JPH09148503A - リードフレームの製造方法 - Google Patents

リードフレームの製造方法

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JPH09148503A
JPH09148503A JP30106295A JP30106295A JPH09148503A JP H09148503 A JPH09148503 A JP H09148503A JP 30106295 A JP30106295 A JP 30106295A JP 30106295 A JP30106295 A JP 30106295A JP H09148503 A JPH09148503 A JP H09148503A
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JP
Japan
Prior art keywords
resist pattern
pattern
width
lead frame
etching
Prior art date
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Pending
Application number
JP30106295A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazutaka Araki
和隆 荒木
Hideji Goto
秀二 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】エッチング用レジストパターンのパターン形成
方法を改良することにより、インナーリード部の先端部
のワイヤーボンディングすべき平坦領域が、エッチング
によって狭くならないように配慮してパターンエッチン
グする。 【解決手段】金属薄板状リードフレーム材L0 の表裏両
面にインナーリード部1相当のレジストパターン1aな
どレジストパターンを形成した後、その表裏両面よりパ
ターンエッチングするリードフレームの製造方法におい
て、少なくとも、表面に形成する前記レジストパターン
1a先端部の幅I1 とその先端部外側の非レジストパタ
ーンの幅wa との関係がI1 =wa 、前記表面の非レジ
ストパターン幅wa と裏面の非レジストパターン幅wb
との関係がwa >wbとなるようにレジストパターンを
形成してパターンエッチングする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置などの
基板となるリードフレームの製造方法に関し、半導体集
積回路素子を搭載してワイヤーボンディングなどにより
接続して構成される半導体装置を製造するためのリード
フレームに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体集積回路素子の高集積化に
よって、半導体集積回路素子の接続端子部の数が増大化
し、それに伴って、半導体集積回路素子とワイヤーボン
ディング(金線など)によって接続されるリードフレー
ムのインナーリード部の本数も増加して超多ピン化して
きている。
【0003】そのため、インナーリード部の長手方向と
直交する方向のリード先端部の幅も縮小傾向にあるが、
ワイヤーボンディングされるインナーリード部の先端部
は、確実な接続を行うためにも、所定の幅の平坦面を確
保する必要がある。
【0004】図3(a)〜(b)は、従来のリードフレ
ームの製造方法を説明する平面図である。
【0005】まず、鉄−ニッケル合金製などの金属薄板
状のリードフレーム材L0 の表裏両面にフォトレジスト
を塗布してエッチング用レジスト層を設け、該レジスト
層をパターン露光・現像処理する。
【0006】これにより、図3(a)に示すように金属
薄板状のリードフレーム材L0 の表面に、また、図3
(b)に示すように金属薄板状のリードフレーム材L0
の裏面に、それぞれインナーリード部1に相当するパタ
ーンのレジストパターン1a、及びアイランド部2に相
当するパターンのレジストパターン2a、及びその両方
の間の分断部3に相当するパターンのレジストパターン
3aなどのレジストパターンを形成する。
【0007】なお、インナーリード部1に相当する前記
レジストパターン1aの幅は、インナーリード部1の先
端部分がサイドエッチングなどにより先細りしないよう
に配慮して、その先端部の幅I1 を他の部分の幅I2 に
対して少し広目に余裕をもって設定してある。
【0008】次に、金属薄板状リードフレーム材L0 の
表裏両面にパターン形成された前記レジストパターン1
a、2a、3aなどによるレジストパターン領域以外の
非レジストパターン領域を、その表裏両面より適宜エッ
チング液(例えば塩化第二鉄液)を用いてエッチングし
て、図4(a)に示すように、リード幅Ia のインナー
リード部1、アイランド部2、分断部3などをパターン
形成してリードフレームLを形成している。
【0009】なお、図示しないが、インナーリード部1
と、アイランド部2とは、互いに分断されない状態でパ
ターンエッチングされるものである。
【0010】このように、上記従来のリードフレームの
製造方法においては、図3(a)〜(b)に示すよう
に、前記インナーリード部1のレジストパターン1aの
長手方向に沿う両外側、及びそのパターン1aの先端部
外側と、アイランド部2のレジストパターン2aと分断
部3のレジストパターン3aとの境界部とに、それぞれ
非レジストパターン11、12、13が形成されるよう
にレジストパターンをパターン形成している。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の製造
方法におけるレジストパターンの形成においては、図3
(a)に示すように、金属薄板状リードフレーム材L0
の表面に形成される前記非レジストパターン12は、そ
の幅wa がレジストパターン1a先端部の幅I1に対し
てwa =I1 の関係になるように、レジストパターン1
a先端部に沿って断続的に形成されるようにレジストパ
ターンが形成される。
【0012】他方、図3(b)に示すように、金属薄板
状リードフレーム材L0 の裏面に形成される前記非レジ
ストパターン12は、その幅wb が前記表面に形成され
る非レジストパターン12の幅wa に対してwb >wa
の関係になるように、レジストパターン1a先端部に沿
って連続的に形成されるようにレジストパターンが形成
される。
【0013】そのため、図4(a)の平面図及び図4
(b)のM−M断面図に示すように、パターン形成され
たリードフレームLのインナーリード部1は、前記幅I
2 にほぼ近似するリード幅Ia をもってエッチングされ
るものの、そのリード先端部には、レジストパターン1
aを広目の幅I2 に設定したにも関わらず、図示するよ
うに先細りが発生したり、角丸形状にエッチングされる
傾向があった。
【0014】このように、従来の製造方法におけるレジ
ストパターンでは、ワイヤーボンディングされるインナ
ーリード部1先端部の領域幅Ia1が狭小となって、ボン
ディング操作が行い難くなったり、ボンディング不良
(接続不良)などを生じ易いものであった。
【0015】本発明の課題は、リードフレームの製造方
法において、エッチング用レジストパターンのパターン
形成方法を改良することにより、インナーリード部の先
端部のワイヤーボンディングすべき平坦領域が、エッチ
ングによってできるかぎり狭くならないように配慮して
パターンエッチングすることにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は、金属薄板状リ
ードフレーム材L0 の表裏両面にインナーリード部1相
当のレジストパターン1aなどレジストパターンを形成
した後、その表裏両面よりパターンエッチングするリー
ドフレームの製造方法において、少なくとも、表面に形
成する前記レジストパターン1a先端部の幅I1 とその
先端部外側の非レジストパターンの幅wa との関係がI
1 =wa 、前記表面の非レジストパターン幅wa と裏面
の非レジストパターン幅wb との関係がwa >wbとな
るようにレジストパターンを形成してパターンエッチン
グすることを特徴とするリードフレームの製造方法であ
る。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明のリードフレームの製造方
法を、図1(a)の平面図及び図1(b)の平面図に示
す発明の実施の形態に沿って、以下に詳細に説明する。
【0018】まず、図1(a)に示すように、鉄−ニッ
ケル合金製などの金属薄板状のリードフレーム材L0
(例えば厚さ;0.15mm〜0.2mm程度の金属薄
板)の表面、及び図1(b)に示すように、そのリード
フレーム材L0 の裏面に、それぞれ全面にフォトレジス
トを塗布してエッチング用レジスト層を設け、該レジス
ト層をパターン露光・現像処理する。
【0019】これにより、同図1(a)に示すように、
金属薄板状のリードフレーム材L0の表面に、また、同
図1(b)に示すように、金属薄板状のリードフレーム
材L0 の裏面に、それぞれインナーリード部1に相当す
るパターンのレジストパターン1a、及びアイランド部
2に相当するパターンのレジストパターン2a、及びそ
の両方の間の分断部3に相当するパターンのレジストパ
ターン3aのレジストパターンを、その表裏面で互いに
相対するように形成する。
【0020】これによって、前記インナーリード部1の
レジストパターン1aの長手方向に沿う両外側、及びそ
のパターン1aの先端部外側と、アイランド部2のレジ
ストパターン2aと分断部3のレジストパターン3aと
の境界部とに、それぞれ非レジストパターン11、1
2、13が形成される。
【0021】なお、図示しないが、インナーリード部1
と、アイランド部2とは、互いに分断されない状態でパ
ターンエッチングされるものである。
【0022】また、本発明の実施においては、製造する
リードフレームのパターン形状に応じて、リードフレー
ム材L0 の表裏面に、上記レジストパターン1a、2
a、3a以外に適宜パターンのレジストパターンを形成
することは可能である。
【0023】上記リードフレーム材L0 の表裏面に形成
された前記インナーリード部1に相当する前記レジスト
パターン1aの幅は、従来と同様にインナーリード部1
の先端部分がサイドエッチングなどにより先細りしない
ように、その先端部の幅I1を他の部分の幅I2 に対し
て少し広目に余裕をもって設定する。
【0024】図1(a)に示すように、上記リードフレ
ーム材L0 表面の前記非レジストパターン12は、リー
ドフレーム材L0 の表面に分断部3のレジストパターン
3aをパターン形成することによって形成され、そのパ
ターン12の幅wa がレジストパターン1a先端部の幅
I1 に対してwa =I1 の関係になるように、レジスト
パターン1a先端部に沿って断続的に形成される。
【0025】他方、図1(b)に示すように、上記リー
ドフレーム材L0 表面の前記非レジストパターン12と
相対する裏面に形成される非レジストパターン12は、
表面にパターン形成された前記分断部3のレジストパタ
ーン3aと相対する裏面に分断部3のレジストパターン
3aをパターン形成することによって形成され、その幅
wb が表面の非レジストパターン12の幅wa に対して
wb <wa の関係になるように、レジストパターン1a
先端部に沿って断続的に形成される。
【0026】次に、上記リードフレーム材L0 の表裏両
面にパターン形成されたそれぞれレジストパターン1
a、2a、3aによるレジストパターン11、12、1
3領域以外の非レジストパターン領域と、また、必要に
応じて設ける他のレジストパターンによるレジストパタ
ーン領域以外の非レジストパターン領域を、そのリード
フレーム材L0 の表裏両面より適宜エッチング液(例え
ば塩化第二鉄液)を用いてエッチングする。
【0027】それによって、図2(a)の平面図に示す
ように、リード幅Ia のインナーリード部1と、アイラ
ンド部2と、分断部3などがパターン形成されてリード
フレームLが製造される。図2(b)は、パターンエッ
チング後のインナーリード部1のM−M断面図である。
【0028】上記のように、本発明は、金属薄板状リー
ドフレーム材L0 の表裏両面にフォトレジストを塗布し
てエッチング用レジスト層を設け、該レジスト層をパタ
ーン露光・現像処理してインナーリード部1のレジスト
パターン1a及びアイランド部2のレジストパターン2
a及びその両方の間の分断部3のレジストパターン3a
などのレジストパターンを形成する。
【0029】その後、前記金属薄板状リードフレーム材
L0 の非レジストパターンをその表裏両面よりエッチン
グ液を用いてエッチングしてリードフレームLをパター
ン形成するものである。
【0030】そして、本発明は、少なくとも、インナー
リード部1のパターン形状に相当する形状のレジストパ
ターン1aの長手方向に沿う両外側及びその先端部外側
と、アイランド部2のパターン形状に相当する形状のレ
ジストパターン2aと、分断部3のパターン形状に相当
する形状のレジストパターン3aとの境界部とに、それ
ぞれ非レジストパターン11、12、13が形成され
る。
【0031】そして、表面に形成された前記レジストパ
ターン1a先端部の幅I1 と、その先端部外側の非レジ
ストパターン12の幅wa との関係をI1 =wa 、前記
表面の非レジストパターン12の幅wa と裏面の非レジ
ストパターン12の幅wb との関係をwa >wbに設定
して、裏面の非レジストパターン12の幅wb をできる
限り狭く(縮小)したレジストパターンを形成する。
【0032】なお、本発明においては幅wb は特に限定
されるものではないが、狭すぎるとインナーリード部1
先端部のパターンエッチングが不足気味となるので、先
細りしない程度に良好にパターンエッチングされるよう
に、使用するリードフレーム材L0 の材質や板厚など、
又はエッチング製造するリードフレームLのパターン形
状やパターンサイズ、パターンの細密度など、あるいは
前記表面の非レジストパターン12の幅wa などに対応
して、裏面の非レジストパターン12の幅wbを適宜に
設定することが必要である。
【0033】その後、前記金属薄板状リードフレーム材
L0 の非レジストパターンをその表裏両面よりエッチン
グ液を用いてエッチングしてリードフレームLをパター
ン形成するものである。
【0034】図1(a)〜(b)に示すインナーリード
部1のレジストパターン1a先端部は、三方をそれぞれ
非レジストパターン11、12、11によって囲まれて
いるために、パターンエッチングにおいては、その先端
部以外の他の部分よりもエッチング速度が早く、迅速に
エッチングされる。
【0035】そのため、図1(a)〜(b)に示すよう
に、リードフレーム材L0 の表裏両面において、インナ
ーリード部1のレジストパターン1a先端部を少し広幅
の幅I1 に設定し、その先端部以外をそれより狭幅の幅
I2 に設定してエッチングされたインナーリード部1
は、図2(a)に示すように、その先端部の幅は、他の
部分のレジストパターン1aの幅I2 に近似する幅Ia
にパターンエッチングされ、各インナーリード部1の長
手方向両側は、全体的にほぼ直線形状にパターンエッチ
ングされて、先細りせずにストレートに近い形状にパタ
ーンエッチングされる。
【0036】また、図1(b)に示すように、リードフ
レーム材L0 の裏面において、インナーリード部1のレ
ジストパターン1a先端部に分断部3のレジストパター
ン3aによってパターン形成する非レジストパターン1
2(エッチングされる部分)の幅wb を狭い幅にする
(エッチングされる部分を従来よりも縮小する)ことに
より、インナーリード部1の先端部のエッチング進行を
総体的に遅らせる作用が生じて、そのインナーリード部
1の先端部に、エッチングによる従来のような丸味の発
生や先細りの発生が解消する。
【0037】このようなことから、図2(a)に示すよ
うに、エッチング後のインナーリード部1は、エッチン
グにおいて、その先端部が、従来のような先細りせず
に、また、その幅は、幅Ia (ほぼ幅I2 相当)を保持
してパターンエッチングされるものである。
【0038】
【発明の効果】本発明のリードフレームの製造方法は、
パターンエッチングによってリードフレームLのインナ
ーリード部先端部に先細りが発生したり、角丸形状にエ
ッチングされたりする傾向を解消することができるた
め、ワイヤーボンディングされるインナーリード部先端
部に十分な平坦領域幅を取ることができ、ボンディング
操作が行い易く、ボンディング不良(接続不良)などの
生じない良好なリードフレームを製造できる効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の製造方法におけるリードフレ
ーム材の表面にパターン形成したエッチング用のレジス
トパターン、及び非レジストパターンの要部を説明する
平面図、(a)は本発明の製造方法におけるリードフレ
ーム材の裏面にパターン形成したエッチング用のレジス
トパターン、及び非レジストパターンの要部を説明する
平面図である。
【図2】(a)は本発明の製造方法によりパターンエッ
チング製造されたリードフレームの平面図、(b)はそ
のM−M断面図である。
【図3】(a)は従来の製造方法におけるリードフレー
ム材の表面にパターン形成したエッチング用のレジスト
パターン、及び非レジストパターンの要部を説明する平
面図、(b)は従来の製造方法におけるリードフレーム
材の裏面にパターン形成したエッチング用のレジストパ
ターン、及び非レジストパターンの要部を説明する平面
図である。
【図4】(a)は従来の製造方法によりパターンエッチ
ング製造されたリードフレームの平面図、(b)はその
M−M断面図である。
【符号の説明】
L0 …リードフレーム材 L…パターンエッチング後の
リードフレーム 1…インナーリード部 1a…インナーリード部のレジ
ストパターン 2…アイランド部 2a…アイランド部のレジストパタ
ーン 3…分断部(セパレータ) 3a…分断部のレジストパ
ターン 11、12、13…非レジストパターン I1 …インナーリード部のレジストパターン先端部の幅 I2 …インナーリード部のレジストパターン先端部以外
の他の部分の幅 Ia …パターンエッチング後のインナーリード部の幅 Ia1…インナーリード部先端部の先細り部分の幅 wa …表面の非レジストパターンの幅 wb …裏面の非
レジストパターンの幅
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年2月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】(a)は本発明の製造方法におけるリードフレ
ーム材の表面にパターン形成したエッチング用のレジス
トパターン、及び非レジストパターンの要部を説明する
平面図、(b)は本発明の製造方法におけるリードフレ
ーム材の裏面にパターン形成したエッチング用のレジス
トパターン、及び非レジストパターンの要部を説明する
平面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属薄板状リードフレーム材L0 の表裏両
    面にインナーリード部1相当のレジストパターン1aな
    どレジストパターンを形成した後、その表裏両面よりパ
    ターンエッチングするリードフレームの製造方法におい
    て、少なくとも、表面に形成する前記レジストパターン
    1a先端部の幅I1 とその先端部外側の非レジストパタ
    ーンの幅wa との関係がI1 =wa 、前記表面の非レジ
    ストパターン幅wa と裏面の非レジストパターン幅wb
    との関係がwa >wbとなるようにレジストパターンを
    形成してパターンエッチングすることを特徴とするリー
    ドフレームの製造方法。
JP30106295A 1995-11-20 1995-11-20 リードフレームの製造方法 Pending JPH09148503A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1117092A (ja) * 1997-06-25 1999-01-22 Toppan Printing Co Ltd リードフレームの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1117092A (ja) * 1997-06-25 1999-01-22 Toppan Printing Co Ltd リードフレームの製造方法

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