JPH10177229A - ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 感度、ガンマを劣化することなく擦り傷耐性
が優れたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法の
提供。 【解決手段】 支持体上に少なくとも1層の感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、該親水性コロイド層中に
ヒドラジン化合物又はヒドラジン化合物と造核促進剤を
含有し、かつ該ハロゲン化銀乳剤層の最外層に少なくと
も2層の親水性コロイド層を有し、そのうちの外側の親
水性コロイド層中にマット剤として平均粒径1.0〜1
0μmの有機ポリマー粒子の少なくとも1種と平均粒径
1.0〜100μmの少なくとも1種の無機粒子からな
るマット剤を含有し、かつ内側の親水性コロイド層中に
ポリマーラテックスを含有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料及びその処理方法。
が優れたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法の
提供。 【解決手段】 支持体上に少なくとも1層の感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、該親水性コロイド層中に
ヒドラジン化合物又はヒドラジン化合物と造核促進剤を
含有し、かつ該ハロゲン化銀乳剤層の最外層に少なくと
も2層の親水性コロイド層を有し、そのうちの外側の親
水性コロイド層中にマット剤として平均粒径1.0〜1
0μmの有機ポリマー粒子の少なくとも1種と平均粒径
1.0〜100μmの少なくとも1種の無機粒子からな
るマット剤を含有し、かつ内側の親水性コロイド層中に
ポリマーラテックスを含有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料及びその処理方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料に関し、詳しくは高感度、高コントラストな印刷
製版用ハロゲン化銀写真感光材及びその処理方法に関す
る。
光材料に関し、詳しくは高感度、高コントラストな印刷
製版用ハロゲン化銀写真感光材及びその処理方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】写真用フィルムは製造工程中の搬送系に
て、フィルム表面と他との接触機会が多い。更に露光現
像処理でもその機会が多く、例えば印刷製版用出力用感
光材料ではハロゲン化銀写真感光材料(以下、単に感光
材料とも言う)はイメージセッターに装填された後、自
動的にローディング、露光され自動現像機にて処理乾燥
されている。
て、フィルム表面と他との接触機会が多い。更に露光現
像処理でもその機会が多く、例えば印刷製版用出力用感
光材料ではハロゲン化銀写真感光材料(以下、単に感光
材料とも言う)はイメージセッターに装填された後、自
動的にローディング、露光され自動現像機にて処理乾燥
されている。
【0003】これらの搬送過程において感光材料は様々
な部分と接触するため、フィルム表面に擦り傷故障とい
われる黒化プレッシャーを生じ易い問題を有している。
な部分と接触するため、フィルム表面に擦り傷故障とい
われる黒化プレッシャーを生じ易い問題を有している。
【0004】特にヒドラジン化合物を用いた高感度、高
コントラストな出力用感光材料が他に比し黒化プレッシ
ャーを発生し易いという問題点を有しており、その改良
が望まれていた。
コントラストな出力用感光材料が他に比し黒化プレッシ
ャーを発生し易いという問題点を有しており、その改良
が望まれていた。
【0005】なお感光材料の耐圧性向上技術に関して
は、数多くの提案がなされているが高感度、高コントラ
ストの写真性能を劣化することなく、黒化プレッシャー
を防止するには充分ではなく、更なる開発を必要とし
た。
は、数多くの提案がなされているが高感度、高コントラ
ストの写真性能を劣化することなく、黒化プレッシャー
を防止するには充分ではなく、更なる開発を必要とし
た。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、擦り傷耐性に優れた印刷製版用出力用のハロゲン化
銀写真感光材料を提供することであり、更なる目的はヒ
ドラジン化合物を用いて高感度、超硬調な写真性能を有
し、かつスリキズ耐性に優れたハロゲン化銀写真感光材
料を提供することである。
は、擦り傷耐性に優れた印刷製版用出力用のハロゲン化
銀写真感光材料を提供することであり、更なる目的はヒ
ドラジン化合物を用いて高感度、超硬調な写真性能を有
し、かつスリキズ耐性に優れたハロゲン化銀写真感光材
料を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は下
記の構成により達成される。
記の構成により達成される。
【0008】(1)支持体上に少なくとも1層の感光性
ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料において、該親水性コロイド層
中にヒドラジン化合物を含有し、かつ該ハロゲン化銀乳
剤層の最外層に少なくとも2層の親水性コロイド層を有
し、そのうちの外側の親水性コロイド層中にマット剤と
して平均粒径1.0〜10μmの有機ポリマー粒子の少
なくとも1種と平均粒径1.0〜100μmの少なくと
も1種の無機粒子からなるマット剤を含有し、かつ内側
の親水性コロイド層中にポリマーラテックスを含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料において、該親水性コロイド層
中にヒドラジン化合物を含有し、かつ該ハロゲン化銀乳
剤層の最外層に少なくとも2層の親水性コロイド層を有
し、そのうちの外側の親水性コロイド層中にマット剤と
して平均粒径1.0〜10μmの有機ポリマー粒子の少
なくとも1種と平均粒径1.0〜100μmの少なくと
も1種の無機粒子からなるマット剤を含有し、かつ内側
の親水性コロイド層中にポリマーラテックスを含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0009】(2)支持体上に少なくとも1層の感光性
ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料において、該親水性コロイド層
中にヒドラジン化合物と下記一般式〔Na〕、〔Nb〕
又は〔Nc〕で表される化合物の少なくとも1種を含有
し、かつ該ハロゲン化銀乳剤層の最外層に少なくとも2
層の親水性コロイド層を有し、そのうちの外側の親水性
コロイド層中にマット剤として平均粒径1.0〜10μ
mの有機ポリマー粒子の少なくとも1種と平均粒径1.
0〜100μmの少なくとも1種の無機粒子からなるマ
ット剤を含有し、かつ内側の親水性コロイド層中にポリ
マーラテックスを含有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。
ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料において、該親水性コロイド層
中にヒドラジン化合物と下記一般式〔Na〕、〔Nb〕
又は〔Nc〕で表される化合物の少なくとも1種を含有
し、かつ該ハロゲン化銀乳剤層の最外層に少なくとも2
層の親水性コロイド層を有し、そのうちの外側の親水性
コロイド層中にマット剤として平均粒径1.0〜10μ
mの有機ポリマー粒子の少なくとも1種と平均粒径1.
0〜100μmの少なくとも1種の無機粒子からなるマ
ット剤を含有し、かつ内側の親水性コロイド層中にポリ
マーラテックスを含有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。
【0010】
【化2】
【0011】(一般式〔Na〕においてR1、R2、R3
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基を表し、R1、R2、R3で環を形成しても
よい。
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置
換アリール基を表し、R1、R2、R3で環を形成しても
よい。
【0012】一般式〔Nb〕においてArは置換又は無
置換の芳香族基又は複素環基を表す。
置換の芳香族基又は複素環基を表す。
【0013】R4は水素原子、アルキル基、アルキニル
基、アリール基を表すが、ArとR4は連結基で連結さ
れて環を形成してもよい。
基、アリール基を表すが、ArとR4は連結基で連結さ
れて環を形成してもよい。
【0014】一般式〔Nc〕において、QはN又はP原
子を表し、R5、R6及びR7は水素原子、又は置換可能
な基を表す。Lはm価の有機基を表す。R5〜R7及びL
はその中の複数の基が互いに結合して環を形成してもよ
い。mは1〜5の整数を表す。Xn-はn価の陰イオンを
表し、nは1から5の整数を表す。Xn-はLと連結して
いてもよい。) (3)無機粒子であるマット剤の平均粒径が3〜100
μmであることを特徴とする上記(1)又は(2)記載
のハロゲン化銀写真感光材料。
子を表し、R5、R6及びR7は水素原子、又は置換可能
な基を表す。Lはm価の有機基を表す。R5〜R7及びL
はその中の複数の基が互いに結合して環を形成してもよ
い。mは1〜5の整数を表す。Xn-はn価の陰イオンを
表し、nは1から5の整数を表す。Xn-はLと連結して
いてもよい。) (3)無機粒子であるマット剤の平均粒径が3〜100
μmであることを特徴とする上記(1)又は(2)記載
のハロゲン化銀写真感光材料。
【0015】(4)ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コ
ロイド層中にコロイド状シリカを含有することを特徴と
する上記(1)〜(3)の何れか1項に記載のハロゲン
化銀写真感光材料。
ロイド層中にコロイド状シリカを含有することを特徴と
する上記(1)〜(3)の何れか1項に記載のハロゲン
化銀写真感光材料。
【0016】(5)ハロゲン化銀乳剤層の最外層に少な
くとも1種の滑り剤を含有することを特徴とする上記
(1)〜(4)の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真
感光材料。
くとも1種の滑り剤を含有することを特徴とする上記
(1)〜(4)の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真
感光材料。
【0017】以下、本発明を詳述する。
【0018】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は感光
性ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有す
る。ここで言う親水性コロイド層とはハロゲン化銀写真
感光材料を構成する全ての層を指し、例えばハロゲン化
銀乳剤層、保護層、中間層、帯電防止層、染料層などを
言う。
性ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有す
る。ここで言う親水性コロイド層とはハロゲン化銀写真
感光材料を構成する全ての層を指し、例えばハロゲン化
銀乳剤層、保護層、中間層、帯電防止層、染料層などを
言う。
【0019】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、こ
の親水性コロイド層中にヒドラジン化合物を含有し、か
つハロゲン化銀乳剤層の最外層即ち、保護層として少な
くとも2層の親水性コロイド層を有する。この保護層の
うちの外側の親水性コロイド層(本発明では乳剤保護層
2組成という)中にマット剤として有機ポリマー粒子と
無機粒子からなるマット剤を含有し、かつ内側の親水性
コロイド層(本発明では乳剤保護層1組成という)中に
ポリマーラテックスを含有するものである。
の親水性コロイド層中にヒドラジン化合物を含有し、か
つハロゲン化銀乳剤層の最外層即ち、保護層として少な
くとも2層の親水性コロイド層を有する。この保護層の
うちの外側の親水性コロイド層(本発明では乳剤保護層
2組成という)中にマット剤として有機ポリマー粒子と
無機粒子からなるマット剤を含有し、かつ内側の親水性
コロイド層(本発明では乳剤保護層1組成という)中に
ポリマーラテックスを含有するものである。
【0020】本発明に於いて無機粒子としては例えばス
イス特許第330,158号記載のシリカ、仏国特許第
1,296,995号記載のガラス粉、英国特許第1,
173,181号記載のアルカリ土類金属又はカドミウ
ム、亜鉛などの炭酸塩が挙げられる。
イス特許第330,158号記載のシリカ、仏国特許第
1,296,995号記載のガラス粉、英国特許第1,
173,181号記載のアルカリ土類金属又はカドミウ
ム、亜鉛などの炭酸塩が挙げられる。
【0021】本発明に於ける有機ポリマー粒子としては
例えば米国特許第2,322,037号記載の澱粉、ベ
ルギー特許第625,451号、英国特許第981,1
98号記載の澱粉誘導体、特公昭44−3643号記載
のポリビニルアルコール米国特許第330,158号記
載のポリスチレン或はポリメチルメタクリレート、同第
3,079,257号記載のポリアクリルニトリル、同
第3,022,169号記載のポリカーボネート或はこ
れらのコポリマーなどが挙げられる。
例えば米国特許第2,322,037号記載の澱粉、ベ
ルギー特許第625,451号、英国特許第981,1
98号記載の澱粉誘導体、特公昭44−3643号記載
のポリビニルアルコール米国特許第330,158号記
載のポリスチレン或はポリメチルメタクリレート、同第
3,079,257号記載のポリアクリルニトリル、同
第3,022,169号記載のポリカーボネート或はこ
れらのコポリマーなどが挙げられる。
【0022】なお、これらのマット剤は表面処理を行っ
たものも含み、表面処理には例えばゼラチン、ゼラチン
との結合剤、アルコール類、ハロゲン、酸素、アミン化
合物、シランカップリング剤、界面活性剤、架橋性樹
脂、糖類その他の有機化合物、有機ポリマー類などが使
用されてもよい。
たものも含み、表面処理には例えばゼラチン、ゼラチン
との結合剤、アルコール類、ハロゲン、酸素、アミン化
合物、シランカップリング剤、界面活性剤、架橋性樹
脂、糖類その他の有機化合物、有機ポリマー類などが使
用されてもよい。
【0023】本発明において、上記の無機粒子は平均粒
径1〜100μmが好ましく、特に平均粒径1〜50μ
mが好ましい。使用量は0.1〜100mg/m2でよ
く、より好ましくは3〜100mg/m2である。添加
に際しては水又は親水性溶媒に適宜に希釈したものを塗
布液に添加してよい。
径1〜100μmが好ましく、特に平均粒径1〜50μ
mが好ましい。使用量は0.1〜100mg/m2でよ
く、より好ましくは3〜100mg/m2である。添加
に際しては水又は親水性溶媒に適宜に希釈したものを塗
布液に添加してよい。
【0024】有機ポリマー粒子は平均粒径1〜10μm
が好ましく、特に平均粒径1.5〜8μmが好ましい。
添加量としては0.1〜100mg/m2でよく、特に
1〜100mg/m2が好ましい。特に3μm以上の平
均粒径の粒子を1〜100mg/m2含有することが好
ましく5μm以上の平均粒径の粒子を1〜100mg/
m2含有することが特に好ましい。
が好ましく、特に平均粒径1.5〜8μmが好ましい。
添加量としては0.1〜100mg/m2でよく、特に
1〜100mg/m2が好ましい。特に3μm以上の平
均粒径の粒子を1〜100mg/m2含有することが好
ましく5μm以上の平均粒径の粒子を1〜100mg/
m2含有することが特に好ましい。
【0025】最も好ましい使用量としては無機粒子が3
〜100mg/m2、有機ポリマー粒子が3〜100m
g/m2を最上層の保護層に含有することである。
〜100mg/m2、有機ポリマー粒子が3〜100m
g/m2を最上層の保護層に含有することである。
【0026】なお上記の組み合わせでは任意の割合で併
用できるが、総計の量が3〜150mg/m2であるこ
とが好ましい。.本発明に於いてハロゲン化銀乳剤層を
含む親水性コロイド層中に用いられるコロイド状シリカ
は平均粒径が0.01〜1μm、好ましくは0.01〜
0.5μmである。使用量は0.1〜2000mg/m
2でよく、特に10〜1000mg/m2が好ましい。
用できるが、総計の量が3〜150mg/m2であるこ
とが好ましい。.本発明に於いてハロゲン化銀乳剤層を
含む親水性コロイド層中に用いられるコロイド状シリカ
は平均粒径が0.01〜1μm、好ましくは0.01〜
0.5μmである。使用量は0.1〜2000mg/m
2でよく、特に10〜1000mg/m2が好ましい。
【0027】コロイド状シリカとしては主成分は二酸化
ケイ素であり、少量成分としてアルミナ或いはアルミン
酸ナトリウム等を含んでいてもよい。またこれらコロイ
ド状シリカには安定剤として水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、アンモニアなどの無機塩基
が含まれていてもよい。
ケイ素であり、少量成分としてアルミナ或いはアルミン
酸ナトリウム等を含んでいてもよい。またこれらコロイ
ド状シリカには安定剤として水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、アンモニアなどの無機塩基
が含まれていてもよい。
【0028】これらコロイド状シリカの具体例としては
例えばE.I.Du Pont de Nemouvs
& Co(USA)からのLudox AS、LS、
TM、 HSなど、日産化学〔株〕からスノーテックス
20、30、C、Oなど、Monsanto Coから
のSyton Zoo、Nalco Chem Coか
らのNalcoag−1060、Nalcoag−ID
21〜64などの商品名で市販されており、これらは
容易に入手することができる。
例えばE.I.Du Pont de Nemouvs
& Co(USA)からのLudox AS、LS、
TM、 HSなど、日産化学〔株〕からスノーテックス
20、30、C、Oなど、Monsanto Coから
のSyton Zoo、Nalco Chem Coか
らのNalcoag−1060、Nalcoag−ID
21〜64などの商品名で市販されており、これらは
容易に入手することができる。
【0029】なおコロイド状シリカの添加層はハロゲン
化銀乳剤層及び/又は該ハロゲン化銀乳剤層より外側の
親水性コロイド層が好ましい。
化銀乳剤層及び/又は該ハロゲン化銀乳剤層より外側の
親水性コロイド層が好ましい。
【0030】本発明において最外層の上記保護層には、
滑り剤が含有される。滑り剤としては公知の任意のもの
が使用でき、例えばポリシロキ酸系ワックス或いはシリ
コンオイルなどが有利に用いられる。
滑り剤が含有される。滑り剤としては公知の任意のもの
が使用でき、例えばポリシロキ酸系ワックス或いはシリ
コンオイルなどが有利に用いられる。
【0031】これらの使用量としては0.1〜2000
mg/m2でよく、特に1〜100mg/m2が好まし
い。添加の時期は何れでもよく、上記のマット剤と別々
もしくは組み合わせて添加してもよい。なお上記滑り剤
は水又は親水性溶媒に適宜に希釈したものを塗布液に添
加してもよい。
mg/m2でよく、特に1〜100mg/m2が好まし
い。添加の時期は何れでもよく、上記のマット剤と別々
もしくは組み合わせて添加してもよい。なお上記滑り剤
は水又は親水性溶媒に適宜に希釈したものを塗布液に添
加してもよい。
【0032】次に本発明における保護層のうち、前記の
最上層の保護層の下側に設けられる乳剤保護層1組成中
には、ポリマーラテックスが含有される。
最上層の保護層の下側に設けられる乳剤保護層1組成中
には、ポリマーラテックスが含有される。
【0033】使用されるポリマーラテックスとしては、
特に限定されるものではなく、例えば米国特許第2,7
72,166号、同第3,325,286号、同第3,
411,911号、同第3,311,912号、同第
3,525,620号、リサーチ・ディスクロージャー
(Research Disclosure誌No.1
9551)(1980年7月)等に記載されているごと
き、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチ
レン等のビニル重合体の水和物を用いることができる。
特に限定されるものではなく、例えば米国特許第2,7
72,166号、同第3,325,286号、同第3,
411,911号、同第3,311,912号、同第
3,525,620号、リサーチ・ディスクロージャー
(Research Disclosure誌No.1
9551)(1980年7月)等に記載されているごと
き、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチ
レン等のビニル重合体の水和物を用いることができる。
【0034】本発明に好ましく用いられるポリマーラテ
ックスとしてはメチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート等のメタアルキルアクリレートの単独重合体、ス
チレンの単独重合体、又はメタアルキルアクリレートや
スチレンとアクリル酸、N−メチロールアクリルアミ
ド、グリシドールメタクリレート等との共重合体、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレ
ート等のアルキルアクリレートの単独重合体もしくはア
ルキルアクリレートとアクリル酸、N−メチロールアク
リルアミド等との共重合体(好ましくはアクリル酸等の
共重合成分は30重量%まで)、ブタジエンの単独重合
体もしくはブタジエンとスチレン、ブトキシメチルアク
リルアミド、アクリル酸の1つ以上との共重合体、塩化
ビニリデン−メチルアクリレート−アクリル酸3元共重
合体等が挙げられる。本発明に用いることができるポリ
マーラテックスの具体例を下記に示す。
ックスとしてはメチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート等のメタアルキルアクリレートの単独重合体、ス
チレンの単独重合体、又はメタアルキルアクリレートや
スチレンとアクリル酸、N−メチロールアクリルアミ
ド、グリシドールメタクリレート等との共重合体、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレ
ート等のアルキルアクリレートの単独重合体もしくはア
ルキルアクリレートとアクリル酸、N−メチロールアク
リルアミド等との共重合体(好ましくはアクリル酸等の
共重合成分は30重量%まで)、ブタジエンの単独重合
体もしくはブタジエンとスチレン、ブトキシメチルアク
リルアミド、アクリル酸の1つ以上との共重合体、塩化
ビニリデン−メチルアクリレート−アクリル酸3元共重
合体等が挙げられる。本発明に用いることができるポリ
マーラテックスの具体例を下記に示す。
【0035】なお、これらのポリマーラテックスはTg
が20℃以下であることが特に好ましいが、2成分以上
の共重合体からなるポリマーラテックスのTgはその成
分比を変えることにより容易に調整できるため、本明細
書中に示すポリマーラテックスの具体例はその構成成分
よりなるポリマーラテックスの任意の組成比のポリマー
ラテックスをも表すものである。勿論、ここに示すポリ
マーラテックスの具体例は使用できるポリマーラテック
スのほんの1例であり、本発明に使用されるポリマーラ
テックスの(組成比のみならず)構成成分が、これらの
具体例に限定されないことは言うまでもない。
が20℃以下であることが特に好ましいが、2成分以上
の共重合体からなるポリマーラテックスのTgはその成
分比を変えることにより容易に調整できるため、本明細
書中に示すポリマーラテックスの具体例はその構成成分
よりなるポリマーラテックスの任意の組成比のポリマー
ラテックスをも表すものである。勿論、ここに示すポリ
マーラテックスの具体例は使用できるポリマーラテック
スのほんの1例であり、本発明に使用されるポリマーラ
テックスの(組成比のみならず)構成成分が、これらの
具体例に限定されないことは言うまでもない。
【0036】本発明に用いられるポリマーラテックスの
具体的化合物例を示す。
具体的化合物例を示す。
【0037】
【化3】
【0038】
【化4】
【0039】
【化5】
【0040】
【化6】
【0041】
【化7】
【0042】
【化8】
【0043】
【化9】
【0044】本発明で用いるポリマーラテックスの平均
粒径の好ましい範囲は0.005〜1μmで、特に0.
02〜0.1μmであることが好ましい。
粒径の好ましい範囲は0.005〜1μmで、特に0.
02〜0.1μmであることが好ましい。
【0045】ハロゲン化銀乳剤層に対するポリマーラテ
ックスの好ましい添加量は、ゼラチンに対して70%以
上である。特に好ましくは70〜200%以上である。
好ましい乳剤層のゼラチン量は、3g/m2以下が好ま
しく、2.5g/m2以下が特に好ましい。
ックスの好ましい添加量は、ゼラチンに対して70%以
上である。特に好ましくは70〜200%以上である。
好ましい乳剤層のゼラチン量は、3g/m2以下が好ま
しく、2.5g/m2以下が特に好ましい。
【0046】なお、本発明においては、特開平5−66
512号にて開示された例えばゼラチンで安定化された
ポリマーラテックスを使用してもよい。
512号にて開示された例えばゼラチンで安定化された
ポリマーラテックスを使用してもよい。
【0047】通常のラテックスは界面活性剤によって水
系分散されているが、該ポリマーラテックスは、表面及
び/又は内部がゼラチンによって分散安定化されている
ことを特徴とする。ラテックスを構成するポリマーとゼ
ラチンが何等かの結合をもっていてもよい。この場合、
ポリマーとゼラチンは直接結合していてもよいし、架橋
剤を介して結合していてもよい。このため、ラテックス
を構成するモノマーには、カルボキシル基、アミノ基、
アミド基、エポキシ基、水酸基、アルデヒド基、オキサ
ゾリン基、エーテル基、エステル基、メチロール基、シ
アノ基、アセチル基、不飽和炭素結合等の反応性基をも
つものが含まれていることが望ましい。架橋剤を使用す
る場合には、通常のゼラチンの架橋剤として用いられて
いるものを用いることができる。例えばアルデヒド系、
グリコール系、トリアジン系、エポキシ系、ビニルスル
ホン系、オキサゾリン系、メタクリル系、アクリル系等
の架橋剤を用いることができる。
系分散されているが、該ポリマーラテックスは、表面及
び/又は内部がゼラチンによって分散安定化されている
ことを特徴とする。ラテックスを構成するポリマーとゼ
ラチンが何等かの結合をもっていてもよい。この場合、
ポリマーとゼラチンは直接結合していてもよいし、架橋
剤を介して結合していてもよい。このため、ラテックス
を構成するモノマーには、カルボキシル基、アミノ基、
アミド基、エポキシ基、水酸基、アルデヒド基、オキサ
ゾリン基、エーテル基、エステル基、メチロール基、シ
アノ基、アセチル基、不飽和炭素結合等の反応性基をも
つものが含まれていることが望ましい。架橋剤を使用す
る場合には、通常のゼラチンの架橋剤として用いられて
いるものを用いることができる。例えばアルデヒド系、
グリコール系、トリアジン系、エポキシ系、ビニルスル
ホン系、オキサゾリン系、メタクリル系、アクリル系等
の架橋剤を用いることができる。
【0048】ゼラチンで安定化されたラテックスとは、
ポリマーの重合反応の少なくとも1部が、少なくともゼ
ラチンを含有する溶媒中で行われることを特徴とするも
のである。
ポリマーの重合反応の少なくとも1部が、少なくともゼ
ラチンを含有する溶媒中で行われることを特徴とするも
のである。
【0049】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の親水
性コロイド層中にはヒドラジン化合物を含有する。ヒド
ラジン化合物としては下記一般式〔H〕で表される化合
物が好ましく挙げられる。
性コロイド層中にはヒドラジン化合物を含有する。ヒド
ラジン化合物としては下記一般式〔H〕で表される化合
物が好ましく挙げられる。
【0050】
【化10】
【0051】式中、Aはアリール基、又は硫黄原子又は
酸素原子を少なくとも1個を含む複素環を表し、Gは−
(CO)n−基、スルホニル基、スルホキシ基、−P
(=O)R2−基、又はイミノメチレン基を表し、nは
1又は2の整数を表し、A1、A2はともに水素原子或い
は一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキ
ルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を
表し、Rは水素原子、各々置換もしくは無置換のアルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、アミノ基、カルバモイル基、又はオキシカルボニル
基を表す。R2は各々置換もしくは無置換のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコ
キシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基等を表す。
酸素原子を少なくとも1個を含む複素環を表し、Gは−
(CO)n−基、スルホニル基、スルホキシ基、−P
(=O)R2−基、又はイミノメチレン基を表し、nは
1又は2の整数を表し、A1、A2はともに水素原子或い
は一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキ
ルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を
表し、Rは水素原子、各々置換もしくは無置換のアルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、アミノ基、カルバモイル基、又はオキシカルボニル
基を表す。R2は各々置換もしくは無置換のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコ
キシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基等を表す。
【0052】一般式〔H〕で表される化合物のうち、更
に好ましくは下記一般式〔Ha〕で表される化合物であ
る。
に好ましくは下記一般式〔Ha〕で表される化合物であ
る。
【0053】
【化11】
【0054】式中、R1は脂肪族基(例えばオクチル
基、デシル基)、芳香族基(例えばフェニル基、2−ヒ
ドロキシフェニル基、クロロフェニル基)又は複素環基
(例えばピリジル基、チエニル基、フリル基)を表し、
これらの基は更に適当な置換基で置換されたものが好ま
しく用いられる。更に、R1には、バラスト基又はハロ
ゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むことが好まし
い。
基、デシル基)、芳香族基(例えばフェニル基、2−ヒ
ドロキシフェニル基、クロロフェニル基)又は複素環基
(例えばピリジル基、チエニル基、フリル基)を表し、
これらの基は更に適当な置換基で置換されたものが好ま
しく用いられる。更に、R1には、バラスト基又はハロ
ゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むことが好まし
い。
【0055】耐拡散基としてはカプラーなどの不動性写
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては炭素数8以上の写真性に対して比較的不
活性である例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などが挙げられる。
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては炭素数8以上の写真性に対して比較的不
活性である例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などが挙げられる。
【0056】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号に記載の吸
着基などが挙げられる。
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号に記載の吸
着基などが挙げられる。
【0057】一般式〔Ha〕においてXは、フェニル基
に置換可能な基を表し、mは0〜4の整数を表し、mが
2以上の場合Xは同じであっても異なってもよい。
に置換可能な基を表し、mは0〜4の整数を表し、mが
2以上の場合Xは同じであっても異なってもよい。
【0058】一般式〔Ha〕においてA3、A4は一般式
〔H〕におけるA1及びA2と同義であり、ともに水素原
子であることが好ましい。
〔H〕におけるA1及びA2と同義であり、ともに水素原
子であることが好ましい。
【0059】一般式〔Ha〕においてGはカルボニル
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基又はイ
ミノメチレン基を表すが、Gはカルボニル基が好まし
い。
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基又はイ
ミノメチレン基を表すが、Gはカルボニル基が好まし
い。
【0060】一般式〔Ha〕においてR2としては水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ル基、複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、カ
ルバモイル基、オキシカルボニル基を表す。最も好まし
いR2としては、−COOR3基及び−CON(R4)
(R5)基が挙げられる(R3はアルキニル基又は飽和複
素環基を表し、R4は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、
R5はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環基、ヒ
ドロキシ基又はアルコキシ基を表す)。
原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ル基、複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、カ
ルバモイル基、オキシカルボニル基を表す。最も好まし
いR2としては、−COOR3基及び−CON(R4)
(R5)基が挙げられる(R3はアルキニル基又は飽和複
素環基を表し、R4は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、
R5はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環基、ヒ
ドロキシ基又はアルコキシ基を表す)。
【0061】より好ましいR2としてはアルキル基が挙
げられる。R2は置換アルキル基であることが好まし
く、更に好ましくは置換メチル基であり、最も好ましく
は置換メチル基である。該置換基として具体的にはアル
コキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、メルカプト、
アルキルチオ、アリールチオ、複素環チオ、アルキルス
ルホニル、アリールスルホニル、複素環スルホニル、ア
シル、シアノ、塩素、臭素、フッ素、ニトロ、アルコキ
シカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルボキシ
ル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、アリールカ
ルバモイル、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミ
ノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリ
ールオキシカルボニルアミノ、アシルオキシ、アルキル
アミノカルボニルオキシ、アリールアミノカルボニルオ
キシ、スルホ、スルファモイル、アリールスルファモイ
ル、アルキルスルファモイル等の基が挙げられる。好ま
しくは塩素、臭素、フッ素であり、より好ましくはフッ
素である。
げられる。R2は置換アルキル基であることが好まし
く、更に好ましくは置換メチル基であり、最も好ましく
は置換メチル基である。該置換基として具体的にはアル
コキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、メルカプト、
アルキルチオ、アリールチオ、複素環チオ、アルキルス
ルホニル、アリールスルホニル、複素環スルホニル、ア
シル、シアノ、塩素、臭素、フッ素、ニトロ、アルコキ
シカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルボキシ
ル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、アリールカ
ルバモイル、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミ
ノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリ
ールオキシカルボニルアミノ、アシルオキシ、アルキル
アミノカルボニルオキシ、アリールアミノカルボニルオ
キシ、スルホ、スルファモイル、アリールスルファモイ
ル、アルキルスルファモイル等の基が挙げられる。好ま
しくは塩素、臭素、フッ素であり、より好ましくはフッ
素である。
【0062】本発明の感光材料の親水性コロイド層中に
はヒドラジン化合物として下記一般式〔1〕で表される
化合物を好ましく用いることができる。
はヒドラジン化合物として下記一般式〔1〕で表される
化合物を好ましく用いることができる。
【0063】
【化12】
【0064】式中、R1は一価の置換基を表す。A1、A
2はともに水素原子或いは一方が水素原子で他方がアル
キルスルホニル基、又はアシル基を表す。X、Zはベン
ゼン環に置換可能な基を表し、nは1〜4、lは0〜4
の整数を表し、n、lが2以上の場合X及びZは同じで
あっても異なっていても良く、環を形成しても良い。Y
及びLは2価の連結基を表す。但し、−(OCH2C
H2)−を除く。mは0から5を表す。
2はともに水素原子或いは一方が水素原子で他方がアル
キルスルホニル基、又はアシル基を表す。X、Zはベン
ゼン環に置換可能な基を表し、nは1〜4、lは0〜4
の整数を表し、n、lが2以上の場合X及びZは同じで
あっても異なっていても良く、環を形成しても良い。Y
及びLは2価の連結基を表す。但し、−(OCH2C
H2)−を除く。mは0から5を表す。
【0065】以下、本発明に好ましく用いられるヒドラ
ジン化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
ジン化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
【0066】
【化13】
【0067】
【化14】
【0068】
【化15】
【0069】
【化16】
【0070】
【化17】
【0071】
【化18】
【0072】なお、その他の好ましいヒドラジン誘導体
の具体例としては、例えば米国特許第5,229,24
8号第4カラム〜第60カラムに記載されている(1)
〜(252)である。
の具体例としては、例えば米国特許第5,229,24
8号第4カラム〜第60カラムに記載されている(1)
〜(252)である。
【0073】本発明に係るヒドラジン誘導体は、公知の
方法により合成することができ、例えば米国特許第5,
229,248号第59カラム〜第80カラムに記載さ
れたような方法により合成することができる。
方法により合成することができ、例えば米国特許第5,
229,248号第59カラム〜第80カラムに記載さ
れたような方法により合成することができる。
【0074】添加量は、硬調化させる量(硬調化量)で
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適量は異な
るが、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10
-1モルの範囲であり、好ましくは10-5〜10-2モルの
範囲である。
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適量は異な
るが、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10
-1モルの範囲であり、好ましくは10-5〜10-2モルの
範囲である。
【0075】本発明に好ましく用いられるヒドラジン誘
導体は、ハロゲン化銀乳剤層及び又はその隣接層に添加
される。本発明に用いられるヒドラジン化合物はハロゲ
ン化銀乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることがで
きるが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層
に用いることが好ましい。また、添加量はハロゲン化銀
粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の
種類などにより最適量は異なるが、一般的にハロゲン化
銀1モル当たり10-6〜10-1モルの範囲が好ましく、
特に10-5〜10-2モルの範囲が好ましい。
導体は、ハロゲン化銀乳剤層及び又はその隣接層に添加
される。本発明に用いられるヒドラジン化合物はハロゲ
ン化銀乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることがで
きるが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層
に用いることが好ましい。また、添加量はハロゲン化銀
粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の
種類などにより最適量は異なるが、一般的にハロゲン化
銀1モル当たり10-6〜10-1モルの範囲が好ましく、
特に10-5〜10-2モルの範囲が好ましい。
【0076】(増核促進)本発明において、ヒドラジン
化合物よる硬調化を効果的に促進するために、前記一般
式〔Na〕、〔Nb〕又は〔Nc〕で表される造核促進
剤を用いることが好ましい。
化合物よる硬調化を効果的に促進するために、前記一般
式〔Na〕、〔Nb〕又は〔Nc〕で表される造核促進
剤を用いることが好ましい。
【0077】前記一般式〔Na〕において、R1、R2、
R3は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケ
ニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、置換アリール基を表す。R1、R2、R3で環を形成
することができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン
化合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又
はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散
性を有するためには分子量100以上の化合物が好まし
く、更に好ましくは分子量300以上である。又、好ま
しい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエーテ
ル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。
R3は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケ
ニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、置換アリール基を表す。R1、R2、R3で環を形成
することができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン
化合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又
はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散
性を有するためには分子量100以上の化合物が好まし
く、更に好ましくは分子量300以上である。又、好ま
しい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエーテ
ル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。
【0078】一般式〔Na〕として特に好ましくは、分
子中にハロゲン化銀吸着基としてチオエーテル基を少な
くとも一つ有する化合物である。
子中にハロゲン化銀吸着基としてチオエーテル基を少な
くとも一つ有する化合物である。
【0079】以下一般式〔Na〕の具体例を挙げる。
【0080】
【化19】
【0081】
【化20】
【0082】
【化21】
【0083】
【化22】
【0084】次に前記一般式〔Nb〕においてArは置
換又は無置換の芳香族基又は複素環基を表す。R4は水
素原子、アルキル基、アルキニル基、アリール基を表す
が、ArとR4は連結基で連結されて環を形成してもよ
い。これらの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン
化銀吸着基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性
をもたせるための分子量は120以上が好ましく、特に
好ましくは300以上である。又、好ましいハロゲン化
銀吸着基としては一般式〔H〕で表される化合物のハロ
ゲン化銀吸着基と同義の基が挙げられる。
換又は無置換の芳香族基又は複素環基を表す。R4は水
素原子、アルキル基、アルキニル基、アリール基を表す
が、ArとR4は連結基で連結されて環を形成してもよ
い。これらの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン
化銀吸着基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性
をもたせるための分子量は120以上が好ましく、特に
好ましくは300以上である。又、好ましいハロゲン化
銀吸着基としては一般式〔H〕で表される化合物のハロ
ゲン化銀吸着基と同義の基が挙げられる。
【0085】以下にこれら一般式〔Nb〕の具体例を挙
げる。
げる。
【0086】
【化23】
【0087】
【化24】
【0088】次に前記一般式〔Nc〕において、QはN
又はP原子を表し、R5、R6及びR7は水素原子、又は
置換可能な基を表す。Lはm価の有機基を表す。R5〜
R7及びLはその中の複数の基が互いに結合して環を形
成してもよい。mは1〜5の整数を表す。Xn-はn価の
陰イオンを表し、nは1から5の整数を表す。Xn-はL
と連結していてもよい。R5〜R7で表される置換可能な
基としては具体的にアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキメ
チル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シ
クロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フ
ェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフ
チル基、、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプ
ロポキシ基、n−ブトキシ基等)、アリールオキシ基
(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基
(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基、n−ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば
フェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタ
ンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基
等)、ウレイド基(例えば3−メチルウレイド基、3,
3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基
等)、スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイ
ルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバ
モイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイ
ル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモ
イル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカ
ルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば
フェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメ
タンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスル
ホニル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノ
イル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキ
シ基、ニトロ基、イミド基(例えばフタルイミド基
等)、ヘテロ環基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダ
ゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基
等)が挙げられる。これらの基は更に上述の基で置換さ
れていてもよい。Lで表される基の例としては上述の基
のほかにアルキレン、アリーレン、−SO2−、−SO
−、−O−、−S−、−N(R8)−(R8は水素原子、
アルキル基、アリール基を表す)を単独又は組み合わせ
て構成されるm価の基が挙げられる。mは1又は2であ
ることが好ましく、とくに好ましくは2である。QがP
原子である場合はR5〜R7はアリール基であることが好
ましく、とくに好ましくはフェニル基である。
又はP原子を表し、R5、R6及びR7は水素原子、又は
置換可能な基を表す。Lはm価の有機基を表す。R5〜
R7及びLはその中の複数の基が互いに結合して環を形
成してもよい。mは1〜5の整数を表す。Xn-はn価の
陰イオンを表し、nは1から5の整数を表す。Xn-はL
と連結していてもよい。R5〜R7で表される置換可能な
基としては具体的にアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキメ
チル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シ
クロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フ
ェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフ
チル基、、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプ
ロポキシ基、n−ブトキシ基等)、アリールオキシ基
(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基
(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基、n−ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば
フェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタ
ンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基
等)、ウレイド基(例えば3−メチルウレイド基、3,
3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基
等)、スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイ
ルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバ
モイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイ
ル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモ
イル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカ
ルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば
フェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメ
タンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスル
ホニル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノ
イル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキ
シ基、ニトロ基、イミド基(例えばフタルイミド基
等)、ヘテロ環基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダ
ゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基
等)が挙げられる。これらの基は更に上述の基で置換さ
れていてもよい。Lで表される基の例としては上述の基
のほかにアルキレン、アリーレン、−SO2−、−SO
−、−O−、−S−、−N(R8)−(R8は水素原子、
アルキル基、アリール基を表す)を単独又は組み合わせ
て構成されるm価の基が挙げられる。mは1又は2であ
ることが好ましく、とくに好ましくは2である。QがP
原子である場合はR5〜R7はアリール基であることが好
ましく、とくに好ましくはフェニル基である。
【0089】Lは好ましくはフェニル基、アルキレン基
である。QがN原子である場合はR5〜R7及びLはその
中の複数の基が互いに結合して環を形成する場合が好ま
しく、形成される環として好ましくはピリジン環であ
る。Xで表される陰イオンとしては塩素イオン、臭素イ
オン、沃素イオン、アセテートイオン、オキサレートイ
オン、フマレートイオン、ベンゾエートイオン、トルエ
ンスルホネートイオン、メタンスルホネートイオン、ベ
ンゼンスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオ
ン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。以下、一
般式〔Nc〕の具体的な化合物例を挙げる。
である。QがN原子である場合はR5〜R7及びLはその
中の複数の基が互いに結合して環を形成する場合が好ま
しく、形成される環として好ましくはピリジン環であ
る。Xで表される陰イオンとしては塩素イオン、臭素イ
オン、沃素イオン、アセテートイオン、オキサレートイ
オン、フマレートイオン、ベンゾエートイオン、トルエ
ンスルホネートイオン、メタンスルホネートイオン、ベ
ンゼンスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオ
ン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。以下、一
般式〔Nc〕の具体的な化合物例を挙げる。
【0090】
【化25】
【0091】
【化26】
【0092】その他の好ましい造核促進化合物の具体例
は、特開平6−258751号に記載されている例示
(2−1)〜(2−20)の化合物及び同6−2587
51号記載の(3−1)〜(3−6)の化合物である。
は、特開平6−258751号に記載されている例示
(2−1)〜(2−20)の化合物及び同6−2587
51号記載の(3−1)〜(3−6)の化合物である。
【0093】本発明に用いられる造核促進剤はハロゲン
化銀乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることができ
るが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に
用いることが好ましい。また、添加量はハロゲン化銀粒
子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の種
類などにより最適量は異なるが、一般的にハロゲン化銀
1モル当たり10-6〜10-1モルの範囲が好ましく、特
に10-5〜10-2モルの範囲が好ましい。また複数の造
核促進剤を同一層或いは異なった層に併用してもよい。
化銀乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることができ
るが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に
用いることが好ましい。また、添加量はハロゲン化銀粒
子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の種
類などにより最適量は異なるが、一般的にハロゲン化銀
1モル当たり10-6〜10-1モルの範囲が好ましく、特
に10-5〜10-2モルの範囲が好ましい。また複数の造
核促進剤を同一層或いは異なった層に併用してもよい。
【0094】本発明のハロゲン化銀写真感光材料にはレ
ドックス化合物を用いることができる。以下、本発明に
用いることのできるレドックス化合物について説明す
る。
ドックス化合物を用いることができる。以下、本発明に
用いることのできるレドックス化合物について説明す
る。
【0095】レドックス化合物はレドックス基としてハ
イドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン
類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン
類、レダクトン類、α−アミノケトン類などを有する。
イドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン
類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン
類、レダクトン類、α−アミノケトン類などを有する。
【0096】好ましいレドックス化合物はレドックス基
として−NHNH−基を有する化合物及び下記一般式
〔2〕、〔3〕、〔4〕、〔5〕、〔6〕又は〔7〕で
表される化合物である。
として−NHNH−基を有する化合物及び下記一般式
〔2〕、〔3〕、〔4〕、〔5〕、〔6〕又は〔7〕で
表される化合物である。
【0097】
【化27】
【0098】
【化28】
【0099】レドックス基として−NHNH−基を有す
る化合物としては次の一般式〔RE−a〕又は〔RE−
b〕である。
る化合物としては次の一般式〔RE−a〕又は〔RE−
b〕である。
【0100】 一般式〔RE−a〕 T−NHNHC0V−(Time)−PUG 一般式〔RE−b〕 T−NHNHCOCOV−(Time)−PUG 一般式〔RE−a〕、〔RE−b〕中、T及びVは各々
置換されてもよいアリール基又は置換されてもよいアル
キル基を表す。T及びVで表されるアリール基として
は、例えばベンゼン環やナフタレン環が挙げられ、これ
らの環は種々の置換基で置換されてもよく、好ましい置
換基として直鎖、分枝のアルキル基(好ましくは炭素数
2〜20のもの例えばメチル、エチル、イソプロピル
基、ドデシル基等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
2〜21のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基等)、
脂肪族アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜21のア
ルキル基をもつもの、例えばアセチルアミノ基、ヘプチ
ルアミノ基等)、芳香族アシルアミノ基等が挙げられ、
これらの他に例えば上記のような置換又は無置換の芳香
族環が−CONH−、−O−、−SO2NH−、−NH
CONH−、−CH2CHN−のような連結基で結合し
ているものも含む。
置換されてもよいアリール基又は置換されてもよいアル
キル基を表す。T及びVで表されるアリール基として
は、例えばベンゼン環やナフタレン環が挙げられ、これ
らの環は種々の置換基で置換されてもよく、好ましい置
換基として直鎖、分枝のアルキル基(好ましくは炭素数
2〜20のもの例えばメチル、エチル、イソプロピル
基、ドデシル基等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
2〜21のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基等)、
脂肪族アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜21のア
ルキル基をもつもの、例えばアセチルアミノ基、ヘプチ
ルアミノ基等)、芳香族アシルアミノ基等が挙げられ、
これらの他に例えば上記のような置換又は無置換の芳香
族環が−CONH−、−O−、−SO2NH−、−NH
CONH−、−CH2CHN−のような連結基で結合し
ているものも含む。
【0101】PUGとしては、5−ニトロインダゾー
ル、4−ニトロインダゾール、1−フェニルテトラゾー
ル、1−(3−スルホフェニル)テトラゾール、5−ニ
トロベンゾトリアゾール、4−ニトロベンゾトリアゾー
ル、5−ニトロイミダゾール、4−ニトロイミダゾール
等が挙げられる。これらの現像抑制化合物は、T−NH
NH−CO−のCO部位にNやSなどのヘテロ原子を介
して直接又はアルキレン、フェニレン、アラルキレン、
アリール基を介して更にNやSのヘテロ原子を介して接
続することができる。その他に、バラスト基がついたハ
イドロキノン化合物にトリアゾール、インダゾール、イ
ミダゾール、チアゾール、チアジアゾールなどの現像抑
制基を導入したものも使用できる。
ル、4−ニトロインダゾール、1−フェニルテトラゾー
ル、1−(3−スルホフェニル)テトラゾール、5−ニ
トロベンゾトリアゾール、4−ニトロベンゾトリアゾー
ル、5−ニトロイミダゾール、4−ニトロイミダゾール
等が挙げられる。これらの現像抑制化合物は、T−NH
NH−CO−のCO部位にNやSなどのヘテロ原子を介
して直接又はアルキレン、フェニレン、アラルキレン、
アリール基を介して更にNやSのヘテロ原子を介して接
続することができる。その他に、バラスト基がついたハ
イドロキノン化合物にトリアゾール、インダゾール、イ
ミダゾール、チアゾール、チアジアゾールなどの現像抑
制基を導入したものも使用できる。
【0102】例えば2−(ドデシルエチレンオキサイド
チオプロピオン酸アミド)−5−(5−ニトロインダゾ
ール−2−イル)ハイドロキノン、2−(ステアリルア
ミド)−5−(1−フェニルテトラゾール−5−チオ)
ハイドロキノン、2−(2,4−ジ−t−アミルフェノ
キシプロピオン酸アミド)−5−(5−ニトロトリアゾ
ール−2−イル)ハイドロキノン、2−ドデシルチオ−
5−(2−メルカプトチオチアジアゾール−5−チオ)
ハイドロキノン等が挙げられる。
チオプロピオン酸アミド)−5−(5−ニトロインダゾ
ール−2−イル)ハイドロキノン、2−(ステアリルア
ミド)−5−(1−フェニルテトラゾール−5−チオ)
ハイドロキノン、2−(2,4−ジ−t−アミルフェノ
キシプロピオン酸アミド)−5−(5−ニトロトリアゾ
ール−2−イル)ハイドロキノン、2−ドデシルチオ−
5−(2−メルカプトチオチアジアゾール−5−チオ)
ハイドロキノン等が挙げられる。
【0103】これらレドックス化合物は米国特許第4,
269,929号を参考にして合成することができる。
269,929号を参考にして合成することができる。
【0104】レドックス化合物は乳剤層中、又は乳剤層
に隣接する親水性コロイド層中、更には中間層を介して
親水性コロイド層中に含有せしめることができる。
に隣接する親水性コロイド層中、更には中間層を介して
親水性コロイド層中に含有せしめることができる。
【0105】上記のレドックス化合物の添加は、メタノ
ールやエタノール等のアルコール類、エチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコールな
どのグリコール類、エーテル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホオキサイド、テトラヒドロフラン、酢酸
エチルなどのエステル類、アセトンやメチルエチルケト
ンなどのケトン類に溶解してから添加することができ
る。また水や有機溶媒に溶けにくいものは、高速インペ
ラー分散、サンドミル分散、超音波分散、ボールミル分
散などにより平均粒子径が0.01から6μmまで任意
に分散することができる。分散には、アニオンやノニオ
ンなどの表面活性剤、増粘剤、ラテックスなどを添加し
て分散することができる。レドックス化合物の添加量
は、ハロゲン化銀1モルあたり10-6モルから10-1モ
ルまで好ましくは、更に好ましくはは10-4モルから1
0-2モルの範囲である。
ールやエタノール等のアルコール類、エチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコールな
どのグリコール類、エーテル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホオキサイド、テトラヒドロフラン、酢酸
エチルなどのエステル類、アセトンやメチルエチルケト
ンなどのケトン類に溶解してから添加することができ
る。また水や有機溶媒に溶けにくいものは、高速インペ
ラー分散、サンドミル分散、超音波分散、ボールミル分
散などにより平均粒子径が0.01から6μmまで任意
に分散することができる。分散には、アニオンやノニオ
ンなどの表面活性剤、増粘剤、ラテックスなどを添加し
て分散することができる。レドックス化合物の添加量
は、ハロゲン化銀1モルあたり10-6モルから10-1モ
ルまで好ましくは、更に好ましくはは10-4モルから1
0-2モルの範囲である。
【0106】一般式〔RE−a〕又は〔RE−b〕で表
される化合物のうち、特に好ましい化合物を下記に挙げ
る。
される化合物のうち、特に好ましい化合物を下記に挙げ
る。
【0107】
【化29】
【0108】
【化30】
【0109】その他の好ましいレドックス化合物の具体
例としては、特開平4−245243号公報の236
(8)頁「0053」〜250(22)頁「0068」
に記載されているR−1〜R−50である。
例としては、特開平4−245243号公報の236
(8)頁「0053」〜250(22)頁「0068」
に記載されているR−1〜R−50である。
【0110】以下、前記一般式〔2〕〜〔7〕で表され
るレドックス化合物について説明する。一般式〔2〕〜
〔7〕において、R1はアルキル基、アリール基又は複
素環基を表す。R2及びR3は水素原子、アシル基、カル
バモイル基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、アリ
ール基、オキザリル基、複素環基、アルコキシカルボニ
ル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。R4は水
素原子を表す。
るレドックス化合物について説明する。一般式〔2〕〜
〔7〕において、R1はアルキル基、アリール基又は複
素環基を表す。R2及びR3は水素原子、アシル基、カル
バモイル基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、アリ
ール基、オキザリル基、複素環基、アルコキシカルボニ
ル基又はアリールオキシカルボニル基を表す。R4は水
素原子を表す。
【0111】R5〜R9は水素原子、アルキル基、アリー
ル基又は複素環基を表す。r1、r2及びr3はベンゼ
ン環に置換可能な置換基を表す。X1、X2はO又はNH
を表わす。Z1は5〜6員の複素環を構成するのに必要
な原子群を表す。
ル基又は複素環基を表す。r1、r2及びr3はベンゼ
ン環に置換可能な置換基を表す。X1、X2はO又はNH
を表わす。Z1は5〜6員の複素環を構成するのに必要
な原子群を表す。
【0112】WはN(R10)R11、又はOH基を表し、
R10及びR11は水素原子、アルキル基、アリール基又は
複素環基を表す。COUPは芳香族第1級アミン現像主
薬の酸化体とカップリング反応を起こし得るカプラー残
基を表し、★はカプラーのカップリング部位を表す。T
mはタイミング基を表す。m1及びp1は0〜3の整数を
表す。q1は0〜4の整数を表す。nは0又は1を表
す。PUGは現像抑制剤を表す。
R10及びR11は水素原子、アルキル基、アリール基又は
複素環基を表す。COUPは芳香族第1級アミン現像主
薬の酸化体とカップリング反応を起こし得るカプラー残
基を表し、★はカプラーのカップリング部位を表す。T
mはタイミング基を表す。m1及びp1は0〜3の整数を
表す。q1は0〜4の整数を表す。nは0又は1を表
す。PUGは現像抑制剤を表す。
【0113】前記一般式〔2〕〜〔7〕(以下、式中)
において、R1及びR5〜R11で表されるアルキル基、ア
リール基、複素環基として好ましくは、メチル基、 p
−メトキシフェニル基、ピリジル基等が挙げられる。R
2及びR3で表されるアシル基、カルバモイル基、シアノ
基、ニトロ基、スルホニル基、アリール基、オキザリル
基、複素環基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基のなかで好ましくはアシル基、カルバモ
イル基、シアノ基である。
において、R1及びR5〜R11で表されるアルキル基、ア
リール基、複素環基として好ましくは、メチル基、 p
−メトキシフェニル基、ピリジル基等が挙げられる。R
2及びR3で表されるアシル基、カルバモイル基、シアノ
基、ニトロ基、スルホニル基、アリール基、オキザリル
基、複素環基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基のなかで好ましくはアシル基、カルバモ
イル基、シアノ基である。
【0114】これらの基の炭素数の合計は1〜20であ
ることが好ましい。R1〜R11は更に置換基を有してい
てもよく、該置換基として例えば、ハロゲン原子(塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキ
シメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基
等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等)、アラルキル基(例えばベンジル
基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えばフェニ
ル基、ナフチル基、、p−トリル基、p−クロロフェニ
ル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキ
シ基(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミ
ノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェ
ニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、
ウレイド基(例えば3−メチルウレイド基、3,3−ジ
メチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、
スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミ
ノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル
基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基
等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモイル
基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボ
ニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェ
ノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタン
スルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニ
ル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル
基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エ
チルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキシル
基、ニトロ基、イミド基(例えばフタルイミド基等)、
複素環基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル
基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が
挙げられる。COUPで表されるカプラー残基としては
以下のものを挙げることができる。
ることが好ましい。R1〜R11は更に置換基を有してい
てもよく、該置換基として例えば、ハロゲン原子(塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキ
シメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基
等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等)、アラルキル基(例えばベンジル
基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えばフェニ
ル基、ナフチル基、、p−トリル基、p−クロロフェニ
ル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキ
シ基(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミ
ノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基
等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェ
ニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、
ウレイド基(例えば3−メチルウレイド基、3,3−ジ
メチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、
スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミ
ノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル
基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基
等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモイル
基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボ
ニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェ
ノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタン
スルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニ
ル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル
基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エ
チルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキシル
基、ニトロ基、イミド基(例えばフタルイミド基等)、
複素環基(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル
基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が
挙げられる。COUPで表されるカプラー残基としては
以下のものを挙げることができる。
【0115】シアンカプラー残基としてはフェノールカ
プラー、ナフトールカプラー等がある。マゼンタカプラ
ーとしては5−ピラゾロンカプラー、ピラゾロンカプラ
ー、シアノアセチルクマロンカプラー、開鎖アシルアセ
トニトリルカプラー、インダゾロンカプラー等がある。
イエローカプラー残基としてはベンゾイルアセトアニリ
ドカプラー、ピバロイルアセトアニリドカプラー、マロ
ンジアニリドカプラー等がある。無呈色カプラー残基と
しては開鎖又は環状活性メチレン化合物(例えばインダ
ノン、シクロペンタノン、マロン酸ジエステル、イミダ
ゾリノン、オキサゾリノン、チアゾリノン等)がある。
更にCOUPで表されるカプラー残基のうち本発明にお
いて好ましく用いられるものは、下記一般式(Coup
−1)〜一般式(Coup−8)で表すことができる。
プラー、ナフトールカプラー等がある。マゼンタカプラ
ーとしては5−ピラゾロンカプラー、ピラゾロンカプラ
ー、シアノアセチルクマロンカプラー、開鎖アシルアセ
トニトリルカプラー、インダゾロンカプラー等がある。
イエローカプラー残基としてはベンゾイルアセトアニリ
ドカプラー、ピバロイルアセトアニリドカプラー、マロ
ンジアニリドカプラー等がある。無呈色カプラー残基と
しては開鎖又は環状活性メチレン化合物(例えばインダ
ノン、シクロペンタノン、マロン酸ジエステル、イミダ
ゾリノン、オキサゾリノン、チアゾリノン等)がある。
更にCOUPで表されるカプラー残基のうち本発明にお
いて好ましく用いられるものは、下記一般式(Coup
−1)〜一般式(Coup−8)で表すことができる。
【0116】
【化31】
【0117】式中R16はアシルアミド基、アニリノ基又
はウレイド基を表し、R17は1個又はそれ以上のハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基又はシアノ基で置換
されてもよいフェニル基を表す。
はウレイド基を表し、R17は1個又はそれ以上のハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基又はシアノ基で置換
されてもよいフェニル基を表す。
【0118】
【化32】
【0119】式中、R18,R19はハロゲン原子、アシル
アミド基、アルコキシカルボニルアミド基、スルホウレ
イド基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基
又は脂肪族基を表し、R20及びR21はおのおの脂肪族
基、芳香族基又は複素環基を表す。またR20及びR21の
一方が水素原子であってもよい。aは1〜4の整数、b
は0〜5の整数を表す。a、bが複数の場合、R18は同
一でも異なっていてもよく、またR19は同一でも異なっ
ていてもよい。
アミド基、アルコキシカルボニルアミド基、スルホウレ
イド基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基
又は脂肪族基を表し、R20及びR21はおのおの脂肪族
基、芳香族基又は複素環基を表す。またR20及びR21の
一方が水素原子であってもよい。aは1〜4の整数、b
は0〜5の整数を表す。a、bが複数の場合、R18は同
一でも異なっていてもよく、またR19は同一でも異なっ
ていてもよい。
【0120】
【化33】
【0121】式中R22は3級アルキル基又は芳香族基を
表し、R23は水素原子、ハロゲン原子又はアルコキシ基
を表す。R24はアシルアミド基、脂肪族基、アルコキシ
カルボニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルコキシ基、ハロゲン原子又はスルホンアミド基を表
す。
表し、R23は水素原子、ハロゲン原子又はアルコキシ基
を表す。R24はアシルアミド基、脂肪族基、アルコキシ
カルボニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルコキシ基、ハロゲン原子又はスルホンアミド基を表
す。
【0122】
【化34】
【0123】式中R25は脂肪族基、アルコキシ基、アシ
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ジ
アシルアミノ基、R26は水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基を表す。
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ジ
アシルアミノ基、R26は水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基を表す。
【0124】
【化35】
【0125】R27、R28は水素原子、脂肪族基、芳香族
基、複素環基を表す。
基、複素環基を表す。
【0126】前記一般式〔2〕のZ1で表される5〜6
員の複素環としては、単環でも縮合環でもよく、O、
S、及びN原子の少なくとも1種を環内に有する5〜6
員の複素環が挙げられる。これらの環上には置換基を有
してもよく、具体的には前述の置換基を挙げることがで
きる。
員の複素環としては、単環でも縮合環でもよく、O、
S、及びN原子の少なくとも1種を環内に有する5〜6
員の複素環が挙げられる。これらの環上には置換基を有
してもよく、具体的には前述の置換基を挙げることがで
きる。
【0127】Tmで表されるタイミング基として好まし
くは−OCH2−又はその他の2価のタイミング基、例
えば米国特許第4,248,962号、同第4,40
9,323号、又は同第3,674,478号、Res
erch Disclosure 21228(198
1年12月)、又は特開昭57−56837号、特開平
4−438号公報等に記載のものが挙げられる。
くは−OCH2−又はその他の2価のタイミング基、例
えば米国特許第4,248,962号、同第4,40
9,323号、又は同第3,674,478号、Res
erch Disclosure 21228(198
1年12月)、又は特開昭57−56837号、特開平
4−438号公報等に記載のものが挙げられる。
【0128】PUGとして好ましい現像抑制剤は、例え
ば米国特許第4,477,563号、特開昭60−21
8644号、同60−221750号、同60−233
650号、又は同61−11743号に記載のある現像
抑制剤が挙げられる。
ば米国特許第4,477,563号、特開昭60−21
8644号、同60−221750号、同60−233
650号、又は同61−11743号に記載のある現像
抑制剤が挙げられる。
【0129】以下に本発明で用いられる一般式〔1〕〜
〔6〕で表される化合物の具体例を列挙するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
〔6〕で表される化合物の具体例を列挙するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
【0130】
【化36】
【0131】
【化37】
【0132】
【化38】
【0133】
【化39】
【0134】
【化40】
【0135】
【化41】
【0136】
【化42】
【0137】
【化43】
【0138】本発明で好ましく用いられる一般式〔2〕
〜〔7〕で表される化合物は、ハロゲン化銀1モル当た
り1×10-6モルから5×10-2モル含有するのが好ま
しく、特に1×10-4モルから2×10-2モルが好まし
い。
〜〔7〕で表される化合物は、ハロゲン化銀1モル当た
り1×10-6モルから5×10-2モル含有するのが好ま
しく、特に1×10-4モルから2×10-2モルが好まし
い。
【0139】上記一般式〔2〕〜〔7〕で表される化合
物は適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類、ケ
トン類、ジメチルスルホオキシド、ジメチルホルムアミ
ド、メチルセロソルブなどに溶解して用いることができ
る。また、既に公知のオイルを用いた乳化分散物として
添加することもできる。更に、固体分散法として知られ
る方法によって、化合物の粉末を水のなかにボールミ
ル、コロイドミル、インペラー分散機、或いは超音波に
よって分散して用いることもできる。
物は適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類、ケ
トン類、ジメチルスルホオキシド、ジメチルホルムアミ
ド、メチルセロソルブなどに溶解して用いることができ
る。また、既に公知のオイルを用いた乳化分散物として
添加することもできる。更に、固体分散法として知られ
る方法によって、化合物の粉末を水のなかにボールミ
ル、コロイドミル、インペラー分散機、或いは超音波に
よって分散して用いることもできる。
【0140】本発明においてレドックス化合物は、ハロ
ゲン化銀乳剤層中、乳剤層の隣接層、隣接層を介した他
の層などに存在させることができる。特に好ましくは、
乳剤層及び/又は乳剤層に隣接する親水性コロイド層で
ある。最も好ましくは支持体に最も近い乳剤層との間に
親水性コロイド層を設け、該親水性コロイド層に添加す
ることである。また、レドックス化合物は複数の異なる
層に含有されてもよい。
ゲン化銀乳剤層中、乳剤層の隣接層、隣接層を介した他
の層などに存在させることができる。特に好ましくは、
乳剤層及び/又は乳剤層に隣接する親水性コロイド層で
ある。最も好ましくは支持体に最も近い乳剤層との間に
親水性コロイド層を設け、該親水性コロイド層に添加す
ることである。また、レドックス化合物は複数の異なる
層に含有されてもよい。
【0141】本発明のハロゲン化銀写真感光材料には固
体微粒子状に分散した染料を使用することができる。
体微粒子状に分散した染料を使用することができる。
【0142】使用できる固体状に分散した染料として
は、下記一般式〔8〕〜〔13〕の化合物を用いるのが
好ましい。
は、下記一般式〔8〕〜〔13〕の化合物を用いるのが
好ましい。
【0143】
【化44】
【0144】式中、A及びA′は同一でも異なっていて
もよく、それぞれ酸性核を表し、Bは塩基表し、Qはア
リール基又は複素環基を表し、Q′は複素環基を表し、
X4及びY1は同一でも異なっていてもよく、それぞれ電
子吸引性基をあらわし、L1、L2及びL3はそれぞれメ
チン基を表す。m2は0又は1を表し、tは0、1又は
2を表し、p2は0又は1を表す。但し、一般式〔8〕
〜〔13〕で表される染料は、分子中にカルボキシ基、
スルホンアミド基及びスルファモイル基から選ばれる基
を少なくとも1つ有する。
もよく、それぞれ酸性核を表し、Bは塩基表し、Qはア
リール基又は複素環基を表し、Q′は複素環基を表し、
X4及びY1は同一でも異なっていてもよく、それぞれ電
子吸引性基をあらわし、L1、L2及びL3はそれぞれメ
チン基を表す。m2は0又は1を表し、tは0、1又は
2を表し、p2は0又は1を表す。但し、一般式〔8〕
〜〔13〕で表される染料は、分子中にカルボキシ基、
スルホンアミド基及びスルファモイル基から選ばれる基
を少なくとも1つ有する。
【0145】一般式〔8〕、
〔9〕及び〔10〕のA及
びA′で表される酸性核としては、好ましくは5−ピラ
ゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、ローダ
ニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、オキサゾロ
ン、イソオキサゾロン、インダンジオン、ピラゾリジン
ジオン、オキサゾリジンジオン、ヒドロキシピリドン、
ピラゾロピリドンが挙げられる。
びA′で表される酸性核としては、好ましくは5−ピラ
ゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、ローダ
ニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、オキサゾロ
ン、イソオキサゾロン、インダンジオン、ピラゾリジン
ジオン、オキサゾリジンジオン、ヒドロキシピリドン、
ピラゾロピリドンが挙げられる。
【0146】一般式〔10〕及び〔12〕のBで表され
る塩基性核としては、好ましくはピリジン、キノリン、
オキサゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾー
ル、チアゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾー
ル、インドレニン、ピロール、インドールが挙げられ
る。
る塩基性核としては、好ましくはピリジン、キノリン、
オキサゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾー
ル、チアゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾー
ル、インドレニン、ピロール、インドールが挙げられ
る。
【0147】一般式〔8〕及び〔11〕のQで表される
アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等
が挙げられる。また、一般式〔8〕、〔11〕及び〔1
3〕のQ及びQ′で表される複素環基としては、例えば
ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、ピロリル
基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、インドリル基、フ
リル基、チエニル基等が挙げられる。該アリール基及び
複素環基は、置換基を有するものを含み、該置換基とし
ては、例えば前述の一般式〔8〕〜〔12〕の化合物の
アミノ基、複素環基等の置換基として例示したもの等が
挙げられ、これら置換基は2種以上組み合わせて有して
も良い。好ましい置換基としては、炭素数1〜8のアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチ
ル基等)、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、
(例えばフッ素原子、塩素原子等)、炭素数1から6の
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、2−ヒ
ドロキシエトキシ基、メチレンジオキシ基、ブトキシ基
等)、置換アミノ基(例えばジメチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基、ジ(n−ブチル)アミノ基、N−エチル−
N−ヒドロキシエチルアミノ基、N−エチル−N−メタ
ンスルホンアミドエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペ
リジノ基、ピロリジノ基等)、カルボキシ基、スルホン
アミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンス
ルホンアミド基等)、スルファモイル基(例えばスルフ
ァモイル基、メチルスルファモイル基、フェニルスルフ
ァモイル基等)であり、これら置換基を組み合わせても
良い。
アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等
が挙げられる。また、一般式〔8〕、〔11〕及び〔1
3〕のQ及びQ′で表される複素環基としては、例えば
ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、ピロリル
基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、インドリル基、フ
リル基、チエニル基等が挙げられる。該アリール基及び
複素環基は、置換基を有するものを含み、該置換基とし
ては、例えば前述の一般式〔8〕〜〔12〕の化合物の
アミノ基、複素環基等の置換基として例示したもの等が
挙げられ、これら置換基は2種以上組み合わせて有して
も良い。好ましい置換基としては、炭素数1〜8のアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチ
ル基等)、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、
(例えばフッ素原子、塩素原子等)、炭素数1から6の
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、2−ヒ
ドロキシエトキシ基、メチレンジオキシ基、ブトキシ基
等)、置換アミノ基(例えばジメチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基、ジ(n−ブチル)アミノ基、N−エチル−
N−ヒドロキシエチルアミノ基、N−エチル−N−メタ
ンスルホンアミドエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペ
リジノ基、ピロリジノ基等)、カルボキシ基、スルホン
アミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンス
ルホンアミド基等)、スルファモイル基(例えばスルフ
ァモイル基、メチルスルファモイル基、フェニルスルフ
ァモイル基等)であり、これら置換基を組み合わせても
良い。
【0148】一般式〔11〕及び〔12〕のX4及びY1
で表される電子吸引性基は、同一でも異なっていてもよ
く、置換基定数Hammettのσp値(藤田稔夫編、
“化学の領域増刊122号薬物の構造活性相関”,96
〜103頁(1979)南江堂などに記載されてい
る。)が0.3以上の基が好ましく、例えばシアノ基、
アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、オ
クチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボ
ニル基(例えばフェノキシカルボニル基、4−ヒドロキ
シフェノキシカルボニル基)、カルバモイル基(例えば
カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、フェニルカ
ルバモイル基、4−カルボキシフェニルカルバモイル基
等)、アシル基(例えばメチルカルボニル基、エチルカ
ルボニル基、ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル
基、4−エチルスルホンアミドカルボニル基等)、アル
キルスルホニル基(例えばメチルスルホニル基、エチル
スルホニル基、ブチルスルホニル基、オクチルスルホニ
ル基等)、アリールスルホニル基(例えばフェニルスル
ホニル基、4−クロロスルホニル基等)が挙げられる。
で表される電子吸引性基は、同一でも異なっていてもよ
く、置換基定数Hammettのσp値(藤田稔夫編、
“化学の領域増刊122号薬物の構造活性相関”,96
〜103頁(1979)南江堂などに記載されてい
る。)が0.3以上の基が好ましく、例えばシアノ基、
アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、オ
クチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボ
ニル基(例えばフェノキシカルボニル基、4−ヒドロキ
シフェノキシカルボニル基)、カルバモイル基(例えば
カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、フェニルカ
ルバモイル基、4−カルボキシフェニルカルバモイル基
等)、アシル基(例えばメチルカルボニル基、エチルカ
ルボニル基、ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル
基、4−エチルスルホンアミドカルボニル基等)、アル
キルスルホニル基(例えばメチルスルホニル基、エチル
スルホニル基、ブチルスルホニル基、オクチルスルホニ
ル基等)、アリールスルホニル基(例えばフェニルスル
ホニル基、4−クロロスルホニル基等)が挙げられる。
【0149】一般式〔8〕〜〔12〕のL1、L2及びL
3で表されるメチン基は、置換基を有するものを含み、
該置換基としては例えば炭素数1〜6のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等)、アリール基
(例えばフェニル基、トリル基、−ヒドロキシフェニル
基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基等)、複素環基(例えばピリジル基、フリル基、チエ
ニル基等)、置換アミノ基(例えばジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、アニリノ基等)、アルキルチオ基
(例えばメチルチオ基等)が挙げられる。
3で表されるメチン基は、置換基を有するものを含み、
該置換基としては例えば炭素数1〜6のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等)、アリール基
(例えばフェニル基、トリル基、−ヒドロキシフェニル
基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基等)、複素環基(例えばピリジル基、フリル基、チエ
ニル基等)、置換アミノ基(例えばジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、アニリノ基等)、アルキルチオ基
(例えばメチルチオ基等)が挙げられる。
【0150】一般式〔8〕〜〔13〕で表される染料の
中で、分子中にカルボキシル基を少なくとも1つ有する
染料が好ましく用いられ、更に好ましくは一般式〔8〕
で表される染料であり、特に好ましくは一般式〔8〕に
おいてQがフリル基である染料である。好ましく用いら
れる染料の具体例を下記に示す。
中で、分子中にカルボキシル基を少なくとも1つ有する
染料が好ましく用いられ、更に好ましくは一般式〔8〕
で表される染料であり、特に好ましくは一般式〔8〕に
おいてQがフリル基である染料である。好ましく用いら
れる染料の具体例を下記に示す。
【0151】
【化45】
【0152】
【化46】
【0153】
【化47】
【0154】一般式〔8〕〜〔13〕で表される化合物
のその他の好ましい具体例としては例えば特願平5−2
77011号19〜30頁に記載のNo.I−1〜N
o.I−30、II−1〜II−12、III−1〜III−8、
IV−1〜IV−9、V−1〜V−8、VI−1〜VI−5が挙
げられるがこれらに限定されるものではない。
のその他の好ましい具体例としては例えば特願平5−2
77011号19〜30頁に記載のNo.I−1〜N
o.I−30、II−1〜II−12、III−1〜III−8、
IV−1〜IV−9、V−1〜V−8、VI−1〜VI−5が挙
げられるがこれらに限定されるものではない。
【0155】染料の固体微粒子分散物を製造する方法と
しては、特開昭52−92716号、同55−1553
50号、同55−155351号、同63−19794
3号、同平3−182743号、世界特許WO88/0
4794号等に記載された方法を用いることができる。
具体的には、ボールミル、遊星ミル、振動ミル、サンド
ミル、ローラーミル、ジェットミル、ディスクインペラ
ーミル等の微分散機を用いて製造することができる。ま
た、固体微粒子分散される化合物が、比較的低pHで水
不溶性であり比較的高pHで水可溶性である場合、該化
合物を弱アルカリ性水溶液に溶解した後、pHを下げて
弱酸性とする事によって微粒子状固体を析出させる方法
や該化合物の弱アルカリ性溶解液と酸性水溶液を、pH
を調整しながら同時に混合して微粒子状固体を作製する
方法によって該化合物の分散物を得ることができる。
しては、特開昭52−92716号、同55−1553
50号、同55−155351号、同63−19794
3号、同平3−182743号、世界特許WO88/0
4794号等に記載された方法を用いることができる。
具体的には、ボールミル、遊星ミル、振動ミル、サンド
ミル、ローラーミル、ジェットミル、ディスクインペラ
ーミル等の微分散機を用いて製造することができる。ま
た、固体微粒子分散される化合物が、比較的低pHで水
不溶性であり比較的高pHで水可溶性である場合、該化
合物を弱アルカリ性水溶液に溶解した後、pHを下げて
弱酸性とする事によって微粒子状固体を析出させる方法
や該化合物の弱アルカリ性溶解液と酸性水溶液を、pH
を調整しながら同時に混合して微粒子状固体を作製する
方法によって該化合物の分散物を得ることができる。
【0156】固体微粒子分散物は、単独で用いてもよ
く、2種以上を混合して用いても良く、本発明以外の固
体微粒子分散物と混合して使用しても良い。2種以上を
混合して用いる場合には、それぞれ単独に分散した後混
合してもよく、また、同時に分散することもできる。固
体微粒子分散物を水系分散媒の存在下で製造する場合、
分散中ないしは分散後に、界面活性剤を共存させるのが
好ましい。
く、2種以上を混合して用いても良く、本発明以外の固
体微粒子分散物と混合して使用しても良い。2種以上を
混合して用いる場合には、それぞれ単独に分散した後混
合してもよく、また、同時に分散することもできる。固
体微粒子分散物を水系分散媒の存在下で製造する場合、
分散中ないしは分散後に、界面活性剤を共存させるのが
好ましい。
【0157】このような界面活性剤としては、アニオン
性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面
活性剤及び両性界面活性剤の何れでも使用できるが、好
ましくは、例えばアルキルスルホン酸塩、アルキルベン
ゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、
アルキル硫酸エステル類、スルホコハク酸エステル類、
スルホアルキルポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類などの
アニオン性界面活性剤及び例えばサポニン、アルキレン
オキサイド誘導体、糖のアルキルエステル類などのノニ
オン性界面活性剤である。特に好ましくは、上記のアニ
オン性界面活性剤である。界面活性剤の具体例としては
例えば特願平5−277011号の32〜46頁に記載
の1〜32の化合物が挙げられるがこれらに限定される
ものではない。アニオン性活性剤及び/又はノニオン性
活性剤の使用量は、活性剤の種類或いは前記染料の分散
液条件などによって一様ではないが、通常、染料1g当
たり0.1〜2000mgが好ましく、更に好ましくは
0.5〜1000mgでよく、特に好ましくは1〜50
0mgでよい。
性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面
活性剤及び両性界面活性剤の何れでも使用できるが、好
ましくは、例えばアルキルスルホン酸塩、アルキルベン
ゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、
アルキル硫酸エステル類、スルホコハク酸エステル類、
スルホアルキルポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類などの
アニオン性界面活性剤及び例えばサポニン、アルキレン
オキサイド誘導体、糖のアルキルエステル類などのノニ
オン性界面活性剤である。特に好ましくは、上記のアニ
オン性界面活性剤である。界面活性剤の具体例としては
例えば特願平5−277011号の32〜46頁に記載
の1〜32の化合物が挙げられるがこれらに限定される
ものではない。アニオン性活性剤及び/又はノニオン性
活性剤の使用量は、活性剤の種類或いは前記染料の分散
液条件などによって一様ではないが、通常、染料1g当
たり0.1〜2000mgが好ましく、更に好ましくは
0.5〜1000mgでよく、特に好ましくは1〜50
0mgでよい。
【0158】染料の分散液での濃度としては、0.01
〜50重量%となるように使用されることが好ましく、
更に好ましくは0.1〜30重量%である。界面活性剤
の添加位置は、染料の分散開始前に添加するのがよく、
また必要によっては分散終了後に更に染料分散液に添加
してもよい。これらアニオン性活性剤及び/又はノニオ
ン性活性剤は、それぞれ単独で使用してもよく、またそ
れぞれ2種以上を組み合わせてもよく、更に両者の活性
剤を組み合わせてもよい。
〜50重量%となるように使用されることが好ましく、
更に好ましくは0.1〜30重量%である。界面活性剤
の添加位置は、染料の分散開始前に添加するのがよく、
また必要によっては分散終了後に更に染料分散液に添加
してもよい。これらアニオン性活性剤及び/又はノニオ
ン性活性剤は、それぞれ単独で使用してもよく、またそ
れぞれ2種以上を組み合わせてもよく、更に両者の活性
剤を組み合わせてもよい。
【0159】固体微粒子分散物は平均粒子径が0.01
〜5μmとなるように分散することが好ましく、更に好
ましくは0.01〜1μmであり、特に好ましくは0.
01〜0.5μmである。
〜5μmとなるように分散することが好ましく、更に好
ましくは0.01〜1μmであり、特に好ましくは0.
01〜0.5μmである。
【0160】また、粒子サイズ分布の変動係数として
は、50%以下であることが好ましく、更に好ましくは
40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる固
体微粒子分散物である。ここで、粒子サイズ分布の変動
係数は、下記の式で表される値である。
は、50%以下であることが好ましく、更に好ましくは
40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる固
体微粒子分散物である。ここで、粒子サイズ分布の変動
係数は、下記の式で表される値である。
【0161】 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 固体微粒子分散物は分散開始前又は分散終了後に、写真
構成層のバインダーとして用いられる親水性コロイドを
添加することができる。親水性コロイドとしては、ゼラ
チンを用いるのが有利であるが、そのほかにも例えばフ
ェニルカルバミル化ゼラチン、アシル化ゼラチン、フタ
ル化ゼラチン等のゼラチン誘導体、ゼラチンと重合可能
なエチレン基を持つモノマーとのグラフトポリマー、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロー
ス、セルロース硫酸エステルなどのセルロース誘導体、
ポリビニルアルコール、部分酸化されたポリビニルアセ
テート、ポリアクリルアミド、ポリ−N,N−ジメチル
アクリルアミド、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリメ
タクリル酸などの合成親水性ポリマー、寒天、アラビア
ゴム、アルギン酸、アルブミン、カゼインなどを用いる
ことができる。これらは、2種以上組み合わせて使用し
てよい。本発明の固体微粒子分散物に添加する親水性コ
ロイドの添加量としては、重量百分率で0.1〜12%
となるように添加するのが好ましく、更に好ましくは
0.5〜8%である。
構成層のバインダーとして用いられる親水性コロイドを
添加することができる。親水性コロイドとしては、ゼラ
チンを用いるのが有利であるが、そのほかにも例えばフ
ェニルカルバミル化ゼラチン、アシル化ゼラチン、フタ
ル化ゼラチン等のゼラチン誘導体、ゼラチンと重合可能
なエチレン基を持つモノマーとのグラフトポリマー、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロー
ス、セルロース硫酸エステルなどのセルロース誘導体、
ポリビニルアルコール、部分酸化されたポリビニルアセ
テート、ポリアクリルアミド、ポリ−N,N−ジメチル
アクリルアミド、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリメ
タクリル酸などの合成親水性ポリマー、寒天、アラビア
ゴム、アルギン酸、アルブミン、カゼインなどを用いる
ことができる。これらは、2種以上組み合わせて使用し
てよい。本発明の固体微粒子分散物に添加する親水性コ
ロイドの添加量としては、重量百分率で0.1〜12%
となるように添加するのが好ましく、更に好ましくは
0.5〜8%である。
【0162】固体微粒子分散物は写真材料を構成する層
例えばハロゲン化銀乳剤層、乳剤層上層、乳剤層下層、
保護層、支持体下塗層、バッキング層などの層にも用い
ることができる。特にハレーション防止効果を高めるに
は、支持体と乳剤層の間の層、又は乳剤層とは反対側の
構成層に添加されるのが好ましい。また特にセーフライ
ト性向上の効果を高めるには、乳剤層の上側の層に添加
されるのが好ましい。
例えばハロゲン化銀乳剤層、乳剤層上層、乳剤層下層、
保護層、支持体下塗層、バッキング層などの層にも用い
ることができる。特にハレーション防止効果を高めるに
は、支持体と乳剤層の間の層、又は乳剤層とは反対側の
構成層に添加されるのが好ましい。また特にセーフライ
ト性向上の効果を高めるには、乳剤層の上側の層に添加
されるのが好ましい。
【0163】染料の固体微粒子分散物の好ましい使用量
は、染料の種類、写真感光材料の特性などにより一様で
はないが、感光材料1m2当たり1mg〜1gであるこ
とが好ましく、更に好ましくは5〜800mgであり、
特に好ましくは10〜500mgである。
は、染料の種類、写真感光材料の特性などにより一様で
はないが、感光材料1m2当たり1mg〜1gであるこ
とが好ましく、更に好ましくは5〜800mgであり、
特に好ましくは10〜500mgである。
【0164】本発明では感光性乳剤層と支持体の間に、
固体状に分散された染料を含有する感光性乳剤層を有し
ていてもよく、その他の感光性及び非感光性の乳剤層、
非乳剤層(親水性コロイド層、疎水性ポリマー層)にも
固体状に分散された染料を含有することができる。支持
体に対し該乳剤層と反対側の任意の層に含有してもよ
い。また任意の層に水溶性の染料を有してもよい。本発
明における固体状に分散された染料の添加量は、露光に
使用する光源の波長領域の少なくとも一部において吸光
度で0.001〜2.0が得られる量であることが好ま
しく、特に好ましくは上記の吸光度が0.005〜1.
5となる量を添加することである。また本発明において
はその他の吸収波長を有する染料を任意の層に併用する
ことができる。
固体状に分散された染料を含有する感光性乳剤層を有し
ていてもよく、その他の感光性及び非感光性の乳剤層、
非乳剤層(親水性コロイド層、疎水性ポリマー層)にも
固体状に分散された染料を含有することができる。支持
体に対し該乳剤層と反対側の任意の層に含有してもよ
い。また任意の層に水溶性の染料を有してもよい。本発
明における固体状に分散された染料の添加量は、露光に
使用する光源の波長領域の少なくとも一部において吸光
度で0.001〜2.0が得られる量であることが好ま
しく、特に好ましくは上記の吸光度が0.005〜1.
5となる量を添加することである。また本発明において
はその他の吸収波長を有する染料を任意の層に併用する
ことができる。
【0165】本発明の感光材料は出力用感光材料として
用いられることが最も効果的であり、光源としてはAr
レーザー、HeNeレーザー、赤色レーザーダイオー
ド、赤外半導体レーザー、赤色LEDレーザーが代表的
であるがその他に、HeCdレーザー等の青色レーザー
等の任意のレーザーを用いることができる。また本発明
の効果はレーザー用出力感材に限らず、撮影用感材や返
し感材等の用途においても効果を発揮する。
用いられることが最も効果的であり、光源としてはAr
レーザー、HeNeレーザー、赤色レーザーダイオー
ド、赤外半導体レーザー、赤色LEDレーザーが代表的
であるがその他に、HeCdレーザー等の青色レーザー
等の任意のレーザーを用いることができる。また本発明
の効果はレーザー用出力感材に限らず、撮影用感材や返
し感材等の用途においても効果を発揮する。
【0166】本発明のハロゲン化銀写真感光材料におい
ては、一般的に知られている硫黄増感、Se、Te増
感、還元増感及び貴金属増感法を適宜選択し併用しても
よい。
ては、一般的に知られている硫黄増感、Se、Te増
感、還元増感及び貴金属増感法を適宜選択し併用しても
よい。
【0167】また化学増感を行わなくてもよい。硫黄増
感剤としてはゼラチン中に含まれる硫黄化合物の他、種
々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、ロー
ダニン類、ポリスルフィド化合物等を用いることができ
る。
感剤としてはゼラチン中に含まれる硫黄化合物の他、種
々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、ロー
ダニン類、ポリスルフィド化合物等を用いることができ
る。
【0168】セレン増感剤としては、トリフェニルセレ
ノホスフィン等が好ましく用いられる。セレン増感剤と
しては広範な種類のセレン化合物を使用することができ
る。
ノホスフィン等が好ましく用いられる。セレン増感剤と
しては広範な種類のセレン化合物を使用することができ
る。
【0169】有用なセレン増感剤としてはコロイドセレ
ン金属、イソセレノシアネート類(例えば、アリルイソ
セレノシアネート等)、セレノ尿素類(例えば、N,N
−ジメチルセレノ尿素、N,N,N′−トリエチルセレ
ノ尿素、N,N,N′−トリメチル−N′−ヘプタフル
オロセレノ尿素、N,N,N′−トリメチル−N′−ヘ
プタフルオロプロピルカルボニルセレノ尿素、N,N,
N′−トリメチル−N′−4−ニトロフェニルカルボニ
ルセレノ尿素等)、セレノケトン類(例えば、セレノア
セトン、セレノアセトフェノン等)、セレノアミド類
(例えば、セレノアセトアミド、N,N−ジメチルセレ
ノベンズアミド等)、セレノカルボン酸類及びセレノエ
ステル類(例えば、2−セレノプロピオン酸、メチル−
3−セレノブチレート等)、セレノフォスフェート類
(例えば、トリ−p−トリセレノフォスフェート等)、
セレナイド類(トリフェニルフォスフィンセレナイド、
ジエチルセレナイド、ジエチルジセレナイド等)が挙げ
られる。特に、好ましいセレン増感剤は、セレノ尿素
類、セレノアミド類、及びセレノケトン類、セレナイド
類である。
ン金属、イソセレノシアネート類(例えば、アリルイソ
セレノシアネート等)、セレノ尿素類(例えば、N,N
−ジメチルセレノ尿素、N,N,N′−トリエチルセレ
ノ尿素、N,N,N′−トリメチル−N′−ヘプタフル
オロセレノ尿素、N,N,N′−トリメチル−N′−ヘ
プタフルオロプロピルカルボニルセレノ尿素、N,N,
N′−トリメチル−N′−4−ニトロフェニルカルボニ
ルセレノ尿素等)、セレノケトン類(例えば、セレノア
セトン、セレノアセトフェノン等)、セレノアミド類
(例えば、セレノアセトアミド、N,N−ジメチルセレ
ノベンズアミド等)、セレノカルボン酸類及びセレノエ
ステル類(例えば、2−セレノプロピオン酸、メチル−
3−セレノブチレート等)、セレノフォスフェート類
(例えば、トリ−p−トリセレノフォスフェート等)、
セレナイド類(トリフェニルフォスフィンセレナイド、
ジエチルセレナイド、ジエチルジセレナイド等)が挙げ
られる。特に、好ましいセレン増感剤は、セレノ尿素
類、セレノアミド類、及びセレノケトン類、セレナイド
類である。
【0170】セレン増感剤の使用量は、使用するセレン
化合物、ハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等により変わ
るが一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-4モ
ル程度を用いる。セレン増感剤を用いる化学熟成の温度
は40〜90℃の範囲が好ましく、より好ましくは45
℃以上、80℃以下である。またpHは4〜9、pAg
は6〜9.5の範囲が好ましい。
化合物、ハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等により変わ
るが一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-4モ
ル程度を用いる。セレン増感剤を用いる化学熟成の温度
は40〜90℃の範囲が好ましく、より好ましくは45
℃以上、80℃以下である。またpHは4〜9、pAg
は6〜9.5の範囲が好ましい。
【0171】これらの増感剤の添加方法としては、水溶
性であれば、そのまま添加できるが、水に難溶性の場
合、様々な方法を採用することができる。例えば硫黄増
感剤及び又はセレン増感剤及び又はテルル増感剤を、ゼ
ラチン溶液と予め十分混合して添加する方法がある。或
いは増感剤が溶解する低沸点有機溶媒に溶解後、界面活
性剤存在下で乳化分散して添加する方法も採用できる。
この方法の時は、乳化分散後に低沸点有機溶媒を除去し
た方が好ましい。更に特開平4−140739号に開示
されている方法で、水不溶性でかつ有機溶媒可溶性の重
合体との混合溶液の乳化分散物の形態で添加する方法も
可能である。また、高速インペラー分散、サンドミル分
散、超音波分散、ボールミル分散などにより平均粒子径
が0.01から6μmまで任意に分散する方法も採用で
きる。貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもの
で、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金
属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩を含有
しても差支えない。
性であれば、そのまま添加できるが、水に難溶性の場
合、様々な方法を採用することができる。例えば硫黄増
感剤及び又はセレン増感剤及び又はテルル増感剤を、ゼ
ラチン溶液と予め十分混合して添加する方法がある。或
いは増感剤が溶解する低沸点有機溶媒に溶解後、界面活
性剤存在下で乳化分散して添加する方法も採用できる。
この方法の時は、乳化分散後に低沸点有機溶媒を除去し
た方が好ましい。更に特開平4−140739号に開示
されている方法で、水不溶性でかつ有機溶媒可溶性の重
合体との混合溶液の乳化分散物の形態で添加する方法も
可能である。また、高速インペラー分散、サンドミル分
散、超音波分散、ボールミル分散などにより平均粒子径
が0.01から6μmまで任意に分散する方法も採用で
きる。貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもの
で、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金
属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩を含有
しても差支えない。
【0172】還元増感剤としては第一錫塩、アミン類、
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
【0173】酸化剤また、本発明においては、感光材料
の製造工程において銀に対する酸化剤を使用することが
できる。本発明において用いることができる酸化剤とし
ては無機酸化剤として例えば、過酸化水素(水)、過酸
化水素の付加物(例えばNaBO2・H202・3H2O、
2NaCO3・3H2O2、Na4P2O7・2H2O2、2N
a2SO4・H2O2・2H2Oなど)、ペルオキシ酸塩
(例えばK2S2O8、K2C2O6、K4P2O8など)、ペ
ルオキシ錯体化合物(例えばK2[Ti(O2)C2O4]
・3H2O、4K2SO4・Ti(O2)・OH・SO4・
2H2O、Na2[VO(O2)(C2O4)2]・6H2O
など)、過マンガン酸塩(例えばKMnO4など)、ク
ロム酸塩(例えばK2CrOなど)などの酸素酸塩、沃
度や臭素などのハロゲン元素、過ハロゲン酸塩(例えば
過沃素酸カリウム)、高原子価の金属塩(例えばフェリ
シアン化カリウムなど)及びチオスルフォン酸塩などが
ある。
の製造工程において銀に対する酸化剤を使用することが
できる。本発明において用いることができる酸化剤とし
ては無機酸化剤として例えば、過酸化水素(水)、過酸
化水素の付加物(例えばNaBO2・H202・3H2O、
2NaCO3・3H2O2、Na4P2O7・2H2O2、2N
a2SO4・H2O2・2H2Oなど)、ペルオキシ酸塩
(例えばK2S2O8、K2C2O6、K4P2O8など)、ペ
ルオキシ錯体化合物(例えばK2[Ti(O2)C2O4]
・3H2O、4K2SO4・Ti(O2)・OH・SO4・
2H2O、Na2[VO(O2)(C2O4)2]・6H2O
など)、過マンガン酸塩(例えばKMnO4など)、ク
ロム酸塩(例えばK2CrOなど)などの酸素酸塩、沃
度や臭素などのハロゲン元素、過ハロゲン酸塩(例えば
過沃素酸カリウム)、高原子価の金属塩(例えばフェリ
シアン化カリウムなど)及びチオスルフォン酸塩などが
ある。
【0174】また、有機酸化剤としては、p−キノンな
どのキノン類、過酢酸や過安息香酸などの有機過酸化
物、活性ハロゲンを放出する化合物(例えばN−ブロム
サクシンイミド、クロラミンT、クロラミンBなど)が
例として挙げられる。特に好ましい酸化剤は、オゾン、
過酸化水素及びその付加物、ハロゲン元素の無機酸化
剤、キノン類及び活性ハロゲンを放出する有機酸化剤で
ある。
どのキノン類、過酢酸や過安息香酸などの有機過酸化
物、活性ハロゲンを放出する化合物(例えばN−ブロム
サクシンイミド、クロラミンT、クロラミンBなど)が
例として挙げられる。特に好ましい酸化剤は、オゾン、
過酸化水素及びその付加物、ハロゲン元素の無機酸化
剤、キノン類及び活性ハロゲンを放出する有機酸化剤で
ある。
【0175】本発明に用いられる銀に対する酸化剤の添
加量はハロゲン化銀1モル当たり、10-7〜10-1モル
添加するのが好ましい。更に好ましいのは10-6〜10
-2モルであり、特に好ましいのは10-5〜10-3モルで
ある。
加量はハロゲン化銀1モル当たり、10-7〜10-1モル
添加するのが好ましい。更に好ましいのは10-6〜10
-2モルであり、特に好ましいのは10-5〜10-3モルで
ある。
【0176】本発明に用いられる銀に対する酸化剤を化
学増感工程中に添加せしめるには、写真乳剤に添加剤を
加える場合に通常用いられる方法が適用できる。例え
ば、水溶性の化合物は適当な濃度の水溶液とし、水不溶
性又は難溶性の化合物は水と混和できる適当な有機溶
媒、例えばアルコール類、グリコール類、ケトン類、エ
ステル類、アミド類などの中で、写真特性に悪影響を与
えない溶媒に溶解し、添加することができる。また、固
体分散状態で添加することもできる。
学増感工程中に添加せしめるには、写真乳剤に添加剤を
加える場合に通常用いられる方法が適用できる。例え
ば、水溶性の化合物は適当な濃度の水溶液とし、水不溶
性又は難溶性の化合物は水と混和できる適当な有機溶
媒、例えばアルコール類、グリコール類、ケトン類、エ
ステル類、アミド類などの中で、写真特性に悪影響を与
えない溶媒に溶解し、添加することができる。また、固
体分散状態で添加することもできる。
【0177】本発明に用いられる銀に対する酸化剤の添
加時期はハロゲン化感材量の製造工程の何れの時期でも
よいが、好ましい時期はハロゲン化銀粒子の調製工程か
ら支持体上に塗布を行う直前までの工程である。
加時期はハロゲン化感材量の製造工程の何れの時期でも
よいが、好ましい時期はハロゲン化銀粒子の調製工程か
ら支持体上に塗布を行う直前までの工程である。
【0178】本発明において、ハロゲン化銀乳剤中のハ
ロゲン化銀のハロゲン組成は、純塩化銀、60モル%以
上の塩化銀を含む塩臭化銀又は60モル%以上の塩化銀
を含む塩沃臭化銀であることが好ましい。ハロゲン化銀
の平均粒径は0.7μm以下であることが好ましく、特
に0.5〜0.1μmが好ましい。平均粒径とは、写真
科学の分野の専門家には常用されており、容易に理解さ
れる用語である。粒径とは、粒子が球状又は球に近似で
きる粒子の場合には粒子直径を意味する。粒子が立方体
である場合には球に換算し、その球の直径を粒径とす
る。平均粒径を求める方法の詳細については、C.E.
K.Mees&T.H.James著:The the
ory of the photographic p
rocess,第3版,36〜43頁(1966年Mc
millan社刊)を参照すればよい。
ロゲン化銀のハロゲン組成は、純塩化銀、60モル%以
上の塩化銀を含む塩臭化銀又は60モル%以上の塩化銀
を含む塩沃臭化銀であることが好ましい。ハロゲン化銀
の平均粒径は0.7μm以下であることが好ましく、特
に0.5〜0.1μmが好ましい。平均粒径とは、写真
科学の分野の専門家には常用されており、容易に理解さ
れる用語である。粒径とは、粒子が球状又は球に近似で
きる粒子の場合には粒子直径を意味する。粒子が立方体
である場合には球に換算し、その球の直径を粒径とす
る。平均粒径を求める方法の詳細については、C.E.
K.Mees&T.H.James著:The the
ory of the photographic p
rocess,第3版,36〜43頁(1966年Mc
millan社刊)を参照すればよい。
【0179】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく平
板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その他
何れの形状でもよい。又、粒径分布は狭い方が好まし
く、特に平均粒径の±40%の粒径域内に全粒子数の9
0%、望ましくは95%が入るような、いわゆる単分散
乳剤が好ましい。
板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その他
何れの形状でもよい。又、粒径分布は狭い方が好まし
く、特に平均粒径の±40%の粒径域内に全粒子数の9
0%、望ましくは95%が入るような、いわゆる単分散
乳剤が好ましい。
【0180】本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲ
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどの何れを用いてもよい。粒子を
銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆
混合法)を用いることもできる。同時混合法の一つの形
式としてハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一
定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブルジ
ェット法を用いることができ、この方法によると、結晶
形が規則的で粒径が均一に近いハロゲン化銀乳剤が得ら
れる。
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどの何れを用いてもよい。粒子を
銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆
混合法)を用いることもできる。同時混合法の一つの形
式としてハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一
定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブルジ
ェット法を用いることができ、この方法によると、結晶
形が規則的で粒径が均一に近いハロゲン化銀乳剤が得ら
れる。
【0181】ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化
銀粒子は粒子を形成する過程又は成長させる過程の少な
くとも1つの過程でカドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリ
ウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩、ルテニウム塩、オ
スニウム塩、鉄塩、銅塩、白金塩、パラジウム塩等の周
期律表の3族から13族の元素を含む錯塩を添加するこ
とが好ましい。これらの錯塩の配位子としては、ハロゲ
ン原子、ニトロシル基、シアノ基、アコ基、アルキル
基、擬ハロゲン基、アルコキシ基、アンモニウム基、及
びこれらの任意の組み合わせなどを用いることができ
る。またハロゲン化銀粒子の表面は水溶性ハロゲン化
物、或いはハロゲン化銀微粒子を用いてハロゲン組成を
制御することができる。この手法は当業界においてはコ
ンバージョンといわれ、広く知られている。
銀粒子は粒子を形成する過程又は成長させる過程の少な
くとも1つの過程でカドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリ
ウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩、ルテニウム塩、オ
スニウム塩、鉄塩、銅塩、白金塩、パラジウム塩等の周
期律表の3族から13族の元素を含む錯塩を添加するこ
とが好ましい。これらの錯塩の配位子としては、ハロゲ
ン原子、ニトロシル基、シアノ基、アコ基、アルキル
基、擬ハロゲン基、アルコキシ基、アンモニウム基、及
びこれらの任意の組み合わせなどを用いることができ
る。またハロゲン化銀粒子の表面は水溶性ハロゲン化
物、或いはハロゲン化銀微粒子を用いてハロゲン組成を
制御することができる。この手法は当業界においてはコ
ンバージョンといわれ、広く知られている。
【0182】ハロゲン化銀粒子は、内部から表面まで均
一であってもよいし、ハロゲン組成、ドープ剤種及び
量、格子欠陥の分布などが異なる複数の層からなってい
てもよい。本発明においては、ハロゲン化銀粒子として
は、粒径、感度、晶癖、感光波長、ハロゲン組成、単分
散度、ドーピング剤の量及び種類、電位、pH、脱塩方
法等の製造条件、表面状態、化学増感状態などが異なる
複数の種類の粒子を併用することができる。その場合、
これらのハロゲン化銀粒子は同一の層に含有されてもよ
いし、複数の異なった層に含有されてもよい。
一であってもよいし、ハロゲン組成、ドープ剤種及び
量、格子欠陥の分布などが異なる複数の層からなってい
てもよい。本発明においては、ハロゲン化銀粒子として
は、粒径、感度、晶癖、感光波長、ハロゲン組成、単分
散度、ドーピング剤の量及び種類、電位、pH、脱塩方
法等の製造条件、表面状態、化学増感状態などが異なる
複数の種類の粒子を併用することができる。その場合、
これらのハロゲン化銀粒子は同一の層に含有されてもよ
いし、複数の異なった層に含有されてもよい。
【0183】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはRD17643,22〜23頁(197
8年12月)に記載もしくは引用された文献に記載され
ている。
ては、詳しくはRD17643,22〜23頁(197
8年12月)に記載もしくは引用された文献に記載され
ている。
【0184】本発明のハロゲン化銀乳剤は、増感色素に
より所望の波長に分光増感できる。用いることができる
増感色素には、シアニン色素、メロシアニン色素、複合
シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシ
アニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミ
オキソノール色素が包含される。これらの色素類には、
塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常利用される
核の何れをも適用できる。即ち、ピロリン核、オキサゾ
リン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、
チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テト
ラゾール核、ピリジン核など;これらの核に脂環式炭化
水素環が融合した核;及びこれらの核に芳香炭化水素環
が融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズインドレ
ニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナフト
オキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾー
ル核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール核、
キノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原子上
に置換されていてもよい。メロシアニン色素又は複合メ
ロシアニン色素にはケトメチレン構造を有する核とし
て、ピラゾリン−5−オン核、チオヒダントイン核、2
−チオオキサゾリジン−2,4−ジオン核、チアゾリジ
ン−2,4−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツー
ル酸核などの5〜6員異節環を適用することができる。
より所望の波長に分光増感できる。用いることができる
増感色素には、シアニン色素、メロシアニン色素、複合
シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシ
アニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素及びヘミ
オキソノール色素が包含される。これらの色素類には、
塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常利用される
核の何れをも適用できる。即ち、ピロリン核、オキサゾ
リン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、
チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テト
ラゾール核、ピリジン核など;これらの核に脂環式炭化
水素環が融合した核;及びこれらの核に芳香炭化水素環
が融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズインドレ
ニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナフト
オキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾー
ル核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール核、
キノリン核などが適用できる。これらの核は炭素原子上
に置換されていてもよい。メロシアニン色素又は複合メ
ロシアニン色素にはケトメチレン構造を有する核とし
て、ピラゾリン−5−オン核、チオヒダントイン核、2
−チオオキサゾリジン−2,4−ジオン核、チアゾリジ
ン−2,4−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツー
ル酸核などの5〜6員異節環を適用することができる。
【0185】具体的にはRD17643(1978年1
2月号)第2・3頁、米国特許第4,425,425
号、同第4,425,426号に記載されているものを
用いることができる。また増感色素は米国特許第3,4
85,634号に記載されている超音波振動を用いて溶
解してもよい。その他に本発明の増感色素を溶解、或い
は分散して乳剤中に添加する方法としては、米国特許第
3,482,981号、同第3,585,195号、同
第3,469,987号、同第3,425,835号、
同第3,342,605号、英国特許第1,271,3
29号、同第1,038,029号、同第1,121,
174号、米国特許第3,660,101号、同第3,
658,546号に記載の方法を用いることができる。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合わせは特に
強色増感の目的でしばしば用いられる。有用な強色増感
を示す色素の組み合わせ及び強色増感を示す物質はRD
17643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項
に記載されている。
2月号)第2・3頁、米国特許第4,425,425
号、同第4,425,426号に記載されているものを
用いることができる。また増感色素は米国特許第3,4
85,634号に記載されている超音波振動を用いて溶
解してもよい。その他に本発明の増感色素を溶解、或い
は分散して乳剤中に添加する方法としては、米国特許第
3,482,981号、同第3,585,195号、同
第3,469,987号、同第3,425,835号、
同第3,342,605号、英国特許第1,271,3
29号、同第1,038,029号、同第1,121,
174号、米国特許第3,660,101号、同第3,
658,546号に記載の方法を用いることができる。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合わせは特に
強色増感の目的でしばしば用いられる。有用な強色増感
を示す色素の組み合わせ及び強色増感を示す物質はRD
17643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項
に記載されている。
【0186】本発明に用いられる感光材料には、感光材
料の製造工程、保存中或いは写真処理中のカブリを防止
し、或いは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合
物を含有させることができる。即ちアゾール類、例えば
ベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニトロ
ベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、
ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール
類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズ
イミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノ
トリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベンゾ
トリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1−
フェニル−5−メルカプトテトラゾール)等;メルカプ
トピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオキ
サゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデン
類、例えばトリアザインデン類、テトラザインデン類
(特に4−ヒドロキシ置換−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン類)、ペンタザインデン類等;ベンゼンチオ
スルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン
酸アミド、臭化カリウム等のようなカブリ防止剤又は安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができ
る。特に好ましくは、N、O、S、Seの何れかを含む
置換もしくは無置換の複素環或いは複素縮合環、水溶性
ハロゲン化物である。
料の製造工程、保存中或いは写真処理中のカブリを防止
し、或いは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合
物を含有させることができる。即ちアゾール類、例えば
ベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニトロ
ベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、
ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール
類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズ
イミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノ
トリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベンゾ
トリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1−
フェニル−5−メルカプトテトラゾール)等;メルカプ
トピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオキ
サゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデン
類、例えばトリアザインデン類、テトラザインデン類
(特に4−ヒドロキシ置換−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン類)、ペンタザインデン類等;ベンゼンチオ
スルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン
酸アミド、臭化カリウム等のようなカブリ防止剤又は安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができ
る。特に好ましくは、N、O、S、Seの何れかを含む
置換もしくは無置換の複素環或いは複素縮合環、水溶性
ハロゲン化物である。
【0187】本発明の写真乳剤及び非感光性の親水性コ
ロイドには無機又は有機の硬膜剤を含有してよい。例え
ばクロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアル
デヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿
素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン
誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビ
ニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒ
ドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチ
ルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニル
スルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化
合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリア
ジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキ
シムコクロル酸等)イソオキサゾール類、ジアルデヒド
澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラ
チン、イソシアネート類、カルボキシル基活性型硬膜剤
等を、単独又は組み合わせて用いることができる。
ロイドには無機又は有機の硬膜剤を含有してよい。例え
ばクロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアル
デヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿
素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン
誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビ
ニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒ
ドロ−s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチ
ルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニル
スルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化
合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリア
ジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキ
シムコクロル酸等)イソオキサゾール類、ジアルデヒド
澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラ
チン、イソシアネート類、カルボキシル基活性型硬膜剤
等を、単独又は組み合わせて用いることができる。
【0188】本発明の感光性乳剤層及び/又は非感光性
の親水性コロイド層には、塗布助剤、帯電防止、滑り性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良など種々の
目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよい。
の親水性コロイド層には、塗布助剤、帯電防止、滑り性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良など種々の
目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよい。
【0189】写真乳剤の結合剤又は保護コロイドとして
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。例えばゼラチン誘導
体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アル
ブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エ
ステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ナトリ
ウム、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポ
リビニルピラゾール等の単一或いは共重合体の如き多種
の合成親水性高分子物質を用いることができる。ゼラチ
ンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用
いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵素分解物
も用いることができる。
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。例えばゼラチン誘導
体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アル
ブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エ
ステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ナトリ
ウム、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポ
リビニルピラゾール等の単一或いは共重合体の如き多種
の合成親水性高分子物質を用いることができる。ゼラチ
ンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用
いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵素分解物
も用いることができる。
【0190】これらのモノマーには水酸基、スルホン
基、カルボキシル基、アミド基等の水溶性基を有しても
よく、また1から4級のアミノ基、ホスホニウム基、脂
肪族、芳香族、−NR1NR2−R3(R1、R2、R3は互
いに異なっていてもよい水素原子、脂肪族基、芳香族
基、スルフィン酸残基、カルボニル基、オキザリル基、
カルバモイル基、アミノ基、スルホニル基、スルホキシ
基、イミノメチレン基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アル
キニルオキシ基、アリールオキシ基等を介して結合する
任意の基)、カチオン基等を有していてもよい。合成方
法としては、通常の合成方法の他、ゼラチンやポリビニ
ルアルコール類等の水溶性有機物の存在下で重合しても
よい。また合成の終了後、ゼラチンやシランカップリン
グ剤でシェリングしてもよい。
基、カルボキシル基、アミド基等の水溶性基を有しても
よく、また1から4級のアミノ基、ホスホニウム基、脂
肪族、芳香族、−NR1NR2−R3(R1、R2、R3は互
いに異なっていてもよい水素原子、脂肪族基、芳香族
基、スルフィン酸残基、カルボニル基、オキザリル基、
カルバモイル基、アミノ基、スルホニル基、スルホキシ
基、イミノメチレン基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アル
キニルオキシ基、アリールオキシ基等を介して結合する
任意の基)、カチオン基等を有していてもよい。合成方
法としては、通常の合成方法の他、ゼラチンやポリビニ
ルアルコール類等の水溶性有機物の存在下で重合しても
よい。また合成の終了後、ゼラチンやシランカップリン
グ剤でシェリングしてもよい。
【0191】本発明に用いられる感光材料には、その他
の種々の添加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑
剤、現像促進剤、オイルなどが挙げられる。
の種々の添加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑
剤、現像促進剤、オイルなどが挙げられる。
【0192】これらの添加剤及び前述の添加剤につい
て、具体的にはRD17643号(前出),22〜31
頁等に記載されたものを用いることができる。
て、具体的にはRD17643号(前出),22〜31
頁等に記載されたものを用いることができる。
【0193】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は少な
くとも2層以上からなる層構成である。重層の場合には
間に中間層などを設けてもよい。また非感光性の乳剤を
有していてもよい。また非乳剤層としては支持体と支持
体に最も近い乳剤層との間、複数の乳剤層の間、支持体
から最も遠い乳剤層の外側に、必要に応じて任意の数の
層を設けることができる。これらの層には、水溶性或い
は非水溶性の染料、イメージワイズ或いは非イメージワ
イズな現像調整(抑制或いは促進)剤、硬調化剤、物性
調整剤等を水溶液、或いは有機溶媒に溶けた状態、又は
固体微粒子状に分散された形態(オイルで保護されてい
てもいなくてもよい)で含有することができる。また乳
剤層は支持体に対して片面であっても両面であってもよ
い。また片面の場合でも反対側に任意の数の親水性或い
は非親水性の層を組み合わせて設けることができる。特
に支持体に対して親水性コロイド層の外側に疎水性ポリ
マーの層を設けると、乾燥性を向上することができる。
くとも2層以上からなる層構成である。重層の場合には
間に中間層などを設けてもよい。また非感光性の乳剤を
有していてもよい。また非乳剤層としては支持体と支持
体に最も近い乳剤層との間、複数の乳剤層の間、支持体
から最も遠い乳剤層の外側に、必要に応じて任意の数の
層を設けることができる。これらの層には、水溶性或い
は非水溶性の染料、イメージワイズ或いは非イメージワ
イズな現像調整(抑制或いは促進)剤、硬調化剤、物性
調整剤等を水溶液、或いは有機溶媒に溶けた状態、又は
固体微粒子状に分散された形態(オイルで保護されてい
てもいなくてもよい)で含有することができる。また乳
剤層は支持体に対して片面であっても両面であってもよ
い。また片面の場合でも反対側に任意の数の親水性或い
は非親水性の層を組み合わせて設けることができる。特
に支持体に対して親水性コロイド層の外側に疎水性ポリ
マーの層を設けると、乾燥性を向上することができる。
【0194】本発明の感光材料において、写真乳剤層そ
の他の層は感光材料に通常用いられる可撓性支持体の片
面又は両面に塗布される。可撓性支持体として有用なも
のは、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリスチ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレ
ナフタレートの合成高分子から成るフィルム(これらは
有色の含量を含んでいてよい)、或いはポリエチレンや
ポリエチレンテレフタレート等の高分子でコーティング
された紙支持体等である。これらの支持体は磁気記録
層、帯電防止層、剥離層を有していてもよい。
の他の層は感光材料に通常用いられる可撓性支持体の片
面又は両面に塗布される。可撓性支持体として有用なも
のは、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリスチ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレ
ナフタレートの合成高分子から成るフィルム(これらは
有色の含量を含んでいてよい)、或いはポリエチレンや
ポリエチレンテレフタレート等の高分子でコーティング
された紙支持体等である。これらの支持体は磁気記録
層、帯電防止層、剥離層を有していてもよい。
【0195】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の画像
形成方法において用いることのできる現像主薬として
は、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロキノン、
クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、2,3
−ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロキノン、イ
ソプロピルハイドロキノン、2,5−ジメチルハイドロ
キノン等)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン
等)、アミノフェノール類(例えばo−アミノフェノー
ル、p−アミノフェノール、N−メチル−o−アミノフ
ェノール、N−メチル−p−アミノフェノール、2,4
−ジアミノフェノール等)、ピロガロール、アスコルビ
ン酸、1−アリール−3−ピラゾリン類(例えば1−
(p−ヒドロキシフェニル)−3−アミノピラゾリン、
1−(p−メチルアミノフェニル)−3−アミノピラゾ
リン、1−(p−アミノフェニル)−3−アミノピラゾ
リン、1−(p−アミノ−N−メチルフェニル)−3−
アミノピラゾリン等)、遷移金属錯塩類(Ti,V,C
r,Mn,Fe,Co,Ni,Cu等の遷移金属の錯塩
であり、これらは現像液として用いるために還元力を有
する形であれば良く、例えばTi3+、V2+、Cr2+、F
e2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、エチレンジ
アミン四酢酸(EDTA)、ジエチレントリアミン五酢
酸(DTPA)等のアミノポリカルボン酸及びその塩、
ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸等のリン酸類
及びその塩)などが挙げられる。
形成方法において用いることのできる現像主薬として
は、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロキノン、
クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、2,3
−ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロキノン、イ
ソプロピルハイドロキノン、2,5−ジメチルハイドロ
キノン等)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン
等)、アミノフェノール類(例えばo−アミノフェノー
ル、p−アミノフェノール、N−メチル−o−アミノフ
ェノール、N−メチル−p−アミノフェノール、2,4
−ジアミノフェノール等)、ピロガロール、アスコルビ
ン酸、1−アリール−3−ピラゾリン類(例えば1−
(p−ヒドロキシフェニル)−3−アミノピラゾリン、
1−(p−メチルアミノフェニル)−3−アミノピラゾ
リン、1−(p−アミノフェニル)−3−アミノピラゾ
リン、1−(p−アミノ−N−メチルフェニル)−3−
アミノピラゾリン等)、遷移金属錯塩類(Ti,V,C
r,Mn,Fe,Co,Ni,Cu等の遷移金属の錯塩
であり、これらは現像液として用いるために還元力を有
する形であれば良く、例えばTi3+、V2+、Cr2+、F
e2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、エチレンジ
アミン四酢酸(EDTA)、ジエチレントリアミン五酢
酸(DTPA)等のアミノポリカルボン酸及びその塩、
ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸等のリン酸類
及びその塩)などが挙げられる。
【0196】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法において用いられる現像液には、実質的にジヒドロ
キシベンゼン系化合物を含有せずともよい。この場合、
下記一般式(A)で表される化合物が含有されることが
好ましい。
方法において用いられる現像液には、実質的にジヒドロ
キシベンゼン系化合物を含有せずともよい。この場合、
下記一般式(A)で表される化合物が含有されることが
好ましい。
【0197】
【化48】
【0198】上記一般式(A)においてR1、R2は各々、
独立して置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換
のアミノ基、置換又は無置換のアルキルチオ基を表し、
R1、R2は互いに結合して環を形成してもよい。kは0
又は1を表し、kが1のときXは−CO−又は−CS−
基を表す。M1、M2は各々水素原子又はアルカリ金属原
子を表す。
独立して置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換
のアミノ基、置換又は無置換のアルキルチオ基を表し、
R1、R2は互いに結合して環を形成してもよい。kは0
又は1を表し、kが1のときXは−CO−又は−CS−
基を表す。M1、M2は各々水素原子又はアルカリ金属原
子を表す。
【0199】前記一般式(A)で示される化合物におい
て、R1とR2が互いに結合して環を形成した下記一般式
(A−a)で示される化合物が好ましい。
て、R1とR2が互いに結合して環を形成した下記一般式
(A−a)で示される化合物が好ましい。
【0200】
【化49】
【0201】上記一般式(A−a)において、R3は水素
原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換の
アリール基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は非置
換のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミド
基、スルホンアミド基を表し、Y1はO又はSを表し、
Y2はO、S又はNR4を表す。R4は置換又は無置換の
アルキル基、置換又は無置換のアリール基を表す。
M1、M2は各々、水素原子又はアルカリ金属原子を表
す。
原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換の
アリール基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は非置
換のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミド
基、スルホンアミド基を表し、Y1はO又はSを表し、
Y2はO、S又はNR4を表す。R4は置換又は無置換の
アルキル基、置換又は無置換のアリール基を表す。
M1、M2は各々、水素原子又はアルカリ金属原子を表
す。
【0202】上記アルキル基の置換基の例としては、ハ
ロゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル基、
炭素数6〜20のアリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル基等)、複素環基(例えば2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル基、キノリジニル基、N,N′−ジエチ
ルピラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭素数1〜20
のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、
炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェノキシ
基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基(例えば
アリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキニルオキ
シ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環オキシ基
(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜26のアシル
アミノ基(例えばアセチルアミノ、ヘプチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ基等)、アミノ基(例えばアミノ、メ
チルアミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ基等)
などが挙げられる。
ロゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル基、
炭素数6〜20のアリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル基等)、複素環基(例えば2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル基、キノリジニル基、N,N′−ジエチ
ルピラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭素数1〜20
のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、
炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェノキシ
基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基(例えば
アリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキニルオキ
シ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環オキシ基
(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜26のアシル
アミノ基(例えばアセチルアミノ、ヘプチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ基等)、アミノ基(例えばアミノ、メ
チルアミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ基等)
などが挙げられる。
【0203】上記アミノ基の置換基の例としては、ハロ
ゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル基、炭
素数6〜20のアリール基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基等)、炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチ
ル、エチル、ブチル、シクロヘキシル、イソプロピル、
ドデシル基等)、複素環基(例えば2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジル基、キノリジニル基、N,N′−
ジエチルピラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭素数1
〜20のアルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ基
等)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェ
ノキシ基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基
(例えばアリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキ
ニルオキシ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環
オキシ基(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜20
のアシル基(例えばアセチル基、ヘプチル基、プロピオ
ニル基等)などが挙げられる。
ゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル基、炭
素数6〜20のアリール基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基等)、炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチ
ル、エチル、ブチル、シクロヘキシル、イソプロピル、
ドデシル基等)、複素環基(例えば2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジル基、キノリジニル基、N,N′−
ジエチルピラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭素数1
〜20のアルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ基
等)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェ
ノキシ基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基
(例えばアリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキ
ニルオキシ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環
オキシ基(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜20
のアシル基(例えばアセチル基、ヘプチル基、プロピオ
ニル基等)などが挙げられる。
【0204】上記アルキルチオ基の置換基の例として
は、ハロゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシ
ル基、炭素数6〜20のアリール基(例えばフェニル
基、ナフチル基等)、複素環基(例えば2,2,6,6
−テトラメチルピペリジル基、キノリジニル基、N,
N′−ジエチルピラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭
素数1〜20のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エト
キシ基等)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(例え
ばフェノキシ基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキ
シ基(例えばアリルオキシ基等)、炭素数1〜20のア
ルキニルオキシ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複
素環オキシ基(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜
26のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ヘプ
チルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アミノ基
(例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジベ
ンジルアミノ基等)などが挙げられる。
は、ハロゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシ
ル基、炭素数6〜20のアリール基(例えばフェニル
基、ナフチル基等)、複素環基(例えば2,2,6,6
−テトラメチルピペリジル基、キノリジニル基、N,
N′−ジエチルピラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭
素数1〜20のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エト
キシ基等)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(例え
ばフェノキシ基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキ
シ基(例えばアリルオキシ基等)、炭素数1〜20のア
ルキニルオキシ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複
素環オキシ基(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜
26のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ヘプ
チルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アミノ基
(例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジベ
ンジルアミノ基等)などが挙げられる。
【0205】上記アリール基の置換基の例としては、ハ
ロゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル基、
炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エチル、
ブチル、シクロヘキシル、イソプロピル、ドデシル基
等)、複素環基(例えば2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル基、キノリジニル基、N,N′−ジエチルピ
ラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭素数1〜20のア
ルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、炭素
数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェノキシ基
等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基(例えばア
リルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキニルオキシ
基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環オキシ基
(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜26のアシル
アミノ基(例えばアセチルアミノ、ヘプチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ基等)、アミノ基(アミノ基、メチル
アミノ基、ジメチルアミノ基、ジベンジルアミノ基等)
などが挙げられる。
ロゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル基、
炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エチル、
ブチル、シクロヘキシル、イソプロピル、ドデシル基
等)、複素環基(例えば2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル基、キノリジニル基、N,N′−ジエチルピ
ラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭素数1〜20のア
ルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、炭素
数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェノキシ基
等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基(例えばア
リルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキニルオキシ
基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環オキシ基
(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜26のアシル
アミノ基(例えばアセチルアミノ、ヘプチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ基等)、アミノ基(アミノ基、メチル
アミノ基、ジメチルアミノ基、ジベンジルアミノ基等)
などが挙げられる。
【0206】上記アルコキシ基の置換基の例としては、
ハロゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル
基、炭素数6〜20のアリール基(例えばフェニル基、
ナフチル基等)、炭素数1〜20のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、ブチル基、シクロヘキシル基、イ
ソプロピル基、ドデシル基等)、複素環基(例えば2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル基、キノリジニル
基、N,N′−ジエチルピラゾリジニル基、ピリジル基
等)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェ
ノキシ基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基
(例えばアリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキ
ニルオキシ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環
オキシ基(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜26
のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ヘプチル
アミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アミノ基(アミ
ノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ
基等)などがあげられる。
ハロゲン原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル
基、炭素数6〜20のアリール基(例えばフェニル基、
ナフチル基等)、炭素数1〜20のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、ブチル基、シクロヘキシル基、イ
ソプロピル基、ドデシル基等)、複素環基(例えば2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル基、キノリジニル
基、N,N′−ジエチルピラゾリジニル基、ピリジル基
等)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェ
ノキシ基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基
(例えばアリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキ
ニルオキシ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環
オキシ基(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜26
のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ヘプチル
アミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アミノ基(アミ
ノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ
基等)などがあげられる。
【0207】上記スルホ基、カルボキシル基、アミド
基、スルホンアミド基の置換基の例としては、ハロゲン
原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル基、アルカ
リ金属基(例えばナトリウム、カリウム等)、炭素数6
〜20のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基
等)、炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エ
チル、ブチル、シクロヘキシル、イソプロピル、ドデシ
ル基等)、複素環基(例えば2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル基、キノリジニル基、N,N′−ジエチ
ルピラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭素数1〜20
のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、
炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェノキシ
基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基(例えば
アリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキニルオキ
シ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環オキシ基
(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜26のアシル
アミノ基(例えばアセチルアミノ、ヘプチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ基等)、アミノ基(アミノ、メチルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ基等)などが
挙げられる。
基、スルホンアミド基の置換基の例としては、ハロゲン
原子(例えばCl、Br等)、ヒドロキシル基、アルカ
リ金属基(例えばナトリウム、カリウム等)、炭素数6
〜20のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基
等)、炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エ
チル、ブチル、シクロヘキシル、イソプロピル、ドデシ
ル基等)、複素環基(例えば2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル基、キノリジニル基、N,N′−ジエチ
ルピラゾリジニル基、ピリジル基等)、炭素数1〜20
のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、
炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えばフェノキシ
基等)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ基(例えば
アリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキニルオキ
シ基(例えばプロパギルオキシ基等)、複素環オキシ基
(例えばピリジルオキシ基)、炭素数1〜26のアシル
アミノ基(例えばアセチルアミノ、ヘプチルアミノ、プ
ロピオニルアミノ基等)、アミノ基(アミノ、メチルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ基等)などが
挙げられる。
【0208】次に前記一般式(A)又は一般式(A−
a)で表される化合物例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
a)で表される化合物例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
【0209】一般式(A)
【0210】
【化50】
【0211】
【化51】
【0212】一般式(A−a)
【0213】
【化52】
【0214】
【化53】
【0215】
【化54】
【0216】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸又はそれらから誘導される誘
導体であり、市販品として入手できるか或いは容易に公
知の合成法により合成することができる。
ン酸或いはエリソルビン酸又はそれらから誘導される誘
導体であり、市販品として入手できるか或いは容易に公
知の合成法により合成することができる。
【0217】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の画像
形成方法に於いては、実質的にハイドロキノン類(例え
ばハイドロキノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイ
ドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモ
ノスルフォネートなど)を含有しない現像液をもちいる
ことができる。実質的に含有しないとは、現像液1リッ
トル当たり0.01モル未満の量を言う。
形成方法に於いては、実質的にハイドロキノン類(例え
ばハイドロキノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイ
ドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモ
ノスルフォネートなど)を含有しない現像液をもちいる
ことができる。実質的に含有しないとは、現像液1リッ
トル当たり0.01モル未満の量を言う。
【0218】上記の現像主薬は単独もしくは組み合わせ
て使用することもできる。例えば3−ピラゾリドン類と
ジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又はアミノフェノ
ール類とジヒドロキシベンゼン類との組合せ或いは3−
ピラゾリドン類とアスコルビン酸との組合せ、アミノフ
ェノール類とアスコルビン酸との組合せ、3−ピラゾリ
ドン類と遷移金属錯塩類との組合せ、アミノフェノール
類と遷移金属錯塩類との組合せで使用することができ
る。現像主薬は通常0.01〜1.4モル/リットルの
量で用いられるのが好ましい。
て使用することもできる。例えば3−ピラゾリドン類と
ジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又はアミノフェノ
ール類とジヒドロキシベンゼン類との組合せ或いは3−
ピラゾリドン類とアスコルビン酸との組合せ、アミノフ
ェノール類とアスコルビン酸との組合せ、3−ピラゾリ
ドン類と遷移金属錯塩類との組合せ、アミノフェノール
類と遷移金属錯塩類との組合せで使用することができ
る。現像主薬は通常0.01〜1.4モル/リットルの
量で用いられるのが好ましい。
【0219】本発明においては、銀スラッジ防止剤とし
て特公昭62−4702号、特開平3−51844号、
同4−26838号、同4−362942号、同1−3
19031号等に記載の化合物が挙げられる。
て特公昭62−4702号、特開平3−51844号、
同4−26838号、同4−362942号、同1−3
19031号等に記載の化合物が挙げられる。
【0220】また、現像廃液は通電して再生することが
できる。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレ
スウール等の電気伝導体又は半導体)を、電解質溶液に
陽極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない電
気伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液槽
と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再生
する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理するこ
ともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用する場合には、用いられ
る現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好まし
い。
できる。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレ
スウール等の電気伝導体又は半導体)を、電解質溶液に
陽極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない電
気伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液槽
と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再生
する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理するこ
ともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用する場合には、用いられ
る現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好まし
い。
【0221】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。
【0222】
【実施例】以下、本発明の効果を実施例によって具体的
に説明するが、本発明はこれによって限定されるもので
はない。
に説明するが、本発明はこれによって限定されるもので
はない。
【0223】実施例1 (ハロゲン化銀乳剤A1の調製)同時混合法を用いて塩
化銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均直径0.0
9μmの塩臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混合時
にK3Rh(N0)4(H 2O)2を銀1モル当たり粒子形
成終了時の銀1モルに対して7×10-8モル、K3Os
Cl6を8×10-6モル添加の存在下、温度40℃でp
H3.0、銀電位(EAg)165mVに保ちながら硝
酸銀水溶液と水溶性ハライド溶液を同時混合した。
化銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均直径0.0
9μmの塩臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混合時
にK3Rh(N0)4(H 2O)2を銀1モル当たり粒子形
成終了時の銀1モルに対して7×10-8モル、K3Os
Cl6を8×10-6モル添加の存在下、温度40℃でp
H3.0、銀電位(EAg)165mVに保ちながら硝
酸銀水溶液と水溶性ハライド溶液を同時混合した。
【0224】このコア粒子に、EAgを食塩で125m
Vに下げて同時混合法を用いてシェルを付けた。その際
ハライド液にK2IrCl6を銀1モル当たり3×10-7
モル、K3RhCl6を9×10-8モル添加した。更に沃
化銀微粒子を用いてKIコンバージョンを行い、得られ
た乳剤は平均直径0.14μmのコア/シェル型単分散
(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀70モル%、
沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からなる)立方晶
の乳剤であった。
Vに下げて同時混合法を用いてシェルを付けた。その際
ハライド液にK2IrCl6を銀1モル当たり3×10-7
モル、K3RhCl6を9×10-8モル添加した。更に沃
化銀微粒子を用いてKIコンバージョンを行い、得られ
た乳剤は平均直径0.14μmのコア/シェル型単分散
(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀70モル%、
沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からなる)立方晶
の乳剤であった。
【0225】ついで特開平2−280139号に記載の
変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニルカルバ
ミルで置換したもので例えば特開平2−280139号
287(3)頁の例示化合物G−8)を使い脱塩した。
脱塩後のEAgは50℃で190mvであった。得られ
た乳剤に、臭化カリウムを銀1モル当たり8.5×10
-4モル及びクエン酸を添加してpH5.6、EAg12
3mvに調整してp−トルエンスルホニルクロルアミド
ナトリウム3水和物(クロラミンT)を1×10-3モル
を添加して反応させた後、固体に分散した無機硫黄(S
8)化合物(0.01%のメタノール溶液を等量の水と
混合し、10分間晶析させた後添加。平均粒径約300
nm)及び、塩化金酸を1.5×10-5モルを添加して
温度55℃で最高感度がでるまで化学熟成を行った後、
40℃に降温したのち、4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあたり
2×10−3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及び沃化カリウム添加を5×
10-3モル添加したのちクエン酸でpHを5.1に調整
した後、増感色素d−1を100mgを加えた。
変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニルカルバ
ミルで置換したもので例えば特開平2−280139号
287(3)頁の例示化合物G−8)を使い脱塩した。
脱塩後のEAgは50℃で190mvであった。得られ
た乳剤に、臭化カリウムを銀1モル当たり8.5×10
-4モル及びクエン酸を添加してpH5.6、EAg12
3mvに調整してp−トルエンスルホニルクロルアミド
ナトリウム3水和物(クロラミンT)を1×10-3モル
を添加して反応させた後、固体に分散した無機硫黄(S
8)化合物(0.01%のメタノール溶液を等量の水と
混合し、10分間晶析させた後添加。平均粒径約300
nm)及び、塩化金酸を1.5×10-5モルを添加して
温度55℃で最高感度がでるまで化学熟成を行った後、
40℃に降温したのち、4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあたり
2×10−3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及び沃化カリウム添加を5×
10-3モル添加したのちクエン酸でpHを5.1に調整
した後、増感色素d−1を100mgを加えた。
【0226】(ハロゲン化銀乳剤A2の調製)ハロゲン
化銀乳剤A1に対し、シェル部のK3RhCl6を6×1
0-8モルとした以外は全く同様にしてハロゲン化銀乳剤
A2を調製した。同一の化学増感を行った場合、A2の
乳剤はA1の乳剤よりも40%感度が高い。
化銀乳剤A1に対し、シェル部のK3RhCl6を6×1
0-8モルとした以外は全く同様にしてハロゲン化銀乳剤
A2を調製した。同一の化学増感を行った場合、A2の
乳剤はA1の乳剤よりも40%感度が高い。
【0227】(ヒドラジン誘導体を含有する印刷製版ス
キャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)特開平5
−241264号実施例1記載の帯電防止加工を施した
厚さ100μmの透明ポリエチレンテレフタレート支持
体上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量が
0.55g/m2になるように、その上に処方2のハロ
ゲン化銀乳剤層1を銀量1.73g/m2、ゼラチン量
が0.66g/m2になるように、更にその上層に処方
3のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.73g/m2、ゼ
ラチン量が0.66g/m2になるように、更に下記処
方4の乳剤保護層塗布液をゼラチン量が1.3g/m2
になるよう同時重層塗布した。また反対側の下引層上に
は下記処方6のバッキング層をゼラチン量が2.3g/
m2になるように、その上に下記処方7のバッキング保
護層をゼラチン量が0.7g/m2になるように乳剤層
側とカーテン塗布方式で200m/minの速さで乳剤
層側を同時重層塗布して冷却セットした後、引き続きバ
ッキング層側を同時重層塗布し−1℃で冷却セットし、
両面を同時に乾燥することで試料を得た。
キャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)特開平5
−241264号実施例1記載の帯電防止加工を施した
厚さ100μmの透明ポリエチレンテレフタレート支持
体上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量が
0.55g/m2になるように、その上に処方2のハロ
ゲン化銀乳剤層1を銀量1.73g/m2、ゼラチン量
が0.66g/m2になるように、更にその上層に処方
3のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.73g/m2、ゼ
ラチン量が0.66g/m2になるように、更に下記処
方4の乳剤保護層塗布液をゼラチン量が1.3g/m2
になるよう同時重層塗布した。また反対側の下引層上に
は下記処方6のバッキング層をゼラチン量が2.3g/
m2になるように、その上に下記処方7のバッキング保
護層をゼラチン量が0.7g/m2になるように乳剤層
側とカーテン塗布方式で200m/minの速さで乳剤
層側を同時重層塗布して冷却セットした後、引き続きバ
ッキング層側を同時重層塗布し−1℃で冷却セットし、
両面を同時に乾燥することで試料を得た。
【0228】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.55g/m2 サポニン 56.5mg/m2 固体分散染料AD−8 10mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム(平均分子量500000) 10mg/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1の組成) ハロゲン化銀乳剤A1 銀量1.73g/m2相当量 ヒドラジン化合物H−1 2×10-3モル/Ag1モル当たり 化合物a 100mg/m2 2−ピリジノール 1mg/m2 ポリマーラテックスL1(粒径0.25μm) 0.25g/m2 サポニン 20mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 2mg/m2 2−メルカプトピリミジン 1mg/m2 没食子酸n−プロピルエステル 25mg/m2 アスコルビン酸 20mg/m2 EDTA 25mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 塗布液pHは5.2であった。
【0229】 処方3(ハロゲン化銀乳剤層2の組成) ハロゲン化銀乳剤A2 銀量1.73g/m2相当量 ヒドラジン化合物H−25 4×10-3モル/Aglモル 造核促進剤(例示Nc−14) 7mg/m2 4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン 4×10-3モル/Aglモル サポニン 20mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 1mg/m2 ニコチン酸アミド 1mg/m2 没食子酸n−プロピルエステル 25mg/m2 メルカプトピリミジン 1mg/m2 EDTA 50mg/m2 染料f5 15mg/m2 ポリマーラテックスL2 0.25g/m2 コロイド状シリカ(平均粒径0.05μm) 150mg/m2 デキストリン化合物(東和化成;PO−20) 0.3g/m2 ゼラチンはフタル化ゼラチンを用い、塗布液pHは4.
8であった。
8であった。
【0230】 処方4(乳剤保護層組成1) ゼラチン 0.6g/m2 界面活性剤S1 20mg/m2 化合物a 50mg/m2 ポリマーラテックスL3(平均粒径0.1μm) 0.25g/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m2 処方5(乳剤保護層組成2) ゼラチン 0.7g/m2 造核促進剤(AM−1) 14mg/m2 無機マット剤(平均粒径4.0μmの不定形シリカ富士デビソン社製) 表1に示す量 有機マット剤(平均粒径2.8μmの単分散ポリメチルメタクリレート) 表1に示す量 (有機マット剤はナフタレンスルホン酸を活性剤としたゼラチン分散物として 用いたが、表の量はポリマー粒子成分としての添加量である。) 界面活性剤S1 20mg/m2 レドックス化合物R1 30mg/m2 化合物a 30mg/m2 ポリマーラテックスL3(平均粒径0.1μm) 0.25g/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m2 レドックス化合物R1 30mg/m2 硬膜剤h2 80mg/m2 硬膜剤1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m2 なお、レドックス化合物は下記分散方法で分散して使用
した。
した。
【0231】 (レドックス化合物の分散方法) レドックス化合物 2g 酢酸エチル 80g 上記処方でレドックス化合物を溶解し、下記ゼラチン液
と混合する。
と混合する。
【0232】 10%TK−AX(竹本油脂〔株〕製) 6g 15%水性ゼラチン 180g 混合液を40℃でホモジナイザーにて5分間予備分散し
た後、本分散に入り130mmHgまで減圧し酢酸エチ
ルを除去する。水で280gに仕上げる。
た後、本分散に入り130mmHgまで減圧し酢酸エチ
ルを除去する。水で280gに仕上げる。
【0233】 処方6(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 5mg/m2 ポリマーラテックスL4 0.3g/m2 コロイド状シリカ(平均粒径0.05μm) 100mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 染料f1 65mg/m2 染料f2 15mg/m2 染料f3 100mg/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 10mg/m2 硬膜剤h3 100mg/m2 水酸化亜鉛 50mg/m2 化合物D 10mg/m2 EDTA 50mg/m2 処方7(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 平均粒径3μm不定系シリカ 12.5mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤S1 1mg/m2 染料f1 65mg/m2 染料f2 15mg/m2 染料f3 100mg/m2 染料SF−2(固体分散) 20mg/m2 化合物a 50mg/m2 硬膜剤h2 20mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 (固体分散した染料は例示染料SF−2をアルカリに溶
解後、酸基に対し1.2倍等量のクエン酸を加えて酸析
させた。他の染料(実施例2以降のものを含む)はZr
Oビーズで分散して粒径0.1μmの粉体の分散物にし
た。
解後、酸基に対し1.2倍等量のクエン酸を加えて酸析
させた。他の染料(実施例2以降のものを含む)はZr
Oビーズで分散して粒径0.1μmの粉体の分散物にし
た。
【0234】
【化55】
【0235】
【化56】
【0236】
【化57】
【0237】
【化58】
【0238】
【化59】
【0239】
【化60】
【0240】 (現像液組成) 使用液1リットル当たり ジエチレントリアミン5酢酸・5ナトリウム塩 1g 亜硫酸ナトリウム 42.5g 亜硫酸カリウム 17.5g 炭酸カリウム 55g エリソルビン酸 5g ハイドロキノン 20g 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 0.85g 臭化カリウム 4g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.2g 硼酸 8g ジエチレングリコール 40g 8−メルカプトアデニン 0.3g KOHを使用液がpH10.4になる量を加えた。
【0241】 (定着液組成) 使用液1リットル当たり チオ硫酸アンモニウム(70%水溶液) 200ml 亜硫酸ナトリウム 22g 硼酸 9.8g 酢酸ナトリウム・3水和物 34g 酢酸(90%水溶液) 14.5g 酒石酸 3.0g 硫酸アルミニウム(27%水溶液) 25ml 硫酸にて使用液のpHが4.9になるように調整した。
【0242】(処理条件)コニカ〔株〕製自動現像機G
R−960を用いて下記に示す条件で現像処理を行っ
た。
R−960を用いて下記に示す条件で現像処理を行っ
た。
【0243】 (工程) (温度) (時間) 現像 35℃ 30秒 定着 35℃ 20秒 水洗 常温 20秒 スクイズ・乾燥 50℃ 30秒 合計 100秒 (感度、ガンマの評価)露光は光源として633nmの
HeNeレーザーを用いたレーザー感光計で1.5×1
0-7秒で光量変化しながらステップ露光を行い、上記の
現像条件にて処理を行った。得られた現像済み試料をP
DA−65(コニカデジタル濃度計)で測定した。表中
の感度は濃度2.5を与える光量の逆数の相対値で表
し、試料No.1の感度を100とし、数字が大きいほ
ど感度が高いことを表す。ガンマは濃度0.1と濃度
3.2を与える光量で評価した(ガンマという指標は当
業界では広く知られている)。
HeNeレーザーを用いたレーザー感光計で1.5×1
0-7秒で光量変化しながらステップ露光を行い、上記の
現像条件にて処理を行った。得られた現像済み試料をP
DA−65(コニカデジタル濃度計)で測定した。表中
の感度は濃度2.5を与える光量の逆数の相対値で表
し、試料No.1の感度を100とし、数字が大きいほ
ど感度が高いことを表す。ガンマは濃度0.1と濃度
3.2を与える光量で評価した(ガンマという指標は当
業界では広く知られている)。
【0244】(スリキズ耐性評価)得られた試料を20
cm×30cmにして乳剤面を上にして台に貼り、直径
5mmのステンレスの棒で表面をこすったのち現像処理
し、生じた黒化キズの発生本数から次の5段階評価を行
った。5が擦り傷の発生がなく優れており、2以下は実
用に耐えないことを示す。得られた結果を表1に示す。
cm×30cmにして乳剤面を上にして台に貼り、直径
5mmのステンレスの棒で表面をこすったのち現像処理
し、生じた黒化キズの発生本数から次の5段階評価を行
った。5が擦り傷の発生がなく優れており、2以下は実
用に耐えないことを示す。得られた結果を表1に示す。
【0245】
【表1】
【0246】表1の結果から明かなように、本発明の試
料は感度、ガンマを劣化することなく擦り傷耐性が優れ
ることが分かる。
料は感度、ガンマを劣化することなく擦り傷耐性が優れ
ることが分かる。
【0247】実施例2 実施例1の試料No.18において、保護層中のヒドラ
ジン化合物及び造核促進剤を表2のように変えた試料を
作成し、実施例1と同様の評価を行った。得られた結果
を表2に示す。
ジン化合物及び造核促進剤を表2のように変えた試料を
作成し、実施例1と同様の評価を行った。得られた結果
を表2に示す。
【0248】
【表2】
【0249】表2の結果よりヒドラジン化合物もしくは
ヒドラジン化合物と造核促進剤を保護層中に含有した本
発明に係る試料の方が、感度、ガンマ及びスリキズの関
係において優れていることが分かる。
ヒドラジン化合物と造核促進剤を保護層中に含有した本
発明に係る試料の方が、感度、ガンマ及びスリキズの関
係において優れていることが分かる。
【0250】実施例3 実施例1の試料No.1、3、8及び18について最上
層である乳剤保護層2組成中に滑り剤として上記のW1
とコロイド状ルシリカ(平均粒径0.05μm)を表3
のように添加したものを作成し、実施例1と同様の評価
を行った。得られた結果を表3に示す。
層である乳剤保護層2組成中に滑り剤として上記のW1
とコロイド状ルシリカ(平均粒径0.05μm)を表3
のように添加したものを作成し、実施例1と同様の評価
を行った。得られた結果を表3に示す。
【0251】
【表3】
【0252】表3の結果より最上層の保護層中に滑り
剤、コロイダルシリカを加えたもの系の方が、感度、ガ
ンマ及び擦り傷耐性の関係において優れていることが分
かる。
剤、コロイダルシリカを加えたもの系の方が、感度、ガ
ンマ及び擦り傷耐性の関係において優れていることが分
かる。
【0253】
【発明の効果】本発明によれば、感度、ガンマを劣化す
ることなく擦り傷耐性の優れたハロゲン化銀写真感光材
料及びその処理方法を得られた。
ることなく擦り傷耐性の優れたハロゲン化銀写真感光材
料及びその処理方法を得られた。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03C 5/29 501 G03C 5/29 501
Claims (5)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層の感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、該親水性コロイド層中に
ヒドラジン化合物を含有し、かつ該ハロゲン化銀乳剤層
の最外層に少なくとも2層の親水性コロイド層を有し、
そのうちの外側の親水性コロイド層中にマット剤として
平均粒径1.0〜10μmの有機ポリマー粒子の少なく
とも1種と平均粒径1.0〜100μmの少なくとも1
種の無機粒子からなるマット剤を含有し、かつ内側の親
水性コロイド層中にポリマーラテックスを含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項2】 支持体上に少なくとも1層の感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、該親水性コロイド層中に
ヒドラジン化合物と下記一般式〔Na〕、〔Nb〕又は
〔Nc〕で表される化合物の少なくとも1種を含有し、
かつ該ハロゲン化銀乳剤層の最外層に少なくとも2層の
親水性コロイド層を有し、そのうちの外側の親水性コロ
イド層中にマット剤として平均粒径1.0〜10μmの
有機ポリマー粒子の少なくとも1種と平均粒径1.0〜
100μmの少なくとも1種の無機粒子からなるマット
剤を含有し、かつ内側の親水性コロイド層中にポリマー
ラテックスを含有することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料。 【化1】 (一般式〔Na〕においてR1、R2、R3は水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アル
ケニル基、アルキニル基、アリール基、置換アリール基
を表し、R1、R2、R3で環を形成してもよい。一般式
〔Nb〕においてArは置換又は無置換の芳香族基又は
複素環基を表す。R4は水素原子、アルキル基、アルキ
ニル基、アリール基を表すが、ArとR4は連結基で連
結されて環を形成してもよい。一般式〔Nc〕におい
て、QはN又はP原子を表し、R5、R6及びR7は水素
原子、又は置換可能な基を表す。Lはm価の有機基を表
す。R5〜R7及びLはその中の複数の基が互いに結合し
て環を形成してもよい。mは1〜5の整数を表す。Xn-
はn価の陰イオンを表し、nは1から5の整数を表す。
Xn-はLと連結していてもよい。) - 【請求項3】 無機粒子であるマット剤の平均粒径が3
〜100μmであることを特徴とする請求項1又は請求
項2記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項4】 ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイ
ド層中にコロイド状シリカを含有することを特徴とする
請求項1〜3の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。 - 【請求項5】 ハロゲン化銀乳剤層の最外層に少なくと
も1種の滑り剤を含有することを特徴とする請求項1〜
4の何れか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33811996A JPH10177229A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33811996A JPH10177229A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10177229A true JPH10177229A (ja) | 1998-06-30 |
Family
ID=18315097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33811996A Pending JPH10177229A (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10177229A (ja) |
-
1996
- 1996-12-18 JP JP33811996A patent/JPH10177229A/ja active Pending
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