JPH0957939A - 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 - Google Patents
感光性平版印刷版用支持体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0957939A JPH0957939A JP24370395A JP24370395A JPH0957939A JP H0957939 A JPH0957939 A JP H0957939A JP 24370395 A JP24370395 A JP 24370395A JP 24370395 A JP24370395 A JP 24370395A JP H0957939 A JPH0957939 A JP H0957939A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- anode
- photosensitive
- lithographic printing
- printing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims abstract description 31
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 39
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 39
- -1 aluminum ions Chemical class 0.000 description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 27
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 23
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 11
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 8
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 7
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229940118056 cresol / formaldehyde Drugs 0.000 description 4
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 4
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 3
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 3
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- QSAWQNUELGIYBC-OLQVQODUSA-N (1s,2r)-cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)[C@H]1CCCC[C@H]1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- GSCVIAUUCUEVEH-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,4b,5,6,7,8,8a,8b,9,10,11,12,12a,12b-octadecahydrotriphenylene Chemical group C12CCCCC2C2CCCCC2C2C1CCCC2 GSCVIAUUCUEVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(O)=C1 UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROWKJAVDOGWPAT-UHFFFAOYSA-N Acetoin Chemical compound CC(O)C(C)=O ROWKJAVDOGWPAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical group CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N [(1-diazonioimino-3,4-dioxonaphthalen-2-ylidene)hydrazinylidene]azanide Chemical compound C1=CC=C2C(=N[N+]#N)C(=NN=[N-])C(=O)C(=O)C2=C1 ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQQCWVDPMPFUGF-ZDUSSCGKSA-N alpinetin Chemical compound C1([C@H]2OC=3C=C(O)C=C(C=3C(=O)C2)OC)=CC=CC=C1 QQQCWVDPMPFUGF-ZDUSSCGKSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- JMSVCTWVEWCHDZ-UHFFFAOYSA-N syringic acid Chemical compound COC1=CC(C(O)=O)=CC(OC)=C1O JMSVCTWVEWCHDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- BHQCQFFYRZLCQQ-UHFFFAOYSA-N (3alpha,5alpha,7alpha,12alpha)-3,7,12-trihydroxy-cholan-24-oic acid Natural products OC1CC2CC(O)CCC2(C)C2C1C1CCC(C(CCC(O)=O)C)C1(C)C(O)C2 BHQCQFFYRZLCQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJMXUSNWBKGQEZ-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 PJMXUSNWBKGQEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=NC=1C=CC=CC=1)NC1=CC=CC=C1 FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZRWZLBCZMYWIG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitro-3-phenylbenzene Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1[N+]([O-])=O IZRWZLBCZMYWIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical group C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOCCCC GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxyethane Chemical compound ClCCOC=C DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylindole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C=CC2=C1 RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrole Chemical compound C=CN1C=CC=C1 CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyloxan-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)O1 NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 2-chloroaniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1Cl AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-n-[4-(diethylamino)phenyl]-2-phenylacetamide Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1NC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1 DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMXCHEVUAIPIRM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)C(C)O QMXCHEVUAIPIRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical group OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPPFYBPQAPISCT-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl acetate Chemical compound CC(O)COC(C)=O PPPFYBPQAPISCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 2-iminonaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=N)CC(=O)C2=C1 CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FANUNTYUYWEPJX-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound COC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FANUNTYUYWEPJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepropanedinitrile Chemical compound N#CC(=C)C#N FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTVOVDXBOIGHTP-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxybutan-1-ol Chemical compound CCOC(C)CCO UTVOVDXBOIGHTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHCUSEDRQWYNDS-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-3-methylpentan-2-one Chemical compound CCC(C)(O)C(C)=O KHCUSEDRQWYNDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-2-methylphenyl)-1,1-dioxo-2,1$l^{6}-benzoxathiol-3-yl]-3-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C(=CC(O)=CC=2)C)C2=CC=CC=C2S(=O)(=O)O1 OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSOWMDCLEHRQPH-UHFFFAOYSA-N 4-diazocyclohexa-1,5-dien-1-amine Chemical compound NC1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 KSOWMDCLEHRQPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical class [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- LVSQXDHWDCMMRJ-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutan-2-one Chemical compound CC(=O)CCO LVSQXDHWDCMMRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCYZZYAEGNVNMH-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxypentan-2-one Chemical compound CC(O)CC(C)=O PCYZZYAEGNVNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOVAQMSVARJMPH-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybutan-1-ol Chemical compound COCCCCO KOVAQMSVARJMPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSHPTIGHEWEXRW-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxypentan-2-one Chemical compound CC(=O)CCCO JSHPTIGHEWEXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJSWVBQUHWPEDW-UHFFFAOYSA-N 5-methoxyhexan-1-ol Chemical compound COC(C)CCCCO MJSWVBQUHWPEDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UALYCKSVHDYQRP-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexan-2-one Chemical compound CC(=O)CCCCO UALYCKSVHDYQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GDALETGZDYOOGB-UHFFFAOYSA-N Acridone Chemical class C1=C(O)C=C2N(C)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1O GDALETGZDYOOGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 1
- XWJTYEGVQBFZHI-IMPNNSMHSA-N Apocholic acid Chemical compound C([C@H]1CC2)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1C2=C2CC[C@H]([C@@H](CCC(O)=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 XWJTYEGVQBFZHI-IMPNNSMHSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SRVWHHUUGXPMLL-UHFFFAOYSA-N C(C)OC(CCCO)C.COC(CCO)(CC)CC Chemical compound C(C)OC(CCCO)C.COC(CCO)(CC)CC SRVWHHUUGXPMLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000623 Cellulose acetate phthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 1
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004380 Cholic acid Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical class ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N Isothiocyanatocyclopropane Chemical compound S=C=NC1CC1 JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102000015636 Oligopeptides Human genes 0.000 description 1
- 108010038807 Oligopeptides Proteins 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZEYVTFCMJSGMP-UHFFFAOYSA-N acridone Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3NC2=C1 FZEYVTFCMJSGMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051881 anilide analgesics and antipyretics Drugs 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVSONFIVLCXXDH-UHFFFAOYSA-N benzylsulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)CC1=CC=CC=C1 NVSONFIVLCXXDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical compound COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N carvacrol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N carvacrol Natural products CC(=C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000007746 carvacrol Nutrition 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229940081734 cellulose acetate phthalate Drugs 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- MOFCYHDQWIZKMY-UHFFFAOYSA-N chloromethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCl MOFCYHDQWIZKMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHQCQFFYRZLCQQ-OELDTZBJSA-N cholic acid Chemical compound C([C@H]1C[C@H]2O)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC(O)=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 BHQCQFFYRZLCQQ-OELDTZBJSA-N 0.000 description 1
- 235000019416 cholic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002471 cholic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- CCQPAEQGAVNNIA-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCC1 CCQPAEQGAVNNIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical class OC1CC=CC=C1 MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCFAUZGWPDYAJN-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OC1CCCCC1 GCFAUZGWPDYAJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZFOGXKZTWZVFN-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1 YZFOGXKZTWZVFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNGJOYPCXLOTKL-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)C1 LNGJOYPCXLOTKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- KXGVEGMKQFWNSR-UHFFFAOYSA-N deoxycholic acid Natural products C1CC2CC(O)CCC2(C)C2C1C1CCC(C(CCC(O)=O)C)C1(C)C(O)C2 KXGVEGMKQFWNSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N dimethylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(O)=O OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N ethyl 1-[[2-chloroethyl(nitroso)carbamoyl]amino]cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound ClCCN(N=O)C(=O)NC1(C(=O)OCC)CCCCC1 FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N isocarvacrol Natural products CC(C)C1=CC=C(O)C(C)=C1 WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- XNEFVTBPCXGIRX-UHFFFAOYSA-N methanesulfinic acid Chemical compound CS(O)=O XNEFVTBPCXGIRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N methylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(O)=O ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethene-1,2-diamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC=CNC1=CC=CC=C1 VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJASPDPXLKIZHB-UHFFFAOYSA-N n-(3-nitrophenyl)prop-2-enamide Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(NC(=O)C=C)=C1 PJASPDPXLKIZHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEPAGMKWFWQECH-UHFFFAOYSA-N n-(4-chlorophenyl)prop-2-enamide Chemical compound ClC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 JEPAGMKWFWQECH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- WSGCRAOTEDLMFQ-UHFFFAOYSA-N nonan-5-one Chemical compound CCCCC(=O)CCCC WSGCRAOTEDLMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCC[CH]CCCC ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N normal nonane Natural products CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000005489 p-toluenesulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004968 peroxymonosulfuric acids Chemical class 0.000 description 1
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003742 phenol Drugs 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N sodium 4-amino-6-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-5,7-disulfonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methoxyphenyl]-2-methoxyphenyl]diazenyl]-5-hydroxynaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound COC1=C(C=CC(=C1)C2=CC(=C(C=C2)N=NC3=C(C4=C(C=C3)C(=CC(=C4N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O)OC)N=NC5=C(C6=C(C=C5)C(=CC(=C6N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O.[Na+] ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- YIBXWXOYFGZLRU-UHFFFAOYSA-N syringic aldehyde Natural products CC12CCC(C3(CCC(=O)C(C)(C)C3CC=3)C)C=3C1(C)CCC2C1COC(C)(C)C(O)C(O)C1 YIBXWXOYFGZLRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODLHGICHYURWBS-LKONHMLTSA-N trappsol cyclo Chemical compound CC(O)COC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](COCC(C)O)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)COCC(O)C)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1COCC(C)O ODLHGICHYURWBS-LKONHMLTSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、小点再現性に優れ、且つ非画像部が
汚れ難い感光性平版印刷版用支持体を低コストで提供す
ることを目的とする。 【解決手段】本発明は、アルミニウム板を、(a)陽
極時電圧のピークVaが6〜10V、陽極時電気量Qa
が50〜200C/dm2の工程と、(b)陽極時電圧
のピークVaが11〜30V、陽極時電気量Qaが50
〜200C/dm2の工程を交互に繰り返し、且つ陽極
時電気量Qaの合計が400C/dm2以下となるよう
に電気化学的粗面化を行うこと、又はアルミニウム板
を、比重が3.9未満で且つ粒径が#1500〜#80
00である研磨材を用いて機械的粗面化を行うこと、を
特徴とする。
汚れ難い感光性平版印刷版用支持体を低コストで提供す
ることを目的とする。 【解決手段】本発明は、アルミニウム板を、(a)陽
極時電圧のピークVaが6〜10V、陽極時電気量Qa
が50〜200C/dm2の工程と、(b)陽極時電圧
のピークVaが11〜30V、陽極時電気量Qaが50
〜200C/dm2の工程を交互に繰り返し、且つ陽極
時電気量Qaの合計が400C/dm2以下となるよう
に電気化学的粗面化を行うこと、又はアルミニウム板
を、比重が3.9未満で且つ粒径が#1500〜#80
00である研磨材を用いて機械的粗面化を行うこと、を
特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版用
支持体の製造方法に関し、詳しくは小点再現性に優れ、
非画像部が汚れ難く、且つ低コストで製造可能な感光性
平版印刷版用支持体の製造方法に関する。
支持体の製造方法に関し、詳しくは小点再現性に優れ、
非画像部が汚れ難く、且つ低コストで製造可能な感光性
平版印刷版用支持体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、感光性平版印刷版に用いられる支
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性に優れたものが要求され、このような観点
から通常、表面を砂目立てといわれる粗面化処理を施さ
れたアルミニウム版が用いられている。粗面化処理は、
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホ
ーニング研磨等の機械的粗面化法、また、アルカリ又は
酸或いはそれらの混合物からなるエッチング剤で表面を
処理する化学的粗面化法、さらに、塩酸、硝酸等の酸性
電解液中で交流或いは直流によって支持体表面を電解処
理する電気化学的粗面化法等が知られている。さらに特
開昭54−146234号公報や同48−28123号
公報に記載されている電気化学的粗面化法や、これらの
各種粗面化方法を二つ以上組み合わせた方法等も知られ
ている。
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性に優れたものが要求され、このような観点
から通常、表面を砂目立てといわれる粗面化処理を施さ
れたアルミニウム版が用いられている。粗面化処理は、
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホ
ーニング研磨等の機械的粗面化法、また、アルカリ又は
酸或いはそれらの混合物からなるエッチング剤で表面を
処理する化学的粗面化法、さらに、塩酸、硝酸等の酸性
電解液中で交流或いは直流によって支持体表面を電解処
理する電気化学的粗面化法等が知られている。さらに特
開昭54−146234号公報や同48−28123号
公報に記載されている電気化学的粗面化法や、これらの
各種粗面化方法を二つ以上組み合わせた方法等も知られ
ている。
【0003】しかし、機械的粗面化法では、均一で且つ
微細な粗面が得られないために、その上に作られる画
線、特に小点の再現性が悪く、また、現像の際に除去さ
れるべき部分の感光層が残留し易く、非画像部が汚れ易
いという問題を有している。非画像部の汚れの問題を解
決する方法が特開昭61−262121号に提案されて
いるが、この方法でも非画像部の汚れ難さの改良は未だ
不十分であるだけでなく、小点再現性はむしろ劣化して
しまうという問題を有している。また、化学的粗面化法
では、処理に要する時間が長いため大量生産に適してい
ないという問題を有している。さらに、電気化学的粗面
化法では、粗面化した表面の砂目を一定にするためには
電解条件の制御を厳密に行う必要があり、電力消費も少
なくなく、極めてコスト高であり、しかも非画像部が汚
れ易いという問題を有している。
微細な粗面が得られないために、その上に作られる画
線、特に小点の再現性が悪く、また、現像の際に除去さ
れるべき部分の感光層が残留し易く、非画像部が汚れ易
いという問題を有している。非画像部の汚れの問題を解
決する方法が特開昭61−262121号に提案されて
いるが、この方法でも非画像部の汚れ難さの改良は未だ
不十分であるだけでなく、小点再現性はむしろ劣化して
しまうという問題を有している。また、化学的粗面化法
では、処理に要する時間が長いため大量生産に適してい
ないという問題を有している。さらに、電気化学的粗面
化法では、粗面化した表面の砂目を一定にするためには
電解条件の制御を厳密に行う必要があり、電力消費も少
なくなく、極めてコスト高であり、しかも非画像部が汚
れ易いという問題を有している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、小点再現性に優れ、且つ非画像部が汚れ難い感光性
平版印刷版用支持体を低コストで提供することにある。
は、小点再現性に優れ、且つ非画像部が汚れ難い感光性
平版印刷版用支持体を低コストで提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、二段階で
電気化学的粗面化を行うこと、又は研磨材の比重と粒径
を規定した機械的粗面化を行うこと、の二つの方法によ
り、小点再現性に優れ、且つ非画像部が汚れ難い感光性
平版印刷版用支持体を低コストで製造できることが可能
であることを見出した。
電気化学的粗面化を行うこと、又は研磨材の比重と粒径
を規定した機械的粗面化を行うこと、の二つの方法によ
り、小点再現性に優れ、且つ非画像部が汚れ難い感光性
平版印刷版用支持体を低コストで製造できることが可能
であることを見出した。
【0006】そこで本発明の上記課題は、 1.アルミニウム板を、(a)陽極時電圧のピークVa
が6〜10V、陽極時電気量Qaが50〜200C/d
m2の工程と、(b)陽極時電圧のピークVaが11〜
30V、陽極時電気量Qaが50〜200C/dm2の
工程を交互に繰り返し、且つ陽極時電気量Qaの合計が
400C/dm2以下となるように電気化学的粗面化を
行うことを特徴とする感光性平版印刷版用支持体の製造
方法、
が6〜10V、陽極時電気量Qaが50〜200C/d
m2の工程と、(b)陽極時電圧のピークVaが11〜
30V、陽極時電気量Qaが50〜200C/dm2の
工程を交互に繰り返し、且つ陽極時電気量Qaの合計が
400C/dm2以下となるように電気化学的粗面化を
行うことを特徴とする感光性平版印刷版用支持体の製造
方法、
【0007】2.アルミニウム板を、比重が3.9未満
で且つ粒径が#1500〜#8000である研磨材を用
いて機械的粗面化を行うことを特徴とする感光性平版印
刷版用支持体の製造方法、
で且つ粒径が#1500〜#8000である研磨材を用
いて機械的粗面化を行うことを特徴とする感光性平版印
刷版用支持体の製造方法、
【0008】3.機械的粗面化した後に、交流電流で陽
極時電気量Qaが100C/dm2以下となるように電
気化学的粗面化を行うことを特徴とする前記2記載の感
光性平版印刷版用支持体の製造方法、の各々により達成
される。
極時電気量Qaが100C/dm2以下となるように電
気化学的粗面化を行うことを特徴とする前記2記載の感
光性平版印刷版用支持体の製造方法、の各々により達成
される。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明について説明する。
本発明に使用されるアルミニウム支持体(以下、単に支
持体と言うこともある。)には、純アルミニウムおよび
アルミニウム合金よりなる支持体が含まれる。アルミニ
ウム合金としては種々のものが使用でき、例えば珪素、
銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビス
マス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とア
ルミニウムの合金が用いられる。市販のアルミニウム板
の例としては、1050材、1100材、3003材等
が挙げられる。
本発明に使用されるアルミニウム支持体(以下、単に支
持体と言うこともある。)には、純アルミニウムおよび
アルミニウム合金よりなる支持体が含まれる。アルミニ
ウム合金としては種々のものが使用でき、例えば珪素、
銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビス
マス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とア
ルミニウムの合金が用いられる。市販のアルミニウム板
の例としては、1050材、1100材、3003材等
が挙げられる。
【0010】アルミニウム支持体は、粗面化に先立って
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシンとトリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱
脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去する
ことができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶
液を用いた場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等
の、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが
好ましい。
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシンとトリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱
脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去する
ことができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶
液を用いた場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等
の、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが
好ましい。
【0011】上記アルミニウム板の粗面化について説明
する。先ず請求項1記載の電気化学的粗面化法について
説明する。電気化学的粗面化は一般に酸性電解液中で交
流電流を用いて粗面化を行うものである。酸性電解液は
通常、電気化学的粗面化法に用いられるものが使用でき
るが、特に塩酸系又は硝酸系電解液を用いるのが好まし
い。電気化学的粗面化法については、例えば、特公昭4
8−28123号公報、英国特許第896,563号明
細書、特開昭53−67507号公報に記載されてお
り、本発明においては、これら方法を用いることができ
る。
する。先ず請求項1記載の電気化学的粗面化法について
説明する。電気化学的粗面化は一般に酸性電解液中で交
流電流を用いて粗面化を行うものである。酸性電解液は
通常、電気化学的粗面化法に用いられるものが使用でき
るが、特に塩酸系又は硝酸系電解液を用いるのが好まし
い。電気化学的粗面化法については、例えば、特公昭4
8−28123号公報、英国特許第896,563号明
細書、特開昭53−67507号公報に記載されてお
り、本発明においては、これら方法を用いることができ
る。
【0012】請求項1記載の本発明の電気化学的粗面化
法では、(a)陽極時電圧のピークVaが6〜10V、
陽極時電気量Qaが50〜200C/dm2の工程と、
(b)陽極時電圧のピークVaが11〜30V、陽極時
電気量Qaが50〜200C/dm2の工程を繰り返す
ことによって行われるが、(a)、(b)の工程は、陽
極時電気量Qaの総量(合計)が400C/dm2以下
であれば何回でも繰り返すことができる。陽極時電気量
Qaの総量(合計)は200〜400C/dm2が好ま
しく、より好ましくは250〜350C/dm2の範囲
である。
法では、(a)陽極時電圧のピークVaが6〜10V、
陽極時電気量Qaが50〜200C/dm2の工程と、
(b)陽極時電圧のピークVaが11〜30V、陽極時
電気量Qaが50〜200C/dm2の工程を繰り返す
ことによって行われるが、(a)、(b)の工程は、陽
極時電気量Qaの総量(合計)が400C/dm2以下
であれば何回でも繰り返すことができる。陽極時電気量
Qaの総量(合計)は200〜400C/dm2が好ま
しく、より好ましくは250〜350C/dm2の範囲
である。
【0013】電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化
物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ
酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。電解液の温度
は、10〜50℃が好ましく、15〜45℃が更に好ま
しい。塩酸又は硝酸濃度は、0.01〜5重量%が好ま
しい。電極とアルミニウム板間の距離は1〜10cmが
好ましく、1〜5cmがより好ましい。
物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ
酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。電解液の温度
は、10〜50℃が好ましく、15〜45℃が更に好ま
しい。塩酸又は硝酸濃度は、0.01〜5重量%が好ま
しい。電極とアルミニウム板間の距離は1〜10cmが
好ましく、1〜5cmがより好ましい。
【0014】電気化学的粗面化に用いる電流密度は、1
0〜200A/dm2が好ましく、25〜150A/d
m2が更に好ましい。電気化学的粗面化において、陽極
時電圧のピークVaを請求項1記載の範囲とすること
で、小点再現性に優れ、汚れ難い良好な形状を与えるピ
ットを形成することができる。特に、電気化学的粗面化
を二段階の工程に分けることで、一回の場合に比べて少
ない電気量で均一な粗面化処理を行うことができる。
0〜200A/dm2が好ましく、25〜150A/d
m2が更に好ましい。電気化学的粗面化において、陽極
時電圧のピークVaを請求項1記載の範囲とすること
で、小点再現性に優れ、汚れ難い良好な形状を与えるピ
ットを形成することができる。特に、電気化学的粗面化
を二段階の工程に分けることで、一回の場合に比べて少
ない電気量で均一な粗面化処理を行うことができる。
【0015】次に請求項2記載の機械的粗面化法につい
て説明する。本発明の請求項2記載の機械的粗面化法と
しては、機械的粗面化法は特に限定されないが、ブラシ
研磨、ホーニング研摩、ジェットスクラブ研摩が好まし
い。ブラシ研摩では、例えば、毛径0.2〜1mmのブ
ラシ毛を植毛した円筒状ブラシを回転し、接触面に研摩
材を水に分散させたスラリーを供給しながら支持体表面
に押し付けて粗面化を行う。ホーニング研摩では、研摩
材を水に分散させたスラリーをノズルより圧力をかけ射
出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行う。
ジェットスクラブ研摩では、研摩材と水等の液体とを予
めタンク内にて撹拌させ、必要に応じて表面処理用の噴
出口へ直接送って粗面化を行う。本発明では特にブラシ
研摩が好ましい。
て説明する。本発明の請求項2記載の機械的粗面化法と
しては、機械的粗面化法は特に限定されないが、ブラシ
研磨、ホーニング研摩、ジェットスクラブ研摩が好まし
い。ブラシ研摩では、例えば、毛径0.2〜1mmのブ
ラシ毛を植毛した円筒状ブラシを回転し、接触面に研摩
材を水に分散させたスラリーを供給しながら支持体表面
に押し付けて粗面化を行う。ホーニング研摩では、研摩
材を水に分散させたスラリーをノズルより圧力をかけ射
出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行う。
ジェットスクラブ研摩では、研摩材と水等の液体とを予
めタンク内にて撹拌させ、必要に応じて表面処理用の噴
出口へ直接送って粗面化を行う。本発明では特にブラシ
研摩が好ましい。
【0016】本発明の請求項2記載の機械的粗面化法に
用いられる研摩材としては、パミス、アルミナ、シリ
カ、酸化マグネシウム等が挙げられる。スラリーの組成
は水と研摩材の微粉末からなり、微粉末の量は10〜7
0%(容量比)程度であり、通常20〜50%程度の量
が用いられる。スラリーには、必要に応じて酸やアルカ
リを加えることができる。
用いられる研摩材としては、パミス、アルミナ、シリ
カ、酸化マグネシウム等が挙げられる。スラリーの組成
は水と研摩材の微粉末からなり、微粉末の量は10〜7
0%(容量比)程度であり、通常20〜50%程度の量
が用いられる。スラリーには、必要に応じて酸やアルカ
リを加えることができる。
【0017】機械的粗面化に比重が3.9未満で且つ粒
径が#1500〜#8000である研磨材を使用して行
うことで、小点再現性に優れ、汚れ難い良好な形状を与
えるピットを形成することができる。粒径が#1500
〜#8000とは、細かく均一な砂目形状を与える範囲
である。比重が3.9以上であると、粗さが大きくなり
支持体表面に鋭い突起が生じ、これらの突起に起因して
感光性平版印刷版の現像時に除去されるべき部分の感光
層が残留してしまい版面が汚れるという問題があり、ま
た粒径が#1500未満であると、粗面化の際にばらつ
きを生じ易く小点再現性が劣るという問題があり、粒径
が#8000を超えると、ほとんど粗面化されない為に
耐刷性が著しく劣るという問題がある。
径が#1500〜#8000である研磨材を使用して行
うことで、小点再現性に優れ、汚れ難い良好な形状を与
えるピットを形成することができる。粒径が#1500
〜#8000とは、細かく均一な砂目形状を与える範囲
である。比重が3.9以上であると、粗さが大きくなり
支持体表面に鋭い突起が生じ、これらの突起に起因して
感光性平版印刷版の現像時に除去されるべき部分の感光
層が残留してしまい版面が汚れるという問題があり、ま
た粒径が#1500未満であると、粗面化の際にばらつ
きを生じ易く小点再現性が劣るという問題があり、粒径
が#8000を超えると、ほとんど粗面化されない為に
耐刷性が著しく劣るという問題がある。
【0018】さらに請求項2記載の機械的粗面化を行っ
た後、請求項3に記載したように交流電流で陽極時電気
量Qaが100C/dm2以下、好ましくは50〜10
0C/dm2、より好ましくは80〜100C/dm2
の範囲で電気化学的粗面化を行うことで、小点再現性が
更に良好となる。
た後、請求項3に記載したように交流電流で陽極時電気
量Qaが100C/dm2以下、好ましくは50〜10
0C/dm2、より好ましくは80〜100C/dm2
の範囲で電気化学的粗面化を行うことで、小点再現性が
更に良好となる。
【0019】本発明において、粗面化処理を二つ以上組
み合わせる場合には、各処理の間に酸又はアルカリの水
溶液に浸漬する化学的粗面化を行ってもよい。酸として
は、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等
が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、第三燐酸ナトリウム等が含まれる。こ
れらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。
これらの酸又はアルカリの0.05〜40重量%水溶液
を用い、40〜100℃の液温において5〜300秒間
処理する。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った
場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いは
それらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
み合わせる場合には、各処理の間に酸又はアルカリの水
溶液に浸漬する化学的粗面化を行ってもよい。酸として
は、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等
が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、第三燐酸ナトリウム等が含まれる。こ
れらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。
これらの酸又はアルカリの0.05〜40重量%水溶液
を用い、40〜100℃の液温において5〜300秒間
処理する。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った
場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いは
それらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【0020】粗面化処理された支持体は、さらに表面の
保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施され
る。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質
としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかなる
ものでも使用することができ、一般には硫酸、燐酸、蓚
酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等
あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の
濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化
の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に
特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重
量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度1〜60A/d
m2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲
にあれば適当である。特に好ましい硫酸法は通常直流電
流で処理が行われるが、交流を用いることも可能であ
る。硫酸の濃度は10〜50%で使用され、20〜50
℃の温度範囲で20〜250秒間電解処理される。この
電解液には、アルミニウムイオンが含まれている方が好
ましい。さらにこのときの電流密度は1〜20A/dm
2が好ましい。
保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施され
る。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質
としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかなる
ものでも使用することができ、一般には硫酸、燐酸、蓚
酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等
あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の
濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化
の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に
特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重
量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度1〜60A/d
m2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲
にあれば適当である。特に好ましい硫酸法は通常直流電
流で処理が行われるが、交流を用いることも可能であ
る。硫酸の濃度は10〜50%で使用され、20〜50
℃の温度範囲で20〜250秒間電解処理される。この
電解液には、アルミニウムイオンが含まれている方が好
ましい。さらにこのときの電流密度は1〜20A/dm
2が好ましい。
【0021】本発明により製造される支持体は、陽極酸
化処理の後、封孔処理を施してもよい。封孔処理として
は、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロ
ム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処
理等が挙げられる。
化処理の後、封孔処理を施してもよい。封孔処理として
は、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロ
ム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処
理等が挙げられる。
【0022】更に本発明により製造される支持体は、親
水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層としては、米
国特許第3,181,461号明細書に記載のアルカリ
金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明細書に
記載の親水性セルロース、特公平6−94234号公
報、同6−2436号公報に記載のアミノ酸及びその
塩、特公平5−32238号公報に記載の水酸基を有す
るアミン類及びその塩、特開昭62−19494号公報
に記載の燐酸塩、特開昭59−101651号公報に記
載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合物
等が挙げられる。
水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層としては、米
国特許第3,181,461号明細書に記載のアルカリ
金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明細書に
記載の親水性セルロース、特公平6−94234号公
報、同6−2436号公報に記載のアミノ酸及びその
塩、特公平5−32238号公報に記載の水酸基を有す
るアミン類及びその塩、特開昭62−19494号公報
に記載の燐酸塩、特開昭59−101651号公報に記
載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合物
等が挙げられる。
【0023】次に、上記表面処理された支持体上に、感
光性組成物を含む感光層を塗布することにより感光性平
版印刷版が得られる。この感光層中に用いられる感光性
物質としては特に限定されるものはなく、通常、感光性
平版印刷版に用いられている種々のものを用いることが
できる。
光性組成物を含む感光層を塗布することにより感光性平
版印刷版が得られる。この感光層中に用いられる感光性
物質としては特に限定されるものはなく、通常、感光性
平版印刷版に用いられている種々のものを用いることが
できる。
【0024】さらに感光性平版印刷版を重ねた時の感光
層への擦れ傷を防止するために及び/又は現像時、現像
液中へのアルミニウム成分の溶出を防止するために、特
開昭50−151136号、同57−63293号、同
60−73538号、同61−67863号、特開平6
−35174号等に記載されている支持体裏面に保護層
を設ける処理を行うことができる。
層への擦れ傷を防止するために及び/又は現像時、現像
液中へのアルミニウム成分の溶出を防止するために、特
開昭50−151136号、同57−63293号、同
60−73538号、同61−67863号、特開平6
−35174号等に記載されている支持体裏面に保護層
を設ける処理を行うことができる。
【0025】以下、感光物質について説明する。 (感光層)上記本発明により製造された支持体上に感光
性組成物からなる感光層を塗布することにより感光性平
版印刷版が得られる。この感光層中に用いられる感光性
物質は、ポジ型感光性平版印刷版を得ようとする場合、
o−キノンジアジド化合物であれば特に限定されるもの
ではなく、通常、例えば下記のような各種のものが使用
される。
性組成物からなる感光層を塗布することにより感光性平
版印刷版が得られる。この感光層中に用いられる感光性
物質は、ポジ型感光性平版印刷版を得ようとする場合、
o−キノンジアジド化合物であれば特に限定されるもの
ではなく、通常、例えば下記のような各種のものが使用
される。
【0026】(o−キノンジアジド化合物を含む感光性
組成物)使用されるo−キノンジアジド化合物を含む感
光性組成物においては、o−キノンジアジド化合物とア
ルカリ可溶性樹脂を併用する。o−キノンジアジド化合
物としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮
合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
組成物)使用されるo−キノンジアジド化合物を含む感
光性組成物においては、o−キノンジアジド化合物とア
ルカリ可溶性樹脂を併用する。o−キノンジアジド化合
物としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮
合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
【0027】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
【0028】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
【0029】更にo−キノンジアジド化合物としては特
開昭58−43451号公報に記載のある以下の化合物
も使用できる。即ち、例えば1,2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド化合
物、更に具体的にはジェイ・コサール(J.Kosa
r)著「ライト−センシティブ・システムズ」(Lig
ht−Sensitive Systems)第339
〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・アンド
・サンズ(John Willey &Sons)社
(ニューヨーク)やダブリュ・エス・ディ・フォレスト
(W.S.De Forest)著「フォトレジスト」
(Photoresist)第50巻(1975年)、
マックローヒル(Mc Graw Hill)社(ニュ
ーヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノンジア
ジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,2,1
´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−スルホニ
ル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾキノン
ジアジド−4−(N−エチル−M−β−ナフチル)−ス
ルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメチ
ルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−4´−アゾ−β
−ナフトール−エステル、N,N−ジ−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2´
−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルオ
キシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン−2,4−ジヒドロ
キシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノノジ
アジド−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4´−ジアミ
ノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4
´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェニルスルホン1モ
ルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド1モルとプルプロガリン1モルとの縮
合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒ
ドロアビエチル)−スルホンアミド等の1,2−キノン
ジアジド化合物を例示することができる。また、特公昭
37−1953号、同37−3627号、同37−13
109号、同40−26126号、同40−3801
号、同45−5604号、同45−27345号、同5
1−13013号、特開昭48−96575号、同48
−63802号、同48−63803号各公報に記載さ
れた1,2−キノンジアジド化合物も挙げることができ
る。
開昭58−43451号公報に記載のある以下の化合物
も使用できる。即ち、例えば1,2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド化合
物、更に具体的にはジェイ・コサール(J.Kosa
r)著「ライト−センシティブ・システムズ」(Lig
ht−Sensitive Systems)第339
〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・アンド
・サンズ(John Willey &Sons)社
(ニューヨーク)やダブリュ・エス・ディ・フォレスト
(W.S.De Forest)著「フォトレジスト」
(Photoresist)第50巻(1975年)、
マックローヒル(Mc Graw Hill)社(ニュ
ーヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノンジア
ジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,2,1
´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−スルホニ
ル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾキノン
ジアジド−4−(N−エチル−M−β−ナフチル)−ス
ルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメチ
ルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−4´−アゾ−β
−ナフトール−エステル、N,N−ジ−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2´
−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルオ
キシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン−2,4−ジヒドロ
キシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノノジ
アジド−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4´−ジアミ
ノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4
´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェニルスルホン1モ
ルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド1モルとプルプロガリン1モルとの縮
合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒ
ドロアビエチル)−スルホンアミド等の1,2−キノン
ジアジド化合物を例示することができる。また、特公昭
37−1953号、同37−3627号、同37−13
109号、同40−26126号、同40−3801
号、同45−5604号、同45−27345号、同5
1−13013号、特開昭48−96575号、同48
−63802号、同48−63803号各公報に記載さ
れた1,2−キノンジアジド化合物も挙げることができ
る。
【0030】上記o−キノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。o−キノン
ジアジド化合物としては上記化合物を各々単独で用いて
もよいし、2種以上組合せて用いてもよい。o−キノン
ジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合は、6〜
60重量%が好ましく、特に好ましいのは、10〜50
重量%である。
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。o−キノン
ジアジド化合物としては上記化合物を各々単独で用いて
もよいし、2種以上組合せて用いてもよい。o−キノン
ジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合は、6〜
60重量%が好ましく、特に好ましいのは、10〜50
重量%である。
【0031】(ジアゾ化合物)一方、ネガ型感光性平版
印刷版を得ようとする場合、公知のジアゾ化合物を含む
感光性組成物を用いればよい。
印刷版を得ようとする場合、公知のジアゾ化合物を含む
感光性組成物を用いればよい。
【0032】この感光性組成物中のジアゾ化合物は、例
えば、好ましくは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデ
ヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物で代表されるジ
アゾ樹脂である。特に好ましくは、p−ジアゾフェニル
アミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの
縮合物の塩、例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラ
フルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前
記縮合物との反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米
国特許第3,300,309号明細書中に記載されてい
るような、前記縮合物とスルホン酸類との反応生成物で
あるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹
脂は、好ましくは結合剤と共に使用される。かかる結合
剤としては種々の高分子化合物を使用することができる
が、好ましくは特開昭54−98613号公報に記載さ
れているような芳香族性水酸基を有する単量体、例えば
N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、
m−、またはp−ヒドロキシスチレン、o−、m−、ま
たはp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の単
量体との共重合体、米国特許第4,123,276号明
細書中に記載されているようなヒドロキシエチルアクリ
レート単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位
を主な繰り返し単位として含むポリマー、シェラック、
ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許
第3,751,257号明細書中に記載されているよう
な線状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタ
レート化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリン
から縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロ
ースアセテートフタレート等のセルロール誘導体が包含
される。
えば、好ましくは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデ
ヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物で代表されるジ
アゾ樹脂である。特に好ましくは、p−ジアゾフェニル
アミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの
縮合物の塩、例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラ
フルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前
記縮合物との反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米
国特許第3,300,309号明細書中に記載されてい
るような、前記縮合物とスルホン酸類との反応生成物で
あるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹
脂は、好ましくは結合剤と共に使用される。かかる結合
剤としては種々の高分子化合物を使用することができる
が、好ましくは特開昭54−98613号公報に記載さ
れているような芳香族性水酸基を有する単量体、例えば
N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、
m−、またはp−ヒドロキシスチレン、o−、m−、ま
たはp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の単
量体との共重合体、米国特許第4,123,276号明
細書中に記載されているようなヒドロキシエチルアクリ
レート単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位
を主な繰り返し単位として含むポリマー、シェラック、
ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許
第3,751,257号明細書中に記載されているよう
な線状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタ
レート化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリン
から縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロ
ースアセテートフタレート等のセルロール誘導体が包含
される。
【0033】本発明により製造される支持体に用いるこ
とができる感光性組成物としては、上記の他にも次のよ
うなものが使用できる。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
とができる感光性組成物としては、上記の他にも次のよ
うなものが使用できる。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
【0034】
【化1】 を含む感光性樹脂、及び重合体の側鎖に感光基を有する
ポリビニルシンナメート等が挙げられる。
ポリビニルシンナメート等が挙げられる。
【0035】2)光重合系感光性樹脂組成物 付加重合性不飽和化合物を含む光重合成性組成物であっ
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
【0036】一例を挙げるとメタクリル酸メチルを含む
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
【0037】(アルカリ可溶性樹脂)アルカリ可溶性樹
脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報に
記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との縮合樹脂等が挙げられる。
脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報に
記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との縮合樹脂等が挙げられる。
【0038】ノボラック樹脂としては、例えばフェノー
ル・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載
されているようなp−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体樹脂
等が挙げられる。
ル・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載
されているようなp−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体樹脂
等が挙げられる。
【0039】前記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレ
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.
00×103〜3.00×104、より好ましくはMn
が5.00×102〜4.00×103、Mwが3.0
0×103〜2.00×104である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.
00×103〜3.00×104、より好ましくはMn
が5.00×102〜4.00×103、Mwが3.0
0×103〜2.00×104である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
【0040】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、フェノール
性水酸基を有するビニル系共重合体としては、該フェノ
ール性水酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体
であり、下記一般式[I]〜[V]の少なくとも1つの
構造単位を含む重合体が好ましい。
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、フェノール
性水酸基を有するビニル系共重合体としては、該フェノ
ール性水酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体
であり、下記一般式[I]〜[V]の少なくとも1つの
構造単位を含む重合体が好ましい。
【0041】
【化2】 [式中、R1およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル
基又はカルボキシル基、好ましくは水素原子を表わす。
R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表わ
し、好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のア
ルキル基を表わす。R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表わし、好ましくは水素原子
を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子
とを連結する、置換基を有していてもよいアルキレン基
を表わし、mは0〜10の整数を表わし、Bは置換基を
有していてもよいフェニレン基又は置換基を有してもよ
いナフチレン基を表わす。]
基又はカルボキシル基、好ましくは水素原子を表わす。
R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表わ
し、好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のア
ルキル基を表わす。R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表わし、好ましくは水素原子
を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子
とを連結する、置換基を有していてもよいアルキレン基
を表わし、mは0〜10の整数を表わし、Bは置換基を
有していてもよいフェニレン基又は置換基を有してもよ
いナフチレン基を表わす。]
【0042】重合体としては共重合体型の構造を有する
ものが好ましく、前記一般式[I]〜一般式[V]でそ
れぞれ示される構造単位と組合せて用いることができる
単量体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、イ
ソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不
飽和オフィレン類、例えばスチレン、α−メチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチ
レン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル
酸類、例えばイタコン、マレイン酸、無水マレイン酸等
の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−
2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロア
クリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノ
カルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メ
タアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアクリルア
ミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロ
ロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m
−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデ
ンシアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレ
ン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシ
エチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1
−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導体類、
例えばN−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデン、N−ビ
ニルピロリドン等のN−ビニル系単量体がある。これら
のビニル系単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
ものが好ましく、前記一般式[I]〜一般式[V]でそ
れぞれ示される構造単位と組合せて用いることができる
単量体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、イ
ソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不
飽和オフィレン類、例えばスチレン、α−メチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチ
レン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル
酸類、例えばイタコン、マレイン酸、無水マレイン酸等
の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−
2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロア
クリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノ
カルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メ
タアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアクリルア
ミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロ
ロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m
−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデ
ンシアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレ
ン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシ
エチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1
−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導体類、
例えばN−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデン、N−ビ
ニルピロリドン等のN−ビニル系単量体がある。これら
のビニル系単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
【0043】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、重合体中
にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結合して
いてもよい。
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、重合体中
にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結合して
いてもよい。
【0044】ビニル系重合体の感光性組成物中に占める
割合は0.5〜70重量%であることが好ましい。ビニ
ル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又
2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物
等と組合せて用いることもできる。
割合は0.5〜70重量%であることが好ましい。ビニ
ル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又
2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物
等と組合せて用いることもできる。
【0045】(有機酸・無機酸・酸無水物)本発明によ
り製造される支持体に塗布される感光性組成物には、有
機酸・無機酸・酸無水物が含有されてもよい。使用され
る酸としては、例えば特開昭60−88942号、特願
昭63−293107号に記載の有機酸と、日本化学会
編「化学便覧新版」(丸善出版)第92〜158頁に記
載の無機酸が挙げられる。有機酸の例としては、p−ト
ルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、メシ
チレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン酸等
のスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、ベンジルス
ルフィン酸、メタンスルフィン酸等のスルフィン酸、フ
ェニルホスホン酸、メチルホスホン酸、クロルメチルホ
スホン酸等のホスホン酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸
等の脂肪族モノカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸
等の脂環式モノカルボン酸、安息香酸、o−、m−、p
−ヒドロキシ安息香酸、o−、m−、p−メトキシ安息
香酸、o−、m−、p−メチル安息香酸、3,5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、フロログリシンカルボン酸、没食子
酸、3,5−ジメチル安息香酸等の芳香族モノカルボン
酸が挙げられる。また、マロン酸、メチルマロン酸、ジ
メチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、
イタコン酸、リンゴ酸等の飽和または、不飽和脂肪族ジ
カルボン酸、テトラヒドロフタル酸、1,1−シクロブ
タンジカルボン酸、1,1−シクロペンタンジカルボン
酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,1−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸等の
脂環式ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸等の芳香族ジカルボン酸等を挙げることができ
る。
り製造される支持体に塗布される感光性組成物には、有
機酸・無機酸・酸無水物が含有されてもよい。使用され
る酸としては、例えば特開昭60−88942号、特願
昭63−293107号に記載の有機酸と、日本化学会
編「化学便覧新版」(丸善出版)第92〜158頁に記
載の無機酸が挙げられる。有機酸の例としては、p−ト
ルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、メシ
チレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン酸等
のスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、ベンジルス
ルフィン酸、メタンスルフィン酸等のスルフィン酸、フ
ェニルホスホン酸、メチルホスホン酸、クロルメチルホ
スホン酸等のホスホン酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸
等の脂肪族モノカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸
等の脂環式モノカルボン酸、安息香酸、o−、m−、p
−ヒドロキシ安息香酸、o−、m−、p−メトキシ安息
香酸、o−、m−、p−メチル安息香酸、3,5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、フロログリシンカルボン酸、没食子
酸、3,5−ジメチル安息香酸等の芳香族モノカルボン
酸が挙げられる。また、マロン酸、メチルマロン酸、ジ
メチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、
イタコン酸、リンゴ酸等の飽和または、不飽和脂肪族ジ
カルボン酸、テトラヒドロフタル酸、1,1−シクロブ
タンジカルボン酸、1,1−シクロペンタンジカルボン
酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,1−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸等の
脂環式ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸等の芳香族ジカルボン酸等を挙げることができ
る。
【0046】上記有機酸の内、より好ましいものは、p
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、またはcis−1,2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、シリンガ酸等がある。
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、またはcis−1,2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、シリンガ酸等がある。
【0047】無機酸の例としては、硝酸、硫酸、塩酸、
ケイ酸、リン酸等が挙げられ、さらに好ましくは、硫
酸、リン酸である。
ケイ酸、リン酸等が挙げられ、さらに好ましくは、硫
酸、リン酸である。
【0048】酸無水物を用いる場合の酸無水物の種類も
任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香
酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導されるも
の、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、
無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から誘導
されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無水物
は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これらの化
合物は、単独あるいは2種以上混合して使用できる。
任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香
酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導されるも
の、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、
無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から誘導
されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無水物
は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これらの化
合物は、単独あるいは2種以上混合して使用できる。
【0049】これらの酸の含有量は、全感光性組成物の
全固形分に対して、一般的に0.05〜5重量%であっ
て、好ましくは、0.1〜3重量%の範囲である。
全固形分に対して、一般的に0.05〜5重量%であっ
て、好ましくは、0.1〜3重量%の範囲である。
【0050】(界面活性剤)本発明により製造される支
持体に塗布される感光性組成物は界面活性剤を含んでも
よい。界面活性剤としては、両性界面活性剤、アニオン
界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性
剤、フッ素系界面活性剤等を挙げることができる。界面
活性剤が感光性組成物中に占める割合は、0.01〜1
0重量%であることが好ましく、さらに好ましくは0.
01〜5重量%で使用される。
持体に塗布される感光性組成物は界面活性剤を含んでも
よい。界面活性剤としては、両性界面活性剤、アニオン
界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性
剤、フッ素系界面活性剤等を挙げることができる。界面
活性剤が感光性組成物中に占める割合は、0.01〜1
0重量%であることが好ましく、さらに好ましくは0.
01〜5重量%で使用される。
【0051】(プリントアウト材料)感光性組成物に
は、露光より可視画像を形成させるプリントアウト材料
を添加することができる。プリントアウト材料は露光に
より酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用する
ことによってその色調を変える有機染料よりなるもの
で、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物とし
ては、例えば特開昭50−36209号公報に記載のo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、
特開昭53−36223号公報に記載されているo−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子
吸引性置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸
とのエステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−
77742号公報、特開昭57−148784号公報等
に記載のハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及び
ジアゾニウム塩等が挙げられる。
は、露光より可視画像を形成させるプリントアウト材料
を添加することができる。プリントアウト材料は露光に
より酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用する
ことによってその色調を変える有機染料よりなるもの
で、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物とし
ては、例えば特開昭50−36209号公報に記載のo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、
特開昭53−36223号公報に記載されているo−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子
吸引性置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸
とのエステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−
77742号公報、特開昭57−148784号公報等
に記載のハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及び
ジアゾニウム塩等が挙げられる。
【0052】(露光により酸または遊離基を生成する化
合物)本発明により製造される支持体に塗布される感光
性組成物に用いることができる、露光により酸または遊
離基を生成する化合物としては、例えば、ハロメチルオ
キサジアゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジン化
合物等が用いられる。ハロメチルオキサジアゾール化合
物とは、オキサジアゾール類にハロメチル基、好ましく
はトリクロロメチル基を有する化合物である。これらの
化合物は公知であり、例えば特公昭57−6096号公
報、同61−51788号公報、特公平1−28369
号公報、特開昭60−138539号公報、同60−1
77340号公報、同60−241049号公報等に記
載されている。また、ハロメチル−s−トリアジン化合
物とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好
ましくはトリクロロメチル基を有する化合物である。
合物)本発明により製造される支持体に塗布される感光
性組成物に用いることができる、露光により酸または遊
離基を生成する化合物としては、例えば、ハロメチルオ
キサジアゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジン化
合物等が用いられる。ハロメチルオキサジアゾール化合
物とは、オキサジアゾール類にハロメチル基、好ましく
はトリクロロメチル基を有する化合物である。これらの
化合物は公知であり、例えば特公昭57−6096号公
報、同61−51788号公報、特公平1−28369
号公報、特開昭60−138539号公報、同60−1
77340号公報、同60−241049号公報等に記
載されている。また、ハロメチル−s−トリアジン化合
物とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好
ましくはトリクロロメチル基を有する化合物である。
【0053】本発明の支持体に塗布される感光性組成物
中における前記露光により酸又は遊離基を生成する化合
物の添加量は、0.01〜10重量%が好ましく、より
好ましくは、0.1〜30重量%であり、特に好ましく
は、0.2〜3重量%である。これらの化合物は、単独
あるいは2種以上混合して使用できる。
中における前記露光により酸又は遊離基を生成する化合
物の添加量は、0.01〜10重量%が好ましく、より
好ましくは、0.1〜30重量%であり、特に好ましく
は、0.2〜3重量%である。これらの化合物は、単独
あるいは2種以上混合して使用できる。
【0054】(色素)本発明により製造される支持体に
塗布される感光性組成物には、さらに色素を用いること
ができる。該色素は、露光による可視画像(露光可視画
像)と現像後の可視画像を得ることを目的として使用さ
れる。
塗布される感光性組成物には、さらに色素を用いること
ができる。該色素は、露光による可視画像(露光可視画
像)と現像後の可視画像を得ることを目的として使用さ
れる。
【0055】該色素としては、フリーラジカルまたは酸
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、、ローダミンB、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、、ローダミンB、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
【0056】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。
【0057】上記の変色剤の感光性組成物中に占める割
合は、0.01〜10重量%であることが好ましく、更
に好ましくは0.02〜5重量%で使用される。これら
の化合物は、単独あるいは2種以上混合して使用でき
る。尚、特に好ましい色素は、ビクトリアピュアブルー
BOH、オイルブルー#603である。
合は、0.01〜10重量%であることが好ましく、更
に好ましくは0.02〜5重量%で使用される。これら
の化合物は、単独あるいは2種以上混合して使用でき
る。尚、特に好ましい色素は、ビクトリアピュアブルー
BOH、オイルブルー#603である。
【0058】(感脂化剤)画像部の感脂性を向上させる
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、あるいはこ
れらとo−キノンジアジド化合物との部分エステル化
物、フッ素系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの5
0%脂肪酸エステル等)、等が好ましく用いられる。こ
れらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異
なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜30重
量%である。これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
本発明により製造される支持体の表面に塗布乾燥させる
ことにより、感光層を設けて、感光性平版印刷版を製造
することができる。
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、あるいはこ
れらとo−キノンジアジド化合物との部分エステル化
物、フッ素系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの5
0%脂肪酸エステル等)、等が好ましく用いられる。こ
れらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異
なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜30重
量%である。これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
本発明により製造される支持体の表面に塗布乾燥させる
ことにより、感光層を設けて、感光性平版印刷版を製造
することができる。
【0059】(溶媒)本発明により製造される支持体に
用いられる感光性組成物を溶解する際に使用し得る溶媒
としては、メタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、i−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノ
ール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類、アリルア
ルコール、ベンジルアルコール、アニソール、フェネト
ール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オク
タン、ノナン、デカン等の炭化水素類、ジアセトンアル
コール、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキシ
−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブタノール、3
−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキ
シ−3−エチル−1−1ペンタノール−4−エトキシ−
1−ペンタノール、5−メトキシ−1−ヘキサノール、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケト
ン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル
ペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチル
ケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘ
キサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−ブチロラクト
ン、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−
2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5−
ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペ
ンタノン、6−ヒドロキシ−2−ヘキサノン、3−メチ
ル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリ
コールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテート、エチレング
リコールアルキルエーテル類およびそのアセテート(メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート)、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類およびそのアセテー
ト(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエ
チルエーテル、モノi−プロピルエーテル、モノブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート等)、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル類(DMDG、DEDG、DBDG、MEDG)、ト
リエチレングリコールアルキルエーテル類(モノメチル
エーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル等)、プロピレ
ングリコールアルキルエーテル類およびそのアセテート
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロ
ピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテルアセテー
ト、モノエチルエーテルアセテート等)、ジプロピレン
グリコールアルキルエーテル類(モノメチルエーテル、
モノエチルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチ
ルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル)、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メ
チル、安息香酸エチル、炭酸プロピレン等が挙げられ
る。これらの溶媒は、単独あるいは2種以上混合して使
用できる。
用いられる感光性組成物を溶解する際に使用し得る溶媒
としては、メタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、i−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノ
ール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類、アリルア
ルコール、ベンジルアルコール、アニソール、フェネト
ール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オク
タン、ノナン、デカン等の炭化水素類、ジアセトンアル
コール、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキシ
−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブタノール、3
−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキ
シ−3−エチル−1−1ペンタノール−4−エトキシ−
1−ペンタノール、5−メトキシ−1−ヘキサノール、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケト
ン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル
ペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチル
ケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘ
キサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−ブチロラクト
ン、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−
2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5−
ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペ
ンタノン、6−ヒドロキシ−2−ヘキサノン、3−メチ
ル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリ
コールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテート、エチレング
リコールアルキルエーテル類およびそのアセテート(メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート)、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類およびそのアセテー
ト(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエ
チルエーテル、モノi−プロピルエーテル、モノブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート等)、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル類(DMDG、DEDG、DBDG、MEDG)、ト
リエチレングリコールアルキルエーテル類(モノメチル
エーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル等)、プロピレ
ングリコールアルキルエーテル類およびそのアセテート
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロ
ピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテルアセテー
ト、モノエチルエーテルアセテート等)、ジプロピレン
グリコールアルキルエーテル類(モノメチルエーテル、
モノエチルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチ
ルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル)、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メ
チル、安息香酸エチル、炭酸プロピレン等が挙げられ
る。これらの溶媒は、単独あるいは2種以上混合して使
用できる。
【0060】(被覆層)感光性平版印刷版は、上記感光
層上に皮膜形成能を有する水不溶性で有機溶媒可溶性の
高分子化合物から成る被覆層を形成することができる。
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼
き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、
且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ま
しい。具体的には、特開昭50−125805号、特公
昭57−6582号、同61−28986号の各公報に
記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭6
2−62337号公報に記載されているような固体粉末
を熱融着させる方法等が挙げられる。
層上に皮膜形成能を有する水不溶性で有機溶媒可溶性の
高分子化合物から成る被覆層を形成することができる。
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼
き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、
且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ま
しい。具体的には、特開昭50−125805号、特公
昭57−6582号、同61−28986号の各公報に
記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭6
2−62337号公報に記載されているような固体粉末
を熱融着させる方法等が挙げられる。
【0061】(マット剤)マット層の目的は密着露光に
おける画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がア
ルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可
能な物が望ましい。
おける画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がア
ルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可
能な物が望ましい。
【0062】(包接化合物)本発明により製造される支
持体に塗布される感光性組成物は、包接化合物を含有し
てもよい。包接化合物の包接とは、原子又は分子が結合
してできた三次元構造の内部に空孔があり、その中に別
又は分子が一定の組成比で入り込み、特定の構造をとっ
ている状態である。従って包接化合物とは、自らが形成
している空孔に別の分子又は原子を取り込む性質をもつ
化合物を指す。この包接を引き起こす駆動力としては、
疎水相互作用、イオン相互作用、水素結合、ファンデア
ワールス力等が考えられる。包接化合物の具体例として
は、シクロデキストリン、クラウンエーテル、シクロフ
ァン、アザシクロファン、カリックスアレン、シクロト
リベラトリレン、スフェランド、キャピタンド、環状オ
リゴペプチド等の単分子で包接能をもつもの、尿素、チ
オ尿素、テオキシコール酸、アポコール酸、コール酸、
ジニトロジフェニル、ヒドロキノン、ペルヒドロトリフ
ェニレン、トリ−o−チモイド、オキシフラバン、ジシ
アノアンミンニッケル、ジオキシトリフェニルメタン、
メチルナフタリン、スピロクマリン、ペルヒドロトリフ
ェニレン等の多分子系で包接能をもつものが挙げられ
る。さらにセルロース、デンプン、キチン、キトサン、
タンパク質等の天然高分子やポリビニルアルコール等の
合成高分子も種々の化合物を包接する。これらの化合物
は、単独或いは2種以上混合して使用できる。
持体に塗布される感光性組成物は、包接化合物を含有し
てもよい。包接化合物の包接とは、原子又は分子が結合
してできた三次元構造の内部に空孔があり、その中に別
又は分子が一定の組成比で入り込み、特定の構造をとっ
ている状態である。従って包接化合物とは、自らが形成
している空孔に別の分子又は原子を取り込む性質をもつ
化合物を指す。この包接を引き起こす駆動力としては、
疎水相互作用、イオン相互作用、水素結合、ファンデア
ワールス力等が考えられる。包接化合物の具体例として
は、シクロデキストリン、クラウンエーテル、シクロフ
ァン、アザシクロファン、カリックスアレン、シクロト
リベラトリレン、スフェランド、キャピタンド、環状オ
リゴペプチド等の単分子で包接能をもつもの、尿素、チ
オ尿素、テオキシコール酸、アポコール酸、コール酸、
ジニトロジフェニル、ヒドロキノン、ペルヒドロトリフ
ェニレン、トリ−o−チモイド、オキシフラバン、ジシ
アノアンミンニッケル、ジオキシトリフェニルメタン、
メチルナフタリン、スピロクマリン、ペルヒドロトリフ
ェニレン等の多分子系で包接能をもつものが挙げられ
る。さらにセルロース、デンプン、キチン、キトサン、
タンパク質等の天然高分子やポリビニルアルコール等の
合成高分子も種々の化合物を包接する。これらの化合物
は、単独或いは2種以上混合して使用できる。
【0063】(塗布)感光性組成物や被覆層又はマット
層を支持体表面に塗布する際に用いる塗布方法として
は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、
ブレード塗布及びカーテン塗布等が用いられる。
層を支持体表面に塗布する際に用いる塗布方法として
は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、
ブレード塗布及びカーテン塗布等が用いられる。
【0064】(露光)こうして得られた感光性平版印刷
版の使用に際しては、従来から常用されている方法を適
用することができ、例えば線画像、網点画像などを有す
る透明原画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適
当な現像液を用いて非画像部の感光性層を除去すること
によりレリーフ像が得られる。露光に好適な光源として
は、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
版の使用に際しては、従来から常用されている方法を適
用することができ、例えば線画像、網点画像などを有す
る透明原画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適
当な現像液を用いて非画像部の感光性層を除去すること
によりレリーフ像が得られる。露光に好適な光源として
は、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
【0065】(処理)本発明で用いられる現像液は、水
を主たる溶媒とするアルカリ金属珪酸塩溶液からなるも
のであれば、いかなるものであってもよい。例えば、ア
ルカリ剤、有機溶媒、アニオン系界面活性剤、水溶性還
元剤及び非イオン型界面活性剤及び/又はカチオン系界
面活性剤を含有する。現像液組成において珪酸塩[Si
O2]/アルカリ金属酸化物[M2O]比(但し、珪酸
塩[SiO2]、アルカリ金属酸化物[M2O]はモル
濃度を示す。)が、0.5〜2.0のものであり、その
他のアルカリ金属珪酸塩、添加剤等は従来の現像処理剤
を使用することができる。
を主たる溶媒とするアルカリ金属珪酸塩溶液からなるも
のであれば、いかなるものであってもよい。例えば、ア
ルカリ剤、有機溶媒、アニオン系界面活性剤、水溶性還
元剤及び非イオン型界面活性剤及び/又はカチオン系界
面活性剤を含有する。現像液組成において珪酸塩[Si
O2]/アルカリ金属酸化物[M2O]比(但し、珪酸
塩[SiO2]、アルカリ金属酸化物[M2O]はモル
濃度を示す。)が、0.5〜2.0のものであり、その
他のアルカリ金属珪酸塩、添加剤等は従来の現像処理剤
を使用することができる。
【0066】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明する。 実施例1〜9及び比較例1〜6 <各支持体の作成>厚さ0.24mmのアルミニウム板
(材質1050、調質H16)を、85℃に保たれた1
0%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処
理を行った後、水洗した。この脱脂したアルミニウム板
を25℃に保たれた10%硫酸水溶液に1分間浸漬し、
デスマット処理した後、水洗した。その後、表1及び表
2に示す各条件で交流正弦波60Hzで電気化学的に粗
面化処理を行った。
に説明する。 実施例1〜9及び比較例1〜6 <各支持体の作成>厚さ0.24mmのアルミニウム板
(材質1050、調質H16)を、85℃に保たれた1
0%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処
理を行った後、水洗した。この脱脂したアルミニウム板
を25℃に保たれた10%硫酸水溶液に1分間浸漬し、
デスマット処理した後、水洗した。その後、表1及び表
2に示す各条件で交流正弦波60Hzで電気化学的に粗
面化処理を行った。
【0067】その後、50℃に保たれた1%水酸化ナト
リウム水溶液中に浸漬してアルミニウム溶解量が3g/
m2となるようにエッチングし、次いで25℃に保たれ
た10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処
理した後、水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、
温度35℃、電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極
酸化処理を行った。その後、水洗、乾燥して各条件のア
ルミニウム支持体を夫々得た。
リウム水溶液中に浸漬してアルミニウム溶解量が3g/
m2となるようにエッチングし、次いで25℃に保たれ
た10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処
理した後、水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、
温度35℃、電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極
酸化処理を行った。その後、水洗、乾燥して各条件のア
ルミニウム支持体を夫々得た。
【0068】得られた各支持体に、下記組成の感光性組
成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で乾
燥し感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液の塗布量は、乾燥重量として2.0g/m2とな
るようにした。
成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で乾
燥し感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液の塗布量は、乾燥重量として2.0g/m2とな
るようにした。
【0069】 〈感光性組成物塗布液〉 ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が1 0/54/36でMwが4000) 6.70g ピロガロールアセトン樹脂(Mw:3000)とo−ナフトキノンジアジド− 5−スルホニルクロリドとの縮合物(エステル化率30%) 1.50g ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン(日本食品加工(株)製) 0.15g ポリエチレングリコール#2000 0.20g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g フッ素系界面活性剤FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.02g メチルセロソルブ 100ml
【0070】得られた各感光性平版印刷版を、光源とし
て4kwメタルハライドランプを使用し、コダックステ
ップタブレットにてクリア4段相当の露光量で露光後、
コニカ社製PS版現像液KD−52の標準液にて、露光
済の各感光性平版印刷版を30℃、15秒間現像した。
得られた各平版印刷版を用いて印刷を行い、非画像部の
汚れ難さと小点再現性の評価を行った。得られた結果を
表2に示した。
て4kwメタルハライドランプを使用し、コダックステ
ップタブレットにてクリア4段相当の露光量で露光後、
コニカ社製PS版現像液KD−52の標準液にて、露光
済の各感光性平版印刷版を30℃、15秒間現像した。
得られた各平版印刷版を用いて印刷を行い、非画像部の
汚れ難さと小点再現性の評価を行った。得られた結果を
表2に示した。
【0071】<評価方法> (非画像部の汚れ難さ)得られた平版印刷版を、印刷機
(ハイデルベルグ社製GTO)にて印刷を行い、湿し水
量を絞った時の印刷物の非画像部の汚れ難さを評価し
た。 ○:湿し水量を多く絞っても汚れを生じない ○△:湿し水量が少し減少しても汚れを生じない △:ごく僅かな湿し水量の減少でも汚れを生じる ×:通常の湿し水量で印刷しても汚れを生じる
(ハイデルベルグ社製GTO)にて印刷を行い、湿し水
量を絞った時の印刷物の非画像部の汚れ難さを評価し
た。 ○:湿し水量を多く絞っても汚れを生じない ○△:湿し水量が少し減少しても汚れを生じない △:ごく僅かな湿し水量の減少でも汚れを生じる ×:通常の湿し水量で印刷しても汚れを生じる
【0072】(小点再現性)50%網点の原稿を用いた
時の版上の網点面積率再現性をマクベス反射濃度計RD
−918により測定することにより評価した。
時の版上の網点面積率再現性をマクベス反射濃度計RD
−918により測定することにより評価した。
【0073】
【表1】
【0074】
【表2】
【0075】実施例11〜17及び比較例11〜13 前記表1及び表2の電気化学的粗面化処理を、表3及び
表4記載の機械的粗面化処理に代えた以外は実施例1〜
9及び比較例1〜6と同様にして各支持体を得、前記と
同様に感光性組成物塗布液を塗布・乾燥して感光性平版
印刷版を得た。
表4記載の機械的粗面化処理に代えた以外は実施例1〜
9及び比較例1〜6と同様にして各支持体を得、前記と
同様に感光性組成物塗布液を塗布・乾燥して感光性平版
印刷版を得た。
【0076】さらに得られた各感光性平版印刷版を、前
記と同様に露光・現像・印刷し、非画像部の汚れ難さと
小点再現性の評価を行った。得られた結果を表4に示し
た。
記と同様に露光・現像・印刷し、非画像部の汚れ難さと
小点再現性の評価を行った。得られた結果を表4に示し
た。
【0077】
【表3】
【0078】
【表4】
【0079】実施例21、22 前記実施例12及び16の機械的粗面化処理の後に、条
件No.1の電気化学的粗面化処理を付加した以外は、
実施例12及び16と同様にして評価を行ったところ、
小点再現性がともに2%向上した。
件No.1の電気化学的粗面化処理を付加した以外は、
実施例12及び16と同様にして評価を行ったところ、
小点再現性がともに2%向上した。
【0080】
【発明の効果】本発明によれば、小点再現性に優れ、且
つ非画像部が汚れ難い感光性平版印刷版用支持体を低コ
ストで提供できる。
つ非画像部が汚れ難い感光性平版印刷版用支持体を低コ
ストで提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 信行 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 杉 泰久 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 西尾 和之 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内
Claims (3)
- 【請求項1】アルミニウム板を、(a)陽極時電圧のピ
ークVaが6〜10V、陽極時電気量Qaが50〜20
0C/dm2の工程と、(b)陽極時電圧のピークVa
が11〜30V、陽極時電気量Qaが50〜200C/
dm2の工程を交互に繰り返し、且つ陽極時電気量Qa
の合計が400C/dm2以下となるように電気化学的
粗面化を行うことを特徴とする感光性平版印刷版用支持
体の製造方法。 - 【請求項2】アルミニウム板を、比重が3.9未満で且
つ粒径が#1500〜#8000である研磨材を用いて
機械的粗面化を行うことを特徴とする感光性平版印刷版
用支持体の製造方法。 - 【請求項3】機械的粗面化した後に、交流電流で陽極時
電気量Qaが100C/dm2以下となるように電気化
学的粗面化を行うことを特徴とする請求項2記載の感光
性平版印刷版用支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24370395A JPH0957939A (ja) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24370395A JPH0957939A (ja) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0957939A true JPH0957939A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=17107736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24370395A Pending JPH0957939A (ja) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0957939A (ja) |
-
1995
- 1995-08-29 JP JP24370395A patent/JPH0957939A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09226262A (ja) | 平版印刷版用支持体及びその製造方法 | |
| JPH08258440A (ja) | 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 | |
| JP3532297B2 (ja) | 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 | |
| JP3497005B2 (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH08320559A (ja) | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 | |
| JP3644771B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0624166A (ja) | 平版印刷版用支持体、その製造方法及び支持体を用いた感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH09146268A (ja) | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 | |
| JPH0970945A (ja) | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JP3534901B2 (ja) | 感光性組成物並びに感光性平版印刷版及びその現像方法 | |
| JPH1024668A (ja) | 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 | |
| JPH10239849A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH09319076A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH07333831A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH08320557A (ja) | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 | |
| JPH1062973A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH11109609A (ja) | 感光性平版印刷版とその処理方法及び現像液、修正液と版面保護剤 | |
| JPH08324144A (ja) | 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 | |
| JPH09267574A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0627646A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0971060A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH10161314A (ja) | 感光性樹脂組成物及び感光性平版印刷版 | |
| JP2005222085A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0798500A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH10213900A (ja) | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 |