JPH0970945A - 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 - Google Patents
感光性平版印刷版用支持体の製造方法Info
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Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、ドットゲイン及びストップ汚れが良
好であり、低コストで製造可能な感光性平版印刷版用支
持体の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明は、アルミニウム板を機械的に粗面
化した後、陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持
体の製造方法において、該機械的粗面化をモース硬度
8以上で且つ粒度がメッシュで600〜1000である
研磨材を使用して行うこと、または該機械的粗面化を
モース硬度8以上で且つ粒度がメッシュで600〜10
00である研磨材とモース硬度5以上8未満で且つ粒度
がメッシュで400〜600である研磨材とを併用して
行うこと、または該機械的粗面化をモース硬度8以上
の研磨材とモース硬度5以上8未満の研磨材とを混合使
用して行い、且つモース硬度8以上の研磨材の比率を7
0%以上90%未満の範囲とすること、を特徴とする。
好であり、低コストで製造可能な感光性平版印刷版用支
持体の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明は、アルミニウム板を機械的に粗面
化した後、陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持
体の製造方法において、該機械的粗面化をモース硬度
8以上で且つ粒度がメッシュで600〜1000である
研磨材を使用して行うこと、または該機械的粗面化を
モース硬度8以上で且つ粒度がメッシュで600〜10
00である研磨材とモース硬度5以上8未満で且つ粒度
がメッシュで400〜600である研磨材とを併用して
行うこと、または該機械的粗面化をモース硬度8以上
の研磨材とモース硬度5以上8未満の研磨材とを混合使
用して行い、且つモース硬度8以上の研磨材の比率を7
0%以上90%未満の範囲とすること、を特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版用
支持体の製造方法に関し、詳しくはドットゲイン及びス
トップ汚れが良好であり、低コストで製造可能な感光性
平版印刷版用支持体の製造方法に関する。
支持体の製造方法に関し、詳しくはドットゲイン及びス
トップ汚れが良好であり、低コストで製造可能な感光性
平版印刷版用支持体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、感光性平版印刷版に用いられる支
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性に優れたものが要求され、このような観点
から通常、表面を砂目立てといわれる粗面化処理を施さ
れたアルミニウム版が用いられている。粗面化処理は、
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホ
ーニング研磨等の機械的粗面化法、また、塩酸、硝酸等
の酸性電解液中で交流或いは直流によって支持体表面を
電解処理する電気化学的粗面化法等が知られている。こ
のような方法で砂目立て処理したアルミニウム版は、そ
のままでは比較的柔らかく、摩耗し易いので、次いで陽
極酸化処理を施して酸化被膜が形成される。このように
処理されたアルミニウム版の表面は硬く、耐摩耗性に優
れている。
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性に優れたものが要求され、このような観点
から通常、表面を砂目立てといわれる粗面化処理を施さ
れたアルミニウム版が用いられている。粗面化処理は、
ボール研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホ
ーニング研磨等の機械的粗面化法、また、塩酸、硝酸等
の酸性電解液中で交流或いは直流によって支持体表面を
電解処理する電気化学的粗面化法等が知られている。こ
のような方法で砂目立て処理したアルミニウム版は、そ
のままでは比較的柔らかく、摩耗し易いので、次いで陽
極酸化処理を施して酸化被膜が形成される。このように
処理されたアルミニウム版の表面は硬く、耐摩耗性に優
れている。
【0003】しかし、このような処理を施されたアルミ
ニウム版でも様々な印刷条件下では、ドットゲインを満
足するレベルには至らず、また、ドットゲインと印刷機
を停止した際に発生する微点状汚れの出にくさを両立さ
せることも困難であった。
ニウム版でも様々な印刷条件下では、ドットゲインを満
足するレベルには至らず、また、ドットゲインと印刷機
を停止した際に発生する微点状汚れの出にくさを両立さ
せることも困難であった。
【0004】このような問題を解決するために、様々な
粗面形状の検討がなされてきている。米国特許4,30
1,229号ではピット径の累積度数分布と中心線平均
粗さを規定、同3,861,917号では粗面の深さを
規定、カナダ特許955,449号では粗面の山の高さ
と直径を規定、独国特許1,813,443号では粗面
の高低差を規定、特開昭55−132294号では平均
深さを規定、特開平5−24376号ではピット径と径
に垂直な方向の最大深さを規定、等が提案されている
が、これらの形状でもドットゲインの向上は不十分であ
り、特にドットゲインと微点状汚れの出にくさの両立と
いった点に関しては検討されていなかった。さらに低コ
ストで粗面化が可能である機械的粗面化、特にブラシ研
磨による粗面化でドットゲインを向上させる粗面形状を
得るといった検討は全くなされていなかった。
粗面形状の検討がなされてきている。米国特許4,30
1,229号ではピット径の累積度数分布と中心線平均
粗さを規定、同3,861,917号では粗面の深さを
規定、カナダ特許955,449号では粗面の山の高さ
と直径を規定、独国特許1,813,443号では粗面
の高低差を規定、特開昭55−132294号では平均
深さを規定、特開平5−24376号ではピット径と径
に垂直な方向の最大深さを規定、等が提案されている
が、これらの形状でもドットゲインの向上は不十分であ
り、特にドットゲインと微点状汚れの出にくさの両立と
いった点に関しては検討されていなかった。さらに低コ
ストで粗面化が可能である機械的粗面化、特にブラシ研
磨による粗面化でドットゲインを向上させる粗面形状を
得るといった検討は全くなされていなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、ドットゲイン及びストップ汚れが良好であり、低コ
ストで製造可能な感光性平版印刷版用支持体の製造方法
を提供することにある。
は、ドットゲイン及びストップ汚れが良好であり、低コ
ストで製造可能な感光性平版印刷版用支持体の製造方法
を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、機械的粗
面化法、特にブラシ研磨に使用する研磨材の粒径とモー
ス硬度とに着目し、研磨材のモース硬度と粒径を特定の
範囲とすることでブラシ研磨のみの粗面化であってもド
ットゲインを改善することが可能であることを見出し
た。さらにモース硬度と粒径を夫々特定する2種の研磨
材を併用もしくは混合使用することでドットゲインを改
善し、且つ微点状汚れの発生を抑えることが可能である
ことを見出した。
面化法、特にブラシ研磨に使用する研磨材の粒径とモー
ス硬度とに着目し、研磨材のモース硬度と粒径を特定の
範囲とすることでブラシ研磨のみの粗面化であってもド
ットゲインを改善することが可能であることを見出し
た。さらにモース硬度と粒径を夫々特定する2種の研磨
材を併用もしくは混合使用することでドットゲインを改
善し、且つ微点状汚れの発生を抑えることが可能である
ことを見出した。
【0007】そこで本発明の上記課題は、 1.アルミニウム板を機械的に粗面化した後、陽極酸化
処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製造方法におい
て、該機械的粗面化をモース硬度8以上で且つ粒度がメ
ッシュで600〜1000である研磨材を使用して行う
ことを特徴とする感光性平版印刷版用支持体の製造方
法、
処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製造方法におい
て、該機械的粗面化をモース硬度8以上で且つ粒度がメ
ッシュで600〜1000である研磨材を使用して行う
ことを特徴とする感光性平版印刷版用支持体の製造方
法、
【0008】2.アルミニウム板を機械的に粗面化した
後、陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製
造方法において、該機械的粗面化をモース硬度8以上で
且つ粒度がメッシュで600〜1000である研磨材と
モース硬度5以上8未満で且つ粒度がメッシュで400
〜600である研磨材とを併用して行うことを特徴とす
る感光性平版印刷版用支持体の製造方法、
後、陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製
造方法において、該機械的粗面化をモース硬度8以上で
且つ粒度がメッシュで600〜1000である研磨材と
モース硬度5以上8未満で且つ粒度がメッシュで400
〜600である研磨材とを併用して行うことを特徴とす
る感光性平版印刷版用支持体の製造方法、
【0009】3.アルミニウム板を機械的に粗面化した
後、陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製
造方法において、該機械的粗面化をモース硬度8以上の
研磨材とモース硬度5以上8未満の研磨材とを混合使用
して行い、且つモース硬度8以上の研磨材の比率を70
%以上90%未満の範囲とすることを特徴とする感光性
平版印刷版用支持体の製造方法、
後、陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製
造方法において、該機械的粗面化をモース硬度8以上の
研磨材とモース硬度5以上8未満の研磨材とを混合使用
して行い、且つモース硬度8以上の研磨材の比率を70
%以上90%未満の範囲とすることを特徴とする感光性
平版印刷版用支持体の製造方法、
【0010】4.機械的粗面化の後にアルカリ性水溶液
で表面を3g/m2以上10g/m2以下エッチングす
ることを特徴とする前記1〜3の何れかに記載の感光性
平版印刷版用支持体の製造方法、の各々により達成され
る。
で表面を3g/m2以上10g/m2以下エッチングす
ることを特徴とする前記1〜3の何れかに記載の感光性
平版印刷版用支持体の製造方法、の各々により達成され
る。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明について説明する。
先ず請求項1(及び4)について説明する。機械的粗面
化、特にブラシ研磨による粗面化にモース硬度8以上で
且つ粒度がメッシュで600〜1000である研磨材を
使用して行うことで、ドットゲインを改善する粗面を得
ることができる。ブラシ研磨による粗面化では、粗面化
後にアルカリ水溶液等でエッチングを行うことで表面に
残った研磨くずや、表面に食い込んだ研磨材を除去する
が、同時にエッチングにより研磨材を擦り付けることで
支持体表面に付けられた研磨傷をエッチングにより広げ
ていくことでピットの形状をコントロールすることがで
きる。従って、ブラシ研磨とエッチングにより形成され
るピット形状は、研磨傷の鋭さやピッチの細かさに依存
するといえる。ドットゲインを向上させるには、細かく
密なピット形状を形成することが有効であることが種々
の検討で明らかになったが、ブラシ研磨により細かく密
なピット形状を形成するためには、鋭い研磨傷を細かく
密に形成しておくことが必要である。これはモース硬度
8以上で且つ粒度がメッシュで600〜1000である
研磨材を使用することで達成できる。この細かく密な研
磨傷を3g/m2〜10g/m2の範囲でエッチングす
ることにより、細かく密に存在するピットを形成するこ
とができる。
先ず請求項1(及び4)について説明する。機械的粗面
化、特にブラシ研磨による粗面化にモース硬度8以上で
且つ粒度がメッシュで600〜1000である研磨材を
使用して行うことで、ドットゲインを改善する粗面を得
ることができる。ブラシ研磨による粗面化では、粗面化
後にアルカリ水溶液等でエッチングを行うことで表面に
残った研磨くずや、表面に食い込んだ研磨材を除去する
が、同時にエッチングにより研磨材を擦り付けることで
支持体表面に付けられた研磨傷をエッチングにより広げ
ていくことでピットの形状をコントロールすることがで
きる。従って、ブラシ研磨とエッチングにより形成され
るピット形状は、研磨傷の鋭さやピッチの細かさに依存
するといえる。ドットゲインを向上させるには、細かく
密なピット形状を形成することが有効であることが種々
の検討で明らかになったが、ブラシ研磨により細かく密
なピット形状を形成するためには、鋭い研磨傷を細かく
密に形成しておくことが必要である。これはモース硬度
8以上で且つ粒度がメッシュで600〜1000である
研磨材を使用することで達成できる。この細かく密な研
磨傷を3g/m2〜10g/m2の範囲でエッチングす
ることにより、細かく密に存在するピットを形成するこ
とができる。
【0012】モース硬度8以上の研磨材としては、アル
ミナ:Al203(モース硬度9)、酸化クロム:Cr
2O3(モース硬度9)、炭化ケイ素:SiC(モース
硬度9)等を挙げることができ、中でもアルミナ:Al
203を使用することが特に好ましい。モース硬度8未
満では、研磨傷に鋭さがなく、エッチングによっても細
かなピットを形成することができないし、ドットゲイン
も改善されない。また粒度がメッシュで600よりも大
きいとモース硬度が8以上であっても研磨傷が密に形成
されず、従ってエッチングによっても密なピットを形成
することができないし、ドットゲインも改善されない。
粒度がメッシュで1000よりも小さいと、研磨傷は密
に形成されるが、傷自体が非常に浅くなるため、エッチ
ングによって形成されるピットも密ではあるが浅く、ド
ットゲインを改善する効果はなくなる。
ミナ:Al203(モース硬度9)、酸化クロム:Cr
2O3(モース硬度9)、炭化ケイ素:SiC(モース
硬度9)等を挙げることができ、中でもアルミナ:Al
203を使用することが特に好ましい。モース硬度8未
満では、研磨傷に鋭さがなく、エッチングによっても細
かなピットを形成することができないし、ドットゲイン
も改善されない。また粒度がメッシュで600よりも大
きいとモース硬度が8以上であっても研磨傷が密に形成
されず、従ってエッチングによっても密なピットを形成
することができないし、ドットゲインも改善されない。
粒度がメッシュで1000よりも小さいと、研磨傷は密
に形成されるが、傷自体が非常に浅くなるため、エッチ
ングによって形成されるピットも密ではあるが浅く、ド
ットゲインを改善する効果はなくなる。
【0013】次に請求項2(及び4)について説明す
る。機械的粗面化、特にブラシ研磨による粗面化にモー
ス硬度8以上で且つ粒度がメッシュで600〜1000
である研磨材とモース硬度5以上8未満で且つ粒度がメ
ッシュで400〜600である研磨材とを併用して行う
ことで、ドットゲインを向上させ且つ印刷機を停止した
後、印刷を再開した際に発生する微点状汚れの発生を抑
えることができる。これはモース硬度8以上で且つ粒度
がメッシュで600〜1000である研磨材によって形
成される細かく密なピットに、モース硬度5以上8未満
で且つ粒度がメッシュで400〜600である研磨材に
よって形成されるまばらで深い長円形状のピットが加わ
ることで達成される。モース硬度5以上8未満で且つ粒
度がメッシュで400〜600である研磨材で形成され
る研磨傷は鈍角で細長く、この研磨傷をエッチングによ
り広げていくことで長円形状で深いピットが形成され
る。
る。機械的粗面化、特にブラシ研磨による粗面化にモー
ス硬度8以上で且つ粒度がメッシュで600〜1000
である研磨材とモース硬度5以上8未満で且つ粒度がメ
ッシュで400〜600である研磨材とを併用して行う
ことで、ドットゲインを向上させ且つ印刷機を停止した
後、印刷を再開した際に発生する微点状汚れの発生を抑
えることができる。これはモース硬度8以上で且つ粒度
がメッシュで600〜1000である研磨材によって形
成される細かく密なピットに、モース硬度5以上8未満
で且つ粒度がメッシュで400〜600である研磨材に
よって形成されるまばらで深い長円形状のピットが加わ
ることで達成される。モース硬度5以上8未満で且つ粒
度がメッシュで400〜600である研磨材で形成され
る研磨傷は鈍角で細長く、この研磨傷をエッチングによ
り広げていくことで長円形状で深いピットが形成され
る。
【0014】モース硬度8以上で且つ粒度がメッシュで
600〜1000である研磨材とモース硬度5以上8未
満で且つ粒度がメッシュで400〜600である研磨材
との併用は、先に、モース硬度8以上で且つ粒度がメッ
シュで600〜1000である研磨材で粗面化した後
に、モース硬度5以上8未満で且つ粒度がメッシュで4
00〜600である研磨材で粗面化してもよいし、その
逆でもよい。但し、モース硬度8以上で且つ粒度がメッ
シュで600〜1000である研磨材で形成される細か
く密なピットが主に存在するように、モース硬度5以上
8未満で且つ粒度がメッシュで400〜600である研
磨材での粗面化の程度は軽くする(ブラシ処理時間を短
くする)必要がある。実際は長円形状のピットが50〜
200μm間隔で存在するように粗面化することが好ま
しい。長円形状のピットが50〜200μm間隔で存在
することで、印刷機を停止し、湿し水が供給されなくな
った際、これらの均等に配置された深いピットに水を保
持することで局所的な乾燥の進行を防止することがで
き、印刷再開時にも汚れが発生しないようになる。
600〜1000である研磨材とモース硬度5以上8未
満で且つ粒度がメッシュで400〜600である研磨材
との併用は、先に、モース硬度8以上で且つ粒度がメッ
シュで600〜1000である研磨材で粗面化した後
に、モース硬度5以上8未満で且つ粒度がメッシュで4
00〜600である研磨材で粗面化してもよいし、その
逆でもよい。但し、モース硬度8以上で且つ粒度がメッ
シュで600〜1000である研磨材で形成される細か
く密なピットが主に存在するように、モース硬度5以上
8未満で且つ粒度がメッシュで400〜600である研
磨材での粗面化の程度は軽くする(ブラシ処理時間を短
くする)必要がある。実際は長円形状のピットが50〜
200μm間隔で存在するように粗面化することが好ま
しい。長円形状のピットが50〜200μm間隔で存在
することで、印刷機を停止し、湿し水が供給されなくな
った際、これらの均等に配置された深いピットに水を保
持することで局所的な乾燥の進行を防止することがで
き、印刷再開時にも汚れが発生しないようになる。
【0015】モース硬度が5以上8未満の研磨材として
は、TiO(モース硬度6)、TiO2(モース硬度
6.5)、SiO2(モース硬度7)、SnO2(モー
ス硬度6.5)、α−Fe2O3(モース硬度5.5)
等を挙げることができるが、火山灰(モース硬度5〜
6)を使用することが安価であるため好ましい。
は、TiO(モース硬度6)、TiO2(モース硬度
6.5)、SiO2(モース硬度7)、SnO2(モー
ス硬度6.5)、α−Fe2O3(モース硬度5.5)
等を挙げることができるが、火山灰(モース硬度5〜
6)を使用することが安価であるため好ましい。
【0016】併用する研磨材のモース硬度が5以下では
柔らか過ぎて研磨効果がなくなり、8以上では研磨傷が
鋭角になってエッチングした際に長円形状の深いピット
を形成できなくなる。また粒度がメッシュで400より
も大きいと研磨傷が大きくなり過ぎてドットゲインに悪
影響を与えるようになる。粒度がメッシュで600未満
では研磨傷が小さ過ぎて望ましい形状のピットを形成す
ることができなくなり、微点状汚れの防止効果がなくな
る。
柔らか過ぎて研磨効果がなくなり、8以上では研磨傷が
鋭角になってエッチングした際に長円形状の深いピット
を形成できなくなる。また粒度がメッシュで400より
も大きいと研磨傷が大きくなり過ぎてドットゲインに悪
影響を与えるようになる。粒度がメッシュで600未満
では研磨傷が小さ過ぎて望ましい形状のピットを形成す
ることができなくなり、微点状汚れの防止効果がなくな
る。
【0017】次に請求項3(及び4)について説明す
る。機械的粗面化、特にブラシ研磨をモース硬度8以上
の研磨材とモース硬度5以上8未満の研磨材とを混合使
用して行い、且つモース硬度8以上の研磨材の比率を7
0%以上90%未満の範囲とすることにより、形成され
るピット形状が細かく密なピットと、50〜200μm
間隔で存在する長円形状の深いピットとからなり、ドッ
トゲインが改善され、且つ微点状汚れの発生も防止する
ことができる。この際のモース硬度8以上の研磨材の粒
度がメッシュで600〜1000、モース硬度5以上8
未満の研磨材の粒度がメッシュで400〜600である
ことが好ましい。
る。機械的粗面化、特にブラシ研磨をモース硬度8以上
の研磨材とモース硬度5以上8未満の研磨材とを混合使
用して行い、且つモース硬度8以上の研磨材の比率を7
0%以上90%未満の範囲とすることにより、形成され
るピット形状が細かく密なピットと、50〜200μm
間隔で存在する長円形状の深いピットとからなり、ドッ
トゲインが改善され、且つ微点状汚れの発生も防止する
ことができる。この際のモース硬度8以上の研磨材の粒
度がメッシュで600〜1000、モース硬度5以上8
未満の研磨材の粒度がメッシュで400〜600である
ことが好ましい。
【0018】モース硬度8以上の研磨材の比率が70%
未満では深いピットの存在比率が多くなり過ぎてドット
ゲインを悪化させるようになる。また90%以上では深
いピットの存在比率が小さくなり過ぎて微点状汚れの発
生防止効果が薄れる。
未満では深いピットの存在比率が多くなり過ぎてドット
ゲインを悪化させるようになる。また90%以上では深
いピットの存在比率が小さくなり過ぎて微点状汚れの発
生防止効果が薄れる。
【0019】本発明に使用されるアルミニウム支持体に
は、純アルミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支
持体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、
ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いら
れる。
は、純アルミニウムおよびアルミニウム合金よりなる支
持体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、
ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いら
れる。
【0020】アルミニウム支持体は、粗面化に先立って
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロンとトリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱
脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去する
ことができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶
液を用いた場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等
の、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが
好ましい。
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロンとトリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱
脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去する
ことができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶
液を用いた場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等
の、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが
好ましい。
【0021】機械的粗面化法は特に限定されないが、ブ
ラシ研磨、ホーニング研摩が好ましい。ブラシ研摩で
は、例えば、毛径0.2〜1mmのブラシ毛を植毛した
円筒状ブラシを回転し、接触面に研摩材を水に分散させ
たスラリーを供給しながら支持体表面に押し付けて粗面
化を行う。ホーニング研摩では、研摩材を水に分散させ
たスラリーをノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面
に斜めから衝突させて粗面化を行う。本発明では特にブ
ラシ研摩が好ましい。
ラシ研磨、ホーニング研摩が好ましい。ブラシ研摩で
は、例えば、毛径0.2〜1mmのブラシ毛を植毛した
円筒状ブラシを回転し、接触面に研摩材を水に分散させ
たスラリーを供給しながら支持体表面に押し付けて粗面
化を行う。ホーニング研摩では、研摩材を水に分散させ
たスラリーをノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面
に斜めから衝突させて粗面化を行う。本発明では特にブ
ラシ研摩が好ましい。
【0022】機械的に粗面化された支持体は、支持体の
表面に食い込んだ研摩材、アルミニウム屑等を取り除い
たり、ピット形状をコントロールする等の為に、酸又は
アルカリの水溶液に浸漬して表面をエッチングすること
が好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗
酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。
これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好まし
い。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場合に
は、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれら
の混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
表面に食い込んだ研摩材、アルミニウム屑等を取り除い
たり、ピット形状をコントロールする等の為に、酸又は
アルカリの水溶液に浸漬して表面をエッチングすること
が好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗
酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基としては、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。
これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好まし
い。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を行った場合に
は、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれら
の混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【0023】本発明は特に限定されないが、機械的粗面
化後に電気化学的粗面化を行ってもよい。電気化学的粗
面化は一般に酸性電解液中で交流電流を用いて粗面化を
行うものである。酸性電解液は通常、電気化学的粗面化
法に用いられるものが使用できるが、特に塩酸系又は硝
酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化法
については、例えば、特公昭48−28123号公報、
英国特許第896,563号明細書、特開昭53−67
507号公報に記載されており、本発明においては、こ
れら方法を用いることができる。
化後に電気化学的粗面化を行ってもよい。電気化学的粗
面化は一般に酸性電解液中で交流電流を用いて粗面化を
行うものである。酸性電解液は通常、電気化学的粗面化
法に用いられるものが使用できるが、特に塩酸系又は硝
酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化法
については、例えば、特公昭48−28123号公報、
英国特許第896,563号明細書、特開昭53−67
507号公報に記載されており、本発明においては、こ
れら方法を用いることができる。
【0024】電気化学的粗面化において印加される電圧
は、1〜50ボルトが好ましく、5〜30ボルトが更に
好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2が好ま
しく、20〜150A/dm2が更に好ましい。電気量
は、100〜2000c/dm2、好ましくは200〜
1500c/dm2、より好ましくは200〜1000
c/dm2である。温度は、10〜50℃が好ましく、
15〜45℃が更に好ましい。硝酸濃度は、0.1〜5
重量%が好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸塩、
塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホ
ウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。
は、1〜50ボルトが好ましく、5〜30ボルトが更に
好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2が好ま
しく、20〜150A/dm2が更に好ましい。電気量
は、100〜2000c/dm2、好ましくは200〜
1500c/dm2、より好ましくは200〜1000
c/dm2である。温度は、10〜50℃が好ましく、
15〜45℃が更に好ましい。硝酸濃度は、0.1〜5
重量%が好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸塩、
塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホ
ウ酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。
【0025】塩酸系電解液を用いての電気化学的粗面化
において印加される電圧は、1〜50ボルトが好まし
く、5〜30ボルトが更に好ましい。電流密度は、10
〜200A/dm2が好ましく、20〜150A/dm
2が更に好ましい。電気量は、100〜2000c/d
m2が好ましく、200〜1000c/dm2が更に好
ましい。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜45
℃が更に好ましい。塩酸濃度は、0.1〜5重量%が好
ましい。電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、ア
ミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢
酸、蓚酸等を加えることができる。
において印加される電圧は、1〜50ボルトが好まし
く、5〜30ボルトが更に好ましい。電流密度は、10
〜200A/dm2が好ましく、20〜150A/dm
2が更に好ましい。電気量は、100〜2000c/d
m2が好ましく、200〜1000c/dm2が更に好
ましい。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜45
℃が更に好ましい。塩酸濃度は、0.1〜5重量%が好
ましい。電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、ア
ミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢
酸、蓚酸等を加えることができる。
【0026】電気化学的に粗面化された支持体は、表面
のスマット等を取り除いたり、ピット形状をコントロー
ルする等の為に、酸又はアルカリの水溶液に浸漬して表
面をエッチングすることが好ましい。酸としては、例え
ば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含ま
れ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶
液を用いるのが好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸
漬処理を行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸
等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すこ
とが好ましい。
のスマット等を取り除いたり、ピット形状をコントロー
ルする等の為に、酸又はアルカリの水溶液に浸漬して表
面をエッチングすることが好ましい。酸としては、例え
ば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含ま
れ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶
液を用いるのが好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸
漬処理を行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸
等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すこ
とが好ましい。
【0027】さらに表面の保水性や耐摩耗性を高めるた
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形
成するものならばいかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、りん酸、蓚酸、クロム酸あるいはそ
れらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解
質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件
は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得な
いが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、
液温は1〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電圧
1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適
当である。特に好ましい硫酸法は通常直流電流で処理が
行われるが、交流を用いることも可能である。硫酸の濃
度は5〜30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で
5〜250秒間電解処理される。この電解液には、アル
ミニウムイオンが含まれている方が好ましい。さらにこ
のときの電流密度は1〜20A/dm2が好ましい。
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形
成するものならばいかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、りん酸、蓚酸、クロム酸あるいはそ
れらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解
質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件
は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得な
いが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、
液温は1〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電圧
1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適
当である。特に好ましい硫酸法は通常直流電流で処理が
行われるが、交流を用いることも可能である。硫酸の濃
度は5〜30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で
5〜250秒間電解処理される。この電解液には、アル
ミニウムイオンが含まれている方が好ましい。さらにこ
のときの電流密度は1〜20A/dm2が好ましい。
【0028】本発明により製造される支持体は、陽極酸
化処理の後、封孔処理を施してもよい。封孔処理として
は、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロ
ム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処
理等が挙げられる。
化処理の後、封孔処理を施してもよい。封孔処理として
は、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロ
ム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処
理等が挙げられる。
【0029】更に本発明により製造される支持体は、親
水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層としては、米
国特許第3,181,461号明細書に記載のアルカリ
金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明細書に
記載の親水性セルロース、特開昭60−149491号
公報、同63−165183号公報に記載のアミノ酸及
びその塩、特開昭60−232998号公報に記載の水
酸基を有するアミン類及びその塩、特開昭62−194
94号公報に記載の燐酸塩、特開昭59−101651
号公報に記載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高
分子化合物等が挙げられる。
水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層としては、米
国特許第3,181,461号明細書に記載のアルカリ
金属珪酸塩、米国特許第1,860,426号明細書に
記載の親水性セルロース、特開昭60−149491号
公報、同63−165183号公報に記載のアミノ酸及
びその塩、特開昭60−232998号公報に記載の水
酸基を有するアミン類及びその塩、特開昭62−194
94号公報に記載の燐酸塩、特開昭59−101651
号公報に記載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高
分子化合物等が挙げられる。
【0030】次に、上記表面処理された支持体上に、感
光性組成物を含む感光層を塗布することにより感光性平
版印刷版が得られる。この感光層中に用いられる感光性
物質としては特に限定されるものはなく、通常、感光性
平版印刷版に用いられている種々のものを用いることが
できる。
光性組成物を含む感光層を塗布することにより感光性平
版印刷版が得られる。この感光層中に用いられる感光性
物質としては特に限定されるものはなく、通常、感光性
平版印刷版に用いられている種々のものを用いることが
できる。
【0031】さらに感光性平版印刷版を重ねた時の感光
層への擦れ傷を防止するために及び/又は現像時、現像
液中へのアルミニウム成分の溶出を防止するために、特
開昭50−151136号、同57−63293号、同
61−67863号、特開平6−35174号等に記載
されている支持体裏面に保護層を設ける処理を行うこと
ができる。
層への擦れ傷を防止するために及び/又は現像時、現像
液中へのアルミニウム成分の溶出を防止するために、特
開昭50−151136号、同57−63293号、同
61−67863号、特開平6−35174号等に記載
されている支持体裏面に保護層を設ける処理を行うこと
ができる。
【0032】以下、感光物質について説明する。 (感光層)上記本発明により製造された支持体上に感光
性組成物からなる感光層を塗布することにより感光性平
版印刷版が得られる。この感光層中に用いられる感光性
物質は、ポジ型感光性平版印刷版を得ようとする場合、
o−キノンジアジド化合物であれば特に限定されるもの
ではなく、通常、例えば下記のような各種のものが使用
される。
性組成物からなる感光層を塗布することにより感光性平
版印刷版が得られる。この感光層中に用いられる感光性
物質は、ポジ型感光性平版印刷版を得ようとする場合、
o−キノンジアジド化合物であれば特に限定されるもの
ではなく、通常、例えば下記のような各種のものが使用
される。
【0033】(o−キノンジアジド化合物を含む感光性
組成物)使用されるo−キノンジアジド化合物を含む感
光性組成物においては、o−キノンジアジド化合物とア
ルカリ可溶性樹脂を併用する。o−キノンジアジド化合
物としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮
合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
組成物)使用されるo−キノンジアジド化合物を含む感
光性組成物においては、o−キノンジアジド化合物とア
ルカリ可溶性樹脂を併用する。o−キノンジアジド化合
物としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮
合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
【0034】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
【0035】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
【0036】更にo−キノンジアジド化合物としては特
開昭58−43451号公報に記載のある以下の化合物
も使用できる。即ち、例えば1,2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド化合
物、更に具体的にはジェイ・コサール(J.Kosa
r)著「ライト−センシティブ・システムズ」(Lig
ht−Sensitive Systems)第339
〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・アンド
・サンズ(John Willey &Sons)社
(ニューヨーク)やダブリュ・エス・ディ・フォレスト
(W.S.De Forest)著「フォトレジスト」
(Photoresist)第50巻(1975年)、
マックローヒル(Mc Graw Hill)社(ニュ
ーヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノンジア
ジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,2,1
´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−スルホニ
ル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾキノン
ジアジド−4−(N−エチル−M−β−ナフチル)−ス
ルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメチ
ルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−4´−アゾ−β
−ナフトール−エステル、N,N−ジ−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2´
−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルオ
キシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン−2,4−ジヒドロ
キシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノノジ
アジド−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4´−ジアミ
ノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4
´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェニルスルホン1モ
ルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド1モルとプルプロガリン1モルとの縮
合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒ
ドロアビエチル)−スルホンアミド等の1,2−キノン
ジアジド化合物を例示することができる。また、特公昭
37−1953号、同37−3627号、同37−13
109号、同40−26126号、同40−3801
号、同45−5604号、同45−27345号、同5
1−13013号、特開昭48−96575号、同48
−63802号、同48−63803号各公報に記載さ
れた1,2−キノンジアジド化合物も挙げることができ
る。
開昭58−43451号公報に記載のある以下の化合物
も使用できる。即ち、例えば1,2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド化合
物、更に具体的にはジェイ・コサール(J.Kosa
r)著「ライト−センシティブ・システムズ」(Lig
ht−Sensitive Systems)第339
〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・アンド
・サンズ(John Willey &Sons)社
(ニューヨーク)やダブリュ・エス・ディ・フォレスト
(W.S.De Forest)著「フォトレジスト」
(Photoresist)第50巻(1975年)、
マックローヒル(Mc Graw Hill)社(ニュ
ーヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノンジア
ジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,2,1
´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−スルホニ
ル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾキノン
ジアジド−4−(N−エチル−M−β−ナフチル)−ス
ルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメチ
ルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−4´−アゾ−β
−ナフトール−エステル、N,N−ジ−(1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2´
−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルオ
キシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン−2,4−ジヒドロ
キシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノノジ
アジド−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4´−ジアミ
ノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,4
´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェニルスルホン1モ
ルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド1モルとプルプロガリン1モルとの縮
合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−ジヒ
ドロアビエチル)−スルホンアミド等の1,2−キノン
ジアジド化合物を例示することができる。また、特公昭
37−1953号、同37−3627号、同37−13
109号、同40−26126号、同40−3801
号、同45−5604号、同45−27345号、同5
1−13013号、特開昭48−96575号、同48
−63802号、同48−63803号各公報に記載さ
れた1,2−キノンジアジド化合物も挙げることができ
る。
【0037】上記o−キノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。o−キノン
ジアジド化合物としては上記化合物を各々単独で用いて
もよいし、2種以上組合せて用いてもよい。o−キノン
ジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合は、6〜
60重量%が好ましく、特に好ましいのは、10〜50
重量%である。
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。o−キノン
ジアジド化合物としては上記化合物を各々単独で用いて
もよいし、2種以上組合せて用いてもよい。o−キノン
ジアジド化合物の感光性組成物中に占める割合は、6〜
60重量%が好ましく、特に好ましいのは、10〜50
重量%である。
【0038】(ジアゾ化合物)一方、ネガ型感光性平版
印刷版を得ようとする場合、公知のジアゾ化合物を含む
感光性組成物を用いればよい。
印刷版を得ようとする場合、公知のジアゾ化合物を含む
感光性組成物を用いればよい。
【0039】この感光性組成物中のジアゾ化合物は、例
えば、好ましくは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデ
ヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物で代表されるジ
アゾ樹脂である。特に好ましくは、p−ジアゾフェニル
アミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの
縮合物の塩、例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラ
フルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前
記縮合物との反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米
国特許第3,300,309号明細書中に記載されてい
るような、前記縮合物とスルホン酸類との反応生成物で
あるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹
脂は、好ましくは結合剤と共に使用される。かかる結合
剤としては種々の高分子化合物を使用することができる
が、好ましくは特開昭54−98613号公報に記載さ
れているような芳香族性水酸基を有する単量体、例えば
N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、
m−、またはp−ヒドロキシスチレン、o−、m−、ま
たはp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の単
量体との共重合体、米国特許第4,123,276号明
細書中に記載されているようなヒドロキシエチルアクリ
レート単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位
を主な繰り返し単位として含むポリマー、シェラック、
ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許
第3,751,257号明細書中に記載されているよう
な線状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタ
レート化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリン
から縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロ
ースアセテートフタレート等のセルロール誘導体が包含
される。
えば、好ましくは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデ
ヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物で代表されるジ
アゾ樹脂である。特に好ましくは、p−ジアゾフェニル
アミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの
縮合物の塩、例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラ
フルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前
記縮合物との反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米
国特許第3,300,309号明細書中に記載されてい
るような、前記縮合物とスルホン酸類との反応生成物で
あるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。さらにジアゾ樹
脂は、好ましくは結合剤と共に使用される。かかる結合
剤としては種々の高分子化合物を使用することができる
が、好ましくは特開昭54−98613号公報に記載さ
れているような芳香族性水酸基を有する単量体、例えば
N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、
m−、またはp−ヒドロキシスチレン、o−、m−、ま
たはp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の単
量体との共重合体、米国特許第4,123,276号明
細書中に記載されているようなヒドロキシエチルアクリ
レート単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位
を主な繰り返し単位として含むポリマー、シェラック、
ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許
第3,751,257号明細書中に記載されているよう
な線状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタ
レート化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリン
から縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロ
ースアセテートフタレート等のセルロール誘導体が包含
される。
【0040】本発明により製造される支持体に用いるこ
とができる感光性組成物としては、上記の他にも次のよ
うなものが使用できる。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
とができる感光性組成物としては、上記の他にも次のよ
うなものが使用できる。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,4
35,237号明細書及び同第3,622,320号明
細書等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基と
して
【0041】
【化1】 を含む感光性樹脂、及び重合体の側鎖に感光基を有する
ポリビニルシンナメート等が挙げられる。
ポリビニルシンナメート等が挙げられる。
【0042】2)光重合系感光性樹脂組成物 付加重合性不飽和化合物を含む光重合成性組成物であっ
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同第2,791,504号明細書等に
記載されている。
【0043】一例を挙げるとメタクリル酸メチルを含む
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
【0044】(アルカリ可溶性樹脂)アルカリ可溶性樹
脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報に
記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との縮合樹脂等が挙げられる。
脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報に
記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との縮合樹脂等が挙げられる。
【0045】ノボラック樹脂としては、例えばフェノー
ル・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載
されているようなp−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体樹脂
等が挙げられる。
ル・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載
されているようなp−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重合体樹脂
等が挙げられる。
【0046】前記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレ
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.
00×103〜3.00×104、より好ましくはMn
が5.00×102〜4.00×103、Mwが3.0
0×103〜2.00×104である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.
00×103〜3.00×104、より好ましくはMn
が5.00×102〜4.00×103、Mwが3.0
0×103〜2.00×104である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
【0047】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、フェノール
性水酸基を有するビニル系共重合体としては、該フェノ
ール性水酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体
であり、下記一般式[I]〜[V]の少なくとも1つの
構造単位を含む重合体が好ましい。
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、フェノール
性水酸基を有するビニル系共重合体としては、該フェノ
ール性水酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体
であり、下記一般式[I]〜[V]の少なくとも1つの
構造単位を含む重合体が好ましい。
【0048】
【化2】
【0049】[式中、R1およびR2はそれぞれ水素原
子、アルキル基又はカルボキシル基、好ましくは水素原
子を表わす。R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表わし、好ましくは水素原子又はメチル基、エチ
ル基等のアルキル基を表わす。R4は水素原子、アルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、好ましく
は水素原子を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香
族炭素原子とを連結する、置換基を有していてもよいア
ルキレン基を表わし、mは0〜10の整数を表わし、B
は置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を
有してもよいナフチレン基を表わす。]
子、アルキル基又はカルボキシル基、好ましくは水素原
子を表わす。R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表わし、好ましくは水素原子又はメチル基、エチ
ル基等のアルキル基を表わす。R4は水素原子、アルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、好ましく
は水素原子を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香
族炭素原子とを連結する、置換基を有していてもよいア
ルキレン基を表わし、mは0〜10の整数を表わし、B
は置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を
有してもよいナフチレン基を表わす。]
【0050】重合体としては共重合体型の構造を有する
ものが好ましく、前記一般式[I]〜一般式[V]でそ
れぞれ示される構造単位と組合せて用いることができる
単量体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、イ
ソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不
飽和オフィレン類、例えばスチレン、α−メチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチ
レン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル
酸類、例えばイタコン、マレイン酸、無水マレイン酸等
の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−
2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロア
クリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノ
カルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メ
タアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアクリルア
ミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロ
ロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m
−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデ
ンシアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレ
ン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシ
エチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1
−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導体類、
例えばN−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデン、N−ビ
ニルピロリドン等のN−ビニル系単量体がある。これら
のビニル系単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
ものが好ましく、前記一般式[I]〜一般式[V]でそ
れぞれ示される構造単位と組合せて用いることができる
単量体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、イ
ソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不
飽和オフィレン類、例えばスチレン、α−メチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチ
レン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル
酸類、例えばイタコン、マレイン酸、無水マレイン酸等
の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−
2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロア
クリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノ
カルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メ
タアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアクリルア
ミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロ
ロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m
−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデ
ンシアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレ
ン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシ
エチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1
−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導体類、
例えばN−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデン、N−ビ
ニルピロリドン等のN−ビニル系単量体がある。これら
のビニル系単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
【0051】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、重合体中
にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結合して
いてもよい。
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、重合体中
にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結合して
いてもよい。
【0052】ビニル系重合体の感光性組成物中に占める
割合は0.5〜70重量%であることが好ましい。ビニ
ル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又
2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物
等と組合せて用いることもできる。
割合は0.5〜70重量%であることが好ましい。ビニ
ル系重合体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又
2種以上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物
等と組合せて用いることもできる。
【0053】(有機酸・無機酸・酸無水物)本発明によ
り製造される支持体に塗布される感光性組成物には、有
機酸・無機酸・酸無水物が含有されてもよい。使用され
る酸としては、例えば特開昭60−88942号、特願
昭63−293107号に記載の有機酸と、日本化学会
編「化学便覧新版」(丸善出版)第92〜158頁に記
載の無機酸が挙げられる。有機酸の例としては、p−ト
ルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、メシ
チレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン酸等
のスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、ベンジルス
ルフィン酸、メタンスルフィン酸等のスルフィン酸、フ
ェニルホスホン酸、メチルホスホン酸、クロルメチルホ
スホン酸等のホスホン酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸
等の脂肪族モノカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸
等の脂環式モノカルボン酸、安息香酸、o−、m−、p
−ヒドロキシ安息香酸、o−、m−、p−メトキシ安息
香酸、o−、m−、p−メチル安息香酸、3,5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、フロログリシンカルボン酸、没食子
酸、3,5−ジメチル安息香酸等の芳香族モノカルボン
酸が挙げられる。また、マロン酸、メチルマロン酸、ジ
メチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、
イタコン酸、リンゴ酸等の飽和または、不飽和脂肪族ジ
カルボン酸、テトラヒドロフタル酸、1,1−シクロブ
タンジカルボン酸、1,1−シクロペンタンジカルボン
酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,1−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸等の
脂環式ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸等の芳香族ジカルボン酸等を挙げることができ
る。
り製造される支持体に塗布される感光性組成物には、有
機酸・無機酸・酸無水物が含有されてもよい。使用され
る酸としては、例えば特開昭60−88942号、特願
昭63−293107号に記載の有機酸と、日本化学会
編「化学便覧新版」(丸善出版)第92〜158頁に記
載の無機酸が挙げられる。有機酸の例としては、p−ト
ルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、メシ
チレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン酸等
のスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、ベンジルス
ルフィン酸、メタンスルフィン酸等のスルフィン酸、フ
ェニルホスホン酸、メチルホスホン酸、クロルメチルホ
スホン酸等のホスホン酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸
等の脂肪族モノカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸
等の脂環式モノカルボン酸、安息香酸、o−、m−、p
−ヒドロキシ安息香酸、o−、m−、p−メトキシ安息
香酸、o−、m−、p−メチル安息香酸、3,5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、フロログリシンカルボン酸、没食子
酸、3,5−ジメチル安息香酸等の芳香族モノカルボン
酸が挙げられる。また、マロン酸、メチルマロン酸、ジ
メチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、
イタコン酸、リンゴ酸等の飽和または、不飽和脂肪族ジ
カルボン酸、テトラヒドロフタル酸、1,1−シクロブ
タンジカルボン酸、1,1−シクロペンタンジカルボン
酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,1−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸等の
脂環式ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸等の芳香族ジカルボン酸等を挙げることができ
る。
【0054】上記有機酸の内、より好ましいものは、p
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、またはcis−1,2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、シリンガ酸等がある。
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、またはcis−1,2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、シリンガ酸等がある。
【0055】無機酸の例としては、硝酸、硫酸、塩酸、
ケイ酸、リン酸等が挙げられ、さらに好ましくは、硫
酸、リン酸である。
ケイ酸、リン酸等が挙げられ、さらに好ましくは、硫
酸、リン酸である。
【0056】酸無水物を用いる場合の酸無水物の種類も
任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香
酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導されるも
の、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、
無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から誘導
されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無水物
は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これらの化
合物は、単独あるいは2種以上混合して使用できる。
任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香
酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導されるも
の、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、
無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から誘導
されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無水物
は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これらの化
合物は、単独あるいは2種以上混合して使用できる。
【0057】これらの酸の含有量は、全感光性組成物の
全固形分に対して、一般的に0.05〜5重量%であっ
て、好ましくは、0.1〜3重量%の範囲である。
全固形分に対して、一般的に0.05〜5重量%であっ
て、好ましくは、0.1〜3重量%の範囲である。
【0058】(界面活性剤)本発明により製造される支
持体に塗布される感光性組成物は界面活性剤を含んでも
よい。界面活性剤としては、両性界面活性剤、アニオン
界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性
剤、フッ素系界面活性剤等を挙げることができる。
持体に塗布される感光性組成物は界面活性剤を含んでも
よい。界面活性剤としては、両性界面活性剤、アニオン
界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性
剤、フッ素系界面活性剤等を挙げることができる。
【0059】上記両性界面活性剤としては、ラウリルジ
メチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒ
ドロキシエチル、イミダゾリニウムベタイン等がある。
メチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒ
ドロキシエチル、イミダゾリニウムベタイン等がある。
【0060】アニオン界面活性剤としては、脂肪酸塩、
アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸
塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫
酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸
エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、
ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等がある。
アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸
塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫
酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸
エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、
ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等がある。
【0061】カチオン界面活性剤としては、アルキルア
ミン塩、第4級アンモニウム塩、アルキルベタイン等が
ある。
ミン塩、第4級アンモニウム塩、アルキルベタイン等が
ある。
【0062】ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシ
エチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪
酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、アルキルアルカノールアミド等がある。
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシ
エチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪
酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、アルキルアルカノールアミド等がある。
【0063】フッ素系界面活性剤としては、フルオロ脂
肪族基を含むアクリレートまたはメタアクリレートおよ
び(ポリオキシアルキレン)アクリレートまたは(ポリ
オキシアルキレン)メタアクリレートの共重合体等があ
る。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合して
使用することができる。特に好ましくはFC−430
(住友3M(株)製)フッ素系ポリエチレングリコール
#−2000(関東化学(株)製)である。感光性組成
物中に占める割合は、0.01〜10重量%であること
が好ましく、さらに好ましくは0.01〜5重量%で使
用される。
肪族基を含むアクリレートまたはメタアクリレートおよ
び(ポリオキシアルキレン)アクリレートまたは(ポリ
オキシアルキレン)メタアクリレートの共重合体等があ
る。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合して
使用することができる。特に好ましくはFC−430
(住友3M(株)製)フッ素系ポリエチレングリコール
#−2000(関東化学(株)製)である。感光性組成
物中に占める割合は、0.01〜10重量%であること
が好ましく、さらに好ましくは0.01〜5重量%で使
用される。
【0064】(プリントアウト材料)感光性組成物に
は、露光より可視画像を形成させるプリントアウト材料
を添加することができる。プリントアウト材料は露光に
より酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用する
ことによってその色調を変える有機染料よりなるもの
で、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物とし
ては、例えば特開昭50−36209号公報に記載のo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、
特開昭53−36223号公報に記載されているo−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子
吸引性置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸
とのエステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−
77742号公報、特開昭57−148784号公報等
に記載のハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及び
ジアゾニウム塩等が挙げられる。
は、露光より可視画像を形成させるプリントアウト材料
を添加することができる。プリントアウト材料は露光に
より酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用する
ことによってその色調を変える有機染料よりなるもの
で、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物とし
ては、例えば特開昭50−36209号公報に記載のo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、
特開昭53−36223号公報に記載されているo−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子
吸引性置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸
とのエステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−
77742号公報、特開昭57−148784号公報等
に記載のハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及び
ジアゾニウム塩等が挙げられる。
【0065】(露光により酸または遊離基を生成する化
合物)本発明により製造される支持体に塗布される感光
性組成物に用いることができる、露光により酸または遊
離基を生成する化合物としては、例えば、ハロメチルオ
キサジアゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジン化
合物等が用いられる。ハロメチルオキサジアゾール化合
物とは、オキサジアゾール類にハロメチル基、好ましく
はトリクロロメチル基を有する化合物である。これらの
化合物は公知であり、例えば特公昭57−6096号公
報、同61−51788号公報、特公平1−28369
号公報、特開昭60−138539号公報、同60−1
77340号公報、同60−241049号公報等に記
載されている。
合物)本発明により製造される支持体に塗布される感光
性組成物に用いることができる、露光により酸または遊
離基を生成する化合物としては、例えば、ハロメチルオ
キサジアゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジン化
合物等が用いられる。ハロメチルオキサジアゾール化合
物とは、オキサジアゾール類にハロメチル基、好ましく
はトリクロロメチル基を有する化合物である。これらの
化合物は公知であり、例えば特公昭57−6096号公
報、同61−51788号公報、特公平1−28369
号公報、特開昭60−138539号公報、同60−1
77340号公報、同60−241049号公報等に記
載されている。
【0066】また、ハロメチル−s−トリアジン化合物
とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。本発
明の支持体に塗布される感光性組成物中における前記露
光により酸又は遊離基を生成する化合物の添加量は、
0.01〜10重量%が好ましく、より好ましくは、
0.1〜30重量%であり、特に好ましくは、0.2〜
3重量%である。これらの化合物は、単独あるいは2種
以上混合して使用できる。
とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。本発
明の支持体に塗布される感光性組成物中における前記露
光により酸又は遊離基を生成する化合物の添加量は、
0.01〜10重量%が好ましく、より好ましくは、
0.1〜30重量%であり、特に好ましくは、0.2〜
3重量%である。これらの化合物は、単独あるいは2種
以上混合して使用できる。
【0067】(色素)本発明により製造される支持体に
塗布される感光性組成物には、さらに色素を用いること
ができる。該色素は、露光による可視画像(露光可視画
像)と現像後の可視画像を得ることを目的として使用さ
れる。
塗布される感光性組成物には、さらに色素を用いること
ができる。該色素は、露光による可視画像(露光可視画
像)と現像後の可視画像を得ることを目的として使用さ
れる。
【0068】該色素としては、フリーラジカルまたは酸
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、、ローダミンB、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、、ローダミンB、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
【0069】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変色
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.01〜10重
量%であることが好ましく、更に好ましくは0.02〜
5重量%で使用される。これらの化合物は、単独あるい
は2種以上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素
は、ビクトリアピュアブルーBOH、オイルブルー#6
03である。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変色
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.01〜10重
量%であることが好ましく、更に好ましくは0.02〜
5重量%で使用される。これらの化合物は、単独あるい
は2種以上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素
は、ビクトリアピュアブルーBOH、オイルブルー#6
03である。
【0070】(感脂化剤)画像部の感脂性を向上させる
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、あるいはこ
れらとo−キノンジアジド化合物との部分エステル化
物、フッ素系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの5
0%脂肪酸エステル等)、等が好ましく用いられる。こ
れらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異
なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜30重
量%である。
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、あるいはこ
れらとo−キノンジアジド化合物との部分エステル化
物、フッ素系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの5
0%脂肪酸エステル等)、等が好ましく用いられる。こ
れらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異
なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜30重
量%である。
【0071】これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
本発明により製造される支持体の表面に塗布乾燥させる
ことにより、感光層を設けて、感光性平版印刷版を製造
することができる。
本発明により製造される支持体の表面に塗布乾燥させる
ことにより、感光層を設けて、感光性平版印刷版を製造
することができる。
【0072】(溶媒)本発明により製造される支持体に
用いられる感光性組成物を溶解する際に使用し得る溶媒
としては、メタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、i−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノ
ール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類、アリルア
ルコール、ベンジルアルコール、アニソール、フェネト
ール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オク
タン、ノナン、デカン等の炭化水素類、ジアセトンアル
コール、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキシ
−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブタノール、3
−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキ
シ−3−エチル−1−1ペンタノール−4−エトキシ−
1−ペンタノール、5−メトキシ−1−ヘキサノール、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケト
ン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル
ペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチル
ケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘ
キサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−ブチロラクト
ン、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−
2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5−
ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペ
ンタノン、6−ヒドロキシ−2−ヘキサノン、3−メチ
ル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリ
コールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテート、エチレング
リコールアルキルエーテル類およびそのアセテート(メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート)、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類およびそのアセテー
ト(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエ
チルエーテル、モノi−プロピルエーテル、モノブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート等)、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル類(DMDG、DEDG、DBDG、MEDG)、ト
リエチレングリコールアルキルエーテル類(モノメチル
エーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル等)、プロピレ
ングリコールアルキルエーテル類およびそのアセテート
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロ
ピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテルアセテー
ト、モノエチルエーテルアセテート等)、ジプロピレン
グリコールアルキルエーテル類(モノメチルエーテル、
モノエチルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチ
ルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル)、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メ
チル、安息香酸エチル、炭酸プロピレン等が挙げられ
る。これらの溶媒は、単独あるいは2種以上混合して使
用できる。
用いられる感光性組成物を溶解する際に使用し得る溶媒
としては、メタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、i−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノ
ール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類、アリルア
ルコール、ベンジルアルコール、アニソール、フェネト
ール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オク
タン、ノナン、デカン等の炭化水素類、ジアセトンアル
コール、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキシ
−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブタノール、3
−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキ
シ−3−エチル−1−1ペンタノール−4−エトキシ−
1−ペンタノール、5−メトキシ−1−ヘキサノール、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケト
ン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル
ペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチル
ケトン、ジブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘ
キサノン、メチルシクロヘキサノン、γ−ブチロラクト
ン、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−
2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5−
ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペ
ンタノン、6−ヒドロキシ−2−ヘキサノン、3−メチ
ル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリ
コールジアセテート、プロピレングリコールモノアセテ
ート、プロピレングリコールジアセテート、エチレング
リコールアルキルエーテル類およびそのアセテート(メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールジブチルエーテル、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート)、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類およびそのアセテー
ト(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、モノエ
チルエーテル、モノi−プロピルエーテル、モノブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート等)、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル類(DMDG、DEDG、DBDG、MEDG)、ト
リエチレングリコールアルキルエーテル類(モノメチル
エーテル、モノエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、メチルエチルエーテル等)、プロピレ
ングリコールアルキルエーテル類およびそのアセテート
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロ
ピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、モノメチルエーテルアセテー
ト、モノエチルエーテルアセテート等)、ジプロピレン
グリコールアルキルエーテル類(モノメチルエーテル、
モノエチルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチ
ルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル)、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル等のカルボン酸エステル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メ
チル、安息香酸エチル、炭酸プロピレン等が挙げられ
る。これらの溶媒は、単独あるいは2種以上混合して使
用できる。
【0073】(被覆層)感光性平版印刷版は、上記感光
層上に皮膜形成能を有する水不溶性で有機溶媒可溶性の
高分子化合物から成る被覆層を形成することができる。
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼
き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、
且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ま
しい。具体的には、特開昭50−125805号、特公
昭57−6582号、同61−28986号の各公報に
記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭6
2−62337号公報に記載されているような固体粉末
を熱融着させる方法等が挙げられる。
層上に皮膜形成能を有する水不溶性で有機溶媒可溶性の
高分子化合物から成る被覆層を形成することができる。
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼
き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、
且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ま
しい。具体的には、特開昭50−125805号、特公
昭57−6582号、同61−28986号の各公報に
記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭6
2−62337号公報に記載されているような固体粉末
を熱融着させる方法等が挙げられる。
【0074】(マット剤)マット層の目的は密着露光に
おける画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がア
ルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可
能な物が望ましい。
おける画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がア
ルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可
能な物が望ましい。
【0075】(包接化合物)本発明により製造される支
持体に塗布される感光性組成物は、包接化合物を含有し
てもよい。包接化合物の包接とは、原子又は分子が結合
してできた三次元構造の内部に空孔があり、その中に別
又は分子が一定の組成比で入り込み、特定の構造をとっ
ている状態である。従って包接化合物とは、自らが形成
している空孔に別の分子又は原子を取り込む性質をもつ
化合物を指す。この包接を引き起こす駆動力としては、
疎水相互作用、イオン相互作用、水素結合、ファンデア
ワールス力等が考えられる。包接化合物の具体例として
は、シクロデキストリン、クラウンエーテル、シクロフ
ァン、アザシクロファン、カリックスアレン、シクロト
リベラトリレン、スフェランド、キャピタンド、環状オ
リゴペプチド等の単分子で包接能をもつもの、尿素、チ
オ尿素、テオキシコール酸、アポコール酸、コール酸、
ジニトロジフェニル、ヒドロキノン、ペルヒドロトリフ
ェニレン、トリ−o−チモイド、オキシフラバン、ジシ
アノアンミンニッケル、ジオキシトリフェニルメタン、
メチルナフタリン、スピロクマリン、ペルヒドロトリフ
ェニレン等の多分子系で包接能をもつものが挙げられ
る。さらにセルロース、デンプン、キチン、キトサン、
タンパク質等の天然高分子やポリビニルアルコール等の
合成高分子も種々の化合物を包接する。これらの化合物
は、単独或いは2種以上混合して使用できる。
持体に塗布される感光性組成物は、包接化合物を含有し
てもよい。包接化合物の包接とは、原子又は分子が結合
してできた三次元構造の内部に空孔があり、その中に別
又は分子が一定の組成比で入り込み、特定の構造をとっ
ている状態である。従って包接化合物とは、自らが形成
している空孔に別の分子又は原子を取り込む性質をもつ
化合物を指す。この包接を引き起こす駆動力としては、
疎水相互作用、イオン相互作用、水素結合、ファンデア
ワールス力等が考えられる。包接化合物の具体例として
は、シクロデキストリン、クラウンエーテル、シクロフ
ァン、アザシクロファン、カリックスアレン、シクロト
リベラトリレン、スフェランド、キャピタンド、環状オ
リゴペプチド等の単分子で包接能をもつもの、尿素、チ
オ尿素、テオキシコール酸、アポコール酸、コール酸、
ジニトロジフェニル、ヒドロキノン、ペルヒドロトリフ
ェニレン、トリ−o−チモイド、オキシフラバン、ジシ
アノアンミンニッケル、ジオキシトリフェニルメタン、
メチルナフタリン、スピロクマリン、ペルヒドロトリフ
ェニレン等の多分子系で包接能をもつものが挙げられ
る。さらにセルロース、デンプン、キチン、キトサン、
タンパク質等の天然高分子やポリビニルアルコール等の
合成高分子も種々の化合物を包接する。これらの化合物
は、単独或いは2種以上混合して使用できる。
【0076】(塗布)感光性組成物や被覆層又はマット
層を支持体表面に塗布する際に用いる塗布方法として
は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、
ブレード塗布及びカーテン塗布等が用いられる。
層を支持体表面に塗布する際に用いる塗布方法として
は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー
塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、
ブレード塗布及びカーテン塗布等が用いられる。
【0077】(露光)こうして得られた感光性平版印刷
版の使用に際しては、従来から常用されている方法を適
用することができ、例えば線画像、網点画像などを有す
る透明原画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適
当な現像液を用いて非画像部の感光性層を除去すること
によりレリーフ像が得られる。露光に好適な光源として
は、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
版の使用に際しては、従来から常用されている方法を適
用することができ、例えば線画像、網点画像などを有す
る透明原画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適
当な現像液を用いて非画像部の感光性層を除去すること
によりレリーフ像が得られる。露光に好適な光源として
は、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
【0078】(処理)感光性平版印刷版の処理(現像)
に用いられる現像液、現像補充液は何れもアルカリ金属
珪酸塩を含むものである。アルカリ金属珪酸塩のアルカ
リ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが含
まれるが、このうちカリウムが最も好ましい。現像の
際、感光性平版印刷版の現像処理量に合わせて、適当に
現像補充液が補充されることが好ましい。好ましい現像
液、現像補充液は、〔SiO2〕/〔M〕(式中、〔S
iO2〕はSiO2のモル濃度を示し、〔M〕はアルカ
リ金属のモル濃度を示す)が0.15〜1.0であり、
SiO2濃度が総重量に対して0.5〜5.0重量%で
あるアルカリ金属珪酸塩の水溶液である。また、特に好
ましくは、現像液の〔SiO2〕/〔M〕が0.25〜
0.75であり、SiO2濃度が1.0〜4.0重量
%、現像補充液の〔SiO2〕/〔M〕が0.15〜
0.5であり、SiO2濃度が1.0〜3.0重量%で
ある。
に用いられる現像液、現像補充液は何れもアルカリ金属
珪酸塩を含むものである。アルカリ金属珪酸塩のアルカ
リ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが含
まれるが、このうちカリウムが最も好ましい。現像の
際、感光性平版印刷版の現像処理量に合わせて、適当に
現像補充液が補充されることが好ましい。好ましい現像
液、現像補充液は、〔SiO2〕/〔M〕(式中、〔S
iO2〕はSiO2のモル濃度を示し、〔M〕はアルカ
リ金属のモル濃度を示す)が0.15〜1.0であり、
SiO2濃度が総重量に対して0.5〜5.0重量%で
あるアルカリ金属珪酸塩の水溶液である。また、特に好
ましくは、現像液の〔SiO2〕/〔M〕が0.25〜
0.75であり、SiO2濃度が1.0〜4.0重量
%、現像補充液の〔SiO2〕/〔M〕が0.15〜
0.5であり、SiO2濃度が1.0〜3.0重量%で
ある。
【0079】上記現像液、現像補充液には、水溶性又は
アルカリ可溶性の有機および無機の還元剤を含有させる
ことができる。有機の還元剤としては、例えば、ハイド
ロキノン、メトール、メトキシキノン等のフェノール化
合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジン等のア
ミン化合物を挙げることができ、無機の還元剤として
は、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫
酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カ
リウム等の亜硫酸塩、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸カ
リウム、亜リン酸水素ナトリウム、亜リン酸水素カリウ
ム、亜リン酸二水素ナトリウム、亜リン酸二水素カリウ
ム等の亜リン酸塩、ヒドラジン、チオ硫酸ナトリウム、
亜ジチオン酸ナトリウム等を挙げることができる。これ
ら水溶性又はアルカリ可溶性還元剤は、現像液、現像補
充液に0.05〜10重量%を含有させることができ
る。
アルカリ可溶性の有機および無機の還元剤を含有させる
ことができる。有機の還元剤としては、例えば、ハイド
ロキノン、メトール、メトキシキノン等のフェノール化
合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジン等のア
ミン化合物を挙げることができ、無機の還元剤として
は、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫
酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カ
リウム等の亜硫酸塩、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸カ
リウム、亜リン酸水素ナトリウム、亜リン酸水素カリウ
ム、亜リン酸二水素ナトリウム、亜リン酸二水素カリウ
ム等の亜リン酸塩、ヒドラジン、チオ硫酸ナトリウム、
亜ジチオン酸ナトリウム等を挙げることができる。これ
ら水溶性又はアルカリ可溶性還元剤は、現像液、現像補
充液に0.05〜10重量%を含有させることができ
る。
【0080】また、現像液、現像補充液には、有機酸カ
ルボン酸を含有させることができる。これら有機酸カル
ボン酸には、炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸、
およびベンゼン環またはナフタレン環にカルボキシル基
が置換した芳香族カルボン酸が包含される。
ルボン酸を含有させることができる。これら有機酸カル
ボン酸には、炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸、
およびベンゼン環またはナフタレン環にカルボキシル基
が置換した芳香族カルボン酸が包含される。
【0081】脂肪族カルボン酸としては、炭素数6〜2
0のアルカン酸が好ましく、具体的な例としては、カプ
ロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸等が挙げられ、特に好ましくは、炭素数6
〜12のアルカン酸である。また、脂肪族カルボン酸
は、炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸であっても、枝
分れした炭素鎖を有する脂肪酸であってもよい。上記脂
肪族カルボン酸はナトリウムやカリウムの塩またはアン
モニウム塩として用いてもよい。
0のアルカン酸が好ましく、具体的な例としては、カプ
ロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸等が挙げられ、特に好ましくは、炭素数6
〜12のアルカン酸である。また、脂肪族カルボン酸
は、炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸であっても、枝
分れした炭素鎖を有する脂肪酸であってもよい。上記脂
肪族カルボン酸はナトリウムやカリウムの塩またはアン
モニウム塩として用いてもよい。
【0082】芳香族カルボン酸の具体的な化合物として
は、安息香酸、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香
酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−tert−ブチル安息香酸、o−アミノ安息香
酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香
酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2
−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−
ナフトエ酸等が挙げられる。上記芳香族カルボン酸はナ
トリウムやカリウムの塩またはアンモニウム塩として用
いてもよい。脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸の含
有量は少なくとも0.1〜30重量%を含有させること
ができる。
は、安息香酸、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香
酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−tert−ブチル安息香酸、o−アミノ安息香
酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香
酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2
−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−
ナフトエ酸等が挙げられる。上記芳香族カルボン酸はナ
トリウムやカリウムの塩またはアンモニウム塩として用
いてもよい。脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸の含
有量は少なくとも0.1〜30重量%を含有させること
ができる。
【0083】また、現像剤、現像補充剤には、各種アニ
オン型、ノニオン型、カチオン型の各界面活性剤および
有機溶媒を含有させることができる。更に、現像液、現
像補充液には、公知の添加物を添加することができる。
オン型、ノニオン型、カチオン型の各界面活性剤および
有機溶媒を含有させることができる。更に、現像液、現
像補充液には、公知の添加物を添加することができる。
【0084】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明する。 実施例1及び比較例1 <ブラシ研摩による機械的粗面化条件>研摩材でのナイ
ロンブラシ粗面化の条件を表1に示した。支持体に対す
るブラシの押込みを15mmとし、ラインスピード5m
/minでの処理を一回の処理とし、必要に応じて処理
回数を3回まで行った。ブラシの回転方向は支持体走行
方向の逆方向とし、回転数は毎分250回転とした。
に説明する。 実施例1及び比較例1 <ブラシ研摩による機械的粗面化条件>研摩材でのナイ
ロンブラシ粗面化の条件を表1に示した。支持体に対す
るブラシの押込みを15mmとし、ラインスピード5m
/minでの処理を一回の処理とし、必要に応じて処理
回数を3回まで行った。ブラシの回転方向は支持体走行
方向の逆方向とし、回転数は毎分250回転とした。
【0085】<支持体の作成>厚さ0.3mmのアルミ
ニウム板(材質1050、調質H16)を、85℃に保
たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、5秒
間脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂したアルミ
ニウム板を25℃に保たれた10%硫酸水溶液に15秒
間浸漬し、中和処理した後、水洗した。次いでこのアル
ミニウム板に表2に示すような条件でブラシ研摩による
粗面化処理を行った。ブラシ研摩処理を行った後、50
℃に保たれた1%水酸化ナトリウム水溶液中で表2に示
すエッチング量が得られるような時間浸漬してエッチン
グし、次いで25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1
0秒間浸漬し、中和処理した後、水洗した。次いで、2
0%硫酸水溶液中で、温度25℃、電流密度2A/dm
2の条件で1分間陽極酸化処理を行った。その後、80
℃に保たれた0.1%の酢酸アンモニウム水溶液中に3
0秒間浸漬して封孔処理を行い、80℃で5分間乾燥し
て各条件のアルミニウム支持体を夫々得た。
ニウム板(材質1050、調質H16)を、85℃に保
たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、5秒
間脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂したアルミ
ニウム板を25℃に保たれた10%硫酸水溶液に15秒
間浸漬し、中和処理した後、水洗した。次いでこのアル
ミニウム板に表2に示すような条件でブラシ研摩による
粗面化処理を行った。ブラシ研摩処理を行った後、50
℃に保たれた1%水酸化ナトリウム水溶液中で表2に示
すエッチング量が得られるような時間浸漬してエッチン
グし、次いで25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1
0秒間浸漬し、中和処理した後、水洗した。次いで、2
0%硫酸水溶液中で、温度25℃、電流密度2A/dm
2の条件で1分間陽極酸化処理を行った。その後、80
℃に保たれた0.1%の酢酸アンモニウム水溶液中に3
0秒間浸漬して封孔処理を行い、80℃で5分間乾燥し
て各条件のアルミニウム支持体を夫々得た。
【0086】得られた各支持体に、下記組成の感光性組
成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で乾
燥し感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液の塗布量は、乾燥重量として2.0g/m2とな
るようにした。
成物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で乾
燥し感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組成物
塗布液の塗布量は、乾燥重量として2.0g/m2とな
るようにした。
【0087】 〈感光性組成物塗布液〉 ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が1 0/54/36でMwが4000) 6.70g ピロガロールアセトン樹脂(Mw:3000)とo−ナフトキノンジアジド− 5−スルホニルクロリドとの縮合物(エステル化率30%) 1.50g ポリエチレングリコール#2000 0.20g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g フッ素系界面活性剤FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.02g メチルセロソルブ 100ml
【0088】得られた各感光性平版印刷版を、光源とし
て4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/cm
2で60秒間照射することにより露光した。この露光済
みの各感光性平版印刷版を、市販されている現像液(S
DR−1、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20
秒、現像温度27℃)で現像した。
て4kwメタルハライドランプを使用し、8mW/cm
2で60秒間照射することにより露光した。この露光済
みの各感光性平版印刷版を、市販されている現像液(S
DR−1、コニカ(株)製、6倍に希釈、現像時間20
秒、現像温度27℃)で現像した。
【0089】得られた各平版印刷版を用いて印刷を行
い、下記の評価方法によりドットゲイン及び微点状汚れ
の評価を行った。得られた結果を表2に示した。
い、下記の評価方法によりドットゲイン及び微点状汚れ
の評価を行った。得られた結果を表2に示した。
【0090】実施例2及び比較例2 実施例1及び比較例1において一種類であった研摩材を
二種併用とした以外は、実施例1及び比較例1と同様に
して印刷版を作成し、印刷を行った。結果を表3に示
す。
二種併用とした以外は、実施例1及び比較例1と同様に
して印刷版を作成し、印刷を行った。結果を表3に示
す。
【0091】実施例3及び比較例3 ブラシ研摩に使用する研摩材を表4に示すような二種混
合の研摩材とした以外は、実施例1及び比較例1と同様
にして印刷版を作成し、印刷を行った。結果を表4に示
す。但し、ブラシ研摩処理は全て三回行った。
合の研摩材とした以外は、実施例1及び比較例1と同様
にして印刷版を作成し、印刷を行った。結果を表4に示
す。但し、ブラシ研摩処理は全て三回行った。
【0092】<評価方法> (ドットゲイン)得られた平版印刷版を、印刷機(三菱
重工業(株)製DAIYA1F−1)にかけコート紙、
湿し水(東京インキ(株)エッチ液SG−51 濃度
1.5%)、インキ(東洋インキ製造(株)製ハイプラ
スM紅)を使用して印刷を行い、画像部の濃度を1.6
にして印刷を行ったときの、印刷物上のスクリーン線数
150line/inchの50%網点の面積を測定し
ゲイン量を評価した。面積の測定はマクベス濃度計で行
った。
重工業(株)製DAIYA1F−1)にかけコート紙、
湿し水(東京インキ(株)エッチ液SG−51 濃度
1.5%)、インキ(東洋インキ製造(株)製ハイプラ
スM紅)を使用して印刷を行い、画像部の濃度を1.6
にして印刷を行ったときの、印刷物上のスクリーン線数
150line/inchの50%網点の面積を測定し
ゲイン量を評価した。面積の測定はマクベス濃度計で行
った。
【0093】(微点状の汚れ)同様の印刷条件で、50
00枚刷った時点でいったん印刷機を停止し、1時間放
置した後、印刷を開始し、発生した微点状の汚れを10
0cm2内の個数で評価した。
00枚刷った時点でいったん印刷機を停止し、1時間放
置した後、印刷を開始し、発生した微点状の汚れを10
0cm2内の個数で評価した。
【0094】
【表1】
【0095】
【表2】
【0096】
【表3】
【0097】
【表4】
【0098】
【発明の効果】本発明によれば、ドットゲイン及びスト
ップ汚れが良好であり、低コストで製造可能な感光性平
版印刷版用支持体の製造方法を提供できる。
ップ汚れが良好であり、低コストで製造可能な感光性平
版印刷版用支持体の製造方法を提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 信行 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 杉 泰久 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 西尾 和之 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内
Claims (4)
- 【請求項1】アルミニウム板を機械的に粗面化した後、
陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製造方
法において、該機械的粗面化をモース硬度8以上で且つ
粒度がメッシュで600〜1000である研磨材を使用
して行うことを特徴とする感光性平版印刷版用支持体の
製造方法。 - 【請求項2】アルミニウム板を機械的に粗面化した後、
陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製造方
法において、該機械的粗面化をモース硬度8以上で且つ
粒度がメッシュで600〜1000である研磨材とモー
ス硬度5以上8未満で且つ粒度がメッシュで400〜6
00である研磨材とを併用して行うことを特徴とする感
光性平版印刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項3】アルミニウム板を機械的に粗面化した後、
陽極酸化処理を施す感光性平版印刷版用支持体の製造方
法において、該機械的粗面化をモース硬度8以上の研磨
材とモース硬度5以上8未満の研磨材とを混合使用して
行い、且つモース硬度8以上の研磨材の比率を70%以
上90%未満の範囲とすることを特徴とする感光性平版
印刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項4】機械的粗面化の後にアルカリ性水溶液で表
面を3g/m2以上10g/m2以下エッチングするこ
とを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の感光性平
版印刷版用支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25552995A JPH0970945A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25552995A JPH0970945A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0970945A true JPH0970945A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=17280006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25552995A Pending JPH0970945A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0970945A (ja) |
-
1995
- 1995-09-07 JP JP25552995A patent/JPH0970945A/ja active Pending
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