JPH09134018A - 感光性平版印刷版とその製造方法及びその処理方法 - Google Patents
感光性平版印刷版とその製造方法及びその処理方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高濃度網点部の再現性(K値)が良好で耐刷性
及び水幅が改善された感光性平版印刷版及びその製造方
法に関する。 【解決手段】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版において、下記式で表される感光
層表面とアルミニウム支持体表面との高さの段差が0.
0μm以上1.0μm以下であることを特徴とする感光
性平版印刷版。 段差=d−RzA/2+RzB/2 式中、RzAはアルミニウム支持体の表面粗さ(Rz)
を示し、RzBは感光層の表面粗さ(Rz)を示し、d
は感光層をドット状若しくはストライプ状に残るように
現像した後の印刷版の感光層及びアルミニウム支持体表
面両方を同時に測定した表面粗さのデータをデータ点の
高さのヒストグラムで表した際の感光層表面に起因する
高さ分布のピークに対応する高さ(感光層の表面の高さ
の中心値)とアルミニウム支持体表面に起因する高さ分
布のピークに対応する高さ(アルミニウム支持体の表面
の高さの中心値)の差を示す。
及び水幅が改善された感光性平版印刷版及びその製造方
法に関する。 【解決手段】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版において、下記式で表される感光
層表面とアルミニウム支持体表面との高さの段差が0.
0μm以上1.0μm以下であることを特徴とする感光
性平版印刷版。 段差=d−RzA/2+RzB/2 式中、RzAはアルミニウム支持体の表面粗さ(Rz)
を示し、RzBは感光層の表面粗さ(Rz)を示し、d
は感光層をドット状若しくはストライプ状に残るように
現像した後の印刷版の感光層及びアルミニウム支持体表
面両方を同時に測定した表面粗さのデータをデータ点の
高さのヒストグラムで表した際の感光層表面に起因する
高さ分布のピークに対応する高さ(感光層の表面の高さ
の中心値)とアルミニウム支持体表面に起因する高さ分
布のピークに対応する高さ(アルミニウム支持体の表面
の高さの中心値)の差を示す。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版及
びその製造方法に関し、詳しくは高濃度網点部の再現性
(K値)が良好で耐刷性及び水幅が改善された感光性平
版印刷版及びその製造方法に関する。更に本発明は、小
点再現性、ブランケットの汚れ難さが良好で、消去性に
優れ且つ近接する画像部に悪影響を与えずに所望の画像
部のみ消去可能で、非画像領域の不感脂化力を低下させ
ることなく後処理後、長時間保存しても画像領域の着肉
不良を起こさない感光性平版印刷版の処理方法に関す
る。
びその製造方法に関し、詳しくは高濃度網点部の再現性
(K値)が良好で耐刷性及び水幅が改善された感光性平
版印刷版及びその製造方法に関する。更に本発明は、小
点再現性、ブランケットの汚れ難さが良好で、消去性に
優れ且つ近接する画像部に悪影響を与えずに所望の画像
部のみ消去可能で、非画像領域の不感脂化力を低下させ
ることなく後処理後、長時間保存しても画像領域の着肉
不良を起こさない感光性平版印刷版の処理方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、感光性平版印刷版に用いられる支
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性に優れたものが要求され、このような観点
から通常、表面を砂目立てといわれる粗面化処理を施さ
れたアルミニウム板が用いられている。粗面化処理は、
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホ
ーニング研磨等の機械的粗面化法、また、塩酸、硝酸等
の酸性電解液中で交流或いは直流によって支持体表面を
電解処理する電気化学的粗面化法等が知られている。こ
のような方法で砂目立て処理したアルミニウム板は、そ
のままでは比較的柔らかく、摩耗し易いので、次いで陽
極酸化処理を施して酸化被膜が形成される。このように
処理されたアルミニウム板の表面は硬く、耐摩耗性に優
れている。しかし、このような処理を施されたアルミニ
ウム板でも様々な印刷条件下では、高濃度網点部の再現
性(以下、単にK値ということもある。)を満足するレ
ベルには至らず、またK値と耐刷性や水幅を両立させる
ことも困難であった。
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性に優れたものが要求され、このような観点
から通常、表面を砂目立てといわれる粗面化処理を施さ
れたアルミニウム板が用いられている。粗面化処理は、
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホ
ーニング研磨等の機械的粗面化法、また、塩酸、硝酸等
の酸性電解液中で交流或いは直流によって支持体表面を
電解処理する電気化学的粗面化法等が知られている。こ
のような方法で砂目立て処理したアルミニウム板は、そ
のままでは比較的柔らかく、摩耗し易いので、次いで陽
極酸化処理を施して酸化被膜が形成される。このように
処理されたアルミニウム板の表面は硬く、耐摩耗性に優
れている。しかし、このような処理を施されたアルミニ
ウム板でも様々な印刷条件下では、高濃度網点部の再現
性(以下、単にK値ということもある。)を満足するレ
ベルには至らず、またK値と耐刷性や水幅を両立させる
ことも困難であった。
【0003】このような問題を解決するために、様々な
粗面形状の検討がなされてきている。米国特許4,30
1,229号ではピット径の累積度数分布と中心線平均
粗さを規定、同3,861,917号では粗面の深さを
規定、カナダ特許955,449号では粗面の山の高さ
と直径を規定、独国特許1,813,443号では粗面
の高低差を規定、特開昭55−132294号では平均
深さを規定、特開平5−24376号ではピット径と径
に垂直な方向の最大深さを規定、等が提案されている
が、これらの形状でもK値の向上は不十分であり、特に
K値と耐刷性や水幅の両立といった点に関しては検討さ
れていなかった。
粗面形状の検討がなされてきている。米国特許4,30
1,229号ではピット径の累積度数分布と中心線平均
粗さを規定、同3,861,917号では粗面の深さを
規定、カナダ特許955,449号では粗面の山の高さ
と直径を規定、独国特許1,813,443号では粗面
の高低差を規定、特開昭55−132294号では平均
深さを規定、特開平5−24376号ではピット径と径
に垂直な方向の最大深さを規定、等が提案されている
が、これらの形状でもK値の向上は不十分であり、特に
K値と耐刷性や水幅の両立といった点に関しては検討さ
れていなかった。
【0004】一方、平版印刷版の印刷法としては、印刷
機から水とインキを供給して、画像部に受容されたイン
キを一度ゴム製のブランケットに転写した後、紙に転写
するオフセット印刷方式が一般的である。通常、印刷枚
数が多くなる程ブランケット上の非画線部にあたる部分
もインキにより汚れてくるが、汚れの程度が大きいと洗
浄がしにくいという問題となり、汚れが著しくなると紙
面の非画線部が汚れてくるという問題になる。また、近
年、印刷物に仕上がりのよさ、品質の高さが要求されて
きており、いわゆる高精細印刷が普及してきている。し
かしながら、上記公知の技術によっては、ブランケット
の汚れ難さに優れ、且つ小点再現性に優れる感光性平版
印刷版を得ることはできなかった。
機から水とインキを供給して、画像部に受容されたイン
キを一度ゴム製のブランケットに転写した後、紙に転写
するオフセット印刷方式が一般的である。通常、印刷枚
数が多くなる程ブランケット上の非画線部にあたる部分
もインキにより汚れてくるが、汚れの程度が大きいと洗
浄がしにくいという問題となり、汚れが著しくなると紙
面の非画線部が汚れてくるという問題になる。また、近
年、印刷物に仕上がりのよさ、品質の高さが要求されて
きており、いわゆる高精細印刷が普及してきている。し
かしながら、上記公知の技術によっては、ブランケット
の汚れ難さに優れ、且つ小点再現性に優れる感光性平版
印刷版を得ることはできなかった。
【0005】また、感光性平版印刷版の現像処理には、
製版作業の合理化及び標準化のため自動現像機が汎用的
に使用されている。自動現像機を用いた現像処理の場
合、現像液としてSiO2/Na2Oのモル比が1.0
〜1.5(即ち、[SiO2]/[Na]が0.5〜
0.75)であってSiO2の含有量が1〜4重量%の
珪酸ナトリウム水溶液を使用し、しかも感光性平版印刷
版の処理量に応じて連続的または断続的にSiO2/N
a2Oのモル比が0.5〜1.5(即ち、[SiO2]
/[Na]が0.25〜0.75)の珪酸ナトリウム水
溶液(補充液)を現像液に加えることにより、タンク中
の現像液を長時間交換することなく、多量の感光性平版
印刷版を処理できることが特開昭54−62004号公
報に開示されている。しかし、かかる従来技術において
も、より一層多量の感光性平版印刷版を処理すると感光
性平版印刷版の感度が上昇したり低下したりといった感
度の変動が生じるという問題を発生する。
製版作業の合理化及び標準化のため自動現像機が汎用的
に使用されている。自動現像機を用いた現像処理の場
合、現像液としてSiO2/Na2Oのモル比が1.0
〜1.5(即ち、[SiO2]/[Na]が0.5〜
0.75)であってSiO2の含有量が1〜4重量%の
珪酸ナトリウム水溶液を使用し、しかも感光性平版印刷
版の処理量に応じて連続的または断続的にSiO2/N
a2Oのモル比が0.5〜1.5(即ち、[SiO2]
/[Na]が0.25〜0.75)の珪酸ナトリウム水
溶液(補充液)を現像液に加えることにより、タンク中
の現像液を長時間交換することなく、多量の感光性平版
印刷版を処理できることが特開昭54−62004号公
報に開示されている。しかし、かかる従来技術において
も、より一層多量の感光性平版印刷版を処理すると感光
性平版印刷版の感度が上昇したり低下したりといった感
度の変動が生じるという問題を発生する。
【0006】さらに、例えば、写真製版により製造され
るような平版印刷版では、オリジナルフィルムの汚れ・
傷・切り口等による印刷版面での露光過不足によって不
必要な画像や削除訂正が必要な画像部が生ずることがあ
り、当該部分の修正が必要になる。かかる修正に用いる
消去液が特開昭54−89806号や特公平5−223
1号公報に開示されているが、これら従来技術では消去
速度が不十分である。さらに一般的な消去液には、有機
溶剤としてキシレンが含まれており、該キシレンは劇物
であるため人体に対して有害であるばかりでなく、引火
性を有するため取扱いに注意を要する物質である。しか
も修正処理の際にキシレンの蒸気が、所望の修正部分以
外の画線部にまで作用してしまうため、消去したい画像
部に近接した必要な画像部までも消去されてしまうとい
う欠点を有している。
るような平版印刷版では、オリジナルフィルムの汚れ・
傷・切り口等による印刷版面での露光過不足によって不
必要な画像や削除訂正が必要な画像部が生ずることがあ
り、当該部分の修正が必要になる。かかる修正に用いる
消去液が特開昭54−89806号や特公平5−223
1号公報に開示されているが、これら従来技術では消去
速度が不十分である。さらに一般的な消去液には、有機
溶剤としてキシレンが含まれており、該キシレンは劇物
であるため人体に対して有害であるばかりでなく、引火
性を有するため取扱いに注意を要する物質である。しか
も修正処理の際にキシレンの蒸気が、所望の修正部分以
外の画線部にまで作用してしまうため、消去したい画像
部に近接した必要な画像部までも消去されてしまうとい
う欠点を有している。
【0007】さらにまた、非画像領域の親水性の保護
や、画像領域の加筆又は消去等の画像修正、製版後印刷
するまでの期間の保存又は再使用までの保存、印刷機に
取り付ける際や取扱い中の指紋・油脂・塵等の付着によ
って引き起こされる汚れの防止及び傷の発生等からの保
護、酸化汚れ発生の抑制の為に、製版の最終工程にガム
液が塗布されるが、長時間保存後の印刷では、画像部の
インキ着肉性が悪く、所望のインキ濃度の印刷物を得る
ためには相当数の刷り枚数を必要とするという欠点、即
ち、着肉不良を起こすという欠点を有している。
や、画像領域の加筆又は消去等の画像修正、製版後印刷
するまでの期間の保存又は再使用までの保存、印刷機に
取り付ける際や取扱い中の指紋・油脂・塵等の付着によ
って引き起こされる汚れの防止及び傷の発生等からの保
護、酸化汚れ発生の抑制の為に、製版の最終工程にガム
液が塗布されるが、長時間保存後の印刷では、画像部の
インキ着肉性が悪く、所望のインキ濃度の印刷物を得る
ためには相当数の刷り枚数を必要とするという欠点、即
ち、着肉不良を起こすという欠点を有している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、高濃度網点部の再現性(K値)が良好で耐刷性及び
水幅が改善された感光性平版印刷版及びその製造方法を
提供することにある。さらに本発明の課題は、小点再現
性、ブランケットの汚れ難さが良好で、消去性に優れ且
つ近接する画像部に悪影響を与えずに所望の画像部のみ
消去可能で、非画像領域の不感脂化力を低下させること
なく後処理後、長時間保存しても画像領域の着肉不良を
起こさない感光性平版印刷版の処理方法を提供すること
にある。
は、高濃度網点部の再現性(K値)が良好で耐刷性及び
水幅が改善された感光性平版印刷版及びその製造方法を
提供することにある。さらに本発明の課題は、小点再現
性、ブランケットの汚れ難さが良好で、消去性に優れ且
つ近接する画像部に悪影響を与えずに所望の画像部のみ
消去可能で、非画像領域の不感脂化力を低下させること
なく後処理後、長時間保存しても画像領域の着肉不良を
起こさない感光性平版印刷版の処理方法を提供すること
にある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、支持体の
粗面形状だけでなく、支持体の粗面形状と感光層の表面
形状、及び支持体の表面と感光層の表面との段差に注目
することにより、K値を改善できることを見出した。ま
た支持体の表面と感光層の表面との段差を特定し、さら
に支持体の粗面を特定の形状とすることでK値を改善
し、且つ耐刷性を改善することが可能であることや、K
値を改善しつつ水幅を改善することが可能であることを
見出した。
粗面形状だけでなく、支持体の粗面形状と感光層の表面
形状、及び支持体の表面と感光層の表面との段差に注目
することにより、K値を改善できることを見出した。ま
た支持体の表面と感光層の表面との段差を特定し、さら
に支持体の粗面を特定の形状とすることでK値を改善
し、且つ耐刷性を改善することが可能であることや、K
値を改善しつつ水幅を改善することが可能であることを
見出した。
【0010】本発明の上記課題は、 1.粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム支
持体に感光性組成物を含有する感光層を設けてなる感光
性平版印刷版において、下記式で表される感光層表面と
アルミニウム支持体表面との高さの段差が0.0μm以
上1.0μm以下であることを特徴とする感光性平版印
刷版、 段差=d−RzA/2+RzB/2 式中、RzAはアルミニウム支持体の表面粗さ(Rz)
を示し、RzBは感光層の表面粗さ(Rz)を示し、d
は感光層をドット状若しくはストライプ状に残るように
現像した後の印刷版の感光層及びアルミニウム支持体表
面両方を同時に測定した表面粗さのデータをデータ点の
高さのヒストグラムで表した際の感光層表面に起因する
高さ分布のピークに対応する高さ(感光層の表面の高さ
の中心値)とアルミニウム支持体表面に起因する高さ分
布のピークに対応する高さ(アルミニウム支持体の表面
の高さの中心値)の差を示す。
持体に感光性組成物を含有する感光層を設けてなる感光
性平版印刷版において、下記式で表される感光層表面と
アルミニウム支持体表面との高さの段差が0.0μm以
上1.0μm以下であることを特徴とする感光性平版印
刷版、 段差=d−RzA/2+RzB/2 式中、RzAはアルミニウム支持体の表面粗さ(Rz)
を示し、RzBは感光層の表面粗さ(Rz)を示し、d
は感光層をドット状若しくはストライプ状に残るように
現像した後の印刷版の感光層及びアルミニウム支持体表
面両方を同時に測定した表面粗さのデータをデータ点の
高さのヒストグラムで表した際の感光層表面に起因する
高さ分布のピークに対応する高さ(感光層の表面の高さ
の中心値)とアルミニウム支持体表面に起因する高さ分
布のピークに対応する高さ(アルミニウム支持体の表面
の高さの中心値)の差を示す。
【0011】2.アルミニウム支持体の表面粗さがRa
で0.6〜0.9μm、Rzで3.5〜6.0μmであ
ることを特徴とする前記1記載の感光性平版印刷版、
で0.6〜0.9μm、Rzで3.5〜6.0μmであ
ることを特徴とする前記1記載の感光性平版印刷版、
【0012】3.感光層表面の平均高さとアルミニウム
支持体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上1.0
μm以下であり、且つ感光層の表面粗さがRaで0.1
〜0.35μm、Rzで0.7〜2.2μmであること
を特徴とする前記1記載の感光性平版印刷版、
支持体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上1.0
μm以下であり、且つ感光層の表面粗さがRaで0.1
〜0.35μm、Rzで0.7〜2.2μmであること
を特徴とする前記1記載の感光性平版印刷版、
【0013】4.粗面化及び陽極酸化処理を施されたア
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体の測定長0.5mmの二次元の表面粗さ曲線の三番目
に高い山の頂点から1μm下に粗さの中心線と平行に引
いた基準直線Aと該基準直線Aよりも上の粗さ曲線が形
成する図形の面積Aが50μm2以上150μm2以下
であり、且つ感光層表面の平均高さとアルミニウム支持
体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上1.0μm
以下であることを特徴とする感光性平版印刷版、
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体の測定長0.5mmの二次元の表面粗さ曲線の三番目
に高い山の頂点から1μm下に粗さの中心線と平行に引
いた基準直線Aと該基準直線Aよりも上の粗さ曲線が形
成する図形の面積Aが50μm2以上150μm2以下
であり、且つ感光層表面の平均高さとアルミニウム支持
体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上1.0μm
以下であることを特徴とする感光性平版印刷版、
【0014】5.粗面化及び陽極酸化処理を施されたア
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc
/m2以下であることを特徴とする感光性平版印刷版、
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc
/m2以下であることを特徴とする感光性平版印刷版、
【0015】6.粗面化及び陽極酸化処理を施されたア
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc
/m2以下であり、感光層を乾燥体積としてアルミニウ
ム支持体表面の空隙の容積−0.5〜+0.5cc/m
2の量となるように塗布することを特徴とする感光性平
版印刷版、
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc
/m2以下であり、感光層を乾燥体積としてアルミニウ
ム支持体表面の空隙の容積−0.5〜+0.5cc/m
2の量となるように塗布することを特徴とする感光性平
版印刷版、
【0016】7.粗面化及び陽極酸化処理を施されたア
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc
/m2以下であり、且つ感光層表面の平均高さとアルミ
ニウム支持体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上
1.0μm以下であることを特徴とする感光性平版印刷
版、
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc
/m2以下であり、且つ感光層表面の平均高さとアルミ
ニウム支持体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上
1.0μm以下であることを特徴とする感光性平版印刷
版、
【0017】8.粗面化及び陽極酸化処理を施されたア
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc
/m2以下であり、且つ感光層表面の平均高さとアルミ
ニウム支持体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上
1.0μm以下であり、且つ感光層表面の平均粗さがR
aで0.1〜0.35μm、Rzで0.7〜2.2μm
以下であることを特徴とする感光性平版印刷版、
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持
体表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc
/m2以下であり、且つ感光層表面の平均高さとアルミ
ニウム支持体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上
1.0μm以下であり、且つ感光層表面の平均粗さがR
aで0.1〜0.35μm、Rzで0.7〜2.2μm
以下であることを特徴とする感光性平版印刷版、
【0018】9.粗面化及び陽極酸化処理を施されたア
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版の製造方法において、アルミ
ニウム支持体表面の空気の容積が3.5cc/m2以上
5.0cc/m2以下であり、乾燥体積としてアルミニ
ウム支持体表面の空隙の容積−0.5〜+1.0cc/
m2の量となるように前記感光層を塗布し、該感光層を
乾燥以降の工程で平滑化することを特徴とする感光性平
版印刷版の製造方法、
ルミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設
けてなる感光性平版印刷版の製造方法において、アルミ
ニウム支持体表面の空気の容積が3.5cc/m2以上
5.0cc/m2以下であり、乾燥体積としてアルミニ
ウム支持体表面の空隙の容積−0.5〜+1.0cc/
m2の量となるように前記感光層を塗布し、該感光層を
乾燥以降の工程で平滑化することを特徴とする感光性平
版印刷版の製造方法、
【0019】10.前記5記載の感光性平版印刷版を、
アルカリ金属珪酸塩を含み、アルカリ金属珪酸塩の[S
iO2]/[M]が0.25〜0.75であり、且つS
iO2濃度が現像液組成物の総重量に対して1〜4重量
%である現像液(但し、[SiO2]はSiO2のモル
濃度を表し、[M]はアルカリ金属のモル濃度を表
す。)を用いて現像することを特徴とする感光性平版印
刷版の処理方法、
アルカリ金属珪酸塩を含み、アルカリ金属珪酸塩の[S
iO2]/[M]が0.25〜0.75であり、且つS
iO2濃度が現像液組成物の総重量に対して1〜4重量
%である現像液(但し、[SiO2]はSiO2のモル
濃度を表し、[M]はアルカリ金属のモル濃度を表
す。)を用いて現像することを特徴とする感光性平版印
刷版の処理方法、
【0020】11.前記5記載の感光性平版印刷版を現
像する際、アルカリ金属珪酸塩の[SiO2]/[M]
が0.25〜0.75であり、且つSiO2濃度がその
総重量に対して1〜4重量%である補充液をアルカリ金
属珪酸塩を含む現像液に補充することを特徴とする感光
性平版印刷版の処理方法、
像する際、アルカリ金属珪酸塩の[SiO2]/[M]
が0.25〜0.75であり、且つSiO2濃度がその
総重量に対して1〜4重量%である補充液をアルカリ金
属珪酸塩を含む現像液に補充することを特徴とする感光
性平版印刷版の処理方法、
【0021】12.前記5記載の感光性平版印刷版を少
なくとも画像露光及び/又は現像することによって得ら
れた平版印刷版の版面を修正処理する際、キシレンを実
質的に含まない消去液を用いて修正処理することを特徴
とする感光性平版印刷版の処理方法、
なくとも画像露光及び/又は現像することによって得ら
れた平版印刷版の版面を修正処理する際、キシレンを実
質的に含まない消去液を用いて修正処理することを特徴
とする感光性平版印刷版の処理方法、
【0022】13.前記5記載の感光性平版印刷版を画
像露光及び現像した後、表面張力が10〜50dyn/
cmの後処理液で処理することを特徴とする感光性平版
印刷版の処理方法、の各々により達成される。
像露光及び現像した後、表面張力が10〜50dyn/
cmの後処理液で処理することを特徴とする感光性平版
印刷版の処理方法、の各々により達成される。
【0023】本発明において、Rzとは、「十点平均粗
さ」のことであり、断面曲線(表面をそれに直角な平面
で切った切り口を考えた場合の凹凸のある曲線)から抜
き取った一定の長さ(基準長さ)を用い、その平均線
(被測定面から断面曲線までの偏差の自乗和が最小にな
る線)に平行且つ断面曲線を横切らない直線から縦倍率
の方向に測定した最高から5番目までの山頂の標高の平
均値と最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差
をミクロン単位で表したものをいう。また、Raとは、
「平均線中心粗さ」のことであり、粗さ曲線からその中
心線の方向に長さlの部分を抜き取り、この抜き取り部
分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸、粗さ曲線をy
=f(x)で表したとき、下記式によって求められる値
をミクロン単位で表したものをいう(JIS B 06
01参照)。
さ」のことであり、断面曲線(表面をそれに直角な平面
で切った切り口を考えた場合の凹凸のある曲線)から抜
き取った一定の長さ(基準長さ)を用い、その平均線
(被測定面から断面曲線までの偏差の自乗和が最小にな
る線)に平行且つ断面曲線を横切らない直線から縦倍率
の方向に測定した最高から5番目までの山頂の標高の平
均値と最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差
をミクロン単位で表したものをいう。また、Raとは、
「平均線中心粗さ」のことであり、粗さ曲線からその中
心線の方向に長さlの部分を抜き取り、この抜き取り部
分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸、粗さ曲線をy
=f(x)で表したとき、下記式によって求められる値
をミクロン単位で表したものをいう(JIS B 06
01参照)。
【0024】
【式1】
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明について説明する。
先ず請求項1について説明する。請求項1によれば、印
刷時に感光層上のインキ層と周囲の水を保持した支持体
表面とが、ブランケットの圧力を適度なバランスで分散
して受けるようになり、圧力によるインキの広がりが抑
制され、さらに感光層周囲の水を保持した支持体表面
が、感光層表面と略々同一平面に存在するため、広がっ
たインキを水の反撥で押し戻す効果が強く現れ、これら
の結果としてブランケットに転写されるインキの広がり
を抑えることが可能となる。従ってK値を向上させるこ
とができる。
先ず請求項1について説明する。請求項1によれば、印
刷時に感光層上のインキ層と周囲の水を保持した支持体
表面とが、ブランケットの圧力を適度なバランスで分散
して受けるようになり、圧力によるインキの広がりが抑
制され、さらに感光層周囲の水を保持した支持体表面
が、感光層表面と略々同一平面に存在するため、広がっ
たインキを水の反撥で押し戻す効果が強く現れ、これら
の結果としてブランケットに転写されるインキの広がり
を抑えることが可能となる。従ってK値を向上させるこ
とができる。
【0026】段差が1.0μmより大きい場合、即ち、
アルミニウム支持体(以下、単に支持体と言うこともあ
る。)粗面より感光層表面が高い位置にある場合は、印
刷時に感光層上に形成されたインキ層のブランケットか
ら受ける圧力が強くなり、インキが広がり易くなり、且
つ水を保持した支持体表面は低い位置にあるため、広が
ったインキを水の反撥により押し戻す効果が弱く、これ
らの原因によりインキはブランケット上に広がって転写
される。この現象は画像部の網点濃度の高い部分で顕著
になるため、特にK値が悪化する。
アルミニウム支持体(以下、単に支持体と言うこともあ
る。)粗面より感光層表面が高い位置にある場合は、印
刷時に感光層上に形成されたインキ層のブランケットか
ら受ける圧力が強くなり、インキが広がり易くなり、且
つ水を保持した支持体表面は低い位置にあるため、広が
ったインキを水の反撥により押し戻す効果が弱く、これ
らの原因によりインキはブランケット上に広がって転写
される。この現象は画像部の網点濃度の高い部分で顕著
になるため、特にK値が悪化する。
【0027】また段差が0.0μmよりも小さい場合、
即ち、感光層の表面の高さがその周囲の支持体の突起頂
点よりも低い位置にある部分が多く存在する場合、印刷
時に感光層上のインキ層にかかるブランケットの圧力は
弱くなるが、インキローラーからインキが供給される際
には、インキローラー上のインキに感光層よりも先に支
持体の突起頂点が接触することになり、感光層周囲の支
持体突起の頂点部がインキで汚れ易くなる。また、ブラ
ンケットの圧力で感光層上のインキが押し広げられた場
合にも、感光層周囲の支持体突起部分が汚れ易くなる。
これらの結果としてブランケットにはインキが広がった
状態で転写され、K値は悪化する。
即ち、感光層の表面の高さがその周囲の支持体の突起頂
点よりも低い位置にある部分が多く存在する場合、印刷
時に感光層上のインキ層にかかるブランケットの圧力は
弱くなるが、インキローラーからインキが供給される際
には、インキローラー上のインキに感光層よりも先に支
持体の突起頂点が接触することになり、感光層周囲の支
持体突起の頂点部がインキで汚れ易くなる。また、ブラ
ンケットの圧力で感光層上のインキが押し広げられた場
合にも、感光層周囲の支持体突起部分が汚れ易くなる。
これらの結果としてブランケットにはインキが広がった
状態で転写され、K値は悪化する。
【0028】次に請求項2について説明する。請求項2
によれば、上記請求項1によるK値をより向上させるこ
とができる。表面粗さが小さい場合、支持体に保持でき
る水量が少なくなるため、前記した水によるインキ反撥
効果が薄れる。また、表面粗さが大きい場合、感光層の
表面の凹凸も激しくなるので、感光層がブランケットの
圧力を均一に受けることができなくなり、感光層上のイ
ンキの広がりが不均一になって、例えば、ドット形状が
歪むといった悪影響が生じる。
によれば、上記請求項1によるK値をより向上させるこ
とができる。表面粗さが小さい場合、支持体に保持でき
る水量が少なくなるため、前記した水によるインキ反撥
効果が薄れる。また、表面粗さが大きい場合、感光層の
表面の凹凸も激しくなるので、感光層がブランケットの
圧力を均一に受けることができなくなり、感光層上のイ
ンキの広がりが不均一になって、例えば、ドット形状が
歪むといった悪影響が生じる。
【0029】次に請求項3について説明する。請求項3
によれば、上記請求項1によるK値をより向上させるこ
とができる。感光層の凹凸を請求項3の範囲とすること
により、感光層表面の高さを略々均一にすることがで
き、且つ周囲の支持体突起の頂点部よりも僅かに高い位
置に設定でき、ブランケットの圧力分散の効果及びイン
キの広がりを水で反撥する効果の双方が向上するので、
K値がより向上する。
によれば、上記請求項1によるK値をより向上させるこ
とができる。感光層の凹凸を請求項3の範囲とすること
により、感光層表面の高さを略々均一にすることがで
き、且つ周囲の支持体突起の頂点部よりも僅かに高い位
置に設定でき、ブランケットの圧力分散の効果及びイン
キの広がりを水で反撥する効果の双方が向上するので、
K値がより向上する。
【0030】次に請求項4について説明する。請求項4
によれば、感光層表面とアルミニウム板表面の高さの段
差を0.0μm以上1.0μm以下とし、且つ支持体粗
面の突起部分の先端形状を鋭くする(面積Aが50〜1
50μm2)ことで、K値を改善し、且つ耐刷性も向上
させることができる。これは印刷により感光層が摩滅し
ていった際に支持体粗面の突起先端のみが露出し、且つ
それ以上の感光層の摩滅を防止する壁/柱状の構造とな
るためである。
によれば、感光層表面とアルミニウム板表面の高さの段
差を0.0μm以上1.0μm以下とし、且つ支持体粗
面の突起部分の先端形状を鋭くする(面積Aが50〜1
50μm2)ことで、K値を改善し、且つ耐刷性も向上
させることができる。これは印刷により感光層が摩滅し
ていった際に支持体粗面の突起先端のみが露出し、且つ
それ以上の感光層の摩滅を防止する壁/柱状の構造とな
るためである。
【0031】面積Aが150μm2よりも大きいと突起
先端の鋭さがなくなって突起頂点付近に平坦部を有する
ようになり、感光層が摩滅していった際に露出する支持
体面積が多くなって画像の抜けとなり、耐刷性が低下す
る。また面積Aが50μm2よりも小さいと感光層の摩
滅を防止する壁及び/又は柱構造の強度が不足すること
になり、耐刷性が低下する。
先端の鋭さがなくなって突起頂点付近に平坦部を有する
ようになり、感光層が摩滅していった際に露出する支持
体面積が多くなって画像の抜けとなり、耐刷性が低下す
る。また面積Aが50μm2よりも小さいと感光層の摩
滅を防止する壁及び/又は柱構造の強度が不足すること
になり、耐刷性が低下する。
【0032】次に請求項5について説明する。請求項5
において表面の空隙の容積とは、任意の単位面積での支
持体表面の三次元の粗さの曲面と、その三次元粗さの中
心面に平行であり、且つ支持体表面の最も高い突起頂点
に接している平面とで挟まれた立体の体積を意味する。
において表面の空隙の容積とは、任意の単位面積での支
持体表面の三次元の粗さの曲面と、その三次元粗さの中
心面に平行であり、且つ支持体表面の最も高い突起頂点
に接している平面とで挟まれた立体の体積を意味する。
【0033】具体的な測定方法について示す。三次元の
非接触粗さ計(RSTplus/WYKO社)を用い、
任意の測定範囲での三次元粗さを測定し、データを高さ
を横軸としたヒストグラム表示とする。データの高さの
高い方に異常値(ヒストグラムは略々正規分布状になる
が、異常値はその正規分布の裾野から不連続に離れた位
置に存在する)があった場合は除去する。次にこのヒス
トグラムを、高さのデータの最高値を各データ点との高
さの差の絶対値の分布を示すヒストグラムに変換する。
各データ点は解像度に応じた面積を有しており(測定画
面では四角いドットとして示される)、従ってデータ一
点分の面積とそのデータ点の高さの最高値との差を掛け
合わせることで、そのデータ一点分の体積(空隙の容
積)を求めることができる。このようにして全データ分
の体積を求めて合計{ヒストグラムでの各データ区間の
高さ(の平均)とそのデータ区間の度数とをかけた値を
全データ区間分合計する}し、単位面積(m2)当たり
の値に換算することで、支持体表面の空隙の容積を求め
ることができる。空隙容積の求め方は、他の空隙につい
ても準用できる。
非接触粗さ計(RSTplus/WYKO社)を用い、
任意の測定範囲での三次元粗さを測定し、データを高さ
を横軸としたヒストグラム表示とする。データの高さの
高い方に異常値(ヒストグラムは略々正規分布状になる
が、異常値はその正規分布の裾野から不連続に離れた位
置に存在する)があった場合は除去する。次にこのヒス
トグラムを、高さのデータの最高値を各データ点との高
さの差の絶対値の分布を示すヒストグラムに変換する。
各データ点は解像度に応じた面積を有しており(測定画
面では四角いドットとして示される)、従ってデータ一
点分の面積とそのデータ点の高さの最高値との差を掛け
合わせることで、そのデータ一点分の体積(空隙の容
積)を求めることができる。このようにして全データ分
の体積を求めて合計{ヒストグラムでの各データ区間の
高さ(の平均)とそのデータ区間の度数とをかけた値を
全データ区間分合計する}し、単位面積(m2)当たり
の値に換算することで、支持体表面の空隙の容積を求め
ることができる。空隙容積の求め方は、他の空隙につい
ても準用できる。
【0034】空隙の容積が請求項5の範囲である場合、
良好なK値が得られる。範囲より小さい場合は段差が大
きくなる方向であり、支持体表面に保持できる水の量が
少なくなり、インキへの反撥効果も少なくなるのでK値
が悪化し、範囲より大きい場合は段差が小さくなる方向
であり、K値が悪化する。
良好なK値が得られる。範囲より小さい場合は段差が大
きくなる方向であり、支持体表面に保持できる水の量が
少なくなり、インキへの反撥効果も少なくなるのでK値
が悪化し、範囲より大きい場合は段差が小さくなる方向
であり、K値が悪化する。
【0035】また、空隙の容積が請求項5の範囲である
場合、K値と同時に水幅も改善される。範囲より小さい
場合は湿し水の供給量を多くした際に水負けし易くな
り、範囲より大きい場合は湿し水の供給量を少なくした
際に非画像部が汚れ易くなる。
場合、K値と同時に水幅も改善される。範囲より小さい
場合は湿し水の供給量を多くした際に水負けし易くな
り、範囲より大きい場合は湿し水の供給量を少なくした
際に非画像部が汚れ易くなる。
【0036】次に請求項6及び7について説明する。請
求項6及び7によれば、K値はいっそう改善され、且つ
水幅も同時に改善される。請求項6及び7において、ア
ルミニウム板表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上
5.0cc/m2以下であるときに、感光層表面の平均
高さとアルミニウム板表面の平均高さとの段差が0.0
μm以上1.0μm以下となるようにコントロールする
には、支持体表面の空隙の容積が特定されている支持体
に、その容積に対して乾燥後の体積が支持体の空隙の容
積−0.5〜+0.5cc/m2の量となるように塗布
量を制御して塗布することで可能となる。これは予め作
成しておいた支持体の空隙の容積を測定した後、所定の
量の感光層を塗布してもよいし、粗面化と感光層の塗布
を同時に行う場合は、粗面化の工程条件と表面の空隙の
容積との関係を予め把握しておき、粗面化の工程条件に
応じて感光層の塗布量を制御すればよい。
求項6及び7によれば、K値はいっそう改善され、且つ
水幅も同時に改善される。請求項6及び7において、ア
ルミニウム板表面の空隙の容積が3.5cc/m2以上
5.0cc/m2以下であるときに、感光層表面の平均
高さとアルミニウム板表面の平均高さとの段差が0.0
μm以上1.0μm以下となるようにコントロールする
には、支持体表面の空隙の容積が特定されている支持体
に、その容積に対して乾燥後の体積が支持体の空隙の容
積−0.5〜+0.5cc/m2の量となるように塗布
量を制御して塗布することで可能となる。これは予め作
成しておいた支持体の空隙の容積を測定した後、所定の
量の感光層を塗布してもよいし、粗面化と感光層の塗布
を同時に行う場合は、粗面化の工程条件と表面の空隙の
容積との関係を予め把握しておき、粗面化の工程条件に
応じて感光層の塗布量を制御すればよい。
【0037】次に請求項8及び9について説明する。請
求項8によれば、最も良好なK値を得ることができ、且
つ水幅も同時に改善される。請求項8の範囲となるよう
に各条件を制御するには、支持体表面の空隙の容積が特
定されている支持体に、その容積に対して乾燥後の体積
が支持体の空隙の容積−0.5〜+1.0cc/m2の
量となるように塗布量を制御して塗布し、さらに乾燥以
降の工程で感光層を平滑化する方法、即ち、請求項9の
製造方法によることで可能となる。
求項8によれば、最も良好なK値を得ることができ、且
つ水幅も同時に改善される。請求項8の範囲となるよう
に各条件を制御するには、支持体表面の空隙の容積が特
定されている支持体に、その容積に対して乾燥後の体積
が支持体の空隙の容積−0.5〜+1.0cc/m2の
量となるように塗布量を制御して塗布し、さらに乾燥以
降の工程で感光層を平滑化する方法、即ち、請求項9の
製造方法によることで可能となる。
【0038】感光層を平滑化する方法としては、例え
ば、乾燥時のレベリングを良好にする、乾燥後に感光層
側が鏡面化した金属ロール、裏面側を樹脂ロールとした
圧延ロールを用いて、適切な温度/圧力で圧延するとい
った方法が挙げられる。また、シート状の試料であれ
ば、感光層を塗布、乾燥後に平滑なガラス板に挟み、恒
温槽中に水平に設置して、適切な温度/圧力をかけて適
切な時間処理するといった方法が挙げられる。このよう
な平滑処理の後に、感光層表面にマット剤を付着させて
もよい。
ば、乾燥時のレベリングを良好にする、乾燥後に感光層
側が鏡面化した金属ロール、裏面側を樹脂ロールとした
圧延ロールを用いて、適切な温度/圧力で圧延するとい
った方法が挙げられる。また、シート状の試料であれ
ば、感光層を塗布、乾燥後に平滑なガラス板に挟み、恒
温槽中に水平に設置して、適切な温度/圧力をかけて適
切な時間処理するといった方法が挙げられる。このよう
な平滑処理の後に、感光層表面にマット剤を付着させて
もよい。
【0039】本発明に使用されるアルミニウム支持体に
は、純アルミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支
持体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、
ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いら
れる。
は、純アルミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支
持体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、
ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いら
れる。
【0040】アルミニウム支持体は、粗面化に先立って
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシンとトリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱
脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去する
ことができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶
液を用いた場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等
の、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが
好ましい。
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシンとトリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱
脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去する
ことができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶
液を用いた場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等
の、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが
好ましい。
【0041】支持体の粗面化としては、機械的粗面化、
電気化学的粗面化、若しくは機械的粗面化及び電気化学
的粗面化を適宜組み合わせた粗面化を行うことができ
る。
電気化学的粗面化、若しくは機械的粗面化及び電気化学
的粗面化を適宜組み合わせた粗面化を行うことができ
る。
【0042】機械的粗面化法は特に限定されないが、ブ
ラシ研磨、ホーニング研摩が好ましい。ブラシ研摩で
は、例えば、毛径0.2〜1mmのブラシ毛を植毛した
円筒状ブラシを回転し、接触面に研摩材を水に分散させ
たスラリーを供給しながら支持体表面に押し付けて粗面
化を行う。ホーニング研摩では、研摩材を水に分散させ
たスラリーをノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面
に斜めから衝突させて粗面化を行う。
ラシ研磨、ホーニング研摩が好ましい。ブラシ研摩で
は、例えば、毛径0.2〜1mmのブラシ毛を植毛した
円筒状ブラシを回転し、接触面に研摩材を水に分散させ
たスラリーを供給しながら支持体表面に押し付けて粗面
化を行う。ホーニング研摩では、研摩材を水に分散させ
たスラリーをノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面
に斜めから衝突させて粗面化を行う。
【0043】機械的に粗面化された支持体は、支持体の
表面に食い込んだ研摩材、アルミニウム屑等を取り除い
たり、ピット形状をコントロールする等の為に、酸又は
アルカリの水溶液に浸漬して表面をエッチングすること
が好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗
酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。
これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好まし
い。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場合に
は、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれら
の混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
表面に食い込んだ研摩材、アルミニウム屑等を取り除い
たり、ピット形状をコントロールする等の為に、酸又は
アルカリの水溶液に浸漬して表面をエッチングすること
が好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗
酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。
これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好まし
い。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場合に
は、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれら
の混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【0044】本発明は特に限定されないが、機械的粗面
化後に電気化学的粗面化を行ってもよい。電気化学的粗
面化は一般に酸性電解液中で交流電流を用いて粗面化を
行うものである。酸性電解液は通常、電気化学的粗面化
法に用いられるものが使用できるが、特に塩酸系又は硝
酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化法
については、例えば、特公昭48−28123号公報、
英国特許第896,563号明細書、特開昭53−67
507号公報に記載されており、本発明においては、こ
れらの方法を用いることができる。
化後に電気化学的粗面化を行ってもよい。電気化学的粗
面化は一般に酸性電解液中で交流電流を用いて粗面化を
行うものである。酸性電解液は通常、電気化学的粗面化
法に用いられるものが使用できるが、特に塩酸系又は硝
酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化法
については、例えば、特公昭48−28123号公報、
英国特許第896,563号明細書、特開昭53−67
507号公報に記載されており、本発明においては、こ
れらの方法を用いることができる。
【0045】電気化学的粗面化において印加される電圧
は、1〜50Vが好ましく、5〜30Vが更に好まし
い。電流密度は、10〜200A/dm2が好ましく、
20〜150A/dm2が更に好ましい。電気量は、1
00〜2000C/dm2、好ましくは200〜150
0C/dm2、より好ましくは200〜1000C/d
m2である。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜
45℃が更に好ましい。塩酸または硝酸濃度は、0.1
〜5重量%が好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸
塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム
酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。
は、1〜50Vが好ましく、5〜30Vが更に好まし
い。電流密度は、10〜200A/dm2が好ましく、
20〜150A/dm2が更に好ましい。電気量は、1
00〜2000C/dm2、好ましくは200〜150
0C/dm2、より好ましくは200〜1000C/d
m2である。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜
45℃が更に好ましい。塩酸または硝酸濃度は、0.1
〜5重量%が好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸
塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム
酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。
【0046】電気化学的に粗面化された支持体は、表面
のスマット等を取り除いたり、ピット形状をコントロー
ルする等の為に、酸又はアルカリの水溶液に浸漬して表
面をエッチングすることが好ましい。酸としては、例え
ば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含ま
れ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶
液を用いるのが好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸
漬処理を行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸
等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すこ
とが好ましい。
のスマット等を取り除いたり、ピット形状をコントロー
ルする等の為に、酸又はアルカリの水溶液に浸漬して表
面をエッチングすることが好ましい。酸としては、例え
ば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含ま
れ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶
液を用いるのが好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸
漬処理を行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸
等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すこ
とが好ましい。
【0047】さらに表面の保水性や耐摩耗性を高めるた
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形
成するものならばいかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、りん酸、蓚酸、クロム酸あるいはそ
れらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解
質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件
は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得な
いが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、
液温は1〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電圧
1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適
当である。特に好ましい硫酸法は通常直流電流で処理が
行われるが、交流を用いることも可能である。硫酸の濃
度は5〜30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で
5〜250秒間電解処理される。この電解液には、アル
ミニウムイオンが含まれている方が好ましい。さらにこ
のときの電流密度は1〜20A/dm2が好ましい。
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形
成するものならばいかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、りん酸、蓚酸、クロム酸あるいはそ
れらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解
質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件
は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得な
いが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、
液温は1〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電圧
1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適
当である。特に好ましい硫酸法は通常直流電流で処理が
行われるが、交流を用いることも可能である。硫酸の濃
度は5〜30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で
5〜250秒間電解処理される。この電解液には、アル
ミニウムイオンが含まれている方が好ましい。さらにこ
のときの電流密度は1〜20A/dm2が好ましい。
【0048】本発明に好ましく用いられる支持体は、陽
極酸化処理の後、支持体表面の空隙容積が本発明の請求
項7〜9の要件を満たすように、封孔処理を施してもよ
い。封孔処理としては、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸
ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、
酢酸アンモニウム処理等が挙げられる。
極酸化処理の後、支持体表面の空隙容積が本発明の請求
項7〜9の要件を満たすように、封孔処理を施してもよ
い。封孔処理としては、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸
ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、
酢酸アンモニウム処理等が挙げられる。
【0049】更に本発明に好ましく用いられる支持体
は、親水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層として
は、米国特許第3,181,461号明細書に記載のア
ルカリ金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明
細書に記載の親水性セルロース、特公平6−94234
号公報、同6−2436号公報に記載のアミノ酸及びそ
の塩、特公平5−32238号公報に記載の水酸基を有
するアミン類及びその塩、特開昭62−19494号公
報に記載の燐酸塩、特開昭59−101651号公報に
記載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合
物等が挙げられる。
は、親水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層として
は、米国特許第3,181,461号明細書に記載のア
ルカリ金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明
細書に記載の親水性セルロース、特公平6−94234
号公報、同6−2436号公報に記載のアミノ酸及びそ
の塩、特公平5−32238号公報に記載の水酸基を有
するアミン類及びその塩、特開昭62−19494号公
報に記載の燐酸塩、特開昭59−101651号公報に
記載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合
物等が挙げられる。
【0050】次に、上記表面処理された支持体上に、感
光性組成物を含む感光層を塗布することにより本発明の
感光性平版印刷版が得られる。この感光層中に用いられ
る感光性物質としては特に限定されるものはなく、通
常、感光性平版印刷版に用いられている種々のものを用
いることができる。
光性組成物を含む感光層を塗布することにより本発明の
感光性平版印刷版が得られる。この感光層中に用いられ
る感光性物質としては特に限定されるものはなく、通
常、感光性平版印刷版に用いられている種々のものを用
いることができる。
【0051】さらに感光性平版印刷版を重ねた時の感光
層への擦れ傷を防止するために及び/又は現像時、現像
液中へのアルミニウム成分の溶出を防止するために、特
開昭50−151136号、同57−63293号、同
60−73538号、同61−67863号、特開平3
−90388号、同6−35174号等に記載されてい
る支持体裏面に保護層を設ける処理を行うことができ
る。
層への擦れ傷を防止するために及び/又は現像時、現像
液中へのアルミニウム成分の溶出を防止するために、特
開昭50−151136号、同57−63293号、同
60−73538号、同61−67863号、特開平3
−90388号、同6−35174号等に記載されてい
る支持体裏面に保護層を設ける処理を行うことができ
る。
【0052】以下、感光物質について説明する。 (感光層)上記支持体上に感光性組成物からなる感光層
を塗布することにより本発明の感光性平版印刷版が得ら
れる。この感光層中に用いられる感光性物質は、ポジ型
感光性平版印刷版を得ようとする場合、o−キノンジア
ジド化合物であれば特に限定されるものではなく、通
常、例えば下記のような各種のものが使用される。
を塗布することにより本発明の感光性平版印刷版が得ら
れる。この感光層中に用いられる感光性物質は、ポジ型
感光性平版印刷版を得ようとする場合、o−キノンジア
ジド化合物であれば特に限定されるものではなく、通
常、例えば下記のような各種のものが使用される。
【0053】(o−キノンジアジド化合物を含む感光性
組成物)使用されるo−キノンジアジド化合物を含む感
光性組成物においては、o−キノンジアジド化合物とア
ルカリ可溶性樹脂を併用する。o−キノンジアジド化合
物としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮
合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
組成物)使用されるo−キノンジアジド化合物を含む感
光性組成物においては、o−キノンジアジド化合物とア
ルカリ可溶性樹脂を併用する。o−キノンジアジド化合
物としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮
合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
【0054】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
【0055】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
【0056】更にo−キノンジアジド化合物としては特
開昭58−43451号公報に記載のある以下の化合物
も使用できる。即ち、例えば1,2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド化合
物、更に具体的にはジェイ・コサール(J.Kosa
r)著「ライト−センシティブ・システムズ」(Lig
ht−Sensitive Systems)第339
〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・アンド
・サンズ(John Willey &Sons)社
(ニューヨーク)やダブリュ・エス・ディ・フォレスト
(W.S.De Forest)著「フォトレジスト」
(Photoresist)第50巻(1975年)、
マックローヒル(Mc Graw Hill)社(ニュ
ーヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノンジア
ジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,2,1
´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−スルホニ
ル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾキノン
ジアジド−4−(N−エチル−M−β−ナフチル)−ス
ルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメチ
ルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−4´−アゾ−β
−ナフトール−エステル、N,N−ジ−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2´
−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルオ
キシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン−2,4−ジヒドロ
キシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノノジ
アジド−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4´−ジアミ
ノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4
´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェニルスルホン1モ
ルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド1モルとプルプロガリン1モルとの縮
合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒ
ドロアビエチル)−スルホンアミド等の1,2−キノン
ジアジド化合物を例示することができる。また、特公昭
37−1953号、同37−3627号、同37−13
109号、同40−26126号、同40−3801
号、同45−5604号、同45−27345号、同5
1−13013号、特開昭48−96575号、同48
−63802号、同48−63803号各公報に記載さ
れた1,2−キノンジアジド化合物も挙げることができ
る。
開昭58−43451号公報に記載のある以下の化合物
も使用できる。即ち、例えば1,2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド化合
物、更に具体的にはジェイ・コサール(J.Kosa
r)著「ライト−センシティブ・システムズ」(Lig
ht−Sensitive Systems)第339
〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・アンド
・サンズ(John Willey &Sons)社
(ニューヨーク)やダブリュ・エス・ディ・フォレスト
(W.S.De Forest)著「フォトレジスト」
(Photoresist)第50巻(1975年)、
マックローヒル(Mc Graw Hill)社(ニュ
ーヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノンジア
ジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,2,1
´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−スルホニ
ル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾキノン
ジアジド−4−(N−エチル−M−β−ナフチル)−ス
ルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメチ
ルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−4´−アゾ−β
−ナフトール−エステル、N,N−ジ−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2´
−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルオ
キシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン−2,4−ジヒドロ
キシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノノジ
アジド−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4´−ジアミ
ノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4
´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェニルスルホン1モ
ルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド1モルとプルプロガリン1モルとの縮
合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒ
ドロアビエチル)−スルホンアミド等の1,2−キノン
ジアジド化合物を例示することができる。また、特公昭
37−1953号、同37−3627号、同37−13
109号、同40−26126号、同40−3801
号、同45−5604号、同45−27345号、同5
1−13013号、特開昭48−96575号、同48
−63802号、同48−63803号各公報に記載さ
れた1,2−キノンジアジド化合物も挙げることができ
る。
【0057】上記o−キノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。o−キノン
ジアジド化合物としては上記化合物を各々単独で用いて
もよいし、2種以上組合せて用いてもよい。o−キノン
ジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合は、6〜
60重量%が好ましく、特に好ましいのは、10〜50
重量%である。
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。o−キノン
ジアジド化合物としては上記化合物を各々単独で用いて
もよいし、2種以上組合せて用いてもよい。o−キノン
ジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合は、6〜
60重量%が好ましく、特に好ましいのは、10〜50
重量%である。
【0058】(ジアゾ化合物)一方、ネガ型感光性平版
印刷版を得ようとする場合、公知のジアゾ化合物を含む
感光性組成物を用いればよい。
印刷版を得ようとする場合、公知のジアゾ化合物を含む
感光性組成物を用いればよい。
【0059】この感光性組成物中のジアゾ化合物は、例
えば、好ましくは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデ
ヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物で代表されるジ
アゾ樹脂である。特に好ましくは、p−ジアゾフェニル
アミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの
縮合物の塩、例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラ
フルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前
記縮合物との反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米
国特許第3,300,309号明細書中に記載されてい
るような、前記縮合物とスルホン酸類との反応生成物で
あるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹
脂は、好ましくは結合剤と共に使用される。かかる結合
剤としては種々の高分子化合物を使用することができる
が、好ましくは特開昭54−98613号公報に記載さ
れているような芳香族性水酸基を有する単量体、例えば
N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、
m−、またはp−ヒドロキシスチレン、o−、m−、ま
たはp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の単
量体との共重合体、米国特許第4,123,276号明
細書中に記載されているようなヒドロキシエチルアクリ
レート単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位
を主な繰り返し単位として含むポリマー、シェラック、
ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許
第3,751,257号明細書中に記載されているよう
な線状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタ
レート化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリン
から縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロ
ースアセテートフタレート等のセルロール誘導体が包含
される。
えば、好ましくは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデ
ヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物で代表されるジ
アゾ樹脂である。特に好ましくは、p−ジアゾフェニル
アミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの
縮合物の塩、例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラ
フルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前
記縮合物との反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米
国特許第3,300,309号明細書中に記載されてい
るような、前記縮合物とスルホン酸類との反応生成物で
あるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹
脂は、好ましくは結合剤と共に使用される。かかる結合
剤としては種々の高分子化合物を使用することができる
が、好ましくは特開昭54−98613号公報に記載さ
れているような芳香族性水酸基を有する単量体、例えば
N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、
m−、またはp−ヒドロキシスチレン、o−、m−、ま
たはp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の単
量体との共重合体、米国特許第4,123,276号明
細書中に記載されているようなヒドロキシエチルアクリ
レート単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位
を主な繰り返し単位として含むポリマー、シェラック、
ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許
第3,751,257号明細書中に記載されているよう
な線状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタ
レート化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリン
から縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロ
ースアセテートフタレート等のセルロール誘導体が包含
される。
【0060】本発明に好ましく用いられる支持体に用い
ることができる感光性組成物としては、上記の他にも次
のようなものが使用できる。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
ることができる感光性組成物としては、上記の他にも次
のようなものが使用できる。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
【0061】
【化1】 を含む感光性樹脂、及び重合体の側鎖に感光基を有する
ポリビニルシンナメート等が挙げられる。
ポリビニルシンナメート等が挙げられる。
【0062】2)光重合系感光性樹脂組成物 付加重合性不飽和化合物を含む光重合成性組成物であっ
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
【0063】一例を挙げるとメタクリル酸メチルを含む
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
【0064】(アルカリ可溶性樹脂)アルカリ可溶性樹
脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報に
記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との縮合樹脂等が挙げられる。
脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報に
記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との縮合樹脂等が挙げられる。
【0065】ノボラック樹脂としては、例えばフェノー
ル・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載
されているようなp−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体樹脂
等が挙げられる。
ル・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載
されているようなp−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体樹脂
等が挙げられる。
【0066】前記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレ
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.
00×103〜3.00×104、より好ましくはMn
が5.00×102〜4.00×103、Mwが3.0
0×103〜2.00×104である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.
00×103〜3.00×104、より好ましくはMn
が5.00×102〜4.00×103、Mwが3.0
0×103〜2.00×104である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
【0067】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、フェノール
性水酸基を有するビニル系共重合体としては、該フェノ
ール性水酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体
であり、下記一般式[I]〜[V]の少なくとも1つの
構造単位を含む重合体が好ましい。
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、フェノール
性水酸基を有するビニル系共重合体としては、該フェノ
ール性水酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体
であり、下記一般式[I]〜[V]の少なくとも1つの
構造単位を含む重合体が好ましい。
【0068】
【化2】 [式中、R1およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル
基又はカルボキシル基、好ましくは水素原子を表わす。
R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表わ
し、好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のア
ルキル基を表わす。R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表わし、好ましくは水素原子
を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子
とを連結する、置換基を有していてもよいアルキレン基
を表わし、mは0〜10の整数を表わし、Bは置換基を
有していてもよいフェニレン基又は置換基を有してもよ
いナフチレン基を表わす。]
基又はカルボキシル基、好ましくは水素原子を表わす。
R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表わ
し、好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のア
ルキル基を表わす。R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表わし、好ましくは水素原子
を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子
とを連結する、置換基を有していてもよいアルキレン基
を表わし、mは0〜10の整数を表わし、Bは置換基を
有していてもよいフェニレン基又は置換基を有してもよ
いナフチレン基を表わす。]
【0069】重合体としては共重合体型の構造を有する
ものが好ましく、前記一般式[I]〜一般式[V]でそ
れぞれ示される構造単位と組合せて用いることができる
単量体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、イ
ソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不
飽和オフィレン類、例えばスチレン、α−メチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチ
レン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル
酸類、例えばイタコン、マレイン酸、無水マレイン酸等
の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−
2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロア
クリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノ
カルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メ
タアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアクリルア
ミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロ
ロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m
−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデ
ンシアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレ
ン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシ
エチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1
−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導体類、
例えばN−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデン、N−ビ
ニルピロリドン等のN−ビニル系単量体がある。これら
のビニル系単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
ものが好ましく、前記一般式[I]〜一般式[V]でそ
れぞれ示される構造単位と組合せて用いることができる
単量体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、イ
ソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不
飽和オフィレン類、例えばスチレン、α−メチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチ
レン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル
酸類、例えばイタコン、マレイン酸、無水マレイン酸等
の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−
2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロア
クリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノ
カルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メ
タアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアクリルア
ミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロ
ロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m
−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデ
ンシアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレ
ン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシ
エチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1
−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導体類、
例えばN−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデン、N−ビ
ニルピロリドン等のN−ビニル系単量体がある。これら
のビニル系単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
【0070】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、重合体中
にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結合して
いてもよい。
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、重合体中
にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結合して
いてもよい。
【0071】ビニル系重合体の感光性組成物中に占める
割合は0.5〜70重量%であることが好ましい。ビニ
ル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又
2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物
等と組合せて用いることもできる。
割合は0.5〜70重量%であることが好ましい。ビニ
ル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又
2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物
等と組合せて用いることもできる。
【0072】(有機酸・無機酸・酸無水物)本発明に好
ましく用いられる支持体に塗布される感光性組成物に
は、有機酸・無機酸・酸無水物が含有されてもよい。使
用される酸としては、例えば特開昭60−88942
号、特願昭63−293107号に記載の有機酸と、日
本化学会編「化学便覧新版」(丸善出版)第92〜15
8頁に記載の無機酸が挙げられる。有機酸の例として
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタ
ンスルホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジス
ルホン酸等のスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、
ベンジルスルフィン酸、メタンスルフィン酸等のスルフ
ィン酸、フェニルホスホン酸、メチルホスホン酸、クロ
ルメチルホスホン酸等のホスホン酸、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、
ヘプタン酸等の脂肪族モノカルボン酸、シクロヘキサン
カルボン酸等の脂環式モノカルボン酸、安息香酸、o
−、m−、p−ヒドロキシ安息香酸、o−、m−、p−
メトキシ安息香酸、o−、m−、p−メチル安息香酸、
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、フロログリシンカルボ
ン酸、没食子酸、3,5−ジメチル安息香酸等の芳香族
モノカルボン酸が挙げられる。また、マロン酸、メチル
マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、イタコン酸、リンゴ酸等の飽和または、不
飽和脂肪族ジカルボン酸、テトラヒドロフタル酸、1,
1−シクロブタンジカルボン酸、1,1−シクロペンタ
ンジカルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン
酸、1,1−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジ
カルボン酸等の脂環式ジカルボン酸、フタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸等を挙げ
ることができる。
ましく用いられる支持体に塗布される感光性組成物に
は、有機酸・無機酸・酸無水物が含有されてもよい。使
用される酸としては、例えば特開昭60−88942
号、特願昭63−293107号に記載の有機酸と、日
本化学会編「化学便覧新版」(丸善出版)第92〜15
8頁に記載の無機酸が挙げられる。有機酸の例として
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタ
ンスルホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジス
ルホン酸等のスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、
ベンジルスルフィン酸、メタンスルフィン酸等のスルフ
ィン酸、フェニルホスホン酸、メチルホスホン酸、クロ
ルメチルホスホン酸等のホスホン酸、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、
ヘプタン酸等の脂肪族モノカルボン酸、シクロヘキサン
カルボン酸等の脂環式モノカルボン酸、安息香酸、o
−、m−、p−ヒドロキシ安息香酸、o−、m−、p−
メトキシ安息香酸、o−、m−、p−メチル安息香酸、
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、フロログリシンカルボ
ン酸、没食子酸、3,5−ジメチル安息香酸等の芳香族
モノカルボン酸が挙げられる。また、マロン酸、メチル
マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、イタコン酸、リンゴ酸等の飽和または、不
飽和脂肪族ジカルボン酸、テトラヒドロフタル酸、1,
1−シクロブタンジカルボン酸、1,1−シクロペンタ
ンジカルボン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン
酸、1,1−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジ
カルボン酸等の脂環式ジカルボン酸、フタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸等を挙げ
ることができる。
【0073】上記有機酸の内、より好ましいものは、p
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、またはcis−1,2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、シリンガ酸等がある。
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、またはcis−1,2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、シリンガ酸等がある。
【0074】無機酸の例としては、硝酸、硫酸、塩酸、
ケイ酸、リン酸等が挙げられ、さらに好ましくは、硫
酸、リン酸である。
ケイ酸、リン酸等が挙げられ、さらに好ましくは、硫
酸、リン酸である。
【0075】酸無水物を用いる場合の酸無水物の種類も
任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香
酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導されるも
の、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、
無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から誘導
されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無水物
は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これらの化
合物は、単独あるいは2種以上混合して使用できる。
任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香
酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導されるも
の、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、
無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から誘導
されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無水物
は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これらの化
合物は、単独あるいは2種以上混合して使用できる。
【0076】これらの酸の含有量は、全感光性組成物の
全固形分に対して、一般的に0.05〜5重量%であっ
て、好ましくは、0.1〜3重量%の範囲である。
全固形分に対して、一般的に0.05〜5重量%であっ
て、好ましくは、0.1〜3重量%の範囲である。
【0077】(界面活性剤)本発明に好ましく用いられ
る支持体に塗布される感光性組成物は界面活性剤を含ん
でもよい。界面活性剤としては、両性界面活性剤、アニ
オン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活
性剤、フッ素系界面活性剤等を挙げることができる。界
面活性剤が感光性組成物中に占める割合は、0.01〜
10重量%であることが好ましく、さらに好ましくは
0.01〜5重量%で使用される。
る支持体に塗布される感光性組成物は界面活性剤を含ん
でもよい。界面活性剤としては、両性界面活性剤、アニ
オン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活
性剤、フッ素系界面活性剤等を挙げることができる。界
面活性剤が感光性組成物中に占める割合は、0.01〜
10重量%であることが好ましく、さらに好ましくは
0.01〜5重量%で使用される。
【0078】(プリントアウト材料)感光性組成物に
は、露光より可視画像を形成させるプリントアウト材料
を添加することができる。プリントアウト材料は露光に
より酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用する
ことによってその色調を変える有機染料よりなるもの
で、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物とし
ては、例えば特開昭50−36209号公報に記載のo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、
特開昭53−36223号公報に記載されているo−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子
吸引性置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸
とのエステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−
77742号公報、特開昭57−148784号公報等
に記載のハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及び
ジアゾニウム塩等が挙げられる。
は、露光より可視画像を形成させるプリントアウト材料
を添加することができる。プリントアウト材料は露光に
より酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用する
ことによってその色調を変える有機染料よりなるもの
で、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物とし
ては、例えば特開昭50−36209号公報に記載のo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、
特開昭53−36223号公報に記載されているo−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子
吸引性置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸
とのエステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−
77742号公報、特開昭57−148784号公報等
に記載のハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及び
ジアゾニウム塩等が挙げられる。
【0079】(露光により酸または遊離基を生成する化
合物)本発明に好ましく用いられる支持体に塗布される
感光性組成物に用いることができる、露光により酸また
は遊離基を生成する化合物としては、例えば、ハロメチ
ルオキサジアゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジ
ン化合物等が用いられる。ハロメチルオキサジアゾール
化合物とは、オキサジアゾール類にハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。
合物)本発明に好ましく用いられる支持体に塗布される
感光性組成物に用いることができる、露光により酸また
は遊離基を生成する化合物としては、例えば、ハロメチ
ルオキサジアゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジ
ン化合物等が用いられる。ハロメチルオキサジアゾール
化合物とは、オキサジアゾール類にハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。
【0080】これらの化合物は公知であり、例えば特公
昭57−6096号公報、同61−51788号公報、
特公平1−28369号公報、特開昭60−13853
9号公報、同60−177340号公報、同60−24
1049号公報等に記載されている。
昭57−6096号公報、同61−51788号公報、
特公平1−28369号公報、特開昭60−13853
9号公報、同60−177340号公報、同60−24
1049号公報等に記載されている。
【0081】また、ハロメチル−s−トリアジン化合物
とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。上記
支持体に塗布される感光性組成物中における前記露光に
より酸又は遊離基を生成する化合物の添加量は、0.0
1〜10重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜
30重量%であり、特に好ましくは、0.2〜3重量%
である。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合
して使用できる。
とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。上記
支持体に塗布される感光性組成物中における前記露光に
より酸又は遊離基を生成する化合物の添加量は、0.0
1〜10重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜
30重量%であり、特に好ましくは、0.2〜3重量%
である。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合
して使用できる。
【0082】(色素)本発明に好ましく用いられる支持
体に塗布される感光性組成物には、さらに色素を用いる
ことができる。該色素は、露光による可視画像(露光可
視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的として使
用される。
体に塗布される感光性組成物には、さらに色素を用いる
ことができる。該色素は、露光による可視画像(露光可
視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的として使
用される。
【0083】該色素としては、フリーラジカルまたは酸
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、、ローダミンB、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、、ローダミンB、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
【0084】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変色
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.01〜10重
量%であることが好ましく、更に好ましくは0.02〜
5重量%で使用される。これらの化合物は、単独あるい
は2種以上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素
は、ビクトリアピュアブルーBOH、オイルブルー#6
03である。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変色
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.01〜10重
量%であることが好ましく、更に好ましくは0.02〜
5重量%で使用される。これらの化合物は、単独あるい
は2種以上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素
は、ビクトリアピュアブルーBOH、オイルブルー#6
03である。
【0085】(感脂化剤)画像部の感脂性を向上させる
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、あるいはこ
れらとo−キノンジアジド化合物との部分エステル化
物、フッ素系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの5
0%脂肪酸エステル等)、等が好ましく用いられる。こ
れらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異
なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜30重
量%である。
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、あるいはこ
れらとo−キノンジアジド化合物との部分エステル化
物、フッ素系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの5
0%脂肪酸エステル等)、等が好ましく用いられる。こ
れらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異
なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜30重
量%である。
【0086】これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
本発明により製造される支持体の表面に塗布乾燥させる
ことにより、感光層を設けて、感光性平版印刷版を製造
することができる。
本発明により製造される支持体の表面に塗布乾燥させる
ことにより、感光層を設けて、感光性平版印刷版を製造
することができる。
【0087】(溶媒)本発明に好ましく用いられる支持
体に用いられる感光性組成物を溶解する際に使用し得る
溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プロパノ
ール、i−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタ
ノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類、アリル
アルコール、ベンジルアルコール、アニソール、フェネ
トール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナン、デカン等の炭化水素類、ジアセトンア
ルコール、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキ
シ−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブタノール、
3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メト
キシ−3−エチル−1−1ペンタノール−4−エトキシ
−1−ペンタノール、5−メトキシ−1−ヘキサノー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケ
トン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチ
ルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチ
ルケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノン、シクロ
ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−ブチロラク
トン、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ
−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5
−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−
ペンタノン、6−ヒドロキシ−2−ヘキサノン、3−メ
チル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリ
コールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテート、エチレング
リコールアルキルエーテル類およびそのアセテート(メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート)、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類およびそのアセテー
ト(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエ
チルエーテル、モノi−プロピルエーテル、モノブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート等)、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル類(DMDG、DEDG、DBDG、MEDG)、ト
リエチレングリコールアルキルエーテル類(モノメチル
エーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル等)、プロピレ
ングリコールアルキルエーテル類およびそのアセテート
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロ
ピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテルアセテー
ト、モノエチルエーテルアセテート等)、ジプロピレン
グリコールアルキルエーテル類(モノメチルエーテル、
モノエチルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチ
ルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル)、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メ
チル、安息香酸エチル、炭酸プロピレン等が挙げられ
る。これらの溶媒は、単独あるいは2種以上混合して使
用できる。
体に用いられる感光性組成物を溶解する際に使用し得る
溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プロパノ
ール、i−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタ
ノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類、アリル
アルコール、ベンジルアルコール、アニソール、フェネ
トール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナン、デカン等の炭化水素類、ジアセトンア
ルコール、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキ
シ−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブタノール、
3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メト
キシ−3−エチル−1−1ペンタノール−4−エトキシ
−1−ペンタノール、5−メトキシ−1−ヘキサノー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケ
トン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチ
ルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチ
ルケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノン、シクロ
ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−ブチロラク
トン、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ
−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5
−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−
ペンタノン、6−ヒドロキシ−2−ヘキサノン、3−メ
チル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリ
コールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテート、エチレング
リコールアルキルエーテル類およびそのアセテート(メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート)、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類およびそのアセテー
ト(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエ
チルエーテル、モノi−プロピルエーテル、モノブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート等)、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル類(DMDG、DEDG、DBDG、MEDG)、ト
リエチレングリコールアルキルエーテル類(モノメチル
エーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル等)、プロピレ
ングリコールアルキルエーテル類およびそのアセテート
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロ
ピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテルアセテー
ト、モノエチルエーテルアセテート等)、ジプロピレン
グリコールアルキルエーテル類(モノメチルエーテル、
モノエチルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチ
ルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル)、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メ
チル、安息香酸エチル、炭酸プロピレン等が挙げられ
る。これらの溶媒は、単独あるいは2種以上混合して使
用できる。
【0088】(被覆層)感光性平版印刷版は、上記感光
層上に皮膜形成能を有する水不溶性で有機溶媒可溶性の
高分子化合物から成る被覆層を形成することができる。
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼
き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、
且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ま
しい。具体的には、特開昭50−125805号、特公
昭57−6582号、同61−28986号の各公報に
記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭6
2−62337号公報に記載されているような固体粉末
を熱融着させる方法等が挙げられる。
層上に皮膜形成能を有する水不溶性で有機溶媒可溶性の
高分子化合物から成る被覆層を形成することができる。
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼
き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、
且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ま
しい。具体的には、特開昭50−125805号、特公
昭57−6582号、同61−28986号の各公報に
記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭6
2−62337号公報に記載されているような固体粉末
を熱融着させる方法等が挙げられる。
【0089】(マット剤)マット層の目的は密着露光に
おける画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がア
ルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可
能な物が望ましい。
おける画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がア
ルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可
能な物が望ましい。
【0090】(包接化合物)本発明に好ましく用いられ
る支持体に塗布される感光性組成物は、包接化合物を含
有してもよい。包接化合物の包接とは、原子又は分子が
結合してできた三次元構造の内部に空孔があり、その中
に別又は分子が一定の組成比で入り込み、特定の構造を
とっている状態である。従って包接化合物とは、自らが
形成している空孔に別の分子又は原子を取り込む性質を
もつ化合物を指す。この包接を引き起こす駆動力として
は、疎水相互作用、イオン相互作用、水素結合、ファン
デルワールス力等が考えられる。包接化合物の具体例と
しては、シクロデキストリン、クラウンエーテル、シク
ロファン、アザシクロファン、カリックスアレン、シク
ロトリベラトリレン、スフェランド、キャピタンド、環
状オリゴペプチド等の単分子で包接能をもつもの、尿
素、チオ尿素、テオキシコール酸、アポコール酸、コー
ル酸、ジニトロジフェニル、ヒドロキノン、ペルヒドロ
トリフェニレン、トリ−o−チモイド、オキシフラバ
ン、ジシアノアンミンニッケル、ジオキシトリフェニル
メタン、メチルナフタリン、スピロクマリン、ペルヒド
ロトリフェニレン等の多分子系で包接能をもつものが挙
げられる。さらにセルロース、デンプン、キチン、キト
サン、タンパク質等の天然高分子やポリビニルアルコー
ル等の合成高分子も種々の化合物を包接する。これらの
化合物は、単独或いは2種以上混合して使用できる。
る支持体に塗布される感光性組成物は、包接化合物を含
有してもよい。包接化合物の包接とは、原子又は分子が
結合してできた三次元構造の内部に空孔があり、その中
に別又は分子が一定の組成比で入り込み、特定の構造を
とっている状態である。従って包接化合物とは、自らが
形成している空孔に別の分子又は原子を取り込む性質を
もつ化合物を指す。この包接を引き起こす駆動力として
は、疎水相互作用、イオン相互作用、水素結合、ファン
デルワールス力等が考えられる。包接化合物の具体例と
しては、シクロデキストリン、クラウンエーテル、シク
ロファン、アザシクロファン、カリックスアレン、シク
ロトリベラトリレン、スフェランド、キャピタンド、環
状オリゴペプチド等の単分子で包接能をもつもの、尿
素、チオ尿素、テオキシコール酸、アポコール酸、コー
ル酸、ジニトロジフェニル、ヒドロキノン、ペルヒドロ
トリフェニレン、トリ−o−チモイド、オキシフラバ
ン、ジシアノアンミンニッケル、ジオキシトリフェニル
メタン、メチルナフタリン、スピロクマリン、ペルヒド
ロトリフェニレン等の多分子系で包接能をもつものが挙
げられる。さらにセルロース、デンプン、キチン、キト
サン、タンパク質等の天然高分子やポリビニルアルコー
ル等の合成高分子も種々の化合物を包接する。これらの
化合物は、単独或いは2種以上混合して使用できる。
【0091】(塗布)感光性組成物や被覆層又はマット
層を支持体表面に塗布する際に用いる塗布方法として
は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、
ブレード塗布及びカーテン塗布等が用いられる。
層を支持体表面に塗布する際に用いる塗布方法として
は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、
ブレード塗布及びカーテン塗布等が用いられる。
【0092】(露光)こうして得られた感光性平版印刷
版の使用に際しては、従来から常用されている方法を適
用することができ、例えば線画像、網点画像などを有す
る透明原画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適
当な現像液を用いて非画像部の感光性層を除去すること
によりレリーフ像が得られる。露光に好適な光源として
は、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
版の使用に際しては、従来から常用されている方法を適
用することができ、例えば線画像、網点画像などを有す
る透明原画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適
当な現像液を用いて非画像部の感光性層を除去すること
によりレリーフ像が得られる。露光に好適な光源として
は、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
【0093】(処理)感光性平版印刷版の処理(現像)
に用いられる現像液、現像補充液は特に限定されず、一
般的には何れもアルカリ金属珪酸塩を含むものである。
アルカリ金属珪酸塩のアルカリ金属としては、リチウ
ム、ナトリウム、カリウムが含まれるが、このうちカリ
ウムが最も好ましい。現像の際、感光性平版印刷版の現
像処理量に合わせて、適当に現像補充液が補充される。
請求項10記載の処理方法においては、現像液として、
アルカリ金属珪酸塩を含みアルカリ金属珪酸塩の[Si
O2]/[M]が0.25〜0.75、好ましくは0.
30〜0.75であり、且つSiO2濃度が現像液組成
物の総重量に対して1〜4重量%、好ましくは1〜3重
量%である現像液(但し、[SiO2]はSiO2のモ
ル濃度を表し、[M]はアルカリ金属のモル濃度を表
す。)を用いて現像する。
に用いられる現像液、現像補充液は特に限定されず、一
般的には何れもアルカリ金属珪酸塩を含むものである。
アルカリ金属珪酸塩のアルカリ金属としては、リチウ
ム、ナトリウム、カリウムが含まれるが、このうちカリ
ウムが最も好ましい。現像の際、感光性平版印刷版の現
像処理量に合わせて、適当に現像補充液が補充される。
請求項10記載の処理方法においては、現像液として、
アルカリ金属珪酸塩を含みアルカリ金属珪酸塩の[Si
O2]/[M]が0.25〜0.75、好ましくは0.
30〜0.75であり、且つSiO2濃度が現像液組成
物の総重量に対して1〜4重量%、好ましくは1〜3重
量%である現像液(但し、[SiO2]はSiO2のモ
ル濃度を表し、[M]はアルカリ金属のモル濃度を表
す。)を用いて現像する。
【0094】また請求項11記載の処理方法において
は、補充液として、アルカリ金属珪酸塩の[SiO2]
/[M]が0.25〜0.75、好ましくは0.25〜
0.50であり、且つSiO2濃度が補充液組成物の総
重量に対して1〜4重量%、好ましくは3〜4重量%で
ある補充液をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に補充す
る。
は、補充液として、アルカリ金属珪酸塩の[SiO2]
/[M]が0.25〜0.75、好ましくは0.25〜
0.50であり、且つSiO2濃度が補充液組成物の総
重量に対して1〜4重量%、好ましくは3〜4重量%で
ある補充液をアルカリ金属珪酸塩を含む現像液に補充す
る。
【0095】上記現像液、現像補充液には、水溶性又は
アルカリ可溶性の有機および無機の還元剤を含有させる
ことができる。有機の還元剤としては、例えば、ハイド
ロキノン、メトール、メトキシキノン等のフェノール化
合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジン等のア
ミン化合物を挙げることができ、無機の還元剤として
は、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫
酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カ
リウム等の亜硫酸塩、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸カ
リウム、亜リン酸水素ナトリウム、亜リン酸水素カリウ
ム、亜リン酸二水素ナトリウム、亜リン酸二水素カリウ
ム等の亜リン酸塩、ヒドラジン、チオ硫酸ナトリウム、
亜ジチオン酸ナトリウム等を挙げることができる。これ
ら水溶性又はアルカリ可溶性還元剤は、現像液、現像補
充液に0.05〜10重量%を含有させることができ
る。
アルカリ可溶性の有機および無機の還元剤を含有させる
ことができる。有機の還元剤としては、例えば、ハイド
ロキノン、メトール、メトキシキノン等のフェノール化
合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジン等のア
ミン化合物を挙げることができ、無機の還元剤として
は、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫
酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カ
リウム等の亜硫酸塩、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸カ
リウム、亜リン酸水素ナトリウム、亜リン酸水素カリウ
ム、亜リン酸二水素ナトリウム、亜リン酸二水素カリウ
ム等の亜リン酸塩、ヒドラジン、チオ硫酸ナトリウム、
亜ジチオン酸ナトリウム等を挙げることができる。これ
ら水溶性又はアルカリ可溶性還元剤は、現像液、現像補
充液に0.05〜10重量%を含有させることができ
る。
【0096】また、現像液、現像補充液には、有機カル
ボン酸を含有させることができる。これら有機カルボン
酸には、炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸、およ
びベンゼン環またはナフタレン環にカルボキシル基が置
換した芳香族カルボン酸が包含される。
ボン酸を含有させることができる。これら有機カルボン
酸には、炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸、およ
びベンゼン環またはナフタレン環にカルボキシル基が置
換した芳香族カルボン酸が包含される。
【0097】脂肪族カルボン酸としては、炭素数6〜2
0のアルカン酸が好ましく、具体的な例としては、カプ
ロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸等が挙げられ、特に好ましくは、炭素数6
〜12のアルカン酸である。また、脂肪族カルボン酸
は、炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸であっても、枝
分れした炭素鎖を有する脂肪酸であってもよい。上記脂
肪族カルボン酸はナトリウムやカリウムの塩またはアン
モニウム塩として用いてもよい。
0のアルカン酸が好ましく、具体的な例としては、カプ
ロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸等が挙げられ、特に好ましくは、炭素数6
〜12のアルカン酸である。また、脂肪族カルボン酸
は、炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸であっても、枝
分れした炭素鎖を有する脂肪酸であってもよい。上記脂
肪族カルボン酸はナトリウムやカリウムの塩またはアン
モニウム塩として用いてもよい。
【0098】芳香族カルボン酸の具体的な化合物として
は、安息香酸、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香
酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−tert−ブチル安息香酸、o−アミノ安息香
酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香
酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2
−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−
ナフトエ酸等が挙げられる。上記芳香族カルボン酸はナ
トリウムやカリウムの塩またはアンモニウム塩として用
いてもよい。脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸の含
有量は少なくとも0.1〜30重量%を含有させること
ができる。
は、安息香酸、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香
酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−tert−ブチル安息香酸、o−アミノ安息香
酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香
酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2
−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−
ナフトエ酸等が挙げられる。上記芳香族カルボン酸はナ
トリウムやカリウムの塩またはアンモニウム塩として用
いてもよい。脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸の含
有量は少なくとも0.1〜30重量%を含有させること
ができる。
【0099】また、現像液、現像補充液には、各種アニ
オン型、ノニオン型、カチオン型の各界面活性剤および
有機溶媒を含有させることができる。更に、現像液、現
像補充液には、公知の添加物を添加することができる。
オン型、ノニオン型、カチオン型の各界面活性剤および
有機溶媒を含有させることができる。更に、現像液、現
像補充液には、公知の添加物を添加することができる。
【0100】(消去液)次に上記処理によって得られた
平版印刷版の版面を修正処理する際に用いられる請求項
12記載の消去液について説明する。本発明に用いられ
る消去液は実質的にキシレンを含まないものである。キ
シレンを実質的に含まないとは、キシレン含有量が0.
1%以下であることを言い、全く含まないことがより好
ましい。
平版印刷版の版面を修正処理する際に用いられる請求項
12記載の消去液について説明する。本発明に用いられ
る消去液は実質的にキシレンを含まないものである。キ
シレンを実質的に含まないとは、キシレン含有量が0.
1%以下であることを言い、全く含まないことがより好
ましい。
【0101】消去液に含有させることが好ましい画像部
を溶解又は膨潤させる溶剤としては、例えばラクトン
類、エーテル類、ケトン類、アルコール類、炭化水素系
溶媒類等がある。上記ラクトン類としては、ブチロラク
トン、バレロラクトン及びヘキサノラクトン等があり、
エーテル類としてはグリコールエーテル類がある。例え
ば2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、
2−イソプロポキシエタノール、2−ブチルグリコール
等のグリコールモノアルキルエーテル類、例えば2−フ
ェニルエタノール等のグリコールモノアリールエーテル
類、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
イソブチルエーテル等のジチエレングリコールモノアル
キルエーテル類、例えばトリエチレングリコールモノメ
チルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエー
テル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の
トリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、例え
ばエチレングリコールジメチルエーテル等のエチレング
リコールジアルキルエーテル類、例えばジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル等のジエチレングリコールジエチルエーテル
等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類などが
含まれる。ケトン類には、例えばメチルエチルケトン、
メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルブチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、エチルブチルケト
ン、ブチロン、メチルアミルケトン、メチルヘキシルケ
トン、バレロン、メシチルオキシド、ジアセトンアルコ
ール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ア
セトフェノン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト
ニルアセトン等が含まれる。アルコール類としては、例
えばメタノール、エタノール、ブタノール、オクチルア
ルコール、ベンジルアルコール等が挙げられる。これら
の他にN,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、N−メチルピロリドン、ジメチルス
ルホキシド等も挙げられる。
を溶解又は膨潤させる溶剤としては、例えばラクトン
類、エーテル類、ケトン類、アルコール類、炭化水素系
溶媒類等がある。上記ラクトン類としては、ブチロラク
トン、バレロラクトン及びヘキサノラクトン等があり、
エーテル類としてはグリコールエーテル類がある。例え
ば2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、
2−イソプロポキシエタノール、2−ブチルグリコール
等のグリコールモノアルキルエーテル類、例えば2−フ
ェニルエタノール等のグリコールモノアリールエーテル
類、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
イソブチルエーテル等のジチエレングリコールモノアル
キルエーテル類、例えばトリエチレングリコールモノメ
チルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエー
テル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の
トリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、例え
ばエチレングリコールジメチルエーテル等のエチレング
リコールジアルキルエーテル類、例えばジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル等のジエチレングリコールジエチルエーテル
等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類などが
含まれる。ケトン類には、例えばメチルエチルケトン、
メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルブチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、エチルブチルケト
ン、ブチロン、メチルアミルケトン、メチルヘキシルケ
トン、バレロン、メシチルオキシド、ジアセトンアルコ
ール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ア
セトフェノン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト
ニルアセトン等が含まれる。アルコール類としては、例
えばメタノール、エタノール、ブタノール、オクチルア
ルコール、ベンジルアルコール等が挙げられる。これら
の他にN,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、N−メチルピロリドン、ジメチルス
ルホキシド等も挙げられる。
【0102】上記の各種画像溶媒及び膨潤剤は単独もし
くは2種以上組み合わせて使用することができる。上記
溶剤は、本発明の消去液総重量に対して20〜90重量
%、より好ましくは30〜85重量%の範囲で含有させ
るのが適当である。
くは2種以上組み合わせて使用することができる。上記
溶剤は、本発明の消去液総重量に対して20〜90重量
%、より好ましくは30〜85重量%の範囲で含有させ
るのが適当である。
【0103】消去液には、必要に応じて界面活性剤を含
有させることができる。界面活性剤は本発明に用いられ
る消去液に含まれる各成分が平版印刷版の画像部へより
良好に浸透するのを促進し、更に消去液中に含まれる各
成分が良好に混合して安定な溶液を形成し得るようにす
る為に有効である。かかる界面活性剤としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオ
キシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部
分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペン
タエリストール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリ
コールモノ脂肪酸エステル、しょ糖脂肪酸部分エステ
ル、オキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマ
ー、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル
類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステ
ル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリ
グリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン
化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部
分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−
ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエ
チレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エ
ステル、トリアルキルアミンオキシド等の非イオン性界
面活性剤、脂肪酸塩類、アビチェン酸塩類、ヒドロキシ
アルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジ
アルキルスルホこはく酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキ
ルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテ
ル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム
類、N−アルキルスルホこはく酸モノアミド−2−ナト
リウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ひまし油、硫
酸化牛脚油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩
類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリ
ド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンス
チリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルり
ん酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルりん酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテルりん酸エステル塩類、スチレン−無水マ
レイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水
マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスル
ホン酸塩ホルマリン縮合物類等のアニオン性界面活性
剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポ
リアミン誘導体等のカチオン性界面活性剤、カルボキシ
ベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、
アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類等の両性界面活
性剤が挙げられる。以上挙げられた界面活性剤の中でポ
リオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、
ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオ
キシアルキレンに読み替えることもできる。
有させることができる。界面活性剤は本発明に用いられ
る消去液に含まれる各成分が平版印刷版の画像部へより
良好に浸透するのを促進し、更に消去液中に含まれる各
成分が良好に混合して安定な溶液を形成し得るようにす
る為に有効である。かかる界面活性剤としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオ
キシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部
分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペン
タエリストール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリ
コールモノ脂肪酸エステル、しょ糖脂肪酸部分エステ
ル、オキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマ
ー、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル
類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステ
ル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリ
グリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン
化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部
分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−
ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエ
チレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エ
ステル、トリアルキルアミンオキシド等の非イオン性界
面活性剤、脂肪酸塩類、アビチェン酸塩類、ヒドロキシ
アルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジ
アルキルスルホこはく酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキ
ルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテ
ル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム
類、N−アルキルスルホこはく酸モノアミド−2−ナト
リウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ひまし油、硫
酸化牛脚油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩
類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリ
ド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンス
チリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルり
ん酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルりん酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテルりん酸エステル塩類、スチレン−無水マ
レイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水
マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスル
ホン酸塩ホルマリン縮合物類等のアニオン性界面活性
剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポ
リアミン誘導体等のカチオン性界面活性剤、カルボキシ
ベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、
アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類等の両性界面活
性剤が挙げられる。以上挙げられた界面活性剤の中でポ
リオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、
ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオ
キシアルキレンに読み替えることもできる。
【0104】これらのうち、非イオン界面活性剤及び陰
イオン界面活性剤が好ましく、消去液中に含まれる各成
分が良好に混合することからHLBが9以上の界面活性
剤がより好ましい。さらに、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェニルエーテル類、オキシエチレンオキシプロピレ
ンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビトール
脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸
エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類は、
消去液の画像部消失効果を良好にするため好ましい。最
も好ましいものはオキシエチレンオキシプロピレンブロ
ックコポリマーである。これらの界面活性剤は単独でも
2種以上混合していてもよく、消去液の総重量に対して
好ましくは1〜40重量%、より好ましくは3〜25重
量%の範囲で含有させる。
イオン界面活性剤が好ましく、消去液中に含まれる各成
分が良好に混合することからHLBが9以上の界面活性
剤がより好ましい。さらに、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェニルエーテル類、オキシエチレンオキシプロピレ
ンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビトール
脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸
エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類は、
消去液の画像部消失効果を良好にするため好ましい。最
も好ましいものはオキシエチレンオキシプロピレンブロ
ックコポリマーである。これらの界面活性剤は単独でも
2種以上混合していてもよく、消去液の総重量に対して
好ましくは1〜40重量%、より好ましくは3〜25重
量%の範囲で含有させる。
【0105】本発明に用いられる消去液は、前記成分の
他に着色剤、酸性物質、水、粘度調節剤等を含有するこ
とができる。着色剤は視覚的にコントラストを望む場合
に含有させることができ、具体的には、例えばクリスタ
ルバイオレット、サフラニン、ブリリアントブルー、マ
ラカイトグリーン、アシドローダミンB等の染料を始め
として無機顔料、有機顔料等がある。これらの着色剤は
消去液の総重量に対して0.0001〜0.05重量
%、好ましくは0.001〜0.01重量%の範囲で用
いられる。
他に着色剤、酸性物質、水、粘度調節剤等を含有するこ
とができる。着色剤は視覚的にコントラストを望む場合
に含有させることができ、具体的には、例えばクリスタ
ルバイオレット、サフラニン、ブリリアントブルー、マ
ラカイトグリーン、アシドローダミンB等の染料を始め
として無機顔料、有機顔料等がある。これらの着色剤は
消去液の総重量に対して0.0001〜0.05重量
%、好ましくは0.001〜0.01重量%の範囲で用
いられる。
【0106】酸性物質としては、例えばフッ酸、塩酸、
硫酸、過硫酸、硝酸、過マンガン酸、リン酸、ホウフッ
化水素酸、珪フッ化水素酸等の無機酸、酢酸、くえん
酸、りんご酸、乳酸、蓚酸、トリクロル酢酸、タンニン
酸、フイチン酸、p−トルエンスルホン酸、ホスホン酸
等の有機酸及びそれらの塩等が挙げられる。これらの酸
性物質のうち、フッ酸、リン酸、ホウフッ化水素酸又は
それらの塩が修正効果向上のため好ましい。これらの酸
性物質は単独もしくは2種以上組み合わせて使用するこ
とができ、消去液の総重量に対して0.1〜15重量
%、好ましくは0.3〜8.0重量%の範囲で含有させ
られる。水は酸など種々の成分に含有していて必然的に
添加されるものの他、選択的に添加してもよい。好まし
い添加量は消去液の総重量に対して1〜30重量%、よ
り好ましくは3〜20重量%である。
硫酸、過硫酸、硝酸、過マンガン酸、リン酸、ホウフッ
化水素酸、珪フッ化水素酸等の無機酸、酢酸、くえん
酸、りんご酸、乳酸、蓚酸、トリクロル酢酸、タンニン
酸、フイチン酸、p−トルエンスルホン酸、ホスホン酸
等の有機酸及びそれらの塩等が挙げられる。これらの酸
性物質のうち、フッ酸、リン酸、ホウフッ化水素酸又は
それらの塩が修正効果向上のため好ましい。これらの酸
性物質は単独もしくは2種以上組み合わせて使用するこ
とができ、消去液の総重量に対して0.1〜15重量
%、好ましくは0.3〜8.0重量%の範囲で含有させ
られる。水は酸など種々の成分に含有していて必然的に
添加されるものの他、選択的に添加してもよい。好まし
い添加量は消去液の総重量に対して1〜30重量%、よ
り好ましくは3〜20重量%である。
【0107】粘度調節剤としては、例えば珪酸微粉末等
の無機増粘剤、例えばメチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
・Na塩等の改質セルロース、アラビアガム、ポリビニ
ルピロリドン、ポリビニルメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ビニルメチ
ルエーテル−無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−無
水マレイン酸共重合体等の高分子化合物が挙げられる。
中でも改質セルロース、ポリビニルピロリドン及び上記
二種の無水マレイン酸共重合体が好ましく、最も好まし
くは、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の改質セ
ルロース及びポリビニルピロリドンである。これら粘度
調節剤は単独でも、2種以上混合して用いることもで
き、希望の粘度となるように添加量を変えることができ
るが、好ましくは本発明においては消去液に対して0.
5〜25重量%、更に好ましくは1〜15重量%の範囲
で用いられる。
の無機増粘剤、例えばメチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
・Na塩等の改質セルロース、アラビアガム、ポリビニ
ルピロリドン、ポリビニルメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ビニルメチ
ルエーテル−無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−無
水マレイン酸共重合体等の高分子化合物が挙げられる。
中でも改質セルロース、ポリビニルピロリドン及び上記
二種の無水マレイン酸共重合体が好ましく、最も好まし
くは、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の改質セ
ルロース及びポリビニルピロリドンである。これら粘度
調節剤は単独でも、2種以上混合して用いることもで
き、希望の粘度となるように添加量を変えることができ
るが、好ましくは本発明においては消去液に対して0.
5〜25重量%、更に好ましくは1〜15重量%の範囲
で用いられる。
【0108】(後処理液)次に請求項13記載の処理方
法における後処理液について説明する。本発明に用いら
れる後処理液は、表面張力が10〜50dyn/cmの
ものであり、感光性平版印刷版を画像露光及び現像した
後に該感光性平版印刷版の処理に用いられるものであ
る。
法における後処理液について説明する。本発明に用いら
れる後処理液は、表面張力が10〜50dyn/cmの
ものであり、感光性平版印刷版を画像露光及び現像した
後に該感光性平版印刷版の処理に用いられるものであ
る。
【0109】後処理液には、皮膜形成性を向上させる目
的で種々の水溶性高分子化合物を含有させることができ
る。このような高分子化合物としては従来後処理液に使
用し得るとされているものであれば好適に使用できる。
例えばメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース等
のセルロース誘導体、α化澱粉、デキストリン、ジアル
デヒド澱粉等の澱粉誘導体、アルギン酸塩、ローストビ
ーンガム、ストラクタン、ステラビック、プルラン等の
天然又は半合成高分子化合物、ポリビニルアルコール、
ポリアクリルアミド、ビニルメチルエーテルと無水マレ
イン酸との共重合体等の合成高分子化合物、アラビアガ
ム等が挙げられる。これらの水溶性高分子化合物は本発
明の後処理液の総重量に対して1〜40重量%の範囲で
使用される。
的で種々の水溶性高分子化合物を含有させることができ
る。このような高分子化合物としては従来後処理液に使
用し得るとされているものであれば好適に使用できる。
例えばメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース等
のセルロース誘導体、α化澱粉、デキストリン、ジアル
デヒド澱粉等の澱粉誘導体、アルギン酸塩、ローストビ
ーンガム、ストラクタン、ステラビック、プルラン等の
天然又は半合成高分子化合物、ポリビニルアルコール、
ポリアクリルアミド、ビニルメチルエーテルと無水マレ
イン酸との共重合体等の合成高分子化合物、アラビアガ
ム等が挙げられる。これらの水溶性高分子化合物は本発
明の後処理液の総重量に対して1〜40重量%の範囲で
使用される。
【0110】本発明に用いられる後処理液の好ましいp
Hは1〜7、より好ましくは2〜5であり、pH調整の
ために酸又は緩衝剤を含有させることができる。かかる
酸及び緩衝剤としては、酢酸、蓚酸、酒石酸、安息香
酸、モリブデン酸、ホウ酸、硝酸、硫酸、燐酸、及びポ
リ燐酸並びにこれらの水溶性アルカリ金属塩及びアンモ
ニウム塩、例えば酢酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム、モリブデン酸ナトリウム、ホウ酸ナトリ
ウム、硝酸リチウム、第一燐酸ナトリウム、第二燐酸ナ
トリウム、ポリ燐酸ナトリウム等が挙げられる。酸及び
緩衝剤は2種以上を併用してもよい。
Hは1〜7、より好ましくは2〜5であり、pH調整の
ために酸又は緩衝剤を含有させることができる。かかる
酸及び緩衝剤としては、酢酸、蓚酸、酒石酸、安息香
酸、モリブデン酸、ホウ酸、硝酸、硫酸、燐酸、及びポ
リ燐酸並びにこれらの水溶性アルカリ金属塩及びアンモ
ニウム塩、例えば酢酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム、モリブデン酸ナトリウム、ホウ酸ナトリ
ウム、硝酸リチウム、第一燐酸ナトリウム、第二燐酸ナ
トリウム、ポリ燐酸ナトリウム等が挙げられる。酸及び
緩衝剤は2種以上を併用してもよい。
【0111】また本発明に用いられる後処理液中に界面
活性剤を添加することにより塗膜の面状等が良化する。
使用できる界面活性剤としては、アニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤、両性界面活性剤及びノニオン界面
活性剤が挙げられる。アニオン界面活性剤としては、脂
肪族アルコール硫酸エステル塩類、脂肪族アルコール燐
酸エステル塩類、二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸
塩類、脂肪族アミドスルホン酸塩類、アルキルアリール
スルホン酸塩類、ホルムアルデヒド縮合ナフタレンスル
ホン酸塩類等が用いられる。カチオン界面活性剤として
は、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等が
用いられる。両性界面活性剤としては、アルキルカルボ
キシベタイン類、アルキルイミダゾリン類等が用いられ
る。ノニオン界面活性剤としては、ポリエチレングリコ
ールアルキルエーテル、ポリエチレングリコールアルキ
ルエステル、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキ
シプロピレンポリオキシエチレンエーテル類等が用いら
れる。該界面活性剤は2種以上併用することができる。
使用量は特に限定する必要はないが、好ましい範囲は後
処理液の0.01〜10重量%である。
活性剤を添加することにより塗膜の面状等が良化する。
使用できる界面活性剤としては、アニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤、両性界面活性剤及びノニオン界面
活性剤が挙げられる。アニオン界面活性剤としては、脂
肪族アルコール硫酸エステル塩類、脂肪族アルコール燐
酸エステル塩類、二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸
塩類、脂肪族アミドスルホン酸塩類、アルキルアリール
スルホン酸塩類、ホルムアルデヒド縮合ナフタレンスル
ホン酸塩類等が用いられる。カチオン界面活性剤として
は、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等が
用いられる。両性界面活性剤としては、アルキルカルボ
キシベタイン類、アルキルイミダゾリン類等が用いられ
る。ノニオン界面活性剤としては、ポリエチレングリコ
ールアルキルエーテル、ポリエチレングリコールアルキ
ルエステル、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキ
シプロピレンポリオキシエチレンエーテル類等が用いら
れる。該界面活性剤は2種以上併用することができる。
使用量は特に限定する必要はないが、好ましい範囲は後
処理液の0.01〜10重量%である。
【0112】本発明に用いられる後処理液には、上記成
分の他必要により潤滑剤としてグリセリン、エチレング
リコール、トリエチレングリコール等の低級多価アルコ
ールも使用することができる。これらの潤滑剤の含有量
は、組成物中に0.1〜5.0重量%、より好ましくは
0.5〜3.0重量%が適当である。以上の他に本発明
の後処理液には、防腐剤、殺菌剤等を添加することがで
きる。例えば、安息香酸及びその誘導体、フェノール、
ホルマリン、デヒドロ酢酸ナトリウム及びイソチアゾロ
ン系化合物等を0.005〜2.0重量%の範囲で添加
できる。
分の他必要により潤滑剤としてグリセリン、エチレング
リコール、トリエチレングリコール等の低級多価アルコ
ールも使用することができる。これらの潤滑剤の含有量
は、組成物中に0.1〜5.0重量%、より好ましくは
0.5〜3.0重量%が適当である。以上の他に本発明
の後処理液には、防腐剤、殺菌剤等を添加することがで
きる。例えば、安息香酸及びその誘導体、フェノール、
ホルマリン、デヒドロ酢酸ナトリウム及びイソチアゾロ
ン系化合物等を0.005〜2.0重量%の範囲で添加
できる。
【0113】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明する。 実施例(その1) <ブラシ研摩による機械的粗面化条件>表1に示した条
件でナイロンブラシにより粗面化を行った。支持体に対
するブラシの押込みを15mmとし、ラインスピード5
m/minでの処理を一回の処理とし、必要に応じて処
理回数を3回まで行った。ブラシの回転方向は支持体走
行方向の逆方向とし、回転数は毎分300回転とした。
に説明する。 実施例(その1) <ブラシ研摩による機械的粗面化条件>表1に示した条
件でナイロンブラシにより粗面化を行った。支持体に対
するブラシの押込みを15mmとし、ラインスピード5
m/minでの処理を一回の処理とし、必要に応じて処
理回数を3回まで行った。ブラシの回転方向は支持体走
行方向の逆方向とし、回転数は毎分300回転とした。
【0114】<支持体の作成>厚さ0.3mmのアルミ
ニウム板(材質1050、調質H16)を、85℃に保
たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、5秒
間脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂したアルミ
ニウム板を25℃に保たれた10%硫酸水溶液に15秒
間浸漬し、中和処理した後、水洗した。次いでこのアル
ミニウム板に表2に示すような条件でブラシ研摩による
粗面化処理を行った。ブラシ研摩処理を行った後、50
℃に保たれた1%水酸化ナトリウム水溶液中で30秒間
浸漬してエッチングし、次いで25℃に保たれた10%
硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、中和処理した後、水洗
した。次いで、このアルミニウム板を表2に示した条件
で交流正弦波60Hzで電気化学的粗面化した。その
後、50℃に保たれた1%水酸化ナトリウム水溶液中で
15秒間浸漬し、次いで25℃に保たれた10%硫酸1
0%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、中和処理した後、
水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、25℃、電
流密度2A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行っ
た。その後、80℃に保たれた0.1%の酢酸アンモニ
ウム水溶液中に30秒間浸漬して封孔処理を行い、80
℃で5分間乾燥して各条件のアルミニウム支持体を夫々
得た。
ニウム板(材質1050、調質H16)を、85℃に保
たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、5秒
間脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂したアルミ
ニウム板を25℃に保たれた10%硫酸水溶液に15秒
間浸漬し、中和処理した後、水洗した。次いでこのアル
ミニウム板に表2に示すような条件でブラシ研摩による
粗面化処理を行った。ブラシ研摩処理を行った後、50
℃に保たれた1%水酸化ナトリウム水溶液中で30秒間
浸漬してエッチングし、次いで25℃に保たれた10%
硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、中和処理した後、水洗
した。次いで、このアルミニウム板を表2に示した条件
で交流正弦波60Hzで電気化学的粗面化した。その
後、50℃に保たれた1%水酸化ナトリウム水溶液中で
15秒間浸漬し、次いで25℃に保たれた10%硫酸1
0%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、中和処理した後、
水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、25℃、電
流密度2A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理を行っ
た。その後、80℃に保たれた0.1%の酢酸アンモニ
ウム水溶液中に30秒間浸漬して封孔処理を行い、80
℃で5分間乾燥して各条件のアルミニウム支持体を夫々
得た。
【0115】得られた各支持体表面の表面粗さを下記の
方法により測定した。結果は表2に示す。
方法により測定した。結果は表2に示す。
【0116】得られた各支持体に、下記組成の感光性組
成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で乾
燥し感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液の塗布量は、表2に示した量となるようにした。
成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で乾
燥し感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液の塗布量は、表2に示した量となるようにした。
【0117】更に表2に示した一部の試料には感光層の
平滑化処理を行った。平滑化処理は感光性平版印刷版を
ガラス板2枚で挟み、恒温槽中に水平に静置し、版10
0cm2当り500gの荷重を均一にかけることにより
行った。平滑化処理の恒温槽の温度及び処理時間は表2
に示す。
平滑化処理を行った。平滑化処理は感光性平版印刷版を
ガラス板2枚で挟み、恒温槽中に水平に静置し、版10
0cm2当り500gの荷重を均一にかけることにより
行った。平滑化処理の恒温槽の温度及び処理時間は表2
に示す。
【0118】 〈感光性組成物塗布液〉 ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が1 0/54/36でMwが4000) 6.70g ピロガロールアセトン樹脂(Mw:3000)とo−ナフトキノンジアジド− 5−スルホニルクロリドとの縮合物(エステル化率30%) 1.50g ポリエチレングリコール#2000 0.20g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g フッ素系界面活性剤FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.02g メチルセロソルブ 100ml
【0119】得られた各感光性平版印刷版を、光源とし
て4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/cm
2で60秒間照射することにより露光した。この露光済
みの各感光性平版印刷版を、市販されている現像液(S
DR−1、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20
秒、現像温度27℃)で現像した。
て4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/cm
2で60秒間照射することにより露光した。この露光済
みの各感光性平版印刷版を、市販されている現像液(S
DR−1、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20
秒、現像温度27℃)で現像した。
【0120】得られた各平版印刷版について、画像部の
表面粗さ及び感光層と支持体表面との段差を測定した結
果及び印刷を行った結果を表2に示した。
表面粗さ及び感光層と支持体表面との段差を測定した結
果及び印刷を行った結果を表2に示した。
【0121】表2に示した試料の内、本発明の試料につ
いてのみ支持体の表面粗さの面積Aを測定すると共に、
耐刷性の評価も行った。結果を表3に示す。
いてのみ支持体の表面粗さの面積Aを測定すると共に、
耐刷性の評価も行った。結果を表3に示す。
【0122】実施例(その2) ブラシ研摩条件及び電気化学的粗面化条件を表4に示す
ようにした以外は前記実施例(その1)と同様にして各
条件のアルミニウム支持体を夫々得た。
ようにした以外は前記実施例(その1)と同様にして各
条件のアルミニウム支持体を夫々得た。
【0123】得られた各支持体の表面粗さ、容積、感光
層の表面粗さ、感光層と支持体表面との段差を夫々測定
し、更に印刷評価を行った。結果を表4及び表5に示
す。
層の表面粗さ、感光層と支持体表面との段差を夫々測定
し、更に印刷評価を行った。結果を表4及び表5に示
す。
【0124】<印刷評価方法> (耐刷性)得られた平版印刷版を、印刷機(三菱重工業
(株)製DAIYA1F−1)にかけコート紙、湿し水
(東京インキ(株)エッチ液SG−51 濃度1.5
%)、インキ(東洋インキ製造(株)製ハイプラスM
紅)を使用して印刷を行い、印刷物の画像部にインキ着
肉不良が現れるか非画像部にインキが着肉するまで印刷
を行い、そのときの印刷枚数を求め、耐刷性を評価し
た。
(株)製DAIYA1F−1)にかけコート紙、湿し水
(東京インキ(株)エッチ液SG−51 濃度1.5
%)、インキ(東洋インキ製造(株)製ハイプラスM
紅)を使用して印刷を行い、印刷物の画像部にインキ着
肉不良が現れるか非画像部にインキが着肉するまで印刷
を行い、そのときの印刷枚数を求め、耐刷性を評価し
た。
【0125】(K値)同様の印刷条件で、画像部の濃度
を1.6にして印刷を行った時の印刷物上のスクリーン
線数150line/inchの80%網点の濃度を測
定し、以下の式を用いて評価した。濃度の測定はマクベ
ス濃度計で行った。 K値=(画像部濃度−80%網点濃度)/画像部濃度 K値は大きいほど高濃度網点部の再現性がよい。
を1.6にして印刷を行った時の印刷物上のスクリーン
線数150line/inchの80%網点の濃度を測
定し、以下の式を用いて評価した。濃度の測定はマクベ
ス濃度計で行った。 K値=(画像部濃度−80%網点濃度)/画像部濃度 K値は大きいほど高濃度網点部の再現性がよい。
【0126】(湿し水の少ない時の汚れ易さ/湿し水の
多い時の水負けし易さ)同様の印刷条件で、インキ量ダ
イヤルを一定にして、水量ダイヤルを変更し、湿し水の
供給量を変化させ、湿し水を少なくしていったときに非
画像部に汚れが生じ始めるダイヤル値(大きい方が汚れ
易い)と、湿し水を多くしていったときに水負けが生じ
始めるダイヤル値(小さい方が水負けし易い)とを調べ
た。
多い時の水負けし易さ)同様の印刷条件で、インキ量ダ
イヤルを一定にして、水量ダイヤルを変更し、湿し水の
供給量を変化させ、湿し水を少なくしていったときに非
画像部に汚れが生じ始めるダイヤル値(大きい方が汚れ
易い)と、湿し水を多くしていったときに水負けが生じ
始めるダイヤル値(小さい方が水負けし易い)とを調べ
た。
【0127】<物性評価方法> (表面粗さ[支持体及び感光層])ランクテーラーホブ
ソン社製タリステップを使用して支持体及び感光層の表
面粗さを測定した。0.1×2.5μmの角錐形のスタ
イラスを使用し、縦倍率10000倍、測定長0.5m
m、測定速度0.0025mm/s、サンプリング周波
数10ms、フィルタカットオフ8Hzとして、8Hz
よりも高周波成分を除去した。得られた粗さ曲線よりJ
IS規格に基づいてRa及びRzを求めた。
ソン社製タリステップを使用して支持体及び感光層の表
面粗さを測定した。0.1×2.5μmの角錐形のスタ
イラスを使用し、縦倍率10000倍、測定長0.5m
m、測定速度0.0025mm/s、サンプリング周波
数10ms、フィルタカットオフ8Hzとして、8Hz
よりも高周波成分を除去した。得られた粗さ曲線よりJ
IS規格に基づいてRa及びRzを求めた。
【0128】(粗さ曲線の面積A)上記表面粗さ測定で
測定された粗さ曲線から三番目に高い突起を選び、その
突起頂点より1μm下に中心線と並行に基準線Aを引
き、基準線Aと基準線Aよりも上の粗さ曲線とが成す面
積を求めた。実際にはタリステップよりデジタルで取り
込んだデータより計算を行った。
測定された粗さ曲線から三番目に高い突起を選び、その
突起頂点より1μm下に中心線と並行に基準線Aを引
き、基準線Aと基準線Aよりも上の粗さ曲線とが成す面
積を求めた。実際にはタリステップよりデジタルで取り
込んだデータより計算を行った。
【0129】(三次元表面粗さ/WYKO RST測定
方法:空隙、感光層と支持体との段差)支持体表面の三
次元表面粗さWYKO社製非接触三次元微小表面測定装
置RST PLUSを使用して測定した。測定はバーテ
ィカルスキャン法モードで、対物レンズ40倍、倍率セ
レクター0.5倍、空間サンプリング間隔0.42×
0.48μmの条件で行った。測定は最初に115×1
50μm程度の範囲で行い、不連続なデータがあった場
合は装置に付属のソフトウェアにより修復(連続化)し
た後、範囲を選択して100×100μmのデータに加
工した(データ点数238×209)。測定データは付
属のソフトウェアによりヒストグラム表示とし、このデ
ータをもとに表面の空隙の容積を計算した。又、感光層
をドット状若しくはストライプ状に残るように現像した
サンプルを同様に測定してヒストグラム表示としたとき
の支持体表面及び感光層表面の高さの中心値を示す夫々
のピークの差(d)を求めた。
方法:空隙、感光層と支持体との段差)支持体表面の三
次元表面粗さWYKO社製非接触三次元微小表面測定装
置RST PLUSを使用して測定した。測定はバーテ
ィカルスキャン法モードで、対物レンズ40倍、倍率セ
レクター0.5倍、空間サンプリング間隔0.42×
0.48μmの条件で行った。測定は最初に115×1
50μm程度の範囲で行い、不連続なデータがあった場
合は装置に付属のソフトウェアにより修復(連続化)し
た後、範囲を選択して100×100μmのデータに加
工した(データ点数238×209)。測定データは付
属のソフトウェアによりヒストグラム表示とし、このデ
ータをもとに表面の空隙の容積を計算した。又、感光層
をドット状若しくはストライプ状に残るように現像した
サンプルを同様に測定してヒストグラム表示としたとき
の支持体表面及び感光層表面の高さの中心値を示す夫々
のピークの差(d)を求めた。
【0130】
【表1】
【0131】
【表2】
【0132】
【表3】
【0133】
【表4】
【0134】
【表5】
【0135】実施例(その3) ブラシ研摩条件(表1参照)及び電気化学的粗面化条件
を表6のようにし、感光性組成物塗布液の塗布量を2.
0g/m2とした以外は実施例(その1)と同様にして
感光性平版印刷版を得た。得られた各感光性平版印刷版
を、光源として4kwメタルハライドランプを使用し、
コダックステップタブレットにてクリア4段相当の露光
量で露光後、下記組成の現像液を用い、表7に示す支持
体、現像液の組み合わせで、30℃、12秒間現像し
た。得られた各平版印刷版について、小点再現性の評価
及び印刷を行った。結果を表7に示す。
を表6のようにし、感光性組成物塗布液の塗布量を2.
0g/m2とした以外は実施例(その1)と同様にして
感光性平版印刷版を得た。得られた各感光性平版印刷版
を、光源として4kwメタルハライドランプを使用し、
コダックステップタブレットにてクリア4段相当の露光
量で露光後、下記組成の現像液を用い、表7に示す支持
体、現像液の組み合わせで、30℃、12秒間現像し
た。得られた各平版印刷版について、小点再現性の評価
及び印刷を行った。結果を表7に示す。
【0136】 現像液1(SiO2:1.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.42) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 86重量部 フタル酸 18重量部 ベータオキシナフトエ酸 18重量部 水 1513重量部
【0137】 現像液2(SiO2:1.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.40) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 92重量部 p−t−安息香酸 17重量部 EDTA(エチレンジアミンテトラ酢酸) 17重量部 水 1506重量部
【0138】 現像液3(SiO2:1.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.65) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 44重量部 水 1590重量部
【0139】 現像液4(SiO2:4.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.70) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 29重量部 水 448重量部
【0140】[評価方法] <小点再現性>50%網点の原稿を用いた時の版上の網
点面積率再現性をマクベス反射濃度計RD−918によ
り測定することにより評価した。
点面積率再現性をマクベス反射濃度計RD−918によ
り測定することにより評価した。
【0141】<ブランケットの汚れ>得られた平版印刷
版を印刷機(三菱重工業社製DAIYA 1F−1)に
かけ、コート紙、湿し水(東京インキ社製エッチ液SG
−51、濃度1.5%)、インキ(東洋インキ製造社製
ハイプラスM紅)を使用して印刷を行い、10,000
枚刷った時点で印刷機を停止し、ブランケット上の非画
線部のインキによる汚れの程度を目視にて評価した。 ○:ほとんど汚れていない ×:著しく汚れている
版を印刷機(三菱重工業社製DAIYA 1F−1)に
かけ、コート紙、湿し水(東京インキ社製エッチ液SG
−51、濃度1.5%)、インキ(東洋インキ製造社製
ハイプラスM紅)を使用して印刷を行い、10,000
枚刷った時点で印刷機を停止し、ブランケット上の非画
線部のインキによる汚れの程度を目視にて評価した。 ○:ほとんど汚れていない ×:著しく汚れている
【0142】
【表6】
【0143】
【表7】
【0144】実施例(その4) 実施例(その3)に示した方法で作成した感光性平版印
刷版を実施例(その3)と同様に露光し、前記組成を有
する現像液及び下記組成を有する補充液を自動現像機に
仕込み、表8に示す支持体、現像液、補充液の組み合わ
せで感光性平版印刷版を30℃で12秒間現像処理を行
う。評価は、上記感光性平版印刷版を画像露光後、1日
に菊全サイズで200版を1か月間、総版数5000版
処理を行うが、その際、1週間に2回の割合で現像後の
感光性平版印刷版のクリア感度を評価した。補充液の補
充設定は処理補充:22ml/m2、経時補充:48m
l/h、日間補充(自動現像機の非稼働期間での補
充):42ml/hとした。
刷版を実施例(その3)と同様に露光し、前記組成を有
する現像液及び下記組成を有する補充液を自動現像機に
仕込み、表8に示す支持体、現像液、補充液の組み合わ
せで感光性平版印刷版を30℃で12秒間現像処理を行
う。評価は、上記感光性平版印刷版を画像露光後、1日
に菊全サイズで200版を1か月間、総版数5000版
処理を行うが、その際、1週間に2回の割合で現像後の
感光性平版印刷版のクリア感度を評価した。補充液の補
充設定は処理補充:22ml/m2、経時補充:48m
l/h、日間補充(自動現像機の非稼働期間での補
充):42ml/hとした。
【0145】 補充液1(SiO2:3.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.45) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 78重量部 水 564重量部
【0146】 補充液2(SiO2:3.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.35) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 109重量部 水 533重量部
【0147】 補充液3(SiO2:3.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.33) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 118重量部 ベータオキシナフトエ酸 18重量部 ポリエチレングリコール#600 2重量部 水 504重量部
【0148】 補充液4(SiO2:4.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.55) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 58重量部 水 420重量部
【0149】 補充液5(SiO2:4.5重量%、SiO2モル濃度/アルカリ金属モル濃 度:0.45) A珪酸カリウム(SiO2:26重量%、K2O:13重量%)100重量部 水酸化カリウム 78重量部 水 400重量部
【0150】
【表8】
【0151】実施例(その5) 実施例(その3)に示した方法で作成した感光性平版印
刷版を、市販されている現像液(SDR−1、コニカ社
製、6倍に希釈、現像時間15秒、現像温度30℃)を
使用した以外は実施例(その3)と同様に露光、現像し
た後、水洗し、乾燥して得られた平版印刷版にはフィル
ムのエッジが版面に画像として残っていた。その後、下
記組成の消去液を表9に示す支持体を有する感光性平版
印刷版にそれぞれ組み合わせて使用し、消去性と近接す
る画像部への液のにじみの評価を行った。
刷版を、市販されている現像液(SDR−1、コニカ社
製、6倍に希釈、現像時間15秒、現像温度30℃)を
使用した以外は実施例(その3)と同様に露光、現像し
た後、水洗し、乾燥して得られた平版印刷版にはフィル
ムのエッジが版面に画像として残っていた。その後、下
記組成の消去液を表9に示す支持体を有する感光性平版
印刷版にそれぞれ組み合わせて使用し、消去性と近接す
る画像部への液のにじみの評価を行った。
【0152】 消去液1 γ−ブチロラクトン 71.0重量部 純水 10.0重量部 アシドローダミンB 0.02重量部 ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル 8.0重量部 ヒドロキシプロピルメチルセルロース 2.0重量部 粉末二酸化珪素 9.0重量部
【0153】 消去液2 ジエチレングリコールモノメチルエーテル 67.0重量部 シクロヘキサノン 4.0重量部 純水 10.0重量部 クリスタルバイオレット 0.02重量部 ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル 8.0重量部 ヒドロキシプロピルメチルセルロース 2.0重量部 粉末二酸化珪素 9.0重量部
【0154】 消去液3 γ−ブチロラクトン 50.0重量部 シクロヘキサノン 21.0重量部 純水 10.0重量部 リン酸(85%) 2.0重量部 アシドローダミンB 0.02重量部 ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル 7.0重量部 ヒドロキシプロピルメチルセルロース 2.0重量部 粉末二酸化珪素 8.0重量部
【0155】 消去液4 γ−ブチロラクトン 40.0重量部 シクロヘキサノン 21.0重量部 キシレン 10.0重量部 純水 10.0重量部 クリスタルバイオレット 0.02重量部 ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル 8.0重量部 ヒドロキシプロピルメチルセルロース 2.0重量部 粉末二酸化珪素 9.0重量部
【0156】 消去液5 ベンジルアルコール 13.0重量部 シクロヘキサノン 36.0重量部 ジメチルホルムアミド 14.0重量部 キシレン 6.0重量部 純水 10.0重量部 リン酸(85%) 1.0重量部 アシドローダミンB 0.02重量部 ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテル 8.0重量部 ヒドロキシプロピルメチルセルロース 6.0重量部 粉末二酸化珪素 6.0重量部
【0157】[評価方法] <消去性>画像部に消去液を塗布し、一定時間放置して
から消去液を水洗除去する消去作業において、上記放置
時間を10〜60秒間の範囲で10秒間きざみで変えた
場合に何秒間で画像の消去が完了するかを測定し、下記
の基準で評価した。 A:10秒間以内 B:10秒間より長く20秒間以内 C:20秒間より長く30秒間以内 D:30秒間より長い
から消去液を水洗除去する消去作業において、上記放置
時間を10〜60秒間の範囲で10秒間きざみで変えた
場合に何秒間で画像の消去が完了するかを測定し、下記
の基準で評価した。 A:10秒間以内 B:10秒間より長く20秒間以内 C:20秒間より長く30秒間以内 D:30秒間より長い
【0158】<近接する画像部へのにじみ易さ>30%
網点画像部の境界から1mm、2mm又は3mmと間隔
を空けて消去液を塗布し、10分間放置してから水洗除
去し、網点画像の侵食の有無を調べて、下記の基準で評
価した。 A:1mm空けて塗布しても影響なし B:1mm間隔では影響あるが、2mm間隔では影響な
し C:3mm間隔を空けても影響がある
網点画像部の境界から1mm、2mm又は3mmと間隔
を空けて消去液を塗布し、10分間放置してから水洗除
去し、網点画像の侵食の有無を調べて、下記の基準で評
価した。 A:1mm空けて塗布しても影響なし B:1mm間隔では影響あるが、2mm間隔では影響な
し C:3mm間隔を空けても影響がある
【0159】
【表9】
【0160】実施例(その6) 感光性組成物を下記組成のものに変えた以外は実施例
(その3)と同様にして感光性平版印刷版を作成した。
(その3)と同様にして感光性平版印刷版を作成した。
【0161】 〈感光性組成物塗布液〉 p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの縮合物のヘキサフル オロ燐酸塩 1g N−4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド共重合体(特公昭57−438 90号の実施例1に記載のもの) 10g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製) 0.2g メチルセロソルブ 100ml
【0162】得られた各感光性平版印刷版に網点ネガフ
ィルムを用いて露光し、市販されている現像液(KD−
52、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間15秒、
現像温度30℃)で現像後、水洗し、乾燥した。このよ
うにして得られた各平版印刷版の表面に、表10に示す
組み合わせで下記組成の後処理液をスポンジに含ませて
塗布し、余剰分を拭き取り、印刷版試料とした。
ィルムを用いて露光し、市販されている現像液(KD−
52、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間15秒、
現像温度30℃)で現像後、水洗し、乾燥した。このよ
うにして得られた各平版印刷版の表面に、表10に示す
組み合わせで下記組成の後処理液をスポンジに含ませて
塗布し、余剰分を拭き取り、印刷版試料とした。
【0163】これらの印刷版試料のインキ着肉性と不感
脂化力を評価するために予め試料を35℃85%RHの
条件下に4日間放置した。それらの試料を印刷機ハマダ
スター900CD−Xオフセット印刷機に取り付け、通
常の方法に従って印刷を開始した。その時のインキが画
像部に付着して良好な印刷物が得られるまでの印刷枚数
を表10のインキ着肉性の欄に記した。更に続けて10
00枚印刷した後、湿し水と印刷用紙の供給を停止し、
印刷版試料全面にインキを付着させてから再び通常の印
刷条件に戻して印刷した。本発明のものは後処理後経時
してもインキ着肉性に優れており、不感脂化力も良好で
あった。
脂化力を評価するために予め試料を35℃85%RHの
条件下に4日間放置した。それらの試料を印刷機ハマダ
スター900CD−Xオフセット印刷機に取り付け、通
常の方法に従って印刷を開始した。その時のインキが画
像部に付着して良好な印刷物が得られるまでの印刷枚数
を表10のインキ着肉性の欄に記した。更に続けて10
00枚印刷した後、湿し水と印刷用紙の供給を停止し、
印刷版試料全面にインキを付着させてから再び通常の印
刷条件に戻して印刷した。本発明のものは後処理後経時
してもインキ着肉性に優れており、不感脂化力も良好で
あった。
【0164】 後処理液1 変性デキストリン(ペノンJE−66、日澱化学社製) 10.0重量部 カルボキシメチルセルロースナトリウム塩 0.45重量部 燐酸(85%) 0.25重量部 ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム 0.14重量部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.1重量部 p−ヒドロキシエチルベンゾエート 0.05重量部 水 90重量部
【0165】 後処理液2 白色デキストリン 5.0重量部 ヒドロキシプロピルエーテル化デンプン 10.0重量部 アラビアガム 1.0重量部 燐酸第1アンモン 0.1重量部 ジラウリルコハク酸ナトリウム 0.15重量部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.5重量部 エチレングリコール 1.0重量部 EDTA 0.005重量部 デヒドロ酢酸 0.005重量部 水 100.0重量部
【0166】 後処理液3 酵素分解デキストリン 5.0重量部 クリームデキストリン 10.0重量部 燐酸デンプン 10.0重量部 フッ素系界面活性剤(フロラードFC−430、3M社製) 0.1重量部 安息香酸 0.1重量部 燐酸(85%) 0.5重量部 燐酸カリウム 0.2重量部 水 75.0重量部
【0167】 後処理液4 酵素分解デキストリン 5.0重量部 クリームデキストリン 10.0重量部 燐酸デンプン 5.0重量部 フッ素系界面活性剤(フロラードFC−430、3M社製) 1.0重量部 安息香酸 0.1重量部 燐酸(85%) 0.5重量部 燐酸カリウム 0.2重量部 水 79.0重量部
【0168】 後処理液5 カルボキシメチルセルロースナトリウム塩 0.45重量部 燐酸(85%) 0.25重量部 ジ(2−エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム 0.15重量部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.1重量部 水 100重量部
【0169】[評価方法] <不感脂化力>インキの払い易さを下記の基準で評価し
た。 A:良好 B:普通 C:劣る
た。 A:良好 B:普通 C:劣る
【0170】
【表10】
【0171】
【発明の効果】本発明によれば、高濃度網点部の再現性
(K値)が良好で耐刷性及び水幅が改善された感光性平
版印刷版及びその製造方法を提供できる。さらに本発明
によれば、小点再現性、ブランケットの汚れ難さが良好
で、消去性に優れ且つ近接する画像部に悪影響を与えず
に所望の画像部のみ消去可能で、非画像領域の不感脂化
力を低下させることなく後処理後、長時間保存しても画
像領域の着肉不良を起こさない感光性平版印刷版の処理
方法を提供できる。
(K値)が良好で耐刷性及び水幅が改善された感光性平
版印刷版及びその製造方法を提供できる。さらに本発明
によれば、小点再現性、ブランケットの汚れ難さが良好
で、消去性に優れ且つ近接する画像部に悪影響を与えず
に所望の画像部のみ消去可能で、非画像領域の不感脂化
力を低下させることなく後処理後、長時間保存しても画
像領域の着肉不良を起こさない感光性平版印刷版の処理
方法を提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/16 G03F 7/16 7/30 7/30 7/40 511 7/40 511 (72)発明者 石井 信行 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 杉 泰久 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 西尾 和之 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内
Claims (13)
- 【請求項1】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版において、下記式で表される感光
層表面とアルミニウム支持体表面との高さの段差が0.
0μm以上1.0μm以下であることを特徴とする感光
性平版印刷版。 段差=d−RzA/2+RzB/2 式中、RzAはアルミニウム支持体の表面粗さ(Rz)
を示し、RzBは感光層の表面粗さ(Rz)を示し、d
は感光層をドット状若しくはストライプ状に残るように
現像した後の印刷版の感光層及びアルミニウム支持体表
面両方を同時に測定した表面粗さのデータをデータ点の
高さのヒストグラムで表した際の感光層表面に起因する
高さ分布のピークに対応する高さ(感光層の表面の高さ
の中心値)とアルミニウム支持体表面に起因する高さ分
布のピークに対応する高さ(アルミニウム支持体の表面
の高さの中心値)の差を示す。 - 【請求項2】アルミニウム支持体の表面粗さがRaで
0.6〜0.9μm、Rzで3.5〜6.0μmである
ことを特徴とする請求項1記載の感光性平版印刷版。 - 【請求項3】感光層表面の平均高さとアルミニウム支持
体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上1.0μm
以下であり、且つ感光層の表面粗さがRaで0.1〜
0.35μm、Rzで0.7〜2.2μmであることを
特徴とする請求項1記載の感光性平版印刷版。 - 【請求項4】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持体の
測定長0.5mmの二次元の表面粗さ曲線の三番目に高
い山の頂点から1μm下に粗さの中心線と平行に引いた
基準直線Aと該基準直線Aよりも上の粗さ曲線が形成す
る図形の面積Aが50μm2以上150μm2以下であ
り、且つ感光層表面の平均高さとアルミニウム支持体表
面の平均高さとの段差が0.0μm以上1.0μm以下
であることを特徴とする感光性平版印刷版。 - 【請求項5】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持体表
面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc/m
2以下であることを特徴とする感光性平版印刷版。 - 【請求項6】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持体表
面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc/m
2以下であり、感光層を乾燥体積としてアルミニウム支
持体表面の空隙の容積−0.5〜+0.5cc/m2の
量となるように塗布することを特徴とする感光性平版印
刷版。 - 【請求項7】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持体表
面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc/m
2以下であり、且つ感光層表面の平均高さとアルミニウ
ム支持体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上1.
0μm以下であることを特徴とする感光性平版印刷版。 - 【請求項8】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版において、アルミニウム支持体表
面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc/m
2以下であり、且つ感光層表面の平均高さとアルミニウ
ム支持体表面の平均高さとの段差が0.0μm以上1.
0μm以下であり、且つ感光層表面の平均粗さがRaで
0.1〜0.35μm、Rzで0.7〜2.2μm以下
であることを特徴とする感光性平版印刷版。 - 【請求項9】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアルミ
ニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設けて
なる感光性平版印刷版の製造方法において、アルミニウ
ム支持体表面の空気の容積が3.5cc/m2以上5.
0cc/m2以下であり、乾燥体積としてアルミニウム
支持体表面の空隙の容積−0.5〜+1.0cc/m2
の量となるように前記感光層を塗布し、該感光層を乾燥
以降の工程で平滑化することを特徴とする感光性平版印
刷版の製造方法。 - 【請求項10】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアル
ミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設け
てなる感光性平版印刷版においてアルミニウム支持体表
面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc/m
2以下である感光性平版印刷版を、アルカリ金属珪酸塩
を含みアルカリ金属珪酸塩の[SiO2]/[M]が
0.25〜0.75であり、且つSiO2濃度が現像液
組成物の総重量に対して1〜4重量%である現像液(但
し、[SiO2]はSiO2のモル濃度を表し、[M]
はアルカリ金属のモル濃度を表す。)を用いて現像する
ことを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 - 【請求項11】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアル
ミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設け
てなる感光性平版印刷版においてアルミニウム支持体表
面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc/m
2以下である感光性平版印刷版を現像する際、アルカリ
金属珪酸塩の[SiO2]/[M]が0.25〜0.7
5であり、且つSiO2濃度がその総重量に対して1〜
4重量%である補充液をアルカリ金属珪酸塩を含む現像
液に補充することを特徴とする感光性平版印刷版の処理
方法。 - 【請求項12】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアル
ミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設け
てなる感光性平版印刷版においてアルミニウム支持体表
面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc/m
2以下である感光性平版印刷版を少なくとも画像露光及
び/又は現像することによって得られた平版印刷版の版
面を修正処理する際、キシレンを実質的に含まない消去
液を用いて修正処理することを特徴とする感光性平版印
刷版の処理方法。 - 【請求項13】粗面化及び陽極酸化処理を施されたアル
ミニウム支持体に感光性組成物を含有する感光層を設け
てなる感光性平版印刷版においてアルミニウム支持体表
面の空隙の容積が3.5cc/m2以上5.0cc/m
2以下である感光性平版印刷版を画像露光及び現像した
後、表面張力が10〜50dyn/cmの後処理液で処
理することを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8056894A JPH09134018A (ja) | 1995-09-07 | 1996-02-20 | 感光性平版印刷版とその製造方法及びその処理方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25553095 | 1995-09-07 | ||
| JP7-255530 | 1995-09-07 | ||
| JP8056894A JPH09134018A (ja) | 1995-09-07 | 1996-02-20 | 感光性平版印刷版とその製造方法及びその処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09134018A true JPH09134018A (ja) | 1997-05-20 |
Family
ID=26397891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8056894A Pending JPH09134018A (ja) | 1995-09-07 | 1996-02-20 | 感光性平版印刷版とその製造方法及びその処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09134018A (ja) |
-
1996
- 1996-02-20 JP JP8056894A patent/JPH09134018A/ja active Pending
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |