JPH09281649A - ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 迅速処理においても安定した処理性能が得ら
れ、かつ膜剥がれ及び擦り傷が生じにくく、帯電防止性
能に優れたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法
の提供。 【解決手段】 支持体上に乳剤層を含む親水性コロイド
層を有する感光材料において、該支持体の少なくとも一
方の側に金属酸化物の微粒子を含有する下塗層を有し、
かつ該下塗層及び/又は親水性コロイド層の最下層にカ
ルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基及びそれらの塩
から選ばれる少なくとも1種の酸残基を有するポリマー
を含有し、かつ全親水性コロイド層の乾燥膜厚が3.5
μm以下であることを特徴とする感光材料及び該感光材
料を全処理時間30秒以下で処理することを特徴とする
感光材料の処理方法により達成。
れ、かつ膜剥がれ及び擦り傷が生じにくく、帯電防止性
能に優れたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法
の提供。 【解決手段】 支持体上に乳剤層を含む親水性コロイド
層を有する感光材料において、該支持体の少なくとも一
方の側に金属酸化物の微粒子を含有する下塗層を有し、
かつ該下塗層及び/又は親水性コロイド層の最下層にカ
ルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基及びそれらの塩
から選ばれる少なくとも1種の酸残基を有するポリマー
を含有し、かつ全親水性コロイド層の乾燥膜厚が3.5
μm以下であることを特徴とする感光材料及び該感光材
料を全処理時間30秒以下で処理することを特徴とする
感光材料の処理方法により達成。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料及びその処理方法に関し、詳しくは迅速処理に
おいても安定した処理性能が得られ、かつ膜剥がれ及び
擦り傷が生じにくく、帯電防止性能に優れたハロゲン化
銀写真感光材料及びその処理方法に関する。
感光材料及びその処理方法に関し、詳しくは迅速処理に
おいても安定した処理性能が得られ、かつ膜剥がれ及び
擦り傷が生じにくく、帯電防止性能に優れたハロゲン化
銀写真感光材料及びその処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】医療用X線写真感光材料においては、患
者サービスならびに作業性向上のため現像処理の迅速化
ならびに処理作業全般について迅速性、簡便性が強く求
められている。近年では更なる迅速化の傾向にあり、現
像進行性、乾燥性などの向上が要望されている。
者サービスならびに作業性向上のため現像処理の迅速化
ならびに処理作業全般について迅速性、簡便性が強く求
められている。近年では更なる迅速化の傾向にあり、現
像進行性、乾燥性などの向上が要望されている。
【0003】ハロゲン化銀写真感光材料は、一般に絶縁
性のプラスチックフィルム支持体上に下塗層、ハレーシ
ョン防止層、中間層、ハロゲン化銀乳剤層、保護層、及
び裏塗層などで構成されている。そのために静電気によ
り帯電し易い特性を有している。特に冬期のような低湿
度下でのフィルムの取り扱い時、帯電し、静電障害を生
じる。例えば製造時では、近年ハロゲン化銀写真感光材
料の製造技術の進歩で、塗布、裁断などの速度が高速化
されたために起こる摩擦帯電があり、撮影や処理時では
フィルムの搬送、処理などが著しく高速化されているた
め静電障害を招いている。
性のプラスチックフィルム支持体上に下塗層、ハレーシ
ョン防止層、中間層、ハロゲン化銀乳剤層、保護層、及
び裏塗層などで構成されている。そのために静電気によ
り帯電し易い特性を有している。特に冬期のような低湿
度下でのフィルムの取り扱い時、帯電し、静電障害を生
じる。例えば製造時では、近年ハロゲン化銀写真感光材
料の製造技術の進歩で、塗布、裁断などの速度が高速化
されたために起こる摩擦帯電があり、撮影や処理時では
フィルムの搬送、処理などが著しく高速化されているた
め静電障害を招いている。
【0004】即ち、ハロゲン化銀写真感光材料が帯電す
るとその表面に静電気に基づくゴミなどの異物を付着
し、現像後の画像に致命的な故障を起こし、医療用のフ
ィルムではしばしば誤診につながるおそれがあるばかり
でなく、その放電によりスタチックマークといわれる樹
枝状のカブリを生じ、診断不能に陥ることもある。その
ためハロゲン化銀写真感光材料には帯電防止剤が用いら
れており、例えばポリオキシエチレン系界面活性剤が一
般的に用いられている。しかし、該化合物は迅速処理に
おいて現像ムラの発生原因となる。また、特開昭63−
142350号で開示されている溶解度の高い界面活性
剤を用いる方法では現像処理時、処理液中に溶解し他の
物質と結合して濁り、スラッジ、現像ムラなどを発生す
る欠点を有していた。
るとその表面に静電気に基づくゴミなどの異物を付着
し、現像後の画像に致命的な故障を起こし、医療用のフ
ィルムではしばしば誤診につながるおそれがあるばかり
でなく、その放電によりスタチックマークといわれる樹
枝状のカブリを生じ、診断不能に陥ることもある。その
ためハロゲン化銀写真感光材料には帯電防止剤が用いら
れており、例えばポリオキシエチレン系界面活性剤が一
般的に用いられている。しかし、該化合物は迅速処理に
おいて現像ムラの発生原因となる。また、特開昭63−
142350号で開示されている溶解度の高い界面活性
剤を用いる方法では現像処理時、処理液中に溶解し他の
物質と結合して濁り、スラッジ、現像ムラなどを発生す
る欠点を有していた。
【0005】そこで特公昭30−49894号、同61
−16057号に開示されている金属酸化物を含有せし
めて帯電防止性能を持たせた下塗層を有する支持体を用
いることにより、ポリオキシエチレン系界面活性剤を減
量又は除去してもスタチックマーク防止効果を損なうこ
となく現像ムラを改良できることが報告されている。し
かしながら、金属酸化物を含有した下塗層を用いること
により膜付が劣化し、膜剥がれや擦り傷を生じ、故障に
つながることがあった。
−16057号に開示されている金属酸化物を含有せし
めて帯電防止性能を持たせた下塗層を有する支持体を用
いることにより、ポリオキシエチレン系界面活性剤を減
量又は除去してもスタチックマーク防止効果を損なうこ
となく現像ムラを改良できることが報告されている。し
かしながら、金属酸化物を含有した下塗層を用いること
により膜付が劣化し、膜剥がれや擦り傷を生じ、故障に
つながることがあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、迅速処理においても安定した処
理性能が得られ、かつ膜剥がれ及び擦り傷が生じにく
く、帯電防止性能に優れたハロゲン化銀写真感光材料及
びその処理方法を提供することにある。
して、本発明の課題は、迅速処理においても安定した処
理性能が得られ、かつ膜剥がれ及び擦り傷が生じにく
く、帯電防止性能に優れたハロゲン化銀写真感光材料及
びその処理方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、下
記手段により達成される。
記手段により達成される。
【0008】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を含む
親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料に
おいて、該支持体の少なくとも一方の側に金属酸化物の
粒子を含有する下塗層を有し、かつ該下塗層及び/又は
親水性コロイド層の最下層にカルボキシル基、リン酸
基、スルホン酸基及びそれらの塩から選ばれる少なくと
も1種の酸残基を有するポリマーを含有し、かつ全親水
性コロイド層の乾燥膜厚が3.5μm以下であることを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料に
おいて、該支持体の少なくとも一方の側に金属酸化物の
粒子を含有する下塗層を有し、かつ該下塗層及び/又は
親水性コロイド層の最下層にカルボキシル基、リン酸
基、スルホン酸基及びそれらの塩から選ばれる少なくと
も1種の酸残基を有するポリマーを含有し、かつ全親水
性コロイド層の乾燥膜厚が3.5μm以下であることを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0009】 初期膨潤率が30%以上120%以下
であることを特徴とする上記項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
であることを特徴とする上記項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
【0010】 前記最下層と下塗層とが互いに隣接し
ていることを特徴とする上記又は記載のハロゲン化
銀写真感光材料。
ていることを特徴とする上記又は記載のハロゲン化
銀写真感光材料。
【0011】 前記下塗層及び/又は親水性コロイド
層に下記一般式〔1〕で表される複素環化合物を少なく
とも1種含有することを特徴とする上記、又は記
載のハロゲン化銀写真感光材料。
層に下記一般式〔1〕で表される複素環化合物を少なく
とも1種含有することを特徴とする上記、又は記
載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0012】一般式〔1〕 Z−SM 〔上記一般式〔1〕中、Zは−SO3M1、−COO
R1、−OH及び−NHR2から選ばれる基を少なくとも
1個を直接に又は間接に置換されている複素環基を表
し、M、M1は水素原子、アルカリ金属原子又は四級ア
ンモニウム基を表し、R1は水素原子、アルカリ金属原
子又は炭素数1乃至6のアルキル基、R2は水素原子又
は炭素数1乃至6のアルキル基、−COR3、−COO
R3又は−SO2R3を表し、R3は水素原子、脂肪族基又
は芳香族基を表す。〕 上記項〜項いずれか1項記載のハロゲン化銀写
真感光材料を全処理時間30秒以下で処理することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
R1、−OH及び−NHR2から選ばれる基を少なくとも
1個を直接に又は間接に置換されている複素環基を表
し、M、M1は水素原子、アルカリ金属原子又は四級ア
ンモニウム基を表し、R1は水素原子、アルカリ金属原
子又は炭素数1乃至6のアルキル基、R2は水素原子又
は炭素数1乃至6のアルキル基、−COR3、−COO
R3又は−SO2R3を表し、R3は水素原子、脂肪族基又
は芳香族基を表す。〕 上記項〜項いずれか1項記載のハロゲン化銀写
真感光材料を全処理時間30秒以下で処理することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0013】以下、本発明について具体的に説明する。
【0014】本発明の金属酸化物コロイドとしては、亜
鉛、マグネシウム、ケイ素、カルシウム、アルミニウ
ム、ストロンチウム、バリウム、ジルコニウム、チタ
ン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、スズ、インジ
ウム、モリブデン、バナジウムなどの酸化物コロイドが
好ましく用いられる。特にZnO、TiO2及びSnO2
が好ましい。また異種原子をドープした例としてはZn
Oに対してはAl、In等、TiO2に対してはNb、
Ta等、SnO2に対してはSb、Nb、ハロゲン元素
等が挙げられる。
鉛、マグネシウム、ケイ素、カルシウム、アルミニウ
ム、ストロンチウム、バリウム、ジルコニウム、チタ
ン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、スズ、インジ
ウム、モリブデン、バナジウムなどの酸化物コロイドが
好ましく用いられる。特にZnO、TiO2及びSnO2
が好ましい。また異種原子をドープした例としてはZn
Oに対してはAl、In等、TiO2に対してはNb、
Ta等、SnO2に対してはSb、Nb、ハロゲン元素
等が挙げられる。
【0015】無機コロイド粒子の平均粒径は、好ましく
は0.001〜1μmが分散安定上好ましい。
は0.001〜1μmが分散安定上好ましい。
【0016】本発明に用いる金属酸化物コロイド、特に
酸化第二錫からなるコロイド状SnO2ゾルの製造方法
に関しては、SnO2超微粒子を適当な溶媒に分散して
製造する方法、または溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中
における分解反応から製造する方法など、いずれの方法
でも良い。
酸化第二錫からなるコロイド状SnO2ゾルの製造方法
に関しては、SnO2超微粒子を適当な溶媒に分散して
製造する方法、または溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中
における分解反応から製造する方法など、いずれの方法
でも良い。
【0017】SnO2超微粒子の製造方法に関しては、
特に温度条件が重要で、高温度の熱処理を伴う方法は、
一次粒子の成長や、結晶性が高くなる現象を生じるので
好ましくなく、やむをえず熱処理を行う必要があるとき
には、300℃以下、好ましくは200℃以下、さらに
好ましくは150℃以下で行なうべきである。しかし、
25℃から150℃までの加温は、バインダー中への分
散を考えたときには好適に選ばれる手段である。
特に温度条件が重要で、高温度の熱処理を伴う方法は、
一次粒子の成長や、結晶性が高くなる現象を生じるので
好ましくなく、やむをえず熱処理を行う必要があるとき
には、300℃以下、好ましくは200℃以下、さらに
好ましくは150℃以下で行なうべきである。しかし、
25℃から150℃までの加温は、バインダー中への分
散を考えたときには好適に選ばれる手段である。
【0018】また、最近、粉体製造技術の進歩により、
超微粒子を製造するにあたり、湿式法により製造された
化合物を電気炉中に噴霧する方法や、有機金属化合物の
高温度熱分解法などが開発されているが、かかる方法に
より製造された超微粒子を溶媒中に再分散するには、か
なりの困難を伴い経済的に好ましくなく、また凝集粒子
の発生など感光材料として重大な欠陥を引き起こす可能
性がある。このような理由から金属酸化物だけ単離する
製造プロセスの後、溶媒中へ再分散する方法は、写真用
帯電防止剤として使用する本発明においては採用しな
い。ただし、バインダーとSnO2ゾルの溶媒との相溶
性が悪い時には、溶媒置換の必要が生じるが、そのよう
なときには、SnO2ゾルの溶媒との相溶性または分散
安定性の良好な他の化合物を適量添加し、SnO2ゾル
からSnO2超微粒子と適量添加された化合物とを30
0℃以下、好ましくは200℃以下、さらに好ましくは
150℃以下の加温により乾燥分離後、他の溶媒中へ再
分散する。
超微粒子を製造するにあたり、湿式法により製造された
化合物を電気炉中に噴霧する方法や、有機金属化合物の
高温度熱分解法などが開発されているが、かかる方法に
より製造された超微粒子を溶媒中に再分散するには、か
なりの困難を伴い経済的に好ましくなく、また凝集粒子
の発生など感光材料として重大な欠陥を引き起こす可能
性がある。このような理由から金属酸化物だけ単離する
製造プロセスの後、溶媒中へ再分散する方法は、写真用
帯電防止剤として使用する本発明においては採用しな
い。ただし、バインダーとSnO2ゾルの溶媒との相溶
性が悪い時には、溶媒置換の必要が生じるが、そのよう
なときには、SnO2ゾルの溶媒との相溶性または分散
安定性の良好な他の化合物を適量添加し、SnO2ゾル
からSnO2超微粒子と適量添加された化合物とを30
0℃以下、好ましくは200℃以下、さらに好ましくは
150℃以下の加温により乾燥分離後、他の溶媒中へ再
分散する。
【0019】溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中における
分解反応から製造する方法に関して以下に述べる。溶媒
に可溶なSn化合物とは、K2SnO3・3H2Oのよう
なオキソ陰イオンを含む化合物、SnCl4のような水
溶性ハロゲン化物、R′2SnR2、R3SnX、R2Sn
X2の構造を有する化合物で(ここで、R2,R3及び
R′2はアルキル基を表し、Xはハロゲンを表す)、例
えば(CH3)3SnCl・(ピリジン)、(C4H9)2
Sn(O2CC2H5)2など有機金属化合物、Sn(SO
4)2・2H2Oなどのオキソ塩を挙げる事ができる。こ
れらの溶媒に可溶なSn化合物を用いてSnO2ゾルを
製造する方法としては、溶媒に溶解後、加熱、加圧など
の物理的方法、酸化、還元、加水分解などの化学的方
法、または中間体を経由後、SnO2ゾルを製造する方
法などがある。例として特公昭35−6616に記載さ
れたSnO2ゾルの製造方法を述べると、SnCl4を1
00倍容量の蒸留水に溶解して、中間体として水酸化第
二錫の沈澱を作る。この水酸化第二錫にアンモニア水を
加え微アルカリ性となし溶解する。ついでアンモニア臭
の無くなるまで加温するとコロイド状SnO2ゾルが得
られる。なお、この例では、溶媒として水を用いたが、
メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアル
コール溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル溶媒、ヘキサン、ヘプタンな
どの脂肪族有機溶媒、ベンゼン、ピリジンなどの芳香族
有機溶媒などSn化合物に応じて様々な溶媒を用いる事
が可能であり、本発明は、溶媒に関して特に制限はな
い。好ましくは、水、アルコール類の溶媒が選ばれる。
分解反応から製造する方法に関して以下に述べる。溶媒
に可溶なSn化合物とは、K2SnO3・3H2Oのよう
なオキソ陰イオンを含む化合物、SnCl4のような水
溶性ハロゲン化物、R′2SnR2、R3SnX、R2Sn
X2の構造を有する化合物で(ここで、R2,R3及び
R′2はアルキル基を表し、Xはハロゲンを表す)、例
えば(CH3)3SnCl・(ピリジン)、(C4H9)2
Sn(O2CC2H5)2など有機金属化合物、Sn(SO
4)2・2H2Oなどのオキソ塩を挙げる事ができる。こ
れらの溶媒に可溶なSn化合物を用いてSnO2ゾルを
製造する方法としては、溶媒に溶解後、加熱、加圧など
の物理的方法、酸化、還元、加水分解などの化学的方
法、または中間体を経由後、SnO2ゾルを製造する方
法などがある。例として特公昭35−6616に記載さ
れたSnO2ゾルの製造方法を述べると、SnCl4を1
00倍容量の蒸留水に溶解して、中間体として水酸化第
二錫の沈澱を作る。この水酸化第二錫にアンモニア水を
加え微アルカリ性となし溶解する。ついでアンモニア臭
の無くなるまで加温するとコロイド状SnO2ゾルが得
られる。なお、この例では、溶媒として水を用いたが、
メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアル
コール溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル溶媒、ヘキサン、ヘプタンな
どの脂肪族有機溶媒、ベンゼン、ピリジンなどの芳香族
有機溶媒などSn化合物に応じて様々な溶媒を用いる事
が可能であり、本発明は、溶媒に関して特に制限はな
い。好ましくは、水、アルコール類の溶媒が選ばれる。
【0020】溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中における
分解反応から製造する方法においてはプロセスの途中で
溶媒に可溶なSn以外の元素を含む化合物の添加も可能
である。例えば溶媒に可溶な弗素含有化合物の添加や、
溶媒に可溶な3価または5価の配位数をとりうる金属の
化合物の添加である。
分解反応から製造する方法においてはプロセスの途中で
溶媒に可溶なSn以外の元素を含む化合物の添加も可能
である。例えば溶媒に可溶な弗素含有化合物の添加や、
溶媒に可溶な3価または5価の配位数をとりうる金属の
化合物の添加である。
【0021】溶媒に可溶な弗素含有化合物とは、イオン
性弗化物または共有性弗化物のいずれでも良い。例え
ば、HF、もしくはKHF2、SbF3、MoF6などの
金属弗化物、NH4MnF3、NH4BiF4などのフルオ
ロ錯陰イオンを生成する化合物、BrF3、SF4、SF
6などの無機分子性弗化物、CF3I、CF3COOH、
P(CF3)3などの有機弗素化合物をあげることができ
るが、溶媒が水の場合には、CaF2と硫酸との組み合
わせのように、弗素含有化合物と不揮発性酸との組み合
わせも用いる事ができる。
性弗化物または共有性弗化物のいずれでも良い。例え
ば、HF、もしくはKHF2、SbF3、MoF6などの
金属弗化物、NH4MnF3、NH4BiF4などのフルオ
ロ錯陰イオンを生成する化合物、BrF3、SF4、SF
6などの無機分子性弗化物、CF3I、CF3COOH、
P(CF3)3などの有機弗素化合物をあげることができ
るが、溶媒が水の場合には、CaF2と硫酸との組み合
わせのように、弗素含有化合物と不揮発性酸との組み合
わせも用いる事ができる。
【0022】溶媒に可溶な3価もしくは5価の配位数を
とりうる金属の化合物とは、Al、Ga、In、Tlな
どの3B族元素もしくはP、As、Sb、BiなどのV
族元素、3価もしくは5価の配位数をとりうるNb、
V、Ti、Cr、Mo、Fe、Co、Niなどの遷移金
属を含む化合物群である。
とりうる金属の化合物とは、Al、Ga、In、Tlな
どの3B族元素もしくはP、As、Sb、BiなどのV
族元素、3価もしくは5価の配位数をとりうるNb、
V、Ti、Cr、Mo、Fe、Co、Niなどの遷移金
属を含む化合物群である。
【0023】本発明に用いられる導電層のバインダーと
しては、ゼラチン、誘導体ゼラチン、コロイド状アルブ
ミン、カゼイン等のタンパク質;カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ジアセチルセル
ロース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合
物;寒天、アルギン酸ソーダ、デンプン誘導体等の糖誘
導体;合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコー
ル、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重
合体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体及び加水
分解物、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ
アクリル酸エステル等のビニル重合体及びその共重合
体、ロジン、シェラック等の天然物及びその誘導体、そ
の他多くの合成用樹脂が用いられる。又、スチレンブタ
ジエン共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エス
テル及びその誘導体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、ポリオレフィン、オレフィ
ン−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョンも使用するこ
とができる。
しては、ゼラチン、誘導体ゼラチン、コロイド状アルブ
ミン、カゼイン等のタンパク質;カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ジアセチルセル
ロース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合
物;寒天、アルギン酸ソーダ、デンプン誘導体等の糖誘
導体;合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコー
ル、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重
合体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体及び加水
分解物、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ
アクリル酸エステル等のビニル重合体及びその共重合
体、ロジン、シェラック等の天然物及びその誘導体、そ
の他多くの合成用樹脂が用いられる。又、スチレンブタ
ジエン共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エス
テル及びその誘導体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、ポリオレフィン、オレフィ
ン−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョンも使用するこ
とができる。
【0024】その他、カーボネート系、ポリエステル
系、ウレタン系、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン及びポリピロールのごとき有機半導体
を使用することができる。これらのバインダーは2種以
上を混合して使用することができる。
系、ウレタン系、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン及びポリピロールのごとき有機半導体
を使用することができる。これらのバインダーは2種以
上を混合して使用することができる。
【0025】製造時の取り扱い容易性や製品性能の観点
からこれらのバインダーの中でも特にポリアクリル酸共
重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、
ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンが好まし
い。
からこれらのバインダーの中でも特にポリアクリル酸共
重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、
ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンが好まし
い。
【0026】本発明における導電層の抵抗は、導電層の
導電性粒子の体積含有率を調節することにより及び/又
は導電層の厚みを調節することにより10〜1010Ω・
cmの範囲に容易に調節することができる。しかしなが
ら、導電層としての強度を十分持たせるためにはバイン
ダーの量は5重量%を下回らないことが好ましい。導電
性微粒子の割合は、体積含有率で10〜70%、より好
ましくは15〜50重量%であり、その使用量は0.0
5〜5.0g/m2、好ましくは0.1〜2.0g/m2
である。
導電性粒子の体積含有率を調節することにより及び/又
は導電層の厚みを調節することにより10〜1010Ω・
cmの範囲に容易に調節することができる。しかしなが
ら、導電層としての強度を十分持たせるためにはバイン
ダーの量は5重量%を下回らないことが好ましい。導電
性微粒子の割合は、体積含有率で10〜70%、より好
ましくは15〜50重量%であり、その使用量は0.0
5〜5.0g/m2、好ましくは0.1〜2.0g/m2
である。
【0027】導電層の塗布に際しては、溶剤を適宜選択
して上記の組成物の分散物を調製する。溶剤の選択は当
業者であれば容易に行うことができる。塗布方法には特
に制限はなく、公知の方法を用いことができる。又、塗
布に際してはサポニン、ドデシルベンゼンスルホン酸等
の公知の塗布助剤や硬膜剤、着色剤、紫外線吸収剤、熱
線カット剤等を適宜必要に応じて塗布液に用いることが
できる。又、支持体と導電層の間の接着性を上げるため
に、両者の間に下引層を設けてもよい。
して上記の組成物の分散物を調製する。溶剤の選択は当
業者であれば容易に行うことができる。塗布方法には特
に制限はなく、公知の方法を用いことができる。又、塗
布に際してはサポニン、ドデシルベンゼンスルホン酸等
の公知の塗布助剤や硬膜剤、着色剤、紫外線吸収剤、熱
線カット剤等を適宜必要に応じて塗布液に用いることが
できる。又、支持体と導電層の間の接着性を上げるため
に、両者の間に下引層を設けてもよい。
【0028】以下に本発明に供される酸ポリマーについ
て具体的に説明する。
て具体的に説明する。
【0029】酸ポリマーの構造は、基本的には、カルボ
キシル基、リン酸残基、スルホン酸残基の少なくとも1
種を有するポリマーであれば、その基本骨格はいかなる
ものでも本発明に供される。最も単純な構造としては、
ビニル系のカルボキシル基、リン酸残基、スルホン酸残
基を有する酸残基含有モノマーを重合して得られるよう
なホモポリマーである。具体的には、アクリル酸、メタ
クリル酸、α−クロロアクリル酸、アクリルアミド酢
酸、3−アクリルアミドプロピオン酸、4−アクリルア
ミド酪酸、アクリルアミド酢酸、メタクリルアミド酢
酸、3−メタクリルアミドプロピオン酸、イタコン酸、
クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸(AMPS)、p−スチレンスルホン酸、3
−アクリルアミドプロパンスルホン酸、3−アクリロイ
ルオキシプロパンスルホン酸、ビニルスルホン酸、およ
びこれらの塩構造のものの重合体や、以下に示すモノマ
ーの重合体が挙げられる。
キシル基、リン酸残基、スルホン酸残基の少なくとも1
種を有するポリマーであれば、その基本骨格はいかなる
ものでも本発明に供される。最も単純な構造としては、
ビニル系のカルボキシル基、リン酸残基、スルホン酸残
基を有する酸残基含有モノマーを重合して得られるよう
なホモポリマーである。具体的には、アクリル酸、メタ
クリル酸、α−クロロアクリル酸、アクリルアミド酢
酸、3−アクリルアミドプロピオン酸、4−アクリルア
ミド酪酸、アクリルアミド酢酸、メタクリルアミド酢
酸、3−メタクリルアミドプロピオン酸、イタコン酸、
クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸(AMPS)、p−スチレンスルホン酸、3
−アクリルアミドプロパンスルホン酸、3−アクリロイ
ルオキシプロパンスルホン酸、ビニルスルホン酸、およ
びこれらの塩構造のものの重合体や、以下に示すモノマ
ーの重合体が挙げられる。
【0030】
【化1】
【0031】また、他の酸残基を有しないモノマーと、
上記酸残基含有モノマーを共重合して得られたものも、
酸残基含有モノマー単位が15モル%以上であれば、本
発明に供される。さらに好ましくは30モル%以上であ
り、特に好ましくは50モル%以上である。
上記酸残基含有モノマーを共重合して得られたものも、
酸残基含有モノマー単位が15モル%以上であれば、本
発明に供される。さらに好ましくは30モル%以上であ
り、特に好ましくは50モル%以上である。
【0032】その他の単量体としては、アクリル酸エス
テル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニ
ルエステル類、ビニルケトン類、アリル化合物、オレフ
ィン類、ビニルエーテル類、N−ビニルエーテル類、N
−ビニルアミド類、ビニル異節環化合物、マイレン酸エ
ステル、イタコン酸エステル、フマル酸エステル、クロ
トン酸エステル等が挙げられる。
テル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニ
ルエステル類、ビニルケトン類、アリル化合物、オレフ
ィン類、ビニルエーテル類、N−ビニルエーテル類、N
−ビニルアミド類、ビニル異節環化合物、マイレン酸エ
ステル、イタコン酸エステル、フマル酸エステル、クロ
トン酸エステル等が挙げられる。
【0033】以下にその具体例を示す。即ち、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリ
レート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアク
リレート、オクチルアクリレート、ジエチレングリコー
ルモノアクリレート、トリメチルロールエタンモノアク
リレート、3−メトキシブチルアクリレート、ω−メト
キシポリエチレングリコールアクリレート(付加モル数
n=9)、1−ブロモ−2−メトキシエチルアクリレー
ト、p−クロルフェニルアクリレート、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチル
アクリルアミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N
−tert−ブチルアクリルアミド、ヘキシルアクリル
アミド、オクチルアクリルアミド、メチルビニルエーテ
ル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、
ブチルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテ
ル、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニル
ピリジン、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−
ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドン、エチレ
ン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘプテン、1−オク
テン、イタコン酸ジオクチル、マイレン酸ジヘキシル、
スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、ベンジ
クスチレン、クロルメチルスチレン、クロルスチレン、
ビニル安息香酸メチル、ビニルクロルベンゾエート、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニルなど
があげられる。
クリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリ
レート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアク
リレート、オクチルアクリレート、ジエチレングリコー
ルモノアクリレート、トリメチルロールエタンモノアク
リレート、3−メトキシブチルアクリレート、ω−メト
キシポリエチレングリコールアクリレート(付加モル数
n=9)、1−ブロモ−2−メトキシエチルアクリレー
ト、p−クロルフェニルアクリレート、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチル
アクリルアミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N
−tert−ブチルアクリルアミド、ヘキシルアクリル
アミド、オクチルアクリルアミド、メチルビニルエーテ
ル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、
ブチルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテ
ル、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニル
ピリジン、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−
ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドン、エチレ
ン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘプテン、1−オク
テン、イタコン酸ジオクチル、マイレン酸ジヘキシル、
スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、ベンジ
クスチレン、クロルメチルスチレン、クロルスチレン、
ビニル安息香酸メチル、ビニルクロルベンゾエート、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニルなど
があげられる。
【0034】これらの単重体の中でもメタクリル酸エス
テル類、アクリル酸エステル類、スチレン類が好適であ
る。その他、本発明に供される酸ポリマーとしては、縮
重合ポリマー、グラフトポリマー等、本発明の要件を満
足する限り、如何なる構造を有するものでも差し支えな
い。
テル類、アクリル酸エステル類、スチレン類が好適であ
る。その他、本発明に供される酸ポリマーとしては、縮
重合ポリマー、グラフトポリマー等、本発明の要件を満
足する限り、如何なる構造を有するものでも差し支えな
い。
【0035】以下に、本発明で使用される酸ポリマーの
具体例を示す。即ち、アクリル酸/メタクリル酸共重合
体、アクリル酸/メチルアクリレート共重合体、アクリ
ル酸/ブチルメタクリレート共重合体、アクリル酸/2
−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、アクリル酸
/アクリルアミド共重合体、アクリル酸/エチルアクリ
レート/ブチルメタクリレート共重合体、ポリメタクリ
ル酸、メタクリル酸/メチルアクリレート共重合体、メ
タクリル酸/ブチルメタクリレート共重合体、メタクリ
ル酸/2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、メ
タクリル酸/アクリルアミド共重合体、メタクリル酸/
エチルアクリレート/2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト共重合体、AMPS/メチルアクリレート共重合体、
AMPS/ブチルメタクリレート共重合体、AMPS/
2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、AMPS
/アクリルアミド共重合体、AMPS/エチルアクリレ
ート/ブチルメタクリレート共重合体、マイレン酸/ス
チレン共重合体、マイレン酸イソブチレン共重合体、ポ
リビニルアルコール上のアクリル酸ブロック共重合体、
ポリビニルアルコール上のアクリル酸グラフト共重合
体、マレイル化ゼラチン、スクシニル化ゼラチン等のゼ
ラチン変性物、カルボキシメチルセルロース等のセルロ
ース変性物、等が挙げられる。
具体例を示す。即ち、アクリル酸/メタクリル酸共重合
体、アクリル酸/メチルアクリレート共重合体、アクリ
ル酸/ブチルメタクリレート共重合体、アクリル酸/2
−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、アクリル酸
/アクリルアミド共重合体、アクリル酸/エチルアクリ
レート/ブチルメタクリレート共重合体、ポリメタクリ
ル酸、メタクリル酸/メチルアクリレート共重合体、メ
タクリル酸/ブチルメタクリレート共重合体、メタクリ
ル酸/2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、メ
タクリル酸/アクリルアミド共重合体、メタクリル酸/
エチルアクリレート/2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト共重合体、AMPS/メチルアクリレート共重合体、
AMPS/ブチルメタクリレート共重合体、AMPS/
2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、AMPS
/アクリルアミド共重合体、AMPS/エチルアクリレ
ート/ブチルメタクリレート共重合体、マイレン酸/ス
チレン共重合体、マイレン酸イソブチレン共重合体、ポ
リビニルアルコール上のアクリル酸ブロック共重合体、
ポリビニルアルコール上のアクリル酸グラフト共重合
体、マレイル化ゼラチン、スクシニル化ゼラチン等のゼ
ラチン変性物、カルボキシメチルセルロース等のセルロ
ース変性物、等が挙げられる。
【0036】これらの酸ポリマーの合成法は、英国特許
第1211039号、特公平4−29195号、特願昭
47−7174号、特開昭47−59743号、特願昭
48−31355号、英国特許第941395号、米国
特許第3227672号、同第3290417号、同第
3262919号、同第3245932号、同第268
1897号、同第3230275号、ジョンシーペトロ
プーロス等著「オフィシャルダイジェスト」(John
C.Petropoulos.et.al.:Ofi
cial Digest)33,719〜736(19
61)、村橋俊介等編「合成高分子」1,246〜29
0、3 1〜108などに記載の方法を参考にして行う
と好都合である。目的に応じて重合の開始剤、濃度、重
合温度、反応時間などを幅広く、かつ容易に変更でき
る。
第1211039号、特公平4−29195号、特願昭
47−7174号、特開昭47−59743号、特願昭
48−31355号、英国特許第941395号、米国
特許第3227672号、同第3290417号、同第
3262919号、同第3245932号、同第268
1897号、同第3230275号、ジョンシーペトロ
プーロス等著「オフィシャルダイジェスト」(John
C.Petropoulos.et.al.:Ofi
cial Digest)33,719〜736(19
61)、村橋俊介等編「合成高分子」1,246〜29
0、3 1〜108などに記載の方法を参考にして行う
と好都合である。目的に応じて重合の開始剤、濃度、重
合温度、反応時間などを幅広く、かつ容易に変更でき
る。
【0037】例えば、一例を挙げると、重合は、一般に
20〜180℃、好ましくは40〜120℃で行われ
る。重合反応は、通常重合すべき単量体に対し、0.0
5〜5重量%のラジカル重合開始剤を用いて行われる。
開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド、ハ
イドロパーオキサイド、レドックス触媒など、例えば、
過硫酸カリウム、tert−ブチルパーオクトエート、
ベンゾイルパーオキサイド、イソプロピルパーカーボネ
ート、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メ
チルエチルケトンパーオキサイド、クメンハイドロパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、アゾビスイソブ
チロニトリルなどがある。
20〜180℃、好ましくは40〜120℃で行われ
る。重合反応は、通常重合すべき単量体に対し、0.0
5〜5重量%のラジカル重合開始剤を用いて行われる。
開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド、ハ
イドロパーオキサイド、レドックス触媒など、例えば、
過硫酸カリウム、tert−ブチルパーオクトエート、
ベンゾイルパーオキサイド、イソプロピルパーカーボネ
ート、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メ
チルエチルケトンパーオキサイド、クメンハイドロパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、アゾビスイソブ
チロニトリルなどがある。
【0038】また、本発明に用いられる酸ポリマーの分
子量は、好ましくは5×103以上、特に好ましくは、
1×104ないし5×106(何れも重量平均分子量)で
ある。
子量は、好ましくは5×103以上、特に好ましくは、
1×104ないし5×106(何れも重量平均分子量)で
ある。
【0039】各層の酸ポリマーの量は随意に変えること
ができる。
ができる。
【0040】本発明において、好ましく用いられる酸ポ
リマーの中和率は、疎水性モノマーの種類、量、或いは
カルボキシル基等を有する繰り返し単位の構造により種
々変わり得るので、全てのカルボキシル基等が、中和に
より、塩構造を取ってもよいし、全ての酸残基が酸の構
造を取ってもよい。基本的には、該酸ポリマーが親水性
コロイドとの混合溶液とした際に可溶となる範囲を目安
として中和率を設定するか、溶解の際に、アルカリ等を
添加して、可溶化すればよい。
リマーの中和率は、疎水性モノマーの種類、量、或いは
カルボキシル基等を有する繰り返し単位の構造により種
々変わり得るので、全てのカルボキシル基等が、中和に
より、塩構造を取ってもよいし、全ての酸残基が酸の構
造を取ってもよい。基本的には、該酸ポリマーが親水性
コロイドとの混合溶液とした際に可溶となる範囲を目安
として中和率を設定するか、溶解の際に、アルカリ等を
添加して、可溶化すればよい。
【0041】中和を行うアルカリとしては、酸ポリマー
と塩の形成可能なものであれば、種類を問わない。一例
を挙げると、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化リチウム、アンモニア等が挙げられる。これらのアル
カリは単独で用いても、或いは適当に組み合わせて混合
して用いても差し支えない。
と塩の形成可能なものであれば、種類を問わない。一例
を挙げると、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化リチウム、アンモニア等が挙げられる。これらのアル
カリは単独で用いても、或いは適当に組み合わせて混合
して用いても差し支えない。
【0042】また、酸ポリマーと混和される親水性コロ
イドとしては、特に制限はなく、ゼラチン、例えば原料
として牛、豚、鯨、魚等の骨、皮等から造られた、アル
カリ処理、酸処理、酵素処理ゼラチン、等のいずれでも
用いることができる。また、化学修飾、グラフト共重合
などによって改質を行ったゼラチン、酵素修飾、等の改
質を行ったゼラチン、およびビニルモノマー等をグラフ
ト共重合したゼラチンを用いることができる。ゼラチン
の分子量には特に制限はなく、通常数十万〜数千の範囲
で用いることができる。ゼラチン以外では、例えばアル
ブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘
導体;アルギン酸ソーダ、デキストラン、澱粉誘導体等
の糖誘導体;キチン、キトサン、ヒドロキシアルキルキ
トサン等のキチンおよびその誘導体;ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N
−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニル
イミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは
共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いるこ
とができる。
イドとしては、特に制限はなく、ゼラチン、例えば原料
として牛、豚、鯨、魚等の骨、皮等から造られた、アル
カリ処理、酸処理、酵素処理ゼラチン、等のいずれでも
用いることができる。また、化学修飾、グラフト共重合
などによって改質を行ったゼラチン、酵素修飾、等の改
質を行ったゼラチン、およびビニルモノマー等をグラフ
ト共重合したゼラチンを用いることができる。ゼラチン
の分子量には特に制限はなく、通常数十万〜数千の範囲
で用いることができる。ゼラチン以外では、例えばアル
ブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘
導体;アルギン酸ソーダ、デキストラン、澱粉誘導体等
の糖誘導体;キチン、キトサン、ヒドロキシアルキルキ
トサン等のキチンおよびその誘導体;ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N
−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニル
イミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは
共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いるこ
とができる。
【0043】本発明の片面の全親水性コロイド層の膜厚
は3.5μm以下0.2μm以上である。好ましくは
3.0μm以下であり、その下限は好ましくは0.2μ
m以上である。
は3.5μm以下0.2μm以上である。好ましくは
3.0μm以下であり、その下限は好ましくは0.2μ
m以上である。
【0044】本発明に於いて感光材料の初期膨潤率と
は、感光材料の乳剤層を有する側の全親水性コロイド層
の初期膨潤率を指し、詳しくは該感光材料を現像液に浸
漬開始してから5秒間に膨潤した変化幅を、膨潤前の膜
厚で割った値を100倍したものである。
は、感光材料の乳剤層を有する側の全親水性コロイド層
の初期膨潤率を指し、詳しくは該感光材料を現像液に浸
漬開始してから5秒間に膨潤した変化幅を、膨潤前の膜
厚で割った値を100倍したものである。
【0045】本発明において現像液中の初期膨潤率を調
整する方法としては特に限定されないが具体的な方法と
しては、例えば感光材料中の吸水性の早いバインダー
(例えばデキストリン、デキストランなど)の量や総バ
インダー量を調整する方法(この場合、物性を保つため
に実質的に吸水性の小さいラテックスを添加してもよ
い。)又は硬膜剤量により膜膨潤を調整する方法、或い
は乳剤塗布液のpH又は電位調整による膨潤を調整する
方法でもよい。
整する方法としては特に限定されないが具体的な方法と
しては、例えば感光材料中の吸水性の早いバインダー
(例えばデキストリン、デキストランなど)の量や総バ
インダー量を調整する方法(この場合、物性を保つため
に実質的に吸水性の小さいラテックスを添加してもよ
い。)又は硬膜剤量により膜膨潤を調整する方法、或い
は乳剤塗布液のpH又は電位調整による膨潤を調整する
方法でもよい。
【0046】また現像液中のイオン濃度を上げる方法
(イオン強度アップ、バッファー剤濃度アップ、亜硫酸
イオン濃度アップなど)、硫酸ナトリウムの添加、溶剤
(トリエチレングリコール、エチレングリコール類)の
添加、グルタルアルデヒド(現像硬膜剤)の添加などに
よる膨潤を調整する手段が挙げられる。このように感光
材料と現像液双方からの手段の組み合わせで本発明の膨
澗率に調整することができる。
(イオン強度アップ、バッファー剤濃度アップ、亜硫酸
イオン濃度アップなど)、硫酸ナトリウムの添加、溶剤
(トリエチレングリコール、エチレングリコール類)の
添加、グルタルアルデヒド(現像硬膜剤)の添加などに
よる膨潤を調整する手段が挙げられる。このように感光
材料と現像液双方からの手段の組み合わせで本発明の膨
澗率に調整することができる。
【0047】初期膨潤率は30%以上、120%以下で
ある。好ましくは40%以上、100%以下である。3
0%より小さい場合は本発明の効果が乏しくなるだけで
なく、感度、ガンマが低下して好ましくない。
ある。好ましくは40%以上、100%以下である。3
0%より小さい場合は本発明の効果が乏しくなるだけで
なく、感度、ガンマが低下して好ましくない。
【0048】次に本発明の一般式〔1〕について説明す
る。
る。
【0049】一般式〔1〕 Z−SM 上記式中、Zは−SO3M1、−COOR1、−OH及び
−NHR2から選ばれた基の少なくとも1個を直接に又
は間接に結合した複素環基、例えばオキサゾール環、チ
アゾール環、イミダゾール環、セレナゾール環、トリア
ゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、オキサ
ジアゾール環、ピリミジン環、チアジン環、トリアジン
環、チオジアジン環又は他の炭素環やヘテロ環と結合し
た環、例えばベンゾチアゾール環、ベンゾトリアゾール
環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール
環、ベンゾセレナゾール環、ナフトオキサゾール環、ト
リアザインドリジン環、ジアザインドリジン環又はテト
ラアザインドリジン環(これらの環には上記基が少なく
とも1個置換されている。)である。
−NHR2から選ばれた基の少なくとも1個を直接に又
は間接に結合した複素環基、例えばオキサゾール環、チ
アゾール環、イミダゾール環、セレナゾール環、トリア
ゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、オキサ
ジアゾール環、ピリミジン環、チアジン環、トリアジン
環、チオジアジン環又は他の炭素環やヘテロ環と結合し
た環、例えばベンゾチアゾール環、ベンゾトリアゾール
環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール
環、ベンゾセレナゾール環、ナフトオキサゾール環、ト
リアザインドリジン環、ジアザインドリジン環又はテト
ラアザインドリジン環(これらの環には上記基が少なく
とも1個置換されている。)である。
【0050】好ましいものとしてはイミダゾール環、テ
トラゾール環、ベンゾオキサゾール環、トリアゾール環
を挙げることができる。特に好ましくはテトラゾール環
である。
トラゾール環、ベンゾオキサゾール環、トリアゾール環
を挙げることができる。特に好ましくはテトラゾール環
である。
【0051】一般式〔1〕におけるM、M1は水素原
子、アルカリ金属原子又は四級アンモニウム基を表し、
R1は水素原子、アルカリ金属原子又は炭素数1乃至6
のアルキル基を表し、R2は水素原子、炭素数1乃至6
のアルキル基、−COR3、−COOR3又は−SO2R3
を表し、R3は水素原子、脂肪族基(例えば、炭素数1
〜20のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、
n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、n−
オクチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基など)又は
芳香族基(例えば、炭素数6〜20のアリール基、具体
的にはフェニル基、ナフチル基など)を表し、これらの
基は置換基を有してもよい。
子、アルカリ金属原子又は四級アンモニウム基を表し、
R1は水素原子、アルカリ金属原子又は炭素数1乃至6
のアルキル基を表し、R2は水素原子、炭素数1乃至6
のアルキル基、−COR3、−COOR3又は−SO2R3
を表し、R3は水素原子、脂肪族基(例えば、炭素数1
〜20のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、
n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、n−
オクチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基など)又は
芳香族基(例えば、炭素数6〜20のアリール基、具体
的にはフェニル基、ナフチル基など)を表し、これらの
基は置換基を有してもよい。
【0052】ここで一般式〔1〕で表される化合物の親
水性基の数は1つ以上であればいくつでもよく、2つ以
上ある化合物も好ましく用いられる。また、それら親水
性基のpKaはいくつでもかまわないが少なくとも1つ
の親水性基のpKaが7以上であるものが好ましく用い
られる。特に親水性基が−SO3M1、−COOR1であ
るものが好ましい。
水性基の数は1つ以上であればいくつでもよく、2つ以
上ある化合物も好ましく用いられる。また、それら親水
性基のpKaはいくつでもかまわないが少なくとも1つ
の親水性基のpKaが7以上であるものが好ましく用い
られる。特に親水性基が−SO3M1、−COOR1であ
るものが好ましい。
【0053】また、一般式〔1〕で表されるような化合
物を経時中及び/又は処理液中に放出するようないわゆ
るプレカーサー型化合物も好ましく用いることができ
る。
物を経時中及び/又は処理液中に放出するようないわゆ
るプレカーサー型化合物も好ましく用いることができ
る。
【0054】一般式〔1〕で表される複素環メルカプト
化合物のうち、特に好ましいものとしては一般式〔1
a〕で表されるものである。
化合物のうち、特に好ましいものとしては一般式〔1
a〕で表されるものである。
【0055】
【化2】
【0056】式中、X、Yは窒素原子又はCR5(R5は
水素原子又は置換可能な基である)であり、R4は置
換、無置換の有機基であり、有機基としては炭素数1〜
20のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、n−オク
チル基、ドデシル基、シクロヘキシル基など)、炭素数
6〜20のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル
基など)、ヘテロ環基(少なくとも1個以上の窒素原
子、酸素原子又は硫黄原子を含む5員環、6員環又は7
員環であり、更に適当な位置で縮合環を形成するものを
含む。例えばピリジン環、キノリン環、ピリミジン環な
どである。)又はアルキル基、アリール基、ヘテロ環基
が−S−、−O−、−NR7−、−CO−、−SO−、
−SO2−などから構成される連結基を介して構成され
る基を表す(R7は水素原子又は炭素数1〜4の低級ア
ルキル基を表す。)。
水素原子又は置換可能な基である)であり、R4は置
換、無置換の有機基であり、有機基としては炭素数1〜
20のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、n−オク
チル基、ドデシル基、シクロヘキシル基など)、炭素数
6〜20のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル
基など)、ヘテロ環基(少なくとも1個以上の窒素原
子、酸素原子又は硫黄原子を含む5員環、6員環又は7
員環であり、更に適当な位置で縮合環を形成するものを
含む。例えばピリジン環、キノリン環、ピリミジン環な
どである。)又はアルキル基、アリール基、ヘテロ環基
が−S−、−O−、−NR7−、−CO−、−SO−、
−SO2−などから構成される連結基を介して構成され
る基を表す(R7は水素原子又は炭素数1〜4の低級ア
ルキル基を表す。)。
【0057】これらアルキル基、アリール基及びヘテロ
環基の置換基又はR4で表される置換可能な基としては
一般式〔1〕中の複素環残基の置換基で表したものと同
義であり、置換基が2個以上あるときは異なってもよ
い。
環基の置換基又はR4で表される置換可能な基としては
一般式〔1〕中の複素環残基の置換基で表したものと同
義であり、置換基が2個以上あるときは異なってもよ
い。
【0058】一般式〔1a〕中の好ましい化合物は、
X、Yが窒素原子であり、R5はアニオン基又は解離し
てアニオンになり得る基から選ばれる基を2個以上有す
るアリール基で、特に好ましいアリール基としてはメル
カプトテトラゾール基に対してオルト位にヒドロキシル
基を有するアリール基である。M2は水素原子、アルキ
ル金属又は四級アンモニウム基を表し、R4、R5の少な
くとも何れか一方はアニオン基及び解離してアニオンに
なりうる基から選ばれる基を有している。
X、Yが窒素原子であり、R5はアニオン基又は解離し
てアニオンになり得る基から選ばれる基を2個以上有す
るアリール基で、特に好ましいアリール基としてはメル
カプトテトラゾール基に対してオルト位にヒドロキシル
基を有するアリール基である。M2は水素原子、アルキ
ル金属又は四級アンモニウム基を表し、R4、R5の少な
くとも何れか一方はアニオン基及び解離してアニオンに
なりうる基から選ばれる基を有している。
【0059】以下に、一般式〔1〕及び一般式〔1a〕
で表される化合物の具体例を示すが本発明の範囲はこの
化合物に限定されない。
で表される化合物の具体例を示すが本発明の範囲はこの
化合物に限定されない。
【0060】
【化3】
【0061】
【化4】
【0062】
【化5】
【0063】
【化6】
【0064】
【化7】
【0065】一般式〔1〕で表される化合物は公知であ
り、また以下の文献に記載の方法で容易に合成すること
ができる。例えば米国特許2,585,388号、同
2,541,924号、特公昭42−21842号、特
開昭50−50169号、英国特許1,275,701
号、D.A.バージェスら、“ジャーナル・オブ・ヘテ
ロサイクリック・ケミストリ”(D.A.Berges
et.al.,Journal of Hetero
cyclic Chemistry)第15巻981号
(1978号)、“ザ・ケミストリ・オブ・ヘテロサイ
クリック・コンパウンド”イミダゾール・アンド・デリ
バティブス、パート1(The Chemistry
of Heterocyclic Compound,
Imidazole and Derivatives
part1)336〜339頁等である。
り、また以下の文献に記載の方法で容易に合成すること
ができる。例えば米国特許2,585,388号、同
2,541,924号、特公昭42−21842号、特
開昭50−50169号、英国特許1,275,701
号、D.A.バージェスら、“ジャーナル・オブ・ヘテ
ロサイクリック・ケミストリ”(D.A.Berges
et.al.,Journal of Hetero
cyclic Chemistry)第15巻981号
(1978号)、“ザ・ケミストリ・オブ・ヘテロサイ
クリック・コンパウンド”イミダゾール・アンド・デリ
バティブス、パート1(The Chemistry
of Heterocyclic Compound,
Imidazole and Derivatives
part1)336〜339頁等である。
【0066】本発明において、ハロゲン化銀のバインダ
ーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体を用いるのが有
利である。ゼラチンとしては、石灰処理ゼラチンの他、
ブレティン・オブ・ソサエティ・オブ・サイエンティフ
ィック・フォトグラフィー・オブ・ジャパン(Bul
l.Soc. Sci.Phot.Japan) N
o.16、30頁(1966年)に記載されたような酸
処理ゼラチンを用いてもよく、またゼラチンの加水分解
物や酸素分解物も用いることができる。ゼラチン誘導体
としては、ゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イ
ソシアナート類、ブロモ酢酸アルカンサルトン類、ビニ
ルスルホンアミド類マレインイミド化合物類、ポリアル
キレンオキシド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を
反応させて得られるものが用いられる。
ーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体を用いるのが有
利である。ゼラチンとしては、石灰処理ゼラチンの他、
ブレティン・オブ・ソサエティ・オブ・サイエンティフ
ィック・フォトグラフィー・オブ・ジャパン(Bul
l.Soc. Sci.Phot.Japan) N
o.16、30頁(1966年)に記載されたような酸
処理ゼラチンを用いてもよく、またゼラチンの加水分解
物や酸素分解物も用いることができる。ゼラチン誘導体
としては、ゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イ
ソシアナート類、ブロモ酢酸アルカンサルトン類、ビニ
ルスルホンアミド類マレインイミド化合物類、ポリアル
キレンオキシド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を
反応させて得られるものが用いられる。
【0067】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の感光
性ハロゲン化銀乳剤としては、臭化銀、沃臭化銀、或い
は少量の塩化銀を含む沃塩臭化銀乳剤であってよい。ハ
ロゲン化銀粒子は本発明の構成であれば、どのような結
晶型のものであってもよく、例えば立方体、8面体、1
4面体などの単結晶であってもよく、種々の形状を有し
た多双晶粒子であってもよい。
性ハロゲン化銀乳剤としては、臭化銀、沃臭化銀、或い
は少量の塩化銀を含む沃塩臭化銀乳剤であってよい。ハ
ロゲン化銀粒子は本発明の構成であれば、どのような結
晶型のものであってもよく、例えば立方体、8面体、1
4面体などの単結晶であってもよく、種々の形状を有し
た多双晶粒子であってもよい。
【0068】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる乳剤は、公知の方法で製造できる。例えば、リサ
ーチ・ディスクロージャー(RD)No.17643
(1978年12月)・22〜23頁の“Emulsi
on Preparationand Types”に
記載の方法、或いは同(RD)No.18716(19
79年11月)648頁に記載の方法で調製することが
できる。
られる乳剤は、公知の方法で製造できる。例えば、リサ
ーチ・ディスクロージャー(RD)No.17643
(1978年12月)・22〜23頁の“Emulsi
on Preparationand Types”に
記載の方法、或いは同(RD)No.18716(19
79年11月)648頁に記載の方法で調製することが
できる。
【0069】即ち、酸性法、アンモニア法、中性法など
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。
【0070】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる乳剤の好ましい実施態様としては、沃化銀を粒子
内部に局在させた単分散乳剤が挙げられる。ここで言う
単分散とは、常法により平均粒子直径を測定したとき、
粒子数又は重量で少なくとも95%の粒子が平均粒子径
の±40%以内、好ましくは±30%以内にあるハロゲ
ン化銀粒子である。
られる乳剤の好ましい実施態様としては、沃化銀を粒子
内部に局在させた単分散乳剤が挙げられる。ここで言う
単分散とは、常法により平均粒子直径を測定したとき、
粒子数又は重量で少なくとも95%の粒子が平均粒子径
の±40%以内、好ましくは±30%以内にあるハロゲ
ン化銀粒子である。
【0071】ハロゲン化銀粒子の粒径分布は、狭い分布
を有した単分散乳剤或いは広い分布を有した多分散乳剤
の何れであってもよい。ハロゲン化銀の結晶構造は内部
と外部が異なったハロゲン化銀組成からなっていてもよ
く、例えば高沃化銀のコア部分に低沃化銀のシェル層を
被覆して明確な2層構造を有したコア/シェル型単分散
乳剤であってもよい。上記の単分散乳剤の製法は公知で
ある。
を有した単分散乳剤或いは広い分布を有した多分散乳剤
の何れであってもよい。ハロゲン化銀の結晶構造は内部
と外部が異なったハロゲン化銀組成からなっていてもよ
く、例えば高沃化銀のコア部分に低沃化銀のシェル層を
被覆して明確な2層構造を有したコア/シェル型単分散
乳剤であってもよい。上記の単分散乳剤の製法は公知で
ある。
【0072】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる乳剤は、上記の単分散乳剤を得るための方法とし
て、例えば種晶を用い、この種晶を成長核として銀イオ
ン及びハライドイオンを供給し成長させた乳剤を用いて
もよい。上記のコア/シェル型乳剤の製法は公知であ
る。
られる乳剤は、上記の単分散乳剤を得るための方法とし
て、例えば種晶を用い、この種晶を成長核として銀イオ
ン及びハライドイオンを供給し成長させた乳剤を用いて
もよい。上記のコア/シェル型乳剤の製法は公知であ
る。
【0073】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる乳剤は、アスペクト比(粒子径/粒子厚みの比)
が3以上の平板状粒子であり、好ましくはアスペクト比
4以上である。このような平板状粒子の利点としては、
分光増感効率の向上や画像の粒状性及び鮮鋭性の改良な
どが得られるとして、例えば英国特許2,112,15
7号、米国特許4,414,310号、同4,434,
226号などに開示されており、乳剤はこれらの公報に
記載の方法を参考に調製することができる。
られる乳剤は、アスペクト比(粒子径/粒子厚みの比)
が3以上の平板状粒子であり、好ましくはアスペクト比
4以上である。このような平板状粒子の利点としては、
分光増感効率の向上や画像の粒状性及び鮮鋭性の改良な
どが得られるとして、例えば英国特許2,112,15
7号、米国特許4,414,310号、同4,434,
226号などに開示されており、乳剤はこれらの公報に
記載の方法を参考に調製することができる。
【0074】上述した乳剤は、粒子表面に潜像を形成す
る表面潜像型或いは粒子内部に潜像を形成する内部潜像
型、表面と内部の両方に潜像を形成する型の何れの乳剤
であってもよい。
る表面潜像型或いは粒子内部に潜像を形成する内部潜像
型、表面と内部の両方に潜像を形成する型の何れの乳剤
であってもよい。
【0075】これらの乳剤は物理熟成、或は粒子調製の
段階で、例えばカドミウム塩、鉛塩、亜鉛塩、タリウム
塩、イリジウム塩又はその錯塩、ロジウム塩又はその錯
塩、鉄塩又はその錯塩などを用いてもよい。
段階で、例えばカドミウム塩、鉛塩、亜鉛塩、タリウム
塩、イリジウム塩又はその錯塩、ロジウム塩又はその錯
塩、鉄塩又はその錯塩などを用いてもよい。
【0076】乳剤は可溶性塩類を除去するためにヌーデ
ル水洗法、フロキュレーション沈降法などの水洗方法が
なされてよい。好ましい水洗法としては、例えば特公昭
35‐16086号記載のスルホ基を含む芳香族炭化水
素系アルデヒド樹脂を用いる方法、又は特開平2−70
37号記載の凝集高分子剤例示G−3、G−8などを用
いる方法が特に好ましい脱塩法として挙げられる。
ル水洗法、フロキュレーション沈降法などの水洗方法が
なされてよい。好ましい水洗法としては、例えば特公昭
35‐16086号記載のスルホ基を含む芳香族炭化水
素系アルデヒド樹脂を用いる方法、又は特開平2−70
37号記載の凝集高分子剤例示G−3、G−8などを用
いる方法が特に好ましい脱塩法として挙げられる。
【0077】本発明に係るハロゲン化銀写真乳剤は、物
理熟成又は化学熟成前後の工程において、前記金属塩又
はその錯塩などの他、各種の写真用添加剤を用いること
ができる。公知の添加剤としては例えばリサーチ・ディ
スクロージャーNo.17643(1978年12月)
23〜29頁、同No.18716(1979年11
月)648〜651頁及び同No.308119(19
89年12月)996〜1008頁に記載された化合物
が挙げられる。
理熟成又は化学熟成前後の工程において、前記金属塩又
はその錯塩などの他、各種の写真用添加剤を用いること
ができる。公知の添加剤としては例えばリサーチ・ディ
スクロージャーNo.17643(1978年12月)
23〜29頁、同No.18716(1979年11
月)648〜651頁及び同No.308119(19
89年12月)996〜1008頁に記載された化合物
が挙げられる。
【0078】本発明に係る感光材料に用いることのでき
る支持体としては、例えば前述のRD17643の28
頁及びRD−308119の1009頁に記載されてい
るものが挙げられる。
る支持体としては、例えば前述のRD17643の28
頁及びRD−308119の1009頁に記載されてい
るものが挙げられる。
【0079】適当な支持体としてはポリエチレンテレフ
タレートフィルムなどで、これら支持体の表面は塗布層
の接着をよくするために、下引層を設けたり、コロナ放
電、紫外線照射などを施してもよい。
タレートフィルムなどで、これら支持体の表面は塗布層
の接着をよくするために、下引層を設けたり、コロナ放
電、紫外線照射などを施してもよい。
【0080】現像液に用いられる現像剤としては、通常
用いられるジヒドロキシベンゼン類、3−ピラゾリドン
類、アミノフェノール類、1−アリール−3−アミノピ
ラゾリン類、アスコルビン酸、アスコルビン酸誘導体、
ピラゾロン類等を用いることができる。
用いられるジヒドロキシベンゼン類、3−ピラゾリドン
類、アミノフェノール類、1−アリール−3−アミノピ
ラゾリン類、アスコルビン酸、アスコルビン酸誘導体、
ピラゾロン類等を用いることができる。
【0081】現像剤には、その他必要に応じて亜硫酸
塩、重亜硫酸塩等の保恒剤;炭酸塩、硼酸塩、アルカノ
ールアミン等の緩衝剤;アルカリ剤;ポリエチレングリ
コール等の溶解助剤;クエン酸等のpH調整剤;4級ア
ンモニウム塩等の増感剤;現像促進剤;グルタールアル
デヒド等の硬膜剤;界面活性剤;カブリ防止剤;ヘキサ
メタ燐酸ナトリウム、ポリ燐酸塩等の処理液に使用する
水道水中に混在するカルシウムイオン隠蔽剤;特開昭5
6−24347号に記載の化合物等の銀汚れ防止剤;等
を用いることができる。
塩、重亜硫酸塩等の保恒剤;炭酸塩、硼酸塩、アルカノ
ールアミン等の緩衝剤;アルカリ剤;ポリエチレングリ
コール等の溶解助剤;クエン酸等のpH調整剤;4級ア
ンモニウム塩等の増感剤;現像促進剤;グルタールアル
デヒド等の硬膜剤;界面活性剤;カブリ防止剤;ヘキサ
メタ燐酸ナトリウム、ポリ燐酸塩等の処理液に使用する
水道水中に混在するカルシウムイオン隠蔽剤;特開昭5
6−24347号に記載の化合物等の銀汚れ防止剤;等
を用いることができる。
【0082】現像液のpHは8.5〜11.5が好まし
く、更に好ましくは9.5〜10.5である。
く、更に好ましくは9.5〜10.5である。
【0083】定着液に用いられる定着剤としては、特願
平6−272500号に記載の化合物、チオ硫酸塩、沃
化物塩、チオシアン酸塩等が挙げられる。
平6−272500号に記載の化合物、チオ硫酸塩、沃
化物塩、チオシアン酸塩等が挙げられる。
【0084】定着液は、一般に亜硫酸塩、アルミニウム
系硬膜剤を含有することが好ましく、その他必要に応じ
て、クエン酸,イソクエン酸,リンゴ酸,フェニル酢酸
及びそれらの塩、硫酸,塩酸,硝酸,硼酸等の無機酸の
塩、ギ酸,プロピオン酸,蓚酸等の有機酸類、ニトリロ
3酢酸,エチレンジアミン4酢酸等のアミノポリカルボ
ン酸類等のキレート剤、硫酸エステル化合物,ポリエチ
レングリコール化合物等の界面活性剤、アルカノールア
ミン,アルキレングリコール等の湿潤剤、チオ尿素誘導
体,チオエーテル等の定着促進剤、等を用いることがで
きる。
系硬膜剤を含有することが好ましく、その他必要に応じ
て、クエン酸,イソクエン酸,リンゴ酸,フェニル酢酸
及びそれらの塩、硫酸,塩酸,硝酸,硼酸等の無機酸の
塩、ギ酸,プロピオン酸,蓚酸等の有機酸類、ニトリロ
3酢酸,エチレンジアミン4酢酸等のアミノポリカルボ
ン酸類等のキレート剤、硫酸エステル化合物,ポリエチ
レングリコール化合物等の界面活性剤、アルカノールア
ミン,アルキレングリコール等の湿潤剤、チオ尿素誘導
体,チオエーテル等の定着促進剤、等を用いることがで
きる。
【0085】定着液のpHは3.8以上が好ましく、更
に好ましくは4.2〜5.5である。
に好ましくは4.2〜5.5である。
【0086】本発明でいう処理時間とは、ハロゲン化銀
写真感光材料の先端を挿入した時点から処理を終了した
感光材料の先端が自動現像機から出でくるまで(Dry
to Dry)の時間をいう。本発明ではこの処理時
間は30秒以下が好ましく、さらに好ましくは10〜3
0秒である。本発明の現像処理における現像工程の温度
は一般に好ましくは20〜50℃で処理されるが、より
好ましくは25〜45℃、特に好ましくは30〜40℃
である。現像工程の時間は通常好ましくは3〜20秒で
あるが、より好ましくは5〜18秒、特に好ましくは6
〜14秒である。本発明の定着工程の処理温度は一般に
好ましくは10〜50℃で、より好ましくは20〜40
℃、特に好ましくは29〜37℃である。定着工程の時
間は一般に好ましくは3〜15秒で、より好ましくは3
〜10秒、特に好ましくは4〜8秒である。
写真感光材料の先端を挿入した時点から処理を終了した
感光材料の先端が自動現像機から出でくるまで(Dry
to Dry)の時間をいう。本発明ではこの処理時
間は30秒以下が好ましく、さらに好ましくは10〜3
0秒である。本発明の現像処理における現像工程の温度
は一般に好ましくは20〜50℃で処理されるが、より
好ましくは25〜45℃、特に好ましくは30〜40℃
である。現像工程の時間は通常好ましくは3〜20秒で
あるが、より好ましくは5〜18秒、特に好ましくは6
〜14秒である。本発明の定着工程の処理温度は一般に
好ましくは10〜50℃で、より好ましくは20〜40
℃、特に好ましくは29〜37℃である。定着工程の時
間は一般に好ましくは3〜15秒で、より好ましくは3
〜10秒、特に好ましくは4〜8秒である。
【0087】本明細書において「現像工程時間」または
「現像時間」とは、処理する感光材料の先端が自動現像
機の現像タンク液に浸漬してから次の定着液に浸漬する
までの時間、「定着時間」とは定着タンク液に浸漬して
から次の水洗タンク液(安定剤)に浸漬するまでの時
間、「水洗時間」とは、水洗タンク液に浸漬している時
間をいう。この場合、本発明において全処理時間(Dr
y to Dry)は、前記の通り30秒以下が好まし
いが、更に好ましくは10〜30秒である。
「現像時間」とは、処理する感光材料の先端が自動現像
機の現像タンク液に浸漬してから次の定着液に浸漬する
までの時間、「定着時間」とは定着タンク液に浸漬して
から次の水洗タンク液(安定剤)に浸漬するまでの時
間、「水洗時間」とは、水洗タンク液に浸漬している時
間をいう。この場合、本発明において全処理時間(Dr
y to Dry)は、前記の通り30秒以下が好まし
いが、更に好ましくは10〜30秒である。
【0088】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、現
像液と定着液の補充量はそれぞれ180ml/m2以下
で現像処理されることが好ましいが、さらに好ましくは
30〜160ml/m2、特に好ましくは30〜100
ml/m2である。
像液と定着液の補充量はそれぞれ180ml/m2以下
で現像処理されることが好ましいが、さらに好ましくは
30〜160ml/m2、特に好ましくは30〜100
ml/m2である。
【0089】
【実施例】以下、実施例により本発明の効果を例証す
る。
る。
【0090】〈下引き済み支持体の作成〉 (導電性粒子P1の分散液)塩化第二スズ水和物65g
を水溶液2000mlに溶解し均一溶液を得た。次いで
これを煮沸し共沈澱物を得た。生成した沈殿物をデカン
テーションにより取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水
洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素
イオンの反応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留
水1000ml中に添加して分散後、全量を2000m
lとする。さらに30%アンモニア水を40ml加え、
水浴中で加温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
を水溶液2000mlに溶解し均一溶液を得た。次いで
これを煮沸し共沈澱物を得た。生成した沈殿物をデカン
テーションにより取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水
洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素
イオンの反応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留
水1000ml中に添加して分散後、全量を2000m
lとする。さらに30%アンモニア水を40ml加え、
水浴中で加温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
【0091】塗布液として用いるときには、このゾル溶
液へアンモニアを吹き込みながら濃度約8%に濃縮して
用いる。また、このゾル溶液に含まれる粒子の体積固有
抵抗については、ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄
膜を形成し、四端子法で測定した値を粒子の体積固有抵
抗値とした。測定された体積固有抵抗は3.4×104
Ωcmであった。
液へアンモニアを吹き込みながら濃度約8%に濃縮して
用いる。また、このゾル溶液に含まれる粒子の体積固有
抵抗については、ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄
膜を形成し、四端子法で測定した値を粒子の体積固有抵
抗値とした。測定された体積固有抵抗は3.4×104
Ωcmであった。
【0092】(導電性粒子P2の分散液)塩化第二スズ
水和物65gと三塩化アンチモン1.0gを水溶液20
00mlに溶解し均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し
共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションに
より取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗いする。沈
澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反
応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留水1000
ml中に添加して分散後、全量を2000mlとする。
さらに30%アンモニア水を40ml加え、水溶中で加
温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
水和物65gと三塩化アンチモン1.0gを水溶液20
00mlに溶解し均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し
共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションに
より取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗いする。沈
澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反
応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留水1000
ml中に添加して分散後、全量を2000mlとする。
さらに30%アンモニア水を40ml加え、水溶中で加
温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
【0093】このゾル溶液を400℃に加熱した電気炉
中に噴霧し導電性粉末を合成した。得られた粉末を錠剤
成型機にて成形後、4端子法で測定された体積固有抵抗
は1.5×101Ωcmであった。
中に噴霧し導電性粉末を合成した。得られた粉末を錠剤
成型機にて成形後、4端子法で測定された体積固有抵抗
は1.5×101Ωcmであった。
【0094】この導電性粉末をpH10のアンモニア水
に濃度8wt%となるように分散した。
に濃度8wt%となるように分散した。
【0095】(感光材料用支持体の作成) (支持体1)2軸延伸・熱固定後の厚さ175μm、濃
度0.15に青色着色したポリエチレンテレフタレート
フィルムの両面に8W分/m2のコロナ放電処理を施
し、一方の面に特開昭59−19941号記載のように
下記下引き塗布液B−1を乾燥膜厚0.8μmになるよ
うに下引層B−1として塗布し、100℃、1分間乾燥
した。またポリエチレンテレフタレートフィルムに対し
下引層B−1と反対側の面に特開昭59−77439号
記載のように下記下引き塗布液B−2を下引層B−2と
して塗布し、110℃、1分間乾燥した。
度0.15に青色着色したポリエチレンテレフタレート
フィルムの両面に8W分/m2のコロナ放電処理を施
し、一方の面に特開昭59−19941号記載のように
下記下引き塗布液B−1を乾燥膜厚0.8μmになるよ
うに下引層B−1として塗布し、100℃、1分間乾燥
した。またポリエチレンテレフタレートフィルムに対し
下引層B−1と反対側の面に特開昭59−77439号
記載のように下記下引き塗布液B−2を下引層B−2と
して塗布し、110℃、1分間乾燥した。
【0096】 下引き第1層 〈下引き塗布液B−1〉 ブチルアクリレート30重量%、t−ブチルアクリレート20重量%、 スチレン25重量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート25重量%の 共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g 化合物A 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる。
【0097】 〈下引き塗布液B−2〉 ブチルアクリレート40wt%、スチレン20wt%及び グリシジルアクリレート40wt%の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 23g 導電性P1分散液 415g ポリエチレングリコール(分子量600) 0.00012g 水 568g 下引き第2層 さらに上記下引き層B−1及びB−2の上に8W分/m
2のコロナ放電を施し、下記塗布液B−3を乾燥膜厚
0.1μmになるように塗布し、100℃、1分間乾燥
した。
2のコロナ放電を施し、下記塗布液B−3を乾燥膜厚
0.1μmになるように塗布し、100℃、1分間乾燥
した。
【0098】 〈下引き塗布液B−3〉 ゼラチン 10g 化合物A 0.4g 化合物B 0.1g 平均粒径3μmのシリカ粒子 0.1g 水で1lに仕上げる。
【0099】
【化8】
【0100】(支持体2)試料作成条件は、上記下引き
塗布液B−2の代わりに下記下引き塗布液B−4を用い
た以外は、支持体1と同様に作成した。
塗布液B−2の代わりに下記下引き塗布液B−4を用い
た以外は、支持体1と同様に作成した。
【0101】 〈下引き塗布液B−4〉 ブチルアクリレート40重量%、スチレン20重量%及びグリジルアクリ レート40重量%の共重合体ラテックス液(固形分30%) 23g 導電性P2分散液 760g ポリエチレングリコール(分子量600) 1.65g 水 700g 実施例に使用する種乳剤及び乳剤の調製方法を示す。
【0102】 (種乳剤1の調製) A1 オセインゼラチン 24.2g 水 9657ミリリットル ポリプロピレンオキシ−ポリエチレンオキシ −ジサクシネートナトリウム塩(10%エタノール水溶液) 6.78ミリリットル 臭化カリウム 10.8g 10%硝酸 114ミリリットル B1 2.5N硝酸銀水溶液 2825ミリリットル C1 臭化カリウム 824g 沃化カリウム 23.5g 水で2825ミリリットルに仕上げる。
【0103】 D1 1.75N臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量 35℃で特公昭58−58288号、同58−5828
9号公報に記載の混合攪拌機を用い、溶液A1に溶液B1
及び溶液C1の各々464.3ミリリットルを同時混合
法により1.5分を要して添加し、核形成を行った。そ
の後、60分の時間を要して溶液A1の温度を60℃に
上昇させ、3%KOHでpHを5.0に合わせた後、再
び溶液B1と溶液C1を同時混合法により各々55.4ミ
リリットル/minの流量で42分間添加した。
9号公報に記載の混合攪拌機を用い、溶液A1に溶液B1
及び溶液C1の各々464.3ミリリットルを同時混合
法により1.5分を要して添加し、核形成を行った。そ
の後、60分の時間を要して溶液A1の温度を60℃に
上昇させ、3%KOHでpHを5.0に合わせた後、再
び溶液B1と溶液C1を同時混合法により各々55.4ミ
リリットル/minの流量で42分間添加した。
【0104】この35℃から60℃への昇温及び溶液B
1、C1による再同時混合の間の銀電位(飽和銀−塩化銀
電極を比較電極として銀イオン選択電極で測定)を溶液
D1を用いてそれぞれ+8mV及び+16mVになるよ
う制御した。添加終了後3wt%のKOHによってpH
を6に合わせ、直ちに脱塩、水洗を行った。この種乳剤
はハロゲン化銀粒子の全投影面積の90%以下が最大隣
接辺比が1.0〜2.0の六角平板粒子よりなり、六角
平板粒子の平均厚さは0.06μm、平均粒径(円直径
換算)は0.59μmであることを電子顕微鏡にて確認
した。
1、C1による再同時混合の間の銀電位(飽和銀−塩化銀
電極を比較電極として銀イオン選択電極で測定)を溶液
D1を用いてそれぞれ+8mV及び+16mVになるよ
う制御した。添加終了後3wt%のKOHによってpH
を6に合わせ、直ちに脱塩、水洗を行った。この種乳剤
はハロゲン化銀粒子の全投影面積の90%以下が最大隣
接辺比が1.0〜2.0の六角平板粒子よりなり、六角
平板粒子の平均厚さは0.06μm、平均粒径(円直径
換算)は0.59μmであることを電子顕微鏡にて確認
した。
【0105】また、厚さの変動係数は40%、双晶面間
距離の変動係数は42%であった。
距離の変動係数は42%であった。
【0106】(平板状乳剤Em−1の調製)上記の種乳
剤1と以下に示す5種の溶液を用い、コア/シェル型構
造を有する平板状粒子を含有する乳剤Em−1を調製し
た。
剤1と以下に示す5種の溶液を用い、コア/シェル型構
造を有する平板状粒子を含有する乳剤Em−1を調製し
た。
【0107】 A2 オセインゼラチン 11.7g ポリプロピレンオキシ−ポリエチレンオキシ −ジサクシネートナトリウム塩(10%エタノール水溶液) 1.4ミリリットル 種乳剤1 0.10モル相当 水で550ミリリットルに仕上げる。
【0108】 B2 オセインゼラチン 5.9g 臭化カリウム 6.2g 沃化カリウム 0.8g 水で145ミリリットルに仕上げる。
【0109】 C2 硝酸銀 10.1g 水で145ミリリットルに仕上げる。
【0110】 D2 オセインゼラチン 6.1g 臭化カリウム 94g 水で304ミリリットルに仕上げる。
【0111】 E2 硝酸銀 137g 水で304ミリリットルに仕上げる。
【0112】67℃で激しく攪拌したA2液に、ダブル
ジェット法にてB2液とC2液を58分で添加した。次に
同じ液中にD2液とE2液を同ダブルジェット法にて48
分添加した。この間、pHは5.8、pAgは8.5に
保った。添加終了後種乳剤1と同様の脱塩沈澱を行い、
40℃にてpAg8.5、pH5.85の平均沃化銀含
有率が約0.5モル%のハロゲン化銀写真乳剤を得た。
得られた乳剤Em−1を電子顕微鏡にて観察したとこ
ろ、投影面積の81%が平均粒径0.96μm、粒径分
布の広さ(変動係数)が19%で、平均アスペクト比
4.5、エッジ比1.2の平板状ハロゲン化銀粒子でっ
た。また、双晶面間距離の平均は0.019μmであっ
た。
ジェット法にてB2液とC2液を58分で添加した。次に
同じ液中にD2液とE2液を同ダブルジェット法にて48
分添加した。この間、pHは5.8、pAgは8.5に
保った。添加終了後種乳剤1と同様の脱塩沈澱を行い、
40℃にてpAg8.5、pH5.85の平均沃化銀含
有率が約0.5モル%のハロゲン化銀写真乳剤を得た。
得られた乳剤Em−1を電子顕微鏡にて観察したとこ
ろ、投影面積の81%が平均粒径0.96μm、粒径分
布の広さ(変動係数)が19%で、平均アスペクト比
4.5、エッジ比1.2の平板状ハロゲン化銀粒子でっ
た。また、双晶面間距離の平均は0.019μmであっ
た。
【0113】得られた乳剤Em−1を、60℃に昇温
し、以下に示す分光増感色素を、固体微粒子状の分散物
として添加した後に、アデニン、チオシアン酸アンモニ
ウム、塩化金酸及びチオ硫酸ナトリウムの混合水溶液及
びトリフェニルフォスフィンセレナイドの固体微粒子状
の分散物(平均粒径1.0μm)を加え、更に60分後
に沃化銀粒子乳剤を加え、熟成を施した。熟成終了時に
安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデン(以下、TAIとする)の所
定量を添加した。
し、以下に示す分光増感色素を、固体微粒子状の分散物
として添加した後に、アデニン、チオシアン酸アンモニ
ウム、塩化金酸及びチオ硫酸ナトリウムの混合水溶液及
びトリフェニルフォスフィンセレナイドの固体微粒子状
の分散物(平均粒径1.0μm)を加え、更に60分後
に沃化銀粒子乳剤を加え、熟成を施した。熟成終了時に
安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデン(以下、TAIとする)の所
定量を添加した。
【0114】上記の添加剤とその添加量(AgX1モル
当たり)を以下に示す。
当たり)を以下に示す。
【0115】 分光増感色素(A) 100mg 分光増感色素(B) 1.5mg アデニン 10mg チオシアン酸カリウム 70mg 塩化金酸 2.3mg チオ硫酸ナトリウム 2.0mg トリフェニルフォスフィンセレナイド 0.3mg 沃化銀微粒子 230mg TAI 40mg 上記分光増感色素(A)及び(B)の固体微粒子状分散
物は、特開平5−297496号公報に記載の方法に準
じて調製した。即ち上記分光増感色素の所定量を予め2
7℃に調温した水に加え、高速攪拌機(ディゾルバー)
で、500rpmにて30〜120分間にわたって攪拌
することによって得た。また、上記トリフェニルフォス
フィンセレナイドの固体微粒子状分散物も上記分光増感
色素の固体微粒子状分散物と同様にして得た。上記分光
増感色素(A)及び(B)を以下に示す。
物は、特開平5−297496号公報に記載の方法に準
じて調製した。即ち上記分光増感色素の所定量を予め2
7℃に調温した水に加え、高速攪拌機(ディゾルバー)
で、500rpmにて30〜120分間にわたって攪拌
することによって得た。また、上記トリフェニルフォス
フィンセレナイドの固体微粒子状分散物も上記分光増感
色素の固体微粒子状分散物と同様にして得た。上記分光
増感色素(A)及び(B)を以下に示す。
【0116】分光増感色素(A) 5,5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′−ジ−(ス
ルホプロピル)オキサカルボシアニン−ナトリウム塩無
水物 分光増感色素(B) 5,5′−ジ−9−(ブトキシカルボニル)−1,1′
−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スルホブチル)ベン
ゾイミダゾロカルボシアニン−ナトリウム塩無水物 (酸ポリマー溶液の調製)酸ポリマーは、市販のモノマ
ーを出発物質として、村橋俊介等編「合成高分子」記載
の方法で調製した。途中、反応条件を変更して、共重合
比を変えたものを合成した。得られた物質の一覧を表1
に示す。得られた酸ポリマーは蒸留水に溶解し、7.5
%溶液を調製した。不溶解なものは水酸化カリウムを適
当量添加して、完全に溶解してから使用した。
ルホプロピル)オキサカルボシアニン−ナトリウム塩無
水物 分光増感色素(B) 5,5′−ジ−9−(ブトキシカルボニル)−1,1′
−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スルホブチル)ベン
ゾイミダゾロカルボシアニン−ナトリウム塩無水物 (酸ポリマー溶液の調製)酸ポリマーは、市販のモノマ
ーを出発物質として、村橋俊介等編「合成高分子」記載
の方法で調製した。途中、反応条件を変更して、共重合
比を変えたものを合成した。得られた物質の一覧を表1
に示す。得られた酸ポリマーは蒸留水に溶解し、7.5
%溶液を調製した。不溶解なものは水酸化カリウムを適
当量添加して、完全に溶解してから使用した。
【0117】
【表1】
【0118】(試料の作製)以下の塗布液を、下引き処
理済のブルーに着色した厚さ175μmのポリエチレン
テレフタレート支持体の両面に、下(支持体側)から横
断光遮光層、乳剤層、乳剤保護層の順に同時重層塗布、
乾燥して試料1〜44を作製した。
理済のブルーに着色した厚さ175μmのポリエチレン
テレフタレート支持体の両面に、下(支持体側)から横
断光遮光層、乳剤層、乳剤保護層の順に同時重層塗布、
乾燥して試料1〜44を作製した。
【0119】 第1層(横断光遮光層) 固体微粒子分散体染料(AH) 50mg/m2 ゼラチン 0.2g/m2 ドデジルベンゼンスルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(I) 5mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩 5mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.014μm) 10mg/m2 ラテックス(L) 0.2g/m2 ポリスチレンスルホン酸カリウム 50mg/m2 第2層(乳剤層) 乳剤 塗布銀量が片面当たり1.8g/m2になるように調整した。
【0120】 テトラクロロパラジウム(II)酸カリウム 100mg/m2 化合物(G) 0.5mg/m2 2,6−ビス(ヒドロキシアミノ)−4− ジエチルアミノ−1,3,5−トリアジン 5mg/m2 t−ブチル−カテコール 130mg/m2 ポリビリルピロリドン(分子量10,000) 35mg/m2 トリメチロールプロパン 350mg/m2 ジエチレングリコール 50g/m2 ニトロフェニル−トリフェニル−ホスホニウムクロリド 20mg/m2 1,3−ジヒドロキシベンゼン−4−スルホン酸アンモニウム 500mg/m2 化合物(H) 0.5mg/m2 C4H9OCH2CH(OH)CH2N(CH2COOH)2 350mg/m2 ラテックス(L) 0.4g/m2 デキストラン 表2記載の初期膨潤率になる量を添加 ソルビトール 0.1g/m2 第3層(保護下層) ゼラチン 0.2g/m2 ラテックス(L) 0.2g/m2 化合物(K) 15mg/m2 第4層(保護上層) ゼラチン 0.4mg/m2 TAI 50mg/m2 ポリメチルメタクリレート(マット剤:平均粒径5.0μm) 50mg/m2 ホルムアルデヒド 表2記載の初期膨潤率になる量を添加 化合物(P) 20mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ −1,3,5−トリアジンンナトリウム塩 10mg/m2 ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル 36mg/m2 ポリアクリルアミド(平均分子量10000) 0.1g/m2 デキストラン 表2記載の初期膨潤率になる量を添加 ポリシロキサン(SI) 20mg/m2 化合物(I) 12mg/m2 化合物(J) 2mg/m2 化合物(S−1) 7mg/m2 化合物(O) 50mg/m2 化合物(S−2) 5mg/m2 化合物(F−1) 3mg/m2 化合物(F−2) 2mg/m2 化合物(F−3) 1mg/m2
【0121】
【化9】
【0122】
【化10】
【0123】
【化11】
【0124】なお、素材の付量は片面分である。
【0125】次に本発明に用いた現像液及び定着液の組
成を示す。
成を示す。
【0126】 〈現像液の組成〉 Part−A(12リットル仕上げ用) 水酸化カリウム 600g 亜硫酸カリウム(50%溶液) 2180g ジエチレンテトラアミン5酢酸 100g 重炭酸水素ナトリウム 240g 5−メチルベンゾトリアゾール 1.2g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.2g 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メチル−3−ピラゾリドン 200g ハイドロキノン 340g エリソルビン酸ナトリウム 60g 水を加えて5000ミリリットルに仕上げる。
【0127】 Part−B(12リットル仕上げ用) 氷酢酸 170g トリエチレングリコール 324g 1−フェニル−3−ピラゾリドン 21.6g n−アセチル−D,L−ペニシラミン 2.4g Part−C グルタールアルデヒド(5%水溶液) 60g 現像液の調製は水約5リットルにPart−A、Par
t−B、Part−Cを同時添加し、撹拌溶解しながら
水を加え12リットルに仕上げKOHでpHを10.6
0に調整した。
t−B、Part−Cを同時添加し、撹拌溶解しながら
水を加え12リットルに仕上げKOHでpHを10.6
0に調整した。
【0128】この現像液1リットルに対して氷酢酸を
2.4g/リットル、臭化カリウムを7.9g/リット
ルを添加し、KOHでpHを10.45に調整し、現像
使用液とした。
2.4g/リットル、臭化カリウムを7.9g/リット
ルを添加し、KOHでpHを10.45に調整し、現像
使用液とした。
【0129】 〈定着液の組成〉 定着濃厚液(18リットル仕上げ用) 純水 5000g 亜硫酸ナトリウム 300g ホウ酸 108g 酢酸(90%) 400g 酢酸ナトリウム 198g β−アラニン 450g 1−(N,N−ジメチルアミノ)−エチル−5−メルカプトテトラゾール 18g 硫酸アルミニウム 540g チオ硫酸アンモニウム(70wt/vol%) 5000g 定着液調製は、上記定着濃厚液を撹拌しながら水で希釈
し18リットルに仕上げた。なお硫酸あるいはNaOH
は、水で希釈する前に、仕上がりのpHが4.55にな
るような量を添加した。
し18リットルに仕上げた。なお硫酸あるいはNaOH
は、水で希釈する前に、仕上がりのpHが4.55にな
るような量を添加した。
【0130】上記のハロゲン化銀写真感光材料の処理
は、Xレイ用自動現像機SRX−503(コニカ株式会
社製)を改造し処理時間が20秒処理できるようにした
ものの処理槽に上記現像使用液、定着液を入れ、Dry
to Dryで20秒及び45秒で処理レベルが平衡
状態になるまで(4つ切りサイズで2000枚処理)ラ
ンニングを行い、平衡レベルの処理剤を用いた。ランニ
ングフィルムは、タングステン光にて透過光黒化濃度が
1.0になるように均一に露光したものを用いた。補充
液は現像液と定着液を用いた。現像液の補充量、及び定
着液の補充量はともに180ml/m2とした。処理温
度は現像温度35℃、定着温度は33℃、水洗温度は2
0℃、乾燥温度は50℃とした。以下のように評価し
た。
は、Xレイ用自動現像機SRX−503(コニカ株式会
社製)を改造し処理時間が20秒処理できるようにした
ものの処理槽に上記現像使用液、定着液を入れ、Dry
to Dryで20秒及び45秒で処理レベルが平衡
状態になるまで(4つ切りサイズで2000枚処理)ラ
ンニングを行い、平衡レベルの処理剤を用いた。ランニ
ングフィルムは、タングステン光にて透過光黒化濃度が
1.0になるように均一に露光したものを用いた。補充
液は現像液と定着液を用いた。現像液の補充量、及び定
着液の補充量はともに180ml/m2とした。処理温
度は現像温度35℃、定着温度は33℃、水洗温度は2
0℃、乾燥温度は50℃とした。以下のように評価し
た。
【0131】〈センシトメトリーの評価〉得られたフィ
ルムを蛍光増感紙SRO−250(コニカ株式会社製)
で挟み、管電圧60kVp、管電流200mA、照射時
間0.05秒の条件でX線照射を行い、距離法にてセン
シトメトリーカーブを作成し、感度を求めた。感度の値
はカブリ+1.0の濃度を得るのに必要なX線量の逆数
として求めた。またガンマ値としてはカブリ+0.25
〜カブリ+2.0の濃度範囲において、濃度差を濃度を
得るのに必要な露光量の対数値差で割った値で求めた。
ルムを蛍光増感紙SRO−250(コニカ株式会社製)
で挟み、管電圧60kVp、管電流200mA、照射時
間0.05秒の条件でX線照射を行い、距離法にてセン
シトメトリーカーブを作成し、感度を求めた。感度の値
はカブリ+1.0の濃度を得るのに必要なX線量の逆数
として求めた。またガンマ値としてはカブリ+0.25
〜カブリ+2.0の濃度範囲において、濃度差を濃度を
得るのに必要な露光量の対数値差で割った値で求めた。
【0132】表2,3のセンシトメトリーの欄には、上
記のようにした求めて感度及びガンマのそれぞれについ
て、処理時間が20秒のときの値を45秒のときの値で
除した値を掲載した。この値が1.00の試料は迅速処
理でも特性に変化がない処理の安定性が良好なものであ
り、1.00を下まわると、迅速処理により特性の変動
が生じているものであることがわかる。
記のようにした求めて感度及びガンマのそれぞれについ
て、処理時間が20秒のときの値を45秒のときの値で
除した値を掲載した。この値が1.00の試料は迅速処
理でも特性に変化がない処理の安定性が良好なものであ
り、1.00を下まわると、迅速処理により特性の変動
が生じているものであることがわかる。
【0133】〈膜付きの評価〉濃度を3.0になるよう
に全面に均一露光を与えてから、上記と同様の自動現像
機を用い、大角サイズの試料10枚を連続処理して切り
口に発生する乳剤のめくり上がり及び表面上に転写し、
黒化している乳剤の発生度を評価した。
に全面に均一露光を与えてから、上記と同様の自動現像
機を用い、大角サイズの試料10枚を連続処理して切り
口に発生する乳剤のめくり上がり及び表面上に転写し、
黒化している乳剤の発生度を評価した。
【0134】 4:非常に良好 3:良好 2:劣る 1:非常に劣る。
【0135】〈スリ傷の評価〉得られた試料は、80%
RH、23℃の雰囲気下に3ケ月放置した後、未露光の
試料フィルムを、市販のナイロンたわしを用いて100
g/cm2の荷重をかけてこすった後、現像処理したフ
ィルムについて目視で評価した。
RH、23℃の雰囲気下に3ケ月放置した後、未露光の
試料フィルムを、市販のナイロンたわしを用いて100
g/cm2の荷重をかけてこすった後、現像処理したフ
ィルムについて目視で評価した。
【0136】 4:ほとんどスリ傷がない 3:実用上問題のないレベルだが、スリ傷は若干ある 2:スリ傷が目立つ程度に発生し、実用上問題である 1:スリ傷が非常に多く、傷の幅も太く濃度も濃い。
【0137】〈帯電性能の測定:スタチック耐性〉未露
光の試料を23℃、20%RHで2時間調湿した後、同
一の空調条件の暗室内において試料をゴムローラ、ナイ
ロンローラで摩擦した後、前記と同様の処理を行い帯電
性能を調べた。スタチックマークの発生の度合いの評価
は、目視により判定した。評価基準は次の通りである。
光の試料を23℃、20%RHで2時間調湿した後、同
一の空調条件の暗室内において試料をゴムローラ、ナイ
ロンローラで摩擦した後、前記と同様の処理を行い帯電
性能を調べた。スタチックマークの発生の度合いの評価
は、目視により判定した。評価基準は次の通りである。
【0138】 4:全く発生しない 3:面積で3%未満発生する 2:面積で3%以上10%未満発生する 1:面積で10%以上発生する。
【0139】〈帯電性能の評価:灰付着テスト法〉23
℃、20%RHの条件下で、現像済試料の乳剤面側をゴ
ムローラーで数回こすり、タバコの灰を近づけて、フィ
ルムにくっつくかどうか下記評価に従って調べた。
℃、20%RHの条件下で、現像済試料の乳剤面側をゴ
ムローラーで数回こすり、タバコの灰を近づけて、フィ
ルムにくっつくかどうか下記評価に従って調べた。
【0140】 4:1cmまで近づけても全く付着しない 3:1〜4cmまで近づけると付着する 2:4〜10cmまで近づけると付着する 1:10cm以上でも付着する。
【0141】得られた結果を表2、表3に示す。
【0142】
【表2】
【0143】
【表3】
【0144】表2、表3の結果から、本発明によれば迅
速処理においても安定した処理性能が得られ、かつ膜剥
がれ及びスリ傷が生じにくく優れた帯電性能を有してい
ることがわかる。
速処理においても安定した処理性能が得られ、かつ膜剥
がれ及びスリ傷が生じにくく優れた帯電性能を有してい
ることがわかる。
【0145】
【発明の効果】本発明により、迅速処理においても安定
した処理性能が得られ、かつ膜剥がれ及び擦り傷が生じ
にくく、帯電防止性能に優れたハロゲン化銀写真感光材
料及びその処理方法を提供することができた。
した処理性能が得られ、かつ膜剥がれ及び擦り傷が生じ
にくく、帯電防止性能に優れたハロゲン化銀写真感光材
料及びその処理方法を提供することができた。
Claims (5)
- 【請求項1】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を含む親
水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、該支持体の少なくとも一方の側に金属酸化物の粒
子を含有する下塗層を有し、かつ該下塗層及び/又は親
水性コロイド層の最下層にカルボキシル基、リン酸基、
スルホン酸基及びそれらの塩から選ばれる少なくとも1
種の酸残基を有するポリマーを含有し、かつ全親水性コ
ロイド層の乾燥膜厚が3.5μm以下であることを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項2】 初期膨潤率が30%以上120%以下で
あることを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀写真
感光材料。 - 【請求項3】 前記最下層と下塗層とが互いに隣接して
いることを特徴とする請求項1又は2記載のハロゲン化
銀写真感光材料。 - 【請求項4】 前記下塗層及び/又は親水性コロイド層
に下記一般式〔1〕で表される複素環化合物を少なくと
も1種含有することを特徴とする請求項1、2又は3記
載のハロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔1〕 Z−SM 〔上記一般式〔1〕中、Zは−SO3M1、−COO
R1、−OH及び−NHR2から選ばれる基を少なくとも
1個を直接に又は間接に置換されている複素環基を表
し、M、M1は水素原子、アルカリ金属原子又は四級ア
ンモニウム基を表し、R1は水素原子、アルカリ金属原
子又は炭素数1乃至6のアルキル基、R2は水素原子又
は炭素数1乃至6のアルキル基、−COR3、−COO
R3又は−SO2R3を表し、R3は水素原子、脂肪族基又
は芳香族基を表す。〕 - 【請求項5】 請求項1〜4いずれか1項記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料を全処理時間30秒以下で処理する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8938496A JPH09281649A (ja) | 1996-04-11 | 1996-04-11 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8938496A JPH09281649A (ja) | 1996-04-11 | 1996-04-11 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09281649A true JPH09281649A (ja) | 1997-10-31 |
Family
ID=13969182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8938496A Pending JPH09281649A (ja) | 1996-04-11 | 1996-04-11 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09281649A (ja) |
-
1996
- 1996-04-11 JP JP8938496A patent/JPH09281649A/ja active Pending
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