JPH09171229A - 高コントラスト写真要素 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 効果的な帯電防止保護と、低UVDmin およ
び最少ハレーションが同時に得られる高コントラスト明
室処理性コンタクト露光感紫外線写真要素を提供するこ
とを目的とする。 【解決手段】 (1)支持体;(2)ハロゲン化銀乳剤
層;および(3)導電性層を含んでなる高コントラスト
明室処理性コンタクト露光感紫外線白黒ハロゲン化銀写
真要素であって、前記導電性層が導電性金属含有粒子、
フィルム形成性ポリマーおよび紫外線吸収剤を含み;前
記導電性金属含有粒子および前記紫外線吸収剤の両者
が、帯電防止保護、低UVDmin およびハレーション防
止保護を付与するのに有効な濃度で前記導電性層に存在
することを特徴とする高コントラスト写真要素。
び最少ハレーションが同時に得られる高コントラスト明
室処理性コンタクト露光感紫外線写真要素を提供するこ
とを目的とする。 【解決手段】 (1)支持体;(2)ハロゲン化銀乳剤
層;および(3)導電性層を含んでなる高コントラスト
明室処理性コンタクト露光感紫外線白黒ハロゲン化銀写
真要素であって、前記導電性層が導電性金属含有粒子、
フィルム形成性ポリマーおよび紫外線吸収剤を含み;前
記導電性金属含有粒子および前記紫外線吸収剤の両者
が、帯電防止保護、低UVDmin およびハレーション防
止保護を付与するのに有効な濃度で前記導電性層に存在
することを特徴とする高コントラスト写真要素。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に写真に関
し、特に新規な白黒ハロゲン化銀写真要素に関する。さ
らに詳細には、本発明は、グラフィックアートの分野で
特に有用な、明室で処理することができる高コントラス
トハロゲン化銀写真要素に関する。
し、特に新規な白黒ハロゲン化銀写真要素に関する。さ
らに詳細には、本発明は、グラフィックアートの分野で
特に有用な、明室で処理することができる高コントラス
トハロゲン化銀写真要素に関する。
【0002】
【従来の技術】高コントラスト明室処理性白黒ハロゲン
化銀写真要素はよく知られており、グラフィックアート
用に広く使用されている。用語“明室処理性(room
−light−handleable)”とは、有意の
性能低下をおこすことなく、材料を200ルクスの光レ
ベルに数分間露光できることを表すことを意図してい
る。
化銀写真要素はよく知られており、グラフィックアート
用に広く使用されている。用語“明室処理性(room
−light−handleable)”とは、有意の
性能低下をおこすことなく、材料を200ルクスの光レ
ベルに数分間露光できることを表すことを意図してい
る。
【0003】高コントラスト明室処理性写真要素に利用
するハロゲン化銀乳剤は、低スピード乳剤であり、所望
の低スピードは典型的に小粒子サイズを用いることによ
り、そして写真スピードをコントロールする適当なドー
ピング剤でハロゲン化銀粒子をドーピングすることによ
り達成する。フィルター色素を、写真要素のオーバーコ
ート層に包含せしめて望ましくない光を吸収し、そして
写真スピードを低下させることも通常用いられる技法で
ある。
するハロゲン化銀乳剤は、低スピード乳剤であり、所望
の低スピードは典型的に小粒子サイズを用いることによ
り、そして写真スピードをコントロールする適当なドー
ピング剤でハロゲン化銀粒子をドーピングすることによ
り達成する。フィルター色素を、写真要素のオーバーコ
ート層に包含せしめて望ましくない光を吸収し、そして
写真スピードを低下させることも通常用いられる技法で
ある。
【0004】最も普通には、高コントラスト明室処理性
白黒ハロゲン化銀写真要素は、コンタクト露光技法によ
り露光される感紫外線要素である。これらの写真要素は
高度の寸法安定性、並びに非粘着性表面およびコンタク
ト露光の際の迅速真空引落し(rapid vacuu
m draw−down)を容易にするために適度の粗
さを必要とする。
白黒ハロゲン化銀写真要素は、コンタクト露光技法によ
り露光される感紫外線要素である。これらの写真要素は
高度の寸法安定性、並びに非粘着性表面およびコンタク
ト露光の際の迅速真空引落し(rapid vacuu
m draw−down)を容易にするために適度の粗
さを必要とする。
【0005】フィルム形成性ポリマー中に分散した導電
性金属含有粒子を含む導電性層を、前記の高コントラス
ト明室処理性コンタクト露光感紫外線写真要素に包含せ
しめて、処理後残留性の帯電防止保護を付与することが
有利である。しかしながら、このように金属含有粒子を
用いると、ハレーションの問題、すなわち、望ましくな
い反射光が原因となる画像劣化の問題が発生することが
ある。ハレーションの問題は、導電性層が、有意の屈折
率偏差を有する2つの界面、したがって露光の際に有意
の反射光を形成することが原因で発生すると信じられて
いる。この“ミラー効果”は、ハレーション防止用アン
ダー層を含まない高コントラスト明室処理性コンタクト
露光要素に望ましくないハレーションを引き起こす。所
望レベルの導電性を得るのに必要な量を超えて、導電性
層中の金属含有粒子濃度を高めると、この望ましくない
ハレーションの問題を回避するのに役立つことがある。
このことは、明らかに“過剰の”金属含有粒子がハレー
ション防止剤として作用することに依る。しかしなが
ら、このような高濃度の金属含有粒子は、処理後のUV
Dmin を過剰に高いものとし、次の露光段階での問題
を引き起こす。
性金属含有粒子を含む導電性層を、前記の高コントラス
ト明室処理性コンタクト露光感紫外線写真要素に包含せ
しめて、処理後残留性の帯電防止保護を付与することが
有利である。しかしながら、このように金属含有粒子を
用いると、ハレーションの問題、すなわち、望ましくな
い反射光が原因となる画像劣化の問題が発生することが
ある。ハレーションの問題は、導電性層が、有意の屈折
率偏差を有する2つの界面、したがって露光の際に有意
の反射光を形成することが原因で発生すると信じられて
いる。この“ミラー効果”は、ハレーション防止用アン
ダー層を含まない高コントラスト明室処理性コンタクト
露光要素に望ましくないハレーションを引き起こす。所
望レベルの導電性を得るのに必要な量を超えて、導電性
層中の金属含有粒子濃度を高めると、この望ましくない
ハレーションの問題を回避するのに役立つことがある。
このことは、明らかに“過剰の”金属含有粒子がハレー
ション防止剤として作用することに依る。しかしなが
ら、このような高濃度の金属含有粒子は、処理後のUV
Dmin を過剰に高いものとし、次の露光段階での問題
を引き起こす。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、効果的な帯
電防止保護と、低UV Dmin および最少ハレーション
が組み合わさった、高コントラスト明室処理性コンタク
ト露光感紫外線写真要素を提供することを目的とする。
電防止保護と、低UV Dmin および最少ハレーション
が組み合わさった、高コントラスト明室処理性コンタク
ト露光感紫外線写真要素を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、高コン
トラスト明室処理性コンタクト露光感紫外線白黒ハロゲ
ン化銀写真要素は、支持体、ハロゲン化銀乳剤層および
導電性層からなり、前記導電性層は、フィルム形成性ポ
リマーに分散した導電性金属含有粒子からなり、そして
ハレーション保護を付与するのに十分な量の紫外線吸収
剤を含有する。
トラスト明室処理性コンタクト露光感紫外線白黒ハロゲ
ン化銀写真要素は、支持体、ハロゲン化銀乳剤層および
導電性層からなり、前記導電性層は、フィルム形成性ポ
リマーに分散した導電性金属含有粒子からなり、そして
ハレーション保護を付与するのに十分な量の紫外線吸収
剤を含有する。
【0008】本発明の写真要素では、紫外線吸収剤は、
コンタクト露光の際、導電性層の界面から発生する紫外
線の望ましくない反射を吸収するよう作用する。導電性
層に分散でき、そして有意に紫外線を吸収するものなら
ば、任意の化合物をこの目的のために使用できる。紫外
線吸収剤および導電性金属含有粒子を適度な濃度で用い
ることにより、効果的な帯電防止保護、低UV Dmin
および最少ハレーションが望ましく組み合わされたもの
が、容易に得られる。
コンタクト露光の際、導電性層の界面から発生する紫外
線の望ましくない反射を吸収するよう作用する。導電性
層に分散でき、そして有意に紫外線を吸収するものなら
ば、任意の化合物をこの目的のために使用できる。紫外
線吸収剤および導電性金属含有粒子を適度な濃度で用い
ることにより、効果的な帯電防止保護、低UV Dmin
および最少ハレーションが望ましく組み合わされたもの
が、容易に得られる。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の高コントラスト明室処理
性写真要素は、写真技術分野での使用が知られている任
意のポリマーフィルム支持体を利用できる。有用なポリ
マーフィルム支持体の典型例は、硝酸セルロースおよび
セルロースエステル、例えば、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、ポリスチレン、ポリアミ
ド、塩化ビニルのホモ−およびコ−ポリマー、ポリ(ビ
ニルアセタール)、ポリカーボネート、オレフィンのホ
モ−およびコ−ポリマー、例えば、ポリエチレンおよび
ポリプロピレン並びに二塩基性芳香族カルボン酸と二価
アルコールとのポリエステル、例えば、ポリ(エチレン
テレフタレート)である。
性写真要素は、写真技術分野での使用が知られている任
意のポリマーフィルム支持体を利用できる。有用なポリ
マーフィルム支持体の典型例は、硝酸セルロースおよび
セルロースエステル、例えば、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、ポリスチレン、ポリアミ
ド、塩化ビニルのホモ−およびコ−ポリマー、ポリ(ビ
ニルアセタール)、ポリカーボネート、オレフィンのホ
モ−およびコ−ポリマー、例えば、ポリエチレンおよび
ポリプロピレン並びに二塩基性芳香族カルボン酸と二価
アルコールとのポリエステル、例えば、ポリ(エチレン
テレフタレート)である。
【0010】ポリエステルフィルム、例えば、ポリエチ
レンテレフタレートのフィルムは、多くの利点、例え
ば、優れた強度および寸法安定性を有し、そのため本発
明の支持体として使用するのに特に利点が得られる。本
発明に有利に用いることができるポリエステルフィルム
支持体は、周知であり、かつ広く用いられている材料で
ある。このようなフィルム支持体は、典型的に二価アル
コールを二塩基性飽和脂肪カルボン酸もしくはその誘導
体と縮合させることにより誘導される高分子量ポリエス
テルから製造する。ポリエステルを製造するのに用いる
ための適切な二価アルコールは、当該技術分野において
周知であり、グリコールであって、ヒドロキシ基が末端
炭素原子上にあり、2〜12個の炭素原子を含有するも
の、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコー
ル、デカメチレングリコール、ドデカメチレングリコー
ル、および1,4−シクロヘキサンジメタノールが挙げ
られる。ポリエステルを製造するのに用いることができ
る二塩基性酸は当該技術分野において周知であり、2〜
16個の炭素原子を含有する二塩基性酸が挙げられる。
適切な二塩基性酸の具体例としてはアジピン酸、セバチ
ン酸、イソフタル酸およびテレフタル酸が挙げられる。
前記酸のアルキルエステルもまた十分に使用できる。シ
ートを製造できるポリエステルを製造するのに用いるこ
とができる、他の適切な二価アルコールおよび二塩基性
酸は、J.W.Wellman の米国特許第2,720,503号
(1955年10月11日発行)に記載されている。
レンテレフタレートのフィルムは、多くの利点、例え
ば、優れた強度および寸法安定性を有し、そのため本発
明の支持体として使用するのに特に利点が得られる。本
発明に有利に用いることができるポリエステルフィルム
支持体は、周知であり、かつ広く用いられている材料で
ある。このようなフィルム支持体は、典型的に二価アル
コールを二塩基性飽和脂肪カルボン酸もしくはその誘導
体と縮合させることにより誘導される高分子量ポリエス
テルから製造する。ポリエステルを製造するのに用いる
ための適切な二価アルコールは、当該技術分野において
周知であり、グリコールであって、ヒドロキシ基が末端
炭素原子上にあり、2〜12個の炭素原子を含有するも
の、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコー
ル、デカメチレングリコール、ドデカメチレングリコー
ル、および1,4−シクロヘキサンジメタノールが挙げ
られる。ポリエステルを製造するのに用いることができ
る二塩基性酸は当該技術分野において周知であり、2〜
16個の炭素原子を含有する二塩基性酸が挙げられる。
適切な二塩基性酸の具体例としてはアジピン酸、セバチ
ン酸、イソフタル酸およびテレフタル酸が挙げられる。
前記酸のアルキルエステルもまた十分に使用できる。シ
ートを製造できるポリエステルを製造するのに用いるこ
とができる、他の適切な二価アルコールおよび二塩基性
酸は、J.W.Wellman の米国特許第2,720,503号
(1955年10月11日発行)に記載されている。
【0011】本発明に用いることができる、シート状の
ポリエステル樹脂の特に好ましい例は、ポリ(エチレン
テレフタレート)、ポリ(シクロヘキサン1,4−ジメ
チレンテレフタレート)、およびジメチルテレフタレー
ト0.83mol 、ジメチルイソフタレート0.17mol
および1,4−シクロヘキサンジメタノールを少くとも
1mol 反応させることにより誘導されるポリエステルで
ある。米国特許第2,901,466号は、1,4−シ
クロヘキサンジメタノールから製造するポリエステルお
よびそれらの製造方法を開示している。
ポリエステル樹脂の特に好ましい例は、ポリ(エチレン
テレフタレート)、ポリ(シクロヘキサン1,4−ジメ
チレンテレフタレート)、およびジメチルテレフタレー
ト0.83mol 、ジメチルイソフタレート0.17mol
および1,4−シクロヘキサンジメタノールを少くとも
1mol 反応させることにより誘導されるポリエステルで
ある。米国特許第2,901,466号は、1,4−シ
クロヘキサンジメタノールから製造するポリエステルお
よびそれらの製造方法を開示している。
【0012】本発明を実施するのに用いるポリエステル
シート材料の厚さは限定的ではない。例えば、約0.0
5〜約0.25ミリメートルの厚さのポリエステルシー
トを用いれば、満足できる結果を得ることができる。ポ
リエステル写真フィルム支持体の製造のための典型的な
工程において、ポリエステルはスリットダイを介して溶
融状態で押し出し、非結晶状態まで冷却し、横方向と長
手方向の引張りにより配向し、次いで寸法拘束下にヒー
トセットする。方向配向およびヒートセットに加えて、
ポリエステルフィルムは、それに続くヒート緩和処理に
付して、寸法安定性および表面平滑性をなお一層向上さ
せることもできる。
シート材料の厚さは限定的ではない。例えば、約0.0
5〜約0.25ミリメートルの厚さのポリエステルシー
トを用いれば、満足できる結果を得ることができる。ポ
リエステル写真フィルム支持体の製造のための典型的な
工程において、ポリエステルはスリットダイを介して溶
融状態で押し出し、非結晶状態まで冷却し、横方向と長
手方向の引張りにより配向し、次いで寸法拘束下にヒー
トセットする。方向配向およびヒートセットに加えて、
ポリエステルフィルムは、それに続くヒート緩和処理に
付して、寸法安定性および表面平滑性をなお一層向上さ
せることもできる。
【0013】本発明の写真要素は、使用乳剤のタイプに
依って、特定のコントラスト値(ガンマ(γ)により示
される)を有する高コントラスト材料である。ガンマ
は、当該技術分野において周知のコントラストの目安で
あり、例えば、James のThe Theory of the Photograph
ic Process、第4版、502,MacMillan Publishing C
o., 1977に記載されている。
依って、特定のコントラスト値(ガンマ(γ)により示
される)を有する高コントラスト材料である。ガンマ
は、当該技術分野において周知のコントラストの目安で
あり、例えば、James のThe Theory of the Photograph
ic Process、第4版、502,MacMillan Publishing C
o., 1977に記載されている。
【0014】本発明に使用するのに有用なハロゲン化銀
乳剤は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、臭ヨウ化銀、塩ヨ
ウ化銀および塩臭ヨウ化銀の乳剤である。好ましくは、
乳剤は、ハロゲン化銀粒子が少くとも80モル%の塩化
物である高塩化物乳剤である。最も好ましくは、乳剤は
100%の塩化銀である。本発明に用いられるハロゲン
化銀乳剤は、典型的に、スピードをコントロールするた
めにドーピング剤を包含せしめたハロゲン化銀粒子を用
いる。このようなドーピング剤の使用は写真技術分野に
おいて極めてよく知られている。これらのドーピング剤
は、典型的に、乳剤調製の結晶成長段階で、例えば、ハ
ロゲン化銀の初期沈澱の際および/または物理的熟成の
際添加する。ロジウムは特によく知られたドーピング剤
であり、適切な塩、例えば、三塩化ロジウムを使用する
ことにより粒子中に容易に包含せしめることができる。
他の特に有用なドーピング剤としては、イリジウム、ル
テニウム、レニウム、クロムおよびオスミウムである。
乳剤は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、臭ヨウ化銀、塩ヨ
ウ化銀および塩臭ヨウ化銀の乳剤である。好ましくは、
乳剤は、ハロゲン化銀粒子が少くとも80モル%の塩化
物である高塩化物乳剤である。最も好ましくは、乳剤は
100%の塩化銀である。本発明に用いられるハロゲン
化銀乳剤は、典型的に、スピードをコントロールするた
めにドーピング剤を包含せしめたハロゲン化銀粒子を用
いる。このようなドーピング剤の使用は写真技術分野に
おいて極めてよく知られている。これらのドーピング剤
は、典型的に、乳剤調製の結晶成長段階で、例えば、ハ
ロゲン化銀の初期沈澱の際および/または物理的熟成の
際添加する。ロジウムは特によく知られたドーピング剤
であり、適切な塩、例えば、三塩化ロジウムを使用する
ことにより粒子中に容易に包含せしめることができる。
他の特に有用なドーピング剤としては、イリジウム、ル
テニウム、レニウム、クロムおよびオスミウムである。
【0015】McDugle らの米国特許第4,933,27
2号(1990年6月12日発行)(引用することによ
りその開示を本明細書に包含する)は、ニトロソまたは
チオニトロシル配位リガンドおよび元素の周期律表の第
5〜10族から選ばれる遷移金属を内部に含有する面心
立方結晶格子構造を示す感放射線ハロゲン化銀粒子から
なるハロゲン化銀乳剤を開示している。これらの乳剤
は、本発明の高コントラスト明室処理性写真要素に使用
するのに好ましい。
2号(1990年6月12日発行)(引用することによ
りその開示を本明細書に包含する)は、ニトロソまたは
チオニトロシル配位リガンドおよび元素の周期律表の第
5〜10族から選ばれる遷移金属を内部に含有する面心
立方結晶格子構造を示す感放射線ハロゲン化銀粒子から
なるハロゲン化銀乳剤を開示している。これらの乳剤
は、本発明の高コントラスト明室処理性写真要素に使用
するのに好ましい。
【0016】前記の米国特許第4,933,272号に
よれば、ハロゲン化銀粒子内に含まれるドーピング剤
は、ニトロシルもしくはチオニトロシルリガンドを1個
以上含有する遷移金属配位錯体である。これらのリガン
ドは、式:
よれば、ハロゲン化銀粒子内に含まれるドーピング剤
は、ニトロシルもしくはチオニトロシルリガンドを1個
以上含有する遷移金属配位錯体である。これらのリガン
ドは、式:
【0017】
【化1】
【0018】(前記式中、Xは、ニトロシルリガンドの
場合は酸素であり、チオニトロシルリガンドの場合はイ
オウである)を有する。本発明に用いられる好ましいド
ーピング剤は、式: 〔M(NX)(L)5 〕n (前記式中、Mはルテニウム、レニウム、クロム、オス
ミウムまたはイリジウムの遷移金属であり;Xは酸素ま
たはイオウであり;Lはリガンドであり;そしてnは−
1,−2または−3である)を有する遷移金属配位錯体
である。
場合は酸素であり、チオニトロシルリガンドの場合はイ
オウである)を有する。本発明に用いられる好ましいド
ーピング剤は、式: 〔M(NX)(L)5 〕n (前記式中、Mはルテニウム、レニウム、クロム、オス
ミウムまたはイリジウムの遷移金属であり;Xは酸素ま
たはイオウであり;Lはリガンドであり;そしてnは−
1,−2または−3である)を有する遷移金属配位錯体
である。
【0019】前記の米国特許第4,933,272号と
同様に、元素の周期律表内の周期および族に関する引用
のすべては、米国化学界に採用され、Chemical and Eng
ineering News,1985年2月4日、26頁に刊行され
ている周期律表のフォーマットに基づく。このフォーム
では、周期の前番号はそのまま残されているが、族のロ
ーマ数字番号およびA族とB族の表示(米国とヨーロッ
パでは反対の意味を有する)は、単純に左から右へ1〜
18の族番号に変更している。
同様に、元素の周期律表内の周期および族に関する引用
のすべては、米国化学界に採用され、Chemical and Eng
ineering News,1985年2月4日、26頁に刊行され
ている周期律表のフォーマットに基づく。このフォーム
では、周期の前番号はそのまま残されているが、族のロ
ーマ数字番号およびA族とB族の表示(米国とヨーロッ
パでは反対の意味を有する)は、単純に左から右へ1〜
18の族番号に変更している。
【0020】ドーピング化ハロゲン化銀粒子に加えて、
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤はまたバインダー
またはビヒクルとして作用する親水性コロイドをも含有
する。親水性コロイドの比率は、大幅に変動することが
できるが、典型的にはハロゲン化銀1モル当り約20〜
250gの範囲内である。親水性コロイドが過剰レベル
で存在すると、最高画像濃度が低下し、その結果コント
ラストが低下することがある。したがって、10以上の
γ値については、ビヒクルは、ハロゲン化銀1モル当り
200g未満のレベルで存在することが好ましい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤はまたバインダー
またはビヒクルとして作用する親水性コロイドをも含有
する。親水性コロイドの比率は、大幅に変動することが
できるが、典型的にはハロゲン化銀1モル当り約20〜
250gの範囲内である。親水性コロイドが過剰レベル
で存在すると、最高画像濃度が低下し、その結果コント
ラストが低下することがある。したがって、10以上の
γ値については、ビヒクルは、ハロゲン化銀1モル当り
200g未満のレベルで存在することが好ましい。
【0021】親水性コロイドは好ましくはゼラチンであ
るが、多くの他の適切な親水性コロイドもまた当該技術
分野において知られており、単独でまたはゼラチンと組
み合せて用いることができる。適切な親水性コロイドと
しては、天然物質、例えば、プロテイン、プロテイン誘
導体、セルロース誘導体、例えば、セルロースエステ
ル、ゼラチン、例えば、アルカリ処理ゼラチン(ウシ骨
もしくは獣ゼラチン)または酸処理ゼラチン(ブタ皮ゼ
ラチン)、ゼラチン誘導体、例えば、アセチル化ゼラチ
ン、フタル化ゼラチン等、ポリサッカライド、例えば、
デキストラン、アラビアゴム、ゼイン、カゼイン、ペク
チン、コラーゲン誘導体、コロジオン、寒天、ウコン、
アルブミン等が挙げられる。
るが、多くの他の適切な親水性コロイドもまた当該技術
分野において知られており、単独でまたはゼラチンと組
み合せて用いることができる。適切な親水性コロイドと
しては、天然物質、例えば、プロテイン、プロテイン誘
導体、セルロース誘導体、例えば、セルロースエステ
ル、ゼラチン、例えば、アルカリ処理ゼラチン(ウシ骨
もしくは獣ゼラチン)または酸処理ゼラチン(ブタ皮ゼ
ラチン)、ゼラチン誘導体、例えば、アセチル化ゼラチ
ン、フタル化ゼラチン等、ポリサッカライド、例えば、
デキストラン、アラビアゴム、ゼイン、カゼイン、ペク
チン、コラーゲン誘導体、コロジオン、寒天、ウコン、
アルブミン等が挙げられる。
【0022】親水性コロイドおよびハロゲン化銀粒子に
加えて、本発明に用いる感放射線ハロゲン化銀乳剤層
は、フィルムの寸法安定性を向上させる作用を有するポ
リマーラテックスを含むことができる。この目的のため
にラテックス形で使用可能なポリマーは写真技術分野に
おいて極めてよく知られている。このようなポリマーラ
テックスの要件は、(1)親水性コロイドと相互反応し
て、乳剤層の通常塗布を不可能にすることがないこと、
(2)親水性コロイドの屈折率と類似の光学特性、すな
わち、屈折率を有すること、(3)室温で可塑性である
ようなガラス転移温度を有することである。好ましく
は、ガラス転移点は20℃以下である。
加えて、本発明に用いる感放射線ハロゲン化銀乳剤層
は、フィルムの寸法安定性を向上させる作用を有するポ
リマーラテックスを含むことができる。この目的のため
にラテックス形で使用可能なポリマーは写真技術分野に
おいて極めてよく知られている。このようなポリマーラ
テックスの要件は、(1)親水性コロイドと相互反応し
て、乳剤層の通常塗布を不可能にすることがないこと、
(2)親水性コロイドの屈折率と類似の光学特性、すな
わち、屈折率を有すること、(3)室温で可塑性である
ようなガラス転移温度を有することである。好ましく
は、ガラス転移点は20℃以下である。
【0023】本発明に有用なポリマーラテックスは、水
不溶性ポリマーの水性分散体である。ポリマーラテック
スは、乳剤層に、典型的に親水性コロイドの1重量部当
り約0.2〜約1.5部の範囲内の量、包含せしめる。
本明細書中で言及する合成ポリマーラテックス材料は、
一般に、水溶性ポリマーと比較して、水に比較的不溶性
であるが、小ポリマーミセルのコロイド状懸濁体を形成
するのに十分な水溶性を有するポリマー材料である。典
型的なラテックスポリマー材料は、疎水性ホモポリマー
を形成する少くとも1種のモノマーを液状キャリアー中
で激しく撹拌しながら迅速共重合させることにより製造
できる。ある好ましい実施態様において、水溶性基を含
有するモノマー単位がコポリマー生成物中に約1〜約3
0重量%存在する。この方法および類似方法により製造
したコポリマーによれば、水性懸濁液中で低粘度を有す
るコポリマーの分離状のミセルが得られる。典型的な有
用コポリマーとしては、アクリルエステルおよびスルホ
エステルの共重合体(Dykstra の米国特許第3,41
1,911号、1968年11月19日発行に開示)、
アクリルエステルおよびスルホベタインの共重合体(Dy
kstaおよびWhiteleyの米国特許第3,411,912
号、1968年11月19日発行に記載)、アルキルア
クリレートおよびアクリル酸の共重合体(ReamおよびFo
wlerの米国特許第3,287,289号、1966年1
1月22日に開示)、ビニルアセテート、アルキルアク
リレートおよびアクリル酸の共重合体(Corey の米国特
許第3,296,169号に開示)、並びに共重合体
(Smith の米国特許第3,459,790号、1969
年8月5日発行に開示)が挙げられる。ポリマーラテッ
クス材料は、水可溶化基を含む、高濃度の界面活性剤の
存在下で重合する場合、激しく撹拌しながら疎水性ポリ
マーを迅速重合させることにより製造することもでき
る。これらの界面活性剤は明らかに、ミセル状態で吸収
除去され、界面活性剤の可溶化基により水性液体と十分
に混和性となり、石けんと極めて類似の分散体が得られ
る。一般に、良好なラテックス材料は、Nottorf の米国
特許第3,142,568号(1964年7月28日発
行);Whiteの米国特許第3,193,386号(19
65年7月6日発行);Houck らの米国特許第3,06
2,674号(1962年11月6日);およびHouck
らの米国特許第3,220,844号(1965年11
月30日発行)にも開示されている。
不溶性ポリマーの水性分散体である。ポリマーラテック
スは、乳剤層に、典型的に親水性コロイドの1重量部当
り約0.2〜約1.5部の範囲内の量、包含せしめる。
本明細書中で言及する合成ポリマーラテックス材料は、
一般に、水溶性ポリマーと比較して、水に比較的不溶性
であるが、小ポリマーミセルのコロイド状懸濁体を形成
するのに十分な水溶性を有するポリマー材料である。典
型的なラテックスポリマー材料は、疎水性ホモポリマー
を形成する少くとも1種のモノマーを液状キャリアー中
で激しく撹拌しながら迅速共重合させることにより製造
できる。ある好ましい実施態様において、水溶性基を含
有するモノマー単位がコポリマー生成物中に約1〜約3
0重量%存在する。この方法および類似方法により製造
したコポリマーによれば、水性懸濁液中で低粘度を有す
るコポリマーの分離状のミセルが得られる。典型的な有
用コポリマーとしては、アクリルエステルおよびスルホ
エステルの共重合体(Dykstra の米国特許第3,41
1,911号、1968年11月19日発行に開示)、
アクリルエステルおよびスルホベタインの共重合体(Dy
kstaおよびWhiteleyの米国特許第3,411,912
号、1968年11月19日発行に記載)、アルキルア
クリレートおよびアクリル酸の共重合体(ReamおよびFo
wlerの米国特許第3,287,289号、1966年1
1月22日に開示)、ビニルアセテート、アルキルアク
リレートおよびアクリル酸の共重合体(Corey の米国特
許第3,296,169号に開示)、並びに共重合体
(Smith の米国特許第3,459,790号、1969
年8月5日発行に開示)が挙げられる。ポリマーラテッ
クス材料は、水可溶化基を含む、高濃度の界面活性剤の
存在下で重合する場合、激しく撹拌しながら疎水性ポリ
マーを迅速重合させることにより製造することもでき
る。これらの界面活性剤は明らかに、ミセル状態で吸収
除去され、界面活性剤の可溶化基により水性液体と十分
に混和性となり、石けんと極めて類似の分散体が得られ
る。一般に、良好なラテックス材料は、Nottorf の米国
特許第3,142,568号(1964年7月28日発
行);Whiteの米国特許第3,193,386号(19
65年7月6日発行);Houck らの米国特許第3,06
2,674号(1962年11月6日);およびHouck
らの米国特許第3,220,844号(1965年11
月30日発行)にも開示されている。
【0024】合成ポリマーラテックス材料は、一般に、
写真乳剤に極めて有用であるように、約1.0ミクロン
以下の平均直径のミセルを生成するような方法で重合す
るが、好ましくは分離型ミセルはその平均直径が0.3
ミクロン未満である。一般に、これらのミセルは、ゼラ
チン性乳剤に取り込まれた場合は写真顕微鏡により観察
できるが、しかしながら乳剤を塗布、乾燥すると凝集が
おこることがあることが理解される。
写真乳剤に極めて有用であるように、約1.0ミクロン
以下の平均直径のミセルを生成するような方法で重合す
るが、好ましくは分離型ミセルはその平均直径が0.3
ミクロン未満である。一般に、これらのミセルは、ゼラ
チン性乳剤に取り込まれた場合は写真顕微鏡により観察
できるが、しかしながら乳剤を塗布、乾燥すると凝集が
おこることがあることが理解される。
【0025】一実施態様において、本発明に用いること
ができるラテックスポリマーはアクリル共重合体、すな
わち、特性アクリル基;
ができるラテックスポリマーはアクリル共重合体、すな
わち、特性アクリル基;
【0026】
【化2】
【0027】を含有する重合性アクリルモノマーから製
造する共重合体である。このようなポリマーは、アクリ
ルモノマーを少くとも1種の異なるモノマーと共重合す
ることにより製造し、前記の少くとも1種の異なるモノ
マーは、別のアクリルモノマーまたはある種の他の異な
る重合性エチレン系不飽和モノマーであることができ
る。当然のことであるが、本発明実施に用いるアクリル
共重合体はゼラチンと混和性であり、20℃未満のTg
(ガラス転移温度)を有することが理解される。(Tg
は、示差熱分析により算出でき、このことは "Techniqu
es and Methods of Polymer Evaluation" 、第1巻、Ma
rcel Dekker, Inc., N.Y. 1966年に開示されてい
る)。
造する共重合体である。このようなポリマーは、アクリ
ルモノマーを少くとも1種の異なるモノマーと共重合す
ることにより製造し、前記の少くとも1種の異なるモノ
マーは、別のアクリルモノマーまたはある種の他の異な
る重合性エチレン系不飽和モノマーであることができ
る。当然のことであるが、本発明実施に用いるアクリル
共重合体はゼラチンと混和性であり、20℃未満のTg
(ガラス転移温度)を有することが理解される。(Tg
は、示差熱分析により算出でき、このことは "Techniqu
es and Methods of Polymer Evaluation" 、第1巻、Ma
rcel Dekker, Inc., N.Y. 1966年に開示されてい
る)。
【0028】ハロゲン化銀乳剤層に用いるのに特に好ま
しいポリマーラテックスは、式:
しいポリマーラテックスは、式:
【0029】
【化3】
【0030】の反復単位からなるポリ(メチルアクリレ
ート−コ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸)である。本発明写真要素の感放射線ハロゲン
化銀乳剤層の厚さは、典型的に約1〜約9ミクロン、さ
らに好ましくは約2〜約4ミクロンの範囲である。ハロ
ゲン化銀粒子、親水性コロイドおよびポリマーラテック
スに加えて、本発明写真要素に用いる感放射線層は、核
形成剤として作用する有効量のヒドラジン化合物を含有
することができる。1層またはそれ以上の感放射線層に
包含せしめる代りに、ヒドラジン化合物を、それに隣接
する層に包含せしめることができる。核剤として作用
し、かつハロゲン化銀乳剤層またはその隣接層に包含せ
しめることができる任意のヒドラジン化合物を、本発明
の実施に使用できる。当然のことながら、ヒドラジン化
合物は、ハロゲン化銀乳剤層および写真要素の1層また
はそれ以上の他層の両者に含ませることができる。
ート−コ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸)である。本発明写真要素の感放射線ハロゲン
化銀乳剤層の厚さは、典型的に約1〜約9ミクロン、さ
らに好ましくは約2〜約4ミクロンの範囲である。ハロ
ゲン化銀粒子、親水性コロイドおよびポリマーラテック
スに加えて、本発明写真要素に用いる感放射線層は、核
形成剤として作用する有効量のヒドラジン化合物を含有
することができる。1層またはそれ以上の感放射線層に
包含せしめる代りに、ヒドラジン化合物を、それに隣接
する層に包含せしめることができる。核剤として作用
し、かつハロゲン化銀乳剤層またはその隣接層に包含せ
しめることができる任意のヒドラジン化合物を、本発明
の実施に使用できる。当然のことながら、ヒドラジン化
合物は、ハロゲン化銀乳剤層および写真要素の1層また
はそれ以上の他層の両者に含ませることができる。
【0031】本発明の範囲内の好ましい写真要素として
は、式:
は、式:
【0032】
【化4】
【0033】(前記式中、R1 は、ハメットシグマ値−
誘導電子吸引特性が+0.30未満のフェニル核であ
る)のヒドラジン化合物を含有する要素が挙げられる。
前記式中、R1 は電子供与性(陽電性)または電子吸引
性(陰電性)のいずれかのフェニル核の形をとるが、し
かしながら、高度に電子吸引性のフェニル核は、核剤と
して劣る。特定のフェニル核の電子吸引特性および電子
供与特性は、ハメットシグマ値を参照することにより評
価できる。フェニル核には、フェニル核のフェニル環の
置換基のハメットシグマ値(フェニル基にいくつかの置
換基があればそれらの置換基のハメットシグマ値)を代
数的に合計したハメットシグマ値誘導電子吸引特性を付
与できる。例えば、フェニル核のフェニル環の置換基の
ハメットシグマ値は、各置換基の既知のハメットシグマ
値を文献から決めそしてそれらを代数的に合計すること
により代数的に簡単に決定できる。電子供与性置換基
は、負のシグマ値が与えられる。例えば、好ましい一実
施態様において、R1は非置換のフェニルであることが
できる。フェニル環に結合した水素は各々定義により0
のハメットシグマ値を有する。別の態様では、フェニル
核はハロゲン環置換基を含むことができる。例えば、オ
ルト−またはパラ−クロロまたはフルオロ置換フェニル
基が特に意図される(クロロおよびフルオロ基は各々僅
かに電子吸引性であるが)。
誘導電子吸引特性が+0.30未満のフェニル核であ
る)のヒドラジン化合物を含有する要素が挙げられる。
前記式中、R1 は電子供与性(陽電性)または電子吸引
性(陰電性)のいずれかのフェニル核の形をとるが、し
かしながら、高度に電子吸引性のフェニル核は、核剤と
して劣る。特定のフェニル核の電子吸引特性および電子
供与特性は、ハメットシグマ値を参照することにより評
価できる。フェニル核には、フェニル核のフェニル環の
置換基のハメットシグマ値(フェニル基にいくつかの置
換基があればそれらの置換基のハメットシグマ値)を代
数的に合計したハメットシグマ値誘導電子吸引特性を付
与できる。例えば、フェニル核のフェニル環の置換基の
ハメットシグマ値は、各置換基の既知のハメットシグマ
値を文献から決めそしてそれらを代数的に合計すること
により代数的に簡単に決定できる。電子供与性置換基
は、負のシグマ値が与えられる。例えば、好ましい一実
施態様において、R1は非置換のフェニルであることが
できる。フェニル環に結合した水素は各々定義により0
のハメットシグマ値を有する。別の態様では、フェニル
核はハロゲン環置換基を含むことができる。例えば、オ
ルト−またはパラ−クロロまたはフルオロ置換フェニル
基が特に意図される(クロロおよびフルオロ基は各々僅
かに電子吸引性であるが)。
【0034】好ましいフェニル基置換基は、電子吸引性
でないものである。例えば、これらのフェニル基は、直
鎖もしくは分枝鎖のアルキル基(例えば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、n−ヘキシル、n−オクチル、tert−オクチ
ル、n−デシル、n−ドデシルおよび類縁基)で置換す
ることができる。これらのフェニル基は、そのアルキル
部分が前記のアルキル基の中から選ぶことができるアル
コキシ基で置換することができる。これらのフェニル基
はまた、アシルアミノ基で置換できる。例示的アシルア
ミノ基としてはアセチルアミノ、プロパノイルアミノ、
ブタノイルアミノ、オクタノイルアミノ、ベンゾイルア
ミノおよび類縁基が挙げられる。
でないものである。例えば、これらのフェニル基は、直
鎖もしくは分枝鎖のアルキル基(例えば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、n−ヘキシル、n−オクチル、tert−オクチ
ル、n−デシル、n−ドデシルおよび類縁基)で置換す
ることができる。これらのフェニル基は、そのアルキル
部分が前記のアルキル基の中から選ぶことができるアル
コキシ基で置換することができる。これらのフェニル基
はまた、アシルアミノ基で置換できる。例示的アシルア
ミノ基としてはアセチルアミノ、プロパノイルアミノ、
ブタノイルアミノ、オクタノイルアミノ、ベンゾイルア
ミノおよび類縁基が挙げられる。
【0035】特に好ましい態様において、アルキル基、
アルコキシ基および/またはアシルアミノ基は、さらに
慣用の写真バラスト、例えば、包含カプラーおよび他の
不動性写真乳剤添加物のバラスト部分で置換される。こ
れらのバラスト基は、典型的に少くとも8個の炭素原子
を含み、脂肪族および芳香族の比較的非反応性の基、例
えば、アルキル、アルコキシ、フェニル、アルキルフェ
ニル、フェノキシ、アルキルフェノキシおよび類縁基か
ら選ぶことができる。
アルコキシ基および/またはアシルアミノ基は、さらに
慣用の写真バラスト、例えば、包含カプラーおよび他の
不動性写真乳剤添加物のバラスト部分で置換される。こ
れらのバラスト基は、典型的に少くとも8個の炭素原子
を含み、脂肪族および芳香族の比較的非反応性の基、例
えば、アルキル、アルコキシ、フェニル、アルキルフェ
ニル、フェノキシ、アルキルフェノキシおよび類縁基か
ら選ぶことができる。
【0036】存在するとすればバラスト基を含む、アル
キル基およびアルコキシ基は、好ましくは1〜20個の
炭素原子を含有し、存在するとすればバラスト基を含む
アシルアミノ基は、好ましくは2〜21個の炭素原子を
含有する。一般に、これらの基中に約30個またはそれ
以上の炭素原子が、それらのバラスト化型で意図され
る。メトキシフェニル、トリル(例えば、p−トリルお
よびm−トリル)およびバラスト化ブチルアミドフェニ
ル核が特に好ましい。
キル基およびアルコキシ基は、好ましくは1〜20個の
炭素原子を含有し、存在するとすればバラスト基を含む
アシルアミノ基は、好ましくは2〜21個の炭素原子を
含有する。一般に、これらの基中に約30個またはそれ
以上の炭素原子が、それらのバラスト化型で意図され
る。メトキシフェニル、トリル(例えば、p−トリルお
よびm−トリル)およびバラスト化ブチルアミドフェニ
ル核が特に好ましい。
【0037】特に好ましいヒドラジン化合物の例は以下
のとおりである:1−ホルミル−2−(4−〔2−
(2,4−ジ−tert−ペンチルフェノキシ)−ブチ
ルアミド〕フェニル)ヒドラジン
のとおりである:1−ホルミル−2−(4−〔2−
(2,4−ジ−tert−ペンチルフェノキシ)−ブチ
ルアミド〕フェニル)ヒドラジン
【0038】
【化5】
【0039】
【化6】
【0040】本発明の範囲内の好ましい写真要素として
はまた、ヒドラジンが吸着促進部分を含むものが挙げら
れる。このタイプのヒドラジンは、非置換もしくはモノ
置換の二価ヒドラゾ部分およびアシル部分を含有する。
吸着促進部分は、ハロゲン化銀粒子表面に写真添加物の
吸着を促進することが知られているものの中から選ぶこ
とができる。典型的に、このような部分は、銀と錯体を
形成できるか、またはハロゲン化銀粒子表面に親和性を
示すことができるイオウ原子または窒素原子を含有す
る。好ましい吸着促進部分の例としては、チオ尿素、複
素環式チオアミドおよびチアゾールが挙げられる。吸着
促進部分を含有するヒドラジドの例としては以下が挙げ
られる:1−〔4−(2−ホルミルヒドラジノ)フェニ
ル〕−3−メチルチオ尿素。
はまた、ヒドラジンが吸着促進部分を含むものが挙げら
れる。このタイプのヒドラジンは、非置換もしくはモノ
置換の二価ヒドラゾ部分およびアシル部分を含有する。
吸着促進部分は、ハロゲン化銀粒子表面に写真添加物の
吸着を促進することが知られているものの中から選ぶこ
とができる。典型的に、このような部分は、銀と錯体を
形成できるか、またはハロゲン化銀粒子表面に親和性を
示すことができるイオウ原子または窒素原子を含有す
る。好ましい吸着促進部分の例としては、チオ尿素、複
素環式チオアミドおよびチアゾールが挙げられる。吸着
促進部分を含有するヒドラジドの例としては以下が挙げ
られる:1−〔4−(2−ホルミルヒドラジノ)フェニ
ル〕−3−メチルチオ尿素。
【0041】3−〔4−(2−ホルミルヒドラジノ)フ
ェニル−5−(3−メチル−2−ベンゾオキサゾリニリ
デン)ローダニン−6−(〔4−(2−ホルミルヒドラ
ジノ)フェニル〕ウレイレン)−2−メチルベンゾチア
ゾール。N−(ベンゾトリアゾル−5−イル)−4−
(2−ホルミルヒドラジノ)−フェニルアセトアミド。
ェニル−5−(3−メチル−2−ベンゾオキサゾリニリ
デン)ローダニン−6−(〔4−(2−ホルミルヒドラ
ジノ)フェニル〕ウレイレン)−2−メチルベンゾチア
ゾール。N−(ベンゾトリアゾル−5−イル)−4−
(2−ホルミルヒドラジノ)−フェニルアセトアミド。
【0042】N−(ベンゾトリアゾル−5−イル)−3
−(5−ホルミルヒドラジノ−2−メトキシフェニル)
プロピオンアミドおよびN−2−(5,5−ジメチル−
2−チオミダゾル−4−イリデンイミノ)エチル−3−
〔5−(ホルミルヒドラジノ)−2−メトキシフェニ
ル〕−プロピオンアミド。
−(5−ホルミルヒドラジノ−2−メトキシフェニル)
プロピオンアミドおよびN−2−(5,5−ジメチル−
2−チオミダゾル−4−イリデンイミノ)エチル−3−
〔5−(ホルミルヒドラジノ)−2−メトキシフェニ
ル〕−プロピオンアミド。
【0043】写真要素に添加されるヒドラジン化合物
は、典型的に、銀1モル当り約10-4〜約10-1モルの
濃度、さらに好ましくは銀1モル当り約5×10-4〜約
5×10-2モル、最も好ましくは、銀1モル当り約8×
10-4〜約5×10-3モルの量、使用する。吸着促進部
分を含有するヒドラジンは銀1モル当り約5×10-6モ
ルの低レベルで使用できる。
は、典型的に、銀1モル当り約10-4〜約10-1モルの
濃度、さらに好ましくは銀1モル当り約5×10-4〜約
5×10-2モル、最も好ましくは、銀1モル当り約8×
10-4〜約5×10-3モルの量、使用する。吸着促進部
分を含有するヒドラジンは銀1モル当り約5×10-6モ
ルの低レベルで使用できる。
【0044】本発明要素に用いるためのヒドラジン化合
物の特に好ましいクラスは、Machonkin らの米国特許第
4,912,016号(1990年3月27日発行)に
記載されているヒドラジン化合物である。これらの化合
物は、式:
物の特に好ましいクラスは、Machonkin らの米国特許第
4,912,016号(1990年3月27日発行)に
記載されているヒドラジン化合物である。これらの化合
物は、式:
【0045】
【化7】
【0046】(前記式中、Rはアルキル基またはシクロ
アルキル基である)のアリールヒドラジドである。本発
明要素に用いるのに特に好ましい別のクラスのヒドラジ
ン化合物は、Lookerらの米国特許第5,104,769
号(1992年4月14日発行)に記載されているヒド
ラジン化合物である。
アルキル基である)のアリールヒドラジドである。本発
明要素に用いるのに特に好ましい別のクラスのヒドラジ
ン化合物は、Lookerらの米国特許第5,104,769
号(1992年4月14日発行)に記載されているヒド
ラジン化合物である。
【0047】前記の米国特許第5,104,569号に
記載されているヒドラジン化合物は、以下の構造式の1
つを有する:
記載されているヒドラジン化合物は、以下の構造式の1
つを有する:
【0048】
【化8】
【0049】(前記式中、Rは、炭素数6〜18のアル
キル、または炭素数5もしくは6の複素環式環であっ
て、イオウもしくは酸素の環原子を含むものであり;R
1 は、炭素数1〜12のアルキルまたはアルコキシであ
り;Xは、炭素数1〜約5のアルキル、チオアルキルも
しくはアルコキシ;ハロゲン;または−NHCOR2 ,
−NHSO2 R2 ,−CONR2 R3 もしくは−SO2
R2 R3 であってR2 およびR3 (同一であっても異っ
ていてもよい)は水素もしくは炭素数1〜約4のアルキ
ルであり;nは0.1または2である)。
キル、または炭素数5もしくは6の複素環式環であっ
て、イオウもしくは酸素の環原子を含むものであり;R
1 は、炭素数1〜12のアルキルまたはアルコキシであ
り;Xは、炭素数1〜約5のアルキル、チオアルキルも
しくはアルコキシ;ハロゲン;または−NHCOR2 ,
−NHSO2 R2 ,−CONR2 R3 もしくは−SO2
R2 R3 であってR2 およびR3 (同一であっても異っ
ていてもよい)は水素もしくは炭素数1〜約4のアルキ
ルであり;nは0.1または2である)。
【0050】Rより表されるアルキル基は、直鎖もしく
は分枝鎖であることができ、そして置換もしくは非置換
であってよい。置換基としては、炭素数1〜約4のアル
コキシ、ハロゲン原子(例えば、塩素およびフッ素)、
または−NHCOR2 もしくは−NHSO2 R2 (式
中、R2 は先に定義したとおりである)が挙げられる。
好ましいRアルキル基は、約8〜約16の炭素原子を含
有するが、これはこのサイズのアルキル基は高度の不溶
性をヒドラジド核形成剤に付与し、それにより現像中に
それらが塗布されている層から現像溶液中にこれらの核
形成剤が浸出する傾向を低減するからである。
は分枝鎖であることができ、そして置換もしくは非置換
であってよい。置換基としては、炭素数1〜約4のアル
コキシ、ハロゲン原子(例えば、塩素およびフッ素)、
または−NHCOR2 もしくは−NHSO2 R2 (式
中、R2 は先に定義したとおりである)が挙げられる。
好ましいRアルキル基は、約8〜約16の炭素原子を含
有するが、これはこのサイズのアルキル基は高度の不溶
性をヒドラジド核形成剤に付与し、それにより現像中に
それらが塗布されている層から現像溶液中にこれらの核
形成剤が浸出する傾向を低減するからである。
【0051】Rにより表される複素環式基としてはチエ
ニルおよびフリルが挙げられ、これらの基は炭素数1〜
約4のアルキル基で、またはハロゲン原子、例えば、塩
素で置換することができる。R1 により表されるアルキ
ルまたはアルコキシ基は、直鎖もしくは分枝鎖であるこ
とができ、そして置換もしくは非置換であることができ
る。これらの基の置換基は、炭素数1〜約4のアルコキ
シ、ハロゲン原子(例えば、塩素またはフッ素);また
は−NHCOR2 もしくは−NHSO2 R2 (式中、R
2 は先に定義したとおりである)であることができる。
好ましいアルキル基またはアルコキシ基は、十分な不溶
性をヒドラジド核形成剤に付与して、それらが塗布され
ている層から、現像溶液により浸出する傾向を低減する
ために、1〜5個の炭素原子を含有する。
ニルおよびフリルが挙げられ、これらの基は炭素数1〜
約4のアルキル基で、またはハロゲン原子、例えば、塩
素で置換することができる。R1 により表されるアルキ
ルまたはアルコキシ基は、直鎖もしくは分枝鎖であるこ
とができ、そして置換もしくは非置換であることができ
る。これらの基の置換基は、炭素数1〜約4のアルコキ
シ、ハロゲン原子(例えば、塩素またはフッ素);また
は−NHCOR2 もしくは−NHSO2 R2 (式中、R
2 は先に定義したとおりである)であることができる。
好ましいアルキル基またはアルコキシ基は、十分な不溶
性をヒドラジド核形成剤に付与して、それらが塗布され
ている層から、現像溶液により浸出する傾向を低減する
ために、1〜5個の炭素原子を含有する。
【0052】Xにより表されるアルキル、チオアルキル
およびアルコキシ基は1〜約5の炭素原子を含有し、直
鎖または分枝鎖であることができる。Xがハロゲンであ
る場合は、塩素、フッ素、臭素またはヨウ素であってよ
い。1個より多くのXが存在するならば、そのような置
換基は同一であっても異っていてもよい。ヒドラジン化
合物のさらに別の特に好ましいクラスは、式:
およびアルコキシ基は1〜約5の炭素原子を含有し、直
鎖または分枝鎖であることができる。Xがハロゲンであ
る場合は、塩素、フッ素、臭素またはヨウ素であってよ
い。1個より多くのXが存在するならば、そのような置
換基は同一であっても異っていてもよい。ヒドラジン化
合物のさらに別の特に好ましいクラスは、式:
【0053】
【化9】
【0054】(前記式中、各Rは少くとも3個の反復エ
チレンオキシ単位からなる一価の基であり、nは1〜3
であり、R1 は水素またはブロッキング基である)を有
するエチレンオキシ基を含有するアリールスルホンアミ
ドフェニルヒドラジドである。これらの化合物は、Mach
onkin 等の米国特許第5,041,355号(1991
年8月20日発行)に記載されている。
チレンオキシ単位からなる一価の基であり、nは1〜3
であり、R1 は水素またはブロッキング基である)を有
するエチレンオキシ基を含有するアリールスルホンアミ
ドフェニルヒドラジドである。これらの化合物は、Mach
onkin 等の米国特許第5,041,355号(1991
年8月20日発行)に記載されている。
【0055】ヒドラジン化合物のさらに別の特に好まし
いクラスは、式:
いクラスは、式:
【0056】
【化10】
【0057】(前記式中、Rは少くとも3個の反復エチ
レンオキシ単位からなる一価の基であり、mは1〜6で
あり、Yは二価の芳香族ラジカルであり、R1 は水素ま
たはブロッキング基である)を有するチオおよびエチレ
ンオキシ基の両者を含有するアリールスルホアミドフェ
ニルヒドラジドである。Yにより表される二価の芳香族
ラジカル、例えば、フェニレンラジカルまたはナフタレ
ンラジカルは、非置換であるかもしくは1個以上の置換
基、例えば、アルキル、ハロ、アルコキシ、ハロアルキ
ルもしくはアルコキシアルキルで置換されていてもよ
い。これらの化合物は、Machonkin らの米国特許第4,
988,604号(1991年1月29日発行)に記載
されている。
レンオキシ単位からなる一価の基であり、mは1〜6で
あり、Yは二価の芳香族ラジカルであり、R1 は水素ま
たはブロッキング基である)を有するチオおよびエチレ
ンオキシ基の両者を含有するアリールスルホアミドフェ
ニルヒドラジドである。Yにより表される二価の芳香族
ラジカル、例えば、フェニレンラジカルまたはナフタレ
ンラジカルは、非置換であるかもしくは1個以上の置換
基、例えば、アルキル、ハロ、アルコキシ、ハロアルキ
ルもしくはアルコキシアルキルで置換されていてもよ
い。これらの化合物は、Machonkin らの米国特許第4,
988,604号(1991年1月29日発行)に記載
されている。
【0058】本発明要素に用いるのに好ましい、さらに
別のクラスのヒドラジン化合物は、式、
別のクラスのヒドラジン化合物は、式、
【0059】
【化11】
【0060】(前記式中、各Rはアルキル基、好ましく
は炭素数1〜12のものであり、nは1〜3であり、X
はアニオン、例えば、塩素もしくは臭素であり、mは1
〜6であり、Yは二価の芳香族ラジカルであり、そして
R1 は水素もしくはブロッキング基である)を有するア
ルキルピリジニウム基を含むアリールスルホンアミドフ
ェニルヒドラジドである。Yにより表される二価の芳香
族ラジカル、例えば、フェニルラジカルもしくはナフタ
レンラジカルは、非置換であってもよく、または1個以
上の置換基、例えば、アルキル、ハロ、アルコキシ、ハ
ロアルキルもしくはアルコキシアルキルで置換されてい
てもよい。好ましくは、Rにより表されるアルキル基中
の炭素原子数の合計が少くとも4、さらに好ましくは少
くとも8である。R1 により表されるブロッキング基
は、例えば、
は炭素数1〜12のものであり、nは1〜3であり、X
はアニオン、例えば、塩素もしくは臭素であり、mは1
〜6であり、Yは二価の芳香族ラジカルであり、そして
R1 は水素もしくはブロッキング基である)を有するア
ルキルピリジニウム基を含むアリールスルホンアミドフ
ェニルヒドラジドである。Yにより表される二価の芳香
族ラジカル、例えば、フェニルラジカルもしくはナフタ
レンラジカルは、非置換であってもよく、または1個以
上の置換基、例えば、アルキル、ハロ、アルコキシ、ハ
ロアルキルもしくはアルコキシアルキルで置換されてい
てもよい。好ましくは、Rにより表されるアルキル基中
の炭素原子数の合計が少くとも4、さらに好ましくは少
くとも8である。R1 により表されるブロッキング基
は、例えば、
【0061】
【化12】
【0062】(前記式中、R2 はヒドロキシまたは、炭
素数1〜4のヒドロキシ置換アルキル基であり、そして
R3 は炭素数1〜4のアルキル基である)であることが
できる。これらの化合物は、Lookerらの米国特許第4,
994,365号(1991年2月19日)に記載され
ている。本発明に有用なある種の好ましいヒドラジン化
合物を具体的に述べたが、当該技術分野において知られ
ているすべてのヒドラジン化合物“核剤”を本発明の範
囲内に含めることを意図している。多くのこのような核
剤は、“Developmetn Nucleation By Hydrazine And Hy
drazine Derivatives", Research Disclosure, Item 23
510 、235巻、1983年11月10日および米国特
許第4,166,742号、第4,168,977号、
第4,221,857号、第4,224,401号、第
4,237,214号、第4,241,164号、第
4,243,739号、第4,269,929号、第
4,272,606号、第4,272,614号、第
4,311,781号、第4,332,878号、第
4,358,530号、第4,377,634号、第
4,385,108号、第4,429,036号、第
4,447,522号、第4,540,655号、第
4,560,638号、第4,569,904号、第
4,618,572号、第4,619,886号、第
4,634,661号、第4,650,746号、第
4,681,836号、第4,686,167号、第
4,699,873号、第4,722,884号、第
4,725,532号、第4,737,442号、第
4,740,452号、第4,912,016号、第
4,914,003号、第4,988,604号、第
4,994,365号、第5,041,355号および
第5,104,767号をはじめとする多くの特許に記
載されている。
素数1〜4のヒドロキシ置換アルキル基であり、そして
R3 は炭素数1〜4のアルキル基である)であることが
できる。これらの化合物は、Lookerらの米国特許第4,
994,365号(1991年2月19日)に記載され
ている。本発明に有用なある種の好ましいヒドラジン化
合物を具体的に述べたが、当該技術分野において知られ
ているすべてのヒドラジン化合物“核剤”を本発明の範
囲内に含めることを意図している。多くのこのような核
剤は、“Developmetn Nucleation By Hydrazine And Hy
drazine Derivatives", Research Disclosure, Item 23
510 、235巻、1983年11月10日および米国特
許第4,166,742号、第4,168,977号、
第4,221,857号、第4,224,401号、第
4,237,214号、第4,241,164号、第
4,243,739号、第4,269,929号、第
4,272,606号、第4,272,614号、第
4,311,781号、第4,332,878号、第
4,358,530号、第4,377,634号、第
4,385,108号、第4,429,036号、第
4,447,522号、第4,540,655号、第
4,560,638号、第4,569,904号、第
4,618,572号、第4,619,886号、第
4,634,661号、第4,650,746号、第
4,681,836号、第4,686,167号、第
4,699,873号、第4,722,884号、第
4,725,532号、第4,737,442号、第
4,740,452号、第4,912,016号、第
4,914,003号、第4,988,604号、第
4,994,365号、第5,041,355号および
第5,104,767号をはじめとする多くの特許に記
載されている。
【0063】核形成された明室処理性写真要素について
は、核形成されないものと比較して、ハレーションの問
題が少ない。その理由は、核形成の化学的塗布(spr
ead)により必要とされるドット変化の多くが与えら
れるからである。したがって、必要とされる露光が減少
し、ハレーションの問題が低減する。しかしながら、そ
れにもかかわらず、核形成された要素について本明細書
で述べた方法で紫外線吸収剤を利用することは有利であ
る。
は、核形成されないものと比較して、ハレーションの問
題が少ない。その理由は、核形成の化学的塗布(spr
ead)により必要とされるドット変化の多くが与えら
れるからである。したがって、必要とされる露光が減少
し、ハレーションの問題が低減する。しかしながら、そ
れにもかかわらず、核形成された要素について本明細書
で述べた方法で紫外線吸収剤を利用することは有利であ
る。
【0064】本発明の新規写真要素の銀の総濃度は、典
型的に、平方メートル当り銀約0.5〜約5.5g、さ
らに好ましくは平方メートル当り銀約1.5〜約4.5
g、最も好ましくは平方メートル当り銀約2.5〜約
3.5gの範囲である。本発明に用いるハロゲン化銀粒
子に包含せしめるドーピング剤の量は、必要に応じて広
範囲に変動できる。画像形成層のハロゲン化銀粒子に用
いるためのドーピング剤の適量は、典型的にハロゲン化
銀1モル当り約0.001〜約2ミリモルの範囲であ
る。
型的に、平方メートル当り銀約0.5〜約5.5g、さ
らに好ましくは平方メートル当り銀約1.5〜約4.5
g、最も好ましくは平方メートル当り銀約2.5〜約
3.5gの範囲である。本発明に用いるハロゲン化銀粒
子に包含せしめるドーピング剤の量は、必要に応じて広
範囲に変動できる。画像形成層のハロゲン化銀粒子に用
いるためのドーピング剤の適量は、典型的にハロゲン化
銀1モル当り約0.001〜約2ミリモルの範囲であ
る。
【0065】本発明の重要な特徴は、帯電防止層として
作用する導電性層を写真要素に取り込むことである。導
電性層は、導電性金属含有粒子、フィルム形成性ポリマ
ーおよび紫外線吸収剤からなる。紫外線吸収剤は、ハレ
ーション保護を付与するのに十分な量使用する。従来、
画像形成要素に用いるように提案されている、広範囲の
導電性金属含有粒子を本発明の導電性層に使用できる。
有用な導電性金属含有粒子の例としては、供子体ドーピ
ング化金属酸化物、酸素欠損含有金属酸化物、および導
電性の窒化物、炭化物またはホウ化物が挙げられる。特
に有用な粒子の具体例としては、導電性のTi O2 ,S
nO2 ,V2 O5 ,Al2 O3 ,ZrO2 ,In
2 O3 ,ZnO,ZnSb2 O6 ,InSbO4 ,T1
B2 ,ZrB2 ,NbB2 ,TaB2 ,CrB2 ,Mo
B,WB,LaB6 ,ZrN,TiN,TiC,WC
HfC,HfNおよびZrCが挙げられる。これらの導
電性粒子について記載している特許例としては、米国特
許第4,275,103号、第4,394,441号、
第4,416,963号、第4,418,141号、第
4,431,764号、第4,495,276号、第
4,571,361号、第4,999,276号、第
5,122,445号および第5,368,995号が
挙げられる。
作用する導電性層を写真要素に取り込むことである。導
電性層は、導電性金属含有粒子、フィルム形成性ポリマ
ーおよび紫外線吸収剤からなる。紫外線吸収剤は、ハレ
ーション保護を付与するのに十分な量使用する。従来、
画像形成要素に用いるように提案されている、広範囲の
導電性金属含有粒子を本発明の導電性層に使用できる。
有用な導電性金属含有粒子の例としては、供子体ドーピ
ング化金属酸化物、酸素欠損含有金属酸化物、および導
電性の窒化物、炭化物またはホウ化物が挙げられる。特
に有用な粒子の具体例としては、導電性のTi O2 ,S
nO2 ,V2 O5 ,Al2 O3 ,ZrO2 ,In
2 O3 ,ZnO,ZnSb2 O6 ,InSbO4 ,T1
B2 ,ZrB2 ,NbB2 ,TaB2 ,CrB2 ,Mo
B,WB,LaB6 ,ZrN,TiN,TiC,WC
HfC,HfNおよびZrCが挙げられる。これらの導
電性粒子について記載している特許例としては、米国特
許第4,275,103号、第4,394,441号、
第4,416,963号、第4,418,141号、第
4,431,764号、第4,495,276号、第
4,571,361号、第4,999,276号、第
5,122,445号および第5,368,995号が
挙げられる。
【0066】本発明に用いるための特に好ましい金属酸
化物は、アンチモンドーピング化スズ酸化物、スズドー
ピング化インジウム酸化物、アルミニウムドーピング化
亜鉛酸化物およびニオブドーピング化チタン酸化物であ
る。本発明の特定の実施態様において、導電性金属含有
粒子は、米国特許第5,368,995号に記載されて
いるような導電性金属アンチモネートの粒子である。
化物は、アンチモンドーピング化スズ酸化物、スズドー
ピング化インジウム酸化物、アルミニウムドーピング化
亜鉛酸化物およびニオブドーピング化チタン酸化物であ
る。本発明の特定の実施態様において、導電性金属含有
粒子は、米国特許第5,368,995号に記載されて
いるような導電性金属アンチモネートの粒子である。
【0067】本発明のさらなる特定の実施態様におい
て、導電性金属含有粒子は、米国特許第5,484,6
94号に記載されているように、アンチモンドーピング
レベルが8原子%より高く、X線結晶サイズが100オ
ングストローム未満であり、平均等価円直径が15nm未
満であるがX線結晶サイズ以上である、アンチモンドー
ピング化スズ酸化物の粒子である。
て、導電性金属含有粒子は、米国特許第5,484,6
94号に記載されているように、アンチモンドーピング
レベルが8原子%より高く、X線結晶サイズが100オ
ングストローム未満であり、平均等価円直径が15nm未
満であるがX線結晶サイズ以上である、アンチモンドー
ピング化スズ酸化物の粒子である。
【0068】本発明の写真要素において、導電性金属含
有粒子は、好ましくは1μm未満、さらに好ましくは
0.3μm未満、最も好ましくは0.1μm未満の平均
粒子サイズを有する。導電性金属含有粒子が、105 オ
ーム−cm以下、さらに好ましくは103 オーム−cm未
満、最も好ましくは102 オーム−cm未満の粉末抵抗率
を示すことも有利である。
有粒子は、好ましくは1μm未満、さらに好ましくは
0.3μm未満、最も好ましくは0.1μm未満の平均
粒子サイズを有する。導電性金属含有粒子が、105 オ
ーム−cm以下、さらに好ましくは103 オーム−cm未
満、最も好ましくは102 オーム−cm未満の粉末抵抗率
を示すことも有利である。
【0069】導電性金属含有粒子は、平方メートル当り
約100〜約350mg、さらに好ましくは平方メートル
当り約150〜約300mgの量を導電性層中に包含する
のが好ましい。本発明の導電性層に有用なフィルム形成
性ポリマーとしては、水溶性ポリマー、例えば、ゼラチ
ン、ゼラチン誘導体および無水マレイン酸共重合体;セ
ルロース化合物、例えば、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテー
トブチレート、ジアセチルセルロースまたはトリアセチ
ルセルロース;合成親水性ポリマー、例えば、ポリビニ
ルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリドン、アクリル
酸コポリマー、ポリアクリルアミド、それらの誘導体、
および部分加水分解生成物、ビニルポリマーおよびコポ
リマー、例えば、ポリビニルアセテートおよびポリアク
リレートアシッドエステル;前記ポリマーの誘導体;並
びに他の合成樹脂が挙げられる。他の適切なフィルム形
成性物質としては付加タイプポリマーおよびインターポ
リマーの水性乳剤であって、エチレン系不飽和モノマ
ー、例えば、アクリル酸を含むアクリレート、メタクリ
ル酸を含むメタクリレート、アクリルアミド、およびメ
タクリルアミド、イタコン酸およびその半エステルおよ
びジエステル、置換スチレンを含むスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメタクリロニトリル、ビニルアセテー
ト、ビニルエーテル、ビニルおよびビニリデンのハロゲ
ン化物、オレフィンおよびポリウレタンの水性分散体が
挙げられる。
約100〜約350mg、さらに好ましくは平方メートル
当り約150〜約300mgの量を導電性層中に包含する
のが好ましい。本発明の導電性層に有用なフィルム形成
性ポリマーとしては、水溶性ポリマー、例えば、ゼラチ
ン、ゼラチン誘導体および無水マレイン酸共重合体;セ
ルロース化合物、例えば、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテー
トブチレート、ジアセチルセルロースまたはトリアセチ
ルセルロース;合成親水性ポリマー、例えば、ポリビニ
ルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリドン、アクリル
酸コポリマー、ポリアクリルアミド、それらの誘導体、
および部分加水分解生成物、ビニルポリマーおよびコポ
リマー、例えば、ポリビニルアセテートおよびポリアク
リレートアシッドエステル;前記ポリマーの誘導体;並
びに他の合成樹脂が挙げられる。他の適切なフィルム形
成性物質としては付加タイプポリマーおよびインターポ
リマーの水性乳剤であって、エチレン系不飽和モノマ
ー、例えば、アクリル酸を含むアクリレート、メタクリ
ル酸を含むメタクリレート、アクリルアミド、およびメ
タクリルアミド、イタコン酸およびその半エステルおよ
びジエステル、置換スチレンを含むスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメタクリロニトリル、ビニルアセテー
ト、ビニルエーテル、ビニルおよびビニリデンのハロゲ
ン化物、オレフィンおよびポリウレタンの水性分散体が
挙げられる。
【0070】本発明の導電性層において、導電性金属含
有粒子は、好ましくは1×1012オーム/平方未満、さ
らに好ましくは1×109 オーム/平方未満の抵抗率が
得られるのに十分な容量比で包含される。導電性金属含
有粒子は、好ましくは、導電性層の20〜80容量%、
最も好ましくは50〜80容量%を構成する。画像形成
要素の導電性層には、広範囲の添加物を包含せしめるこ
とが知られている。例えば、米国特許第5,368,9
95号(導電性金属アンチモネートの使用に関する)に
は以下の記述がある:“バインダーおよび溶媒に加え
て、写真技術分野においてよく知られている他の成分も
また導電性層に存在してもよい。これらの追加の成分と
しては以下が挙げられる:界面活性剤および塗布助剤、
増量剤、架橋剤もしくは硬化剤、溶解性および/または
固体状粒子色素、カブリ防止剤、マットビーズ、潤滑剤
等。しかしながら、紫外線吸収剤を、高コントラスト明
室処理性コンタクト露光紫外線感光性白黒写真要素の導
電性層に、導電性金属含有粒子により引き起される、ハ
レーションに対する保護を付与する目的で、包含せしめ
ることは従来知られていなかった。
有粒子は、好ましくは1×1012オーム/平方未満、さ
らに好ましくは1×109 オーム/平方未満の抵抗率が
得られるのに十分な容量比で包含される。導電性金属含
有粒子は、好ましくは、導電性層の20〜80容量%、
最も好ましくは50〜80容量%を構成する。画像形成
要素の導電性層には、広範囲の添加物を包含せしめるこ
とが知られている。例えば、米国特許第5,368,9
95号(導電性金属アンチモネートの使用に関する)に
は以下の記述がある:“バインダーおよび溶媒に加え
て、写真技術分野においてよく知られている他の成分も
また導電性層に存在してもよい。これらの追加の成分と
しては以下が挙げられる:界面活性剤および塗布助剤、
増量剤、架橋剤もしくは硬化剤、溶解性および/または
固体状粒子色素、カブリ防止剤、マットビーズ、潤滑剤
等。しかしながら、紫外線吸収剤を、高コントラスト明
室処理性コンタクト露光紫外線感光性白黒写真要素の導
電性層に、導電性金属含有粒子により引き起される、ハ
レーションに対する保護を付与する目的で、包含せしめ
ることは従来知られていなかった。
【0071】当該技術分野において知られている広範囲
の各種紫外線吸収剤を、ハレーション低減手段として本
発明において用いることができる。したがって、例え
ば、水溶性色素をこの目的のために用いることができ
る。このような色素は、色素拡散を防止するために媒染
剤と共に導電性層中に包含すべきである。本発明の目的
のために有用な水溶性色素としては、米国特許第2,2
74,782号のピラゾロンオキソノール色素、米国特
許第2,956,879号の可溶化ジアリールアゾ色
素、米国特許第3,423,207号および第3,38
4,487号の可溶化シチール(sytyrl)および
ブタジエニル色素、米国特許第2,527,583号の
メロシアニン色素、米国特許第3,486,897号、
第3,652,284号および第3,718,472号
のメロシアニンおよびオキソノール色素、米国特許第
3,976,661号のエナミノヘミオキソノール色
素、米国特許第3,723,154号のシアノメチルス
ルホン−誘導メロシアニン、米国特許第2,739,8
88号、第3,253,921号、第3,250,61
7号および第2,739,971号のチアゾリドン、ベ
ンゾトリアゾールおよびチアゾロチアゾール、米国特許
第3,004,896号のトリアゾール、米国特許第3
4,215,597号および第4,045,229号の
ヘミオキソノールが挙げられる。有用な媒染剤は、米国
特許第3,282,699号、第3,455,693
号、第3,438,779号および第3,795,51
9号に記載されている。
の各種紫外線吸収剤を、ハレーション低減手段として本
発明において用いることができる。したがって、例え
ば、水溶性色素をこの目的のために用いることができ
る。このような色素は、色素拡散を防止するために媒染
剤と共に導電性層中に包含すべきである。本発明の目的
のために有用な水溶性色素としては、米国特許第2,2
74,782号のピラゾロンオキソノール色素、米国特
許第2,956,879号の可溶化ジアリールアゾ色
素、米国特許第3,423,207号および第3,38
4,487号の可溶化シチール(sytyrl)および
ブタジエニル色素、米国特許第2,527,583号の
メロシアニン色素、米国特許第3,486,897号、
第3,652,284号および第3,718,472号
のメロシアニンおよびオキソノール色素、米国特許第
3,976,661号のエナミノヘミオキソノール色
素、米国特許第3,723,154号のシアノメチルス
ルホン−誘導メロシアニン、米国特許第2,739,8
88号、第3,253,921号、第3,250,61
7号および第2,739,971号のチアゾリドン、ベ
ンゾトリアゾールおよびチアゾロチアゾール、米国特許
第3,004,896号のトリアゾール、米国特許第3
4,215,597号および第4,045,229号の
ヘミオキソノールが挙げられる。有用な媒染剤は、米国
特許第3,282,699号、第3,455,693
号、第3,438,779号および第3,795,51
9号に記載されている。
【0072】本発明の好ましい実施態様において、紫外
線吸収剤は米国特許第4,940,654号に記載され
ている固体粒子フィルター色素である。このような色素
の使用は、これらが不動性でありながら、なお処理中に
要素から容易に洗浄できるので好ましい。これらのフィ
ルター色素は、式(I): 〔(D−A)y 〕−Xn (I) (前記式中、Dは発色性光吸収性部分であり、yが0の
場合はカルボキシ置換基を含まない芳香族環であり、A
はカルボキシ置換基を含まない芳香族環であり、Dに直
接もしくは間接的に結合しているものであり、Xは、イ
オン化可能なプロトンを有する、カルボキシ以外の置換
基であり、A上もしくはDの芳香族環部分上に存在し、
50/50(容量ベースで)のエタノールと水の混合物
中で約4〜11のpKaを有する基であり、yは0〜4
であり、nは1〜7である)により表される化合物であ
り、前記化合物は、非イオン化形である場合に約0〜6
のlog 分配係数を有するものである。
線吸収剤は米国特許第4,940,654号に記載され
ている固体粒子フィルター色素である。このような色素
の使用は、これらが不動性でありながら、なお処理中に
要素から容易に洗浄できるので好ましい。これらのフィ
ルター色素は、式(I): 〔(D−A)y 〕−Xn (I) (前記式中、Dは発色性光吸収性部分であり、yが0の
場合はカルボキシ置換基を含まない芳香族環であり、A
はカルボキシ置換基を含まない芳香族環であり、Dに直
接もしくは間接的に結合しているものであり、Xは、イ
オン化可能なプロトンを有する、カルボキシ以外の置換
基であり、A上もしくはDの芳香族環部分上に存在し、
50/50(容量ベースで)のエタノールと水の混合物
中で約4〜11のpKaを有する基であり、yは0〜4
であり、nは1〜7である)により表される化合物であ
り、前記化合物は、非イオン化形である場合に約0〜6
のlog 分配係数を有するものである。
【0073】式(I)のフィルター色素の例としては以
下が挙げられる:
下が挙げられる:
【0074】
【化13】
【0075】導電性層中に包含する紫外線吸収剤の量
は、ハレーションを低減するのに効果的な任意の量であ
ることができる。好ましい量は1平方メートル当り約1
〜約100mg量であり、特に好ましい量は1平方メート
ル当り約4〜約25mgの範囲である。本発明の新規な写
真要素は親水性コロイドおよびマット剤を含有するオー
バーコート層を含むことができる。親水性コロイドは、
乳剤層に有用であると前記されているものの中から選ぶ
ことができる。最も好ましくは、オーバーコート層中の
親水性コロイドはゼラチンである。
は、ハレーションを低減するのに効果的な任意の量であ
ることができる。好ましい量は1平方メートル当り約1
〜約100mg量であり、特に好ましい量は1平方メート
ル当り約4〜約25mgの範囲である。本発明の新規な写
真要素は親水性コロイドおよびマット剤を含有するオー
バーコート層を含むことができる。親水性コロイドは、
乳剤層に有用であると前記されているものの中から選ぶ
ことができる。最も好ましくは、オーバーコート層中の
親水性コロイドはゼラチンである。
【0076】典型的に約1〜約5ミクロンの範囲、好ま
しくは約2〜4ミクロンの範囲の平均粒子サイズを有す
るマット剤の分離固体粒子を、オーバーコート層に用い
ることができる。マット剤は典型的に親水性コロイドの
1重量部当り約0.02〜約1部の量使用する。有機も
しくは無機のマット剤のいずれも使用できる。有機マッ
ト剤の例は、ポリマー、例えば、アクリル酸およびメタ
クリル酸のポリマーエステル、例えば、ポリ(メチルメ
タクリレート)、セルロースエステル、例えば、セルロ
ースアセテートプロピオネート、セルロースエーテル、
エチルセルロース、ポリビニル樹脂、例えば、ポリ(ビ
ニルアセテート)、スチレンのポリマーおよびコポリマ
ー等の粒子(ビーズ形の場合が多い)である。無機マッ
ト剤の例は、ガラス、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸
化マグネシウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、炭
酸カルシウム等である。マット剤およびそれらの使用法
は、米国特許第3,411,907号および第3,75
4,924号にさらに記載されている。
しくは約2〜4ミクロンの範囲の平均粒子サイズを有す
るマット剤の分離固体粒子を、オーバーコート層に用い
ることができる。マット剤は典型的に親水性コロイドの
1重量部当り約0.02〜約1部の量使用する。有機も
しくは無機のマット剤のいずれも使用できる。有機マッ
ト剤の例は、ポリマー、例えば、アクリル酸およびメタ
クリル酸のポリマーエステル、例えば、ポリ(メチルメ
タクリレート)、セルロースエステル、例えば、セルロ
ースアセテートプロピオネート、セルロースエーテル、
エチルセルロース、ポリビニル樹脂、例えば、ポリ(ビ
ニルアセテート)、スチレンのポリマーおよびコポリマ
ー等の粒子(ビーズ形の場合が多い)である。無機マッ
ト剤の例は、ガラス、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸
化マグネシウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、炭
酸カルシウム等である。マット剤およびそれらの使用法
は、米国特許第3,411,907号および第3,75
4,924号にさらに記載されている。
【0077】本発明でマット剤として用いられる粒子
は、本質的に任意の形状であることができる。それらの
サイズは典型的に平均直径で定義する。粒子の平均直径
は同一質量の球状粒子の直径として定義する。球状ビー
ズ状のポリマー粒子は、マット剤として用いるのに好ま
しい。オーバーコート層の厚さは典型的に約0.2〜約
1ミクロン、好ましくは約0.3〜約0.6ミクロンの
範囲、最も好ましくは約0.35〜約0.45ミクロン
の範囲である。
は、本質的に任意の形状であることができる。それらの
サイズは典型的に平均直径で定義する。粒子の平均直径
は同一質量の球状粒子の直径として定義する。球状ビー
ズ状のポリマー粒子は、マット剤として用いるのに好ま
しい。オーバーコート層の厚さは典型的に約0.2〜約
1ミクロン、好ましくは約0.3〜約0.6ミクロンの
範囲、最も好ましくは約0.35〜約0.45ミクロン
の範囲である。
【0078】ヒドラジン化合物を含有する本発明の写真
要素は、コントラスト促進剤(“ブースター”と称され
ることが多い)として機能するアミノ化合物を含有する
タイプの現像溶液で処理することができる。1981年
5月26日発行のNothngleの米国特許第4,269,9
29号に記載されている。このタイプの現像溶液の例
は、KODAK ULTRATEC DEVELOPERである。本発明写真要素
はまたコントラスト促進剤として機能するアミノ化合物
を含有しない従来の現像溶液で処理することもできる。
このタイプの現像溶液の例は、KODAK UNIVERSAL RAPID
ACCESS DEVELOPERである。
要素は、コントラスト促進剤(“ブースター”と称され
ることが多い)として機能するアミノ化合物を含有する
タイプの現像溶液で処理することができる。1981年
5月26日発行のNothngleの米国特許第4,269,9
29号に記載されている。このタイプの現像溶液の例
は、KODAK ULTRATEC DEVELOPERである。本発明写真要素
はまたコントラスト促進剤として機能するアミノ化合物
を含有しない従来の現像溶液で処理することもできる。
このタイプの現像溶液の例は、KODAK UNIVERSAL RAPID
ACCESS DEVELOPERである。
【0079】本発明の写真要素は、場合により“内蔵ブ
ースター”を含有することができる。内蔵ブースターと
して有用なアミノ化合物、すなわち、現像溶液ではなく
写真要素中に包含されたブースターについては、Machon
kin らの米国特許第4,975,354号(1990年
12月4日発行)に記載されている。前記の米国特許第
4,975,354号に記載されている“内蔵ブースタ
ー”として有用なアミノ化合物は、(1)少くとも1個
の第二もしくは第三アミノ基を含み;(2)その構造内
に、少くとも3個の反復エチレンオキシ単位からなる基
を含有し、そして(3)少くとも1、好ましくは少くと
も3、最も好ましくは少くとも4の分配係数を有する、
アミノ化合物である。
ースター”を含有することができる。内蔵ブースターと
して有用なアミノ化合物、すなわち、現像溶液ではなく
写真要素中に包含されたブースターについては、Machon
kin らの米国特許第4,975,354号(1990年
12月4日発行)に記載されている。前記の米国特許第
4,975,354号に記載されている“内蔵ブースタ
ー”として有用なアミノ化合物は、(1)少くとも1個
の第二もしくは第三アミノ基を含み;(2)その構造内
に、少くとも3個の反復エチレンオキシ単位からなる基
を含有し、そして(3)少くとも1、好ましくは少くと
も3、最も好ましくは少くとも4の分配係数を有する、
アミノ化合物である。
【0080】“内蔵ブースター”として本発明に利用さ
れているアミノ化合物の範囲には、モノアミン、ジアミ
ンおよびポリアミンが含まれる。これらのアミンは脂肪
族アミンであってよく、また芳香族もしくは複素環部分
を含むことができる。アミンに存在する脂肪族、芳香族
および複素環式基は、置換されていても非置換であって
もよい。好ましくは、“内蔵ブースター”として本発明
に用いられるアミノ化合物は少くとも20個の炭素原子
を有する化合物である。
れているアミノ化合物の範囲には、モノアミン、ジアミ
ンおよびポリアミンが含まれる。これらのアミンは脂肪
族アミンであってよく、また芳香族もしくは複素環部分
を含むことができる。アミンに存在する脂肪族、芳香族
および複素環式基は、置換されていても非置換であって
もよい。好ましくは、“内蔵ブースター”として本発明
に用いられるアミノ化合物は少くとも20個の炭素原子
を有する化合物である。
【0081】“内蔵ブースター”として用いるための好
ましいアミノ化合物は、少くとも3の分配係数および
式:
ましいアミノ化合物は、少くとも3の分配係数および
式:
【0082】
【化14】
【0083】(前記式中、nは3〜50、さらに好まし
くは10〜50の値の整数であり、R 1 ,R2 ,R3 お
よびR4 は独立して炭素数1〜8のアルキル基であり、
R1 とR2 は一緒になって複素環を完成するのに必要な
原子を表し、R3 とR4 は一緒になって複素環を完成す
るのに必要な原子を表す)により表される構造を有する
ビス−第三アミンである。
くは10〜50の値の整数であり、R 1 ,R2 ,R3 お
よびR4 は独立して炭素数1〜8のアルキル基であり、
R1 とR2 は一緒になって複素環を完成するのに必要な
原子を表し、R3 とR4 は一緒になって複素環を完成す
るのに必要な原子を表す)により表される構造を有する
ビス−第三アミンである。
【0084】“内蔵ブースター”として使用するため
の、別の好ましいアミノ化合物の基は、少くとも3の分
配係数および式:
の、別の好ましいアミノ化合物の基は、少くとも3の分
配係数および式:
【0085】
【化15】
【0086】(前記式中、nは3〜50、さらに好まし
くは10〜50の値の整数であり、各Rは、独立して線
状もしくは分枝状の置換もしくは非置換の、炭素数が少
くとも4のアルキル基である)により表される構造を有
するビス−第二アミンである。好ましくは、少くとも3
個の反復エチレンオキシ単位からなる基は、第三アミノ
窒素原子に直接連結し、最も好ましくは少くとも3個の
反復エチレンオキシ単位からなる基はビス−第三アミノ
化合物の第三アミノ窒素原子を結合する連結基である。
くは10〜50の値の整数であり、各Rは、独立して線
状もしくは分枝状の置換もしくは非置換の、炭素数が少
くとも4のアルキル基である)により表される構造を有
するビス−第二アミンである。好ましくは、少くとも3
個の反復エチレンオキシ単位からなる基は、第三アミノ
窒素原子に直接連結し、最も好ましくは少くとも3個の
反復エチレンオキシ単位からなる基はビス−第三アミノ
化合物の第三アミノ窒素原子を結合する連結基である。
【0087】“内蔵ブースター”として用いられるアミ
ノ化合物は、典型的に銀1モル当り約1〜約25ミリモ
ル、さらに好ましくは銀1モル当り約5〜約15ミリモ
ルの量用いる。“内蔵ブースター”として有用な他のア
ミノ化合物は、Yagiharaらの米国特許第4,914,0
03号(1990年4月3日発行)に記載されている。
この特許に記載されているアミノ化合物は、式:
ノ化合物は、典型的に銀1モル当り約1〜約25ミリモ
ル、さらに好ましくは銀1モル当り約5〜約15ミリモ
ルの量用いる。“内蔵ブースター”として有用な他のア
ミノ化合物は、Yagiharaらの米国特許第4,914,0
03号(1990年4月3日発行)に記載されている。
この特許に記載されているアミノ化合物は、式:
【0088】
【化16】
【0089】(前記式中、R2 およびR3 の各々は置換
もしくは非置換のアルキル基を表すか、または互いに連
結して環を形成してもよく、R4 は置換もしくは非置換
のアルキル、アリールもしくは複素環式基を表し;Aは
二価の結合を表し;Xは−CONR5 −,−O−CON
R5 ,−NR5 CONR5 ,−NR5 COO−,−CO
O−,−OCO−,−CO−,NR5 CO−,−SO2
NR5 −,−NR5 SO 2 −,−SO2 −,−S−また
は−O−基(式中、R5 は水素原子もしくは低級アルキ
ルを表し)を表し、nは0もしくは1を表し、R2 ,R
3 ,R4 およびA中の炭素の総数は20以上である)に
より表される。
もしくは非置換のアルキル基を表すか、または互いに連
結して環を形成してもよく、R4 は置換もしくは非置換
のアルキル、アリールもしくは複素環式基を表し;Aは
二価の結合を表し;Xは−CONR5 −,−O−CON
R5 ,−NR5 CONR5 ,−NR5 COO−,−CO
O−,−OCO−,−CO−,NR5 CO−,−SO2
NR5 −,−NR5 SO 2 −,−SO2 −,−S−また
は−O−基(式中、R5 は水素原子もしくは低級アルキ
ルを表し)を表し、nは0もしくは1を表し、R2 ,R
3 ,R4 およびA中の炭素の総数は20以上である)に
より表される。
【0090】リソグラフィータイプの写真要素として、
本発明の高コントラスト明室処理性要素は、好ましくは
シートフィルムとして利用(露光および処理)される。
これらのフィルムはそのままで、低いカール性(すなわ
ち、ANSI PH 1.29−1971を用いて、2
1℃,15%相対湿度で約40未満のANSIカール単
位であり、このANSIでは、曲率半径を測定するため
に各種の半径の曲線型板上に試料細片のカールを合せ、
そしてカールの程度としての100/R(Rは曲率半径
をインチで表わしたもの)を測定する)および高い寸法
安定性(線状寸法の変化%を21℃、15〜50%相対
湿度範囲にわたる湿度変化%で割ったものとして定義さ
れる、湿度係数が約0.0015未満である)を有す
る。
本発明の高コントラスト明室処理性要素は、好ましくは
シートフィルムとして利用(露光および処理)される。
これらのフィルムはそのままで、低いカール性(すなわ
ち、ANSI PH 1.29−1971を用いて、2
1℃,15%相対湿度で約40未満のANSIカール単
位であり、このANSIでは、曲率半径を測定するため
に各種の半径の曲線型板上に試料細片のカールを合せ、
そしてカールの程度としての100/R(Rは曲率半径
をインチで表わしたもの)を測定する)および高い寸法
安定性(線状寸法の変化%を21℃、15〜50%相対
湿度範囲にわたる湿度変化%で割ったものとして定義さ
れる、湿度係数が約0.0015未満である)を有す
る。
【0091】以下に報告する例において、現像剤濃縮物
は以下のように配合し、水4部に対し濃縮物1部の比で
希釈して、pH10.4の使用強度の現像溶液を調製し
た: メタ重亜硫酸ナトリウム 145g 45%水酸化カリウム 178g ジエチレントリアミン五酢酸・五ナトリウム塩 (40%溶液) 15g 臭化ナトリウム 12g ハイドロキノン 65g 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4− メチル−3−ピラゾリドン 2.9g ベンゾトリアゾール 0.4g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.05g 50%水酸化ナトリウム 46g ホウ酸 6.9g ジエチレングリコール 120g 47%炭酸カリウム 120g 水で1リットルとする 本発明をその実施例によりさらに説明する。実施例1〜8 対照として用いられ、対照1と称せられるハロゲン化銀
写真要素は、その一方の面にハロゲン化銀乳剤層および
保護オーバーコート層を塗布し、その反対の面にバッキ
ング層を塗布したポリ(エチレンテレフタレート)フィ
ルム支持体からなる。このハロゲン化銀乳剤層は、4−
ヒドロキシ−6−メチル−2−メチルメルカプト−1,
3,3a,7−テトラアザインデンを混合し、表面潜像
を形成できるハロゲン化銀粒子を含有するネガティブ作
動性塩化銀乳剤からなる。ハロゲン化銀粒子は、100
%塩化物であり、0.08マイクロメートルの平均粒子
サイズおよび塩化銀1モル当り0.13ミリモルのルテ
ニウム含有量を有する。塩化銀は、1平方メートル当り
銀2.6gの濃度で存在する。ハロゲン化銀乳剤層は、
バインダーとしてゼラチン、および寸法安定性を向上さ
せるためのポリマーラテックス、ポリ(メチルアクリレ
ート−コ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸)を含有する。
は以下のように配合し、水4部に対し濃縮物1部の比で
希釈して、pH10.4の使用強度の現像溶液を調製し
た: メタ重亜硫酸ナトリウム 145g 45%水酸化カリウム 178g ジエチレントリアミン五酢酸・五ナトリウム塩 (40%溶液) 15g 臭化ナトリウム 12g ハイドロキノン 65g 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4− メチル−3−ピラゾリドン 2.9g ベンゾトリアゾール 0.4g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.05g 50%水酸化ナトリウム 46g ホウ酸 6.9g ジエチレングリコール 120g 47%炭酸カリウム 120g 水で1リットルとする 本発明をその実施例によりさらに説明する。実施例1〜8 対照として用いられ、対照1と称せられるハロゲン化銀
写真要素は、その一方の面にハロゲン化銀乳剤層および
保護オーバーコート層を塗布し、その反対の面にバッキ
ング層を塗布したポリ(エチレンテレフタレート)フィ
ルム支持体からなる。このハロゲン化銀乳剤層は、4−
ヒドロキシ−6−メチル−2−メチルメルカプト−1,
3,3a,7−テトラアザインデンを混合し、表面潜像
を形成できるハロゲン化銀粒子を含有するネガティブ作
動性塩化銀乳剤からなる。ハロゲン化銀粒子は、100
%塩化物であり、0.08マイクロメートルの平均粒子
サイズおよび塩化銀1モル当り0.13ミリモルのルテ
ニウム含有量を有する。塩化銀は、1平方メートル当り
銀2.6gの濃度で存在する。ハロゲン化銀乳剤層は、
バインダーとしてゼラチン、および寸法安定性を向上さ
せるためのポリマーラテックス、ポリ(メチルアクリレ
ート−コ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸)を含有する。
【0092】対照要素2〜7もまた対照1と同様の方法
で製造し、かつ評価した。これらの要素は、乳剤層の下
に導電性層を含む点で対照要素1と異なる。導電性層
は、ゼラチンに分散したアンチモンドーピング化酸化ス
ズ粒子からなった。アンチモンドーピング化酸化スズ粒
子は、名称CPM−375の下にKeeling & Walkerから
入手したものであり、アンチモン含有量は7.4原子%
であった。対照要素2〜7の各々に用いられた、1平方
メートル当りのアンチモンドーピング化酸化スズ粒子の
量(mg)を第I表に示す。
で製造し、かつ評価した。これらの要素は、乳剤層の下
に導電性層を含む点で対照要素1と異なる。導電性層
は、ゼラチンに分散したアンチモンドーピング化酸化ス
ズ粒子からなった。アンチモンドーピング化酸化スズ粒
子は、名称CPM−375の下にKeeling & Walkerから
入手したものであり、アンチモン含有量は7.4原子%
であった。対照要素2〜7の各々に用いられた、1平方
メートル当りのアンチモンドーピング化酸化スズ粒子の
量(mg)を第I表に示す。
【0093】本発明範囲内の写真要素は、実施例1〜8
の各々において製造した。これらの要素は、さらに紫外
線吸収剤を導電性層に含有する点で対照要素と異なる。
各場合に、用いられた紫外線吸収剤は、フィルター色素
(2)と称せられる固体粒子フィルター色素であった。
実施例1〜8の各々において用いられた紫外線吸収剤お
よびアンチモンドーピング化酸化スズ粒子の両者の使用
量を第I表に示す。
の各々において製造した。これらの要素は、さらに紫外
線吸収剤を導電性層に含有する点で対照要素と異なる。
各場合に、用いられた紫外線吸収剤は、フィルター色素
(2)と称せられる固体粒子フィルター色素であった。
実施例1〜8の各々において用いられた紫外線吸収剤お
よびアンチモンドーピング化酸化スズ粒子の両者の使用
量を第I表に示す。
【0094】対照要素1〜7および実施例1〜8の要素
の各々を前記の現像溶液を用いて現像した。第I表に示
したUV Dmin 値は、処理要素についてのものであ
る。第I表において示したパラメーターの1つを“ハレ
ーション%ドット”と称する。これは、50%のドット
オリジナルが有意に過露光された場合に得られるドット
%である。測定はX−Rite 361T濃度計を用い
て行った。これらの例では、オリジナルの50%ドット
パターンで55%のドットを生成するために要する露光
量の20倍(もしくは1.3 logE )を用いた。したが
って、導電性粒子を用いなかった対照1は、66.8の
“ハレーション%ドット”値を生じ、これは50%のオ
リジナルが、20倍の追加露光により55%から66.
8%まで成長したことを意味する。ハレーションが全く
なければ、50〜55%(6.5%ドット/logE)の範
囲のドット成長に1.3 logE を掛け合せ、次いで55
%ドットに加算することにより得られる“ハレーション
%ドット”は63.5%ドットとなるであろう。このよ
うに、支持体は屈折率の差に基づいていくらかのハレー
ションに寄与することは明らかである。対照2は、20
0mg/m2 のアンチモンドーピング化酸化スズ含有量
で、“ハレーション%ドット”値は75.5であること
を示している。したがって、アンチモンドーピング化酸
化スズを包含せしめると、最適値63.5%からさらな
る偏りを生じさせる。極めて高いレベルのアンチモンド
ーピング化酸化スズ、例えば、400〜450mg/m2
レベルの対照6および7は、前記の課題を修正する傾向
があり、対照7と対照1は実質的に同じである。しかし
ながら、対照6および7のように高レベルでアンチモン
ドーピング化酸化スズを用いると、コスト高と高UV
Dmin という欠点を生じる。実施例1〜8は、極めて低
い濃度の紫外線吸収剤が、“ハレーション%ドット”を
対照1と同じレベルまで低減し、一方、より多量の紫外
線吸収剤は理論値63.5%に近似する。ハレーション
防止アンダー層を用いると、導電性層に紫外線吸収剤を
包含せしめるより優れるが、これは導電性層の両界面か
らの反射がブロックされるからであろう。しかしなが
ら、コスト増およびハレーション防止アンダー層を包含
せしめることに伴う複雑さは、この利点を超え、導電性
層に紫外線吸収剤を包含せしめることは、コストが低
く、しかもさらなる層を必要とせず、前記課題を極めて
効果的に解決する。
の各々を前記の現像溶液を用いて現像した。第I表に示
したUV Dmin 値は、処理要素についてのものであ
る。第I表において示したパラメーターの1つを“ハレ
ーション%ドット”と称する。これは、50%のドット
オリジナルが有意に過露光された場合に得られるドット
%である。測定はX−Rite 361T濃度計を用い
て行った。これらの例では、オリジナルの50%ドット
パターンで55%のドットを生成するために要する露光
量の20倍(もしくは1.3 logE )を用いた。したが
って、導電性粒子を用いなかった対照1は、66.8の
“ハレーション%ドット”値を生じ、これは50%のオ
リジナルが、20倍の追加露光により55%から66.
8%まで成長したことを意味する。ハレーションが全く
なければ、50〜55%(6.5%ドット/logE)の範
囲のドット成長に1.3 logE を掛け合せ、次いで55
%ドットに加算することにより得られる“ハレーション
%ドット”は63.5%ドットとなるであろう。このよ
うに、支持体は屈折率の差に基づいていくらかのハレー
ションに寄与することは明らかである。対照2は、20
0mg/m2 のアンチモンドーピング化酸化スズ含有量
で、“ハレーション%ドット”値は75.5であること
を示している。したがって、アンチモンドーピング化酸
化スズを包含せしめると、最適値63.5%からさらな
る偏りを生じさせる。極めて高いレベルのアンチモンド
ーピング化酸化スズ、例えば、400〜450mg/m2
レベルの対照6および7は、前記の課題を修正する傾向
があり、対照7と対照1は実質的に同じである。しかし
ながら、対照6および7のように高レベルでアンチモン
ドーピング化酸化スズを用いると、コスト高と高UV
Dmin という欠点を生じる。実施例1〜8は、極めて低
い濃度の紫外線吸収剤が、“ハレーション%ドット”を
対照1と同じレベルまで低減し、一方、より多量の紫外
線吸収剤は理論値63.5%に近似する。ハレーション
防止アンダー層を用いると、導電性層に紫外線吸収剤を
包含せしめるより優れるが、これは導電性層の両界面か
らの反射がブロックされるからであろう。しかしなが
ら、コスト増およびハレーション防止アンダー層を包含
せしめることに伴う複雑さは、この利点を超え、導電性
層に紫外線吸収剤を包含せしめることは、コストが低
く、しかもさらなる層を必要とせず、前記課題を極めて
効果的に解決する。
【0095】
【表1】
【0096】第I表のデータにより示されるように、本
発明は、低UV Dmin 、低抵抗率および低ハレーショ
ンが組み合わさって得られ、これらは対照組成物では達
成されない。このように、例えば、対照試験1では低U
V Dmin および低ハレーションが得られるが抵抗率が
過剰であり、一方、対照試験7では、低抵抗率および低
ハレーションが得られるが、UV Dmin が過大であ
る。これらの実施例は、すべての3種の特性について許
容される、UV Dmin 、抵抗率およびハレーションが
組み合わさって得られることを実証するものである。
発明は、低UV Dmin 、低抵抗率および低ハレーショ
ンが組み合わさって得られ、これらは対照組成物では達
成されない。このように、例えば、対照試験1では低U
V Dmin および低ハレーションが得られるが抵抗率が
過剰であり、一方、対照試験7では、低抵抗率および低
ハレーションが得られるが、UV Dmin が過大であ
る。これらの実施例は、すべての3種の特性について許
容される、UV Dmin 、抵抗率およびハレーションが
組み合わさって得られることを実証するものである。
Claims (1)
- 【請求項1】 (1)支持体; (2)ハロゲン化銀乳剤層;および (3)導電性層 を含んでなる高コントラスト明室処理性コンタクト露光
感紫外線白黒ハロゲン化銀写真要素であって、前記導電
性層が導電性金属含有粒子、フィルム形成性ポリマーお
よび紫外線吸収剤を含み;前記導電性金属含有粒子およ
び前記紫外線吸収剤の両者が、帯電防止保護、低UV
Dmin およびハレーション防止保護を付与するのに有効
な濃度で前記導電性層に存在することを特徴とする高コ
ントラスト写真要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US55721395A | 1995-11-14 | 1995-11-14 | |
| US08/557213 | 1995-11-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09171229A true JPH09171229A (ja) | 1997-06-30 |
Family
ID=24224486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8301835A Pending JPH09171229A (ja) | 1995-11-14 | 1996-11-13 | 高コントラスト写真要素 |
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| Country | Link |
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| EP (1) | EP0774686B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09171229A (ja) |
| DE (1) | DE69603344T2 (ja) |
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| JP3449406B2 (ja) * | 1999-04-07 | 2003-09-22 | Hoyaヘルスケア株式会社 | 新規ピラゾロン化合物およびそれを用いた眼用プラスチックレンズ |
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| WO2009011229A1 (ja) * | 2007-07-19 | 2009-01-22 | Konica Minolta Opto, Inc. | セルロースエステルフィルム、セルロースエステルフィルムの製造方法、それを用いた偏光板保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 |
| US9915757B1 (en) | 2013-06-24 | 2018-03-13 | The Research Foundation For The State University Of New York | Increased thermal stabilization of optical absorbers |
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| BE592181A (ja) | 1955-12-22 | |||
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| US3142568A (en) | 1961-03-13 | 1964-07-28 | Du Pont | Photographic emulsions, elements, and processes |
| US3220844A (en) | 1961-09-19 | 1965-11-30 | Eastman Kodak Co | Photographic products |
| BE625436A (ja) | 1961-11-29 | |||
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| US3296169A (en) | 1963-01-31 | 1967-01-03 | Monsanto Co | Vinyl acetate-methyl methacrylateacrylic acid copolymer latices |
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| US3411912A (en) | 1965-04-21 | 1968-11-19 | Eastman Kodak Co | Novel polymers and their use in photographic applications |
| US3411911A (en) | 1965-05-10 | 1968-11-19 | Eastman Kodak Co | Novel photographic materials containing water insoluble interpolymers |
| US3459790A (en) | 1965-12-20 | 1969-08-05 | Eastman Kodak Co | Polymerizable acrylic acid esters containing active methylene groups |
| GB1579956A (en) | 1976-06-07 | 1980-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic image-forming process |
| GB1560005A (en) | 1976-08-11 | 1980-01-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic emulsions |
| JPS589411B2 (ja) | 1976-10-18 | 1983-02-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 硬調写真感光材料 |
| JPS5952815B2 (ja) | 1976-12-21 | 1984-12-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 硬調な画像を形成する方法 |
| JPS5814664B2 (ja) | 1976-12-30 | 1983-03-22 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
| JPS589412B2 (ja) | 1977-08-30 | 1983-02-21 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像方法 |
| JPS5952817B2 (ja) | 1977-09-06 | 1984-12-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 硬調写真画像を形成する方法 |
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| US4650746A (en) | 1978-09-22 | 1987-03-17 | Eastman Kodak Company | High contrast photographic emulsions and elements and processes for their development |
| JPS6015261B2 (ja) | 1978-10-12 | 1985-04-18 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS5952818B2 (ja) | 1978-12-28 | 1984-12-21 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE3023099A1 (de) | 1979-06-21 | 1981-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur bildung eines negativen punktbildes |
| JPS5650330A (en) | 1979-10-02 | 1981-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive lithographic plate and its plate making method |
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| JPS56143430A (en) * | 1980-04-11 | 1981-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic sensitive material with improved antistatic property |
| JPS56153336A (en) | 1980-04-30 | 1981-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Formation of photographic image |
| JPS6049894B2 (ja) * | 1980-12-23 | 1985-11-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真感光材料 |
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| DE3203661A1 (de) | 1981-02-03 | 1982-09-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren zur bildung eines photographischen bildes |
| DE3203554A1 (de) | 1981-02-03 | 1982-10-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren zur erzeugung eines photographischen bildes |
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| JP2965719B2 (ja) * | 1991-01-29 | 1999-10-18 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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1996
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- 1996-11-13 US US08/748,963 patent/US5667950A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-13 JP JP8301835A patent/JPH09171229A/ja active Pending
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