印刷版が処理されるこ
とによって消費された現像液中の成分、処理された感光
性平版印刷版に付着して持ち出された現像液の成分、空
気中に存在する炭酸ガスにより中和された現像液中のア
ルカリ成分等を補償するような量添加される。
【0070】ポジ型感光性平版印刷版は、現像処理に先
立ち、例えば、線画像、網点画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光される。
立ち、例えば、線画像、網点画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光される。
【0071】露光されたポジ型感光性平版印刷版は、現
像処理により非画像部の感光性層が除去されレリーフ像
が形成される。
像処理により非画像部の感光性層が除去されレリーフ像
が形成される。
【0072】露光に好適な光源としては、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯などが挙げられる。
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯などが挙げられる。
【0073】
【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。 実施例 [支持体1の作成]厚さ0.3mmのアルミニウム板(材
質1050、調質H16)を、65℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理を行った後、
水洗し、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間
浸漬し中和し、さらに水洗した。このアルミニウム板を
1.0重量%の塩酸水溶液中において、温度25℃、電
流密度100A/dm2、処理時間60秒の条件で交流電
流により電解粗面化を行った。次いで、5%水酸化ナト
リウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を
行い、その後、20%硫酸溶液中で、温度20℃、電流
密度3A/dm2、処理時間1分の条件で陽極酸化処理を
行った。その後、80℃に保たれた1%亜硝酸ナトリウ
ム水溶液中に30秒浸漬し、水洗後80℃で3分間乾燥
した。更に、85℃に保たれたカルボキシメチルセルロ
ースの水溶液(濃度0.1重量%)に30秒浸漬した
後、80℃で5分間乾燥し、支持体1を作成した。
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。 実施例 [支持体1の作成]厚さ0.3mmのアルミニウム板(材
質1050、調質H16)を、65℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理を行った後、
水洗し、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間
浸漬し中和し、さらに水洗した。このアルミニウム板を
1.0重量%の塩酸水溶液中において、温度25℃、電
流密度100A/dm2、処理時間60秒の条件で交流電
流により電解粗面化を行った。次いで、5%水酸化ナト
リウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を
行い、その後、20%硫酸溶液中で、温度20℃、電流
密度3A/dm2、処理時間1分の条件で陽極酸化処理を
行った。その後、80℃に保たれた1%亜硝酸ナトリウ
ム水溶液中に30秒浸漬し、水洗後80℃で3分間乾燥
した。更に、85℃に保たれたカルボキシメチルセルロ
ースの水溶液(濃度0.1重量%)に30秒浸漬した
後、80℃で5分間乾燥し、支持体1を作成した。
【0074】[支持体2の作成]厚さ0.3mmのアルミ
ニウム板(材質1050、調質H16)を、65℃に保
たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理
を行った後、水洗し、25℃に保たれた10%硫酸水溶
液中に1分間浸漬し中和し、さらに水洗した。このアル
ミニウム板を1.0重量%の塩酸水溶液中において、温
度25℃、電流密度100A/dm2、処理時間60秒の
条件で交流電流により電解粗面化を行った。次いで、5
%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間のデス
マット処理を行い、その後、20%硫酸溶液中で、温度
20℃、電流密度3A/dm2、処理時間1分の条件で陽
極酸化処理を行った。その後、80℃に保たれた1%亜
硝酸ナトリウム水溶液中に30秒浸漬し、水洗後80℃
で3分間乾燥した。更に、80℃に保たれた1%珪酸ナ
トリウム水溶液中に30秒浸漬し、水洗後80℃で3分
間乾燥し、支持体2を作成した。
ニウム板(材質1050、調質H16)を、65℃に保
たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理
を行った後、水洗し、25℃に保たれた10%硫酸水溶
液中に1分間浸漬し中和し、さらに水洗した。このアル
ミニウム板を1.0重量%の塩酸水溶液中において、温
度25℃、電流密度100A/dm2、処理時間60秒の
条件で交流電流により電解粗面化を行った。次いで、5
%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間のデス
マット処理を行い、その後、20%硫酸溶液中で、温度
20℃、電流密度3A/dm2、処理時間1分の条件で陽
極酸化処理を行った。その後、80℃に保たれた1%亜
硝酸ナトリウム水溶液中に30秒浸漬し、水洗後80℃
で3分間乾燥した。更に、80℃に保たれた1%珪酸ナ
トリウム水溶液中に30秒浸漬し、水洗後80℃で3分
間乾燥し、支持体2を作成した。
【0075】[感光性平版印刷版試料の作成]表1に記
載の支持体上に、表1に記載の下記の塗布液1か2をワ
イヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥し、感
光性平版印刷版試料1、2及び感光性平版印刷版比較試
料1、2を得た。
載の支持体上に、表1に記載の下記の塗布液1か2をワ
イヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥し、感
光性平版印刷版試料1、2及び感光性平版印刷版比較試
料1、2を得た。
【0076】 (塗布液1) ノボラック樹脂(m−クレゾール/p−クレゾール のモル比が50/50、重量平均分子量4000) 6.7g ピロガロールアセトン樹脂(重量平均分子量3000)とo−ナフトキノン ジアジド−5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率15%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ポリオキシエチレンエチルエーテル 0.4g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル) −s−トリアジン 0.15g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.2g HyPMA/AN/MMA/EA の重合体( HyPMA 含有量25モル%) 1.0g メチルセロソルフ゛ 100ミリリットル HyPMA;4ヒドロキシフェニルメタクリルアミド AN ;アクリロニトリル MMA ;メタアクリル酸メチル EA ;アクリル酸エチル
【0077】 (塗布液2) ノボラック樹脂(m−クレゾール/p−クレゾール のモル比が60/40、重量平均分子量4000) 6.7g ピロガロールアセトン樹脂(重量平均分子量3000)とo−ナフトキノン ジアジド−5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル) −s−トリアジン 0.15g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.2g メチルセロソルフ゛ 100ミリリットル 得られた感光性平版印刷版試料1、2及び感光性平版印
刷版比較試料1、2のそれぞれについて、下記の評価方
法により、耐刷力、浴底の堆積物を評価した。得られた
結果を表2に示す。
刷版比較試料1、2のそれぞれについて、下記の評価方
法により、耐刷力、浴底の堆積物を評価した。得られた
結果を表2に示す。
【0078】[評価方法] 〈浴底の堆積物の評価〉感光性平版印刷版試料1、2及
び感光性平版印刷版比較試料1、2を表1に記載した現
像液及び補充液を用いて300m2処理した後、3日たっ
てから現像浴を観察し、浴底の堆積物を下記の評価基準
で評価した。 評価基準 ○…堆積物がない △…堆積物がわずかにある ×…堆積物がある
び感光性平版印刷版比較試料1、2を表1に記載した現
像液及び補充液を用いて300m2処理した後、3日たっ
てから現像浴を観察し、浴底の堆積物を下記の評価基準
で評価した。 評価基準 ○…堆積物がない △…堆積物がわずかにある ×…堆積物がある
【0079】〈耐刷力の評価〉感光性平版印刷版試料
1、2及び感光性平版印刷版比較試料1、2に感度測定
用ステップタブレット(イースーマンコダック社製 No.
2、濃度差0.15ずつで21段階のグレースケール)
を密着して、2kWメタルハライドランプ(岩崎電気
(株)製 アイドルフィン2000)を光源として90
cmの距離から露光した。次に、表1に記載した現像液及
び補充液を用いて27℃にて20秒間現像した。
1、2及び感光性平版印刷版比較試料1、2に感度測定
用ステップタブレット(イースーマンコダック社製 No.
2、濃度差0.15ずつで21段階のグレースケール)
を密着して、2kWメタルハライドランプ(岩崎電気
(株)製 アイドルフィン2000)を光源として90
cmの距離から露光した。次に、表1に記載した現像液及
び補充液を用いて27℃にて20秒間現像した。
【0080】得られた平版印刷版をハイデルベルグ
(株)製印刷機GTOにかけ、コート紙印刷インキ(東
洋インキ製造(株)製 ニューブライト紅)及び湿し水
(コニカ(株)製 SEU−3;2.5%)を使用し印
刷を行い、印刷物の画像部のベタ部に着肉不良が現れる
かまたは非画像部にインキが着肉するまで印刷を続け、
その時の印刷枚数を数えた。
(株)製印刷機GTOにかけ、コート紙印刷インキ(東
洋インキ製造(株)製 ニューブライト紅)及び湿し水
(コニカ(株)製 SEU−3;2.5%)を使用し印
刷を行い、印刷物の画像部のベタ部に着肉不良が現れる
かまたは非画像部にインキが着肉するまで印刷を続け、
その時の印刷枚数を数えた。
【0081】[現像液及び補充液] 〈現像液1〉 珪酸カリウム(日本化学工業製)水溶液 〔SiO2〕/〔M〕(モル比) 0.45 SiO2(重量%) 2.00 〈補充液1〉 珪酸カリウム(日本化学工業製)水溶液 〔SiO2〕/〔M〕(モル比) 0.24 SiO2(重量%) 2.00 活性剤*(重量%) 0.01
【0082】〈現像液2〉 珪酸カリウム(日本化学工業製)水溶液 〔SiO2〕/〔M〕(モル比) 0.60 SiO2(重量%) 2.00 〈補充液2〉 珪酸カリウム(日本化学工業製)水溶液 〔SiO2〕/〔M〕(モル比) 0.55 SiO2(重量%) 2.00 活性剤*(重量%) 0.01
【0083】
【化6】
【0084】
【表1】
【0085】
【表2】
【0086】
【発明の効果】本発明によれば、長期間にわたる繰り返
し現像処理においても、現像性が良好であり、現像浴中
に析出物の発生がなく、しかも、耐刷力が優れた平版印
刷版を得ることができる。
し現像処理においても、現像性が良好であり、現像浴中
に析出物の発生がなく、しかも、耐刷力が優れた平版印
刷版を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/039 7/30 (72)発明者 松原 真一 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 佐々木 充 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 松尾 史之 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (10)
- 【請求項1】 陽極酸化されたアルミニウム支持体を更
に珪酸塩で処理した支持体に感光層を設けたポジ型感光
性平版印刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に現像
補充液を連続的または断続的に加えながら現像処理する
際のアルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液であっ
て、該アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液にお
ける(SiO2)/(M)(但し、(SiO2)はSiO
2のモル濃度を示し、(M)はアルカリ金属のモル濃度
を示す。)を、0.15〜0.50とし、また、SiO
2濃度を現像液及び補充液の総重量に対して1.0〜
4.0重量%としたことを特徴とするポジ型感光性平版
印刷版用現像液及び補充液。 - 【請求項2】 ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成
中にクレゾールホルムアルデヒド樹脂を含み、かつ、該
クレゾールホルムアルデヒド樹脂の組成がパラクレゾー
ル/メタクレゾール=50/50〜100/0(モル
比)であることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光
性平版印刷版用現像液及び補充液。 - 【請求項3】 ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層
組成中にアクリル系重合体を含み、かつ、該アクリル系
重合体が30モル%以下の一般式(I)〜一般式(VI)
で表される構造単位を含む重合体であることを特徴とす
る請求項1又は2記載のポジ型感光性平版印刷版用現像
液及び補充液。 【化1】 [一般式(I)〜一般式(VI)において、R1及びR2は
水素原子、アルキル基またはカルボキシル基を表し、R
3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、
R4及びR5は水素原子、アルキル基、アリール基または
アラルキル基を表す。Aは窒素原子または酸素原子と芳
香族炭素原子とを連結する、置換基を有してもよいアル
キレン基を表し、mは0〜10の整数を表し、Bは置換
基を有してもよいフェニレン基または置換基を有しても
よいナフチレン基を表す。] - 【請求項4】 ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成
中の感光剤として、オルトナフトキノンジアジドスルホ
ン酸の縮合率が20%以下であるオルトナフトキノンジ
アジドスルホン酸とピロガロール−アセトン樹脂とのエ
ステルであるオルトキノンジアジド化合物が用いられた
ものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに
記載のポジ型感光性平版印刷版用現像液及び補充液。 - 【請求項5】 ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層
組成中にノニオン界面活性剤を5%以上含むものである
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポジ
型感光性平版印刷版用現像液及び補充液。 - 【請求項6】 陽極酸化されたアルミニウム支持体を更
に珪酸塩で処理した支持体に感光層を設けたポジ型感光
性平版印刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に現像
補充液を連続的または断続的に加えながらする現像処理
方法において、該アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び
補充液が、アルカリ金属珪酸塩を含む現像液及び補充液
中における(SiO2)/(M)(但し、(SiO2)は
SiO 2のモル濃度を示し、(M)はアルカリ金属のモ
ル濃度を示す。)が0.15〜0.50であり、また、
SiO2濃度が現像液及び補充液の総重量に対して1.
0〜4.0重量%であることを特徴とする現像処理方
法。 - 【請求項7】 ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成
中にクレゾールホルムアルデヒド樹脂を含み、かつ、該
クレゾールホルムアルデヒド樹脂の組成がパラクレゾー
ル/メタクレゾール=50/50〜100/0(モル
比)であることを特徴とする請求項6記載の現像処理方
法。 - 【請求項8】 ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光層
組成中にアクリル系重合体を含み、かつ、該アクリル系
重合体が30モル%以下の一般式(I)〜一般式(VI)
で表される構造単位を含む重合体であることを特徴とす
る請求項6又は7記載の現像処理方法。 【化2】 [一般式(I)〜一般式(VI)において、R1及びR2は
水素原子、アルキル基またはカルボキシル基を表し、R
3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、
R4及びR5は水素原子、アルキル基、アリール基または
アラルキル基を表す。Aは窒素原子または酸素原子と芳
香族炭素原子とを連結する、置換基を有してもよいアル
キレン基を表し、mは0〜10の整数を表し、Bは置換
基を有してもよいフェニレン基または置換基を有しても
よいナフチレン基を表す。] - 【請求項9】 ポジ型感光性平版印刷版が、感光層組成
中の感光剤として、オルトナフトキノンジアジドスルホ
ン酸の縮合率が20%以下であるオルトナフトキノンジ
アジドスルホン酸とピロガロール−アセトン樹脂とのエ
ステルであるオルトキノンジアジド化合物が用いられた
ものであることを特徴とする請求項6〜8のいずれかに
記載の現像処理方法。 - 【請求項10】 ポジ型感光性平版印刷版が、更に感光
層組成中にノニオン界面活性剤を5%以上含むものであ
ることを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載の現
像処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25608194A JPH0895256A (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | ポジ型感光性平版印刷版用現像液・現像補充液及びポジ型感光性平版印刷版の現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25608194A JPH0895256A (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | ポジ型感光性平版印刷版用現像液・現像補充液及びポジ型感光性平版印刷版の現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0895256A true JPH0895256A (ja) | 1996-04-12 |
Family
ID=17287633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25608194A Pending JPH0895256A (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | ポジ型感光性平版印刷版用現像液・現像補充液及びポジ型感光性平版印刷版の現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0895256A (ja) |
-
1994
- 1994-09-27 JP JP25608194A patent/JPH0895256A/ja active Pending
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