JPH0934053A - ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法Info
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- JPH0934053A JPH0934053A JP7189253A JP18925395A JPH0934053A JP H0934053 A JPH0934053 A JP H0934053A JP 7189253 A JP7189253 A JP 7189253A JP 18925395 A JP18925395 A JP 18925395A JP H0934053 A JPH0934053 A JP H0934053A
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- silver halide
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- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 乾燥性及び寸法安定性に優れるシンジオタク
チックポリスチレン(SPS)支持体を用いた印刷製版
用ハロゲン化銀写真感光材料において、25μm以下の
微小な網点を再現させる場合に、網点品質が劣化した
り、網点再現性が劣化したりすることが少ないハロゲン
化銀写真感光材料およびその処理方法を提供する。 【解決手段】 支持体上の一方の面に少なくとも一層の
ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、該ハロゲン化銀乳剤層側の少なくとも一層の
写真構成層中に下記(1)で表されるヒドラジン誘導体
を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチックポリスチ
レンを含有するハロゲン化銀写真感光材料およびその処
理方法。
チックポリスチレン(SPS)支持体を用いた印刷製版
用ハロゲン化銀写真感光材料において、25μm以下の
微小な網点を再現させる場合に、網点品質が劣化した
り、網点再現性が劣化したりすることが少ないハロゲン
化銀写真感光材料およびその処理方法を提供する。 【解決手段】 支持体上の一方の面に少なくとも一層の
ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、該ハロゲン化銀乳剤層側の少なくとも一層の
写真構成層中に下記(1)で表されるヒドラジン誘導体
を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチックポリスチ
レンを含有するハロゲン化銀写真感光材料およびその処
理方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は黒白ハロゲン化銀写真感
光材料およびその処理方法に関し、詳しくは印刷製版用
ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法に関する。
光材料およびその処理方法に関し、詳しくは印刷製版用
ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料の支持体とし
ては、3酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリエチレン
テレフタレートの合成高分子からなるものが一般的に知
られおり、特に印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料に
は、ポリエチレンテレフタレート(PET)支持体が従
来用いられてきた。また、シンジオタクチックポリスチ
レン(SPS)を主成分とする支持体を用いたハロゲン
化銀写真感光材料は、乾燥性に優れかつ処理前後あるい
は湿度変化に対する寸法安定性に優れることが知られて
いる(特開平3−131843)。
ては、3酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリエチレン
テレフタレートの合成高分子からなるものが一般的に知
られおり、特に印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料に
は、ポリエチレンテレフタレート(PET)支持体が従
来用いられてきた。また、シンジオタクチックポリスチ
レン(SPS)を主成分とする支持体を用いたハロゲン
化銀写真感光材料は、乾燥性に優れかつ処理前後あるい
は湿度変化に対する寸法安定性に優れることが知られて
いる(特開平3−131843)。
【0003】印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料にお
いては、通常、網点画像を用いるために写真特性上、超
硬調の画像再現をなしうる写真技術が知られている。そ
の中でも例えば米国特許4,269,929号等に見ら
れるようなヒドラジン誘導体を含有する写真感光材料が
知られている。さらに、印刷製版作業の中には、網点画
像を忠実に再現させる工程が含まれる。優れた印刷物を
作成するためには、製版用感光材料上で目的の網点が忠
実に再現されることが必要である。近年、印刷製版の分
野では、網点品質の向上が要求されており、例えば60
0線/インチ以上の高精細印刷や均一な極小点のランダ
ムパターンで構成されるFMスクリーニングと呼ばれる
手法は、25μm以下の微小な点を再現することが必要
である。これらは、Arレーザー,HeNeレーザー,
半導体レーザー等のレーザー光源を搭載した画像出力
機、いわゆる製版用スキャナーでの露光や、透過の網点
画像原稿をプリンターで露光する返し作業を行った際
に、目的の微小な網点が忠実に再現されることが必要で
ある。
いては、通常、網点画像を用いるために写真特性上、超
硬調の画像再現をなしうる写真技術が知られている。そ
の中でも例えば米国特許4,269,929号等に見ら
れるようなヒドラジン誘導体を含有する写真感光材料が
知られている。さらに、印刷製版作業の中には、網点画
像を忠実に再現させる工程が含まれる。優れた印刷物を
作成するためには、製版用感光材料上で目的の網点が忠
実に再現されることが必要である。近年、印刷製版の分
野では、網点品質の向上が要求されており、例えば60
0線/インチ以上の高精細印刷や均一な極小点のランダ
ムパターンで構成されるFMスクリーニングと呼ばれる
手法は、25μm以下の微小な点を再現することが必要
である。これらは、Arレーザー,HeNeレーザー,
半導体レーザー等のレーザー光源を搭載した画像出力
機、いわゆる製版用スキャナーでの露光や、透過の網点
画像原稿をプリンターで露光する返し作業を行った際
に、目的の微小な網点が忠実に再現されることが必要で
ある。
【0004】しかしながら、乾燥性及び寸法安定性の良
いシンジオタクチックポリスチレン(SPS)を主成分
とする支持体を用いたハロゲン化銀写真感光材料に上記
のような露光を行った場合、微小な網点の品質や再現性
が劣化するという問題があった。
いシンジオタクチックポリスチレン(SPS)を主成分
とする支持体を用いたハロゲン化銀写真感光材料に上記
のような露光を行った場合、微小な網点の品質や再現性
が劣化するという問題があった。
【0005】一方、環境に対する関心の高まりととも
に、写真処理廃液量の低減に関心が集まっている。写真
処理廃液は、廃液中に好ましからざる成分を含有してい
るためそのまま公共下水道に放出することができず、廃
液を回収し、面倒でかつ費用のかかる焼却法により破壊
処理している。これらの点から写真処理廃液の低減化が
強く望まれていた。
に、写真処理廃液量の低減に関心が集まっている。写真
処理廃液は、廃液中に好ましからざる成分を含有してい
るためそのまま公共下水道に放出することができず、廃
液を回収し、面倒でかつ費用のかかる焼却法により破壊
処理している。これらの点から写真処理廃液の低減化が
強く望まれていた。
【0006】黒白ハロゲン化銀写真感光材料、特に印刷
製版用ハロゲン化銀写真感光材料は、一般に露光後、現
像部、定着部、水洗部或いは安定化浴部、及び乾燥部を
有する自動現像機で処理される。上記のような写真処理
廃液の低減を解決する手段としては、自動現像機を用い
て処理をする際の補充量を減少させることが考えられ
る。
製版用ハロゲン化銀写真感光材料は、一般に露光後、現
像部、定着部、水洗部或いは安定化浴部、及び乾燥部を
有する自動現像機で処理される。上記のような写真処理
廃液の低減を解決する手段としては、自動現像機を用い
て処理をする際の補充量を減少させることが考えられ
る。
【0007】しかし処理液の補充量を減少して大量の印
刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料を処理する場合、様
々な問題が生じやすく、特に上記のような微小な網点の
品質・再現性の劣化がより顕著になる。
刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料を処理する場合、様
々な問題が生じやすく、特に上記のような微小な網点の
品質・再現性の劣化がより顕著になる。
【0008】また、最近、黒白ハロゲン化銀写真感光材
料においては現像処理時間の短縮が要求されている。従
来フィルム先端が自動現像機に挿入されてから乾燥部か
ら排出されるまでの全処理時間(Dry to Dr
y)が60秒以上であるのが通常であったが、近年は5
0秒以下の迅速処理を行う必要がでてきた。しかし、こ
のような迅速処理を行う場合、微小な網点を忠実に再現
させることは非常に困難であった。
料においては現像処理時間の短縮が要求されている。従
来フィルム先端が自動現像機に挿入されてから乾燥部か
ら排出されるまでの全処理時間(Dry to Dr
y)が60秒以上であるのが通常であったが、近年は5
0秒以下の迅速処理を行う必要がでてきた。しかし、こ
のような迅速処理を行う場合、微小な網点を忠実に再現
させることは非常に困難であった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
し、本発明の目的は、乾燥性及び寸法安定性に優れるシ
ンジオタクチックポリスチレン(SPS)支持体を用い
た印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料において、25
μm以下の微小な網点を再現させる場合に、網点品質が
劣化したり、網点再現性が劣化したりすることが少ない
ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法を提供す
ることにある。
し、本発明の目的は、乾燥性及び寸法安定性に優れるシ
ンジオタクチックポリスチレン(SPS)支持体を用い
た印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料において、25
μm以下の微小な網点を再現させる場合に、網点品質が
劣化したり、網点再現性が劣化したりすることが少ない
ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法を提供す
ることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
構成により達成された。
構成により達成された。
【0011】(1).支持体上の一方の面に少なくとも
一層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感
光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層側の少なくとも
一層の写真構成層中に下記一般式(1)で表されるヒド
ラジン誘導体を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチ
ックポリスチレンを含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
一層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感
光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層側の少なくとも
一層の写真構成層中に下記一般式(1)で表されるヒド
ラジン誘導体を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチ
ックポリスチレンを含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
【0012】
【化7】
【0013】〔式中、R1は脂肪族基又は芳香族基を表
し、さらにその置換基の一部として−(CH2CH2O)
n−、−(CH2CH(CH3)O)n−、−(CH2CH
(OH)CH2O)n−(但しnは1以上の整数)の部分
構造を含有するか、または4級アンモニウムカチオン基
を含有する。又、R1はハロゲン化銀吸着基を含有して
もよい。G1は−CO−、−COCO−、−CS−、−
C(=NR2)−、−SO−、−SO2−又は−P(=
O)(G2R2)−基を表す。G2は単なる結合手、−O
−、−S−又は−N(R2)−基を表し、R2は水素原子
又は脂肪族基、芳香族基を表す。分子内に複数のR2が
存在する場合、それらは同じでも異なってもよい。
A1、A2の一方は水素原子であり、他方は水素原子又は
アシル基、アルキル基又はアリールスルホニル基を表
す。〕 (2).ヒドラジン誘導体が下記一般式(2)で表され
ることを特徴とする(1)に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
し、さらにその置換基の一部として−(CH2CH2O)
n−、−(CH2CH(CH3)O)n−、−(CH2CH
(OH)CH2O)n−(但しnは1以上の整数)の部分
構造を含有するか、または4級アンモニウムカチオン基
を含有する。又、R1はハロゲン化銀吸着基を含有して
もよい。G1は−CO−、−COCO−、−CS−、−
C(=NR2)−、−SO−、−SO2−又は−P(=
O)(G2R2)−基を表す。G2は単なる結合手、−O
−、−S−又は−N(R2)−基を表し、R2は水素原子
又は脂肪族基、芳香族基を表す。分子内に複数のR2が
存在する場合、それらは同じでも異なってもよい。
A1、A2の一方は水素原子であり、他方は水素原子又は
アシル基、アルキル基又はアリールスルホニル基を表
す。〕 (2).ヒドラジン誘導体が下記一般式(2)で表され
ることを特徴とする(1)に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
【0014】
【化8】
【0015】〔式中、R1は脂肪族基、芳香族基または
複素環基を表し、これらは置換されていてもよい。Gは
−CO−、−COCO−、−SO−、−SO2−、チオ
カルボニル基、イミノメチレン基又は−P(O)
(R4)−基を表す。R2はGで置換された炭素原子が、
少なくとも一つの電子吸引基で置換された置換アルキル
基を表す。R4は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アル
コキシ基、アリールオキシ基又はアミノ基を表す。〕 (3).ヒドラジン誘導体が下記一般式(3)または
(4)で表されることを特徴とする(1)に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
複素環基を表し、これらは置換されていてもよい。Gは
−CO−、−COCO−、−SO−、−SO2−、チオ
カルボニル基、イミノメチレン基又は−P(O)
(R4)−基を表す。R2はGで置換された炭素原子が、
少なくとも一つの電子吸引基で置換された置換アルキル
基を表す。R4は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アル
コキシ基、アリールオキシ基又はアミノ基を表す。〕 (3).ヒドラジン誘導体が下記一般式(3)または
(4)で表されることを特徴とする(1)に記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料。
【0016】
【化9】
【0017】〔式中、X1はアルキル基、アルコキシ
基、置換アミノ基またはアルキルチオ基を表す。Y1は
アルコキシ基、アリーロキシ基、置換アミノ基、アルキ
ルチオ基又はアリールチオ基を表す。R1はアルキレン
基を表す。〕
基、置換アミノ基またはアルキルチオ基を表す。Y1は
アルコキシ基、アリーロキシ基、置換アミノ基、アルキ
ルチオ基又はアリールチオ基を表す。R1はアルキレン
基を表す。〕
【0018】
【化10】
【0019】〔式中、X2は一般式(3)におけるX1と
同義である。Y2は電子吸引基を表し、R2は水素原子、
アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、置換アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を
表し、さらに置換されていてもよい。nは1〜5までの
整数を表し、分子内に複数存在するY2とR2は、それぞ
れ同じであっても異なってもよい。〕 (4).ヒドラジン誘導体が下記一般式(5)で表され
ることを特徴とする(1)に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
同義である。Y2は電子吸引基を表し、R2は水素原子、
アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、置換アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を
表し、さらに置換されていてもよい。nは1〜5までの
整数を表し、分子内に複数存在するY2とR2は、それぞ
れ同じであっても異なってもよい。〕 (4).ヒドラジン誘導体が下記一般式(5)で表され
ることを特徴とする(1)に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
【0020】
【化11】
【0021】〔式中、Arは置換フェニル基又は置換も
しくは非置換のアリール基を表し、Gは−CO−、−S
O−、−SO2−、−PO2−、−PO3−又はC=NR2
で、X+はカチオン性の基を含む基を表す。R、R′、
R2は同一でも異なってもよく水素原子、炭素数1〜6
のアルキル基、炭素数1〜6のアルキルスルフィニル基
でA-はアニオン性基を表す。〕 (5).ヒドラジン誘導体が下記一般式(6)で表され
ることを特徴とする(1)に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
しくは非置換のアリール基を表し、Gは−CO−、−S
O−、−SO2−、−PO2−、−PO3−又はC=NR2
で、X+はカチオン性の基を含む基を表す。R、R′、
R2は同一でも異なってもよく水素原子、炭素数1〜6
のアルキル基、炭素数1〜6のアルキルスルフィニル基
でA-はアニオン性基を表す。〕 (5).ヒドラジン誘導体が下記一般式(6)で表され
ることを特徴とする(1)に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
【0022】
【化12】
【0023】〔式中、R1は芳香族基であり置換されて
いてもよい。A1及びA2の1つは水素原子であり、他
は、水素原子、アリールスルホニル基、トリフルオロア
セチル基を表す。Gは−CO−、−COCO−、−SO
−、−SO2−または、N−置換または非置換のイミノ
基である。Xは、pH9.5〜12.5において、現像
主薬の酸化体の存在において、−G−X部分を残余分子
から分裂させ、−G−X部分の原子を含む環式構造を生
成させる環化反応を生起するような部分である。〕 (6).自動現像機で現像補充液量及び定着補充液量が
それぞれ50ml/m2〜300ml/m2で現像液及び
定着液に補充し、処理されることを特徴とする(1)〜
(5)のいずれか一項に記載のハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。
いてもよい。A1及びA2の1つは水素原子であり、他
は、水素原子、アリールスルホニル基、トリフルオロア
セチル基を表す。Gは−CO−、−COCO−、−SO
−、−SO2−または、N−置換または非置換のイミノ
基である。Xは、pH9.5〜12.5において、現像
主薬の酸化体の存在において、−G−X部分を残余分子
から分裂させ、−G−X部分の原子を含む環式構造を生
成させる環化反応を生起するような部分である。〕 (6).自動現像機で現像補充液量及び定着補充液量が
それぞれ50ml/m2〜300ml/m2で現像液及び
定着液に補充し、処理されることを特徴とする(1)〜
(5)のいずれか一項に記載のハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。
【0024】(7).自動現像機で全処理時間が15〜
60秒で処理されることを特徴とする(1)〜(6)の
いずれか一項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法。 以下、本発明を詳細に説明する。
60秒で処理されることを特徴とする(1)〜(6)の
いずれか一項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法。 以下、本発明を詳細に説明する。
【0025】本発明において、シンジオタクチックポリ
スチレン(SPS)を含有する支持体とは、立体規則性
構造(タクティシティー)が主としてシンジオタクチッ
ク構造、即ち炭素−炭素結合で形成される主鎖に対して
側鎖であるフェニール基や置換フェニール基が交互に反
対方向に位置する立体構造を有するものであり、主鎖の
主たる連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体ある
いは、それを含む組成物であり、スチレンの単独重合体
であれば、特開昭62−117708号記載の方法で重
合することが可能であり、またその他の重合体について
は、特開平1−46912号、同1−178505号等
に記載された方法により重合することにより得ることが
できる。
スチレン(SPS)を含有する支持体とは、立体規則性
構造(タクティシティー)が主としてシンジオタクチッ
ク構造、即ち炭素−炭素結合で形成される主鎖に対して
側鎖であるフェニール基や置換フェニール基が交互に反
対方向に位置する立体構造を有するものであり、主鎖の
主たる連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体ある
いは、それを含む組成物であり、スチレンの単独重合体
であれば、特開昭62−117708号記載の方法で重
合することが可能であり、またその他の重合体について
は、特開平1−46912号、同1−178505号等
に記載された方法により重合することにより得ることが
できる。
【0026】そのタクティシティーは同位体炭素によ
る、核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量され
る。13C−NMR法により測定されるタクティシティー
は、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個
の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の
場合はペンタッドによって示すことができるが、本発明
に言う主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体とは、通常ラセミダイアッドが75%以上、
好ましくは85%以上、若しくはラセミトリアッドが6
0%以上、好ましくは75%以上、若しくはラセミペン
タッドが30%以上、好ましくは50%以上であること
が好ましい。
る、核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量され
る。13C−NMR法により測定されるタクティシティー
は、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個
の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の
場合はペンタッドによって示すことができるが、本発明
に言う主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体とは、通常ラセミダイアッドが75%以上、
好ましくは85%以上、若しくはラセミトリアッドが6
0%以上、好ましくは75%以上、若しくはラセミペン
タッドが30%以上、好ましくは50%以上であること
が好ましい。
【0027】シンジオタクチックポリスチレン系組成物
を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチレ
ン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化(アルキ
ル)スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。特
に、アルキルスチレンとスチレンの共重合体は、50μ
m以上の膜厚を有するフィルムを得るためには、好まし
い組み合わせである。
を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチレ
ン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化(アルキ
ル)スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。特
に、アルキルスチレンとスチレンの共重合体は、50μ
m以上の膜厚を有するフィルムを得るためには、好まし
い組み合わせである。
【0028】本発明のシンジオタクチック構造を有する
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを、
重合用の触媒として特開平5−320448号、第4頁
〜10頁に記載の(イ)(a)遷移金属化合物及び
(b)アルミノキサンを主成分とするもの、又は(ロ)
(a)遷移金属化合物及び(c)遷移金属化合物と反応
してイオン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするも
のを用いて重合して製造することができる。
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを、
重合用の触媒として特開平5−320448号、第4頁
〜10頁に記載の(イ)(a)遷移金属化合物及び
(b)アルミノキサンを主成分とするもの、又は(ロ)
(a)遷移金属化合物及び(c)遷移金属化合物と反応
してイオン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするも
のを用いて重合して製造することができる。
【0029】本発明の支持体に用いられるスチレン系重
合体を製造するには、まず、前記スチレン系単量体を十
分に精製してから上記触媒のいずれかの存在下に重合さ
せる。この際、重合方法、重合条件(重合温度,重合時
間)、溶媒などは適宜選定すればよい。通常は−50〜
200℃、好ましくは30〜100℃の温度において、
1秒〜10時間、好ましくは1分〜6時間程度重合が行
われる。また、重合方法としては、スラリー重合法,溶
液重合法,塊状重合法,気相重合法など、いずれも用い
ることができるし、連続重合,非連続重合のいずれであ
ってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒とし
て、例えばベンゼン,トルエン,キシレン,エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素,シクロペンタン,ヘキサ
ン,ヘプタン,オクタンなどの脂肪族炭化水素などを一
種又は二種以上を組合わせて使用することができる。こ
の場合、単量体/溶媒(体積比)は任意に選択すること
ができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、通
常用いられている方法によって行えばよい。分子量制御
は例えば水素,温度,モノマー濃度などで行うことがで
きる。
合体を製造するには、まず、前記スチレン系単量体を十
分に精製してから上記触媒のいずれかの存在下に重合さ
せる。この際、重合方法、重合条件(重合温度,重合時
間)、溶媒などは適宜選定すればよい。通常は−50〜
200℃、好ましくは30〜100℃の温度において、
1秒〜10時間、好ましくは1分〜6時間程度重合が行
われる。また、重合方法としては、スラリー重合法,溶
液重合法,塊状重合法,気相重合法など、いずれも用い
ることができるし、連続重合,非連続重合のいずれであ
ってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒とし
て、例えばベンゼン,トルエン,キシレン,エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素,シクロペンタン,ヘキサ
ン,ヘプタン,オクタンなどの脂肪族炭化水素などを一
種又は二種以上を組合わせて使用することができる。こ
の場合、単量体/溶媒(体積比)は任意に選択すること
ができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、通
常用いられている方法によって行えばよい。分子量制御
は例えば水素,温度,モノマー濃度などで行うことがで
きる。
【0030】また、本発明の効果を損なわない程度に、
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。
【0031】SPS(シンジオタクチック・ポリスチレ
ン)を製膜するに用いる重合体は、重量平均分子量が1
0,000以上、更に好ましくは30,000以上であ
る。重量平均分子量が10,000未満のものでは、強
度特性や耐熱性に優れたフイルムにならない場合があ
る。重量平均分子量の上限については、特に限定される
ものではないが、1,500,000以上では延伸張力
の増加に伴う破断の発生などが生じる可能性がある。
ン)を製膜するに用いる重合体は、重量平均分子量が1
0,000以上、更に好ましくは30,000以上であ
る。重量平均分子量が10,000未満のものでは、強
度特性や耐熱性に優れたフイルムにならない場合があ
る。重量平均分子量の上限については、特に限定される
ものではないが、1,500,000以上では延伸張力
の増加に伴う破断の発生などが生じる可能性がある。
【0032】本発明のSPSフィルムの分子量は、製膜
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10000〜3000000であることが好まし
く、特には30000〜1500000のものが好まし
い。
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10000〜3000000であることが好まし
く、特には30000〜1500000のものが好まし
い。
【0033】またこの時の分子量分布(数平均分子量/
重量平均分子量)は、1.5〜8が好ましい。この分子
量分布については、異なる分子量のものを混合すること
により調整することも可能である。更に本発明のシンジ
オタクチックポリスチレン系フイルムは、シンジオタク
チックポリスチレン系ペレットを120〜180℃で、
1〜24時間、真空下或いは、常圧下で空気又は窒素等
の不活性気体雰囲気下で乾燥する。目的とする含有水分
率は、特に限定されないが加水分解による機械的強度等
の低下を防ぐ観点から、0.05%以下、好ましくは
0.01%以下、更に好ましくは0.005%以下が良
い。しかしながら目的を達成すれば、これらの方法に特
に限定されるものではない。
重量平均分子量)は、1.5〜8が好ましい。この分子
量分布については、異なる分子量のものを混合すること
により調整することも可能である。更に本発明のシンジ
オタクチックポリスチレン系フイルムは、シンジオタク
チックポリスチレン系ペレットを120〜180℃で、
1〜24時間、真空下或いは、常圧下で空気又は窒素等
の不活性気体雰囲気下で乾燥する。目的とする含有水分
率は、特に限定されないが加水分解による機械的強度等
の低下を防ぐ観点から、0.05%以下、好ましくは
0.01%以下、更に好ましくは0.005%以下が良
い。しかしながら目的を達成すれば、これらの方法に特
に限定されるものではない。
【0034】《重合例》特開平3−131843号に準
じてSPSペレットを作製した。触媒の調整から重合反
応までは、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積5
00mlのガラス製容器に硫酸銅5水塩(CuSO4・
5H2O)17.8g(71mmol)精製ベンゼン2
00mlおよびトリメチルアルミニウム24mlをい
れ、40℃で8時間撹拌して触媒の調整を行った。これ
をアルゴン気流下No.3ガラスフィルターで濾過し
て、濾液を凍結乾燥させた。これを取り出し、2lのス
テンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブチルアル
ミニウム、ペンタシクロペンタジエチルチタンメトキシ
ドを混合し90℃に加熱した。
じてSPSペレットを作製した。触媒の調整から重合反
応までは、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積5
00mlのガラス製容器に硫酸銅5水塩(CuSO4・
5H2O)17.8g(71mmol)精製ベンゼン2
00mlおよびトリメチルアルミニウム24mlをい
れ、40℃で8時間撹拌して触媒の調整を行った。これ
をアルゴン気流下No.3ガラスフィルターで濾過し
て、濾液を凍結乾燥させた。これを取り出し、2lのス
テンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブチルアル
ミニウム、ペンタシクロペンタジエチルチタンメトキシ
ドを混合し90℃に加熱した。
【0035】この中に、精製したスチレンを1l入れ、
さらに、精製したp−メチルスチレン70mlを入れ、
この温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで
冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に
滴下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノ
ールで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロ
ルベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレン
で検量したGPCの測定の結果から求めたこの重合体の
重量平均分子量は、415000であった。またこの重
合体の融点は245℃で、13C−NMRの測定からも得
られた重合体が、シンジオタクチック構造を有すること
を確認した。これを押出機でペレット化した後に、13
0℃で乾燥させた。
さらに、精製したp−メチルスチレン70mlを入れ、
この温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで
冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に
滴下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノ
ールで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロ
ルベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレン
で検量したGPCの測定の結果から求めたこの重合体の
重量平均分子量は、415000であった。またこの重
合体の融点は245℃で、13C−NMRの測定からも得
られた重合体が、シンジオタクチック構造を有すること
を確認した。これを押出機でペレット化した後に、13
0℃で乾燥させた。
【0036】本発明のSPS支持体としては、スチレン
から作られるSPS単独であることが好ましいが、さら
にSPSを含む支持体として、SPSに、主鎖がメソ連
鎖であるアイソタクチック構造を有するスチレン系重合
体(IPS)を混合することにより結晶化速度のコント
ロールが可能であり、より強固な支持体とすることが可
能である。
から作られるSPS単独であることが好ましいが、さら
にSPSを含む支持体として、SPSに、主鎖がメソ連
鎖であるアイソタクチック構造を有するスチレン系重合
体(IPS)を混合することにより結晶化速度のコント
ロールが可能であり、より強固な支持体とすることが可
能である。
【0037】SPSとIPSとを混合する際には、その
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、30:7
0〜99:1好ましくは、50:50〜98:2であ
る。
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、30:7
0〜99:1好ましくは、50:50〜98:2であ
る。
【0038】支持体中には、本発明の目的を妨げない範
囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。
囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。
【0039】製膜時に押し出す方法は、公知の方法が適
用出来るが、例えばTダイで押し出すことが好ましい。
シンジオタクチックポリスチレンペレットを280〜3
50℃で溶融、押出して、キャスティングロール上で静
電印加しながら冷却固化させて未延伸フィルムを作製す
る。
用出来るが、例えばTダイで押し出すことが好ましい。
シンジオタクチックポリスチレンペレットを280〜3
50℃で溶融、押出して、キャスティングロール上で静
電印加しながら冷却固化させて未延伸フィルムを作製す
る。
【0040】次にこの未延伸フィルムを2軸延伸し、2
軸配向させる。延伸方法としては、公知の方法、例え
ば、縦延伸及び横延伸を順に行う逐次2軸延伸法のほ
か、横延伸・縦延伸の逐次2軸延伸法、横・縦・縦延伸
法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、または同時
2軸延伸法等を採用することができ、要求される機械的
強度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択すること
ができる。
軸配向させる。延伸方法としては、公知の方法、例え
ば、縦延伸及び横延伸を順に行う逐次2軸延伸法のほ
か、横延伸・縦延伸の逐次2軸延伸法、横・縦・縦延伸
法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、または同時
2軸延伸法等を採用することができ、要求される機械的
強度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択すること
ができる。
【0041】一般に、最初に長手方向に、次に幅手方向
に延伸を行う逐次2軸延伸方法が好ましく、この場合、
縦横の延伸倍率としては、2.5〜6倍で、縦延伸温度
はポリマーのガラス転移温度(Tg)に依存するが、通
常(Tg+10)℃〜(Tg+50)℃の温度範囲で延
伸する。シンジオタクチックポリスチレン系フイルムの
場合は、110〜150℃で行うことが好ましい。幅手
方向の延伸温度としては、長手方向より若干高くして1
15〜160℃で行うことが好ましい。つぎに、この延
伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度として
は、用途に応じて適宜変更出来る。高い収縮率を要求さ
れる収縮包装用途には150℃以下、寸法安定性を要求
される写真、印刷、医用用途には、目的に応じて適宜1
50〜270℃の温度が採用される。
に延伸を行う逐次2軸延伸方法が好ましく、この場合、
縦横の延伸倍率としては、2.5〜6倍で、縦延伸温度
はポリマーのガラス転移温度(Tg)に依存するが、通
常(Tg+10)℃〜(Tg+50)℃の温度範囲で延
伸する。シンジオタクチックポリスチレン系フイルムの
場合は、110〜150℃で行うことが好ましい。幅手
方向の延伸温度としては、長手方向より若干高くして1
15〜160℃で行うことが好ましい。つぎに、この延
伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度として
は、用途に応じて適宜変更出来る。高い収縮率を要求さ
れる収縮包装用途には150℃以下、寸法安定性を要求
される写真、印刷、医用用途には、目的に応じて適宜1
50〜270℃の温度が採用される。
【0042】熱処理時間は、特に限定されないが通常1
秒から2分程度が採用される。
秒から2分程度が採用される。
【0043】必要に応じて、縦熱弛緩、横熱弛緩処理等
を施してもよいことは言うまでもない。
を施してもよいことは言うまでもない。
【0044】この後にフィルムを、急冷して巻き取って
も良いが、Tg〜熱処理温度の間で0.1分〜1500
時間かけて徐冷し大きな径のコアに巻取り40℃〜Tg
間でさらに−0.01〜−20℃/分の間の平均冷却速
度で冷却すると、支持体に巻ぐせを付けにくくする効果
がある点で好ましい。もちろん40℃〜Tg間での熱処
理は、支持体を巻とってから乳剤塗布後製品断裁までに
0.1分〜1500時間恒温槽に入れて行うことが好ま
しい。
も良いが、Tg〜熱処理温度の間で0.1分〜1500
時間かけて徐冷し大きな径のコアに巻取り40℃〜Tg
間でさらに−0.01〜−20℃/分の間の平均冷却速
度で冷却すると、支持体に巻ぐせを付けにくくする効果
がある点で好ましい。もちろん40℃〜Tg間での熱処
理は、支持体を巻とってから乳剤塗布後製品断裁までに
0.1分〜1500時間恒温槽に入れて行うことが好ま
しい。
【0045】上述の製膜法に加えて、易滑性、接着性、
帯電防止性能等の諸特性を付与するため、SPS支持体
の少なくとも片面に、前述の特性等を付与したSPS支
持体を積層した、SPS積層フイルムを作製することも
出来る。積層の方法は、樹脂が溶融された状態で層流で
積層した後、ダイより押し出すとか、冷却、固化したS
PS未延伸支持体又はSPS一軸延伸支持体に、溶融S
PSを押出ラミネートし、しかる後縦・横両方向に又
は、一軸延伸方向と直角方向に延伸、熱固定して得られ
る。SPS樹脂の押出条件、延伸温度、延伸倍率、熱固
定温度等は、SPS積層支持体の組み合わせによっては
若干異なるが、最適条件を選ぶよう微調整すれば良く、
大幅な変更にはならない。
帯電防止性能等の諸特性を付与するため、SPS支持体
の少なくとも片面に、前述の特性等を付与したSPS支
持体を積層した、SPS積層フイルムを作製することも
出来る。積層の方法は、樹脂が溶融された状態で層流で
積層した後、ダイより押し出すとか、冷却、固化したS
PS未延伸支持体又はSPS一軸延伸支持体に、溶融S
PSを押出ラミネートし、しかる後縦・横両方向に又
は、一軸延伸方向と直角方向に延伸、熱固定して得られ
る。SPS樹脂の押出条件、延伸温度、延伸倍率、熱固
定温度等は、SPS積層支持体の組み合わせによっては
若干異なるが、最適条件を選ぶよう微調整すれば良く、
大幅な変更にはならない。
【0046】勿論、積層は2層以上の積層からなり、同
種ポリマーの組み合わせ(共重合ポリマーの組み合わせ
を含む)であっても良いし、異種ポリマーであっても良
いことは言うまでもない。
種ポリマーの組み合わせ(共重合ポリマーの組み合わせ
を含む)であっても良いし、異種ポリマーであっても良
いことは言うまでもない。
【0047】上述の製膜法は、その用途、目的に応じて
適宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、こ
れらの方法に限定されるものではない。
適宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、こ
れらの方法に限定されるものではない。
【0048】このようにして得られたシンジオタクチッ
ク・ポリスチレン系延伸フイルムの厚さは、用途に応じ
て異なるが、極薄コンデンサー用の0.3μm厚さのも
の、通常コンデンサー用の6μm、12μm厚み、医
用、印刷感材用の100μm、電気絶縁材料(スロット
ライナー等)用の250μm厚さと、多岐に亘るが、上
記製膜条件は、0.3〜500μmの厚さのものに有効
である。
ク・ポリスチレン系延伸フイルムの厚さは、用途に応じ
て異なるが、極薄コンデンサー用の0.3μm厚さのも
の、通常コンデンサー用の6μm、12μm厚み、医
用、印刷感材用の100μm、電気絶縁材料(スロット
ライナー等)用の250μm厚さと、多岐に亘るが、上
記製膜条件は、0.3〜500μmの厚さのものに有効
である。
【0049】つぎにハロゲン化銀写真感光材料用親水性
コロイド層塗布前の支持体の下引処理に付いてのべる。
コロイド層塗布前の支持体の下引処理に付いてのべる。
【0050】下引層を塗設する際には、薬品処理、機械
的粗面化処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などを施すことが好ましい。これらの処理
により表面の表面張力を50dyne/cm以上にする
事が好ましい。
的粗面化処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などを施すことが好ましい。これらの処理
により表面の表面張力を50dyne/cm以上にする
事が好ましい。
【0051】下引層に付いては、当業界で用いられてい
るものならいずれを用いても構わない。
るものならいずれを用いても構わない。
【0052】また下引層は、単層でも構わないが、より
機能性を求め、接着力を高めるためには、重層であるこ
とが望ましい。
機能性を求め、接着力を高めるためには、重層であるこ
とが望ましい。
【0053】以下に下引の重層法について説明する。
【0054】重層法においては、下引第1層は、支持体
に良く接着することが好ましく、素材としては、メタク
リル酸、アクリル酸、等の不飽和カルボン酸もしくはそ
のエステル、スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、
等の単量体から得られる重合体もしくは、共重合体、水
分散系のポリエステル、ポリウレタン、ポリエチレンイ
ミン、エポキシ樹脂などが挙げられる。
に良く接着することが好ましく、素材としては、メタク
リル酸、アクリル酸、等の不飽和カルボン酸もしくはそ
のエステル、スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、
等の単量体から得られる重合体もしくは、共重合体、水
分散系のポリエステル、ポリウレタン、ポリエチレンイ
ミン、エポキシ樹脂などが挙げられる。
【0055】下引第1層に用いることができるポリマー
ラテックスとしては、ゴム状物質を用いてもよい。ゴム
状物質は一般にビニル単量体−ジオレフィンからなり、
ビニル単量体としては、スチレン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、メタクリル酸メチル、アクリル酸
メチル、酢酸ビニル等が好ましく用いられ、ジオレフィ
ンとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレンが
好ましく用いられる。これらの成分に加え、不飽和カル
ボン酸としてアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
無水マレイン酸若しくはこれらのアルキルエステル、ア
クロレイン、メテクロレイン、アクリル酸グリシジル、
メタクリル酸グリシジル、アクリル酸2−ヒドロキシエ
チル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸
アリル、メタクリル酸アリル、N−メチロールアクリル
アミド、N−メチロールメタクリルアミド、ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート等の架橋可能な成分
を加えるのがよい。ジオレフィンの含有量として好まし
くは10〜60重量%程度である。市販されていて入手
しやすいものとして、スチレン−ブタジエン、スチレン
−イソプレン、スチレン−クロロプレン、メチルメタク
リレート−ブタジエン、アクリロニトリル−ブタジエン
等を挙げることができるが好ましくはポリマーラテック
スを構成するモノマーとしてスチレン及びその誘導体、
メタクリル酸,アクリル酸やイタコン酸及びそれらのエ
ステル(アルキルアクリレート、アルキルメタクリレー
ト等)、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート,2−ヒドロキシプロピル
アクリレート,2−ヒドロキシプロピルメタクリレート
等のヒドロキシ基含有モノマー、アクリルアミド,メタ
クリルアミド,N−メチルメタクリルアミド,N−メチ
ルアクリルアミド,N−メチロールメタクリルアミド,
N−メチロールアクリルアミド,N,N−ジメチロール
アクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド等
のアミド基含有モノマー、N,N−ジエチルアミノエチ
ルアクリレート,N,N−ジエチルアミノメタクリレー
ト等のアミノ基含有モノマー、グリシジルアクリレー
ト,グリシジルメタクリレート等のエポキシ基含有モノ
マー、アクリル酸やメタクリル酸の塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩等)等のカルボキシル基又
はカルボン酸塩を含有するモノマー、スチレンスルホン
酸やビニルスルホン酸及びそれらの塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩等)等のスルホン酸基又は
スルホン酸塩を含有するモノマー、イタコン酸,マレイ
ン酸,フマル酸の塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アン
モニウム塩)等のカルボキシル基又はカルボン酸塩を含
有するモノマー、無水マレイン酸,無水イタコン酸等の
酸無水物を含有するモノマー、ビニルイソシアネート、
アリルイソシアネート、ビニルメチルエーテル、ビニル
エチルエーテル、アクリロニトリル、酢酸ビニル等が挙
げられ、一種もしくは二種以上で共重合させて用いるこ
とができる。
ラテックスとしては、ゴム状物質を用いてもよい。ゴム
状物質は一般にビニル単量体−ジオレフィンからなり、
ビニル単量体としては、スチレン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、メタクリル酸メチル、アクリル酸
メチル、酢酸ビニル等が好ましく用いられ、ジオレフィ
ンとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレンが
好ましく用いられる。これらの成分に加え、不飽和カル
ボン酸としてアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
無水マレイン酸若しくはこれらのアルキルエステル、ア
クロレイン、メテクロレイン、アクリル酸グリシジル、
メタクリル酸グリシジル、アクリル酸2−ヒドロキシエ
チル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸
アリル、メタクリル酸アリル、N−メチロールアクリル
アミド、N−メチロールメタクリルアミド、ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート等の架橋可能な成分
を加えるのがよい。ジオレフィンの含有量として好まし
くは10〜60重量%程度である。市販されていて入手
しやすいものとして、スチレン−ブタジエン、スチレン
−イソプレン、スチレン−クロロプレン、メチルメタク
リレート−ブタジエン、アクリロニトリル−ブタジエン
等を挙げることができるが好ましくはポリマーラテック
スを構成するモノマーとしてスチレン及びその誘導体、
メタクリル酸,アクリル酸やイタコン酸及びそれらのエ
ステル(アルキルアクリレート、アルキルメタクリレー
ト等)、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート,2−ヒドロキシプロピル
アクリレート,2−ヒドロキシプロピルメタクリレート
等のヒドロキシ基含有モノマー、アクリルアミド,メタ
クリルアミド,N−メチルメタクリルアミド,N−メチ
ルアクリルアミド,N−メチロールメタクリルアミド,
N−メチロールアクリルアミド,N,N−ジメチロール
アクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド等
のアミド基含有モノマー、N,N−ジエチルアミノエチ
ルアクリレート,N,N−ジエチルアミノメタクリレー
ト等のアミノ基含有モノマー、グリシジルアクリレー
ト,グリシジルメタクリレート等のエポキシ基含有モノ
マー、アクリル酸やメタクリル酸の塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩等)等のカルボキシル基又
はカルボン酸塩を含有するモノマー、スチレンスルホン
酸やビニルスルホン酸及びそれらの塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩等)等のスルホン酸基又は
スルホン酸塩を含有するモノマー、イタコン酸,マレイ
ン酸,フマル酸の塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アン
モニウム塩)等のカルボキシル基又はカルボン酸塩を含
有するモノマー、無水マレイン酸,無水イタコン酸等の
酸無水物を含有するモノマー、ビニルイソシアネート、
アリルイソシアネート、ビニルメチルエーテル、ビニル
エチルエーテル、アクリロニトリル、酢酸ビニル等が挙
げられ、一種もしくは二種以上で共重合させて用いるこ
とができる。
【0056】ポリマーラテックスの重合方法としては、
乳化重合法、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、放
射線重合法等が挙げられる。
乳化重合法、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、放
射線重合法等が挙げられる。
【0057】溶液重合法では、溶媒中で適当な濃度のモ
ノマーの混合物(通常、溶媒に対して40重量%以下、
好ましくは10〜25重量%の混合物)を開始剤の存在
下で約10〜200℃、好ましくは30〜120℃の温
度で、約0.5〜48時間、好ましくは2〜20時間重
合を行う。開始剤としては、重合溶媒に可溶なもので、
過酸化ベンゾイル,アゾビスイソブチロニトリル(AI
BN),過酸化ジ第3ブチル等の有機溶媒系開始剤、過
硫酸アンモニウム(APS),過硫酸カリウム,2,
2′−アゾビス−(2−アミノジプロパン)−ハイドロ
クロライド等の水溶性開始剤、又はこれらと2価の鉄塩
や亜硫酸水素ナトリウム等の還元剤を組み合わせたもの
が挙げられる。溶媒としては、モノマーの混合物を溶解
するものであればよく、水、メタノール、エタノール、
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジオキ
サン若しくはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
ノマーの混合物(通常、溶媒に対して40重量%以下、
好ましくは10〜25重量%の混合物)を開始剤の存在
下で約10〜200℃、好ましくは30〜120℃の温
度で、約0.5〜48時間、好ましくは2〜20時間重
合を行う。開始剤としては、重合溶媒に可溶なもので、
過酸化ベンゾイル,アゾビスイソブチロニトリル(AI
BN),過酸化ジ第3ブチル等の有機溶媒系開始剤、過
硫酸アンモニウム(APS),過硫酸カリウム,2,
2′−アゾビス−(2−アミノジプロパン)−ハイドロ
クロライド等の水溶性開始剤、又はこれらと2価の鉄塩
や亜硫酸水素ナトリウム等の還元剤を組み合わせたもの
が挙げられる。溶媒としては、モノマーの混合物を溶解
するものであればよく、水、メタノール、エタノール、
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジオキ
サン若しくはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0058】乳化重合法では、水を分散媒とし、水に対
して10〜50重量%のモノマーとモノマーに対して
0.05〜5重量%の重合開始剤、0.1〜20重量%
の分散剤を用い、約30〜100℃、好ましくは60〜
90℃で3〜8時間、撹拌しながら重合せしめる。開始
剤としては、水溶性過酸化物(過酸化カリウム、過硫酸
アンモニウム等)、水溶性アゾ化合物(2,2′−アゾ
ビス−(2−アミノジプロパン)−ハイドロクロライド
等)又はこれらと2価の鉄塩や亜硫酸水素ナトリウム等
の還元剤を組み合わせたものが挙げられる。分散剤とし
てはアニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、水
溶性ポリマー等が挙げられる。
して10〜50重量%のモノマーとモノマーに対して
0.05〜5重量%の重合開始剤、0.1〜20重量%
の分散剤を用い、約30〜100℃、好ましくは60〜
90℃で3〜8時間、撹拌しながら重合せしめる。開始
剤としては、水溶性過酸化物(過酸化カリウム、過硫酸
アンモニウム等)、水溶性アゾ化合物(2,2′−アゾ
ビス−(2−アミノジプロパン)−ハイドロクロライド
等)又はこれらと2価の鉄塩や亜硫酸水素ナトリウム等
の還元剤を組み合わせたものが挙げられる。分散剤とし
てはアニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、水
溶性ポリマー等が挙げられる。
【0059】得られる重合体の分子量は、通常、ポリス
チレン若しくはポリエチレンオキシド換算で500〜
5,000,000程度、好ましくは1,000〜50
0,000である。
チレン若しくはポリエチレンオキシド換算で500〜
5,000,000程度、好ましくは1,000〜50
0,000である。
【0060】疎水性のポリマーラテックスの合成法に関
しては、米国特許第2,852,386号、同2,85
3,457号、同3,411,911号、同3,41
1,912号、同4,197,127号、ベルギー特許
第688,882号、同691,360号、同712,
823号、特公昭45−5331号、特開昭60−18
540号、同51−130217号、同58−1378
31号、同55−50240号等に詳しく記載されてい
る。疎水性ポリマーの平均粒径は0.005〜2.0μ
m程度、好ましくは0.01〜0.8μmである。
しては、米国特許第2,852,386号、同2,85
3,457号、同3,411,911号、同3,41
1,912号、同4,197,127号、ベルギー特許
第688,882号、同691,360号、同712,
823号、特公昭45−5331号、特開昭60−18
540号、同51−130217号、同58−1378
31号、同55−50240号等に詳しく記載されてい
る。疎水性ポリマーの平均粒径は0.005〜2.0μ
m程度、好ましくは0.01〜0.8μmである。
【0061】水分散性ポリエステルとスチレン系重合体
を構成要素とする共重合体も用いることができる。この
水分散性ポリエステルとスチレン系重合体を構成要素と
する共重合体または、組成物について説明する。
を構成要素とする共重合体も用いることができる。この
水分散性ポリエステルとスチレン系重合体を構成要素と
する共重合体または、組成物について説明する。
【0062】水分散性ポリエステルとは、多塩基酸また
はそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはそのエ
ステル形成性誘導体との縮重合反応により得られる実質
的に線状のポリマーである。このポリマーの多塩基酸成
分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、
無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸な
どを例示することができる。これら成分と共にマレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やp
−ヒドロキシ安息香酸、p−(β−ヒドロキシエトキ
シ)安息香酸などのヒドロキシカルボン酸を小割合用い
ることができる。
はそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはそのエ
ステル形成性誘導体との縮重合反応により得られる実質
的に線状のポリマーである。このポリマーの多塩基酸成
分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、
無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸な
どを例示することができる。これら成分と共にマレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やp
−ヒドロキシ安息香酸、p−(β−ヒドロキシエトキ
シ)安息香酸などのヒドロキシカルボン酸を小割合用い
ることができる。
【0063】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、
ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールなどを例示
することができる。
グリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、
ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールなどを例示
することができる。
【0064】該水分散性ポリエステルに水分散性及び水
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分(スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び/
又はそのエステル形成性誘導体)を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して5〜15モル%含有
することが好ましい。
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分(スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び/
又はそのエステル形成性誘導体)を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して5〜15モル%含有
することが好ましい。
【0065】本発明の下引層に用いられるスルホン酸塩
を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル形成性誘
導体としてはスルホン酸アルカリ金属塩の基を有するも
のが特に好ましく、例えば4−スルホイソフタル酸、5
−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、4−スル
ホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7−ジカルボ
ン酸、5−(4−スルホフェノキシ)イソフタル酸など
のアルカリ金属塩又はそのエステル形成性誘導体が用い
られるが、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩又はそ
のエステル形成性誘導体が特に好ましい。これらのスル
ホン酸塩を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル
形成性誘導体は、水溶性及び耐水性の点から全ジカルボ
ン酸成分に対し6〜10モル%で用いられることが特に
好ましい。
を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル形成性誘
導体としてはスルホン酸アルカリ金属塩の基を有するも
のが特に好ましく、例えば4−スルホイソフタル酸、5
−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、4−スル
ホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7−ジカルボ
ン酸、5−(4−スルホフェノキシ)イソフタル酸など
のアルカリ金属塩又はそのエステル形成性誘導体が用い
られるが、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩又はそ
のエステル形成性誘導体が特に好ましい。これらのスル
ホン酸塩を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル
形成性誘導体は、水溶性及び耐水性の点から全ジカルボ
ン酸成分に対し6〜10モル%で用いられることが特に
好ましい。
【0066】本発明の下引層に用いるスチレン系重合体
のモノマーとしては、スチレン単独でかまわないし又共
重合する際には、例えばアルキルアクリレート、アルキ
ルメタクリレート(アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等);2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミ
ド、N−メチルアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−
ジメチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアク
リルアミド等のアミド基含有モノマー;N,N−ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
メタクリレートのアミノ基含有モノマー;グリシジルア
クリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基
含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの
塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等の
カルボキシル基またはその塩を含有するモノマー;スチ
レンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそれらの塩(ナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等のスルホ
ン酸基又はその塩を含有するモノマー;イタコン酸、マ
レイン酸、フマール酸及びそれらの塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩)等のカルボキシル基また
はその塩を含有するモノマー;無水マレイン酸、無水イ
タコン酸等の酸無水物を含有するモノマー;ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、ビニルメチルエー
テル、ビニルエチルエーテル、アクリロニトリル、塩化
ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。
上述のモノマーは、1種もしくは2種以上を用いて共重
合させることができる。
のモノマーとしては、スチレン単独でかまわないし又共
重合する際には、例えばアルキルアクリレート、アルキ
ルメタクリレート(アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等);2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミ
ド、N−メチルアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−
ジメチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアク
リルアミド等のアミド基含有モノマー;N,N−ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
メタクリレートのアミノ基含有モノマー;グリシジルア
クリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基
含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの
塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等の
カルボキシル基またはその塩を含有するモノマー;スチ
レンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそれらの塩(ナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等のスルホ
ン酸基又はその塩を含有するモノマー;イタコン酸、マ
レイン酸、フマール酸及びそれらの塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩)等のカルボキシル基また
はその塩を含有するモノマー;無水マレイン酸、無水イ
タコン酸等の酸無水物を含有するモノマー;ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、ビニルメチルエー
テル、ビニルエチルエーテル、アクリロニトリル、塩化
ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。
上述のモノマーは、1種もしくは2種以上を用いて共重
合させることができる。
【0067】水分散性ポリエステルをビニル系重合体に
変性するには、水分散性ポリエステルの末端に付加重合
可能な基を導入してビニル系共重合体のモノマーと共重
合することによりグラフト化する方法、ビニル系共重合
体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジル基も
しくはアミノ基等水分散性ポリエステルを縮重合する際
に反応可能基を導入しグラフト化する方法等がある。
変性するには、水分散性ポリエステルの末端に付加重合
可能な基を導入してビニル系共重合体のモノマーと共重
合することによりグラフト化する方法、ビニル系共重合
体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジル基も
しくはアミノ基等水分散性ポリエステルを縮重合する際
に反応可能基を導入しグラフト化する方法等がある。
【0068】また、重合開始剤には、過硫酸アンモニウ
ム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなどがあり、好
ましくは過硫酸アンモニウムが使用される。
ム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなどがあり、好
ましくは過硫酸アンモニウムが使用される。
【0069】更に、重合については、特に界面活性剤を
必要とせず、ソープフリーで反応可能である。しかし、
重合安定性を改良する目的で、系内に界面活性剤を乳化
剤として用いることができ、一般のノニオン・アニオン
いずれの界面活性剤も使用できる。
必要とせず、ソープフリーで反応可能である。しかし、
重合安定性を改良する目的で、系内に界面活性剤を乳化
剤として用いることができ、一般のノニオン・アニオン
いずれの界面活性剤も使用できる。
【0070】上記の水分散性ポリエステルとスチレン系
共重合体の変性する割合は、99/1〜5/95、好ま
しくは97/3〜50/50、更に好ましくは95/5
〜80/20がよい。
共重合体の変性する割合は、99/1〜5/95、好ま
しくは97/3〜50/50、更に好ましくは95/5
〜80/20がよい。
【0071】下引第1層中には、塗布性を向上させるた
めに活性剤の添加やメチルセルロース等のセルロース化
合物を含有させることが好ましい。
めに活性剤の添加やメチルセルロース等のセルロース化
合物を含有させることが好ましい。
【0072】下引処理は、前記フィルム製膜後に行って
も構わないが、下引組成物が延伸可能であるならば、製
膜途中である縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延伸
後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能である。
も構わないが、下引組成物が延伸可能であるならば、製
膜途中である縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延伸
後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能である。
【0073】延伸ができない場合例えば、親水性基を有
するポリマーを用いるには、親水性高分子間での相互作
用が強く、延伸できないことがあるが、スチーム下で延
伸したり、延伸助剤としてポリグリセリンなどを添加す
ることにより延伸が可能となる。
するポリマーを用いるには、親水性高分子間での相互作
用が強く、延伸できないことがあるが、スチーム下で延
伸したり、延伸助剤としてポリグリセリンなどを添加す
ることにより延伸が可能となる。
【0074】親水基を有するモノマーの中で好ましい物
としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等の不飽和カルボン酸が挙げられる。この含有量として
は、耐水性の点からみて、1〜10重量%が好ましく、
更に好ましくは1〜8重量%、より好ましくは、1〜6
重量%、最も好ましくは、1〜4重量%である。またこ
の共重合体の第4成分として、その他の共重合可能な単
量体を0〜15重量%、好ましくは、0〜10重量%の
範囲で、必要に応じて共重合させる事ができる。この例
としては、メチルスチレン等のアルキル置換スチレン、
クロロスチレン、クロルメチルスチレン等のハロゲン化
スチレン、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合
物、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸t−ブチル等の脂肪族、メタクリル酸シクロヘキシル
等の脂環族、アクリル酸ベンジル等の芳香族(メタ)ア
クリル酸エステル化合物、更にはゴム変性化合物であ
る、ブタジエン、イソプレン等を挙げることができる。
としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等の不飽和カルボン酸が挙げられる。この含有量として
は、耐水性の点からみて、1〜10重量%が好ましく、
更に好ましくは1〜8重量%、より好ましくは、1〜6
重量%、最も好ましくは、1〜4重量%である。またこ
の共重合体の第4成分として、その他の共重合可能な単
量体を0〜15重量%、好ましくは、0〜10重量%の
範囲で、必要に応じて共重合させる事ができる。この例
としては、メチルスチレン等のアルキル置換スチレン、
クロロスチレン、クロルメチルスチレン等のハロゲン化
スチレン、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合
物、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸t−ブチル等の脂肪族、メタクリル酸シクロヘキシル
等の脂環族、アクリル酸ベンジル等の芳香族(メタ)ア
クリル酸エステル化合物、更にはゴム変性化合物であ
る、ブタジエン、イソプレン等を挙げることができる。
【0075】これらの共重合体の製法は、特に制限がな
く、通常は一般公知のラジカル開始剤を用いて、ラジカ
ル重合により得る事ができる。
く、通常は一般公知のラジカル開始剤を用いて、ラジカ
ル重合により得る事ができる。
【0076】これらの単量体からなる共重合体の、GP
C法により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均
分子量としては、1500〜700000であることが
好ましく、2000〜500000であることが更に好
ましい。
C法により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均
分子量としては、1500〜700000であることが
好ましく、2000〜500000であることが更に好
ましい。
【0077】下引第2層は、写真乳剤層と良く接着する
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を構
成するバインダーとして、ゼラチン、ゼラチン誘導体、
ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水
溶性ポリマー類、ポリスチレンスルホン酸ソーダ共重合
体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げられる
が、ゼラチンが好ましい。
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を構
成するバインダーとして、ゼラチン、ゼラチン誘導体、
ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水
溶性ポリマー類、ポリスチレンスルホン酸ソーダ共重合
体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げられる
が、ゼラチンが好ましい。
【0078】これら下引2層中には、硬膜剤を用いて膜
強度を高めることが好ましく、このような硬膜剤として
は、例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドのよ
うなアルデヒド化合物、米国特許2,732,303
号、同3,288,775号、英国特許974,723
号、同1,167,207号等に記載されている反応性
ハロゲンを有する化合物、ジアセチル、シクロペンタン
ジオンの如きケトン化合物、ビス(2−クロロエチル)
尿素、2−ヒドロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジン、ジビニルスルホン、5−アセチル−1,
3−ジアクリロイルヘキサヒドロ−1,3,5−トリア
ジン、米国特許3,232,763号、同3,635,
718号、英国特許994,809号等に記載の反応性
オレフィンを有する化合物、米国特許3,539,64
4号、同3,642,486号、特公昭49−1356
8号、同53−47271号、同56−48860号、
特開昭53−57257号、同61−128240号、
同62−4275号、同63−53541号、同63−
264572号等に記載のビニルスルホン化合物、N−
ヒドロキシメチルフタルイミド、米国特許2,732,
316号、同2,586,168号等に記載のN−メチ
ロール化合物、米国特許3,103,437号等に記載
のイソシアネート化合物、米国特許2,983,611
号、同3,107,280号等に記載のアジリジン化合
物、米国特許2,725,294号、同2,725,2
95号等に記載の酸誘導体類、米国特許3,100,7
04号等に記載のカルボジイミド系化合物、米国特許
3,091,537号等に記載のエポキシ系化合物、米
国特許3,321,313号、同3,543,292号
等に記載のイソオキサゾール系化合物、ムコクロル酸の
ようなハロゲノカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシ
ジオキサン、ジクロロジオキサン等のジオキサン誘導体
等の有機硬膜剤及びクロムミョウバン、硫酸ジルコニウ
ム、三塩化クロム等の無機硬膜剤である。またゼラチン
に対して硬膜作用が比較的速い硬膜剤としては、特開昭
50−38540号に記載のジヒドロキノリン骨格を有
する化合物、特開昭51−59625号、同62−26
2854号、同62−264044号、同63−184
741号に記載のN−カルバモイルピリジニウム塩類、
特公昭55−38655号に記載のアシルイミダゾール
類、特公昭53−22089号に記載のN−アシルオキ
シイミダゾール類、特公昭53−22089号に記載の
N−アシルオキシイミノ基を分子内に2個以上有する化
合物、特開昭52−93470号に記載のN−スルホニ
ルオキシイミド基を有する化合物、特開昭58−113
929号に記載のリン−ハロゲン結合を有する化合物、
特開昭60−225148号、同61−240236
号、同63−41580号に記載のクロロホルムアミジ
ニウム化合物等が知られている。
強度を高めることが好ましく、このような硬膜剤として
は、例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドのよ
うなアルデヒド化合物、米国特許2,732,303
号、同3,288,775号、英国特許974,723
号、同1,167,207号等に記載されている反応性
ハロゲンを有する化合物、ジアセチル、シクロペンタン
ジオンの如きケトン化合物、ビス(2−クロロエチル)
尿素、2−ヒドロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジン、ジビニルスルホン、5−アセチル−1,
3−ジアクリロイルヘキサヒドロ−1,3,5−トリア
ジン、米国特許3,232,763号、同3,635,
718号、英国特許994,809号等に記載の反応性
オレフィンを有する化合物、米国特許3,539,64
4号、同3,642,486号、特公昭49−1356
8号、同53−47271号、同56−48860号、
特開昭53−57257号、同61−128240号、
同62−4275号、同63−53541号、同63−
264572号等に記載のビニルスルホン化合物、N−
ヒドロキシメチルフタルイミド、米国特許2,732,
316号、同2,586,168号等に記載のN−メチ
ロール化合物、米国特許3,103,437号等に記載
のイソシアネート化合物、米国特許2,983,611
号、同3,107,280号等に記載のアジリジン化合
物、米国特許2,725,294号、同2,725,2
95号等に記載の酸誘導体類、米国特許3,100,7
04号等に記載のカルボジイミド系化合物、米国特許
3,091,537号等に記載のエポキシ系化合物、米
国特許3,321,313号、同3,543,292号
等に記載のイソオキサゾール系化合物、ムコクロル酸の
ようなハロゲノカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシ
ジオキサン、ジクロロジオキサン等のジオキサン誘導体
等の有機硬膜剤及びクロムミョウバン、硫酸ジルコニウ
ム、三塩化クロム等の無機硬膜剤である。またゼラチン
に対して硬膜作用が比較的速い硬膜剤としては、特開昭
50−38540号に記載のジヒドロキノリン骨格を有
する化合物、特開昭51−59625号、同62−26
2854号、同62−264044号、同63−184
741号に記載のN−カルバモイルピリジニウム塩類、
特公昭55−38655号に記載のアシルイミダゾール
類、特公昭53−22089号に記載のN−アシルオキ
シイミダゾール類、特公昭53−22089号に記載の
N−アシルオキシイミノ基を分子内に2個以上有する化
合物、特開昭52−93470号に記載のN−スルホニ
ルオキシイミド基を有する化合物、特開昭58−113
929号に記載のリン−ハロゲン結合を有する化合物、
特開昭60−225148号、同61−240236
号、同63−41580号に記載のクロロホルムアミジ
ニウム化合物等が知られている。
【0079】この下引第2層には、滑り剤として2酸化
珪素、2酸化チタン等の無機微粒子や、ポリメタクリル
酸メチル等の有機系マット材(1〜10μm)を含有す
ることが好ましい。
珪素、2酸化チタン等の無機微粒子や、ポリメタクリル
酸メチル等の有機系マット材(1〜10μm)を含有す
ることが好ましい。
【0080】これ以外にも必要に応じて、各種の添加剤
例えば、帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色用染
料、顔料、塗布助剤を含有することができる。
例えば、帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色用染
料、顔料、塗布助剤を含有することができる。
【0081】この中でも帯電防止剤を含有させることが
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子を挙げられる。
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子を挙げられる。
【0082】本発明の下引層に用いられる非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子とは、粒子中に存在
する電荷担体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔
等によって導電性を示すもので、有機材料、無機材料あ
るいは両者の複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性
を示す化合物であり、有機材料であればポリアニリン、
ポリピロール、ポリアセチレン等の高分子微粒子等を挙
げることができる。無機材料であれば酸素不足酸化物、
金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の
不定比化合物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げら
れる。また電荷移動錯体もしくは有機ー無機複合材料で
あればホスファゼン金属錯体等を挙げることができる。
この中で本発明の下引層に最も好ましい化合物は製造方
法などが多様な方式をとることが可能な金属酸化物微粒
子である。また、本発明の下引層に中における導電体は
体積固有抵抗が103Ω・cm以下のものを、半導体に
ついては1012Ω・cm以下のものをそれぞれ導電体、
半導体として定義する。
電体および/もしくは半導体微粒子とは、粒子中に存在
する電荷担体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔
等によって導電性を示すもので、有機材料、無機材料あ
るいは両者の複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性
を示す化合物であり、有機材料であればポリアニリン、
ポリピロール、ポリアセチレン等の高分子微粒子等を挙
げることができる。無機材料であれば酸素不足酸化物、
金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の
不定比化合物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げら
れる。また電荷移動錯体もしくは有機ー無機複合材料で
あればホスファゼン金属錯体等を挙げることができる。
この中で本発明の下引層に最も好ましい化合物は製造方
法などが多様な方式をとることが可能な金属酸化物微粒
子である。また、本発明の下引層に中における導電体は
体積固有抵抗が103Ω・cm以下のものを、半導体に
ついては1012Ω・cm以下のものをそれぞれ導電体、
半導体として定義する。
【0083】以下に好ましい導電性微粒子の作成方法を
例示する。
例示する。
【0084】(半導体微粒子溶液の調製)塩化第二スズ
水和物65gを水/エタノール混合溶液2000ccに
溶解し、均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物
を得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り
出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄し
た蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないこ
とを確認後、蒸留水1000cc添加し全量を2000
ccとする。さらに30%アンモニア水を40cc加
え、水浴中で加温し、コロイド状ゲル分散液を得た。こ
のコロイド状ゲル分散液を分散液A−1とする。
水和物65gを水/エタノール混合溶液2000ccに
溶解し、均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物
を得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り
出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄し
た蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないこ
とを確認後、蒸留水1000cc添加し全量を2000
ccとする。さらに30%アンモニア水を40cc加
え、水浴中で加温し、コロイド状ゲル分散液を得た。こ
のコロイド状ゲル分散液を分散液A−1とする。
【0085】(半導体微粒子粉末の調製)塩化第二スズ
水和物65gと三塩化アンチモン1.5gをエタノール
1000gに溶解し均一溶液を得た。この溶液に1N−
水酸化ナトリウム水溶液を前記溶液のpHが3になるま
で滴下してコロイド状酸化第二スズと酸化アンチモンの
共沈殿を得た。得られた共沈澱を50℃に24時間放置
し赤褐色のコロイド状沈澱を得た。
水和物65gと三塩化アンチモン1.5gをエタノール
1000gに溶解し均一溶液を得た。この溶液に1N−
水酸化ナトリウム水溶液を前記溶液のpHが3になるま
で滴下してコロイド状酸化第二スズと酸化アンチモンの
共沈殿を得た。得られた共沈澱を50℃に24時間放置
し赤褐色のコロイド状沈澱を得た。
【0086】赤褐色のコロイド状沈澱を遠心分離により
分離した。過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心
分離によって水洗した。この操作を3回繰り返し過剰イ
オンを除去した。
分離した。過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心
分離によって水洗した。この操作を3回繰り返し過剰イ
オンを除去した。
【0087】過剰イオンを除去したコロイド状沈澱10
0gを平均粒径0.3μmの硫酸バリウム50gおよび
水1000gに混合し900℃に加熱された焼成炉中に
噴霧し青みがかった平均粒径0.1μmの酸化第二スズ
と硫酸バリウムからなる粉末混合物A−2を得た。
0gを平均粒径0.3μmの硫酸バリウム50gおよび
水1000gに混合し900℃に加熱された焼成炉中に
噴霧し青みがかった平均粒径0.1μmの酸化第二スズ
と硫酸バリウムからなる粉末混合物A−2を得た。
【0088】下引層組成物の塗布液濃度は、通常20重
量%以下であり、好ましくは15重量%以下である。塗
布量は、フィルム1m2あたり塗布液重量で1〜30g
さらには5〜20gであることが好ましい。
量%以下であり、好ましくは15重量%以下である。塗
布量は、フィルム1m2あたり塗布液重量で1〜30g
さらには5〜20gであることが好ましい。
【0089】塗布方法としては、公知の種々の方法が適
用できる。例えば、ロールコート法グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バー
コート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独もしく
は組み合わせて適用することができる。
用できる。例えば、ロールコート法グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バー
コート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独もしく
は組み合わせて適用することができる。
【0090】次に一般式(1)〜(6)で表されるヒド
ラジン誘導体について詳細に説明する。
ラジン誘導体について詳細に説明する。
【0091】まず上記一般式(1)で表されるヒドラジ
ン誘導体について説明する。
ン誘導体について説明する。
【0092】R1で表される脂肪族基は好ましくは炭素
数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20の直
鎖、分岐又は環状のアルキル基が好ましい。このアルキ
ル基は置換基を有している。
数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20の直
鎖、分岐又は環状のアルキル基が好ましい。このアルキ
ル基は置換基を有している。
【0093】R1で表される芳香族基は単環又は2環の
アリール基又は不飽和複素環基である。ここで不飽和複
素環基はアリール基と縮合して縮合複素環基を形成して
もよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン
環、キノリン環、イソキノリン環等がある。中でもベン
ゼン環を含むものが好ましい。R1として特に好ましい
ものはアリール基である。R1のアリール基又は不飽和
複素環基は置換されている。
アリール基又は不飽和複素環基である。ここで不飽和複
素環基はアリール基と縮合して縮合複素環基を形成して
もよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン
環、キノリン環、イソキノリン環等がある。中でもベン
ゼン環を含むものが好ましい。R1として特に好ましい
ものはアリール基である。R1のアリール基又は不飽和
複素環基は置換されている。
【0094】R1の脂肪族基又は芳香族基は置換されて
おり、代表的な置換基としては、例えばハロゲン原子、
アルキル、アラルキル、アルケニル、アルキニル、アル
コキシ、アリール、置換アミノ、ウレイド、ウレタン、
アリールオキシ、スルファモイル、カルバモイル、アル
キルチオ、アリールチオ、スルホニル、スルフィニル、
ヒドロキシル、シアノ、スルホ、アリールオキシカルボ
ニル、アシル、アルコキシカルボニル、アシルオキシ、
カルボンアミド、スルホンアミド、カルボキシル、燐酸
アミドなどの各基が挙げられ、好ましい置換基としては
直鎖、分岐又は環状のアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜
30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜3
0のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜30
のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜40のもの)、スルホンアミド
基(好ましくは炭素数1〜40のもの)、ウレイド基
(好ましくは炭素数1〜40のもの)、燐酸アミド基
(好ましくは炭素数1〜40のもの)などである。
おり、代表的な置換基としては、例えばハロゲン原子、
アルキル、アラルキル、アルケニル、アルキニル、アル
コキシ、アリール、置換アミノ、ウレイド、ウレタン、
アリールオキシ、スルファモイル、カルバモイル、アル
キルチオ、アリールチオ、スルホニル、スルフィニル、
ヒドロキシル、シアノ、スルホ、アリールオキシカルボ
ニル、アシル、アルコキシカルボニル、アシルオキシ、
カルボンアミド、スルホンアミド、カルボキシル、燐酸
アミドなどの各基が挙げられ、好ましい置換基としては
直鎖、分岐又は環状のアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜
30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜3
0のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜30
のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜40のもの)、スルホンアミド
基(好ましくは炭素数1〜40のもの)、ウレイド基
(好ましくは炭素数1〜40のもの)、燐酸アミド基
(好ましくは炭素数1〜40のもの)などである。
【0095】R1の脂肪族基、芳香族基又はそれらの置
換基は−(CH2CH2O)n−、−(CH2CH(C
H3)O)n−又は−(CH2CH(OH)CH2O)n
−を含有しているか、あるいは4級アンモニウムカチオ
ンを含有している。nは1〜15の整数が好ましい。R
1は好ましくは以下の一般式(II)、一般式(III)、一
般式(IV)又は一般式(V)で表される。
換基は−(CH2CH2O)n−、−(CH2CH(C
H3)O)n−又は−(CH2CH(OH)CH2O)n
−を含有しているか、あるいは4級アンモニウムカチオ
ンを含有している。nは1〜15の整数が好ましい。R
1は好ましくは以下の一般式(II)、一般式(III)、一
般式(IV)又は一般式(V)で表される。
【0096】
【化13】
【0097】上記一般式中、L1及びL2は各々−CON
(R7)−基、−N(R7)CON(R8)−基、−SO2
N(R7)−基又は−N(R7)SO2N(R8)−基を表
し、それぞれ同じでも異なってもよい。R7及びR8は各
々、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6
〜10のアリール基を表し、水素原子が好ましい。mは
0又は1である。R3、R4及びR5は各々、2価の脂肪
族基又は芳香族基であり、好ましくはアルキレン基、ア
リーレン基又はそれらと−O−、−CO−、−S−、−
SO−、−SO2−、−N(R9)−(R9は一般式(I
I)、(III)、(IV)のR7と同義)を組み合わせて作
られる2価の基である。より好ましくは、R3は炭素数
1〜10のアルキレン基あるいは、それらと−S−、−
SO−、−SO2−を組み合わせて作られる2価の基で
あり、R4及びR5は各々、炭素数6〜20のアリーレン
基である。特にR5はフェニレン基が好ましい。R3、R
4及びR5は置換されてもよく、好ましい置換基としては
R1の置換基として列挙したものが当てはまる。
(R7)−基、−N(R7)CON(R8)−基、−SO2
N(R7)−基又は−N(R7)SO2N(R8)−基を表
し、それぞれ同じでも異なってもよい。R7及びR8は各
々、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6
〜10のアリール基を表し、水素原子が好ましい。mは
0又は1である。R3、R4及びR5は各々、2価の脂肪
族基又は芳香族基であり、好ましくはアルキレン基、ア
リーレン基又はそれらと−O−、−CO−、−S−、−
SO−、−SO2−、−N(R9)−(R9は一般式(I
I)、(III)、(IV)のR7と同義)を組み合わせて作
られる2価の基である。より好ましくは、R3は炭素数
1〜10のアルキレン基あるいは、それらと−S−、−
SO−、−SO2−を組み合わせて作られる2価の基で
あり、R4及びR5は各々、炭素数6〜20のアリーレン
基である。特にR5はフェニレン基が好ましい。R3、R
4及びR5は置換されてもよく、好ましい置換基としては
R1の置換基として列挙したものが当てはまる。
【0098】一般式(II)及び(III)において、Z1は
含窒素芳香環を形成するに必要な原子群を表す。Z1と
窒素原子で形成される含窒素芳香複素環の好ましい例と
しては、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピ
ラジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピロール
環、オキサゾール環、チアゾール環及びこれらのベンゾ
縮合環の他、プテリジン環、ナフチリジン環などを挙げ
ることができる。
含窒素芳香環を形成するに必要な原子群を表す。Z1と
窒素原子で形成される含窒素芳香複素環の好ましい例と
しては、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピ
ラジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピロール
環、オキサゾール環、チアゾール環及びこれらのベンゾ
縮合環の他、プテリジン環、ナフチリジン環などを挙げ
ることができる。
【0099】一般式(II)、(III)及び(IV)におい
て、X-は対アニオン又は分子内塩を形成する場合は対
アニオン部分を表す。
て、X-は対アニオン又は分子内塩を形成する場合は対
アニオン部分を表す。
【0100】一般式(IV)及び(V)において、R6は
脂肪族基又は芳香族基を表す。好ましくはR6は炭素数
1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基で
ある。
脂肪族基又は芳香族基を表す。好ましくはR6は炭素数
1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基で
ある。
【0101】一般式(IV)における三つのR6はそれぞ
れ同じでも異なってもよく、又、互いに結合して環を形
成してもよい。Z1及びR6は置換されてもよく、好まし
い置換基としてはR1の置換基として列挙したものが当
てはまる。
れ同じでも異なってもよく、又、互いに結合して環を形
成してもよい。Z1及びR6は置換されてもよく、好まし
い置換基としてはR1の置換基として列挙したものが当
てはまる。
【0102】一般式(V)において、L3は−CH2CH
2O−基、−CH2CH(CH3)O−基又は−CH2CH
(OH)CH2O−基を表す。
2O−基、−CH2CH(CH3)O−基又は−CH2CH
(OH)CH2O−基を表す。
【0103】一般式(1)におけるG1としては−CO
−基、−SO2−基が好ましく、−CO−基が最も好ま
しい。A1、A2としては水素原子が好ましい。
−基、−SO2−基が好ましく、−CO−基が最も好ま
しい。A1、A2としては水素原子が好ましい。
【0104】一般式(1)においてR2で表されるアル
キル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基
であり、アリール基としては単環又は2環のアリール基
が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G1が−
CO−基の場合、R2で表される基のうち好ましいもの
は、水素原子、アルキル基(例えばメチル、トリフルオ
ロメチル、3−ヒドロキシプロピル、3−メタンスルホ
ンアミドプロピル、フェニルスルホニルメチル)、アラ
ルキル(例えばo−ヒドロキシベンジル)、アリール基
(例えばフェニル、3,5−ジクロロフェニル、o−メ
タンスルホンアミドフェニル等、4−メタンスルホニル
フェニル、2−ヒドロキシメチルフェニル等)などであ
り、特に水素原子が好ましい。R2は置換されてもよ
く、置換基としては、R1に関して列挙した置換基が適
用できる。又、R2はG1−R2の部分を残余分子から分
裂させ、−G1−R2部分の原子を含む環式構造を生成さ
せる環化反応を生起するようなものでもよく、その例と
しては例えば特開昭63−29751号等に記載のもの
が挙げられる。
キル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基
であり、アリール基としては単環又は2環のアリール基
が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G1が−
CO−基の場合、R2で表される基のうち好ましいもの
は、水素原子、アルキル基(例えばメチル、トリフルオ
ロメチル、3−ヒドロキシプロピル、3−メタンスルホ
ンアミドプロピル、フェニルスルホニルメチル)、アラ
ルキル(例えばo−ヒドロキシベンジル)、アリール基
(例えばフェニル、3,5−ジクロロフェニル、o−メ
タンスルホンアミドフェニル等、4−メタンスルホニル
フェニル、2−ヒドロキシメチルフェニル等)などであ
り、特に水素原子が好ましい。R2は置換されてもよ
く、置換基としては、R1に関して列挙した置換基が適
用できる。又、R2はG1−R2の部分を残余分子から分
裂させ、−G1−R2部分の原子を含む環式構造を生成さ
せる環化反応を生起するようなものでもよく、その例と
しては例えば特開昭63−29751号等に記載のもの
が挙げられる。
【0105】一般式(1)のR1又はR2は、その中にカ
プラー等の不動性写真用添加剤において常用されている
バラスト基又はポリマーが組み込まれたものでよい。バ
ラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較
的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
又、ポリマーとして例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。
プラー等の不動性写真用添加剤において常用されている
バラスト基又はポリマーが組み込まれたものでよい。バ
ラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較
的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
又、ポリマーとして例えば特開平1−100530号に
記載のものが挙げられる。
【0106】R1が有することのできるハロゲン化銀吸
着基としては、−S−基、−S−S−基、−NHC(=
S)NH−基、5〜6員の含窒素複素環基(ベンゾトリ
アゾール、トリアゾール、イミダゾール、チアゾール、
オキサゾール等)、メルカプト基又はジスルフィド結合
を有する5〜6員の含窒素複素環基(2−メルカプトチ
アジアゾール、5−メルカプトテトラゾール、2−メル
カプトベンゾオキサゾール等)が挙げられる。特に、−
S−基、メルカプト基又はジスルフィド結合を有する5
〜6員の含窒素複素環基を持つことが好ましい。
着基としては、−S−基、−S−S−基、−NHC(=
S)NH−基、5〜6員の含窒素複素環基(ベンゾトリ
アゾール、トリアゾール、イミダゾール、チアゾール、
オキサゾール等)、メルカプト基又はジスルフィド結合
を有する5〜6員の含窒素複素環基(2−メルカプトチ
アジアゾール、5−メルカプトテトラゾール、2−メル
カプトベンゾオキサゾール等)が挙げられる。特に、−
S−基、メルカプト基又はジスルフィド結合を有する5
〜6員の含窒素複素環基を持つことが好ましい。
【0107】本発明の一般式(1)の化合物は、例えば
特開昭61−213847号、同62−260153
号、米国特許4,684,604号、特願昭63−98
803号、米国特許3,379,529号、同3,62
0,746号、同4,377,634号、同4,33
2,878号、特開昭49−129536号、同56−
153336号、同56−153342号、米国特許
4,988,604号、同4,994,365号等に記
載されている方法を利用して合成できる。
特開昭61−213847号、同62−260153
号、米国特許4,684,604号、特願昭63−98
803号、米国特許3,379,529号、同3,62
0,746号、同4,377,634号、同4,33
2,878号、特開昭49−129536号、同56−
153336号、同56−153342号、米国特許
4,988,604号、同4,994,365号等に記
載されている方法を利用して合成できる。
【0108】以下に本発明に用いられる化合物を列記す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0109】
【化14】
【0110】
【化15】
【0111】
【化16】
【0112】
【化17】
【0113】
【化18】
【0114】
【化19】
【0115】一般式(1)の化合物の添加量としては、
ハロゲン化銀1モル当たり1×10 -6〜5×10-2モル
含有されるのが好ましく、特に1×10-5〜2×10-2
モルの範囲が好ましい。
ハロゲン化銀1モル当たり1×10 -6〜5×10-2モル
含有されるのが好ましく、特に1×10-5〜2×10-2
モルの範囲が好ましい。
【0116】一般式(1)の化合物は、適当な水混和性
有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、弗化アルコール等)、ケトン類(ア
セトン、メチルエチルケトン等)、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等に溶解
して用いることができる。又、既に良く知られている乳
化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジル
ホスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエ
チルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキ
サノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分
散物を作成して用いることもできる。あるいは固体分散
法として知られている方法によって、レドックス化合物
の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは
超音波によって分散して用いることもできる。
有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、弗化アルコール等)、ケトン類(ア
セトン、メチルエチルケトン等)、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等に溶解
して用いることができる。又、既に良く知られている乳
化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジル
ホスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエ
チルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキ
サノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分
散物を作成して用いることもできる。あるいは固体分散
法として知られている方法によって、レドックス化合物
の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは
超音波によって分散して用いることもできる。
【0117】次に一般式(2)で表される化合物につい
てさらに詳細に説明する。一般式(2)において、R1
で表される脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル
基、アルケニル基またはアルキニル基である。R1で表
される芳香族基としては、単環又は2環のアリール基で
あり、例えば、フェニル基、ナフチル基があげられる。
R1のヘテロ環としては、N、O、又はS原子のうち少
なくともひとつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和
のヘテロ環であり、これらは単環であってもよいし、さ
らに他の芳香族もしくはヘテロ環と縮合環を形成しても
よい。ヘテロ環として好ましくは、5ないし6員の芳香
族ヘテロ環基であり、例えば、ピリジン基、イミダゾリ
ル基、キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジ
ル基、ピラゾリル基、イソキノリニル基、チアゾリン
基、ベンズチアゾリル基を含むものが好ましい。R1と
して好ましいのは、芳香族基、含窒素複素環および一般
式(b)で表される基である。
てさらに詳細に説明する。一般式(2)において、R1
で表される脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル
基、アルケニル基またはアルキニル基である。R1で表
される芳香族基としては、単環又は2環のアリール基で
あり、例えば、フェニル基、ナフチル基があげられる。
R1のヘテロ環としては、N、O、又はS原子のうち少
なくともひとつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和
のヘテロ環であり、これらは単環であってもよいし、さ
らに他の芳香族もしくはヘテロ環と縮合環を形成しても
よい。ヘテロ環として好ましくは、5ないし6員の芳香
族ヘテロ環基であり、例えば、ピリジン基、イミダゾリ
ル基、キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジ
ル基、ピラゾリル基、イソキノリニル基、チアゾリン
基、ベンズチアゾリル基を含むものが好ましい。R1と
して好ましいのは、芳香族基、含窒素複素環および一般
式(b)で表される基である。
【0118】
【化20】
【0119】(式中、Xbは芳香族基または含窒素複素
環基を表し、Rb 1〜Rb 4は各々水素原子、ハロゲン原
子、またはアルキル基を表し、XbおよびRb 1〜Rb 4は
可能な場合には置換基を有していてもよい。rおよびs
は0または1を表す。)R1としてより好ましくは芳香
族基であり、特にアリール基が好ましい。R1は置換基
で置換されていてもよい。置換基の例としては、例えば
アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、アリー
ルオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基やカルボキシル基、アルキルおよびアリールオキシ
カルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ア
シルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、
ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基などの他、
以下の一般式(c)で表される基が挙げられる。
環基を表し、Rb 1〜Rb 4は各々水素原子、ハロゲン原
子、またはアルキル基を表し、XbおよびRb 1〜Rb 4は
可能な場合には置換基を有していてもよい。rおよびs
は0または1を表す。)R1としてより好ましくは芳香
族基であり、特にアリール基が好ましい。R1は置換基
で置換されていてもよい。置換基の例としては、例えば
アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、アリー
ルオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基やカルボキシル基、アルキルおよびアリールオキシ
カルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ア
シルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、
ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基などの他、
以下の一般式(c)で表される基が挙げられる。
【0120】
【化21】
【0121】式(c)中、YCは−CO−、−SO
2−、−P(O)(RC3)−(式中RC3はアルコキシ
基、またはアリールオキシ基を表す。)または−OP
(O)(RC3)−を表し、Lは単結合、−O−、−S
−、または−NRC4−(式中RC4は水素原子、アルキ
ル基、アリール基を表す。)を表す。RC1およびRC2は
水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、
同じであっても異なっても良く、また互いに結合して環
形成しても良い。またR1は一般式(c)を1つまたは
複数個含むことができる。
2−、−P(O)(RC3)−(式中RC3はアルコキシ
基、またはアリールオキシ基を表す。)または−OP
(O)(RC3)−を表し、Lは単結合、−O−、−S
−、または−NRC4−(式中RC4は水素原子、アルキ
ル基、アリール基を表す。)を表す。RC1およびRC2は
水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、
同じであっても異なっても良く、また互いに結合して環
形成しても良い。またR1は一般式(c)を1つまたは
複数個含むことができる。
【0122】一般式(c)において、RC1で表される
脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケ
ニル基またはアルキニル基である。RC1で表される芳香
族基としては、単環又は2環のアリール基であり、例え
ばフェニル基、ナフチル基があげられる。RC1のヘテロ
環としては、N、O、又はS原子のうち少なくともひと
つを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のへテロ環で
あり、これらは単環であってもよいし、さらに他の芳香
族もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ
環として好ましくは、5ないし6員の芳香族へテロ環基
であリ、例えば、ピリジン基、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、べンズイミダゾリル基、ピリミジル基、ピラゾ
リル基、イソキノリニル基、チアゾリル基、ベンズチア
ゾリル基を含むものが好ましい。RC1は置換基で置換さ
れていてもよい。置換基としては、例えば以下のものが
あげられる。これらの基は更に置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アルキルお
よびアリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基などである。これらの基は可能なときは互いに
連結して環を形成してもよい。
脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケ
ニル基またはアルキニル基である。RC1で表される芳香
族基としては、単環又は2環のアリール基であり、例え
ばフェニル基、ナフチル基があげられる。RC1のヘテロ
環としては、N、O、又はS原子のうち少なくともひと
つを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のへテロ環で
あり、これらは単環であってもよいし、さらに他の芳香
族もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ
環として好ましくは、5ないし6員の芳香族へテロ環基
であリ、例えば、ピリジン基、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、べンズイミダゾリル基、ピリミジル基、ピラゾ
リル基、イソキノリニル基、チアゾリル基、ベンズチア
ゾリル基を含むものが好ましい。RC1は置換基で置換さ
れていてもよい。置換基としては、例えば以下のものが
あげられる。これらの基は更に置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アルキルお
よびアリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキ
シカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基などである。これらの基は可能なときは互いに
連結して環を形成してもよい。
【0123】一般式(c)におけるRC2で表される脂肪
族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニ
ル基またはアルキニル基である。RC2で表される芳香族
基としては、単環又は2環のアリール基であり、例えば
フェニル基が挙げられる。R C2は置換基で置換されてい
てもよい。置換基としては例えば一般式(c)における
RC1と置換基として列挙したものが挙げられる。また、
RC1とRC2は可能な場合には互いに連結して環を形成し
てもよい。RC2としては水素原子がより好ましい。一般
式(c)におけるYCとしては−CO−、−SO2−が
特に好ましく、Lは単結合および−NRC4−が好まし
い。
族基は、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニ
ル基またはアルキニル基である。RC2で表される芳香族
基としては、単環又は2環のアリール基であり、例えば
フェニル基が挙げられる。R C2は置換基で置換されてい
てもよい。置換基としては例えば一般式(c)における
RC1と置換基として列挙したものが挙げられる。また、
RC1とRC2は可能な場合には互いに連結して環を形成し
てもよい。RC2としては水素原子がより好ましい。一般
式(c)におけるYCとしては−CO−、−SO2−が
特に好ましく、Lは単結合および−NRC4−が好まし
い。
【0124】一般式(c)におけるRC4で表される脂肪
族基は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、アルケニル
基又はアルキニル基である。RC4で表される芳香族基と
しては、単環又は2環のアリール基であり、例えばフェ
ニル基が挙げられる。RC4は置換基で置換されていても
よい。置換基としては例えば一般式(c)におけるRC1
の置換基として列挙したものがあげられる。RC4として
は水素原子がより好ましい。
族基は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、アルケニル
基又はアルキニル基である。RC4で表される芳香族基と
しては、単環又は2環のアリール基であり、例えばフェ
ニル基が挙げられる。RC4は置換基で置換されていても
よい。置換基としては例えば一般式(c)におけるRC1
の置換基として列挙したものがあげられる。RC4として
は水素原子がより好ましい。
【0125】一般式(2)のGとしては−CO−基が最
も好ましい。一般式(2)のR2は、Gで置換された炭
素原子が少なくとも1つの電子吸引基で置換された置換
アルキル基を表し、好ましくは、2つの電子吸引基で、
特に好ましくは3つの電子吸引基で置換された置換アル
キル基を表す。R2のGで置換された炭素原子を置換す
る電子吸引基は好ましくはσp値が0.2以上、σm値
が0.3以上のもので例えば、ハロゲン、シアノ、ニト
ロ、ニトロソポリハロアルキル、ポリハロアリール、ア
ルキルもしくはアリールカルボニル基、ホルミル基、ア
ルキルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルキル
カルボニルオキシ基、カルバモイル基、アルキルもしく
はアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリール
スルホニル基、アルキルもしくはアリールスルホニルオ
キシ基、スルファモイル基、ホスフィノ基、ホスフィン
オキシド基、ホスホン酸エステル基、ホスホン酸アミド
基、アリールアゾ基、アミジノ基、アンモニオ基、スル
ホニオ基、電子欠乏性複素環基を表す。一般式(2)の
R2は特に好ましくはトリフルオロメチル基を表す。
も好ましい。一般式(2)のR2は、Gで置換された炭
素原子が少なくとも1つの電子吸引基で置換された置換
アルキル基を表し、好ましくは、2つの電子吸引基で、
特に好ましくは3つの電子吸引基で置換された置換アル
キル基を表す。R2のGで置換された炭素原子を置換す
る電子吸引基は好ましくはσp値が0.2以上、σm値
が0.3以上のもので例えば、ハロゲン、シアノ、ニト
ロ、ニトロソポリハロアルキル、ポリハロアリール、ア
ルキルもしくはアリールカルボニル基、ホルミル基、ア
ルキルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルキル
カルボニルオキシ基、カルバモイル基、アルキルもしく
はアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリール
スルホニル基、アルキルもしくはアリールスルホニルオ
キシ基、スルファモイル基、ホスフィノ基、ホスフィン
オキシド基、ホスホン酸エステル基、ホスホン酸アミド
基、アリールアゾ基、アミジノ基、アンモニオ基、スル
ホニオ基、電子欠乏性複素環基を表す。一般式(2)の
R2は特に好ましくはトリフルオロメチル基を表す。
【0126】一般式(2)のR1、R2、はその中にカプ
ラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバ
ラスト基またはポリマーが組み込まれているものでもよ
い。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対し
て比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコ
キシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ
基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができ
る。またポリマーとして例えば特開平1−100530
号に記載のものが挙げられる。
ラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバ
ラスト基またはポリマーが組み込まれているものでもよ
い。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対し
て比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコ
キシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ
基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができ
る。またポリマーとして例えば特開平1−100530
号に記載のものが挙げられる。
【0127】一般式(2)のR1、R2はその中にハロゲ
ン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれて
いるものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素
基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリア
ゾール基などの米国特許第4,385,108号、同
4,459,347号、特開昭59−195233号、
同59−200231号、同59−201045号、同
59−201046号、同59−201047号、同5
9−201048号、同59−201049号、同61
−170733号、同61−270744号、同62−
948号、同63−234244号、同63−2342
45号、同63−234246号に記載された基が挙げ
られる。以下に本発明に用いられる化合物を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
ン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれて
いるものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素
基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリア
ゾール基などの米国特許第4,385,108号、同
4,459,347号、特開昭59−195233号、
同59−200231号、同59−201045号、同
59−201046号、同59−201047号、同5
9−201048号、同59−201049号、同61
−170733号、同61−270744号、同62−
948号、同63−234244号、同63−2342
45号、同63−234246号に記載された基が挙げ
られる。以下に本発明に用いられる化合物を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
【0128】
【化22】
【0129】
【化23】
【0130】
【化24】
【0131】
【化25】
【0132】
【化26】
【0133】
【化27】
【0134】
【化28】
【0135】
【化29】
【0136】次に上記一般式(3)及び(4)で表され
るヒドラジン誘導体について説明する。
るヒドラジン誘導体について説明する。
【0137】一般式(3)において、X1で表されるア
ルキル基およびX1で表されるアルコキシ基、アルキル
チオ基中に含まれるアルキル基は直鎖、分枝もしくは環
状のアルキル基であり、代表的な例としてはエチル基、
ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、t−アミル
基、シクロヘキシル基などがあげられる。X1で表され
る置換アミノ基の置換基としてはアルキル基、アリール
基の他、アシル基(R−CO−基、Rはアルキルまたは
アリール)、アルコキシまたはアリーロキシカルボニル
基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、置換もしく
は無置換のヒドラジノカルボニル基、アルキルまたはア
リールスルホニル基、置換もしくは無置換のスルファモ
イル基なども含まれ、後者の場合にはカルボンアミド
基、ウレタン基、ウレイド基、セミカルバジド基、スル
ホンアミド基等を形成する。X1はまた2−メトキシエ
トキシ基、3,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ウレ
イド基の様に置換されていても良い。X1において、置
換基を含めた炭素原子数の総和は1から6が好ましく、
2から6がさらに好ましい。3から6が特に好ましい。
Xlとしては置換アミノ基が好ましく、カルボンアミド
基、ウレイド基、スルホンアミド基を形成するように置
換されたアミノ基が最も好ましい。X1のフェニル基上
の置換位置はヒドラジン部分のオルト位、メタ位、パラ
位のいずれでも良いが、メタ位、パラ位が好ましく、パ
ラ位が最も好ましい。Xlとヒドラジン部分を連結する
フェニレン基は置換されていても良いが、これらの置換
基とX1に含まれる炭素数の総和が1から6であること
が好ましい。
ルキル基およびX1で表されるアルコキシ基、アルキル
チオ基中に含まれるアルキル基は直鎖、分枝もしくは環
状のアルキル基であり、代表的な例としてはエチル基、
ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、t−アミル
基、シクロヘキシル基などがあげられる。X1で表され
る置換アミノ基の置換基としてはアルキル基、アリール
基の他、アシル基(R−CO−基、Rはアルキルまたは
アリール)、アルコキシまたはアリーロキシカルボニル
基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、置換もしく
は無置換のヒドラジノカルボニル基、アルキルまたはア
リールスルホニル基、置換もしくは無置換のスルファモ
イル基なども含まれ、後者の場合にはカルボンアミド
基、ウレタン基、ウレイド基、セミカルバジド基、スル
ホンアミド基等を形成する。X1はまた2−メトキシエ
トキシ基、3,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ウレ
イド基の様に置換されていても良い。X1において、置
換基を含めた炭素原子数の総和は1から6が好ましく、
2から6がさらに好ましい。3から6が特に好ましい。
Xlとしては置換アミノ基が好ましく、カルボンアミド
基、ウレイド基、スルホンアミド基を形成するように置
換されたアミノ基が最も好ましい。X1のフェニル基上
の置換位置はヒドラジン部分のオルト位、メタ位、パラ
位のいずれでも良いが、メタ位、パラ位が好ましく、パ
ラ位が最も好ましい。Xlとヒドラジン部分を連結する
フェニレン基は置換されていても良いが、これらの置換
基とX1に含まれる炭素数の総和が1から6であること
が好ましい。
【0138】一般式(3)においてY1で表されるアル
コキシ基、アルキルチオ基中に含まれるアルキル基は直
鎖、分枝もしくは環状のアルキル基であり、代表的な例
としてはメチル基、ドデシル基、イソブチル基、2−エ
チルへキシル基などがあげられる。Ylで表されるアリ
ーロキシ基、アリールチオ基中に含まれるアリール基は
単環もしくは2環の不飽和炭素環基もしくは不飽和へテ
ロ環基が好ましい。代表的な例としてはベンゼン環、ナ
フタレン環、ピリジン環、キノリン環等があげられる。
Ylで表される置換アミノ基の置換基としてはアルキル
基、アリール基の他、アシル基、(R−CO−基、Rは
アルキル基またはアリール基)、アルコキシまたはアリ
ーロキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカルバモ
イル基、置換もしくは無置換のヒドラジノカルボニル
基、アルキルまたはアリールスルホニル基、置換もしく
は無置換のスルファモイル基なども含まれ、後者の場合
にはカルボンアミド基、ウレタン基、ウレイド基、セミ
カルバジド基、スルホンアミド基等を形成する。Ylと
してはアルコキシ基、アリーロキシ基が好ましく、アリ
ーロキシ基が最も好ましい。Y1で表される基は置換さ
れていても良く、代表的な置換基としては例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、
ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキ
ルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリー
ルスルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シア
ノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボ
ンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン
酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基などが挙げら
れる。好ましい置換基としてはアルキル基(好ましくは
炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭
素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素
数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数
1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシル
アミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、ス
ルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基、(好ましくは炭素数1〜30を持つ
もの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30の
もの)などである。これらの基はさらに置換されても良
い。
コキシ基、アルキルチオ基中に含まれるアルキル基は直
鎖、分枝もしくは環状のアルキル基であり、代表的な例
としてはメチル基、ドデシル基、イソブチル基、2−エ
チルへキシル基などがあげられる。Ylで表されるアリ
ーロキシ基、アリールチオ基中に含まれるアリール基は
単環もしくは2環の不飽和炭素環基もしくは不飽和へテ
ロ環基が好ましい。代表的な例としてはベンゼン環、ナ
フタレン環、ピリジン環、キノリン環等があげられる。
Ylで表される置換アミノ基の置換基としてはアルキル
基、アリール基の他、アシル基、(R−CO−基、Rは
アルキル基またはアリール基)、アルコキシまたはアリ
ーロキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカルバモ
イル基、置換もしくは無置換のヒドラジノカルボニル
基、アルキルまたはアリールスルホニル基、置換もしく
は無置換のスルファモイル基なども含まれ、後者の場合
にはカルボンアミド基、ウレタン基、ウレイド基、セミ
カルバジド基、スルホンアミド基等を形成する。Ylと
してはアルコキシ基、アリーロキシ基が好ましく、アリ
ーロキシ基が最も好ましい。Y1で表される基は置換さ
れていても良く、代表的な置換基としては例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、
ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カ
ルバモイル基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキ
ルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリー
ルスルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シア
ノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボ
ンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン
酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基などが挙げら
れる。好ましい置換基としてはアルキル基(好ましくは
炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭
素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素
数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数
1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシル
アミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、ス
ルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基、(好ましくは炭素数1〜30を持つ
もの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30の
もの)などである。これらの基はさらに置換されても良
い。
【0139】一般式(3)においてR1で表されるアル
キレン基は置換されていても良く、代表的な置換基とし
てはY1の置換基の例として列挙したものがあてはま
る。R1は好ましくは炭素数1から20のアルキレン基
であり、炭素数1から8のアルキレン基がさらに好まし
い。最も好ましくは、R1は置換または無置換のメチレ
ン基である。Y1およびRlに含まれる炭素原子の総和は
6から30が好ましく、8から20が特に好ましい。
キレン基は置換されていても良く、代表的な置換基とし
てはY1の置換基の例として列挙したものがあてはま
る。R1は好ましくは炭素数1から20のアルキレン基
であり、炭素数1から8のアルキレン基がさらに好まし
い。最も好ましくは、R1は置換または無置換のメチレ
ン基である。Y1およびRlに含まれる炭素原子の総和は
6から30が好ましく、8から20が特に好ましい。
【0140】一般式(4)においてX2で表される基は
一般式(3)におけるXlで表される基と同定義であ
り、好ましい実施態様等の説明もX1についての説明が
そのままあてはまる。一般式(4)においてY2で表さ
れる電子吸引基はハメット(Hammett)らによっ
て定義されたσmあるいはσpの置換基定数の値が0.
2以上、さらに好ましくは0.3以上の基である。Y2
の置換位置としてはσmが0.2以上(好ましくは0.
3以上)の基はカルボニル基に対してメタ位、σpが
0.2以上(好ましくは0.3以上)の基はカルボニル
基に対してバラ位が好ましい。またσm、σpが共に
0.2以上(好ましくは0.3以上)の基はカルボニル
基に対してメタ位および/またはパラ位が好ましい。Y
2で表される基の代表的な例としては例えば、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールス
ルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、
ハロゲン原子、シアノ基、アルキルまたはアリールオキ
シカルボニル基、アシル基、ポリクロロアルキルまたは
アリール基などがあげられる。Y2はまた置換されても
良く、代表的な置換基としては一般式(3)のY1の置
換基の例として列挙したものがあてはまる。Y2として
はハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、シアノ基が
特に好ましい。
一般式(3)におけるXlで表される基と同定義であ
り、好ましい実施態様等の説明もX1についての説明が
そのままあてはまる。一般式(4)においてY2で表さ
れる電子吸引基はハメット(Hammett)らによっ
て定義されたσmあるいはσpの置換基定数の値が0.
2以上、さらに好ましくは0.3以上の基である。Y2
の置換位置としてはσmが0.2以上(好ましくは0.
3以上)の基はカルボニル基に対してメタ位、σpが
0.2以上(好ましくは0.3以上)の基はカルボニル
基に対してバラ位が好ましい。またσm、σpが共に
0.2以上(好ましくは0.3以上)の基はカルボニル
基に対してメタ位および/またはパラ位が好ましい。Y
2で表される基の代表的な例としては例えば、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールス
ルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、
ハロゲン原子、シアノ基、アルキルまたはアリールオキ
シカルボニル基、アシル基、ポリクロロアルキルまたは
アリール基などがあげられる。Y2はまた置換されても
良く、代表的な置換基としては一般式(3)のY1の置
換基の例として列挙したものがあてはまる。Y2として
はハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、シアノ基が
特に好ましい。
【0141】一般式(4)においてR2で表されるアル
キル基およびR2で表されるアルコキシ基、アルキルチ
オ基中に含まれるアルキル基は直鎖、分枝もしくは環状
のアルキル基であり、代表的な例としては、メチル基、
ドデシル基、イソブチル基、2−エチルへキシル基など
があげられる。R2であらわされるアリール基およびR2
で表されるアリーロキシ基、アリールチオ基に含まれる
アリール基は単環もしくは2環の不飽和炭素環基もしく
は不飽和へテロ環基が好ましい。代表的な例としてはベ
ンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリン環等が
あげられる。R2で表される置換アミノ基の置換基とし
てはアルキル基、アリール基の他、アシル基(R−CO
−基、Rはアルキルまたはアリール)、アルコキシまた
はアリーロキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカ
ルバモイル基、置換もしくは無置換のヒドラジノカルボ
ニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、置換も
しくは無置換のスルファモイル基なども含まれ、後者の
場合にはカルボンアミド基、ウレタン基、ウレイド基、
セミカルバジド基、スルホンアミド基等を形成する。R
2は置換されていても良く、代表的な置換基としては一
般式(3)におけるYlの置換基の例として列挙したも
のがあてはまる。R2は水素原子が好ましい。一般式
(4)におけるすベてのY2およびR2に含まれる炭素原
子の総和は8から30が好ましく、8から20が特に好
ましい。以下に本発明に用いられる化合物例を示すがこ
れに限定されない。
キル基およびR2で表されるアルコキシ基、アルキルチ
オ基中に含まれるアルキル基は直鎖、分枝もしくは環状
のアルキル基であり、代表的な例としては、メチル基、
ドデシル基、イソブチル基、2−エチルへキシル基など
があげられる。R2であらわされるアリール基およびR2
で表されるアリーロキシ基、アリールチオ基に含まれる
アリール基は単環もしくは2環の不飽和炭素環基もしく
は不飽和へテロ環基が好ましい。代表的な例としてはベ
ンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリン環等が
あげられる。R2で表される置換アミノ基の置換基とし
てはアルキル基、アリール基の他、アシル基(R−CO
−基、Rはアルキルまたはアリール)、アルコキシまた
はアリーロキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカ
ルバモイル基、置換もしくは無置換のヒドラジノカルボ
ニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、置換も
しくは無置換のスルファモイル基なども含まれ、後者の
場合にはカルボンアミド基、ウレタン基、ウレイド基、
セミカルバジド基、スルホンアミド基等を形成する。R
2は置換されていても良く、代表的な置換基としては一
般式(3)におけるYlの置換基の例として列挙したも
のがあてはまる。R2は水素原子が好ましい。一般式
(4)におけるすベてのY2およびR2に含まれる炭素原
子の総和は8から30が好ましく、8から20が特に好
ましい。以下に本発明に用いられる化合物例を示すがこ
れに限定されない。
【0142】
【化30】
【0143】
【化31】
【0144】
【化32】
【0145】
【化33】
【0146】
【化34】
【0147】
【化35】
【0148】
【化36】
【0149】
【化37】
【0150】本発明のヒドラジン化合物は例えば、特開
昭61−213847号、同62−260153号、米
国特許第4,684,604号、特開平1−26993
6号、米国特許第3,379,529号、同3,62
0,746号、同4,377,634号、同4,33
2,878号、特開昭49−129536号、同56−
153336号、同56−153342号、米国特許第
4,988,604号、同4,994,365号などに
記載されている方法を利用することによリ合成した。
昭61−213847号、同62−260153号、米
国特許第4,684,604号、特開平1−26993
6号、米国特許第3,379,529号、同3,62
0,746号、同4,377,634号、同4,33
2,878号、特開昭49−129536号、同56−
153336号、同56−153342号、米国特許第
4,988,604号、同4,994,365号などに
記載されている方法を利用することによリ合成した。
【0151】次に上記一般式(5)で表されるヒドラジ
ン誘導体であるが、好ましくは下記一般式(5−a)で
表される化合物が挙げられる。
ン誘導体であるが、好ましくは下記一般式(5−a)で
表される化合物が挙げられる。
【0152】
【化38】
【0153】ここで、R1〜R5は、同一であっても異な
っていても良く、水素、それぞれ1〜20個の炭素原子
をもつアルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハ
ロアルキル、アルキルアミノ、脂肪族アシルアミノまた
はシクロアルキルであり、それぞれ6〜10個の炭素原
子をもつアリール、アリールオキシまたは芳香族アシル
アミノ、アルキレン鎖中に1〜3個の炭素原子をもつア
ルアルキルまたはアルアルコキシ、あるいは1〜10個
の炭素原子をもつアルキル基の1つまたはそれ以上が置
換され得る、フェノキシ基により置換されている1〜4
個の炭素原子をもつ脂肪族アシルアミノ基などであり、
ただしR1〜R5のうち少なくとも1つは水素ではなく、
Q+はトリアルキルアンモニウム、ピリジニウム−1−
イル、N−アルキルピリジニウム−m−イルここでmは
2、3または4、チアゾリニウム−3−イル、またはN
−アルキルチアゾリニウム−m−イルここでmは2、4
または5、このヘテロ環は追加のアルキル基によって置
換されていてもよく、そして基Q+のすべてのアルキル
基は同一であっても異なっていてもよく、および/また
はヒドロキシルあるいはスルホン酸基により置換されて
いてもよく、各アルキル基は12個よリ多い炭素をもた
ず、しかもトリアルキルアンモニウムの場合そのうちの
2個は、3〜12員の環を第4級窒素とともに形成して
もよい。
っていても良く、水素、それぞれ1〜20個の炭素原子
をもつアルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハ
ロアルキル、アルキルアミノ、脂肪族アシルアミノまた
はシクロアルキルであり、それぞれ6〜10個の炭素原
子をもつアリール、アリールオキシまたは芳香族アシル
アミノ、アルキレン鎖中に1〜3個の炭素原子をもつア
ルアルキルまたはアルアルコキシ、あるいは1〜10個
の炭素原子をもつアルキル基の1つまたはそれ以上が置
換され得る、フェノキシ基により置換されている1〜4
個の炭素原子をもつ脂肪族アシルアミノ基などであり、
ただしR1〜R5のうち少なくとも1つは水素ではなく、
Q+はトリアルキルアンモニウム、ピリジニウム−1−
イル、N−アルキルピリジニウム−m−イルここでmは
2、3または4、チアゾリニウム−3−イル、またはN
−アルキルチアゾリニウム−m−イルここでmは2、4
または5、このヘテロ環は追加のアルキル基によって置
換されていてもよく、そして基Q+のすべてのアルキル
基は同一であっても異なっていてもよく、および/また
はヒドロキシルあるいはスルホン酸基により置換されて
いてもよく、各アルキル基は12個よリ多い炭素をもた
ず、しかもトリアルキルアンモニウムの場合そのうちの
2個は、3〜12員の環を第4級窒素とともに形成して
もよい。
【0154】Bは1〜3個のメチレン基から構成され架
橋基で、その各々はメチルまたはエチルで置換されてい
てもよく、もしQ+がN-アルキルピリジニウム−m−イ
ルまたはN−アルキルチアゾリニウム−m−イルである
場台は、酸素原子または単結合であってもよい。そして
A-はアニオンを示すが、Q+スルホ基を含むときには不
要である。
橋基で、その各々はメチルまたはエチルで置換されてい
てもよく、もしQ+がN-アルキルピリジニウム−m−イ
ルまたはN−アルキルチアゾリニウム−m−イルである
場台は、酸素原子または単結合であってもよい。そして
A-はアニオンを示すが、Q+スルホ基を含むときには不
要である。
【0155】Ar基は置換フェニル基を表し、また例え
ばナフチル、アントリルあるいはフェナントリル基など
の置換または未置換アリール基を表すことができる。
ばナフチル、アントリルあるいはフェナントリル基など
の置換または未置換アリール基を表すことができる。
【0156】Ar基の芳香環系上の置換基は、ヒドラジ
ン化合物に対してある種の特性、例えば耐拡散性(バラ
スト基)やハロゲン化銀に対する吸着性(吸着促進基)
などを付与するために、当業界で用いられているような
基を含ますことが好ましい。このような置換基の例は好
適には1〜20個の炭素原子をもつ直鎖、分岐鎖または
環状アルキル、アルケニルあるいはアルキニルであり、
これはさらにここで指定した基の1つにより置換されて
もよく、これらの基は例えばハロゲン原子、シアノ、カ
ルボキシル、アミノで置換されたまたは未置換の6〜1
4個の炭素原子をもつアリール基、1〜20個の炭素原
子をもつアルキルアミノとアシルアミノ基、チオカルバ
ミド基とチオカルボニル基を含むその他の基、アルコキ
シとアリールオキシ基、脂肪族と芳香族のアシルオキシ
基、ウレタン基、アルキル−およびアリールスルホニ
ル、アルキル−およびアリールスルホンアミド基、同じ
くイミダゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、ベン
ズイミダゾールなどのような5〜10員の窒素またはイ
オウを含むヘテロ環の基等である。上記の各置換基は、
他のものに無関係に独立してアリール基に結合すること
もできるし、あるいはまた他のものに相互に置換し、ア
リールの水素原子に置き換った鎖中に入り込むこともで
きる。これらの置換基はメソメリーまたは誘導効果によ
り、芳香環系の電子密度を増加させるという好ましい効
果を有している。
ン化合物に対してある種の特性、例えば耐拡散性(バラ
スト基)やハロゲン化銀に対する吸着性(吸着促進基)
などを付与するために、当業界で用いられているような
基を含ますことが好ましい。このような置換基の例は好
適には1〜20個の炭素原子をもつ直鎖、分岐鎖または
環状アルキル、アルケニルあるいはアルキニルであり、
これはさらにここで指定した基の1つにより置換されて
もよく、これらの基は例えばハロゲン原子、シアノ、カ
ルボキシル、アミノで置換されたまたは未置換の6〜1
4個の炭素原子をもつアリール基、1〜20個の炭素原
子をもつアルキルアミノとアシルアミノ基、チオカルバ
ミド基とチオカルボニル基を含むその他の基、アルコキ
シとアリールオキシ基、脂肪族と芳香族のアシルオキシ
基、ウレタン基、アルキル−およびアリールスルホニ
ル、アルキル−およびアリールスルホンアミド基、同じ
くイミダゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、ベン
ズイミダゾールなどのような5〜10員の窒素またはイ
オウを含むヘテロ環の基等である。上記の各置換基は、
他のものに無関係に独立してアリール基に結合すること
もできるし、あるいはまた他のものに相互に置換し、ア
リールの水素原子に置き換った鎖中に入り込むこともで
きる。これらの置換基はメソメリーまたは誘導効果によ
り、芳香環系の電子密度を増加させるという好ましい効
果を有している。
【0157】Q+は、例えばアンモニウム、ホスホニウ
ムおよびオキソニウム化合物のような、オニウム化合物
中にあるような永久的な正荷電をもつ基である。
ムおよびオキソニウム化合物のような、オニウム化合物
中にあるような永久的な正荷電をもつ基である。
【0158】アニオンA-は塩化物、臭化物、またはヨ
ウ化物のようなハライドアニオン、または硫酸塩あるい
は過塩素酸塩のような複合無機イオン、あるいはまたト
ルエンスルホン酸塩またはトリクロロ酢酸塩のような普
通の有機アニオンとすることができる。強酸のアニオン
が好ましい。もしヒドラジン化合物がアニオン性の基を
もつ基で置換されるならば、内部塩を作ることによって
このアニオンは消失する。
ウ化物のようなハライドアニオン、または硫酸塩あるい
は過塩素酸塩のような複合無機イオン、あるいはまたト
ルエンスルホン酸塩またはトリクロロ酢酸塩のような普
通の有機アニオンとすることができる。強酸のアニオン
が好ましい。もしヒドラジン化合物がアニオン性の基を
もつ基で置換されるならば、内部塩を作ることによって
このアニオンは消失する。
【0159】現在の技術の状態をもとにして、活性基中
にカチオン性基をもつ本発明の化合物が、改良された特
性、特に低いpH値において高い現像速度をもつであろ
うことは、当業者にとって予想し得なかったのである。
むしろ簡単さヒドラジンとの比較実験で、タカダ氏他の
米国特許第4,224,401号では、このようなグル
ープは現像の際コントラストに何の影響もないことを示
している。Honig氏他の米国特許第3,386,8
31号によれば、アリール基上に置換がされてなく、そ
してアシル基中にカチオン性基をもつアリールヒドラジ
ドは、コントラストに影響することなく高感光度ヨウ臭
化銀乳剤に強いカブリ作用を有している。これに反し
て、本発明のエレメントは長期の保存でさえカブリの増
加はなく、また適当な現像により超硬調性を示した。
にカチオン性基をもつ本発明の化合物が、改良された特
性、特に低いpH値において高い現像速度をもつであろ
うことは、当業者にとって予想し得なかったのである。
むしろ簡単さヒドラジンとの比較実験で、タカダ氏他の
米国特許第4,224,401号では、このようなグル
ープは現像の際コントラストに何の影響もないことを示
している。Honig氏他の米国特許第3,386,8
31号によれば、アリール基上に置換がされてなく、そ
してアシル基中にカチオン性基をもつアリールヒドラジ
ドは、コントラストに影響することなく高感光度ヨウ臭
化銀乳剤に強いカブリ作用を有している。これに反し
て、本発明のエレメントは長期の保存でさえカブリの増
加はなく、また適当な現像により超硬調性を示した。
【0160】次に5−aの化合物について説明する。
【0161】R1〜R5は、同一であっても異なっていて
もよいが、少なくとも1つは水素ではなく、そしてこれ
らは水素、いずれの場合も1〜20個の炭素原子をもつ
アルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアル
キル、アルキルアミノ、脂肪族アシルアミノ、またはシ
クロアルキルであり、いずれの場合も6〜10個の炭素
原子をもつアリール、アリールオキシ、または芳香族ア
シルアミノであり、アルキレン鎖中に1〜3個の炭素原
子をもつアルアルキル、またはアルアルコキシ、あるい
は1〜10個の炭素原子をもつアルキル基の1個または
それ以上で置換されたフェノキシ基により置換されてい
る、1〜4個の炭素原子をもつ脂肪族アシルアミノ基な
どである、Q+はトリアルキルアンモニウム、ピリジニ
ウム−1−イル、N−アルキルピリジニウム−m−イル
ここでmは2、3または4、チアゾリニウム−3−イ
ル、N−アルキルチアゾリニウム−m−イルここでmは
2、4または5、このヘテロ環は追加のアルキル基によ
って置換されていてもよく、そして基Q+のすべてのア
ルキル基は同一であっても異なっていてもよくおよび/
またはヒドロキシルあるいはスルホン酸基により置換さ
れていてもよく、各アルキル基は12個より多い炭素原
子をもたず、しかもトリアルキルアンモニウムの場合、
そのうちの2個は3〜12員の環を第4級窒素原子とと
もに形成してもよい、Bは1〜3個のメチレン基から構
成される架橋基で、その各々はメチルまたはエチルで置
換されていてもよく、もしQ+がN-アルキルピリジニウ
ム−m−イルまたはN−アルキルチアゾリニウム−m−
イルであるときは、酸素原子または単結合であってもよ
い、そしてA-はアニオンを示すが、Q+がスルホ基を含
むときには不要である。以下、式5−aで表される化合
物の具体例を示すがこれに限定されない。
もよいが、少なくとも1つは水素ではなく、そしてこれ
らは水素、いずれの場合も1〜20個の炭素原子をもつ
アルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアル
キル、アルキルアミノ、脂肪族アシルアミノ、またはシ
クロアルキルであり、いずれの場合も6〜10個の炭素
原子をもつアリール、アリールオキシ、または芳香族ア
シルアミノであり、アルキレン鎖中に1〜3個の炭素原
子をもつアルアルキル、またはアルアルコキシ、あるい
は1〜10個の炭素原子をもつアルキル基の1個または
それ以上で置換されたフェノキシ基により置換されてい
る、1〜4個の炭素原子をもつ脂肪族アシルアミノ基な
どである、Q+はトリアルキルアンモニウム、ピリジニ
ウム−1−イル、N−アルキルピリジニウム−m−イル
ここでmは2、3または4、チアゾリニウム−3−イ
ル、N−アルキルチアゾリニウム−m−イルここでmは
2、4または5、このヘテロ環は追加のアルキル基によ
って置換されていてもよく、そして基Q+のすべてのア
ルキル基は同一であっても異なっていてもよくおよび/
またはヒドロキシルあるいはスルホン酸基により置換さ
れていてもよく、各アルキル基は12個より多い炭素原
子をもたず、しかもトリアルキルアンモニウムの場合、
そのうちの2個は3〜12員の環を第4級窒素原子とと
もに形成してもよい、Bは1〜3個のメチレン基から構
成される架橋基で、その各々はメチルまたはエチルで置
換されていてもよく、もしQ+がN-アルキルピリジニウ
ム−m−イルまたはN−アルキルチアゾリニウム−m−
イルであるときは、酸素原子または単結合であってもよ
い、そしてA-はアニオンを示すが、Q+がスルホ基を含
むときには不要である。以下、式5−aで表される化合
物の具体例を示すがこれに限定されない。
【0162】
【化39】
【0163】
【化40】
【0164】
【化41】
【0165】
【化42】
【0166】
【化43】
【0167】
【化44】
【0168】
【化45】
【0169】本発明に係る上記のヒドラジン誘導体は、
公知の方法により合成することができる。ハロゲン化銀
写真感光材料への添加量は一様ではないが、通常はハロ
ゲン化銀1モル当たり10-6〜10-1モルの範囲が好ま
しく、さらに好ましくは10-5〜10-2モルの範囲でよ
い。
公知の方法により合成することができる。ハロゲン化銀
写真感光材料への添加量は一様ではないが、通常はハロ
ゲン化銀1モル当たり10-6〜10-1モルの範囲が好ま
しく、さらに好ましくは10-5〜10-2モルの範囲でよ
い。
【0170】次に一般式(6)で表される化合物につい
てさらに詳細に説明する。
てさらに詳細に説明する。
【0171】R1は、芳香族基であり、一般的に、単環
式または二環式の芳香族基である。単環式芳香族基の例
はフェニル基であり、二環式芳香族基の適当な例はナフ
チル基である。芳香族基は、電子吸引基でない1個また
はそれ以上の置換基、例えば1〜20個の炭素原子を有
するアルキル基(直鎖または分岐鎖のいずれでもよく、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ−プロピル、
n−ブチル、イソ−ブチル、n−オクチル、n−ヘキシ
ル、tert−ブチル、n−デシル、n−ドデシル等の
各基)、アルキル部分に1〜3個の炭素原子を有するア
ラルキル基(例えば、ベンジル、フエネチル等の各
基)、1〜20個の炭素原子を有するアルコキシ基(こ
のアルキル部分は、直鎖または分岐鎖のいずれでもよ
く、例えばメトキシ、エトキシ、2−メチルプロピオキ
シ等の各基)、1〜20個の炭素原子を有するアルキル
基でモノ置換またはジ置換されたアミノ基、2〜21個
の炭素原子を有する脂肪族アシルアミノ基、または芳香
族アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、オクチニ
ルアミノ、ベンゾイルアミノ、ジメチルアミノ等の各
基)等で置換されていてもよい。
式または二環式の芳香族基である。単環式芳香族基の例
はフェニル基であり、二環式芳香族基の適当な例はナフ
チル基である。芳香族基は、電子吸引基でない1個また
はそれ以上の置換基、例えば1〜20個の炭素原子を有
するアルキル基(直鎖または分岐鎖のいずれでもよく、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ−プロピル、
n−ブチル、イソ−ブチル、n−オクチル、n−ヘキシ
ル、tert−ブチル、n−デシル、n−ドデシル等の
各基)、アルキル部分に1〜3個の炭素原子を有するア
ラルキル基(例えば、ベンジル、フエネチル等の各
基)、1〜20個の炭素原子を有するアルコキシ基(こ
のアルキル部分は、直鎖または分岐鎖のいずれでもよ
く、例えばメトキシ、エトキシ、2−メチルプロピオキ
シ等の各基)、1〜20個の炭素原子を有するアルキル
基でモノ置換またはジ置換されたアミノ基、2〜21個
の炭素原子を有する脂肪族アシルアミノ基、または芳香
族アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、オクチニ
ルアミノ、ベンゾイルアミノ、ジメチルアミノ等の各
基)等で置換されていてもよい。
【0172】R1としては、下記一般式(6−a)で表
される基が好ましい。
される基が好ましい。
【0173】
【化46】
【0174】式中、mは0または1〜3の整数であり、
R2は12個までの炭素原子、好ましくは1〜5個まで
の炭素原子を有するアルキル基、12個までの炭素原子
を有するアルコキシ基、ハロゲン原子またはNHCOR
3(式中、R3はH、12個までの炭素原子を有するアル
キル基、または12個までの炭素原子を有するアリール
基である)である。
R2は12個までの炭素原子、好ましくは1〜5個まで
の炭素原子を有するアルキル基、12個までの炭素原子
を有するアルコキシ基、ハロゲン原子またはNHCOR
3(式中、R3はH、12個までの炭素原子を有するアル
キル基、または12個までの炭素原子を有するアリール
基である)である。
【0175】A1及びA2の1つは水素原子であり、他
は、水素原子、アリールスルホニル基、トリフルオロア
セチル基を表す。
は、水素原子、アリールスルホニル基、トリフルオロア
セチル基を表す。
【0176】Gは−CO−、−COCO−、−SO−、
−SO2−、またはN−置換または非置換のイミノ基で
あり、好ましくは、−CO−である。
−SO2−、またはN−置換または非置換のイミノ基で
あり、好ましくは、−CO−である。
【0177】Xとしては、下記一般式(6−b)で表さ
れる基が好ましい。
れる基が好ましい。
【0178】
【化47】
【0179】式中、R4〜R7は、水素原子、12個まで
の炭素原子を有するアルキル基、または12個までの炭
素原子を有するアリール基から選ばれる。R4〜R7のい
ずれかがアルキル基であるときはそのアルキル基は直鎖
または分岐鎖でよく、一般的に、12個までの炭素原
子、好ましくは3個以下の炭素原子を有している。R4
〜R7のいずれかがアリール基であるときは、そのアリ
ール基は、一般的に、5〜12個の炭素原子を含有して
おり、かつ任意的に、置換基、例えばアルキル基、アル
コキシ基等を有していてもよい。Bは、置換基を有して
いてもよい5員環または6員環を完成するのに必要な原
子であり、好ましくは、ベンゼン環を形成するのに必要
な原子である。Yは、OH、SH、またはNHR3(式
中R3は前記一般式(6−a)におけるR3と同義であ
る。)であり、p,qは0または1であり、そして(p
+q)は1または2である。
の炭素原子を有するアルキル基、または12個までの炭
素原子を有するアリール基から選ばれる。R4〜R7のい
ずれかがアルキル基であるときはそのアルキル基は直鎖
または分岐鎖でよく、一般的に、12個までの炭素原
子、好ましくは3個以下の炭素原子を有している。R4
〜R7のいずれかがアリール基であるときは、そのアリ
ール基は、一般的に、5〜12個の炭素原子を含有して
おり、かつ任意的に、置換基、例えばアルキル基、アル
コキシ基等を有していてもよい。Bは、置換基を有して
いてもよい5員環または6員環を完成するのに必要な原
子であり、好ましくは、ベンゼン環を形成するのに必要
な原子である。Yは、OH、SH、またはNHR3(式
中R3は前記一般式(6−a)におけるR3と同義であ
る。)であり、p,qは0または1であり、そして(p
+q)は1または2である。
【0180】一般式(6)における−G−X部分は、塩
基性条件下、一般にpH9.5〜12.5の範囲内にお
いて、−G−X部分から誘導された5員環または6員環
の環式構造、例えばラクトンまたはラクタム、を生成す
ることが可能である。
基性条件下、一般にpH9.5〜12.5の範囲内にお
いて、−G−X部分から誘導された5員環または6員環
の環式構造、例えばラクトンまたはラクタム、を生成す
ることが可能である。
【0181】一般式(6)で表される化合物は、好まし
くは下記一般式(6−c)で表される。
くは下記一般式(6−c)で表される。
【0182】
【化48】
【0183】式中、p′,q′は0または1であり、そ
して(p′+q′)は1である。R2及びmは、前記一
般式(6−a)におけるR2及びmとそれぞれ同義であ
る。Zは、NH2またはOHである。
して(p′+q′)は1である。R2及びmは、前記一
般式(6−a)におけるR2及びmとそれぞれ同義であ
る。Zは、NH2またはOHである。
【0184】以下に、一般式(6−c)で表される化合
物の具体例を示すがこれに限定されない。
物の具体例を示すがこれに限定されない。
【0185】
【化49】
【0186】本発明に係る上記のヒドラジン誘導体は、
公知の方法により合成することができる。本発明に係る
上記のヒドラジン誘導体は、ハロゲン化銀1モルにつき
10-6〜10-1モル、好ましくは10-5〜10-2モルの
範囲の量を添加することが好ましい。
公知の方法により合成することができる。本発明に係る
上記のヒドラジン誘導体は、ハロゲン化銀1モルにつき
10-6〜10-1モル、好ましくは10-5〜10-2モルの
範囲の量を添加することが好ましい。
【0187】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
ハロゲン化銀乳剤層側の少なくとも一層の写真構成層中
に添加され、好ましくはハロゲン化銀乳剤層及び/また
はその隣接層に好ましく添加される。
ハロゲン化銀乳剤層側の少なくとも一層の写真構成層中
に添加され、好ましくはハロゲン化銀乳剤層及び/また
はその隣接層に好ましく添加される。
【0188】また、本発明に係る一般式(1),
(2),(3),(4),(5)および(6)で表され
るヒドラジン誘導体以外のヒドラジン誘導体を併用する
ことができる。
(2),(3),(4),(5)および(6)で表され
るヒドラジン誘導体以外のヒドラジン誘導体を併用する
ことができる。
【0189】ヒドラジン誘導体による硬調化を効果的に
促進するために、下記一般式〔Na〕又は〔Nb〕で表
される造核促進剤を用いることが好ましい。
促進するために、下記一般式〔Na〕又は〔Nb〕で表
される造核促進剤を用いることが好ましい。
【0190】
【化50】
【0191】一般式〔Na〕において、R11、R12、R
13は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
置換アリール基を表す。R11、R12、R13で環を形成す
ることができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化
合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又は
ハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性
を有するためには分子量100以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量300以上である。又、好
ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエー
テル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。一
般式〔Na〕として特に好ましくは、分子中にハロゲン
化銀吸着基としてチオエーテル基を少なくとも一つ有す
る化合物である。
13は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
置換アリール基を表す。R11、R12、R13で環を形成す
ることができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化
合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又は
ハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性
を有するためには分子量100以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量300以上である。又、好
ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエー
テル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。一
般式〔Na〕として特に好ましくは、分子中にハロゲン
化銀吸着基としてチオエーテル基を少なくとも一つ有す
る化合物である。
【0192】以下にこれら造核促進剤〔Na〕の具体例
を挙げる。
を挙げる。
【0193】
【化51】
【0194】
【化52】
【0195】
【化53】
【0196】
【化54】
【0197】一般式〔Nb〕においてArは置換又は無
置換の芳香族基又は複素環基を表す。R14は水素原子、
アルキル基、アルキニル基、アリール基を表すが、Ar
とR14は連結基で連結されて環を形成してもよい。これ
らの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着
基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性をもたせ
るための分子量は120以上が好ましく、特に好ましく
は300以上である。又、好ましいハロゲン化銀吸着基
としては一般式(1)で表される化合物のR1が有する
ことができるハロゲン化銀吸着基と同義の基が挙げられ
る。
置換の芳香族基又は複素環基を表す。R14は水素原子、
アルキル基、アルキニル基、アリール基を表すが、Ar
とR14は連結基で連結されて環を形成してもよい。これ
らの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着
基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性をもたせ
るための分子量は120以上が好ましく、特に好ましく
は300以上である。又、好ましいハロゲン化銀吸着基
としては一般式(1)で表される化合物のR1が有する
ことができるハロゲン化銀吸着基と同義の基が挙げられ
る。
【0198】一般式〔Nb〕の具体的化合物としては以
下に示すものが挙げられる。
下に示すものが挙げられる。
【0199】
【化55】
【0200】
【化56】
【0201】その他の好ましい造核促進化合物の具体例
は、特開平6−258751号報(13)頁「006
2」〜(15)頁「0065」に記載されている(2−
1)〜(2−20)の化合物及び同6−258751号
報(15)頁「0067」〜(16)頁「0068」に
記載されている3−1〜3−6である。
は、特開平6−258751号報(13)頁「006
2」〜(15)頁「0065」に記載されている(2−
1)〜(2−20)の化合物及び同6−258751号
報(15)頁「0067」〜(16)頁「0068」に
記載されている3−1〜3−6である。
【0202】これらの造核促進化合物は、ハロゲン化銀
乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることができる
が、好ましくはハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に用
いることが好ましい。
乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることができる
が、好ましくはハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に用
いることが好ましい。
【0203】本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒
径は0.7μm以下であることが好ましく、特に0.5
〜0.1μmが好ましい。平均粒径とは、写真科学の分
野の専門家には常用されており、容易に理解される用語
である。粒径とは、粒子が球状又は球に近似できる粒子
の場合には粒子直径を意味する。粒子が立方体である場
合には球に換算し、その球の直径を粒径とする。平均粒
径を求める方法の詳細については、ミース,ジェーム
ス:ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィックプロ
セス(C.E.Mees&T.H.James著:Th
e theoryof the photograph
ic process),第3版,36〜43頁(19
66年(マクミラン「Mcmillan」社刊))を参
照すればよい。
径は0.7μm以下であることが好ましく、特に0.5
〜0.1μmが好ましい。平均粒径とは、写真科学の分
野の専門家には常用されており、容易に理解される用語
である。粒径とは、粒子が球状又は球に近似できる粒子
の場合には粒子直径を意味する。粒子が立方体である場
合には球に換算し、その球の直径を粒径とする。平均粒
径を求める方法の詳細については、ミース,ジェーム
ス:ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィックプロ
セス(C.E.Mees&T.H.James著:Th
e theoryof the photograph
ic process),第3版,36〜43頁(19
66年(マクミラン「Mcmillan」社刊))を参
照すればよい。
【0204】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒径分布は狭い方が好ま
しく、特に平均粒径の±40%の粒径域内に全粒子数の
90%、望ましくは95%が入るような、いわゆる単分
散乳剤が好ましい。
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒径分布は狭い方が好ま
しく、特に平均粒径の±40%の粒径域内に全粒子数の
90%、望ましくは95%が入るような、いわゆる単分
散乳剤が好ましい。
【0205】本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲ
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。
【0206】粒子を銀イオン過剰の下において形成させ
る方法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。同
時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される
液相中のpAgを一定に保つ方法、即ちいわゆるコント
ロールド・ダブルジェット法を用いることができ、この
方法によると、結晶形が規則的で粒径が均一に近いハロ
ゲン化銀乳剤が得られる。
る方法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。同
時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される
液相中のpAgを一定に保つ方法、即ちいわゆるコント
ロールド・ダブルジェット法を用いることができ、この
方法によると、結晶形が規則的で粒径が均一に近いハロ
ゲン化銀乳剤が得られる。
【0207】ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化
銀粒子は粒子を形成する過程又は成長させる過程の少な
くとも1つの過程でカドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリ
ウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩、ルテニウム塩、オ
スニウム塩あるいはこれらの元素を含む錯塩を添加する
ことが好ましい。
銀粒子は粒子を形成する過程又は成長させる過程の少な
くとも1つの過程でカドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリ
ウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩、ルテニウム塩、オ
スニウム塩あるいはこれらの元素を含む錯塩を添加する
ことが好ましい。
【0208】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3,22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3,22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
【0209】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されても、さ
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感、セ
レン増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。好ましい硫黄増感剤としては、ゼラチン中に
含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えばチ
オ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィド
化合物等を用いることができる。
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感、セ
レン増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。好ましい硫黄増感剤としては、ゼラチン中に
含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えばチ
オ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィド
化合物等を用いることができる。
【0210】セレン増感剤としては公知のセレン増感剤
を用いることができる。例えば米国特許1623499
号、特開昭50−71325号、同60−150046
号等に記載された化合物を好ましく用いることができ
る。
を用いることができる。例えば米国特許1623499
号、特開昭50−71325号、同60−150046
号等に記載された化合物を好ましく用いることができ
る。
【0211】テルル増感剤としては、公知のテルル増感
剤を用いることができる。例えば米国特許162349
9号、同3772031号、同3320069号等に記
載された化合物を好ましく用いることができる。
剤を用いることができる。例えば米国特許162349
9号、同3772031号、同3320069号等に記
載された化合物を好ましく用いることができる。
【0212】貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
【0213】還元増感剤としては第一錫塩、アミン類、
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
【0214】本発明による黒白ハロゲン化銀写真感光材
料は、自動現像機を用いて処理されることが好ましい。
その際に感光材料の面積に比例した一定量の現像液及び
定着液を補充しながら処理される。その現像補充量及び
定着補充量は、廃液量を少なくするために1m2当たり
50ml以上300ml以下である。1m2当たり50
ml以下の補充量では、写真性能の変動が大きく、試料
を大量に処理する場合に問題となる。好ましくは1m2
当たり75〜200mlである。
料は、自動現像機を用いて処理されることが好ましい。
その際に感光材料の面積に比例した一定量の現像液及び
定着液を補充しながら処理される。その現像補充量及び
定着補充量は、廃液量を少なくするために1m2当たり
50ml以上300ml以下である。1m2当たり50
ml以下の補充量では、写真性能の変動が大きく、試料
を大量に処理する場合に問題となる。好ましくは1m2
当たり75〜200mlである。
【0215】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が10〜60秒であることが
好ましい。ここでいう全処理時間とは、黒白感光材料を
処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理
に必要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処
理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりDr
y to Dryの時間である。全処理時間が10秒未
満では減感、軟調化等で満足な写真性能が得られない。
更に好ましくは全処理時間(Dry to Dry)が
15〜50秒である。
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が10〜60秒であることが
好ましい。ここでいう全処理時間とは、黒白感光材料を
処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理
に必要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処
理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりDr
y to Dryの時間である。全処理時間が10秒未
満では減感、軟調化等で満足な写真性能が得られない。
更に好ましくは全処理時間(Dry to Dry)が
15〜50秒である。
【0216】また、自動現像機には90℃以上の伝熱体
(例えば90℃〜130℃のヒートローラー等)あるい
は150℃以上の輻射物体(例えばタングステン、炭
素、ニクロム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・
酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素などに直接電流を通
して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギーを
銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックなどの放射
体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出するも
の)で乾燥するゾーンを持つものが含まれる。
(例えば90℃〜130℃のヒートローラー等)あるい
は150℃以上の輻射物体(例えばタングステン、炭
素、ニクロム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・
酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素などに直接電流を通
して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギーを
銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックなどの放射
体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出するも
の)で乾燥するゾーンを持つものが含まれる。
【0217】本発明において用いることのできる現像主
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロ
キノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノ
ン、2,3−ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、イソプロピルハイドロキノン、2,5−ジメチ
ルハイドロキノン等)、3−ピラゾリドン類(例えば1
−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−
3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピ
ラゾリドン等)、アミノフェノール類(例えばo−アミ
ノフェノール、p−アミノフェノール、N−メチル−o
−アミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェノー
ル、2,4−ジアミノフェノール等)、ピロガロール、
アスコルビン酸、1−アリール−3−ピラゾリン類(例
えば1−(p−ヒドロキシフェニル)−3−アミノピラ
ゾリン、1−(p−メチルアミノフェニル)−3−アミ
ノピラゾリン、1−(p−アミノフェニル)−3−アミ
ノピラゾリン、1−(p−アミノ−N−メチルフェニ
ル)−3−アミノピラゾリン等)、遷移金属錯塩類(T
i,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu等の遷移
金属の錯塩であり、これらは現像液として用いるために
還元力を有する形であれば良く、例えばTi3+,V2+,
Cr2+,Fe2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、
エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、ジエチレントリ
アミン五酢酸(DTPA)等のアミノポリカルボン酸お
よびその塩、ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸
等のリン酸類およびその塩などが挙げられる。)など
を、単独もしくは組み合わせて使用することができる
が、3−ピラゾリドン類とジヒドロキシベンゼン類との
組合せ、又はアミノフェノール類とジヒドロキシベンゼ
ン類との組合せ或いは3−ピラゾリドン類とアスコルビ
ン酸との組合せ、アミノフェノール類とアスコルビン酸
との組合せ、3ーピラゾリドン類と遷移金属錯塩類との
組合せ、アミノフェノール類と遷移金属錯塩類との組合
せで使用することが好ましい。また現像主薬は、通常
0.01〜1.4モル/リットルの量で用いられるのが
好ましい。
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロ
キノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノ
ン、2,3−ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、イソプロピルハイドロキノン、2,5−ジメチ
ルハイドロキノン等)、3−ピラゾリドン類(例えば1
−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−
3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピ
ラゾリドン等)、アミノフェノール類(例えばo−アミ
ノフェノール、p−アミノフェノール、N−メチル−o
−アミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェノー
ル、2,4−ジアミノフェノール等)、ピロガロール、
アスコルビン酸、1−アリール−3−ピラゾリン類(例
えば1−(p−ヒドロキシフェニル)−3−アミノピラ
ゾリン、1−(p−メチルアミノフェニル)−3−アミ
ノピラゾリン、1−(p−アミノフェニル)−3−アミ
ノピラゾリン、1−(p−アミノ−N−メチルフェニ
ル)−3−アミノピラゾリン等)、遷移金属錯塩類(T
i,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu等の遷移
金属の錯塩であり、これらは現像液として用いるために
還元力を有する形であれば良く、例えばTi3+,V2+,
Cr2+,Fe2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、
エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、ジエチレントリ
アミン五酢酸(DTPA)等のアミノポリカルボン酸お
よびその塩、ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸
等のリン酸類およびその塩などが挙げられる。)など
を、単独もしくは組み合わせて使用することができる
が、3−ピラゾリドン類とジヒドロキシベンゼン類との
組合せ、又はアミノフェノール類とジヒドロキシベンゼ
ン類との組合せ或いは3−ピラゾリドン類とアスコルビ
ン酸との組合せ、アミノフェノール類とアスコルビン酸
との組合せ、3ーピラゾリドン類と遷移金属錯塩類との
組合せ、アミノフェノール類と遷移金属錯塩類との組合
せで使用することが好ましい。また現像主薬は、通常
0.01〜1.4モル/リットルの量で用いられるのが
好ましい。
【0218】本発明においては、銀スラッジ防止剤とし
て特公昭62−4702号、特開平3−51844号、
同4−26838号、同4−362942号、同1−3
19031号等に記載の化合物が挙げられる。
て特公昭62−4702号、特開平3−51844号、
同4−26838号、同4−362942号、同1−3
19031号等に記載の化合物が挙げられる。
【0219】また、現像廃液は通電して再生することが
できる。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレ
スウール等の電気伝導体または半導体)を、電解質溶液
に陽極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない
電気伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液
槽と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再
生する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理する
こともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用するする場合には、用い
られる現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好
ましい。
できる。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレ
スウール等の電気伝導体または半導体)を、電解質溶液
に陽極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない
電気伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液
槽と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再
生する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理する
こともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用するする場合には、用い
られる現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好
ましい。
【0220】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
【0221】現像液には、その他必要によりアルカリ剤
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、pH緩衝剤
(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞
酸、アルカノールアミン等)、溶解助剤(例えばポリエ
チレングリコール類、それらのエステル、アルカノール
アミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチレン類を含
む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、
界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば臭化カリウ
ム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズ
インダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾ
ール類等)、キレート化剤(例えばエチレンジアミン四
酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ
燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許2,304,
025号、特公昭47−45541号に記載の化合物
等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又は、その重
亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを添加するこ
とができる。全処理時間(Dry to Dry)を6
0秒以下にするには、現像液のpHは8.5〜10.5
に調整されることが好ましい。
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、pH緩衝剤
(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞
酸、アルカノールアミン等)、溶解助剤(例えばポリエ
チレングリコール類、それらのエステル、アルカノール
アミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチレン類を含
む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、
界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば臭化カリウ
ム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズ
インダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾ
ール類等)、キレート化剤(例えばエチレンジアミン四
酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ
燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許2,304,
025号、特公昭47−45541号に記載の化合物
等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又は、その重
亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを添加するこ
とができる。全処理時間(Dry to Dry)を6
0秒以下にするには、現像液のpHは8.5〜10.5
に調整されることが好ましい。
【0222】本発明の化合物は現像処理の特殊な形式と
して、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組み合わ
せて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用され
ることが多く、そのような処理液に適用も可能である。
このような迅速処理の場合、本発明の効果が特に大き
い。
して、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組み合わ
せて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用され
ることが多く、そのような処理液に適用も可能である。
このような迅速処理の場合、本発明の効果が特に大き
い。
【0223】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
【0224】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬などを加えることができる。
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬などを加えることができる。
【0225】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、
pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、
pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
【0226】現像液は、固定成分の混合物でも、グリコ
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又、使用時に希釈して用い
てもよいし、あるいはそのまま用いてもよい。
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又、使用時に希釈して用い
てもよいし、あるいはそのまま用いてもよい。
【0227】本発明の現像処理に際しては、現像温度を
20〜30℃の通常の温度範囲に設定することもできる
し、30〜40℃の高温処理の範囲に設定することもで
きる。
20〜30℃の通常の温度範囲に設定することもできる
し、30〜40℃の高温処理の範囲に設定することもで
きる。
【0228】本発明のハロゲン化銀乳剤は増感色素によ
り所望の波長に分光増感できる。用いることができる増
感色素には、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シ
アニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシア
ニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミオ
キソノール色素が包含される。これらの色素類には、塩
基性異節環核としてシアニン色素類に通常利用される核
のいずれをも適用できる。すなわち、ピロリン核、オキ
サゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール
核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、
テトラゾール核、ピリジン核など;これらの核に脂環式
炭化水素環が融合した核;及びこれらの核に芳香炭化水
素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズイン
ドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナ
フトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール
核、キノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原
子上に置換されていてもよい。メロシアニン色素又は複
合メロシアニン色素にはケトメチレン構造を有する核と
して、ピラゾリン−5−オン核、チオヒダントイン核、
2−チオオキサゾリジン−2,4−ジオン核、チアゾリ
ジン−2,4−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツ
ール酸核などの5〜6員異節環を適用することができ
る。具体的には、リサーチディスクロージャー第176
巻RD−17643(1978年12月号)第2・3
頁、米国特許4,425,425号、同4,425,4
26号に記載されているものを用いることができる。ま
た増感色素は米国特許3,485,634号に記載され
ている超音波振動を用いて溶解してもよい。その他に本
発明の増感色素を溶解、或いは分散して乳剤中に添加す
る方法としては、米国特許3,482,981号、同
3,585,195号、同3,469,987号、同
3,425,835号、同3,342,605号、英国
特許1,271,329号、同1,038,029号、
同1,121,174号、米国特許3,660,101
号、同3,658,546号に記載の方法を用いること
ができる。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、
それらの組み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合
わせは特に強色増感の目的でしばしば用いられる。有用
な強色増感を示す色素の組み合わせ及び強色増感を示す
物質はリサーチ・ディスクロージャー(Researc
h Disclosure)176巻17643(19
78年12月発行)第23頁IVのJ項に記載されてい
る。
り所望の波長に分光増感できる。用いることができる増
感色素には、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シ
アニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシア
ニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミオ
キソノール色素が包含される。これらの色素類には、塩
基性異節環核としてシアニン色素類に通常利用される核
のいずれをも適用できる。すなわち、ピロリン核、オキ
サゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール
核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、
テトラゾール核、ピリジン核など;これらの核に脂環式
炭化水素環が融合した核;及びこれらの核に芳香炭化水
素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズイン
ドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナ
フトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール
核、キノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原
子上に置換されていてもよい。メロシアニン色素又は複
合メロシアニン色素にはケトメチレン構造を有する核と
して、ピラゾリン−5−オン核、チオヒダントイン核、
2−チオオキサゾリジン−2,4−ジオン核、チアゾリ
ジン−2,4−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツ
ール酸核などの5〜6員異節環を適用することができ
る。具体的には、リサーチディスクロージャー第176
巻RD−17643(1978年12月号)第2・3
頁、米国特許4,425,425号、同4,425,4
26号に記載されているものを用いることができる。ま
た増感色素は米国特許3,485,634号に記載され
ている超音波振動を用いて溶解してもよい。その他に本
発明の増感色素を溶解、或いは分散して乳剤中に添加す
る方法としては、米国特許3,482,981号、同
3,585,195号、同3,469,987号、同
3,425,835号、同3,342,605号、英国
特許1,271,329号、同1,038,029号、
同1,121,174号、米国特許3,660,101
号、同3,658,546号に記載の方法を用いること
ができる。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、
それらの組み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合
わせは特に強色増感の目的でしばしば用いられる。有用
な強色増感を示す色素の組み合わせ及び強色増感を示す
物質はリサーチ・ディスクロージャー(Researc
h Disclosure)176巻17643(19
78年12月発行)第23頁IVのJ項に記載されてい
る。
【0229】本発明の感光材料には、セーフライト安全
性の向上などの目的で種々の染料を含有してもよい。好
ましい染料としては下記一般式(7)〜(12)で表さ
れるものが挙げられる。
性の向上などの目的で種々の染料を含有してもよい。好
ましい染料としては下記一般式(7)〜(12)で表さ
れるものが挙げられる。
【0230】
【化57】
【0231】式中、A及びA′は同一でも異なっていて
もよく、それぞれ酸性核を表し、Qはアリール基または
複素環基を表し、Bは塩基性核を表し、B′は複素環基
を表し、X及びYは同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ電子吸引性基を表し、L1、L2及びL3はそれぞれ
メチン基を表す。mは0または1を表し、nは0、1ま
たは2を表し、pは1または2を表す。但し、一般式
(7)〜(12)で表される染料は、分子中にカルボキ
シ基、スルホンアミド基及びスルファモイル基から選ば
れる基を少なくとも1つ有する。
もよく、それぞれ酸性核を表し、Qはアリール基または
複素環基を表し、Bは塩基性核を表し、B′は複素環基
を表し、X及びYは同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ電子吸引性基を表し、L1、L2及びL3はそれぞれ
メチン基を表す。mは0または1を表し、nは0、1ま
たは2を表し、pは1または2を表す。但し、一般式
(7)〜(12)で表される染料は、分子中にカルボキ
シ基、スルホンアミド基及びスルファモイル基から選ば
れる基を少なくとも1つ有する。
【0232】上記一般式(7)及び(10)のQで表さ
れるアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル
基等が挙げられる。また、Qで表される複素環基として
は、例えばピリジン、キノリン、イソキノリン、ピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、インドール残基等が挙
げられる。
れるアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル
基等が挙げられる。また、Qで表される複素環基として
は、例えばピリジン、キノリン、イソキノリン、ピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、インドール残基等が挙
げられる。
【0233】該アリール基及び該複素環基は、置換基を
有するものを含み、該置換基としては、例えばアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
カルボキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基、
スルファモイル基、スルホンアミド基が挙げられ、これ
ら置換基を2種以上組み合わせてもよい。好ましくは、
炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、ブチル基、2−ヒドロキシエチル基等)、ヒドロキ
シル基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子
等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ
基、メチレンジオキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、
n−ブトキシ基等)、置換アミノ基(例えば、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、ジ(n−ブチル)アミノ
基、N−エチル−N−ヒドロキシエチルアミノ基、N−
エチル−N−メタンスルホンアミドエチルアミノ基、モ
ルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基等)、カルボ
キシ基、スルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミ
ド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル
基(例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル
基、フェニルスルファモイル基等)があり、これら置換
基を組み合わせてもよい。
有するものを含み、該置換基としては、例えばアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
カルボキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基、
スルファモイル基、スルホンアミド基が挙げられ、これ
ら置換基を2種以上組み合わせてもよい。好ましくは、
炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、ブチル基、2−ヒドロキシエチル基等)、ヒドロキ
シル基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子
等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ
基、メチレンジオキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、
n−ブトキシ基等)、置換アミノ基(例えば、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、ジ(n−ブチル)アミノ
基、N−エチル−N−ヒドロキシエチルアミノ基、N−
エチル−N−メタンスルホンアミドエチルアミノ基、モ
ルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基等)、カルボ
キシ基、スルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミ
ド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル
基(例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル
基、フェニルスルファモイル基等)があり、これら置換
基を組み合わせてもよい。
【0234】一般式(7)、(8)及び(9)のA及び
A′で表される酸性核としては、好ましくは5−ピラゾ
ロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、ローダニ
ン、ヒダントイン、チオヒダントイン、オキサゾロン、
イソオキサゾロン、インダンジオン、ピラゾリジンジオ
ン、オキサゾリジンジオン、ヒドロキシピリドン、ピラ
ゾロピリドン等が挙げられる。
A′で表される酸性核としては、好ましくは5−ピラゾ
ロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、ローダニ
ン、ヒダントイン、チオヒダントイン、オキサゾロン、
イソオキサゾロン、インダンジオン、ピラゾリジンジオ
ン、オキサゾリジンジオン、ヒドロキシピリドン、ピラ
ゾロピリドン等が挙げられる。
【0235】一般式(9)及び(11)のBで表される
塩基性核としては、好ましくはピリジン、キノリン、オ
キサゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾー
ル、チアゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾー
ル、インドレニン、ピロール、インドール等が挙げられ
る。
塩基性核としては、好ましくはピリジン、キノリン、オ
キサゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾー
ル、チアゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾー
ル、インドレニン、ピロール、インドール等が挙げられ
る。
【0236】一般式(10)及び(11)のX及びYで
表される電子吸引性基は、同一でも異なっていてもよ
く、例えばシアノ基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ
基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基、スルファモイル基が挙げられる。
表される電子吸引性基は、同一でも異なっていてもよ
く、例えばシアノ基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ
基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基、スルファモイル基が挙げられる。
【0237】一般式(12)のB′で表される複素環
は、例えばピリジン、ピリダジン、キノリン、ピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、インドール等がある。
は、例えばピリジン、ピリダジン、キノリン、ピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、インドール等がある。
【0238】一般式(7)〜(11)のL1、L2及びL
3で表されるメチン基は、置換基を有するものを含み、
該置換基としては例えば炭素原子数1〜6のアルキル基
(例えばメチル、エチル、プロピル、イソブチル等)、
アリール基(例えばフェニル、p−トリル、p−クロロ
フェニル等)、炭素原子数1〜4のアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基(例
えばフェニル基等)、アラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基等)、複素環基(例えばピリジル、フ
リル、チエニル等)、置換アミノ基(例えばジメチルア
ミノ、テトラメチレンアミノ、アニリノ等)、アルキル
チオ基(例えばメチルチオ基等)が挙げられる。
3で表されるメチン基は、置換基を有するものを含み、
該置換基としては例えば炭素原子数1〜6のアルキル基
(例えばメチル、エチル、プロピル、イソブチル等)、
アリール基(例えばフェニル、p−トリル、p−クロロ
フェニル等)、炭素原子数1〜4のアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基(例
えばフェニル基等)、アラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基等)、複素環基(例えばピリジル、フ
リル、チエニル等)、置換アミノ基(例えばジメチルア
ミノ、テトラメチレンアミノ、アニリノ等)、アルキル
チオ基(例えばメチルチオ基等)が挙げられる。
【0239】次に、本発明に用いられる染料の具体例を
挙げる。
挙げる。
【0240】
【化58】
【0241】
【化59】
【0242】
【化60】
【0243】
【化61】
【0244】
【化62】
【0245】
【化63】
【0246】
【化64】
【0247】
【化65】
【0248】
【化66】
【0249】
【化67】
【0250】これらの染料は、水−エタノールの容積比
が1:1の混合溶媒中でのpKaが4〜11、好ましく
は4.5〜7.0の範囲にある解離性プロトンを少なく
とも1つ持つ。また、本発明においては染料と銀イオン
との反応により形成される銀塩及び銀錯体により固定化
をはかることができる。このような染料の銀塩を形成し
得る好ましい染料としては例えば特開平5−18123
0号明細書第4頁〜第28頁に記載されている一般式
〔I〕〜〔V〕、一般式〔I′〕〜〔V′〕、一般式
〔VI〕で表される化合物が挙げられる。さらに具体的化
合物としては同明細書第6頁〜第46頁に記載されてい
るI−1〜37、II−1〜5、III−1〜7、IV−1〜
6、V−1〜5、I′−1〜12、II′−1〜9、II
I′−1〜9、IV′−1〜9、V′−1〜6、VI−1〜
52が挙げられる。
が1:1の混合溶媒中でのpKaが4〜11、好ましく
は4.5〜7.0の範囲にある解離性プロトンを少なく
とも1つ持つ。また、本発明においては染料と銀イオン
との反応により形成される銀塩及び銀錯体により固定化
をはかることができる。このような染料の銀塩を形成し
得る好ましい染料としては例えば特開平5−18123
0号明細書第4頁〜第28頁に記載されている一般式
〔I〕〜〔V〕、一般式〔I′〕〜〔V′〕、一般式
〔VI〕で表される化合物が挙げられる。さらに具体的化
合物としては同明細書第6頁〜第46頁に記載されてい
るI−1〜37、II−1〜5、III−1〜7、IV−1〜
6、V−1〜5、I′−1〜12、II′−1〜9、II
I′−1〜9、IV′−1〜9、V′−1〜6、VI−1〜
52が挙げられる。
【0251】本発明において、上記一般式(7)〜(1
2)で表される染料の分散方法は、特に限定されるもの
ではないが、酸析出法、ボールミル、ジェットミル或い
はインペラー分散法等の公知の方法が適用できる。
2)で表される染料の分散方法は、特に限定されるもの
ではないが、酸析出法、ボールミル、ジェットミル或い
はインペラー分散法等の公知の方法が適用できる。
【0252】本発明において、固体分散されている染料
微粒子の平均粒径は任意の値を取り得るが、好ましくは
0.01〜20μmであり、より好ましくは0.03〜
2μmである。また、本発明の固体分散されている染料
微粒子の粒径の変動係数は、好ましくは60%以下であ
り、より好ましくは40%以下である。
微粒子の平均粒径は任意の値を取り得るが、好ましくは
0.01〜20μmであり、より好ましくは0.03〜
2μmである。また、本発明の固体分散されている染料
微粒子の粒径の変動係数は、好ましくは60%以下であ
り、より好ましくは40%以下である。
【0253】本発明において、染料微粒子を含有する層
は、乳剤層と支持体の間に設置される。好ましくは、支
持体の上に第1下引層を設け、その上に、本発明の染料
微粒子を含有する親水性コロイド第2下引層を設ける。
本発明の染料微粒子の添加量は特に限定されないが、有
効な透過濃度が0.3以上2以下となるような添加量が
好ましい。
は、乳剤層と支持体の間に設置される。好ましくは、支
持体の上に第1下引層を設け、その上に、本発明の染料
微粒子を含有する親水性コロイド第2下引層を設ける。
本発明の染料微粒子の添加量は特に限定されないが、有
効な透過濃度が0.3以上2以下となるような添加量が
好ましい。
【0254】本発明において、染料微粒子を含有する親
水性コロイド層は、塗布量が0.05g/m2以上0.
5g/m2未満であるが、好ましくは0.18g/m2以
上0.42g/m2未満である。また、本発明の効果を
より高めるために、染料微粒子の平均粒径と該染料層の
膜厚の比が0.2〜2.0にすることが好ましい。
水性コロイド層は、塗布量が0.05g/m2以上0.
5g/m2未満であるが、好ましくは0.18g/m2以
上0.42g/m2未満である。また、本発明の効果を
より高めるために、染料微粒子の平均粒径と該染料層の
膜厚の比が0.2〜2.0にすることが好ましい。
【0255】本発明において、感光材料には、感光材料
の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止
し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の化
合物を含有させることができる。即ちアゾール類、例え
ばベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニト
ロベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール
類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾー
ル類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベン
ズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミ
ノトリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベン
ゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1
−フェニル−5−メルカプトテトラゾール)等;メルカ
プトピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、例えばトリアザインデン類、テトラザインデン類
(特に4−ヒドロキシ置換−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン類)、ペンタザインデン類等;ベンゼンチオ
スルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン
酸アミド等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知ら
れた多くの化合物を加えることができる。
の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止
し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の化
合物を含有させることができる。即ちアゾール類、例え
ばベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニト
ロベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール
類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾー
ル類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベン
ズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミ
ノトリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベン
ゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1
−フェニル−5−メルカプトテトラゾール)等;メルカ
プトピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、例えばトリアザインデン類、テトラザインデン類
(特に4−ヒドロキシ置換−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン類)、ペンタザインデン類等;ベンゼンチオ
スルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン
酸アミド等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知ら
れた多くの化合物を加えることができる。
【0256】本発明において、写真乳剤及び非感光性の
親水性コロイドには無機又は有機の硬膜剤を含有してよ
い。例えばクロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、ア
ルデヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グル
タルアルデヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロ
ール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオ
キサン誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、
活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘ
キサヒドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニ
ル)メチルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−
(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハ
ロゲン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s
−トリアジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、
フェノキシムコクロル酸等)イソオキサゾール類、ジア
ルデヒド澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニ
ル化ゼラチン等を、単独又は組み合わせて用いることが
できる。
親水性コロイドには無機又は有機の硬膜剤を含有してよ
い。例えばクロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、ア
ルデヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グル
タルアルデヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロ
ール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオ
キサン誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、
活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘ
キサヒドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニ
ル)メチルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−
(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハ
ロゲン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s
−トリアジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、
フェノキシムコクロル酸等)イソオキサゾール類、ジア
ルデヒド澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニ
ル化ゼラチン等を、単独又は組み合わせて用いることが
できる。
【0257】本発明において、感光性乳剤層及び/又は
非感光性の親水性コロイド層には、塗布助剤、帯電防
止、滑り性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良
など種々の目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよ
い。
非感光性の親水性コロイド層には、塗布助剤、帯電防
止、滑り性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良
など種々の目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよ
い。
【0258】写真乳剤の結合剤又は保護コロイドとして
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。例えばゼラチン誘導
体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アル
ブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エ
ステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ナトリ
ウム、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポ
リビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多
種の合成親水性高分子物質を用いることができる。
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。例えばゼラチン誘導
体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アル
ブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エ
ステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ナトリ
ウム、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポ
リビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多
種の合成親水性高分子物質を用いることができる。
【0259】ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
【0260】本発明において、写真乳剤には、寸度安定
性の改良などの目的で水不溶又は難溶性合成ポリマーの
分散物を含むことができる。例えばアルキル(メタ)ア
クリレート、アルコキシアクリル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリ
ルアミド、ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アク
リロニトリル、オレフィン、スチレンなどの単独もしく
は組合せ、又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、
α,β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート、スルホアルキル(メタ)アクリレー
ト、スチレンスルホン酸等の組合せを単量体成分とする
ポリマーを用いることができる。
性の改良などの目的で水不溶又は難溶性合成ポリマーの
分散物を含むことができる。例えばアルキル(メタ)ア
クリレート、アルコキシアクリル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリ
ルアミド、ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アク
リロニトリル、オレフィン、スチレンなどの単独もしく
は組合せ、又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、
α,β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート、スルホアルキル(メタ)アクリレー
ト、スチレンスルホン酸等の組合せを単量体成分とする
ポリマーを用いることができる。
【0261】本発明に用いられる感光材料には、その他
の種々の添加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑
剤、滑り剤、現像促進剤、オイル、などが挙げられる。
の種々の添加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑
剤、滑り剤、現像促進剤、オイル、などが挙げられる。
【0262】これらの添加剤及び前述の添加剤につい
て、具体的には、リサーチ・ディスクロージャー176
号(前出),22〜31頁等に記載されたものを用いる
ことができる。
て、具体的には、リサーチ・ディスクロージャー176
号(前出),22〜31頁等に記載されたものを用いる
ことができる。
【0263】本発明において、感光材料においる乳剤
層、保護層は単層でもよいし、2層以上からなる重層で
もよい。重層の場合には間に中間層などを設けてもよ
い。
層、保護層は単層でもよいし、2層以上からなる重層で
もよい。重層の場合には間に中間層などを設けてもよ
い。
【0264】本発明の感光材料において、写真乳剤層そ
の他の層はシンジオタクチックポリスチレンを含有する
支持体の片面又は両面に塗布される。
の他の層はシンジオタクチックポリスチレンを含有する
支持体の片面又は両面に塗布される。
【0265】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
【0266】(SPS支持体の作成)前記《重合例》に
示す方法でSPSを合成した。
示す方法でSPSを合成した。
【0267】そして、得られたSPSペレットを溶融押
出した。この溶融ポリマーをパイプを通じて押出しダイ
に押し出した。そしてダイスリットより冷却したキャス
チングドラムに静電印可させながら押し出して冷却する
ことにより膜厚1000μmのSPS未延伸シートを得
た。
出した。この溶融ポリマーをパイプを通じて押出しダイ
に押し出した。そしてダイスリットより冷却したキャス
チングドラムに静電印可させながら押し出して冷却する
ことにより膜厚1000μmのSPS未延伸シートを得
た。
【0268】作成したシートを115℃で予熱した後に
縦方向に3.3倍延伸した。ステンター内で100℃で
予熱したのち130℃で横方向に3.3倍延伸した。更
にやや横方向に緩和させながら225℃で熱固定し10
0μm厚のSPSフィルムを得た。
縦方向に3.3倍延伸した。ステンター内で100℃で
予熱したのち130℃で横方向に3.3倍延伸した。更
にやや横方向に緩和させながら225℃で熱固定し10
0μm厚のSPSフィルムを得た。
【0269】得られたSPSフィルム上に、23w/m
2分のコロナ放電を施しさらにイオン風を吹き付けた後
に、下引加工液1を乾燥膜厚が1μmとなるように設け
140℃で乾燥した。
2分のコロナ放電を施しさらにイオン風を吹き付けた後
に、下引加工液1を乾燥膜厚が1μmとなるように設け
140℃で乾燥した。
【0270】 下引加工液1 スチレンブタジエン系ラテックス(No.619日本合成ゴム製) 40重量部 スチレンブタジエン系ラテックス(No.640日本合成ゴム製) 50重量部 ポリスチレン系マット剤(平均粒径3μm) 5重量部 2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジンソーダ塩 3重量部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 2重量部 更にこの上に18w/m2分のコロナ放電を施した後に ゼラチン 80重量部 メチルセルロース 15重量部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 3重量部 2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジンソーダ 2重量部 を純水で100gに仕上げた加工液を、乾燥膜厚が0.
1μmとなるように設け140℃で更に乾燥させた。
1μmとなるように設け140℃で更に乾燥させた。
【0271】次にこの裏面に23w/m2分のコロナ放
電を施しさらにイオン風を吹き付けた後に、下引加工液
2を乾燥膜厚が1μmとなるように設け140℃で乾燥
した。
電を施しさらにイオン風を吹き付けた後に、下引加工液
2を乾燥膜厚が1μmとなるように設け140℃で乾燥
した。
【0272】 下引加工液2 スチレンブタジエン系ラテックス(No.619日本合成ゴム製) 50重量部 スチレンブタジエン系ラテックス(No.640日本合成ゴム製) 40重量部 ポリスチレン系マット剤(平均粒径3μm) 5重量部 2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジンソーダ塩 3重量部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 2重量部 更にこの上に18w/m2分のコロナ放電を施した後に ゼラチン 20重量部 メチルセルロース 5重量部 結晶性酸化錫微粒子(アンチモンドープ) 70重量部 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 3重量部 2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジンソーダ 2重量部 を純水で100gに仕上げた加工液を、乾燥膜厚が0.
1μmとなるように設け140℃で更に乾燥させた。
1μmとなるように設け140℃で更に乾燥させた。
【0273】さらにこの下引済支持体を50℃で40c
m径コアに巻きとりこの温度で3日間熱処理した。
m径コアに巻きとりこの温度で3日間熱処理した。
【0274】比較のPET支持体は公知の技術により作
成した。
成した。
【0275】実施例1 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)塩化銀70モル%、臭化
銀30モル%のハロゲン化銀組成になる様に硝酸銀水溶
液及びNaCl、KBrの混合水溶液をコントロールド
ダブルジェット法で混合してハロゲン化銀粒子を成長さ
せた。此の際混合は36℃、pAg7.8、pH3.0
の条件下で行い、粒子形成中にNa2RhCl6を銀1モ
ル当たり2×10-7モル添加した。その後フェニルイソ
シアネートで処理した変性ゼラチンにより脱塩を行い、
オセインゼラチンを添加し再分散した。得られた乳剤は
平均粒径0.20μm、変動係数10%の立方体粒子か
らなる乳剤であった。このようにして得られた乳剤に銀
1モル当たり30mgのS−1(ソジウム−イソアミル
−n−デシルスルホサクシネート)と4−メルカプト−
2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸を50mg加
え、さらに銀1モル当たり5mgの塩化金酸と0.5m
gの硫黄華を加えpH5.8、pAg7.0の条件で6
0℃、80分間化学熟成を行った。熟成終了後4−メチ
ル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザイン
デンを銀1モル当たり900mg加え、さらにKIを3
00mg加えた。
銀30モル%のハロゲン化銀組成になる様に硝酸銀水溶
液及びNaCl、KBrの混合水溶液をコントロールド
ダブルジェット法で混合してハロゲン化銀粒子を成長さ
せた。此の際混合は36℃、pAg7.8、pH3.0
の条件下で行い、粒子形成中にNa2RhCl6を銀1モ
ル当たり2×10-7モル添加した。その後フェニルイソ
シアネートで処理した変性ゼラチンにより脱塩を行い、
オセインゼラチンを添加し再分散した。得られた乳剤は
平均粒径0.20μm、変動係数10%の立方体粒子か
らなる乳剤であった。このようにして得られた乳剤に銀
1モル当たり30mgのS−1(ソジウム−イソアミル
−n−デシルスルホサクシネート)と4−メルカプト−
2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸を50mg加
え、さらに銀1モル当たり5mgの塩化金酸と0.5m
gの硫黄華を加えpH5.8、pAg7.0の条件で6
0℃、80分間化学熟成を行った。熟成終了後4−メチ
ル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザイン
デンを銀1モル当たり900mg加え、さらにKIを3
00mg加えた。
【0276】(Arレーザー光源用印刷製版スキャナー
用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のSPS支
持体または比較PET支持体の一方の下塗層上に、下記
処方1のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が2.0g/
m2、銀量が3.2g/m2になる様に塗設し、さらにそ
の上に下記処方2の保護層をゼラチン量が1.0g/m
2になる様に塗設し、また反対側のもう一方の下塗層上
には下記処方3に従ってバッキング層をゼラチン量が
2.0g/m2になる様に塗設し、さらにその上に下記
処方4の保護層をゼラチン量が0.8g/m2になる様
に塗設して試料を得た。
用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のSPS支
持体または比較PET支持体の一方の下塗層上に、下記
処方1のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が2.0g/
m2、銀量が3.2g/m2になる様に塗設し、さらにそ
の上に下記処方2の保護層をゼラチン量が1.0g/m
2になる様に塗設し、また反対側のもう一方の下塗層上
には下記処方3に従ってバッキング層をゼラチン量が
2.0g/m2になる様に塗設し、さらにその上に下記
処方4の保護層をゼラチン量が0.8g/m2になる様
に塗設して試料を得た。
【0277】 処方(1)(ハロゲン化銀乳剤層組成) ゼラチン 2.0g/m2 ハロゲン化銀乳剤A 銀量 3.2mg/m2になるように 増感色素d−3 6mg/m2 増感色素d−4 3mg/m2 カブリ防止剤:アデニン 25mg/m2 安定剤:1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 2mg/m2 5−ニトロインダゾール 10mg/m2 表1に示す一般式(1)のヒドラジン誘導体 20mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−10 50mg/m2 ラテックスポリマーf 1.0g/m2 S−1 0.7mg/m2 化合物e 45mg/m2 硬膜剤g 30mg/m2 処方(2)〔乳剤保護層組成〕 ゼラチン 1.0g/m2 マット剤:平均粒径3.5μmのシリカ 20mg/m2 界面活性剤h 2mg/m2 促進剤:ハイドロキノン 50mg/m2 染料(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) :染料の例示化合物7−25 20mg/m2 硬膜剤g 30mg/m2 処方(3)(バッキング層組成) ゼラチン 2.0g/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 処方(4)〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン 0.8g/m2 マット剤:平均粒径4.0μmのポリメチルメタクリレート 50mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 硬膜剤g 15mg/m2
【0278】
【化68】
【0279】
【化69】
【0280】得られた試料を、微小な網点品質の評価を
するために大日本スクリーン(株)社製SG−757で
1インチ当たり700線の線数で網点露光して、下記組
成の現像液及び定着液を用いてコニカ社製自動現像機G
R−27を下記処理条件にあうように改造したもので処
理した。得られた現像済みの試料について網点品質を評
価した。
するために大日本スクリーン(株)社製SG−757で
1インチ当たり700線の線数で網点露光して、下記組
成の現像液及び定着液を用いてコニカ社製自動現像機G
R−27を下記処理条件にあうように改造したもので処
理した。得られた現像済みの試料について網点品質を評
価した。
【0281】 (現像液組成) 純水 280g 亜硫酸ナトリウム 52g 1−フエニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 850mg ジエチルトリアミン5酢酸 1.5g 硼酸 8g 臭化カリウム 10.0g 炭酸カリウム 50g ジエチレングリコール 40g ベンズトリアゾール 200mg ハイドロキノン 20g 1−フェニル−2−メルカプトテトラゾール 35mg 水酸化カリウム pH10.4になる量 使用時に水を加えて1リットルに仕上げた。
【0282】 (定着液組成) チオ硫酸アンモニウム (72.5%w/v 水溶液) 200ml 純水 140g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 100mg 亜硫酸ナトリウム 25g 硼酸 10.0g 酢酸(90%w/v水溶液) 15.5g 酢酸ナトリウム・3水塩 36.5g 酒石酸(50%w/v水溶液) 6ml 硫酸アルミニウム(Al2O3換算含量が8.1%w/vの水溶液) 25ml 水酸化ナトリウム(50%w/v水溶液) 使用時のp
Hを4.8にする量使用時に水を加えて1リットルに仕
上げた。
Hを4.8にする量使用時に水を加えて1リットルに仕
上げた。
【0283】(現像処理条件) (工 程) (温 度) (時 間) 現 像 35℃ 30秒 定 着 33℃ 20秒 水 洗 常温 15秒 乾 燥 40℃ 15秒 合計 80秒 (自動現像機での乾燥性の評価)自動現像機の乾燥工程
を経て排出された試料の乾き具合を感触で5段階にて評
価した。最高ランク5とし、乾燥性が悪くなるにつれて
4、3、2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2
は実用上好ましくないレベルである。
を経て排出された試料の乾き具合を感触で5段階にて評
価した。最高ランク5とし、乾燥性が悪くなるにつれて
4、3、2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2
は実用上好ましくないレベルである。
【0284】(網点品質の評価方法)中点(目標網%5
0%)を100倍のルーペを使って網点品質(キレ)を
評価した。最高ランク5とし、網点品質に応じて4、
3、2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2は実
用上好ましくないレベルである。
0%)を100倍のルーペを使って網点品質(キレ)を
評価した。最高ランク5とし、網点品質に応じて4、
3、2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2は実
用上好ましくないレベルである。
【0285】評価結果を表1に示す。
【0286】
【表1】
【0287】
【化70】
【0288】表1から明らかなように、Arレーザー光
源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光材料に
本発明のSPS支持体を使用することで乾燥性が向上
し、かつ本発明のヒドラジン誘導体を含有させること
で、微小な網点を再現させる場合の網点品質の劣化が抑
制されることがわかる。
源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光材料に
本発明のSPS支持体を使用することで乾燥性が向上
し、かつ本発明のヒドラジン誘導体を含有させること
で、微小な網点を再現させる場合の網点品質の劣化が抑
制されることがわかる。
【0289】実施例2 (ハロゲン化銀乳剤Bの調製)塩化銀65モル%、臭化
銀35モル%のハロゲン化銀組成になる様に硝酸銀水溶
液及びNaCl、KBrの混合水溶液をコントロールド
ダブルジェット法で混合してハロゲン化銀粒子を成長さ
せた。此の際混合は38℃、pAg8.0、pH3.5
の条件下で行い、粒子形成中にK3RhBr6を銀1モル
当たり2×10-7モル及びK3IrCl6を銀1モル当た
り3×10-7モル添加した。その後MgSO4及びポリ
ナフタレンスルホン酸により脱塩を行い、オセインゼラ
チンを添加し再分散した。得られた乳剤は平均粒径0.
2μm、変動係数10%の立方体粒子からなる乳剤であ
った。このようにして得られた乳剤にクエン酸0.12
g、NaCl0.6gを加え、pH5.5、pAg7.
0に調整した後、塩化金酸14.2mg、チオ硫酸ナト
リウム8.5mgを加え60℃で最高感度になるように
化学熟成を行った。熟成終了後、銀1モル当たり1−フ
ェニル−5−メルカプトテトラゾールを14mgと4−
メチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザ
インデンを900mg添加した。
銀35モル%のハロゲン化銀組成になる様に硝酸銀水溶
液及びNaCl、KBrの混合水溶液をコントロールド
ダブルジェット法で混合してハロゲン化銀粒子を成長さ
せた。此の際混合は38℃、pAg8.0、pH3.5
の条件下で行い、粒子形成中にK3RhBr6を銀1モル
当たり2×10-7モル及びK3IrCl6を銀1モル当た
り3×10-7モル添加した。その後MgSO4及びポリ
ナフタレンスルホン酸により脱塩を行い、オセインゼラ
チンを添加し再分散した。得られた乳剤は平均粒径0.
2μm、変動係数10%の立方体粒子からなる乳剤であ
った。このようにして得られた乳剤にクエン酸0.12
g、NaCl0.6gを加え、pH5.5、pAg7.
0に調整した後、塩化金酸14.2mg、チオ硫酸ナト
リウム8.5mgを加え60℃で最高感度になるように
化学熟成を行った。熟成終了後、銀1モル当たり1−フ
ェニル−5−メルカプトテトラゾールを14mgと4−
メチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザ
インデンを900mg添加した。
【0290】(赤外半導体レーザー光源用印刷製版スキ
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のS
PS支持体または比較PET支持体の一方の下塗層上
に、下記処方5のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が
1.2g/m2、銀量が3.6g/m2になる様に塗設
し、さらにその上に下記処方6の保護層をゼラチン量が
0.8g/m2になる様に塗設し、また反対側のもう一
方の下塗層上には下記処方7に従ってバッキング層をゼ
ラチン量が1.6g/m2になる様に塗設し、さらにそ
の上に下記処方8の保護層をゼラチン量が0.7g/m
2になる様に塗設して試料を得た。
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のS
PS支持体または比較PET支持体の一方の下塗層上
に、下記処方5のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が
1.2g/m2、銀量が3.6g/m2になる様に塗設
し、さらにその上に下記処方6の保護層をゼラチン量が
0.8g/m2になる様に塗設し、また反対側のもう一
方の下塗層上には下記処方7に従ってバッキング層をゼ
ラチン量が1.6g/m2になる様に塗設し、さらにそ
の上に下記処方8の保護層をゼラチン量が0.7g/m
2になる様に塗設して試料を得た。
【0291】 処方(5)(ハロゲン化銀乳剤層組成) ゼラチン 1.2g/m2 ハロゲン化銀乳剤B 銀量 3.6mg/m2になるように 増感色素d−2 5mg/m2 増感色素d−5 3mg/m2 表2に示す一般式(2)のヒドラジン誘導体 30mg/m2 促進剤:ハイドロキノン 50mg/m2 ラテックスポリマーf 1.0g/m2 S−1 0.7mg/m2 化合物e 100mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 10mg/m2 硬膜剤g 3mg/m2 処方(6)〔乳剤保護層組成〕 ゼラチン 0.8g/m2 マット剤:平均粒径3.5μmのシリカ 25mg/m2 界面活性剤h 2mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−10 50mg/m2 染料(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) :染料の例示化合物7−26 15mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 50mg/m2 硬膜剤g 30mg/m2 処方(7)(バッキング層組成) ゼラチン 1.6g/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 化合物i 100mg/m2 処方(8)〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン 0.7g/m2 マット剤:平均粒径4.0μmのポリメチルメタクリレート 50mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 50mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 硬膜剤g 20mg/m2
【0292】
【化71】
【0293】得られた試料を、微小な網点品質の評価を
するために大日本スクリーン(株)社製MTR−110
0で1インチ当たり600線の線数で網点露光して、実
施例1と同様の処理をし、同様の評価を行った。
するために大日本スクリーン(株)社製MTR−110
0で1インチ当たり600線の線数で網点露光して、実
施例1と同様の処理をし、同様の評価を行った。
【0294】評価結果を表2に示す。
【0295】
【表2】
【0296】表2から明らかなように、赤外半導体レー
ザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光
材料に本発明のSPS支持体を使用することで乾燥性が
向上し、かつ本発明のヒドラジン誘導体を含有させるこ
とで、微小な網点を再現させる場合の網点品質の劣化が
抑制されることがわかる。
ザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光
材料に本発明のSPS支持体を使用することで乾燥性が
向上し、かつ本発明のヒドラジン誘導体を含有させるこ
とで、微小な網点を再現させる場合の網点品質の劣化が
抑制されることがわかる。
【0297】実施例3 (ハロゲン化銀乳剤Cの調製)pH3.2の硝酸酸性雰
囲気下でpAg無制御に同時混合法を用いて混合時に6
塩化ロジウム錯体を銀1モルあたり8×10-5モル添加
し、常法により脱塩後、平均粒径0.09μmの単分散
(変動係数10%)の純塩化銀立方体粒子の乳剤を得
た。
囲気下でpAg無制御に同時混合法を用いて混合時に6
塩化ロジウム錯体を銀1モルあたり8×10-5モル添加
し、常法により脱塩後、平均粒径0.09μmの単分散
(変動係数10%)の純塩化銀立方体粒子の乳剤を得
た。
【0298】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モル当た
り63mg添加し、チオ硫酸ナトリウムを添加して温度
60℃で最高感度がでるまで化学熟成を行った。熟成終
了後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a7−テ
トラザインデンを銀1モル当たり1.5g添加した。
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モル当た
り63mg添加し、チオ硫酸ナトリウムを添加して温度
60℃で最高感度がでるまで化学熟成を行った。熟成終
了後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a7−テ
トラザインデンを銀1モル当たり1.5g添加した。
【0299】(明室返し用ハロゲン化銀写真感光材料の
調製)本発明のSPS支持体または比較PET支持体の
一方の下塗層上に、下記処方9のハロゲン化銀乳剤を銀
量3.3g/m2、ゼラチン量が1.2g/m2になるよ
うに、さらにその上層に保護層として下記処方10の塗
布液をゼラチン量が1.0g/m2になるよう同時重層
塗布した。また反対側の下塗層上に、下記処方11のバ
ッキング層をゼラチン量が1.9g/m2になるよう
に、さらにその上に下記処方12のバッキング保護層を
ゼラチン量が0.7g/m2になるように同時重層塗布
することで試料を得た。
調製)本発明のSPS支持体または比較PET支持体の
一方の下塗層上に、下記処方9のハロゲン化銀乳剤を銀
量3.3g/m2、ゼラチン量が1.2g/m2になるよ
うに、さらにその上層に保護層として下記処方10の塗
布液をゼラチン量が1.0g/m2になるよう同時重層
塗布した。また反対側の下塗層上に、下記処方11のバ
ッキング層をゼラチン量が1.9g/m2になるよう
に、さらにその上に下記処方12のバッキング保護層を
ゼラチン量が0.7g/m2になるように同時重層塗布
することで試料を得た。
【0300】 処方9(ハロゲン化銀乳剤層組成) ハロゲン化銀乳剤C 銀量が3.3mg/m2になるように ゼラチン 1.2g/m2 表3に示す一般式(3)または(4)のヒドラジン誘導体 20mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−10 70mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 80mg/m2 クエン酸 pH5.6に調整 化合物m 6mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 S−1 0.7mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 42mg/m2 EDTA 15mg/m2 処方10(乳剤保護層組成) ゼラチン 1.0g/m2 染料r 14mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3μmの単分散シリカ 15mg/m2 マット剤:平均粒径8μmの単分散シリカ 20mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 50mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 15.7mg/m2 硬膜剤:ホルムアルデヒド 70mg/m2 処方11(バッキング層組成) ゼラチン 1.9g/m2 染料r 40mg/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 5−ニトロインダゾール 20mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 55mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方12(バッキング保護層) ゼラチン 0.7g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤j 40mg/m2 染料k 14mg/m2
【0301】
【化72】
【0302】微小な網点品質を評価するために、得られ
た試料を実施例1で作成した処理済みの試料No.14
を原稿として明室プリンターP−627GM(大日本ス
クリーン製)で密着(乳剤面どうし)露光を行ってか
ら、下記組成の現像液及び定着液を用いて自動現像機G
R26SRにより下記条件で処理した。
た試料を実施例1で作成した処理済みの試料No.14
を原稿として明室プリンターP−627GM(大日本ス
クリーン製)で密着(乳剤面どうし)露光を行ってか
ら、下記組成の現像液及び定着液を用いて自動現像機G
R26SRにより下記条件で処理した。
【0303】(処理条件) (工程) (温度) (時間) 現像 38℃ 20秒 定着 38℃ 16秒 水洗 常温 16秒 乾燥 50℃ 23秒 合計 75秒 (現像液組成) アンモニア水(25%) 40ml DTPA 0.25モル 亜硫酸ナトリウム 20g ほう酸 8g 臭化カリウム 15g 炭酸カリウム 40g 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 60mg ジエチレングリコール 40g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.2g FeSO4・7H2O 0.2モル 1−フェニル−3−ピラゾリドン 0.9g 水を加えて1リットルにする 水酸化カリウム水溶液にてpH9.2に調整する。
【0304】 (定着液組成)使用液1リットルあたりの量 定着液(ハ) チオ硫酸ナトリウム 100g/リットル 亜硫酸ナトリウム 22g/リットル ほう酸 10g/リットル 酢酸ナトリウム・3水和物 34g/リットル 酒石酸 3.0g/リットル 硫酸アルミニウム(27%水溶液) 10ml/リットル グルタルアルデヒド 3g/リットル 酢酸にて使用液のpHを5.0に調整した。
【0305】このようにして得られた試料について以下
の評価を行った。
の評価を行った。
【0306】(微小網点の再現性の評価)原稿のベタ濃
度が5.0を与える露光量における小点(5%)に対応
するネガ像の網%。95%に近いほど良い。
度が5.0を与える露光量における小点(5%)に対応
するネガ像の網%。95%に近いほど良い。
【0307】(網点品質の評価)原稿の小点(5%)に
対するネガ像を100倍のルーペを使って網点品質(キ
レ)を評価した。最高ランク5とし、網点品質に応じて
4、3、2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2
は実用上好ましくないレベルである。
対するネガ像を100倍のルーペを使って網点品質(キ
レ)を評価した。最高ランク5とし、網点品質に応じて
4、3、2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2
は実用上好ましくないレベルである。
【0308】(寸法安定性)試料を30cm×60cm
の大きさに切り、明室プリンターP−627GM(大日
本スクリーン社製)を用いて間隔60cmで2本の細線
を画像露光し、現像処理したものを原稿とした。この原
稿、評価試料(原稿と同じ大きさ)、プリンター及び自
動現像機を23℃20%RHにて2時間調湿した後、原
稿に未露光試料を密着(乳剤面どうし)露光し、自動現
像機で処理した。現像処理された試料を23℃20%R
Hにて2時間調湿後、元の原稿に重ね、細線の間隔がど
れくらいずれたかを目盛り付きルーペで測定した。間隔
が小さいほど良い。
の大きさに切り、明室プリンターP−627GM(大日
本スクリーン社製)を用いて間隔60cmで2本の細線
を画像露光し、現像処理したものを原稿とした。この原
稿、評価試料(原稿と同じ大きさ)、プリンター及び自
動現像機を23℃20%RHにて2時間調湿した後、原
稿に未露光試料を密着(乳剤面どうし)露光し、自動現
像機で処理した。現像処理された試料を23℃20%R
Hにて2時間調湿後、元の原稿に重ね、細線の間隔がど
れくらいずれたかを目盛り付きルーペで測定した。間隔
が小さいほど良い。
【0309】結果を表3に示す。
【0310】
【表3】
【0311】表3から明らかなように、印刷製版明室返
し用ハロゲン化銀写真感光材料に本発明のSPS支持体
を使用すると寸法安定性が向上し、かつ本発明のヒドラ
ジン誘導体を含有させることで、微小な網点を再現させ
る場合にも網点品質が劣化したり、網点再現性が劣化し
たりするという問題が少ないことがわかる。
し用ハロゲン化銀写真感光材料に本発明のSPS支持体
を使用すると寸法安定性が向上し、かつ本発明のヒドラ
ジン誘導体を含有させることで、微小な網点を再現させ
る場合にも網点品質が劣化したり、網点再現性が劣化し
たりするという問題が少ないことがわかる。
【0312】実施例4 (ハロゲン化銀乳剤Dの調製)塩化銀80モル%、臭化
銀20モル%のハロゲン化銀組成になる様に硝酸銀水溶
液及びNaCl、KBrの混合水溶液をコントロールド
ダブルジェット法で混合してハロゲン化銀粒子を成長さ
せた。此の際混合は36℃、pAg7.8、pH3.0
の条件下で行い、粒子形成中にK3RuCl6を銀1モル
あたり8×10-8モルとK2IrCl6を銀1モルあたり
3×10-7モル添加した。その後フェニルイソシアネー
トで処理した変性ゼラチンにより脱塩を行い、オセイン
ゼラチンを添加し再分散した。得られた乳剤は平均粒径
0.18μm、変動係数10%の立方体粒子からなる乳
剤であった。このようにして得られた乳剤に4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a7−テトラザインデン
を銀1モルあたり1×10 -3モル添加し、更に臭化カリ
ウム及びクエン酸を添加してpH5.6、EAg123
mvに調整して塩化金酸を2×10-5モル添加した後、
N,N,N′−トリメチル−N′ヘプタフルオロセレノ
尿素を2×10-6モル添加して温度60℃で最高感度が
でるまで化学熟成を行った。
銀20モル%のハロゲン化銀組成になる様に硝酸銀水溶
液及びNaCl、KBrの混合水溶液をコントロールド
ダブルジェット法で混合してハロゲン化銀粒子を成長さ
せた。此の際混合は36℃、pAg7.8、pH3.0
の条件下で行い、粒子形成中にK3RuCl6を銀1モル
あたり8×10-8モルとK2IrCl6を銀1モルあたり
3×10-7モル添加した。その後フェニルイソシアネー
トで処理した変性ゼラチンにより脱塩を行い、オセイン
ゼラチンを添加し再分散した。得られた乳剤は平均粒径
0.18μm、変動係数10%の立方体粒子からなる乳
剤であった。このようにして得られた乳剤に4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a7−テトラザインデン
を銀1モルあたり1×10 -3モル添加し、更に臭化カリ
ウム及びクエン酸を添加してpH5.6、EAg123
mvに調整して塩化金酸を2×10-5モル添加した後、
N,N,N′−トリメチル−N′ヘプタフルオロセレノ
尿素を2×10-6モル添加して温度60℃で最高感度が
でるまで化学熟成を行った。
【0313】熟成終了後4−メチル−6−ヒドロキシ−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
3×10-3モルを加えた。
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
3×10-3モルを加えた。
【0314】(He−Neレーザー光源用印刷製版スキ
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のS
PS支持体または比較PET支持体の一方の下塗層上
に、下記の処方13のゼラチン下塗層をゼラチン量が
1.0g/m2になるように、その上に処方14のハロ
ゲン化銀乳剤層を銀量3.5g/m2、ゼラチン量が
1.5g/m2になるように、さらに下記処方15の塗
布液をゼラチン量が0.6g/m2になるよう同時重層
塗布した。また反対側の下塗層上には下記処方16のバ
ッキング層をゼラチン量が2.0g/m2になるよう
に、さらにその上に下記処方17のバッキング保護層を
ゼラチン量が1.0g/m2になるように乳剤層側と同
時重層塗布することで試料を得た。
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のS
PS支持体または比較PET支持体の一方の下塗層上
に、下記の処方13のゼラチン下塗層をゼラチン量が
1.0g/m2になるように、その上に処方14のハロ
ゲン化銀乳剤層を銀量3.5g/m2、ゼラチン量が
1.5g/m2になるように、さらに下記処方15の塗
布液をゼラチン量が0.6g/m2になるよう同時重層
塗布した。また反対側の下塗層上には下記処方16のバ
ッキング層をゼラチン量が2.0g/m2になるよう
に、さらにその上に下記処方17のバッキング保護層を
ゼラチン量が1.0g/m2になるように乳剤層側と同
時重層塗布することで試料を得た。
【0315】 処方13(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 1.0g/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 1mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方14(ハロゲン化銀乳剤層組成) ハロゲン化銀乳剤D 銀量3.5g/m2になるように 増感色素d−1 3mg/m2 増感色素d−2 3mg/m2 表4に示す一般式(5)のヒドラジン誘導体 10mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 15mg/m2 EDTA 30mg/m2 処方15(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−21 20mg/m2 硬膜剤j 30mg/m2 処方16(バッキング層組成) ゼラチン 2.0g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方17(バッキング保護層) ゼラチン 1.0g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤g 20mg/m2
【0316】
【化73】
【0317】このようにして得られた試料の微小な網点
の再現性を評価するために、Agfa社製Select
Set5000を用いて3600dpi/300lpi
で小点(5%の網点)、中点(50%の網点)、ベタ
(100%の網点)を出力するように設定し、光量を変
化させながら露光して、下記組成の現像液及び定着液を
用いて自動現像機GR−27(コニカ(株)製)にて下
記条件で処理した。得られた現像済みの試料についてX
−Rite361Tで網%を測定した。また網点の点質
も評価した。
の再現性を評価するために、Agfa社製Select
Set5000を用いて3600dpi/300lpi
で小点(5%の網点)、中点(50%の網点)、ベタ
(100%の網点)を出力するように設定し、光量を変
化させながら露光して、下記組成の現像液及び定着液を
用いて自動現像機GR−27(コニカ(株)製)にて下
記条件で処理した。得られた現像済みの試料についてX
−Rite361Tで網%を測定した。また網点の点質
も評価した。
【0318】(現像液組成) 濃縮現像液処方A(1リットル当たりの量) ジエチルトリアミン5酢酸・5ナトリウム塩 9g/l 亜硫酸ナトリウム 0.45モル/l ハイドロキノン 18g/l 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 7g/l 炭酸カリウム 2.4モル/l 5−メチルベンゾトリアゾール 0.75g/l 臭化カリウム 22g/l ほう酸 6g/l ジエチレングリコール 80g/l KOHを使用液がpH10.0になる量を加えた。
【0319】使用時には、上記濃縮現像液Aを1部に対
して水2部を加えて使用液とした。またこの使用液は現
像母液及び現像補充液として使用した。
して水2部を加えて使用液とした。またこの使用液は現
像母液及び現像補充液として使用した。
【0320】(定着液組成) 濃縮定着液A(1リットル当たりの量) チオ硫酸アンモニウム(70%水溶液) 400ml/l 亜硫酸ナトリウム 45g/l ほう酸 20g/l 酢酸ナトリウム・3水和物 70g/l 酢酸(90%水溶液) 30g/l 酒石酸 6g/l グルタルアルデヒド 6g/l 硫酸アルミニウム(27%水溶液) 50ml/l 硫酸にて使用液のpHが4.9になるように調整した。
【0321】使用時には、上記濃縮定着液A1部に対し
て水1部を加えて使用液とした。またこの使用液は定着
母液及び定着補充液として使用した。
て水1部を加えて使用液とした。またこの使用液は定着
母液及び定着補充液として使用した。
【0322】(処理条件) (工程) (温度) (時間) 現像 35℃ 30秒 定着 35℃ 20秒 水洗 常温 20秒 乾燥 50℃ 30秒 合計 100秒 (自動現像機での乾燥性の評価)自動現像機の乾燥工程
を経て排出された試料の乾き具合を感触で5段階にて評
価した。最高ランク5とし、乾燥性が悪くなるにつれて
4、3、2、1とランクを下げ評価した。
を経て排出された試料の乾き具合を感触で5段階にて評
価した。最高ランク5とし、乾燥性が悪くなるにつれて
4、3、2、1とランクを下げ評価した。
【0323】(小点の網点再現性の評価方法)ベタ濃度
が5.0を与える露光量における小点(目標網%5%)
の実際に試料上に再現された網%。5%に近いほど良
い。
が5.0を与える露光量における小点(目標網%5%)
の実際に試料上に再現された網%。5%に近いほど良
い。
【0324】(中点の網点再現性の評価方法)ベタ濃度
が5.0を与える露光量における中点(目標網%50
%)の実際に試料上に再現された網%。50%に近いほ
ど良い。
が5.0を与える露光量における中点(目標網%50
%)の実際に試料上に再現された網%。50%に近いほ
ど良い。
【0325】(網点品質の評価方法)ベタ濃度が5.0
を与える露光量における中点(目標網%50%)を10
0倍のルーペを使って網点品質(キレ)を評価した。最
高ランク5とし、網点品質に応じて4、3、2、1とラ
ンクを下げ評価した。ランク1と2は実用上好ましくな
いレベルである。
を与える露光量における中点(目標網%50%)を10
0倍のルーペを使って網点品質(キレ)を評価した。最
高ランク5とし、網点品質に応じて4、3、2、1とラ
ンクを下げ評価した。ランク1と2は実用上好ましくな
いレベルである。
【0326】評価結果を表4に示す。
【0327】
【表4】
【0328】表4から明らかなように、He−Neレー
ザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光
材料に本発明のSPS支持体を使用することで乾燥性が
向上し、かつ本発明のヒドラジン誘導体を含有させるこ
とで、微小な網点を再現させる場合の網点品質の劣化及
び網点再現性の劣化が抑制される。
ザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光
材料に本発明のSPS支持体を使用することで乾燥性が
向上し、かつ本発明のヒドラジン誘導体を含有させるこ
とで、微小な網点を再現させる場合の網点品質の劣化及
び網点再現性の劣化が抑制される。
【0329】実施例5 (ハロゲン化銀乳剤Eの調製)水溶性イリジウム2×1
0-6モル/銀1モルの存在下でEAgを120mV、p
Hを3.0に制御しながら調整し、常法により脱塩、水
洗を行い、臭化銀35モル%を含有する塩臭化銀粒子を
得た。この粒子は平均粒径0.24μmの立方晶粒子
で、分布の広さは11%であった。これにハロゲン化銀
1モル当たり塩化金酸を5mg、硫黄華1.5mgを加
え化学増感を行い、次いで増感色素として増感色素d−
3をハロゲン化銀1モル当たり300mgを加え、さら
にハロゲン化銀1モル当たり、安定剤として4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデ
ンを1g加えた。
0-6モル/銀1モルの存在下でEAgを120mV、p
Hを3.0に制御しながら調整し、常法により脱塩、水
洗を行い、臭化銀35モル%を含有する塩臭化銀粒子を
得た。この粒子は平均粒径0.24μmの立方晶粒子
で、分布の広さは11%であった。これにハロゲン化銀
1モル当たり塩化金酸を5mg、硫黄華1.5mgを加
え化学増感を行い、次いで増感色素として増感色素d−
3をハロゲン化銀1モル当たり300mgを加え、さら
にハロゲン化銀1モル当たり、安定剤として4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデ
ンを1g加えた。
【0330】(Arレーザー光源用印刷製版スキャナー
用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のSPS支
持体または比較PET支持体の一方の下塗層上に、下記
の処方18のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.6g/
m2になるように、その上に処方19のハロゲン化銀乳
剤層を銀量3.5g/m2、ゼラチン量が1.7g/m2
になるように、さらに下記処方20の塗布液をゼラチン
量が1.0g/m2になるよう同時重層塗布した。また
反対側の下塗層上には下記処方21のバッキング層をゼ
ラチン量が2.2g/m2になるように、さらにその上
に下記処方22のバッキング保護層をゼラチン量が1.
0g/m2になるように乳剤層側と同時重層塗布するこ
とで試料を得た。
用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のSPS支
持体または比較PET支持体の一方の下塗層上に、下記
の処方18のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.6g/
m2になるように、その上に処方19のハロゲン化銀乳
剤層を銀量3.5g/m2、ゼラチン量が1.7g/m2
になるように、さらに下記処方20の塗布液をゼラチン
量が1.0g/m2になるよう同時重層塗布した。また
反対側の下塗層上には下記処方21のバッキング層をゼ
ラチン量が2.2g/m2になるように、さらにその上
に下記処方22のバッキング保護層をゼラチン量が1.
0g/m2になるように乳剤層側と同時重層塗布するこ
とで試料を得た。
【0331】 処方18(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.6g/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 1mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方19(ハロゲン化銀乳剤層組成) ハロゲン化銀乳剤E 銀量3.5g/m2になるように 増感色素d−4 3mg/m2 表5に示す一般式(6)のヒドラジン誘導体 15mg/m2 n−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.6g/m2 化合物e 100mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体ラテックス(平均粒径0.25μm) 0.25g/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 15mg/m2 EDTA 30mg/m2 処方20(乳剤保護層組成) ゼラチン 1.0g/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 1−フェニル−3−ピラゾリドン 2.5mg/m2 5−ニトロインダゾール 5mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−21 17mg/m2 硬膜剤:ホルマリン 20mg/m2 処方21(バッキング層組成) ゼラチン 2.2g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 硬膜剤:グリオキザール 10mg/m2 処方22(バッキング保護層組成) ゼラチン 1.0g/m2 マット剤:平均粒径3.0〜5.0μmのポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤:グリオキザール 25mg/m2 このようにして得られた試料の微小な網点の再現性を評
価するために、大日本スクリーン(株)社製SG−75
7で1インチ当たり700線の線数で小点(5%の網
点)、中点(50%の網点)、ベタ(100%の網点)
を出力するように設定し、光量を変化させながら露光し
て、実施例4と同様に処理・評価を行った。
価するために、大日本スクリーン(株)社製SG−75
7で1インチ当たり700線の線数で小点(5%の網
点)、中点(50%の網点)、ベタ(100%の網点)
を出力するように設定し、光量を変化させながら露光し
て、実施例4と同様に処理・評価を行った。
【0332】評価結果を表5に示す。
【0333】
【表5】
【0334】表5から明らかなように、Arレーザー光
源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光材料に
本発明のSPS支持体を使用することで乾燥性が向上
し、かつ本発明のヒドラジン誘導体を含有させること
で、微小な網点を再現させる場合の網点品質の劣化及び
網点再現性の劣化が抑制される。
源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光材料に
本発明のSPS支持体を使用することで乾燥性が向上
し、かつ本発明のヒドラジン誘導体を含有させること
で、微小な網点を再現させる場合の網点品質の劣化及び
網点再現性の劣化が抑制される。
【0335】実施例6 (ハロゲン化銀乳剤Fの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製し
た。コア粒子混合時にK3RhBr6を銀1モルあたり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モ
ルあたり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均
厚み0.10μm平均直径0.29μmのコア/シェル
型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90
モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からな
る)平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−280
139号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基
をフェニルカルバミルで置換したもので例えば特開平2
−280139号287(3)頁の例示化合物G−8)
を使い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で190mv
であった。
銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.05
μm平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製し
た。コア粒子混合時にK3RhBr6を銀1モルあたり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モ
ルあたり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均
厚み0.10μm平均直径0.29μmのコア/シェル
型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90
モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からな
る)平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−280
139号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基
をフェニルカルバミルで置換したもので例えば特開平2
−280139号287(3)頁の例示化合物G−8)
を使い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で190mv
であった。
【0336】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAg123mvに調整し
て、塩化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を
3×10-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるま
で化学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モ
ルあたり2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプ
トテトラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加し
た。
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAg123mvに調整し
て、塩化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を
3×10-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるま
で化学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モ
ルあたり2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプ
トテトラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加し
た。
【0337】(He−Neレーザー光源用印刷製版スキ
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のS
PS支持体または比較PET支持体の一方の下塗層上
に、下記の処方23のゼラチン下塗層をゼラチン量が
0.5g/m2になるように、さらにその上に処方24
のハロゲン化銀乳剤層を銀量3.3g/m2、ゼラチン
量が1.5g/m2になるように、さらにその上層に保
護層として下記処方25の塗布液をゼラチン量が0.8
g/m2になるよう同時重層塗布した。また反対側の下
塗層上には下記処方26のバッキング層をゼラチン量が
0.6g/m2になるように、その上に下記処方27の
疎水性ポリマー層を、さらにその上に下記処方28のバ
ッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m2になるよ
うに同時重層塗布することで試料を得た。
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)本発明のS
PS支持体または比較PET支持体の一方の下塗層上
に、下記の処方23のゼラチン下塗層をゼラチン量が
0.5g/m2になるように、さらにその上に処方24
のハロゲン化銀乳剤層を銀量3.3g/m2、ゼラチン
量が1.5g/m2になるように、さらにその上層に保
護層として下記処方25の塗布液をゼラチン量が0.8
g/m2になるよう同時重層塗布した。また反対側の下
塗層上には下記処方26のバッキング層をゼラチン量が
0.6g/m2になるように、その上に下記処方27の
疎水性ポリマー層を、さらにその上に下記処方28のバ
ッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m2になるよ
うに同時重層塗布することで試料を得た。
【0338】 処方23(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) :染料の例示化合物7−25 20mg/m2 S−1(ソジウム−イソアミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 10mg/m2 処方24(ハロゲン化銀乳剤層組成) ハロゲン化銀乳剤A 銀量3.3mg/m2になるように 増感色素d−1 1.0mg/m2 表6に示すヒドラジン誘導体 20mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−21 50mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 1.0g/m2 硬膜剤g 30mg/m2 S−1(ソジウム−イソアミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 30mg/m2 処方25(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.8g/m2 染料(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) :染料の例示化合物7−26 20mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 硬膜剤g 30mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 50mg/m2 処方26(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 染料(ボールミル分散して粒径0.1μmの粉体にしたもの) :染料の例示化合物7−25 20mg/m2 処方27(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方28(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤g 15mg/m2 ポリシロキサン 0.7g/m2 得られた試料を、微小な網点品質の評価をするために大
日本スクリーン(株)社製SG−747RUで16μの
ランダムパターンの網点(FMスクリーン)で露光し
て、下記組成の現像液及び定着液を用いて自動現像機S
RX−1001(コニカ(株)製)を改造してライン速
度を変えることによって合計処理時間(Dry to
Dry)を40秒で処理した。得られた現像済みの試料
について網点品質を評価した。さらにフィルム1m2あ
たり現像液及び定着液を150mlずつ補充しながら1
日に面積の70%を黒化させた大全サイズのフィルムを
100枚処理しこれを8日間ランニングを行い計800
枚処理した。ランニング前のものと800枚ランニング
後の性能を比較した。
日本スクリーン(株)社製SG−747RUで16μの
ランダムパターンの網点(FMスクリーン)で露光し
て、下記組成の現像液及び定着液を用いて自動現像機S
RX−1001(コニカ(株)製)を改造してライン速
度を変えることによって合計処理時間(Dry to
Dry)を40秒で処理した。得られた現像済みの試料
について網点品質を評価した。さらにフィルム1m2あ
たり現像液及び定着液を150mlずつ補充しながら1
日に面積の70%を黒化させた大全サイズのフィルムを
100枚処理しこれを8日間ランニングを行い計800
枚処理した。ランニング前のものと800枚ランニング
後の性能を比較した。
【0339】 (現像液組成)それぞれ使用液1リットルあたりの量 ジエチルトリアミン5酢酸・5ナトリウム塩 3g/リットル 亜硫酸ナトリウム 50g/リットル 炭酸カリウム 40g/リットル ハイドロキノン 21g/リットル 4−メチル−4−ヒドロキシメチル−1−フェニル −3−ヒドラゾリドン(ジメゾンS) 0.9g/リットル 臭化カリウム 5g/リットル ベンゾトリアゾール 0.2g/リットル 5−メチル−ベンゾトリアゾール 0.13g/リットル ほう酸 8g/リットル ジエチレングリコール 40g/リットル 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 0.06g/リットル 水と水酸化カリウムを加えて1リットル/pH10.2
にする。
にする。
【0340】 (定着液組成)使用液1リットルあたりの量 チオ硫酸アンモニウム(70%水溶液) 200ml/リットル 亜硫酸ナトリウム 22g/リットル ほう酸 9.8g/リットル 酢酸ナトリウム・3水和物 34g/リットル 酢酸(90%水溶液) 14.5g/リットル 酒石酸 3.0g/リットル 硫酸アルミニウム(27%水溶液) 25ml/リットル 使用液のpHは4.9であった。
【0341】(自動現像機での乾燥性の評価)自動現像
機の乾燥工程を経て排出された試料の乾き具合を感触で
5段階にて評価した。最高ランク5とし、乾燥性が悪く
なるにつれて4、3、2、1とランクを下げ評価した。
機の乾燥工程を経て排出された試料の乾き具合を感触で
5段階にて評価した。最高ランク5とし、乾燥性が悪く
なるにつれて4、3、2、1とランクを下げ評価した。
【0342】(網点品質の評価方法)中点(目標50
%)を100倍のルーペを使って網点品質(キレ)を評
価した。最高ランク5とし、網点品質に応じて4、3、
2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2は実用上
好ましくないレベルである。
%)を100倍のルーペを使って網点品質(キレ)を評
価した。最高ランク5とし、網点品質に応じて4、3、
2、1とランクを下げ評価した。ランク1と2は実用上
好ましくないレベルである。
【0343】評価結果を表6に示す。
【0344】
【表6】
【0345】表6から明らかなように、He−Neレー
ザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光
材料に本発明のSPS支持体を使用し本発明のヒドラジ
ン誘導体を含有させると、自動現像機で現像液補充量及
び定着液補充量を低減させて補充して大量に処理した場
合にも、処理後の感光材料の乾燥性を劣化させず、か
つ、25μm以下の微小な網点を再現させる場合にも網
点品質が劣化するという問題が少ないことがわかる。
ザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲン化銀写真感光
材料に本発明のSPS支持体を使用し本発明のヒドラジ
ン誘導体を含有させると、自動現像機で現像液補充量及
び定着液補充量を低減させて補充して大量に処理した場
合にも、処理後の感光材料の乾燥性を劣化させず、か
つ、25μm以下の微小な網点を再現させる場合にも網
点品質が劣化するという問題が少ないことがわかる。
【0346】実施例7 (ハロゲン化銀乳剤Gの調製)同時混合法を用いて混合
時に6塩化ロジウム錯体を銀1モルあたり8×10-5モ
ル添加し、常法により脱塩後、平均粒径0.10μmの
単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀99モ
ル%、残りは臭化銀からなる)立方体粒子の乳剤を得
た。
時に6塩化ロジウム錯体を銀1モルあたり8×10-5モ
ル添加し、常法により脱塩後、平均粒径0.10μmの
単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀99モ
ル%、残りは臭化銀からなる)立方体粒子の乳剤を得
た。
【0347】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデン、臭化カリウム
及びクエン酸を添加して、無機硫黄を銀1モルあたり3
×10-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メ
チル−1,3,3a7−テトラザインデン及び1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾールを3×10-4モル及
びゼラチンを添加した。
ル−1,3,3a7−テトラザインデン、臭化カリウム
及びクエン酸を添加して、無機硫黄を銀1モルあたり3
×10-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メ
チル−1,3,3a7−テトラザインデン及び1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾールを3×10-4モル及
びゼラチンを添加した。
【0348】(明室返し用ハロゲン化銀写真感光材料の
調製)本発明のSPS支持体または比較PET支持体の
一方の下塗層上に、下記の処方29のゼラチン下塗層を
ゼラチン量が0.5g/m2になるように、その上に処
方30のハロゲン化銀乳剤を銀量2.8g/m2、ゼラ
チン量が1.0g/m2になるように、さらにその上層
に保護層として下記処方31の塗布液をゼラチン量が
0.5g/m2になるよう同時重層塗布した。また反対
側の下塗層上に、下記処方32のバッキング層をゼラチ
ン量が0.4g/m2になるように、その上に下記処方
33の疎水性ポリマー層を、さらにその上に下記処方3
4のバッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m2に
なるように同時重層塗布することで試料を得た。
調製)本発明のSPS支持体または比較PET支持体の
一方の下塗層上に、下記の処方29のゼラチン下塗層を
ゼラチン量が0.5g/m2になるように、その上に処
方30のハロゲン化銀乳剤を銀量2.8g/m2、ゼラ
チン量が1.0g/m2になるように、さらにその上層
に保護層として下記処方31の塗布液をゼラチン量が
0.5g/m2になるよう同時重層塗布した。また反対
側の下塗層上に、下記処方32のバッキング層をゼラチ
ン量が0.4g/m2になるように、その上に下記処方
33の疎水性ポリマー層を、さらにその上に下記処方3
4のバッキング保護層をゼラチン量が0.4g/m2に
なるように同時重層塗布することで試料を得た。
【0349】 処方29(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート) 0.4mg/m2 処方30(ハロゲン化銀乳剤層組成) ハロゲン化銀乳剤G 銀量が2.8mg/m2になるように 表7に示すヒドラジン誘導体 30mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−21 30mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 10mg/m2 5−メチルベンゾトリアゾール 10mg/m2 化合物m 6mg/m2 ラテックスポリマーf 1.0g/m2 硬膜剤j 40mg/m2 S−1 0.7mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 20mg/m2 処方31(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.5g/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3μmの単分散シリカ 15mg/m2 マット剤:平均粒径8μmの単分散シリカ 20mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 50mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 硬膜剤j 50mg/m2 処方32(バッキング層組成) ゼラチン 0.4g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体の親水性ポリマー(増粘剤) 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方33(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(スチレン:ブタジエン:アクリル酸=30:65:5) 1.0g/m2 硬膜剤j 10mg/m2 処方34(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 染料k 40mg/m2 硬膜剤j 40mg/m2 微小な網点品質を評価するために、得られた試料を実施
例6で作成した処理済みの試料No.66を原稿として
明室プリンターP−627GM(大日本スクリーン製)
で密着(乳剤面どうし)露光を行ってから、下記組成の
現像液及び定着液を用いて自動現像機GR26SRまた
はGR27(いずれもコニカ(株)製)により下記条件
で処理した。
例6で作成した処理済みの試料No.66を原稿として
明室プリンターP−627GM(大日本スクリーン製)
で密着(乳剤面どうし)露光を行ってから、下記組成の
現像液及び定着液を用いて自動現像機GR26SRまた
はGR27(いずれもコニカ(株)製)により下記条件
で処理した。
【0350】処理条件(イ) GR27 (工程) (温度) (時間) 現像 35℃ 30秒 定着 35℃ 20秒 水洗 常温 20秒 乾燥 50℃ 30秒 合計 100秒 処理条件(ロ) GR26SR (工程) (温度) (時間) 現像 38℃ 12秒 定着 38℃ 10秒 水洗 常温 10秒 乾燥 50℃ 13秒 合計 45秒 (現像液処方) ジエチレントリアミン5酢酸 3.6g/リットル 亜硫酸ナトリウム 14.7g/リットル 亜硫酸カリウム 38.7g/リットル 臭化カリウム 2.5g/リットル 炭酸カリウム 40g/リットル 2−メルカプト−ヒポキサンチン 0.06g/リットル ジエチレングリコール 50g/リットル 5−メチル−ベンゾトリアゾール 0.5g/リットル ハイドロキノン 14g/リットル 4−メチル−4−ヒドロキシメチル−1−フェニル −3−ヒドラゾリドン(ジメゾンS) 1.4g/リットル 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g/リットル 水と水酸化カリウムを加えて1リットル/pH10.4
にする。
にする。
【0351】 (定着液処方) チオ硫酸アンモニウム(72.5%W/V水溶液) 262g/リットル 水 79g/リットル 亜硫酸ナトリウム(無水) 22g/リットル ほう酸 9.8g/リットル 酢酸ナトリウム・3水塩 38.5g/リットル 酒石酸 7.3g/リットル 水酸化ナトリウム 0.25g/リットル 硫酸アルミニウム(Al2O3換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 32.9g/リットル 氷酢酸、硫酸を加えてpH4.85に調整し、水を加え
て1Lに仕上げた。
て1Lに仕上げた。
【0352】このようにして得られた試料について実施
例3と同様の評価を行った。
例3と同様の評価を行った。
【0353】結果を表7に示す。
【0354】
【表7】
【0355】表7から明らかなように、印刷製版明室返
し用ハロゲン化銀写真感光材料に本発明のSPS支持体
を使用し本発明のヒドラジン誘導体を含有させると、自
動現像機での全処理時間が60秒以下であっても、寸法
安定であり、かつ微小な点を再現させる場合にも網点品
質が劣化したり、網点再現性が劣化したりするという問
題が少ないことがわかる。
し用ハロゲン化銀写真感光材料に本発明のSPS支持体
を使用し本発明のヒドラジン誘導体を含有させると、自
動現像機での全処理時間が60秒以下であっても、寸法
安定であり、かつ微小な点を再現させる場合にも網点品
質が劣化したり、網点再現性が劣化したりするという問
題が少ないことがわかる。
【0356】
【発明の効果】本発明により、乾燥性及び寸法安定性に
優れるシンジオタクチックポリスチレン(SPS)支持
体を用いた印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料におい
て、25μm以下の微小な網点を再現させる場合に、網
点品質が劣化したり、網点再現性が劣化したりすること
が少ないハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法
を提供することができた。
優れるシンジオタクチックポリスチレン(SPS)支持
体を用いた印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料におい
て、25μm以下の微小な網点を再現させる場合に、網
点品質が劣化したり、網点再現性が劣化したりすること
が少ないハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法
を提供することができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 5/395 G03C 5/395
Claims (7)
- 【請求項1】 支持体上の一方の面に少なくとも一層の
ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、該ハロゲン化銀乳剤層側の少なくとも一層の
写真構成層中に下記一般式(1)で表されるヒドラジン
誘導体を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチックポ
リスチレンを含有することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料。 【化1】 〔式中、R1は脂肪族基又は芳香族基を表し、さらにそ
の置換基の一部として−(CH2CH2O)n−、−(C
H2CH(CH3)O)n−、−(CH2CH(OH)CH
2O)n−(但しnは1以上の整数)の部分構造を含有す
るか、または4級アンモニウムカチオン基を含有する。
又、R1はハロゲン化銀吸着基を含有してもよい。G1は
−CO−、−COCO−、−CS−、−C(=NR2)
−、−SO−、−SO2−又は−P(=O)(G2R2)
−基を表す。G2は単なる結合手、−O−、−S−又は
−N(R2)−基を表し、R2は水素原子又は脂肪族基、
芳香族基を表す。分子内に複数のR2が存在する場合、
それらは同じでも異なってもよい。A1、A2の一方は水
素原子であり、他方は水素原子又はアシル基、アルキル
基又はアリールスルホニル基を表す。〕 - 【請求項2】 ヒドラジン誘導体が下記一般式(2)で
表されることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン化
銀写真感光材料。 【化2】 〔式中、R1は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表
し、これらは置換されていてもよい。Gは−CO−、−
COCO−、−SO−、−SO2−、チオカルボニル
基、イミノメチレン基又は−P(O)(R4)−基を表
す。R2はGで置換された炭素原子が、少なくとも一つ
の電子吸引基で置換された置換アルキル基を表す。R4
は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基又はアミノ基を表す。〕 - 【請求項3】 ヒドラジン誘導体が下記一般式(3)ま
たは(4)で表されることを特徴とする請求項1に記載
のハロゲン化銀写真感光材料。 【化3】 〔式中、X1はアルキル基、アルコキシ基、置換アミノ
基またはアルキルチオ基を表す。Y1はアルコキシ基、
アリーロキシ基、置換アミノ基、アルキルチオ基又はア
リールチオ基を表す。R1はアルキレン基を表す。〕 【化4】 〔式中、X2は一般式(3)におけるX1と同義である。
Y2は電子吸引基を表し、R2は水素原子、アルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、置換アミ
ノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、さらに
置換されていてもよい。nは1〜5までの整数を表し、
分子内に複数存在するY2とR2は、それぞれ同じであっ
ても異なってもよい。〕 - 【請求項4】 ヒドラジン誘導体が下記一般式(5)で
表されることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン化
銀写真感光材料。 【化5】 〔式中、Arは置換フェニル基又は置換もしくは非置換
のアリール基を表し、Gは−CO−、−SO−、−SO
2−、−PO2−、−PO3−又はC=NR2で、X+はカ
チオン性の基を含む基を表す。R、R′、R2は同一で
も異なってもよく水素原子、炭素数1〜6のアルキル
基、炭素数1〜6のアルキルスルフィニル基でA-はア
ニオン性基を表す。〕 - 【請求項5】 ヒドラジン誘導体が下記一般式(6)で
表されることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン化
銀写真感光材料。 【化6】 〔式中、R1は芳香族基であり置換されていてもよい。
A1及びA2の1つは水素原子であり、他は、水素原子、
アリールスルホニル基、トリフルオロアセチル基を表
す。Gは−CO−、−COCO−、−SO−、−SO2
−または、N−置換または非置換のイミノ基である。X
は、pH9.5〜12.5において、現像主薬の酸化体
の存在において、−G−X部分を残余分子から分裂さ
せ、−G−X部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するような部分である。〕 - 【請求項6】 自動現像機で現像補充液量及び定着補充
液量がそれぞれ50ml/m2〜300ml/m2で現像
液及び定着液に補充し、処理されることを特徴とする請
求項1〜5のいずれか一項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。 - 【請求項7】 自動現像機で全処理時間が15〜60秒
で処理されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか
一項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7189253A JPH0934053A (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7189253A JPH0934053A (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0934053A true JPH0934053A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16238203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7189253A Pending JPH0934053A (ja) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0934053A (ja) |
-
1995
- 1995-07-25 JP JP7189253A patent/JPH0934053A/ja active Pending
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