JPH1048791A - ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 ヒドラジン型発色現像主薬を使用した際、現
像時に十分な発色濃度が得られ、かつ良好な色相のイエ
ロー色素を与えるカプラー、これを用いたハロゲン化銀
写真感光材料、およびこれを用いた画像形成方法を提供
する。 【解決手段】 支持体上の写真構成層のいずれかに少な
くとも一種のヒドラジン型発色現像主薬と、特定のカプ
ラー例えば下式の化合物を含有するハロゲン化銀写真感
光材料、およびこれを用いた画像形成方法。
像時に十分な発色濃度が得られ、かつ良好な色相のイエ
ロー色素を与えるカプラー、これを用いたハロゲン化銀
写真感光材料、およびこれを用いた画像形成方法を提供
する。 【解決手段】 支持体上の写真構成層のいずれかに少な
くとも一種のヒドラジン型発色現像主薬と、特定のカプ
ラー例えば下式の化合物を含有するハロゲン化銀写真感
光材料、およびこれを用いた画像形成方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は環境保全、簡易迅速
処理、ドライ処理に対応でき、更に感光材料の保存性、
現像時の発色性に優れ、得られた画像のデジタル処理に
も対応できるハロゲン化銀写真感光材料および、これを
用いた画像形成法に関するものである。
処理、ドライ処理に対応でき、更に感光材料の保存性、
現像時の発色性に優れ、得られた画像のデジタル処理に
も対応できるハロゲン化銀写真感光材料および、これを
用いた画像形成法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】カラー写真感光材料においては、該材料
に露光を与えた後、発色現像することにより酸化された
発色現像主薬とカプラーが反応し、色素画像が形成され
る。この方式においては減色法による色再現法が用いら
れ、青、緑、及び赤を再現する為にはそれぞれ補色の関
係にあるイエロー、マゼンタ、シアンの色画像が形成さ
れる。発色現像は、露光されたカラー写真感光材料をp
−フェニレンジアミン誘導体を溶解したアルカリ水溶液
(発色現像液)中に浸漬することで達成される。しか
し、アルカリ水溶液としたp−フェニレンジアミン誘導
体は不安定で経時劣化を起こしやすく、安定した現像性
能を維持するには発色現像液を頻繁に補充する必要があ
るという問題がある。また、p−フェニレンジアミン誘
導体を含んだ使用済み発色現像液は廃棄処理が煩雑であ
り、上記の頻繁な補充とあいまって、大量に排出される
使用済み発色現像液の廃棄処理は大きな問題となってい
る。このように、発色現像液の低補充、低排出の達成が
強く求められている。
に露光を与えた後、発色現像することにより酸化された
発色現像主薬とカプラーが反応し、色素画像が形成され
る。この方式においては減色法による色再現法が用いら
れ、青、緑、及び赤を再現する為にはそれぞれ補色の関
係にあるイエロー、マゼンタ、シアンの色画像が形成さ
れる。発色現像は、露光されたカラー写真感光材料をp
−フェニレンジアミン誘導体を溶解したアルカリ水溶液
(発色現像液)中に浸漬することで達成される。しか
し、アルカリ水溶液としたp−フェニレンジアミン誘導
体は不安定で経時劣化を起こしやすく、安定した現像性
能を維持するには発色現像液を頻繁に補充する必要があ
るという問題がある。また、p−フェニレンジアミン誘
導体を含んだ使用済み発色現像液は廃棄処理が煩雑であ
り、上記の頻繁な補充とあいまって、大量に排出される
使用済み発色現像液の廃棄処理は大きな問題となってい
る。このように、発色現像液の低補充、低排出の達成が
強く求められている。
【0003】発色現像液の低補充、低排出を解決する有
効な手段の一つとしては、芳香族第一級アミンまたはそ
の前駆体を親水性コロイド層中に内蔵する方法があり、
内蔵可能な芳香族第一級アミン現像主薬またはその前駆
体としては、例えば、米国特許第4,060,418号
等に記載の化合物が挙げられる。しかし、これら芳香族
第一級アミン及びその前駆体は不安定なため、未処理の
感光材料の長期保存または発色現像時にステインが発生
するという欠点を有している。これを改良する手段とし
てスルホニルヒドラジン型現像主薬を親水性コロイド中
に内蔵する方法があり、具体的には欧州特許第545,
491号、同565,165号、等に記載の化合物が挙
げられる。しかしながら、これらの主薬は2当量カプラ
ーを使用した場合には殆ど発色しないという欠点があっ
た。また、これらの主薬に共通の問題として、より発色
性が高く、色相の良いイエローカプラーの開発が望まれ
ていた。
効な手段の一つとしては、芳香族第一級アミンまたはそ
の前駆体を親水性コロイド層中に内蔵する方法があり、
内蔵可能な芳香族第一級アミン現像主薬またはその前駆
体としては、例えば、米国特許第4,060,418号
等に記載の化合物が挙げられる。しかし、これら芳香族
第一級アミン及びその前駆体は不安定なため、未処理の
感光材料の長期保存または発色現像時にステインが発生
するという欠点を有している。これを改良する手段とし
てスルホニルヒドラジン型現像主薬を親水性コロイド中
に内蔵する方法があり、具体的には欧州特許第545,
491号、同565,165号、等に記載の化合物が挙
げられる。しかしながら、これらの主薬は2当量カプラ
ーを使用した場合には殆ど発色しないという欠点があっ
た。また、これらの主薬に共通の問題として、より発色
性が高く、色相の良いイエローカプラーの開発が望まれ
ていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はヒドラ
ジン型発色現像主薬を使用した際、現像時に十分な発色
濃度が得られ、かつ良好な色相のイエロー色素を与える
カプラーおよび、これを用いたハロゲン化銀写真感光材
料、更にはこれを用いた画像形成方法を提供することで
ある。
ジン型発色現像主薬を使用した際、現像時に十分な発色
濃度が得られ、かつ良好な色相のイエロー色素を与える
カプラーおよび、これを用いたハロゲン化銀写真感光材
料、更にはこれを用いた画像形成方法を提供することで
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の構
成によって達成された。 (1)支持体上の写真構成層のいずれかに少なくとも一
種のヒドラジン型発色現像主薬(発色用還元剤)と、少
なくとも一種の下記一般式(1)もしくは一般式(2)
で表わされるカプラーを含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料。
成によって達成された。 (1)支持体上の写真構成層のいずれかに少なくとも一
種のヒドラジン型発色現像主薬(発色用還元剤)と、少
なくとも一種の下記一般式(1)もしくは一般式(2)
で表わされるカプラーを含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料。
【0006】
【化6】
【0007】(式中X21およびX22は各々アルキル基、
アリール基または複素環基を表す。Y 21はアリール基ま
たは複素環基を表す。Z21は水素原子または現像主薬酸
化体とのカップリング反応により離脱し得る基を表す。
X23は>N−とともに含窒素ヘテロ環を形成する有機残
基を表す。) (2)ヒドラジン型発色現像主薬が下記一般式(3)で
表されることを特徴とする前項(1)のハロゲン化銀写
真感光材料。
アリール基または複素環基を表す。Y 21はアリール基ま
たは複素環基を表す。Z21は水素原子または現像主薬酸
化体とのカップリング反応により離脱し得る基を表す。
X23は>N−とともに含窒素ヘテロ環を形成する有機残
基を表す。) (2)ヒドラジン型発色現像主薬が下記一般式(3)で
表されることを特徴とする前項(1)のハロゲン化銀写
真感光材料。
【0008】
【化7】
【0009】(式中R11はアリール基またはヘテロ環基
を表す。R12はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Xは−SO2
−、−CO−、−COCO−、−COO−、−CON
(R13)−、−COCOO−、−COCON(R13)
−、または−SO2N(R13)−基である。またR13は
水素原子またはR12で代表される基である。)
を表す。R12はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Xは−SO2
−、−CO−、−COCO−、−COO−、−CON
(R13)−、−COCOO−、−COCON(R13)
−、または−SO2N(R13)−基である。またR13は
水素原子またはR12で代表される基である。)
【0010】(3)ヒドラジン型発色現像主薬が下記一
般式(4)または(5)で表されることを特徴とする前
項(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
般式(4)または(5)で表されることを特徴とする前
項(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【0011】
【化8】
【0012】(式中Z1はアシル基、カルバモイル基、
アルコキシカルボニル基、またはアリールオキシカルボ
ニル基を表す。Z2はカルバモイル基、アルコキシカル
ボニル基、またはアリールオキシカルボニル基を表す。
X1、X2、X3、X4、X5は水素原子または置換基を表
す。但しX1、X3、X5のハメットの置換基定数のσp
値とX2、X4のハメット置換基定数σm値の和は0.8
0以上、3.80以下である。R3はヘテロ環基を表
す。) (4)一般式(4)または(5)で表される化合物がそ
れぞれ一般式(6)または(7)で表されることを特徴
とする前項(3)のハロゲン化銀写真感光材料。
アルコキシカルボニル基、またはアリールオキシカルボ
ニル基を表す。Z2はカルバモイル基、アルコキシカル
ボニル基、またはアリールオキシカルボニル基を表す。
X1、X2、X3、X4、X5は水素原子または置換基を表
す。但しX1、X3、X5のハメットの置換基定数のσp
値とX2、X4のハメット置換基定数σm値の和は0.8
0以上、3.80以下である。R3はヘテロ環基を表
す。) (4)一般式(4)または(5)で表される化合物がそ
れぞれ一般式(6)または(7)で表されることを特徴
とする前項(3)のハロゲン化銀写真感光材料。
【0013】
【化9】
【0014】(式中R1、R2は水素原子または置換基を
表す。X1、X2、X3、X4、X5は水素原子または置換
基を表す。但しX1、X3、X5のハメットの置換基定数
のσp値とX2、X4のハメット置換基定数σm値の和は
0.80以上、3.80以下である。R3はへテロ環基
を表す。) (5)一般式(6)または(7)で表される化合物がそ
れぞれ一般式(8)または(9)で表されることを特徴
とする前項(4)のハロゲン化銀写真感光材料。
表す。X1、X2、X3、X4、X5は水素原子または置換
基を表す。但しX1、X3、X5のハメットの置換基定数
のσp値とX2、X4のハメット置換基定数σm値の和は
0.80以上、3.80以下である。R3はへテロ環基
を表す。) (5)一般式(6)または(7)で表される化合物がそ
れぞれ一般式(8)または(9)で表されることを特徴
とする前項(4)のハロゲン化銀写真感光材料。
【0015】
【化10】
【0016】(式中R4、R5は水素原子または置換基を
表す。X6、X7、X8、X9、X10は水素原子、シアノ
基、スルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、パーフルオロアルキル基、ハロゲン原
子、アシルオキシ基、アシルチオ基、またはへテロ環基
を表す。但しX6、X8、X10のハメットの置換基定数の
σp値とX7、X9のハメット置換基定数σm値の和は
0.80以上、3.80以下である。Q1はCとともに
含窒素の5ないし8員のヘテロ環を形成するのに必要な
非金属原子群を表す。) (6)前項(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材料を
60℃以上180℃以下で加熱処理することにより現像
を行うことを特徴とする画像形成方法。 (7)前項(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材料を
溶液中で現像処理することを特徴とする画像形成方法。
表す。X6、X7、X8、X9、X10は水素原子、シアノ
基、スルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、パーフルオロアルキル基、ハロゲン原
子、アシルオキシ基、アシルチオ基、またはへテロ環基
を表す。但しX6、X8、X10のハメットの置換基定数の
σp値とX7、X9のハメット置換基定数σm値の和は
0.80以上、3.80以下である。Q1はCとともに
含窒素の5ないし8員のヘテロ環を形成するのに必要な
非金属原子群を表す。) (6)前項(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材料を
60℃以上180℃以下で加熱処理することにより現像
を行うことを特徴とする画像形成方法。 (7)前項(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材料を
溶液中で現像処理することを特徴とする画像形成方法。
【0017】
【発明の実施形態】以下に本発明のカプラーについて詳
しく説明する。−般式(1)で表される化合物におい
て、X21、X22はそれぞれアルキル基、アリール基また
は複素環基を表す。アルキル基として好ましくは炭素数
が1〜30、より好ましくは1〜20であり、直鎖、分
岐、環状、飽和、不飽和、置換または無置換のものであ
る。具体的にはメチル、エチル、シクロプロピル、2−
ブチル、t−オクチル、アリル、2−へキシルデシル等
が挙げられる。アリール基としては炭素数6から20が
好ましく、より好ましくは6から10である。具体的に
はフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル等が挙げられ
る。X21及びX22が複素環基を表わすとき、炭素数1〜
20、好ましくは1〜10の、へテロ原子として例えば
チツソ原子、酸素原子または硫黄原子を少なくとも一個
以上含み3〜12員環、好ましくは5もしくは6員環
の、飽和もしくは不飽和、置換もしくは無置換の、単環
もしくは縮合環の複素環基である。複素環基の例として
は、3−ピロリジニル、1,2,4−トリアゾール−3
−イル、2−ピリジル、4−ピリミジニル、3−ピラゾ
リル、2−ピロリル、2,4−ジオキソ−1,3−イミ
ダゾリジン−5−イルまたはピラニルなどが挙げられ
る。
しく説明する。−般式(1)で表される化合物におい
て、X21、X22はそれぞれアルキル基、アリール基また
は複素環基を表す。アルキル基として好ましくは炭素数
が1〜30、より好ましくは1〜20であり、直鎖、分
岐、環状、飽和、不飽和、置換または無置換のものであ
る。具体的にはメチル、エチル、シクロプロピル、2−
ブチル、t−オクチル、アリル、2−へキシルデシル等
が挙げられる。アリール基としては炭素数6から20が
好ましく、より好ましくは6から10である。具体的に
はフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル等が挙げられ
る。X21及びX22が複素環基を表わすとき、炭素数1〜
20、好ましくは1〜10の、へテロ原子として例えば
チツソ原子、酸素原子または硫黄原子を少なくとも一個
以上含み3〜12員環、好ましくは5もしくは6員環
の、飽和もしくは不飽和、置換もしくは無置換の、単環
もしくは縮合環の複素環基である。複素環基の例として
は、3−ピロリジニル、1,2,4−トリアゾール−3
−イル、2−ピリジル、4−ピリミジニル、3−ピラゾ
リル、2−ピロリル、2,4−ジオキソ−1,3−イミ
ダゾリジン−5−イルまたはピラニルなどが挙げられ
る。
【0018】X23が>N−とともに形成する含窒素複素
環基は、炭素数1〜20、好ましくは1〜15の、ヘテ
ロ原子として窒素原子以外に、例えば酸素原子または硫
黄原子を含んでもよく、3〜12員環、好ましくは5も
しくは6員環の、置換もしくは無置換の、飽和もしくは
不飽和の、単環もしくは縮合環の複素環基である。この
複素環基の例としては、ピロリジノ、ピペリジノ、モル
ホリノ、1−ピペラジニル、1−インドリニル、1,
2,3,4−テトラヒドロキノリン−1−イル、1−イ
ミダゾリジニル、1−ピラゾリル、1−ピロリニル、1
−ピラゾリジニル、2,3−ジヒドロ−1−インダゾリ
ル、2−イソインドリニル、1−インドリル、1−ピロ
リル、4−チアジン−S,S−ジオキソ−4−イルまた
はベンズオキサジン−4−イルが挙げられる。
環基は、炭素数1〜20、好ましくは1〜15の、ヘテ
ロ原子として窒素原子以外に、例えば酸素原子または硫
黄原子を含んでもよく、3〜12員環、好ましくは5も
しくは6員環の、置換もしくは無置換の、飽和もしくは
不飽和の、単環もしくは縮合環の複素環基である。この
複素環基の例としては、ピロリジノ、ピペリジノ、モル
ホリノ、1−ピペラジニル、1−インドリニル、1,
2,3,4−テトラヒドロキノリン−1−イル、1−イ
ミダゾリジニル、1−ピラゾリル、1−ピロリニル、1
−ピラゾリジニル、2,3−ジヒドロ−1−インダゾリ
ル、2−イソインドリニル、1−インドリル、1−ピロ
リル、4−チアジン−S,S−ジオキソ−4−イルまた
はベンズオキサジン−4−イルが挙げられる。
【0019】前記X21及びX22が置換基を有するアルキ
ル、同アリールもしくは同複素環基を表わすとき、及
び、X23が>N−とともに形成する含窒素複素環基が置
換基を有するとき、それらの置換基の例として次のもの
が挙げられる。ハロゲン原子(例えばフッ素原子、クロ
ル原子)、アルコキシカルボニル基(炭素数2〜30、
好ましくは2〜20。例えばメトキシカルボニル、ドデ
シルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニ
ル)、アシルアミノ基(炭素数2〜30、好ましくは2
〜20。例えばアセトアミド、テトラデカンアミド、2
−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブタンアミ
ド、ベンズアミド)、スルホンアミド基(炭素数1〜3
0、好ましくは1〜20。例えばメタンスルホンアミ
ド、ドデカンスルホンアミド、ヘキサデシルスルホンア
ミド、ベンゼンスルホンアミド)、カルバモイル基(炭
素数1〜30、好ましくは1〜20。例えばN−ブチル
カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル)、N−
スルホニルカルバモイル基(炭素数1〜30、好ましく
は1〜20。例えばN−メシルカルバモイル、N−ドデ
シルスルホニルカルバモイル)、スルファモイル基(炭
素数1〜30、好ましくは1〜20。例えばN−ブチル
スルファモイル、N−ドデシルスルファモイル、N−
ル、同アリールもしくは同複素環基を表わすとき、及
び、X23が>N−とともに形成する含窒素複素環基が置
換基を有するとき、それらの置換基の例として次のもの
が挙げられる。ハロゲン原子(例えばフッ素原子、クロ
ル原子)、アルコキシカルボニル基(炭素数2〜30、
好ましくは2〜20。例えばメトキシカルボニル、ドデ
シルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニ
ル)、アシルアミノ基(炭素数2〜30、好ましくは2
〜20。例えばアセトアミド、テトラデカンアミド、2
−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブタンアミ
ド、ベンズアミド)、スルホンアミド基(炭素数1〜3
0、好ましくは1〜20。例えばメタンスルホンアミ
ド、ドデカンスルホンアミド、ヘキサデシルスルホンア
ミド、ベンゼンスルホンアミド)、カルバモイル基(炭
素数1〜30、好ましくは1〜20。例えばN−ブチル
カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル)、N−
スルホニルカルバモイル基(炭素数1〜30、好ましく
は1〜20。例えばN−メシルカルバモイル、N−ドデ
シルスルホニルカルバモイル)、スルファモイル基(炭
素数1〜30、好ましくは1〜20。例えばN−ブチル
スルファモイル、N−ドデシルスルファモイル、N−
【0020】へキサデシルスルファモイル、N−3−
(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチルスルファ
モイル、N,N−ジエチルスルファモイル)、アルコキ
シ基(炭素数1〜30、好ましくは1〜20。例えばメ
トキシ、ヘキサデシルオキシ、イソプロポキシ)、アリ
ールオキシ基(炭素数6〜20、好ましくは6〜10。
例えばフェノキシ、4−メトキシフェノキシ、3−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ、ナフトキシ)、ア
リールオキシカルボニル基(炭素数7〜21、好ましく
は7〜11。例えばフェノキシカルボニル)、N−アシ
ルスルファモイル基(炭素数2〜30、好ましくは2〜
20。例えばN−プロパノイルスルファモイル、N−テ
トラデカノイルスルファモイル)、スルホニル基(炭素
数1〜30、好ましくは1〜20。例えばメタンスルホ
ニル、オクタンスルホニル、4−ヒドロキシフェニルス
ルホニル、ドデカンスルホニル)、アルコキシカルボニ
ルアミノ基(炭素数1〜30、好ましくは1〜20。例
えばエトキシカルボニルアミノ)、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、スルホ基、アル
キルチオ基(炭素数1〜30、好ましくは1〜20。例
えばメチルチオ、ドデシルチオ、ドデシルカルバモイル
メチルチオ)、ウレイド基(炭素数1〜30、好ましく
は1〜20。例えばN−フェニルウレイド、N−ヘキサ
デシルウレイド)、アリール基(炭素数6〜20、好ま
しくは6〜10。例えばフェニル、ナフチル、4−メト
キシフェニル)、複素環基(炭素数1〜20、好ましく
は1〜10。
(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチルスルファ
モイル、N,N−ジエチルスルファモイル)、アルコキ
シ基(炭素数1〜30、好ましくは1〜20。例えばメ
トキシ、ヘキサデシルオキシ、イソプロポキシ)、アリ
ールオキシ基(炭素数6〜20、好ましくは6〜10。
例えばフェノキシ、4−メトキシフェノキシ、3−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ、ナフトキシ)、ア
リールオキシカルボニル基(炭素数7〜21、好ましく
は7〜11。例えばフェノキシカルボニル)、N−アシ
ルスルファモイル基(炭素数2〜30、好ましくは2〜
20。例えばN−プロパノイルスルファモイル、N−テ
トラデカノイルスルファモイル)、スルホニル基(炭素
数1〜30、好ましくは1〜20。例えばメタンスルホ
ニル、オクタンスルホニル、4−ヒドロキシフェニルス
ルホニル、ドデカンスルホニル)、アルコキシカルボニ
ルアミノ基(炭素数1〜30、好ましくは1〜20。例
えばエトキシカルボニルアミノ)、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、スルホ基、アル
キルチオ基(炭素数1〜30、好ましくは1〜20。例
えばメチルチオ、ドデシルチオ、ドデシルカルバモイル
メチルチオ)、ウレイド基(炭素数1〜30、好ましく
は1〜20。例えばN−フェニルウレイド、N−ヘキサ
デシルウレイド)、アリール基(炭素数6〜20、好ま
しくは6〜10。例えばフェニル、ナフチル、4−メト
キシフェニル)、複素環基(炭素数1〜20、好ましく
は1〜10。
【0021】へテロ原子として例えばチッ素原子、酸素
原子又は硫黄原子を少なくとも一個以上含み3〜12員
環、好ましくは5もしくは6員環の、単環もしくは縮合
環。例えば2−ピリジル、3−ピラゾリル、1−ピロリ
ル、2,4−ジオキソ−1,3−イミダゾリジン−1−
イル、2−ベンズオキサゾリル、モルホリノ、インドリ
ル)、アルキル基(炭素数1〜30、好ましくは1〜2
0の、直鎖、分岐、環状、飽和、不飽和。例えばメチ
ル、エチル、イソプロピル、シクロプロピル、t−ペン
チル、t−オクチル、シクロペンチル、t−ブチル、s
−ブチル、ドデシル、2−ヘキシルデシル)、アシル基
(炭素数1〜30、好ましくは2〜20。例えばアセチ
ル、ベンゾイル)、アシルオキシ基(炭素数2〜30、
好ましくは2〜20。例えばプロパノイルオキシ、テト
ラデカノイルオキシ)、アリールチオ基(炭素数6〜2
0、好ましくは6〜10。例えばフェニルチオ、ナフチ
ルチオ)、スルファモイルアミノ基(炭素数0〜30、
好ましくは0〜20。例えばN−ブチルスルファモイル
アミノ、N−ドデシルスルファモイルアミノ、N−フェ
ニルスルファモイルアミノ)またはN−スルフォニルス
ルファモイル基(炭素数1〜30、好ましくは1〜2
0。例えばN−メシルスルファモイル、N−エタンスル
ファモイル、N−ドデカンスルホニルスルファモイル、
N−ヘキサデカンスルホニルスルファモイル)が挙げら
れる。上記の置換基はさらに置換基を有してもよい。そ
の置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。
原子又は硫黄原子を少なくとも一個以上含み3〜12員
環、好ましくは5もしくは6員環の、単環もしくは縮合
環。例えば2−ピリジル、3−ピラゾリル、1−ピロリ
ル、2,4−ジオキソ−1,3−イミダゾリジン−1−
イル、2−ベンズオキサゾリル、モルホリノ、インドリ
ル)、アルキル基(炭素数1〜30、好ましくは1〜2
0の、直鎖、分岐、環状、飽和、不飽和。例えばメチ
ル、エチル、イソプロピル、シクロプロピル、t−ペン
チル、t−オクチル、シクロペンチル、t−ブチル、s
−ブチル、ドデシル、2−ヘキシルデシル)、アシル基
(炭素数1〜30、好ましくは2〜20。例えばアセチ
ル、ベンゾイル)、アシルオキシ基(炭素数2〜30、
好ましくは2〜20。例えばプロパノイルオキシ、テト
ラデカノイルオキシ)、アリールチオ基(炭素数6〜2
0、好ましくは6〜10。例えばフェニルチオ、ナフチ
ルチオ)、スルファモイルアミノ基(炭素数0〜30、
好ましくは0〜20。例えばN−ブチルスルファモイル
アミノ、N−ドデシルスルファモイルアミノ、N−フェ
ニルスルファモイルアミノ)またはN−スルフォニルス
ルファモイル基(炭素数1〜30、好ましくは1〜2
0。例えばN−メシルスルファモイル、N−エタンスル
ファモイル、N−ドデカンスルホニルスルファモイル、
N−ヘキサデカンスルホニルスルファモイル)が挙げら
れる。上記の置換基はさらに置換基を有してもよい。そ
の置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。
【0022】上記の中で好ましい置換基としてはアルコ
キシ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニル基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、ニトロ
基、アルキル基またはアリール基が挙げられる。一般式
(1)及び(2)においてY21がアリール基を表わすと
き、炭素数6〜20、好ましくは6〜10の置換または
無置換のアリール基である。例えばフェニル基及びナフ
チル基がその代表的な例である。一般式(1)及び
(2)においてY21が複素環基を表わすとき、X21また
はX22が複素環基を表わすときに説明したのと同じ基を
表す。
キシ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニル基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、ニトロ
基、アルキル基またはアリール基が挙げられる。一般式
(1)及び(2)においてY21がアリール基を表わすと
き、炭素数6〜20、好ましくは6〜10の置換または
無置換のアリール基である。例えばフェニル基及びナフ
チル基がその代表的な例である。一般式(1)及び
(2)においてY21が複素環基を表わすとき、X21また
はX22が複素環基を表わすときに説明したのと同じ基を
表す。
【0023】上記Y21が置換アリール基または置換複素
環基を表わすとき置換基の例としては、例えば、前記X
21が置換基を有するときの例として列挙した置換基が挙
げられる。Y21が有する置換基として好ましい例として
は、その置換基の一個がハロゲン原子、アルコキシカル
ボニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホ
ニル基、N−スルホニルスルファモイル基、N−アシル
スルフアモイル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、N
−スルホニルカルバモイル基、スルホンアミド基または
アルキル基であるときである。一般式(1)及び(2)
においてZ21で示される基としては、従来知られている
カップリング離脱基のいずれであってもよい。カップリ
ング離脱基にバラスト基をもち、且つカプラー本体にバ
ラスト基をもたない場合には、アルカリ処理液による湿
式現像、または熱現像とカラー拡散転写を利用して発色
色素画像を形成できる。好ましいZ21としては、窒素原
子でカップリング位と結合する含窒素複素環基、芳香族
オキシ基、芳香族チオ基、複素環オキシ基、複素環チオ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルキル
チオ基またはハロゲン原子が挙げられる。これらの離脱
基は、非写真性有用基または写真性有用基もしくはその
前駆体(例えば現像抑制剤、現像促進剤、脱銀促進剤、
カブラセ剤、色素、硬膜剤、カプラー、現像主薬酸化体
スカベンジヤー、蛍光色素、現像主薬または電子移動
剤)のいずれであってもよい。
環基を表わすとき置換基の例としては、例えば、前記X
21が置換基を有するときの例として列挙した置換基が挙
げられる。Y21が有する置換基として好ましい例として
は、その置換基の一個がハロゲン原子、アルコキシカル
ボニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホ
ニル基、N−スルホニルスルファモイル基、N−アシル
スルフアモイル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、N
−スルホニルカルバモイル基、スルホンアミド基または
アルキル基であるときである。一般式(1)及び(2)
においてZ21で示される基としては、従来知られている
カップリング離脱基のいずれであってもよい。カップリ
ング離脱基にバラスト基をもち、且つカプラー本体にバ
ラスト基をもたない場合には、アルカリ処理液による湿
式現像、または熱現像とカラー拡散転写を利用して発色
色素画像を形成できる。好ましいZ21としては、窒素原
子でカップリング位と結合する含窒素複素環基、芳香族
オキシ基、芳香族チオ基、複素環オキシ基、複素環チオ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルキル
チオ基またはハロゲン原子が挙げられる。これらの離脱
基は、非写真性有用基または写真性有用基もしくはその
前駆体(例えば現像抑制剤、現像促進剤、脱銀促進剤、
カブラセ剤、色素、硬膜剤、カプラー、現像主薬酸化体
スカベンジヤー、蛍光色素、現像主薬または電子移動
剤)のいずれであってもよい。
【0024】Z21が写真性有用基であるとき、従来知ら
れているものが有用である。例えば米国特許第4,24
8,962号、同4,409,323号、同4,43
8,193号、同4,421,845号、同4,61
8,571号、同4,652,516号、同4,86
1,701号、同4,782,012号、同4,85
7,440号、同4,847,185号、同4,47
7,563号、同4,438,193号、同4,62
8,024号、同4,618,571号、同4,74
1,994号、ヨーロツパ公開特許第193389A
号、同348139A号または同272573A号に記
載の写真性有用基もしくはそれを放出するための離脱基
(例えばタイミング基)が用いられる。
れているものが有用である。例えば米国特許第4,24
8,962号、同4,409,323号、同4,43
8,193号、同4,421,845号、同4,61
8,571号、同4,652,516号、同4,86
1,701号、同4,782,012号、同4,85
7,440号、同4,847,185号、同4,47
7,563号、同4,438,193号、同4,62
8,024号、同4,618,571号、同4,74
1,994号、ヨーロツパ公開特許第193389A
号、同348139A号または同272573A号に記
載の写真性有用基もしくはそれを放出するための離脱基
(例えばタイミング基)が用いられる。
【0025】Z21がカップリング位と窒素原子で結合す
る含窒素複素環基を表わすとき、好ましくは、炭素数1
〜15、好ましくは1〜10の、5もしくは6員環の、
置換もしくは無置換の、飽和もしくは不飽和の、単環も
しくは縮合環の複素環基である。ヘテロ原子としては窒
素原子以外に、酸素原子または硫黄原子を含んでもよ
い。複素環基の好ましい具体例としては、1−ピラゾリ
ル、1−イミダゾリル、ピロリノ、1,2,4−トリア
ゾール−2−イル、1,2,3−トリアゾール−3−イ
ル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイミダゾリル、イミダ
ゾリジン−2,4−ジオン−3−イル、オキサゾリジン
−2,4−ジオン−3−イル、1,2,4−トリアゾリ
ジン−3,5−ジオン−4−イル、2−イミダゾリノン
−1−イル、3,5−ジオキソモルホリノまたは1−イ
ンダゾリルが挙げられる。これらの複素環基が置換基を
有するとき、その置換基としては、前記X21基で示され
る基が有してもよい置換基として列挙した置換基がその
例として挙げられる。好ましい置換基としては置換基の
一個がアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ア
リール基、ニトロ基、カルバモイル基、またはスルホニ
ル基であるときである。
る含窒素複素環基を表わすとき、好ましくは、炭素数1
〜15、好ましくは1〜10の、5もしくは6員環の、
置換もしくは無置換の、飽和もしくは不飽和の、単環も
しくは縮合環の複素環基である。ヘテロ原子としては窒
素原子以外に、酸素原子または硫黄原子を含んでもよ
い。複素環基の好ましい具体例としては、1−ピラゾリ
ル、1−イミダゾリル、ピロリノ、1,2,4−トリア
ゾール−2−イル、1,2,3−トリアゾール−3−イ
ル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイミダゾリル、イミダ
ゾリジン−2,4−ジオン−3−イル、オキサゾリジン
−2,4−ジオン−3−イル、1,2,4−トリアゾリ
ジン−3,5−ジオン−4−イル、2−イミダゾリノン
−1−イル、3,5−ジオキソモルホリノまたは1−イ
ンダゾリルが挙げられる。これらの複素環基が置換基を
有するとき、その置換基としては、前記X21基で示され
る基が有してもよい置換基として列挙した置換基がその
例として挙げられる。好ましい置換基としては置換基の
一個がアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ア
リール基、ニトロ基、カルバモイル基、またはスルホニ
ル基であるときである。
【0026】Z21が芳香族オキシ基を表わすとき、好ま
しくは炭素数6〜10の置換または無置換の芳香族オキ
シ基である。特に好ましくは置換または無置換のフェノ
キシ基である。置換基を有するとき、置換基の例として
は、前記X21で示される基が有してもよい置換基として
列挙した置換基がその例として挙げられる。その中で好
ましい置換基としては少なくとも一個の置換基が電子吸
引性置換基である場合であり、その例としてはスルホニ
ル基、アルコキシカルボニル基、スルフアモイル基、ハ
ロゲン原子、カルボキシル基、カルバモイル基、ニトロ
基、シアノ基またはアシル基が挙げられる。
しくは炭素数6〜10の置換または無置換の芳香族オキ
シ基である。特に好ましくは置換または無置換のフェノ
キシ基である。置換基を有するとき、置換基の例として
は、前記X21で示される基が有してもよい置換基として
列挙した置換基がその例として挙げられる。その中で好
ましい置換基としては少なくとも一個の置換基が電子吸
引性置換基である場合であり、その例としてはスルホニ
ル基、アルコキシカルボニル基、スルフアモイル基、ハ
ロゲン原子、カルボキシル基、カルバモイル基、ニトロ
基、シアノ基またはアシル基が挙げられる。
【0027】Z21が芳香族チオ基を表わすとき、好まし
くは炭素数6〜10の置換または無置換の芳香族チオ基
である。特に好ましくは置換または無置換のフェニルチ
オ基である。置換基を有するとき、置換基の例として
は、前記X21で示される基が有してもよい置換基として
列挙した置換基がその例として挙げられる。その中で好
ましい置換基としては少なくとも一個の置換基が、アル
キル基、アルコキシ基、スルホニル基、アルコキシカル
ボニル基、スルファモイル基、ハロゲン原子、カルバモ
イル基、またはニトロ基である。
くは炭素数6〜10の置換または無置換の芳香族チオ基
である。特に好ましくは置換または無置換のフェニルチ
オ基である。置換基を有するとき、置換基の例として
は、前記X21で示される基が有してもよい置換基として
列挙した置換基がその例として挙げられる。その中で好
ましい置換基としては少なくとも一個の置換基が、アル
キル基、アルコキシ基、スルホニル基、アルコキシカル
ボニル基、スルファモイル基、ハロゲン原子、カルバモ
イル基、またはニトロ基である。
【0028】Z21が複素環オキシ基を表わすとき、複素
環基の部分は炭素数1〜20、好ましくは1〜10の、
ヘテロ原子として例えばチッ素原子、酸素原子または硫
黄原子を少なくとも一個以上含み3〜12員環、好まし
くは5もしくは6員環の、置換もしくは無置換の、飽和
もしくは不飽和の、単環もしくは縮合環の複素環基であ
る。複素環オキシ基の例としては、ピリジルオキシ基、
ピラゾリルオキシ基、またはフリルオキシ基が挙げられ
る。置換基を有するとき、置換基の例としては、前記X
21で示される基が有してもよい置換基として列挙した置
換基がその例として挙げられる。その中で好ましい置換
基としては、置換基の一個がアルキル基、アリール基、
カルボキシル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ニト
ロ基、カルバモイル基、またはスルホニル基であるとき
である。
環基の部分は炭素数1〜20、好ましくは1〜10の、
ヘテロ原子として例えばチッ素原子、酸素原子または硫
黄原子を少なくとも一個以上含み3〜12員環、好まし
くは5もしくは6員環の、置換もしくは無置換の、飽和
もしくは不飽和の、単環もしくは縮合環の複素環基であ
る。複素環オキシ基の例としては、ピリジルオキシ基、
ピラゾリルオキシ基、またはフリルオキシ基が挙げられ
る。置換基を有するとき、置換基の例としては、前記X
21で示される基が有してもよい置換基として列挙した置
換基がその例として挙げられる。その中で好ましい置換
基としては、置換基の一個がアルキル基、アリール基、
カルボキシル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ニト
ロ基、カルバモイル基、またはスルホニル基であるとき
である。
【0029】Z21が複素環チオ基を表わすとき、複素環
基の部分は炭素数1〜20、好ましくは1〜10の、ヘ
テロ原子として例えばチッ素原子、酸素原子または硫黄
原子を少なくとも一個以上含み3〜12員環、好ましく
は5もしくは6員環の、置換もしくは無置換の、飽和も
しくは不飽和の、単環もしくは縮合環の複素環基であ
る。複素環チオ基の例としては、テトラゾリルチオ基、
1,3,4−チアジアゾリルチオ基、1,3,4−オキ
サジアゾリルチオ基、1,3,4−トリアゾリルチオ
基、ペンゾイミダゾリルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ
基、または2−ピリジルチオ基が挙げられる。置換基を
有するとき、置換基の例としては、前記X21で示される
基が有してもよい置換基として列挙した置換基がその例
として挙げられる。その中で好ましい置換基としては、
置換基の少なくとも一個がアルキル基、アリール基、カ
ルボキシル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキ
ルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ニトロ
基、カルバモイル基、へテロ環基またはスルホニル基で
あるときである。
基の部分は炭素数1〜20、好ましくは1〜10の、ヘ
テロ原子として例えばチッ素原子、酸素原子または硫黄
原子を少なくとも一個以上含み3〜12員環、好ましく
は5もしくは6員環の、置換もしくは無置換の、飽和も
しくは不飽和の、単環もしくは縮合環の複素環基であ
る。複素環チオ基の例としては、テトラゾリルチオ基、
1,3,4−チアジアゾリルチオ基、1,3,4−オキ
サジアゾリルチオ基、1,3,4−トリアゾリルチオ
基、ペンゾイミダゾリルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ
基、または2−ピリジルチオ基が挙げられる。置換基を
有するとき、置換基の例としては、前記X21で示される
基が有してもよい置換基として列挙した置換基がその例
として挙げられる。その中で好ましい置換基としては、
置換基の少なくとも一個がアルキル基、アリール基、カ
ルボキシル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキ
ルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ニトロ
基、カルバモイル基、へテロ環基またはスルホニル基で
あるときである。
【0030】Z21がアシルオキシ基を表わすとき、好ま
しくは炭素数6〜10の、単環もしくは縮合環の、置換
もしくは無置換の芳香族アシルオキシ基、または炭素数
2〜30好ましくは2〜20の置換もしくは無置換の脂
肪族アシルオキシ基である。これらは置換基を有すると
き、置換基の例としては、前記X21で示される基が有し
てもよい置換基として列挙した置換基がその例として挙
げられる。Z21がカルバモイルオキシ基を表わすとき、
炭素数1〜30、好ましくは1〜20の、脂肪族、芳香
族、複素環、置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ
基である。例えばN,N−ジエチルカルバモイルオキ
シ、N−フェニルカルバモイルオキシ、1−イミダゾリ
ルカルボニルオキシまたは1−ピロロカルボニルオキシ
が挙げられる。これらが置換基を有するとき、置換基の
例としては、前記X21で示される基が有してもよい置換
基として列挙した置換基がその例として挙げられる。Z
21がアルキルチオ基を表わすとき、炭素数1〜30、好
ましくは1〜20の、直鎖、分岐、環状、飽和、不飽
和、置換もしくは無置換の、アルキルチオ基である。置
換基を有するとき、置換基の例としては、前記X21で示
される基が有してもよい置換基として列挙した置換基が
その例として挙げられる。Z21がハロゲンを表わすと
き、塩素、臭素、フッ素をその例として挙げられる。
しくは炭素数6〜10の、単環もしくは縮合環の、置換
もしくは無置換の芳香族アシルオキシ基、または炭素数
2〜30好ましくは2〜20の置換もしくは無置換の脂
肪族アシルオキシ基である。これらは置換基を有すると
き、置換基の例としては、前記X21で示される基が有し
てもよい置換基として列挙した置換基がその例として挙
げられる。Z21がカルバモイルオキシ基を表わすとき、
炭素数1〜30、好ましくは1〜20の、脂肪族、芳香
族、複素環、置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ
基である。例えばN,N−ジエチルカルバモイルオキ
シ、N−フェニルカルバモイルオキシ、1−イミダゾリ
ルカルボニルオキシまたは1−ピロロカルボニルオキシ
が挙げられる。これらが置換基を有するとき、置換基の
例としては、前記X21で示される基が有してもよい置換
基として列挙した置換基がその例として挙げられる。Z
21がアルキルチオ基を表わすとき、炭素数1〜30、好
ましくは1〜20の、直鎖、分岐、環状、飽和、不飽
和、置換もしくは無置換の、アルキルチオ基である。置
換基を有するとき、置換基の例としては、前記X21で示
される基が有してもよい置換基として列挙した置換基が
その例として挙げられる。Z21がハロゲンを表わすと
き、塩素、臭素、フッ素をその例として挙げられる。
【0031】つぎに一般式(1)及び(2)で表される
カプラーの特に好ましい範囲について以下に述べる。一
般式(1)においてX21、X22で示される基は、好まし
くはアルキル基である。特に好ましくは炭素数1〜10
のアルキル基である。一般式(1)及び(2)において
Y21で示される基は、好ましくは芳香族基である。特に
好ましくはオルト位に置換基を少なくとも一個有するフ
ェニル基である。置換基の説明は前記Y21が芳香族基で
ある時有してもよい置換基として説明したものが挙げら
れる。好ましい置換基の説明も同じである。一般式
(1)及び(2)においてZ21で示される基は、好まし
くは5〜6員の、窒素原子でカップリング位と結合する
含窒素複素環基、芳香族オキシ基、5〜6員の複素環オ
キシ基、または5〜6員の複素環チオ基が挙げられる。
一般式(2)においてX23で示される基は、下記一般式
(11)のX26によって形成される環を形成する原子団が
好ましく、特に1−インドリル基を形成する原子団が好
ましい。一般式(1)及び(2)において好ましいカプ
ラーは下記一般式(10)、(11)または(12)で示され
るものである。
カプラーの特に好ましい範囲について以下に述べる。一
般式(1)においてX21、X22で示される基は、好まし
くはアルキル基である。特に好ましくは炭素数1〜10
のアルキル基である。一般式(1)及び(2)において
Y21で示される基は、好ましくは芳香族基である。特に
好ましくはオルト位に置換基を少なくとも一個有するフ
ェニル基である。置換基の説明は前記Y21が芳香族基で
ある時有してもよい置換基として説明したものが挙げら
れる。好ましい置換基の説明も同じである。一般式
(1)及び(2)においてZ21で示される基は、好まし
くは5〜6員の、窒素原子でカップリング位と結合する
含窒素複素環基、芳香族オキシ基、5〜6員の複素環オ
キシ基、または5〜6員の複素環チオ基が挙げられる。
一般式(2)においてX23で示される基は、下記一般式
(11)のX26によって形成される環を形成する原子団が
好ましく、特に1−インドリル基を形成する原子団が好
ましい。一般式(1)及び(2)において好ましいカプ
ラーは下記一般式(10)、(11)または(12)で示され
るものである。
【0032】
【化11】
【0033】式中Z21は一般式(1)において説明した
のと同じ意味を表わし、X24はアルキル基を表し、X25
はアルキル基もしくは芳香族基を表し、Arはオルト基
に少なくとも一個の置換基を有するフェニル基を表し、
X26は−C(R61R62)−N<とともに含窒素環基(単
環または縮合環)を形成する有機残基を表わし、X27は
−C(R63)=C(R64)−N<とともに含窒素複素環
基(単環または縮合環)を形成する有機残基を表わし、
R61、R62、R63及びR64は水素原子または置換基を表
わす。一般式(10)〜(12)においてX24〜X27、Ar
及びZ21で示される基の詳しい説明及び好ましい範囲に
ついては、一般式(1)及び一般式(2)で述べた説明
のなかで、該当する範囲において説明したのと同じ意味
である。R61〜R64が置換基を表わすとき、前記X21が
有してもよい置換基として列挙したものがその例として
挙げられる。上記の一般式の中で特に好ましいカプラー
は一般式(11)または(12)で表されるカプラーであ
る。更に好ましいのは、一般式(11)に於いてX26によ
って形成されるヘテロ環基が1−インドリル基またはそ
の置換体である場合である。
のと同じ意味を表わし、X24はアルキル基を表し、X25
はアルキル基もしくは芳香族基を表し、Arはオルト基
に少なくとも一個の置換基を有するフェニル基を表し、
X26は−C(R61R62)−N<とともに含窒素環基(単
環または縮合環)を形成する有機残基を表わし、X27は
−C(R63)=C(R64)−N<とともに含窒素複素環
基(単環または縮合環)を形成する有機残基を表わし、
R61、R62、R63及びR64は水素原子または置換基を表
わす。一般式(10)〜(12)においてX24〜X27、Ar
及びZ21で示される基の詳しい説明及び好ましい範囲に
ついては、一般式(1)及び一般式(2)で述べた説明
のなかで、該当する範囲において説明したのと同じ意味
である。R61〜R64が置換基を表わすとき、前記X21が
有してもよい置換基として列挙したものがその例として
挙げられる。上記の一般式の中で特に好ましいカプラー
は一般式(11)または(12)で表されるカプラーであ
る。更に好ましいのは、一般式(11)に於いてX26によ
って形成されるヘテロ環基が1−インドリル基またはそ
の置換体である場合である。
【0034】一般式(1)、(2)、(10)〜(12)で
示されるカプラーは、X21〜X27、Y21、Ar、R61〜
R64及びZ21で示される基において2価またはそれ以上
の基を介して互いに結合する2量体またはそれ以上の多
量体(例えばテロマーまたはポリマー)を形成してもよ
い。この場合、前記の各置換基において示した炭素原子
数範囲の規定外となってもよい。一般式(1)、
(2)、(10)〜(12)で示されるカプラーは、耐拡散
型カプラーであることが好ましい。耐拡散型とは、分子
が添加された層に不動化するために、十分に分子量を大
きくする基を分子量中に有するカプラーのことである。
通常、総炭素数8〜30、好ましくは10〜20のアル
キル基または総炭素数4〜20の置換基を有するアリー
ル基が用いられる。これらの耐拡散基は分子中のいずれ
に置換されていてもよく、また複数個有していてもよ
い。以下に一般式(1)、(2)、(10)〜(12)で示
されるカプラーの具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
示されるカプラーは、X21〜X27、Y21、Ar、R61〜
R64及びZ21で示される基において2価またはそれ以上
の基を介して互いに結合する2量体またはそれ以上の多
量体(例えばテロマーまたはポリマー)を形成してもよ
い。この場合、前記の各置換基において示した炭素原子
数範囲の規定外となってもよい。一般式(1)、
(2)、(10)〜(12)で示されるカプラーは、耐拡散
型カプラーであることが好ましい。耐拡散型とは、分子
が添加された層に不動化するために、十分に分子量を大
きくする基を分子量中に有するカプラーのことである。
通常、総炭素数8〜30、好ましくは10〜20のアル
キル基または総炭素数4〜20の置換基を有するアリー
ル基が用いられる。これらの耐拡散基は分子中のいずれ
に置換されていてもよく、また複数個有していてもよ
い。以下に一般式(1)、(2)、(10)〜(12)で示
されるカプラーの具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
【0035】
【化12】
【0036】
【化13】
【0037】
【化14】
【0038】
【化15】
【0039】
【化16】
【0040】
【化17】
【0041】
【化18】
【0042】
【化19】
【0043】
【化20】
【0044】
【化21】
【0045】本発明のカプラーは例えば特開平7−20
616号等に記載の方法で合成できる。以下例示化合物
(2)と(3)の合成例を示す。
616号等に記載の方法で合成できる。以下例示化合物
(2)と(3)の合成例を示す。
【0046】合成例1 例示化合物(2)の合成 下記合成法により合成した。
【0047】
【化22】
【0048】化合物1aの6.2g、および1bの1
6.5gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解
した。この溶液に、室温にてN,N′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド7.4gを溶解したN,N−ジメチル
ホルムアミド溶液20mlを滴下した。2時間反応させた
後折出したN,N′−ジシクロヘキシル尿素をロ別し
た。ロ液にメタノール150mlを加え結晶化させた。1
9.8gの1cを得た。1cの18.0gをジクロロメ
タン150mlに混合した。塩化スルフリルを含むジクロ
ロメタン10mlの溶液を氷冷下(5℃〜10℃)滴下し
た。30分間反応させた後、溶媒を減圧で留去し、残渣
の1dを次工程に使用した。4−シアノフェノール5.
7gおよび1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7
−ウンデセン(DBU)7.3gをN,N−ジメチルホ
ルムアミド150mlに加えた。この溶液に前記で得た1
dを50mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し、
室温にて滴下した。1時間反応後酢酸エチル500mlを
加えし分液ロートに移し水洗浄した。希塩酸で中和後再
び水洗浄し、油層を分離した。溶媒を減圧で留去し、残
渣をヘキサン−酢酸エチル混合液により、再結晶し、例
示化合物(2)を9.9g得た。
6.5gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解
した。この溶液に、室温にてN,N′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド7.4gを溶解したN,N−ジメチル
ホルムアミド溶液20mlを滴下した。2時間反応させた
後折出したN,N′−ジシクロヘキシル尿素をロ別し
た。ロ液にメタノール150mlを加え結晶化させた。1
9.8gの1cを得た。1cの18.0gをジクロロメ
タン150mlに混合した。塩化スルフリルを含むジクロ
ロメタン10mlの溶液を氷冷下(5℃〜10℃)滴下し
た。30分間反応させた後、溶媒を減圧で留去し、残渣
の1dを次工程に使用した。4−シアノフェノール5.
7gおよび1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7
−ウンデセン(DBU)7.3gをN,N−ジメチルホ
ルムアミド150mlに加えた。この溶液に前記で得た1
dを50mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し、
室温にて滴下した。1時間反応後酢酸エチル500mlを
加えし分液ロートに移し水洗浄した。希塩酸で中和後再
び水洗浄し、油層を分離した。溶媒を減圧で留去し、残
渣をヘキサン−酢酸エチル混合液により、再結晶し、例
示化合物(2)を9.9g得た。
【0049】合成例2 例示化合物(3)の合成 下記合成法により合成した。
【0050】
【化23】
【0051】化合物1aの6.2g、および7bの1
2.9gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解
した。この溶液に、室温にてN,N′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド7.4gを溶解したN,N−ジメチル
ホルムアミド溶液20mlを滴下した。2時間反応させた
後折出したN,N′−ジシクロヘキシル尿素をロ別し
た。ロ液を水500mlに注加し酢酸エチル500mlで抽
出した。分液ロートを用いて油層をとり水で洗浄した後
油層を芒硝で乾燥させた。ろ過した溶液にヘキサンを加
え、結晶化させた。14.2gの2cを得た。2cの1
2.4gをジクロロメタン150mlに混合した。塩化ス
ルフリル2.8gを含むジクロロメタン10mlの溶液を
氷冷下(5℃〜10℃)滴下した。30分間反応させた
後、溶媒を減圧で留去し、残渣の2dを次工程に使用し
た。4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン25.
0gおよびDBU 30.4gをN,N−ジメチルホル
ムアミド150mlに加えた。この溶液に前記で得た2d
を50mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し、室
温にて滴下した。1時間反応後酢酸エチル500mlを加
え分液ロートに移し水洗浄した。希塩酸で中和後再び水
洗浄し、油層を分離した。溶媒を減圧で留去し、残渣を
カラムクロマトグラフィーにより分離・精製した。充填
剤としてはシリカゲルを用い溶離液としてはアセトン/
ヘキサン(1/2)を用いた。目的とする例示化合物
(3)を含むフラクションを集め溶媒を減圧で留去し、
残渣を酢酸エチル−アセトニトリル混合液により、再結
晶し、例示化合物(3)を12.6g得た。
2.9gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解
した。この溶液に、室温にてN,N′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド7.4gを溶解したN,N−ジメチル
ホルムアミド溶液20mlを滴下した。2時間反応させた
後折出したN,N′−ジシクロヘキシル尿素をロ別し
た。ロ液を水500mlに注加し酢酸エチル500mlで抽
出した。分液ロートを用いて油層をとり水で洗浄した後
油層を芒硝で乾燥させた。ろ過した溶液にヘキサンを加
え、結晶化させた。14.2gの2cを得た。2cの1
2.4gをジクロロメタン150mlに混合した。塩化ス
ルフリル2.8gを含むジクロロメタン10mlの溶液を
氷冷下(5℃〜10℃)滴下した。30分間反応させた
後、溶媒を減圧で留去し、残渣の2dを次工程に使用し
た。4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン25.
0gおよびDBU 30.4gをN,N−ジメチルホル
ムアミド150mlに加えた。この溶液に前記で得た2d
を50mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し、室
温にて滴下した。1時間反応後酢酸エチル500mlを加
え分液ロートに移し水洗浄した。希塩酸で中和後再び水
洗浄し、油層を分離した。溶媒を減圧で留去し、残渣を
カラムクロマトグラフィーにより分離・精製した。充填
剤としてはシリカゲルを用い溶離液としてはアセトン/
ヘキサン(1/2)を用いた。目的とする例示化合物
(3)を含むフラクションを集め溶媒を減圧で留去し、
残渣を酢酸エチル−アセトニトリル混合液により、再結
晶し、例示化合物(3)を12.6g得た。
【0052】以下に一般式(3)で表される発色現像主
薬(発色用還元剤)の構造について詳しく説明する。
薬(発色用還元剤)の構造について詳しく説明する。
【0053】一般式(3)において、R11は置換基を有
してもよいアリール基またはヘテロ環基を示す。R11の
アリール基としては、好ましくは炭素数6ないし14の
もので、例えばフェニルやナフチルが挙げられる。R11
のヘテロ環基としては、好ましくは窒素、酸素、硫黄、
セレンのうち少なくとも一つを含有する飽和または不飽
和の5員環、6員環または7員環のものである。これら
にベンゼン環またはヘテロ環が縮合していてもよい。R
11のヘテロ環の例としては、フラニル、チエニル、オキ
サゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、
ピロリジニル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、ピリジル、ピリダジル、ピリミジニル、ピラジニ
ル、トリアジニル、キノリニル、イソキノリニル、フタ
ラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、プリニル、
プテリジニル、アゼピニル、ベンゾオキセピニル等が挙
げられる。
してもよいアリール基またはヘテロ環基を示す。R11の
アリール基としては、好ましくは炭素数6ないし14の
もので、例えばフェニルやナフチルが挙げられる。R11
のヘテロ環基としては、好ましくは窒素、酸素、硫黄、
セレンのうち少なくとも一つを含有する飽和または不飽
和の5員環、6員環または7員環のものである。これら
にベンゼン環またはヘテロ環が縮合していてもよい。R
11のヘテロ環の例としては、フラニル、チエニル、オキ
サゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、
ピロリジニル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、ピリジル、ピリダジル、ピリミジニル、ピラジニ
ル、トリアジニル、キノリニル、イソキノリニル、フタ
ラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、プリニル、
プテリジニル、アゼピニル、ベンゾオキセピニル等が挙
げられる。
【0054】R11の有する置換基としては、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、ア
リールスルホニルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基、アミド基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ウレ
イド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アシルカルバモイル基、
カルバモイルカルバモイル基、スルホニルカルバモイル
基、スルファモイルカルバモイル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル
基、アリールスルフィニル基、アルコキシスルホニル
基、アリールオキシスルホニル基、スルファモイル基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル
基、スルホ基、ホスホノ基、ヒドロキシル基、メルカプ
ト基、イミド基、アゾ基等が挙げられる。R12は置換基
を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、ア
リールスルホニルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基、アミド基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ウレ
イド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アシルカルバモイル基、
カルバモイルカルバモイル基、スルホニルカルバモイル
基、スルファモイルカルバモイル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル
基、アリールスルフィニル基、アルコキシスルホニル
基、アリールオキシスルホニル基、スルファモイル基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル
基、スルホ基、ホスホノ基、ヒドロキシル基、メルカプ
ト基、イミド基、アゾ基等が挙げられる。R12は置換基
を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
【0055】R12のアルキル基としては、好ましくは炭
素数1ないし16の直鎖、分岐または環状のもので、例
えばメチル、エチル、ヘキシル、ドデシル、2−オクチ
ル、t−ブチル、シクロペンチル、シクロオクチル等が
挙げられる。R12のアルケニル基としては、好ましくは
炭素数2ないし16の鎖状または環状のもので、例え
ば、ビニル、1−オクテニル、シクロヘキセニルが挙げ
られる。R12のアルキニル基としては、好ましくは炭素
数2ないし16のもので、例えば1−ブチニル、フェニ
ルエチニル等が挙げられる。R12のアリール基及びヘテ
ロ環基としては、R11で述べたものが挙げられる。R12
の有する置換基としてはR11の置換基で述べたものが挙
げられる。Xとしては−SO2 −、−CO−、−COC
O−、−CO−O−、−CON(R13)−、−COCO
−O−、−COCO−N(R13)−または−SO2 −N
(R13)−が挙げられる。ここでR13は水素原子または
R12で述べた基である。これらの基の中で−CO−、−
CON(R13)−、−CO−O−が好ましく、発色性が
特に優れるという点で−CON(R13)−が特に好まし
い。一般式(3)で表わされる化合物の中でも一般式
(4)および(5)で表わされる化合物が好ましく、一
般式(6)および(7)で表わされる化合物がより好ま
しく、一般式(8)および(9)が表わされる化合物が
更に好ましい。以下に一般式(4)ないし(9)で表わ
される化合物について詳しく説明する。
素数1ないし16の直鎖、分岐または環状のもので、例
えばメチル、エチル、ヘキシル、ドデシル、2−オクチ
ル、t−ブチル、シクロペンチル、シクロオクチル等が
挙げられる。R12のアルケニル基としては、好ましくは
炭素数2ないし16の鎖状または環状のもので、例え
ば、ビニル、1−オクテニル、シクロヘキセニルが挙げ
られる。R12のアルキニル基としては、好ましくは炭素
数2ないし16のもので、例えば1−ブチニル、フェニ
ルエチニル等が挙げられる。R12のアリール基及びヘテ
ロ環基としては、R11で述べたものが挙げられる。R12
の有する置換基としてはR11の置換基で述べたものが挙
げられる。Xとしては−SO2 −、−CO−、−COC
O−、−CO−O−、−CON(R13)−、−COCO
−O−、−COCO−N(R13)−または−SO2 −N
(R13)−が挙げられる。ここでR13は水素原子または
R12で述べた基である。これらの基の中で−CO−、−
CON(R13)−、−CO−O−が好ましく、発色性が
特に優れるという点で−CON(R13)−が特に好まし
い。一般式(3)で表わされる化合物の中でも一般式
(4)および(5)で表わされる化合物が好ましく、一
般式(6)および(7)で表わされる化合物がより好ま
しく、一般式(8)および(9)が表わされる化合物が
更に好ましい。以下に一般式(4)ないし(9)で表わ
される化合物について詳しく説明する。
【0056】一般式(4)および一般式(5)において
Z1 はアシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニ
ル基、またはアリールオキシカルボニル基を表し、Z2
はカルバモイル基、アルコキシカルボニル基または、ア
リールオキシカルボニル基を表す。このアシル基として
は、炭素数1〜50のアシル基が好ましく、より好まし
くは炭素数は2〜40である。具体的な例としては、ア
セチル基、2−メチルプロパノイル基、シクロヘキシル
カルボニル基、n−オクタノイル基、2−ヘキシルデカ
ノイル基、ドデカノイル基、クロロアセチル基、トリフ
ルオロアセチル基、ベンゾイル基、4−ドデシルオキシ
ベンゾイル基、2−ヒドロキシメチルベンゾイル基、3
−(N−ヒドロキシ−N−メチルアミノカルボニル)プ
ロパノイル基が挙げられる。Z1 、Z2 がカルバモイル
基である場合に関しては一般式(8)〜(9)で詳述す
る。
Z1 はアシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニ
ル基、またはアリールオキシカルボニル基を表し、Z2
はカルバモイル基、アルコキシカルボニル基または、ア
リールオキシカルボニル基を表す。このアシル基として
は、炭素数1〜50のアシル基が好ましく、より好まし
くは炭素数は2〜40である。具体的な例としては、ア
セチル基、2−メチルプロパノイル基、シクロヘキシル
カルボニル基、n−オクタノイル基、2−ヘキシルデカ
ノイル基、ドデカノイル基、クロロアセチル基、トリフ
ルオロアセチル基、ベンゾイル基、4−ドデシルオキシ
ベンゾイル基、2−ヒドロキシメチルベンゾイル基、3
−(N−ヒドロキシ−N−メチルアミノカルボニル)プ
ロパノイル基が挙げられる。Z1 、Z2 がカルバモイル
基である場合に関しては一般式(8)〜(9)で詳述す
る。
【0057】アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基としては炭素数2〜50のアルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ましく、よ
り好ましくは炭素数は2〜40である。具体的な例とし
ては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
イソブチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシ
カルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、4−オ
クチルオキシフェノキシカルボニル基、2−ヒドロキシ
メチルフェノキシカルボニル基、2−ドデシルオキシフ
ェノキシカルボニル基などが挙げられる。
カルボニル基としては炭素数2〜50のアルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ましく、よ
り好ましくは炭素数は2〜40である。具体的な例とし
ては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
イソブチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシ
カルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、4−オ
クチルオキシフェノキシカルボニル基、2−ヒドロキシ
メチルフェノキシカルボニル基、2−ドデシルオキシフ
ェノキシカルボニル基などが挙げられる。
【0058】一般式(4)、(6)におけるX1 、
X2 、X3 、X4 、X5 は水素原子または置換基を表
す。ここで置換基の例としては、炭素数1〜50の直鎖
または分岐、鎖状または環状のアルキル基(例えば、ト
リフルオロメチル、メチル、エチル、プロピル、ヘプタ
フルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチ
ル、t−ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル等)、炭素数
2〜50の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニ
ル基(例えばビニル、1−メチルビニル、シクロヘキセ
ン−1−イル等)、総炭素数2〜50のアルキニル基
(例えば、エチニル、1−プロピニル等)、炭素数6〜
50のアリール基(例えば、フェニル、ナフチル、アン
トリル等)、炭素数1〜50のアシルオキシ基(例え
ば、
X2 、X3 、X4 、X5 は水素原子または置換基を表
す。ここで置換基の例としては、炭素数1〜50の直鎖
または分岐、鎖状または環状のアルキル基(例えば、ト
リフルオロメチル、メチル、エチル、プロピル、ヘプタ
フルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチ
ル、t−ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル等)、炭素数
2〜50の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニ
ル基(例えばビニル、1−メチルビニル、シクロヘキセ
ン−1−イル等)、総炭素数2〜50のアルキニル基
(例えば、エチニル、1−プロピニル等)、炭素数6〜
50のアリール基(例えば、フェニル、ナフチル、アン
トリル等)、炭素数1〜50のアシルオキシ基(例え
ば、
【0059】アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベ
ンゾイルオキシ等)、炭素数1〜50のカルバモイルオ
キシ基(例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ
等)、炭素数1〜50のカルボンアミド基(例えば、ホ
ルムアミド、N−メチルアセトアミド、アセトアミド、
N−メチルホルムアミド、ベンツアミド等)、炭素数1
〜50のスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンア
ミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、p−トルエンスルホンアミド等)、炭素数1〜50
のカルバモイル基(例えば、N−メチルカルバモイル、
N,N−ジエチルカルバモイル、N−メシルカルバモイ
ル等)、炭素数0〜50のスルファモイル基(例えば、
N−ブチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファ
モイル、N−メチル−N−(4−メトキシフェニル)ス
ルファモイル等)、炭素数1〜50のアルコキシ基(例
えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチ
ルオキシ、t−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、2−
(2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)エトキシ
等)、炭素数6〜50のアリールオキシ基(例えば、フ
ェノキシ、4−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等)、
炭素数7〜50のアリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
等)、
ンゾイルオキシ等)、炭素数1〜50のカルバモイルオ
キシ基(例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ
等)、炭素数1〜50のカルボンアミド基(例えば、ホ
ルムアミド、N−メチルアセトアミド、アセトアミド、
N−メチルホルムアミド、ベンツアミド等)、炭素数1
〜50のスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンア
ミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド、p−トルエンスルホンアミド等)、炭素数1〜50
のカルバモイル基(例えば、N−メチルカルバモイル、
N,N−ジエチルカルバモイル、N−メシルカルバモイ
ル等)、炭素数0〜50のスルファモイル基(例えば、
N−ブチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファ
モイル、N−メチル−N−(4−メトキシフェニル)ス
ルファモイル等)、炭素数1〜50のアルコキシ基(例
えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチ
ルオキシ、t−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、2−
(2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)エトキシ
等)、炭素数6〜50のアリールオキシ基(例えば、フ
ェノキシ、4−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等)、
炭素数7〜50のアリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
等)、
【0060】炭素数2〜50のアルコキシカルボニル基
(例えば、メトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル等)、炭素数1〜50のN−アシルスルファモイル基
(例えば、N−テトラデカノイルスルファモイル、N−
ベンゾイルスルファモイル等)、炭素数1〜50のアル
キルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、オクチ
ルスルホニル、2−メトキシエチルスルホニル、2−ヘ
キシルデシルスルホニル等)、炭素数6〜50のアリー
ルスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−ト
ルエンスルホニル、4−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル等)、炭素数2〜50のアルコキシカルボニル
アミノ基(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、炭
素数7〜50のアリールオキシカルボニルアミノ基(例
えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボ
ニルアミノ等)、炭素数0〜50のアミノ基(例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピル
アミノ、アニリノ、モルホリノ等)、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカ
プト基等)、炭素数1〜50のアルキルスルフィニル基
(例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル
等)、炭素数6〜50のアリールスルフィニル基(例え
ば、ベンゼンスルフィニル、4−クロロフェニルスルフ
ィニル、p−トルエンスルフィニル等)、炭素数1〜5
0のアルキルチオ基(例えば、
(例えば、メトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル等)、炭素数1〜50のN−アシルスルファモイル基
(例えば、N−テトラデカノイルスルファモイル、N−
ベンゾイルスルファモイル等)、炭素数1〜50のアル
キルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、オクチ
ルスルホニル、2−メトキシエチルスルホニル、2−ヘ
キシルデシルスルホニル等)、炭素数6〜50のアリー
ルスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−ト
ルエンスルホニル、4−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル等)、炭素数2〜50のアルコキシカルボニル
アミノ基(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、炭
素数7〜50のアリールオキシカルボニルアミノ基(例
えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボ
ニルアミノ等)、炭素数0〜50のアミノ基(例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピル
アミノ、アニリノ、モルホリノ等)、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカ
プト基等)、炭素数1〜50のアルキルスルフィニル基
(例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル
等)、炭素数6〜50のアリールスルフィニル基(例え
ば、ベンゼンスルフィニル、4−クロロフェニルスルフ
ィニル、p−トルエンスルフィニル等)、炭素数1〜5
0のアルキルチオ基(例えば、
【0061】メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシ
ルチオ等)、炭素数6〜50のアリールチオ基(例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等)、炭素数1〜50
のウレイド基(例えば、3−メチルウレイド、3,3−
ジメチルウレイド、1,3−ジフェニルウレイド等)、
炭素数2〜50のヘテロ環基(ヘテロ原子としては例え
ば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも1個以上含
み、3ないし12員環の単環、縮合環で、例えば、2−
フリル、2−ピラニル、2−ピリジル、2−チエニル、
2−イミダゾリル、モルホリノ、2−キノリル、2−ベ
ンツイミダゾリル、2−ベンゾチアゾリル、2−ベンゾ
オキサゾリル等)、炭素数1〜50のアシル基(例え
ば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル
等)、炭素数0〜50のスルファモイルアミノ基(例え
ば、N−ブチルスルファモイルアミノ、N−フェニルス
ルファモイルアミノ等)、炭素数3〜50のシリル基
(例えば、トリメチルシリル、ジメチル−t−ブチルシ
リル、トリフェニルシリル等)、ハロゲン原子(例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)が挙げられ
る。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、
その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。またX1 、X2 、X3 、X4 、X5 は互いに結合し
て縮合環を形成しても良い。縮合環としては5〜7員環
が好ましく、5〜6員環が更に好ましい。
ルチオ等)、炭素数6〜50のアリールチオ基(例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等)、炭素数1〜50
のウレイド基(例えば、3−メチルウレイド、3,3−
ジメチルウレイド、1,3−ジフェニルウレイド等)、
炭素数2〜50のヘテロ環基(ヘテロ原子としては例え
ば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも1個以上含
み、3ないし12員環の単環、縮合環で、例えば、2−
フリル、2−ピラニル、2−ピリジル、2−チエニル、
2−イミダゾリル、モルホリノ、2−キノリル、2−ベ
ンツイミダゾリル、2−ベンゾチアゾリル、2−ベンゾ
オキサゾリル等)、炭素数1〜50のアシル基(例え
ば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル
等)、炭素数0〜50のスルファモイルアミノ基(例え
ば、N−ブチルスルファモイルアミノ、N−フェニルス
ルファモイルアミノ等)、炭素数3〜50のシリル基
(例えば、トリメチルシリル、ジメチル−t−ブチルシ
リル、トリフェニルシリル等)、ハロゲン原子(例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)が挙げられ
る。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、
その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられ
る。またX1 、X2 、X3 、X4 、X5 は互いに結合し
て縮合環を形成しても良い。縮合環としては5〜7員環
が好ましく、5〜6員環が更に好ましい。
【0062】置換基の炭素数に関しては50以下が好ま
しいが、より好ましくは42以下であり、最も好ましく
は34以下である。また、1以上が好ましい。
しいが、より好ましくは42以下であり、最も好ましく
は34以下である。また、1以上が好ましい。
【0063】一般式(4)、(6)におけるX1 、
X2 、X3 、X4 、X5 に関しては、X 1 、X3 、X5
のハメットの置換基定数σp値とX2 、X4 のハメット
の置換基定数σm値の和は0.80以上、3.80以下
である。また、一般式(8)におけるX6 、X7 、
X8 、X9 、X10は水素原子、シアノ基、スルホニル
基、スルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原
子、アシルオキシ基、アシルチオ基またはヘテロ環基を
表し、これらはさらに置換基を有していても良く、互い
に結合して縮合環を形成しても良い。これらの具体例に
ついてはX1 、X2 、X3 、X4 、X5 で述べたものと
同様である。但し一般式(8)においては、X6 、
X8 、X10のハメットの置換基定数σp値とX7 、X9
のハメットの置換基定数σm値の和は1.20以上、
3.80以下であり、1.50以上、3.80以下が好
ましく、更に好ましくは1.70以上、3.80以下で
ある。ここで、σp値とσm値の総和が、0.80に満
たないと発色性が十分でないなどの問題があり、また逆
に3.80をこえると、化合物自体の合成・入手が困難
となる。
X2 、X3 、X4 、X5 に関しては、X 1 、X3 、X5
のハメットの置換基定数σp値とX2 、X4 のハメット
の置換基定数σm値の和は0.80以上、3.80以下
である。また、一般式(8)におけるX6 、X7 、
X8 、X9 、X10は水素原子、シアノ基、スルホニル
基、スルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原
子、アシルオキシ基、アシルチオ基またはヘテロ環基を
表し、これらはさらに置換基を有していても良く、互い
に結合して縮合環を形成しても良い。これらの具体例に
ついてはX1 、X2 、X3 、X4 、X5 で述べたものと
同様である。但し一般式(8)においては、X6 、
X8 、X10のハメットの置換基定数σp値とX7 、X9
のハメットの置換基定数σm値の和は1.20以上、
3.80以下であり、1.50以上、3.80以下が好
ましく、更に好ましくは1.70以上、3.80以下で
ある。ここで、σp値とσm値の総和が、0.80に満
たないと発色性が十分でないなどの問題があり、また逆
に3.80をこえると、化合物自体の合成・入手が困難
となる。
【0064】なお、ハメットの置換基定数σp、σmに
ついては、例えば稲本直樹著「ハメット則−構造と反応
性−」(丸善)、「新実験化学講座14・有機化合物の
合成と反応V」2605頁(日本化学会編、丸善)、仲
矢忠雄著「理論有機化学解説」217頁(東京化学同
人)、ケミカル・レビュー(91巻),165〜195
頁(1991年)等の成書に詳しく解説されている。
ついては、例えば稲本直樹著「ハメット則−構造と反応
性−」(丸善)、「新実験化学講座14・有機化合物の
合成と反応V」2605頁(日本化学会編、丸善)、仲
矢忠雄著「理論有機化学解説」217頁(東京化学同
人)、ケミカル・レビュー(91巻),165〜195
頁(1991年)等の成書に詳しく解説されている。
【0065】一般式(6)、(7)におけるR1 、
R2 、(8)、(9)におけるR4 、R 5 は水素原子ま
たは置換基を表し、置換基の具体例としてはX1 、
X2 、X3 、X4 、X5 について述べたものと同じ意味
を表すが、好ましくは水素原子または炭素数1〜50の
置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数6〜50の置
換もしくは無置換のアリール基、炭素数1〜50の置換
もしくは無置換のヘテロ環基であり、さらに好ましくは
R1 、R2 の少なくとも一方およびR4 、R5 の少なく
とも一方は水素原子である。
R2 、(8)、(9)におけるR4 、R 5 は水素原子ま
たは置換基を表し、置換基の具体例としてはX1 、
X2 、X3 、X4 、X5 について述べたものと同じ意味
を表すが、好ましくは水素原子または炭素数1〜50の
置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数6〜50の置
換もしくは無置換のアリール基、炭素数1〜50の置換
もしくは無置換のヘテロ環基であり、さらに好ましくは
R1 、R2 の少なくとも一方およびR4 、R5 の少なく
とも一方は水素原子である。
【0066】一般式(5)、(7)においてR3 はヘテ
ロ環基を表す。ここで好ましいヘテロ環基は炭素数1〜
50のヘテロ環基であり、ヘテロ原子としては例えば、
窒素、酸素およびイオウ原子等を少なくとも一個以上を
含み、飽和または不飽和の3ないし12員環(好ましく
は3〜8員環)の単環または縮合環であり、ヘテロ環の
具体例としてはフラン、ピラン、ピリジン、チオフェ
ン、イミダゾール、キノリン、ベンツイミダゾール、ベ
ンゾチアゾール、ベンツオキサゾール、ピリミジン、ピ
ラジン、1,2,4−チアジアゾール、ピロール、オキ
サゾール、チアゾール、キナゾリン、イソチアゾール、
ピリダジン、インドール、ピラゾール、トリアゾール、
キノキサリンなどが挙げられる。これらのヘテロ環基は
置換基を有していても良く、一個以上の電子吸引性の基
を有しているものが好ましい。ここで電子吸引性の基と
はハメットのσp値で正の値を有しているものを意味す
る。本発明の発色用還元剤を感光材料に内蔵させるうえ
で、Z1 、Z2 、R1 〜R 5 、X1 〜X10の少なくとも
1つの基にバラスト基を有していることが好ましい。Q
1 で完成されるヘテロ環の例は、具体的化合物例I−1
6〜I−74に図示されている。
ロ環基を表す。ここで好ましいヘテロ環基は炭素数1〜
50のヘテロ環基であり、ヘテロ原子としては例えば、
窒素、酸素およびイオウ原子等を少なくとも一個以上を
含み、飽和または不飽和の3ないし12員環(好ましく
は3〜8員環)の単環または縮合環であり、ヘテロ環の
具体例としてはフラン、ピラン、ピリジン、チオフェ
ン、イミダゾール、キノリン、ベンツイミダゾール、ベ
ンゾチアゾール、ベンツオキサゾール、ピリミジン、ピ
ラジン、1,2,4−チアジアゾール、ピロール、オキ
サゾール、チアゾール、キナゾリン、イソチアゾール、
ピリダジン、インドール、ピラゾール、トリアゾール、
キノキサリンなどが挙げられる。これらのヘテロ環基は
置換基を有していても良く、一個以上の電子吸引性の基
を有しているものが好ましい。ここで電子吸引性の基と
はハメットのσp値で正の値を有しているものを意味す
る。本発明の発色用還元剤を感光材料に内蔵させるうえ
で、Z1 、Z2 、R1 〜R 5 、X1 〜X10の少なくとも
1つの基にバラスト基を有していることが好ましい。Q
1 で完成されるヘテロ環の例は、具体的化合物例I−1
6〜I−74に図示されている。
【0067】つぎに本発明で用いられる新規な発色用還
元剤を具体的に示すが、本発明の範囲はこれら具体例に
限定されるものではない。
元剤を具体的に示すが、本発明の範囲はこれら具体例に
限定されるものではない。
【0068】
【化24】
【0069】
【化25】
【0070】
【化26】
【0071】
【化27】
【0072】
【化28】
【0073】
【化29】
【0074】
【化30】
【0075】
【化31】
【0076】
【化32】
【0077】
【化33】
【0078】
【化34】
【0079】
【化35】
【0080】
【化36】
【0081】
【化37】
【0082】
【化38】
【0083】本発明の一般式(1)または(2)のカプ
ラーと好ましく併用されるカプラーとしては、以下の一
般式(13)〜(24)に記載するような構造の化合物
がある。これらはそれぞれ一般に活性メチレン、ピラゾ
ロン、ピラゾロアゾール、フェノール、ナフトール、ピ
ロロトリアゾールと総称される化合物であり、当該分野
で公知の化合物である。
ラーと好ましく併用されるカプラーとしては、以下の一
般式(13)〜(24)に記載するような構造の化合物
がある。これらはそれぞれ一般に活性メチレン、ピラゾ
ロン、ピラゾロアゾール、フェノール、ナフトール、ピ
ロロトリアゾールと総称される化合物であり、当該分野
で公知の化合物である。
【0084】
【化39】
【0085】
【化40】
【0086】
【化41】
【0087】一般式(13)〜(16)は活性メチレン系カ
プラーと称されるカプラーを表し、式中R14は置換基を
有しても良いアシル基、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、ヘテロ環残基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、窒素原子に少なくとも1個の水素
原子を有するカルバモイル基、スルファモイル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基である。
プラーと称されるカプラーを表し、式中R14は置換基を
有しても良いアシル基、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、ヘテロ環残基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、窒素原子に少なくとも1個の水素
原子を有するカルバモイル基、スルファモイル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基である。
【0088】一般式(13)〜(15)において、R15は置
換基を有しても良いアルキル基、アリール基またはヘテ
ロ環残基である。一般式(16)においてR16は置換基を
有しても良いアリール基またはヘテロ環残基である。R
14、R15、R16が有しても良い置換基としては、前述の
X1 〜X5 の例として述べたものが挙げられる。
換基を有しても良いアルキル基、アリール基またはヘテ
ロ環残基である。一般式(16)においてR16は置換基を
有しても良いアリール基またはヘテロ環残基である。R
14、R15、R16が有しても良い置換基としては、前述の
X1 〜X5 の例として述べたものが挙げられる。
【0089】一般式(13)〜(16)において、Yは水素
原子または発色用還元剤の酸化体とのカップリング反応
により脱離可能な基である。Yの例として、ヘテロ環基
(ヘテロ原子としては窒素、酸素、イオウ等を少なくと
も一個含み、飽和または不飽和の5〜7員環の単環もし
くは縮合環であり、例としては、スクシンイミド、マレ
インイミド、フタルイミド、ジグリコールイミド、ピロ
ール、ピラゾール、イミダゾール、1,2,4−トリア
ゾール、テトラゾール、インドール、ベンゾピラゾー
ル、ベンツイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イミダ
ゾリン−2,4−ジオン、オキサゾリジン−2,4−ジ
オン、チアゾリジン−2,4−ジオン、イミダゾリジン
−2−オン、オキサゾリン−2−オン、チアゾリン−2
−オン、ベンツイミダゾリン−2−オン、ベンゾオキサ
ゾリン−2−オン、ベンゾチアゾリン−2−オン、2−
ピロリン−5−オン、2−イミダゾリン−5−オン、イ
ンドリン−2,3−ジオン、2,6−ジオキシプリン、
パラバン酸、1,2,4−トリアゾリジン−3,5−ジ
オン、2−ピリドン、4−ピリドン、2−ピリミドン、
6−ピリダゾン、2−ピラゾン、2−アミノ−1,3,
4−チアゾリジン、2−イミノ−1,3,4−チアゾリ
ジン−4−オン等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子等)、アリールオキシ基(例えば、フェノ
キシ、1−ナフトキシ等)、ヘテロ環オキシ基(例え
ば、ピリジルオキシ、ピラゾリルオキシ等)、アシルオ
キシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、
アルコキシ基(例えば、メトキシ、ドデシルオキシ
等)、カルバモイルオキシ基(例えば、N,N −ジエチ
ルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ
等)、アリールオキシカルボニルオキシ基(例えば、フ
ェノキシカルボニルオキシ等)、アルコキシカルボニル
オキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキ
シカルボニルオキシ等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ、ナフチルチオ等)、ヘテロ環チオ基(例え
ば、テトラゾリルチオ、1,3,4−チアジアゾリルチ
オ、1,3,4−オキサジアゾリルチオ、ベンツイミダ
ゾリルチオ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチ
オ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ等)、アルキルス
ルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ
等)、アリールスルホニルオキシ基(例えば、ベンゼン
スルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ等)、カ
ルボンアミド基(例えば、アセタミド、トリフルオロア
セタミド等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスル
ホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、アルキルス
ルホニル基(例えば、メタンスルホニル等)、アリール
スルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル等)、アル
キルスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル
等)、アリールスルフィニル基(例えば、ベンゼンスル
フィニル等)、アリールアゾ基(例えば、フェニルア
ゾ、ナフチルアゾ等)、カルバモイルアミノ基(例え
ば、N −メチルカルバモイルアミノ等)などである。
原子または発色用還元剤の酸化体とのカップリング反応
により脱離可能な基である。Yの例として、ヘテロ環基
(ヘテロ原子としては窒素、酸素、イオウ等を少なくと
も一個含み、飽和または不飽和の5〜7員環の単環もし
くは縮合環であり、例としては、スクシンイミド、マレ
インイミド、フタルイミド、ジグリコールイミド、ピロ
ール、ピラゾール、イミダゾール、1,2,4−トリア
ゾール、テトラゾール、インドール、ベンゾピラゾー
ル、ベンツイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イミダ
ゾリン−2,4−ジオン、オキサゾリジン−2,4−ジ
オン、チアゾリジン−2,4−ジオン、イミダゾリジン
−2−オン、オキサゾリン−2−オン、チアゾリン−2
−オン、ベンツイミダゾリン−2−オン、ベンゾオキサ
ゾリン−2−オン、ベンゾチアゾリン−2−オン、2−
ピロリン−5−オン、2−イミダゾリン−5−オン、イ
ンドリン−2,3−ジオン、2,6−ジオキシプリン、
パラバン酸、1,2,4−トリアゾリジン−3,5−ジ
オン、2−ピリドン、4−ピリドン、2−ピリミドン、
6−ピリダゾン、2−ピラゾン、2−アミノ−1,3,
4−チアゾリジン、2−イミノ−1,3,4−チアゾリ
ジン−4−オン等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子等)、アリールオキシ基(例えば、フェノ
キシ、1−ナフトキシ等)、ヘテロ環オキシ基(例え
ば、ピリジルオキシ、ピラゾリルオキシ等)、アシルオ
キシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、
アルコキシ基(例えば、メトキシ、ドデシルオキシ
等)、カルバモイルオキシ基(例えば、N,N −ジエチ
ルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ
等)、アリールオキシカルボニルオキシ基(例えば、フ
ェノキシカルボニルオキシ等)、アルコキシカルボニル
オキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキ
シカルボニルオキシ等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ、ナフチルチオ等)、ヘテロ環チオ基(例え
ば、テトラゾリルチオ、1,3,4−チアジアゾリルチ
オ、1,3,4−オキサジアゾリルチオ、ベンツイミダ
ゾリルチオ等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチ
オ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ等)、アルキルス
ルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ
等)、アリールスルホニルオキシ基(例えば、ベンゼン
スルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ等)、カ
ルボンアミド基(例えば、アセタミド、トリフルオロア
セタミド等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスル
ホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、アルキルス
ルホニル基(例えば、メタンスルホニル等)、アリール
スルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル等)、アル
キルスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル
等)、アリールスルフィニル基(例えば、ベンゼンスル
フィニル等)、アリールアゾ基(例えば、フェニルア
ゾ、ナフチルアゾ等)、カルバモイルアミノ基(例え
ば、N −メチルカルバモイルアミノ等)などである。
【0090】Yは置換基により置換されていても良く、
Yを置換する置換基の例としてはX 1 〜X5 で述べたも
のが挙げられる。Yは好ましくはハロゲン原子、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アリ
ールオキシカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル
オキシ基、カルバモイルオキシ基である。一般式(13)
〜(16)において、R14とR15、R14とR16は互いに結
合して環を形成しても良い。一般式(17)は5−ピラゾ
ロン系カプラーと称されるカプラーを表し、式中R 17は
アルキル基、アリール基、アシル基またはカルバモイル
基を表す。R18はフェニル基または1個以上のハロゲン
原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキ
シカルボニル基またはアシルアミノ基が置換したフェニ
ル基を表す。
Yを置換する置換基の例としてはX 1 〜X5 で述べたも
のが挙げられる。Yは好ましくはハロゲン原子、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アリ
ールオキシカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル
オキシ基、カルバモイルオキシ基である。一般式(13)
〜(16)において、R14とR15、R14とR16は互いに結
合して環を形成しても良い。一般式(17)は5−ピラゾ
ロン系カプラーと称されるカプラーを表し、式中R 17は
アルキル基、アリール基、アシル基またはカルバモイル
基を表す。R18はフェニル基または1個以上のハロゲン
原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキ
シカルボニル基またはアシルアミノ基が置換したフェニ
ル基を表す。
【0091】一般式(17)で表される5−ピラゾロン系
カプラーの中でもR17がアリール基またはアシル基、R
18が1個以上のハロゲン原子が置換したフェニル基のも
のが好ましい。これらの好ましい基について詳しく述べ
ると、R17はフェニル基、2−クロロフェニル基、2−
メトキシフェニル基、2−クロロ−5−テトラデカンア
ミドフェニル基、2−クロロ−5−(3−オクタデセニ
ル−1−スクシンイミド)フェニル基、2−クロロ−5
−オクタデシルスルホンアミドフェニル基または2−ク
ロロ−5−〔2−(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフ
ェノキシ)テトラデカンアミド〕フェニル基等のアリー
ル基またはアセチル基、2−(2,4−ジ−t−ペンチ
ルフェノキシ)ブタノイル基、ベンゾイル基、3−
(2,4−ジ−t−アミルフェノキシアセトアミド)ベ
ンゾイル基等のアシル基であり、これらの基はさらに置
換基を有しても良く、それらは炭素原子、酸素原子、窒
素原子またはイオウ原子で連結する有機置換基またはハ
ロゲン原子である。Yについては前述したものと同じ意
味である。
カプラーの中でもR17がアリール基またはアシル基、R
18が1個以上のハロゲン原子が置換したフェニル基のも
のが好ましい。これらの好ましい基について詳しく述べ
ると、R17はフェニル基、2−クロロフェニル基、2−
メトキシフェニル基、2−クロロ−5−テトラデカンア
ミドフェニル基、2−クロロ−5−(3−オクタデセニ
ル−1−スクシンイミド)フェニル基、2−クロロ−5
−オクタデシルスルホンアミドフェニル基または2−ク
ロロ−5−〔2−(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフ
ェノキシ)テトラデカンアミド〕フェニル基等のアリー
ル基またはアセチル基、2−(2,4−ジ−t−ペンチ
ルフェノキシ)ブタノイル基、ベンゾイル基、3−
(2,4−ジ−t−アミルフェノキシアセトアミド)ベ
ンゾイル基等のアシル基であり、これらの基はさらに置
換基を有しても良く、それらは炭素原子、酸素原子、窒
素原子またはイオウ原子で連結する有機置換基またはハ
ロゲン原子である。Yについては前述したものと同じ意
味である。
【0092】R18は2,4,6−トリクロロフェニル
基、2,5−ジクロロフェニル基、2−クロロフェニル
基等の置換フェニル基が好ましい。一般式(18)はピラ
ゾロアゾール系カプラーと称されるカプラーを表し、式
中、R19は水素原子または置換基を表す。Q3 は窒素原
子を2〜4個含む5員のアゾール環を形成するのに必要
な非金属原子群を表し、該アゾール環は置換基(縮合環
を含む)を有しても良い。一般式(18)で表されるピラ
ゾロアゾール系カプラーの中でも、発色色素の分光吸収
特性の点で、米国特許第4,500,630号に記載の
イミダゾ〔1,2−b〕ピラゾール類、米国特許第4,
500,654号に記載のピラゾロ〔1,5−b〕−
1,2,4−トリアゾール類、米国特許第3,725,
067号に記載のピラゾロ〔5,1−c〕−1,2,4
−トリアゾール類が好ましい。
基、2,5−ジクロロフェニル基、2−クロロフェニル
基等の置換フェニル基が好ましい。一般式(18)はピラ
ゾロアゾール系カプラーと称されるカプラーを表し、式
中、R19は水素原子または置換基を表す。Q3 は窒素原
子を2〜4個含む5員のアゾール環を形成するのに必要
な非金属原子群を表し、該アゾール環は置換基(縮合環
を含む)を有しても良い。一般式(18)で表されるピラ
ゾロアゾール系カプラーの中でも、発色色素の分光吸収
特性の点で、米国特許第4,500,630号に記載の
イミダゾ〔1,2−b〕ピラゾール類、米国特許第4,
500,654号に記載のピラゾロ〔1,5−b〕−
1,2,4−トリアゾール類、米国特許第3,725,
067号に記載のピラゾロ〔5,1−c〕−1,2,4
−トリアゾール類が好ましい。
【0093】置換基R19、Q3 で表されるアゾール環の
置換基の詳細については、例えば、米国特許第4,54
0,654号明細書中の第2カラム第41行〜第8カラ
ム第27行に記載されている。好ましくは特開昭61−
65245号に記載されているような分岐アルキル基が
ピラゾロトリアゾール基の2、3または6位に直結した
ピラゾロアゾールカプラー、特開昭61−65245号
に記載されている分子内にスルホンアミド基を含んだピ
ラゾロアゾールカプラー、特開昭61−147254号
に記載されているアルコキシフェニルスルホンアミドバ
ラスト基を持つピラゾロアゾールカプラー、特開昭62
−209457号もしくは同63−307453号に記
載されている6位にアルコキシ基やアリールオキシ基を
持つピラゾロトリアゾールカプラー、および特開平2−
201443号に記載されている分子内にカルボンアミ
ド基を持つピラゾロトリアゾールカプラーである。Yに
関しては前述したものと同じ意味を表す。
置換基の詳細については、例えば、米国特許第4,54
0,654号明細書中の第2カラム第41行〜第8カラ
ム第27行に記載されている。好ましくは特開昭61−
65245号に記載されているような分岐アルキル基が
ピラゾロトリアゾール基の2、3または6位に直結した
ピラゾロアゾールカプラー、特開昭61−65245号
に記載されている分子内にスルホンアミド基を含んだピ
ラゾロアゾールカプラー、特開昭61−147254号
に記載されているアルコキシフェニルスルホンアミドバ
ラスト基を持つピラゾロアゾールカプラー、特開昭62
−209457号もしくは同63−307453号に記
載されている6位にアルコキシ基やアリールオキシ基を
持つピラゾロトリアゾールカプラー、および特開平2−
201443号に記載されている分子内にカルボンアミ
ド基を持つピラゾロトリアゾールカプラーである。Yに
関しては前述したものと同じ意味を表す。
【0094】一般式(19)、(20)はそれぞれフェノー
ル系カプラー、ナフトール系カプラーと称されるカプラ
ーであり、式中、R20は水素原子または−CONR22R
23、−SO2 NR22R23、−NHCOR22、−NHCO
NR22R23、−NHSO2 NR22R23から選ばれる基を
表す。R22、R23は水素原子または置換基を表す。一般
式(19)、(20)において、R21は置換基を表し、lは
0〜2から選ばれる整数、mは0〜4から選ばれる整数
を表す。l、mが2以上の時にはR21はそれぞれ異なっ
ていても良い。R21〜R23の置換基としては前記一般式
(4)や(6)のX1 〜X5 の例として述べたものが挙
げられる。Yに関しては前述のものと同じ意味を表す。
ル系カプラー、ナフトール系カプラーと称されるカプラ
ーであり、式中、R20は水素原子または−CONR22R
23、−SO2 NR22R23、−NHCOR22、−NHCO
NR22R23、−NHSO2 NR22R23から選ばれる基を
表す。R22、R23は水素原子または置換基を表す。一般
式(19)、(20)において、R21は置換基を表し、lは
0〜2から選ばれる整数、mは0〜4から選ばれる整数
を表す。l、mが2以上の時にはR21はそれぞれ異なっ
ていても良い。R21〜R23の置換基としては前記一般式
(4)や(6)のX1 〜X5 の例として述べたものが挙
げられる。Yに関しては前述のものと同じ意味を表す。
【0095】一般式(19)で表されるフェノール系カプ
ラーの好ましい例としては、米国特許第2,369,9
29号、同第2,801,171号、同第2,772,
162号、同第2,895,826号、同第3,77
2,002号等に記載の2−アシルアミノ−5−アルキ
ルフェノール系、米国特許第2,772,162号、同
第3,758,308号、同第4,126,396号、
同第4,334,011号、同第4,327,173
号、西独特許公開第3,329,729号、特開昭59
−166956号等に記載の2,5−ジアシルアミノフ
ェノール系、米国特許第3,446,622号、同第
4,333,999号、同第4,451,559号、同
第4,427,767号等に記載の2−フェニルウレイ
ド−5−アシルアミノフェノール系を挙げることができ
る。Yに関しては前述したものと同じである。
ラーの好ましい例としては、米国特許第2,369,9
29号、同第2,801,171号、同第2,772,
162号、同第2,895,826号、同第3,77
2,002号等に記載の2−アシルアミノ−5−アルキ
ルフェノール系、米国特許第2,772,162号、同
第3,758,308号、同第4,126,396号、
同第4,334,011号、同第4,327,173
号、西独特許公開第3,329,729号、特開昭59
−166956号等に記載の2,5−ジアシルアミノフ
ェノール系、米国特許第3,446,622号、同第
4,333,999号、同第4,451,559号、同
第4,427,767号等に記載の2−フェニルウレイ
ド−5−アシルアミノフェノール系を挙げることができ
る。Yに関しては前述したものと同じである。
【0096】一般式(20)で表されるナフトールカプラ
ーの好ましい例としては、米国特許第2,474,29
3号、同第4,052,212号、同第4,146,3
96号、同第4,282,233号、同第4,296,
200号等に記載の2−カルバモイル−1−ナフトール
系および米国特許第4,690,889号等に記載の2
−カルバモイル−5−アミド−1−ナフトール系等を挙
げることができる。Yに関しては前述したものと同じで
ある。一般式(21)〜(24)はピロロトリアゾールと称
されるカプラーであり、R32、R33、R34は水素原子ま
たは置換基を表す。Yについては前述したとおりであ
る。R32、R33、R34の置換基としては、前記X1 〜X
5 の例として述べたものが挙げられる。一般式(21)〜
(24)で表されるピロロトリアゾール系カプラーの好ま
しい例としては、欧州特許第488,248A1号、同
第491,197A1号、同第545,300号に記載
のR32、R33の少なくとも一方が電子吸引性基であるカ
プラーが挙げられる。Yに関しては前述したものと同じ
である。その他、縮環フェノール、イミダゾール、ピロ
ール、3−ヒドロキシピリジン、前記以外の活性メチレ
ン、活性メチン、5,5−縮環複素環、5,6−縮環複
素環といった構造を有するカプラーが使用できる。
ーの好ましい例としては、米国特許第2,474,29
3号、同第4,052,212号、同第4,146,3
96号、同第4,282,233号、同第4,296,
200号等に記載の2−カルバモイル−1−ナフトール
系および米国特許第4,690,889号等に記載の2
−カルバモイル−5−アミド−1−ナフトール系等を挙
げることができる。Yに関しては前述したものと同じで
ある。一般式(21)〜(24)はピロロトリアゾールと称
されるカプラーであり、R32、R33、R34は水素原子ま
たは置換基を表す。Yについては前述したとおりであ
る。R32、R33、R34の置換基としては、前記X1 〜X
5 の例として述べたものが挙げられる。一般式(21)〜
(24)で表されるピロロトリアゾール系カプラーの好ま
しい例としては、欧州特許第488,248A1号、同
第491,197A1号、同第545,300号に記載
のR32、R33の少なくとも一方が電子吸引性基であるカ
プラーが挙げられる。Yに関しては前述したものと同じ
である。その他、縮環フェノール、イミダゾール、ピロ
ール、3−ヒドロキシピリジン、前記以外の活性メチレ
ン、活性メチン、5,5−縮環複素環、5,6−縮環複
素環といった構造を有するカプラーが使用できる。
【0097】縮環フェノール系カプラーとしては米国特
許第4,327,173号、同第4,564,586
号、同第4,904,575号等に記載のカプラーを使
用できる。イミダゾール系カプラーとしては、米国特許
第4,818,672号、同第5,051,347号等
に記載のカプラーが使用できる。3−ヒドロキシピリジ
ン系カプラーとしては特開平1−315736号等に記
載のカプラーが使用できる。
許第4,327,173号、同第4,564,586
号、同第4,904,575号等に記載のカプラーを使
用できる。イミダゾール系カプラーとしては、米国特許
第4,818,672号、同第5,051,347号等
に記載のカプラーが使用できる。3−ヒドロキシピリジ
ン系カプラーとしては特開平1−315736号等に記
載のカプラーが使用できる。
【0098】活性メチレン、活性メチン系カプラーとし
ては米国特許第5,104,783号、同第5,16
2,196号等に記載のカプラーが使用できる。5,5
−縮環複素環系カプラーとしては、米国特許第5,16
4,289号に記載のピロロピラゾール系カプラー、特
開平4−174429号に記載のピロロイミダゾール系
カプラー等が使用できる。5,6−縮環複素環系カプラ
ーとしては、米国特許第4,950,585号に記載の
ピラゾロピリミジン系カプラー、特開平4−20473
0号に記載のピロロトリアジン系カプラー、欧州特許第
556,700号に記載のカプラー等が使用できる。
ては米国特許第5,104,783号、同第5,16
2,196号等に記載のカプラーが使用できる。5,5
−縮環複素環系カプラーとしては、米国特許第5,16
4,289号に記載のピロロピラゾール系カプラー、特
開平4−174429号に記載のピロロイミダゾール系
カプラー等が使用できる。5,6−縮環複素環系カプラ
ーとしては、米国特許第4,950,585号に記載の
ピラゾロピリミジン系カプラー、特開平4−20473
0号に記載のピロロトリアジン系カプラー、欧州特許第
556,700号に記載のカプラー等が使用できる。
【0099】本発明には前述のカプラー以外に、西独特
許第3,819,051A号、同第3,823,049
号、米国特許第4,840,883号、同第5,02
4,930号、同第5,051,347号、同第4,4
81,268号、欧州特許第304,856A2号、同
第329,036号、同第354,549A2号、同第
374,781A2号、同第379,110A2号、同
第386,930A1号、特開昭63−141055
号、同64−32260号、同64−32261号、特
開平2−297547号、同2−44340号、同2−
110555号、同3−7938号、同3−16044
0号、同3−172839号、同4−172447号、
同4−179949号、同4−182645号、同4−
184437号、同4−188138号、同4−188
139号、同4−194847号、同4−204532
号、同4−204731号、同4−204732号等に
記載されているカプラーも使用できる。本発明に使用で
きるカプラーの具体例を以下に示すが、本発明はもちろ
んこれによって限定されるわけではない。
許第3,819,051A号、同第3,823,049
号、米国特許第4,840,883号、同第5,02
4,930号、同第5,051,347号、同第4,4
81,268号、欧州特許第304,856A2号、同
第329,036号、同第354,549A2号、同第
374,781A2号、同第379,110A2号、同
第386,930A1号、特開昭63−141055
号、同64−32260号、同64−32261号、特
開平2−297547号、同2−44340号、同2−
110555号、同3−7938号、同3−16044
0号、同3−172839号、同4−172447号、
同4−179949号、同4−182645号、同4−
184437号、同4−188138号、同4−188
139号、同4−194847号、同4−204532
号、同4−204731号、同4−204732号等に
記載されているカプラーも使用できる。本発明に使用で
きるカプラーの具体例を以下に示すが、本発明はもちろ
んこれによって限定されるわけではない。
【0100】
【化42】
【0101】
【化43】
【0102】
【化44】
【0103】
【化45】
【0104】
【化46】
【0105】
【化47】
【0106】
【化48】
【0107】
【化49】
【0108】
【化50】
【0109】
【化51】
【0110】
【化52】
【0111】
【化53】
【0112】
【化54】
【0113】
【化55】
【0114】
【化56】
【0115】
【化57】
【0116】
【化58】
【0117】
【化59】
【0118】
【化60】
【0119】
【化61】
【0120】
【化62】
【0121】
【化63】
【0122】本発明の一般式(3)〜(9)で表される
発色用還元剤は十分な発色濃度を得るために、発色層1
層当たり0.01〜10mmol/m2使用することが好まし
い。更に好ましい使用量は0.05〜5mmol/m2であり
特に好ましい使用量は0.1〜1mmol/m2である。この
範囲であると十分な発色濃度が得られる点で好ましい。
本発明の発色用還元剤が使用される発色層の一般式
(1)又は(2)で表される色素形成カプラーの好まし
い使用量は発色用還元剤に対してモル換算で0.05〜
20倍で、更に好ましくは0.1〜10倍、特に好まし
くは0.2〜5倍である。この範囲であると十分な発色
濃度が得られる点で好ましい。また、他の発色層に用い
られるカプラーにもこの量は適用される。
発色用還元剤は十分な発色濃度を得るために、発色層1
層当たり0.01〜10mmol/m2使用することが好まし
い。更に好ましい使用量は0.05〜5mmol/m2であり
特に好ましい使用量は0.1〜1mmol/m2である。この
範囲であると十分な発色濃度が得られる点で好ましい。
本発明の発色用還元剤が使用される発色層の一般式
(1)又は(2)で表される色素形成カプラーの好まし
い使用量は発色用還元剤に対してモル換算で0.05〜
20倍で、更に好ましくは0.1〜10倍、特に好まし
くは0.2〜5倍である。この範囲であると十分な発色
濃度が得られる点で好ましい。また、他の発色層に用い
られるカプラーにもこの量は適用される。
【0123】本発明の感光材料は、基本的には支持体に
少なくとも1層の親水性コロイド層からなる写真構成層
を塗布して成り、この写真構成層のいずれかに感光性ハ
ロゲン化銀、色素形成用カプラー、発色用還元剤を含有
する。本発明に用いる色素形成カプラーおよび発色用還
元剤は、同一層に添加することが最も代表的な態様であ
るが、反応可能な状態であれば分割して別層に添加する
ことができる。これらの成分は、感光材料中のハロゲン
化銀乳剤層又はその隣接層に添加されることが好まし
く、特にハロゲン化銀乳剤層にともに添加することが好
ましい。
少なくとも1層の親水性コロイド層からなる写真構成層
を塗布して成り、この写真構成層のいずれかに感光性ハ
ロゲン化銀、色素形成用カプラー、発色用還元剤を含有
する。本発明に用いる色素形成カプラーおよび発色用還
元剤は、同一層に添加することが最も代表的な態様であ
るが、反応可能な状態であれば分割して別層に添加する
ことができる。これらの成分は、感光材料中のハロゲン
化銀乳剤層又はその隣接層に添加されることが好まし
く、特にハロゲン化銀乳剤層にともに添加することが好
ましい。
【0124】本発明の発色用還元剤及びカプラーは種々
の公知分散方法により感光材料に導入でき、高沸点有機
溶媒(必要に応じて低沸点有機溶媒を併用)に溶解し、
ゼラチン水溶液に乳化分散してハロゲン化銀乳剤に添加
する水中油滴分散法が好ましい。本発明に用い得る高沸
点有機溶媒は、融点が100℃以下、沸点が140℃以
上の水と非混和性の化合物で、発色用還元剤、及びカプ
ラーの良溶媒であれば使用できる。高沸点有機溶媒の融
点は好ましくは80℃以下である。高沸点有機溶媒の沸
点は、好ましくは160℃以上であり、より好ましくは
170℃以上である。これらの高沸点有機溶媒の詳細に
ついては、特開昭62−215272号公開明細書の第
137頁右下欄〜144頁右上欄に記載されている。本
発明において、高沸点有機溶媒を使用する際に高沸点有
機溶媒の使用量はいかなる量であっても良いが、好まし
くは発色用還元剤に対して、重量比て高沸点有機溶媒/
発色用還元剤比が20以下が好ましく、0.02〜5が
更に好ましく、0.2〜4が特に好ましい。また本発明
には公知のポリマー分散法を用いても良い。ポリマー分
散法の一つとしてのラテックス分散法の工程、効果、含
浸用のラテックスの具体例は、米国特許4,199,3
63号、西独特許出願第(OLS)2,541,274
号、同第2,541,230号、特公昭53−4109
1号及び、欧州特許公開第029104号等に記載され
ており、又水不溶性かつ有機溶媒可溶性ポリマーによる
分散法についてPCT国際公開番号WO88/0072
3号明細書に記載されている。
の公知分散方法により感光材料に導入でき、高沸点有機
溶媒(必要に応じて低沸点有機溶媒を併用)に溶解し、
ゼラチン水溶液に乳化分散してハロゲン化銀乳剤に添加
する水中油滴分散法が好ましい。本発明に用い得る高沸
点有機溶媒は、融点が100℃以下、沸点が140℃以
上の水と非混和性の化合物で、発色用還元剤、及びカプ
ラーの良溶媒であれば使用できる。高沸点有機溶媒の融
点は好ましくは80℃以下である。高沸点有機溶媒の沸
点は、好ましくは160℃以上であり、より好ましくは
170℃以上である。これらの高沸点有機溶媒の詳細に
ついては、特開昭62−215272号公開明細書の第
137頁右下欄〜144頁右上欄に記載されている。本
発明において、高沸点有機溶媒を使用する際に高沸点有
機溶媒の使用量はいかなる量であっても良いが、好まし
くは発色用還元剤に対して、重量比て高沸点有機溶媒/
発色用還元剤比が20以下が好ましく、0.02〜5が
更に好ましく、0.2〜4が特に好ましい。また本発明
には公知のポリマー分散法を用いても良い。ポリマー分
散法の一つとしてのラテックス分散法の工程、効果、含
浸用のラテックスの具体例は、米国特許4,199,3
63号、西独特許出願第(OLS)2,541,274
号、同第2,541,230号、特公昭53−4109
1号及び、欧州特許公開第029104号等に記載され
ており、又水不溶性かつ有機溶媒可溶性ポリマーによる
分散法についてPCT国際公開番号WO88/0072
3号明細書に記載されている。
【0125】本発明の発色用還元剤を含有する親油性微
粒子の平均粒子サイズはいかなる粒子サイズであっても
よい。発色性の観点で0.05〜0.3μmにすること
が好ましい。また0.05μm〜0.2μmが更に好ま
しい。
粒子の平均粒子サイズはいかなる粒子サイズであっても
よい。発色性の観点で0.05〜0.3μmにすること
が好ましい。また0.05μm〜0.2μmが更に好ま
しい。
【0126】一般的に親油性微粒子の平均粒子サイズを
小さくするためには、界面活性剤の種類の選択、界面活
性剤の使用量を増やすこと、親水性コロイド溶液の粘度
を上げること、親油性有機層の粘度を低沸点有機溶媒の
併用などで低下させること、あるいは乳化装置の攪拌羽
根の回転を上げる等の剪断力を強くしたり、乳化時間を
長くすること等によって達成される。親油性微粒子の粒
子サイズは例えば英国コールター社製ナノサイザー等の
装置によって測定できる。
小さくするためには、界面活性剤の種類の選択、界面活
性剤の使用量を増やすこと、親水性コロイド溶液の粘度
を上げること、親油性有機層の粘度を低沸点有機溶媒の
併用などで低下させること、あるいは乳化装置の攪拌羽
根の回転を上げる等の剪断力を強くしたり、乳化時間を
長くすること等によって達成される。親油性微粒子の粒
子サイズは例えば英国コールター社製ナノサイザー等の
装置によって測定できる。
【0127】本発明においては補助現像主薬を好ましく
用いることができる。ここで補助現像主薬とはハロゲン
化銀現像の現像過程において、発色現像主薬からハロゲ
ン化銀への電子の移動を促進する作用を有する物質を意
味し、本発明における補助現像主薬は好ましくは一般式
(D−1)または一般式(D−2)で表されるケンダー
ル−ペルツ則に従う電子放出性の化合物である。この中
で(D−1)で表されるものが特に好ましい。
用いることができる。ここで補助現像主薬とはハロゲン
化銀現像の現像過程において、発色現像主薬からハロゲ
ン化銀への電子の移動を促進する作用を有する物質を意
味し、本発明における補助現像主薬は好ましくは一般式
(D−1)または一般式(D−2)で表されるケンダー
ル−ペルツ則に従う電子放出性の化合物である。この中
で(D−1)で表されるものが特に好ましい。
【0128】
【化64】
【0129】一般式(D−1)、(D−2)において、
R51〜R54は水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。R
55〜R59は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シリルオキシ
基、アシルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、ヘテロ環
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環
チオ基、シリル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコ
キシカルボニルオキシ基、シクロアルキルオキシカルボ
ニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルカ
ンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキルオ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カル
バモイル基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカ
ルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル
アミノ基、アルキルスルフィニル基、アレーンスルフィ
ニル基、アルカンスルホニル基、アレーンスルホニル
基、スルファモイル基、スルホ基、ホスフィノイル基、
ホスフィノイルアミノ基を表す。qは0〜5の整数を表
し、qが2以上のときにはR55はそれぞれ異なっていて
も良い。R60はアルキル基、アリール基を表す。
R51〜R54は水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。R
55〜R59は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シリルオキシ
基、アシルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、ヘテロ環
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環
チオ基、シリル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコ
キシカルボニルオキシ基、シクロアルキルオキシカルボ
ニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルカ
ンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、シクロアルキルオ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カル
バモイル基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカ
ルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル
アミノ基、アルキルスルフィニル基、アレーンスルフィ
ニル基、アルカンスルホニル基、アレーンスルホニル
基、スルファモイル基、スルホ基、ホスフィノイル基、
ホスフィノイルアミノ基を表す。qは0〜5の整数を表
し、qが2以上のときにはR55はそれぞれ異なっていて
も良い。R60はアルキル基、アリール基を表す。
【0130】一般式(D−1)または(D−2)で表さ
れる化合物を具体的に示すが、本発明に用いられる補助
現像主薬はこれら具体例に限定されるものではない。
れる化合物を具体的に示すが、本発明に用いられる補助
現像主薬はこれら具体例に限定されるものではない。
【0131】
【化65】
【0132】
【化66】
【0133】
【化67】
【0134】
【化68】
【0135】
【化69】
【0136】本発明においては一般式(A)で表される
ような処理時に写真的に有用な基を放出するブロックさ
れた写真用試薬を用いることができる。 一般式(A) A−(L)n−PUG Aは現像処理時に(L)n−PUGとの結合が開裂する
ブロック基を表し、Lは一般式(A)におけるLの左側
の結合が開裂した後、Lの右側の結合が開裂する連結基
を表し、nは0〜3の整数を表し、PUGは写真有用基
を表す。以下に一般式(A)で表される基について説明
する。Aで表されるブロック基としては、すでに知られ
ている以下のものを適用できる。すなわち、特公昭48
−9968号、特開昭52−8828号、同57−82
834号、米国特許第3,311,476号、および特
公昭47−44805号(米国特許第3,615,61
7号)等に記載されているアシル基、スルホニル基等の
ブロック基、特公昭55−17369号(米国特許第
3,888,677号)、同55−9696号(米国特
許第3,791,830号)、同55−34927号
(米国特許第4,009,029号)、特開昭56−7
7842号(米国特許第4,307,175号)、同5
9−105640号、同59−105641号、およぴ
同59−105642号等に記載されている逆マイケル
反応を利用するブロック基、特公昭54−39727
号、米国特許第3,674,478号、同3,932,
480号、同3,993,661号、特開昭57−13
5944号、同57−135,945号(米国特許第
4,420,554号)、同57−136640号、同
61−196239号、同61−196240号(米国
特許第4,702,999号)、同61−185743
号、同61−124941号(米国特許第4,639,
408号)および特開平2−280140号等に記載さ
れている分子内電子移動によりキノンメチドまたはキノ
ンメチド類似の化合物の生成を利用するブロック基、
ような処理時に写真的に有用な基を放出するブロックさ
れた写真用試薬を用いることができる。 一般式(A) A−(L)n−PUG Aは現像処理時に(L)n−PUGとの結合が開裂する
ブロック基を表し、Lは一般式(A)におけるLの左側
の結合が開裂した後、Lの右側の結合が開裂する連結基
を表し、nは0〜3の整数を表し、PUGは写真有用基
を表す。以下に一般式(A)で表される基について説明
する。Aで表されるブロック基としては、すでに知られ
ている以下のものを適用できる。すなわち、特公昭48
−9968号、特開昭52−8828号、同57−82
834号、米国特許第3,311,476号、および特
公昭47−44805号(米国特許第3,615,61
7号)等に記載されているアシル基、スルホニル基等の
ブロック基、特公昭55−17369号(米国特許第
3,888,677号)、同55−9696号(米国特
許第3,791,830号)、同55−34927号
(米国特許第4,009,029号)、特開昭56−7
7842号(米国特許第4,307,175号)、同5
9−105640号、同59−105641号、およぴ
同59−105642号等に記載されている逆マイケル
反応を利用するブロック基、特公昭54−39727
号、米国特許第3,674,478号、同3,932,
480号、同3,993,661号、特開昭57−13
5944号、同57−135,945号(米国特許第
4,420,554号)、同57−136640号、同
61−196239号、同61−196240号(米国
特許第4,702,999号)、同61−185743
号、同61−124941号(米国特許第4,639,
408号)および特開平2−280140号等に記載さ
れている分子内電子移動によりキノンメチドまたはキノ
ンメチド類似の化合物の生成を利用するブロック基、
【0137】米国特許第4,358,525号、同4,
330,617号、特開昭55−53330号(米国特
許第4,310,612号)、同59−121328
号、同59−218439号、および同63−3185
55号(欧州公開特許第0295729号)等に記載さ
れている分子内求核置換反応を利用するブロック基、特
開昭57−76541号(米国特許第4,335,20
0号)、同57−135949号(米国特許第4,35
0,752号)、同57−179842号、同59−1
37945号、同59−140445号、同59−21
9741号、同59−202459号、同60−410
34号(米国特許第4,618,563号)、同62−
59945号(米国特許第4,888,268号)、同
62−65039号(米国特許第4,772,537
号)、同62−80647号、特開平3−236047
号および同3−238445号等に記載されている5員
または6員環の環開裂を利用するブロック基、特開昭5
9−201057号(米国特許第4,518,685
号)、同61−95346号(米国特許第4,690,
885号)、同61−95347号(米国特許第4,8
92,811号)、特開昭64−7035号、特開昭6
4−42650号(米国特許第5,066,573
号)、特開平1−245255号、同2−207249
号、同2−235055号(米国特許第5,118,5
96号)および同4−186344号等に記載されてい
る共役不飽和結合への求核剤の付加反応を利用するブロ
ック基、
330,617号、特開昭55−53330号(米国特
許第4,310,612号)、同59−121328
号、同59−218439号、および同63−3185
55号(欧州公開特許第0295729号)等に記載さ
れている分子内求核置換反応を利用するブロック基、特
開昭57−76541号(米国特許第4,335,20
0号)、同57−135949号(米国特許第4,35
0,752号)、同57−179842号、同59−1
37945号、同59−140445号、同59−21
9741号、同59−202459号、同60−410
34号(米国特許第4,618,563号)、同62−
59945号(米国特許第4,888,268号)、同
62−65039号(米国特許第4,772,537
号)、同62−80647号、特開平3−236047
号および同3−238445号等に記載されている5員
または6員環の環開裂を利用するブロック基、特開昭5
9−201057号(米国特許第4,518,685
号)、同61−95346号(米国特許第4,690,
885号)、同61−95347号(米国特許第4,8
92,811号)、特開昭64−7035号、特開昭6
4−42650号(米国特許第5,066,573
号)、特開平1−245255号、同2−207249
号、同2−235055号(米国特許第5,118,5
96号)および同4−186344号等に記載されてい
る共役不飽和結合への求核剤の付加反応を利用するブロ
ック基、
【0138】特開昭59−93442号、同61−32
839号、同62−163051号および特公平5−3
7299号等に記載されているβ−脱離反応を利用する
ブロック基、特開昭61−188540号に記載されて
いるジアリールメタン類の求核置換反応を利用したブロ
ック基、特開昭62−187850号に記載されている
ロッセン転位反応を利用したブロック基、特開昭62−
80646号、同62−144163号および同62−
147457号に記載されているチアゾリジン−2−チ
オンのN−アシル体とアミン類との反応を利用したブロ
ック基、特開平2−296240号(米国特許第5,0
19,492号)、同4−177243号、同4−17
7244号、同4−177245号、同4−17724
6号、同4−177247号、同4−177248号、
同4−177249号、同4−179948号、同4−
184337号、同4−184338号、国際公開特許
92/21064号、特開平4−330438号、国際
公開特許93/03419号および特開平5−4581
6号に記載されている、2個の求電子基を有して二求核
剤と反応するブロック基、特開平3−236047号お
よび同3−238445号を挙げることができる。
839号、同62−163051号および特公平5−3
7299号等に記載されているβ−脱離反応を利用する
ブロック基、特開昭61−188540号に記載されて
いるジアリールメタン類の求核置換反応を利用したブロ
ック基、特開昭62−187850号に記載されている
ロッセン転位反応を利用したブロック基、特開昭62−
80646号、同62−144163号および同62−
147457号に記載されているチアゾリジン−2−チ
オンのN−アシル体とアミン類との反応を利用したブロ
ック基、特開平2−296240号(米国特許第5,0
19,492号)、同4−177243号、同4−17
7244号、同4−177245号、同4−17724
6号、同4−177247号、同4−177248号、
同4−177249号、同4−179948号、同4−
184337号、同4−184338号、国際公開特許
92/21064号、特開平4−330438号、国際
公開特許93/03419号および特開平5−4581
6号に記載されている、2個の求電子基を有して二求核
剤と反応するブロック基、特開平3−236047号お
よび同3−238445号を挙げることができる。
【0139】一般式(A)で表される化合物においてL
で表される基は現像処理時Aで表される基より離脱した
後、(L)n-1−PUGを開裂することが可能な連結基
であればどんなものであっても良い。例えば、米国特許
第4,146,396号、同第4,652,516号ま
たは同4,698,297号に記載のあるヘミアセチル
タール環の開裂を利用する基、米国特許第4,248,
962号、同第4,847,185号または同第4,8
57,440号に記載のある分子内求核置換反応を起こ
させるタイミング基、米国特許第4,409,323号
もしくは同第4,421,845号に記載のある電子移
動反応を利用して開裂反応を起こさせるタイミング基、
米国特許第4,546,073号に記載のあるイミノケ
タールの加水分解反応を利用して開裂反応を起こさせる
基、西独公開特許第2,626,317号に記載のある
エステルの加水分解反応を利用して開裂反応を起こさせ
る基、または欧州特許第0572084号に記載の亜硫
酸イオンとの反応を利用して開裂反応を起こさせる基が
挙げられる。
で表される基は現像処理時Aで表される基より離脱した
後、(L)n-1−PUGを開裂することが可能な連結基
であればどんなものであっても良い。例えば、米国特許
第4,146,396号、同第4,652,516号ま
たは同4,698,297号に記載のあるヘミアセチル
タール環の開裂を利用する基、米国特許第4,248,
962号、同第4,847,185号または同第4,8
57,440号に記載のある分子内求核置換反応を起こ
させるタイミング基、米国特許第4,409,323号
もしくは同第4,421,845号に記載のある電子移
動反応を利用して開裂反応を起こさせるタイミング基、
米国特許第4,546,073号に記載のあるイミノケ
タールの加水分解反応を利用して開裂反応を起こさせる
基、西独公開特許第2,626,317号に記載のある
エステルの加水分解反応を利用して開裂反応を起こさせ
る基、または欧州特許第0572084号に記載の亜硫
酸イオンとの反応を利用して開裂反応を起こさせる基が
挙げられる。
【0140】次に、一般式(A)におけるPUGについ
て説明する。一般式(A)におけるPUGはカブリ防止
剤、写真用染料などの写真的に有用な基を表すが、本発
明においては一般式(D−1)、(D−2)で表される
補助現像主薬がPUGとして特に好ましく用いられる。
一般式(D−1)、(D−2)で表される補助現像主薬
が一般式(A)のPUGに相当する場合には、その結合
位置は補助現像主薬の酸素原子または窒素原子である。
て説明する。一般式(A)におけるPUGはカブリ防止
剤、写真用染料などの写真的に有用な基を表すが、本発
明においては一般式(D−1)、(D−2)で表される
補助現像主薬がPUGとして特に好ましく用いられる。
一般式(D−1)、(D−2)で表される補助現像主薬
が一般式(A)のPUGに相当する場合には、その結合
位置は補助現像主薬の酸素原子または窒素原子である。
【0141】本発明の感光材料には、現像の活性化と同
時に画像の安定化を図る化合物を用いることができる。
好ましく用いられる具体的な化合物については米国特許
第4,500,626号の第51〜52欄に記載されて
いる。
時に画像の安定化を図る化合物を用いることができる。
好ましく用いられる具体的な化合物については米国特許
第4,500,626号の第51〜52欄に記載されて
いる。
【0142】イエロー、マゼンタ、シアンの3原色を用
いて、色度図上の広範囲の色を得るためには、少なくと
も3層のそれぞれ異なるスペクトル領域に感光性を持つ
ハロゲン化銀乳剤層を組み合わせて用いる。例えば、青
感層、緑感層、赤感層の3層、緑感層、赤感層、赤外感
層の組み合わせなどがある。各感光層は通常のカラー感
光材料で知られている種々の配列順序を採ることができ
る。また、これらの各感光層は必要に応じて2層以上に
分割してもよい。
いて、色度図上の広範囲の色を得るためには、少なくと
も3層のそれぞれ異なるスペクトル領域に感光性を持つ
ハロゲン化銀乳剤層を組み合わせて用いる。例えば、青
感層、緑感層、赤感層の3層、緑感層、赤感層、赤外感
層の組み合わせなどがある。各感光層は通常のカラー感
光材料で知られている種々の配列順序を採ることができ
る。また、これらの各感光層は必要に応じて2層以上に
分割してもよい。
【0143】感光材料には、保護層、下塗り層、中間
層、アンチハレーション層、バック層などの種々の補助
層を設けることができる。さらに色分離性を改良するた
めに種々のフィルター染料を添加することもできる。
層、アンチハレーション層、バック層などの種々の補助
層を設けることができる。さらに色分離性を改良するた
めに種々のフィルター染料を添加することもできる。
【0144】本発明に使用し得るハロゲン化銀乳剤は、
塩化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、塩沃
臭化銀のいずれでもよい。木発明で使用するハロゲン化
銀乳剤は表面潜像型乳剤であっても、内部潜像型乳剤で
あってもよい。内部潜像型乳剤は造核剤や光カブラセと
を組合わせて直接反転乳剤として使用される。また、粒
子内部と粒子表層が異なる相を持ったいわゆるコアシェ
ル乳剤であってもよく、またエピタキシャル接合によっ
て組成の異なるハロゲン化銀が接合されていても良い。
ハロゲン化銀乳剤は単分散でも多分散でもよく、特開平
1−167,743号、同4−223,643号記載の
ように単分散乳剤を混合し、階調を調節する方法が好ま
しく用いられる。粒子サイズは0.1〜2μm、特に
0.2〜1.5μmが好ましい。ハロゲン化銀粒子の晶
癖は立方体、8面体.14面体のような規則的な結晶を
有するもの、球状、高アスペクト比の平板状のような変
則的な結晶系を有するもの、双晶面のような結晶欠陥を
有するもの、あるいはそれらの複合系その他のいずれで
もよい。具体的には、米国特許第4,500,626号
第50欄、同4,628,021号、リサーチ・ディス
クロージヤー誌(以下RDと略記する)No.17,0
29(1978年)、同No.17,643(1978
年12月)22〜23頁、同No.18,716(19
79年11月)、648頁、同No.307,105
(1989年11月)863〜865頁、特開昭62−
253,159号、同64−13,546号、特開平2
−236,546号、同3−110,555号、および
グラフキデ著「写真の物理と化学」、ポールモンテ社刊
(P.Glafkides, Chemie et Phisique Photographique,
PaulMontel, 1967)、ダフイン著「写真乳剤化学」、フ
ォーカルプレス社刊(C.F.Duffin, Photographic Emuls
ion Chemistry, Focal Press, 1966)、ゼリクマンら著
「写真乳剤の製造と塗布」、フォーカルプレス社刊(V.
L.Zelikman et al.,Making and Coating Photographic
Emulsion, Focal Press, 1964)等に記載されている方
法を用いて調製したハロゲン化銀乳剤のいずれもが使用
できる。
塩化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、塩沃
臭化銀のいずれでもよい。木発明で使用するハロゲン化
銀乳剤は表面潜像型乳剤であっても、内部潜像型乳剤で
あってもよい。内部潜像型乳剤は造核剤や光カブラセと
を組合わせて直接反転乳剤として使用される。また、粒
子内部と粒子表層が異なる相を持ったいわゆるコアシェ
ル乳剤であってもよく、またエピタキシャル接合によっ
て組成の異なるハロゲン化銀が接合されていても良い。
ハロゲン化銀乳剤は単分散でも多分散でもよく、特開平
1−167,743号、同4−223,643号記載の
ように単分散乳剤を混合し、階調を調節する方法が好ま
しく用いられる。粒子サイズは0.1〜2μm、特に
0.2〜1.5μmが好ましい。ハロゲン化銀粒子の晶
癖は立方体、8面体.14面体のような規則的な結晶を
有するもの、球状、高アスペクト比の平板状のような変
則的な結晶系を有するもの、双晶面のような結晶欠陥を
有するもの、あるいはそれらの複合系その他のいずれで
もよい。具体的には、米国特許第4,500,626号
第50欄、同4,628,021号、リサーチ・ディス
クロージヤー誌(以下RDと略記する)No.17,0
29(1978年)、同No.17,643(1978
年12月)22〜23頁、同No.18,716(19
79年11月)、648頁、同No.307,105
(1989年11月)863〜865頁、特開昭62−
253,159号、同64−13,546号、特開平2
−236,546号、同3−110,555号、および
グラフキデ著「写真の物理と化学」、ポールモンテ社刊
(P.Glafkides, Chemie et Phisique Photographique,
PaulMontel, 1967)、ダフイン著「写真乳剤化学」、フ
ォーカルプレス社刊(C.F.Duffin, Photographic Emuls
ion Chemistry, Focal Press, 1966)、ゼリクマンら著
「写真乳剤の製造と塗布」、フォーカルプレス社刊(V.
L.Zelikman et al.,Making and Coating Photographic
Emulsion, Focal Press, 1964)等に記載されている方
法を用いて調製したハロゲン化銀乳剤のいずれもが使用
できる。
【0145】前記の平板状粒子を用いた場合、被覆力が
上がること、増感色素による色増感効率が上がることな
どの利点があり、米国特許第4,434,226号に詳
しく述べられている。粒子の全投影面積の80%以上の
平均アスペクト比として、1以上100未満が望まし
い。より好ましくは2以上20未満であり、特に好まし
くは3以上10未満である。平均粒子の形状として三角
形、六角形、円形などを選ぶことができる。米国特許第
4,798,354号に記載されているような六辺の長
さがほぼ等しい正六角形は好ましい形態である。平均粒
子の粒子サイズとして投影面積の円相当直径を用いるこ
とが多いが、米国特許第4,748,106号に記載さ
れているような平均直径が0.6ミクロン以下の粒子は
高画質化にとって好ましい。また、米国特許第4,77
5,617号に記載されているような粒子サイズ分布の
狭い乳剤も好ましい。平板粒子の形状として粒子厚みを
0.5ミクロン以下、より好ましくは0.3ミクロン以
下に限定するのは鮮鋭度を高める上で好ましい。さらに
粒子厚みの変動係数が30%以下の厚みの均一性が高い
乳剤も好ましい。さらに特開昭63−163451号に
記載されている粒子の厚みと双晶面の面間距離を規走し
た粒子も好ましいものである。平板粒子の場合には透過
型の電子顕微鏡により転位線の観察が可能である。転位
線をまったく含まない粒子、数本の転位を含む粒子ある
いは多数の転位を含む粒子を目的に応じて選ぶことは好
ましい。また、粒子の結晶方位の特定の方向に対して直
線的に導入された転位あるいは曲がった転位を選ぶこと
もできるし、粒子全体に渡って導入する、あるいは粒子
の特定の部分にのみ導入する、例えば粒子のフリンジ部
に限定して転位を導入する、などの中から選ぶことがで
きる。転位線の導入は平板粒子の場合だけでなく、正常
晶粒子あるいはジャガイモ粒子に代表される不定型粒子
の場合にも好ましい。この場合にも粒子の頂点、稜など
の特定の部分に限定することは好ましい形態である。
上がること、増感色素による色増感効率が上がることな
どの利点があり、米国特許第4,434,226号に詳
しく述べられている。粒子の全投影面積の80%以上の
平均アスペクト比として、1以上100未満が望まし
い。より好ましくは2以上20未満であり、特に好まし
くは3以上10未満である。平均粒子の形状として三角
形、六角形、円形などを選ぶことができる。米国特許第
4,798,354号に記載されているような六辺の長
さがほぼ等しい正六角形は好ましい形態である。平均粒
子の粒子サイズとして投影面積の円相当直径を用いるこ
とが多いが、米国特許第4,748,106号に記載さ
れているような平均直径が0.6ミクロン以下の粒子は
高画質化にとって好ましい。また、米国特許第4,77
5,617号に記載されているような粒子サイズ分布の
狭い乳剤も好ましい。平板粒子の形状として粒子厚みを
0.5ミクロン以下、より好ましくは0.3ミクロン以
下に限定するのは鮮鋭度を高める上で好ましい。さらに
粒子厚みの変動係数が30%以下の厚みの均一性が高い
乳剤も好ましい。さらに特開昭63−163451号に
記載されている粒子の厚みと双晶面の面間距離を規走し
た粒子も好ましいものである。平板粒子の場合には透過
型の電子顕微鏡により転位線の観察が可能である。転位
線をまったく含まない粒子、数本の転位を含む粒子ある
いは多数の転位を含む粒子を目的に応じて選ぶことは好
ましい。また、粒子の結晶方位の特定の方向に対して直
線的に導入された転位あるいは曲がった転位を選ぶこと
もできるし、粒子全体に渡って導入する、あるいは粒子
の特定の部分にのみ導入する、例えば粒子のフリンジ部
に限定して転位を導入する、などの中から選ぶことがで
きる。転位線の導入は平板粒子の場合だけでなく、正常
晶粒子あるいはジャガイモ粒子に代表される不定型粒子
の場合にも好ましい。この場合にも粒子の頂点、稜など
の特定の部分に限定することは好ましい形態である。
【0146】本発明で使用する感光性ハロゲン化銀乳剤
は、種々の目的でイリジウム、ロジウム、白金、カドミ
ウム、亜鉛、タリウム、鉛、鉄、オスミウム、クロムな
どの重金属を含有させても良い。これらの化合物は、単
独で用いても良いしまた2種以上組み合わせて用いても
よい。また、これらの化合物は、塩化物、臭化物、シア
ン化物等の塩のほか、種々の錯塩で添加することが山来
る。添加量は、使用する目的によるが一般的には、ハロ
ゲン化銀1モルあたリ10-9〜10-3モル程度である。
また含有させる時には、粒子に均一に入れてもよいし、
また粒子の内部や表面に局在させてもよい。具体的に
は、特開平2−236,542号、同1−116,63
7号、特開平5−181246号等に記載の乳剤が好ま
しく用いられる。また、粒子成長を速めるために、添加
する銀塩およびハロゲン塩の添加濃度、添加量、添加速
度を上昇させてもよい(特開昭55−142,329
号、同55−158,124号、米国特許第3,65
0,757号等)。さらに反応液の攪拌方法は、公知の
いずれの攪拌方法でもよい。またハロゲン化銀粒子形成
中の反応液の温度、pHは、目的に応じてどのように設
定してもよい。好ましいpH範囲は2.2〜8.5、よ
り好ましくは2.5〜7.5である。熱現像感光材料の
場合には、感光性ハロゲン化銀乳剤と共に有機銀塩酸化
剤を用いても良いが、それを形成するのに使用しうる有
機化合物としては、米国特許第4,500,626号第
52〜53欄に記載のベンゾトリアゾール類、脂肪酸そ
の他の化合物がある。また米国特許第4,775,61
3号記載のアセチレン銀も有用である。有機銀塩は2種
以上を併用してもよい。以上の有機銀塩は、感光性ハロ
ゲン化銀1モル当たり、0.01〜10モル、好ましく
は0.01〜1モルを併用することができる。感光性ハ
ロゲン化銀乳剤と有機銀塩の塗布量合計は銀換算で0.
05〜10g/m2、好ましくは0.1〜4g/m2が適当
である。感光性ハロゲン化銀乳剤は通常は化学増感され
たハロゲン化銀乳剤である。本発明の感光性ハロゲン化
銀乳剤の化学増感には、公知の硫黄増感法、セレン増感
法、テルル増感法などのカルコゲン増感法、金、白金、
パラジウムなどを用いる貴金属増感法および還元増感法
などを単独または組み合わせて用いることができる(例
えば特開平3−110,555号、特開平5−2412
67号など)。テルル増感剤としては、カナダ特許第8
00,958号、英国特許第1,295,462号、同
第1,396,696号、特願平2−333819号、
同3−131598号に記載の化合物を用いることがで
き、具体的なテルル増感剤としては、コロイド状テル
ル、テルロ尿素類(例えば、テトラメチルテルロ尿素、
N−カルボキシエチル−N′,N′−ジメチルテルロ尿
素、N,N′−ジメチルエチレンテルロ尿素)、イソテ
ルロシアナート類、テルロケトン類、テルロアミド類、
テルロヒドラジド類、テルロエステル類、ホスフィンテ
ルリド類(例えば、トリブチルホスフィンテルリド、ブ
チルシイソプロピルホスフィンテルリド)、他のテルル
化合物(例えば、ポタシウムテルロシアナート、テルロ
ペンタチオネートナトリウム塩)等が挙げられる。テル
ル増感剤の使用量は、ハロゲン化銀1モル当たり10-7
〜5×10-2モル、好ましくは5×10-7〜10-3モル
程度である。また、ハロゲン化銀乳剤の製造工程中に、
銀に対する酸化剤を用いる事が好ましい。好ましい酸化
剤は、オゾン、過酸化水素およびその付加物、ハロゲン
元素、チオスルホン酸塩の無機酸化剤およびキノン類の
有機酸化剤である。前述の還元増感と銀に対する酸化剤
を併用するのは好ましい態様である。酸化剤を用いた
後、還元増感を施す方法、その逆方法あるいは両者を同
時に共存させる方法のなかから選んで用いることができ
る。これらの方法は粒子形成工程でも化学増感工程でも
選んで用いることができる これらの化学増感を含窒素複素環化合物の存在下で行う
こともできる(特開昭62−253,159号)。また
後掲するかぶリ防止剤を化学増感終了後に添加すること
ができる。具体的には特開平5−45,833号、特開
昭62−40,446号記載の方法を用いることができ
る。化学増感時のpHは好ましくは5.3〜10.5、
より好ましくは5.5〜8.5であり、pAgは好まし
くは6.0〜10.5、より好ましくは6.8〜9.0
である。本発明において使用される感光性ハロゲン化銀
乳剤の塗布量は、銀換算1mgないし10g/m2の範囲で
ある。
は、種々の目的でイリジウム、ロジウム、白金、カドミ
ウム、亜鉛、タリウム、鉛、鉄、オスミウム、クロムな
どの重金属を含有させても良い。これらの化合物は、単
独で用いても良いしまた2種以上組み合わせて用いても
よい。また、これらの化合物は、塩化物、臭化物、シア
ン化物等の塩のほか、種々の錯塩で添加することが山来
る。添加量は、使用する目的によるが一般的には、ハロ
ゲン化銀1モルあたリ10-9〜10-3モル程度である。
また含有させる時には、粒子に均一に入れてもよいし、
また粒子の内部や表面に局在させてもよい。具体的に
は、特開平2−236,542号、同1−116,63
7号、特開平5−181246号等に記載の乳剤が好ま
しく用いられる。また、粒子成長を速めるために、添加
する銀塩およびハロゲン塩の添加濃度、添加量、添加速
度を上昇させてもよい(特開昭55−142,329
号、同55−158,124号、米国特許第3,65
0,757号等)。さらに反応液の攪拌方法は、公知の
いずれの攪拌方法でもよい。またハロゲン化銀粒子形成
中の反応液の温度、pHは、目的に応じてどのように設
定してもよい。好ましいpH範囲は2.2〜8.5、よ
り好ましくは2.5〜7.5である。熱現像感光材料の
場合には、感光性ハロゲン化銀乳剤と共に有機銀塩酸化
剤を用いても良いが、それを形成するのに使用しうる有
機化合物としては、米国特許第4,500,626号第
52〜53欄に記載のベンゾトリアゾール類、脂肪酸そ
の他の化合物がある。また米国特許第4,775,61
3号記載のアセチレン銀も有用である。有機銀塩は2種
以上を併用してもよい。以上の有機銀塩は、感光性ハロ
ゲン化銀1モル当たり、0.01〜10モル、好ましく
は0.01〜1モルを併用することができる。感光性ハ
ロゲン化銀乳剤と有機銀塩の塗布量合計は銀換算で0.
05〜10g/m2、好ましくは0.1〜4g/m2が適当
である。感光性ハロゲン化銀乳剤は通常は化学増感され
たハロゲン化銀乳剤である。本発明の感光性ハロゲン化
銀乳剤の化学増感には、公知の硫黄増感法、セレン増感
法、テルル増感法などのカルコゲン増感法、金、白金、
パラジウムなどを用いる貴金属増感法および還元増感法
などを単独または組み合わせて用いることができる(例
えば特開平3−110,555号、特開平5−2412
67号など)。テルル増感剤としては、カナダ特許第8
00,958号、英国特許第1,295,462号、同
第1,396,696号、特願平2−333819号、
同3−131598号に記載の化合物を用いることがで
き、具体的なテルル増感剤としては、コロイド状テル
ル、テルロ尿素類(例えば、テトラメチルテルロ尿素、
N−カルボキシエチル−N′,N′−ジメチルテルロ尿
素、N,N′−ジメチルエチレンテルロ尿素)、イソテ
ルロシアナート類、テルロケトン類、テルロアミド類、
テルロヒドラジド類、テルロエステル類、ホスフィンテ
ルリド類(例えば、トリブチルホスフィンテルリド、ブ
チルシイソプロピルホスフィンテルリド)、他のテルル
化合物(例えば、ポタシウムテルロシアナート、テルロ
ペンタチオネートナトリウム塩)等が挙げられる。テル
ル増感剤の使用量は、ハロゲン化銀1モル当たり10-7
〜5×10-2モル、好ましくは5×10-7〜10-3モル
程度である。また、ハロゲン化銀乳剤の製造工程中に、
銀に対する酸化剤を用いる事が好ましい。好ましい酸化
剤は、オゾン、過酸化水素およびその付加物、ハロゲン
元素、チオスルホン酸塩の無機酸化剤およびキノン類の
有機酸化剤である。前述の還元増感と銀に対する酸化剤
を併用するのは好ましい態様である。酸化剤を用いた
後、還元増感を施す方法、その逆方法あるいは両者を同
時に共存させる方法のなかから選んで用いることができ
る。これらの方法は粒子形成工程でも化学増感工程でも
選んで用いることができる これらの化学増感を含窒素複素環化合物の存在下で行う
こともできる(特開昭62−253,159号)。また
後掲するかぶリ防止剤を化学増感終了後に添加すること
ができる。具体的には特開平5−45,833号、特開
昭62−40,446号記載の方法を用いることができ
る。化学増感時のpHは好ましくは5.3〜10.5、
より好ましくは5.5〜8.5であり、pAgは好まし
くは6.0〜10.5、より好ましくは6.8〜9.0
である。本発明において使用される感光性ハロゲン化銀
乳剤の塗布量は、銀換算1mgないし10g/m2の範囲で
ある。
【0147】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀に
緑感性、赤感性、赤外感性の感色性を持たせるために
は、感光性ハロゲン化銀乳剤をメチン色素類その他によ
って分光増感する。また、必要に応じて青感性乳剤に青
色領域の分光増感を施してもよい。用いられる色素に
は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色
素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色
素、ヘミンアニン色素、スチリル色素およびヘミオキソ
ノール色素が包含される。具体的には、米国特許第4,
617,257号、特開昭59−180,550号、同
64−13,546号、特開平5−45,828号、同
5−45,834号などに記載の増感色素が挙げられ
る。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組合わせを用いてもよく、増感色素の組合わせは特
に、強色増感や分光感度の波長調節の目的でしばしば用
いられる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用を
持たない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない化合
物であって、強色増感を示す化合物を乳剤中に含んでも
よい(例えば米国特許第3,615,641号、特開昭
63−23,145号等に記載のもの)。これらの増感
色素を乳剤中に添加する時期は化学熟成時もしくはその
前後でもよいし、米国特許第4,183,756号、同
4,225,666号に従ってハロゲン化銀粒子の核形
成前後でもよい。またこれらの増感色素や強色増感剤
は、メタノールなどの有機溶媒の溶液、ゼラチンなどの
分散物あるいは界面活性剤の溶液で添加すればよい。添
加量は一般にハロゲン化銀1モル当り10-5〜10-2モ
ル程度である。
緑感性、赤感性、赤外感性の感色性を持たせるために
は、感光性ハロゲン化銀乳剤をメチン色素類その他によ
って分光増感する。また、必要に応じて青感性乳剤に青
色領域の分光増感を施してもよい。用いられる色素に
は、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色
素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色
素、ヘミンアニン色素、スチリル色素およびヘミオキソ
ノール色素が包含される。具体的には、米国特許第4,
617,257号、特開昭59−180,550号、同
64−13,546号、特開平5−45,828号、同
5−45,834号などに記載の増感色素が挙げられ
る。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組合わせを用いてもよく、増感色素の組合わせは特
に、強色増感や分光感度の波長調節の目的でしばしば用
いられる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用を
持たない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない化合
物であって、強色増感を示す化合物を乳剤中に含んでも
よい(例えば米国特許第3,615,641号、特開昭
63−23,145号等に記載のもの)。これらの増感
色素を乳剤中に添加する時期は化学熟成時もしくはその
前後でもよいし、米国特許第4,183,756号、同
4,225,666号に従ってハロゲン化銀粒子の核形
成前後でもよい。またこれらの増感色素や強色増感剤
は、メタノールなどの有機溶媒の溶液、ゼラチンなどの
分散物あるいは界面活性剤の溶液で添加すればよい。添
加量は一般にハロゲン化銀1モル当り10-5〜10-2モ
ル程度である。
【0148】このような工程で使用される添加剤および
感光材料や色素固定材料に使用できる公知の写真用添加
剤は、前記のRDNo.17,643、同No.18,716
号および同No.307,105に記載されており、その
該当箇所を下記の表にまとめる。
感光材料や色素固定材料に使用できる公知の写真用添加
剤は、前記のRDNo.17,643、同No.18,716
号および同No.307,105に記載されており、その
該当箇所を下記の表にまとめる。
【0149】 添加剤の種類 RD17643 RD18716 RD307105 1.化学増感剤 23頁 648頁右欄 866頁 2.感度上昇剤 648頁右欄 3.分光増感剤 23〜24頁 648頁右欄〜 866〜868頁 強色増感剤 649頁右欄 4.蛍光増白剤 24頁 648頁右欄 868頁 5.かぶり防止 24〜25頁 649頁右欄 868〜870頁 剤、安定剤 6.光吸収剤、 25〜26頁 649頁右欄 873頁 フィルター 650頁左欄 染料、紫外 線吸収剤 7.ステイン防 25頁右欄 650頁左欄〜 872頁 止剤 右欄 8.色素画像安 25頁 650頁左欄 872頁 定剤 9.硬膜剤 26頁 651頁左欄 874〜875頁 10.バインダー 26頁 651頁左欄 873〜874頁 11.可塑剤、 27頁 650頁右欄 876頁 潤滑剤 12.塗布助剤、 26〜27頁 650頁右欄 875〜876頁 表面活性剤 13.スタチック 27頁 650頁右欄 876〜877頁 防止剤 14.マット剤 873〜879頁
【0150】感光材料の構成層のバインダーには親水性
ものが好ましく用いられる。その例としては前記のリサ
ーチ・ディスクロージャーおよび特開昭64−13,5
46号の(71)頁〜(75)頁に記載されたものが挙げら
れる。具体的には、透明か半透明の親水性バインダーが
好ましく、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体等が挙げら
れる。ゼラチンは、種々の目的に応じて石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチン、カルシウムなどの含有量を減らし
たいわゆる脱灰ゼラチンから選択すれば良く、組み合わ
せて用いることも好ましい。
ものが好ましく用いられる。その例としては前記のリサ
ーチ・ディスクロージャーおよび特開昭64−13,5
46号の(71)頁〜(75)頁に記載されたものが挙げら
れる。具体的には、透明か半透明の親水性バインダーが
好ましく、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体等が挙げら
れる。ゼラチンは、種々の目的に応じて石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチン、カルシウムなどの含有量を減らし
たいわゆる脱灰ゼラチンから選択すれば良く、組み合わ
せて用いることも好ましい。
【0151】本発明のカラー写真感光材料に用いること
ができるその他の技術および無機・有機素材について
は、欧州特許第436,938A2号の下記の箇所及び
下記に引用の特許に記載されている。 1.層構成: 第146頁34行目〜第147頁25行目 2.防腐・防黴剤: 第150頁25行目〜28行目 3.ホルマリンスカベンジャー:第149頁15行〜17行目 4.その他の添加剤:第153頁38行目〜47行目;欧州特許第421,4 53A1号の第75頁21行目〜第84頁56行目、第 27頁40行目〜第37頁40行目 5.分散方法: 第150頁4行目〜24行目 6.支持体: 第150頁32行目〜34行目 7.膜厚・膜物性: 第150頁35行目〜49行目 8.脱銀工程: 第151頁48行目〜第152頁53行目 9.自動現像機: 第152頁54行目〜第153頁2行目 10.水洗・安定工程:第153頁3行目〜37行目
ができるその他の技術および無機・有機素材について
は、欧州特許第436,938A2号の下記の箇所及び
下記に引用の特許に記載されている。 1.層構成: 第146頁34行目〜第147頁25行目 2.防腐・防黴剤: 第150頁25行目〜28行目 3.ホルマリンスカベンジャー:第149頁15行〜17行目 4.その他の添加剤:第153頁38行目〜47行目;欧州特許第421,4 53A1号の第75頁21行目〜第84頁56行目、第 27頁40行目〜第37頁40行目 5.分散方法: 第150頁4行目〜24行目 6.支持体: 第150頁32行目〜34行目 7.膜厚・膜物性: 第150頁35行目〜49行目 8.脱銀工程: 第151頁48行目〜第152頁53行目 9.自動現像機: 第152頁54行目〜第153頁2行目 10.水洗・安定工程:第153頁3行目〜37行目
【0152】熱現像感光材料で用られる、塩基プレカー
サーとしては、熱により脱炭酸する有機酸と塩基の塩、
分子内求核置換反応、ロッセン転位またはベックマン転
位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物な
ど、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出する
ものおよび、電解や錯形成反応により塩基を発生する化
合物が好ましく用いられる。前者の加熱により塩基を発
生するタイプの塩基プレカーサーとしては英国特許第9
98,959号等に記載のトリクロロ酢酸の塩、さらに
安定性の改良されたものとして米国特許第4,060,
420号に記載のα−スルホニル酢酸の塩、特開昭59
−180537号に記載のプロピオール酢酸の塩、米国
特許第4,088,496号に記載の2−カルボキシカ
ルボアミド誘導体、塩基成分に有機塩基のほかにアルカ
リ金属アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩(特
開昭59−195237号)、ロッセン転移を利用した
特願昭58−43860号に記載のヒドロキサムカルバ
メート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭59−
157637号に記載のアルドキシムカルバメート類が
挙げられる。その他、英国特許第998,945号、同
第2,079,480号、特開昭50−226225
号、米国特許第3,220,846号、同第4,51
4,493号、同4,657,848号および公知技術
第5号(1991年3月22日、アズテック有限会社発
行)55ページ〜86ページ等に記載の塩基プレカーサ
ーも有用である。
サーとしては、熱により脱炭酸する有機酸と塩基の塩、
分子内求核置換反応、ロッセン転位またはベックマン転
位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物な
ど、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出する
ものおよび、電解や錯形成反応により塩基を発生する化
合物が好ましく用いられる。前者の加熱により塩基を発
生するタイプの塩基プレカーサーとしては英国特許第9
98,959号等に記載のトリクロロ酢酸の塩、さらに
安定性の改良されたものとして米国特許第4,060,
420号に記載のα−スルホニル酢酸の塩、特開昭59
−180537号に記載のプロピオール酢酸の塩、米国
特許第4,088,496号に記載の2−カルボキシカ
ルボアミド誘導体、塩基成分に有機塩基のほかにアルカ
リ金属アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩(特
開昭59−195237号)、ロッセン転移を利用した
特願昭58−43860号に記載のヒドロキサムカルバ
メート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭59−
157637号に記載のアルドキシムカルバメート類が
挙げられる。その他、英国特許第998,945号、同
第2,079,480号、特開昭50−226225
号、米国特許第3,220,846号、同第4,51
4,493号、同4,657,848号および公知技術
第5号(1991年3月22日、アズテック有限会社発
行)55ページ〜86ページ等に記載の塩基プレカーサ
ーも有用である。
【0153】本発明において感光材料には画像形成促進
剤を用いることができる。画像形成促進剤には銀塩酸化
剤と還元剤との酸化還元反応の促進、色素供与性物質か
らの色素の生成または色素の分解あるいは拡散性色素の
放出等の反応の促進等の機能があり、物理化学的な機能
からは求核性化合物、高沸点有機溶媒(オイル)、熱溶
剤、界面活性剤、銀または銀イオンと相互作用を持つ化
合物等に分類される。ただし、これらの物質群は一般に
複合機能を有しており、上記の促進効果のいくつかを合
せ持つのが常である。これらの詳細については米国特許
第4,678,739号第38〜40欄に記載されてい
る。本発明において感光材料には、現像時の処理温度お
よび処理時間の変動に対し、常に一定の画像を得る目的
で種々の現像停止剤を用いることができる。ここでいう
現像停止剤とは、適正現像後、速やかに塩基を中和また
は塩基と反応して膜中の塩基濃度を下げ現像を停止する
化合物または銀および銀塩と相互作用して現像を抑制す
る化合物である。具体的には、加熱により酸を放出する
酸プレカーサー、加熱により共存する塩基と置換反応を
起す親電子化合物、または含窒素ヘテロ環化合物、メル
カプト化合物及びその前駆体等が挙げられる。更に詳し
くは特開昭62−253,159号(31)〜(32)頁に
記載されている。
剤を用いることができる。画像形成促進剤には銀塩酸化
剤と還元剤との酸化還元反応の促進、色素供与性物質か
らの色素の生成または色素の分解あるいは拡散性色素の
放出等の反応の促進等の機能があり、物理化学的な機能
からは求核性化合物、高沸点有機溶媒(オイル)、熱溶
剤、界面活性剤、銀または銀イオンと相互作用を持つ化
合物等に分類される。ただし、これらの物質群は一般に
複合機能を有しており、上記の促進効果のいくつかを合
せ持つのが常である。これらの詳細については米国特許
第4,678,739号第38〜40欄に記載されてい
る。本発明において感光材料には、現像時の処理温度お
よび処理時間の変動に対し、常に一定の画像を得る目的
で種々の現像停止剤を用いることができる。ここでいう
現像停止剤とは、適正現像後、速やかに塩基を中和また
は塩基と反応して膜中の塩基濃度を下げ現像を停止する
化合物または銀および銀塩と相互作用して現像を抑制す
る化合物である。具体的には、加熱により酸を放出する
酸プレカーサー、加熱により共存する塩基と置換反応を
起す親電子化合物、または含窒素ヘテロ環化合物、メル
カプト化合物及びその前駆体等が挙げられる。更に詳し
くは特開昭62−253,159号(31)〜(32)頁に
記載されている。
【0154】感光材料に画像を露光し記載する方法とし
ては、例えばカメラなどを用いて風景や人物などを直接
撮影する方法、プリンターや引伸機などを用いてリバー
サルフィルムやネガフィルムを通して露光する方法、複
写機の露光装置などを用いて、原画をスリットなどを通
して走査露光する方法、画像情報と電気信号を経由して
発光ダイオード、各種レーザー(レーザーダイオード、
ガスレーザーなど)などを発光させ走査露光する方法
(特開昭2−129,625号、特開平5−176,1
44号、同5−199,372号、6−127,021
号等に記載の方法)、画像情報をCRT、液晶ディスプ
レイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズ
マディスプレイなどの画像表示装置に出力し、直接また
は光学系を介して露光する方法などがある。
ては、例えばカメラなどを用いて風景や人物などを直接
撮影する方法、プリンターや引伸機などを用いてリバー
サルフィルムやネガフィルムを通して露光する方法、複
写機の露光装置などを用いて、原画をスリットなどを通
して走査露光する方法、画像情報と電気信号を経由して
発光ダイオード、各種レーザー(レーザーダイオード、
ガスレーザーなど)などを発光させ走査露光する方法
(特開昭2−129,625号、特開平5−176,1
44号、同5−199,372号、6−127,021
号等に記載の方法)、画像情報をCRT、液晶ディスプ
レイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズ
マディスプレイなどの画像表示装置に出力し、直接また
は光学系を介して露光する方法などがある。
【0155】感光材料へ画像を記録する光源としては、
上記のように、自然光、タングステンランプ、発光ダイ
オード、レーザー光源、CRT光源などの米国特許第
4,500,626号第56欄、特開平2−53,37
8号、同2−54,672号記載の光源や露光方法を用
いることができる。また、非線形光学材料とレーザー光
等のコヒーレントな光源を組み合わせた波長変換素子を
用いて画像露光することもできる。ここで非線形光学材
料とは、レーザー光のような強い光電界をあたえたとき
に現れる分極と電界との間の非線形性を発現可能な材料
であり、ニオブ酸リチウム、リン酸二水素カリウム(K
DP)、沃素酸リチウム、BaB2O4などに代表される
無機化合物や、尿素誘導体、ニトロアニリン誘導体、例
えば3−メチル−4−ニトロピリジン−N−オキシド
(POM)のようなニトロピリジン−N−オキシド誘導
体、特開昭61−53462号、同62−210432
号に記載の化合物が好ましく用いられる。波長変換素子
の形態としては、単結晶光導波路型、ファイバー型等が
知られておりそのいずれもが有用である。また、前記の
画像情報は、ビデオカメラ、電子スチルカメラ等から得
られる画像信号、日本テレビジョン信号規格(NTS
C)に代表されるテレビ信号、原画をスキャナーなど多
数の画素に分割して得た画像信号、CG、CADで代表
されるコンピューターを用いて作成された画像信号を利
用できる。その他、熱現像感光材料に適用される加熱現
像や色素の拡散転写のための加熱手段(方法)や条件、
溶媒、熱現像装置等については、例えば特開平8−12
2995号の第21頁40欄3行目〜第22頁42欄6
行目に記載のものが好ましく用いられる。
上記のように、自然光、タングステンランプ、発光ダイ
オード、レーザー光源、CRT光源などの米国特許第
4,500,626号第56欄、特開平2−53,37
8号、同2−54,672号記載の光源や露光方法を用
いることができる。また、非線形光学材料とレーザー光
等のコヒーレントな光源を組み合わせた波長変換素子を
用いて画像露光することもできる。ここで非線形光学材
料とは、レーザー光のような強い光電界をあたえたとき
に現れる分極と電界との間の非線形性を発現可能な材料
であり、ニオブ酸リチウム、リン酸二水素カリウム(K
DP)、沃素酸リチウム、BaB2O4などに代表される
無機化合物や、尿素誘導体、ニトロアニリン誘導体、例
えば3−メチル−4−ニトロピリジン−N−オキシド
(POM)のようなニトロピリジン−N−オキシド誘導
体、特開昭61−53462号、同62−210432
号に記載の化合物が好ましく用いられる。波長変換素子
の形態としては、単結晶光導波路型、ファイバー型等が
知られておりそのいずれもが有用である。また、前記の
画像情報は、ビデオカメラ、電子スチルカメラ等から得
られる画像信号、日本テレビジョン信号規格(NTS
C)に代表されるテレビ信号、原画をスキャナーなど多
数の画素に分割して得た画像信号、CG、CADで代表
されるコンピューターを用いて作成された画像信号を利
用できる。その他、熱現像感光材料に適用される加熱現
像や色素の拡散転写のための加熱手段(方法)や条件、
溶媒、熱現像装置等については、例えば特開平8−12
2995号の第21頁40欄3行目〜第22頁42欄6
行目に記載のものが好ましく用いられる。
【0156】また、本発明の感光材料を現像液を用いて
現像処理する際、現像液にはハロゲン化銀の現像主薬と
して機能し、および/または銀現像で生じる現像主薬酸
化体が感光材料中に内蔵してある発色用の還元剤(発色
現像主薬)をクロス酸化する機能を有する化合物が用い
られる。好ましくはピラゾリドン類、ジヒドロキシベン
ゼン類、レダクトン類およびアミノフェノール類が用い
られ、特に好ましくはピラゾリドン類が用いられうる。
その他、現像、漂白、定着、水洗(安定化)の処理に用
いられる添加剤や処理処方(方法)、処理条件等につい
ては、特開平8−101484号の第13頁24欄33
行目〜第19頁35欄28行目に記載のものが好ましく
適用できる。ハロゲン化銀の使用量が少ない場合には、
脱銀処理を省略できる。処理液を用いる現像機での実際
の処理時間は通常線速度と処理浴の容量によって決まる
が、本発明では線速度の目安として500〜4000mm
/分が挙げられる。特に小型現像機の場合には500〜
2500mm/分が好ましい。全処理工程つまり、現像工
程から乾燥工程までの処理時間は360秒以下が好まし
く、120秒以下がさらに好ましく、特に90〜30秒
で使用することが好ましい。ここで処理時間とは、感光
材料が現像液に浸漬してから、処理機の乾燥部から出る
までの時間である。
現像処理する際、現像液にはハロゲン化銀の現像主薬と
して機能し、および/または銀現像で生じる現像主薬酸
化体が感光材料中に内蔵してある発色用の還元剤(発色
現像主薬)をクロス酸化する機能を有する化合物が用い
られる。好ましくはピラゾリドン類、ジヒドロキシベン
ゼン類、レダクトン類およびアミノフェノール類が用い
られ、特に好ましくはピラゾリドン類が用いられうる。
その他、現像、漂白、定着、水洗(安定化)の処理に用
いられる添加剤や処理処方(方法)、処理条件等につい
ては、特開平8−101484号の第13頁24欄33
行目〜第19頁35欄28行目に記載のものが好ましく
適用できる。ハロゲン化銀の使用量が少ない場合には、
脱銀処理を省略できる。処理液を用いる現像機での実際
の処理時間は通常線速度と処理浴の容量によって決まる
が、本発明では線速度の目安として500〜4000mm
/分が挙げられる。特に小型現像機の場合には500〜
2500mm/分が好ましい。全処理工程つまり、現像工
程から乾燥工程までの処理時間は360秒以下が好まし
く、120秒以下がさらに好ましく、特に90〜30秒
で使用することが好ましい。ここで処理時間とは、感光
材料が現像液に浸漬してから、処理機の乾燥部から出る
までの時間である。
【0157】
【実施例】以下に、実施例を使って本発明を具体的に説
明するが、もちろん本発明はこれに限定されるものでは
ない。 (実施例1)ポリエチレンで両面をラミネートした紙支
持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗り層を設
け、さらに種々の写真構成層を塗布して、以下に示す層
構成の多層カラー印画紙(100)を作製した。塗布液
は以下のようにして調製した。 第一層塗布液 イエローカプラー(C−77)21.8g、発色現像主
薬(EXCD−1)13.6g、溶媒(Solv−1)
70gを酢酸エチルに溶解し、この溶液を10%ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウムおよびクエン酸を含む
16%ゼラチン溶液に乳化分散させて、乳化分散液Aを
調製した。一方、塩臭化銀乳剤A(立方体、平均粒子サ
イズ0.88μmの大サイズ乳Aと0.70μmの小サ
イズ乳剤との3:7混合物(銀モル比)。粒子サイズ分
布の変動係数はそれぞれ0.08と0.10、各サイズ
乳剤とも臭化銀0.3モル%を、塩化銀を基体とする粒
子表面の一部に局在含有させた)を調製した。この乳剤
には下記に示す青感性増感色素A、B、Cが銀1モル当
たり大サイズ乳剤Aに対しては、それぞれ1.4×10
-4モル、また小サイズ乳剤Aに対しては、それぞれ1.
7×10-4モル添加されている。また、この乳剤の化学
熟成はイオウ増感剤と金増感剤を添加して最適に行っ
た。前記の乳化分散物Aとこの塩臭化銀乳剤Aとを混合
溶解し、以下に示す組成となるように第一層塗布液を調
製した。乳剤塗布量は銀換算塗布量を示す。
明するが、もちろん本発明はこれに限定されるものでは
ない。 (実施例1)ポリエチレンで両面をラミネートした紙支
持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗り層を設
け、さらに種々の写真構成層を塗布して、以下に示す層
構成の多層カラー印画紙(100)を作製した。塗布液
は以下のようにして調製した。 第一層塗布液 イエローカプラー(C−77)21.8g、発色現像主
薬(EXCD−1)13.6g、溶媒(Solv−1)
70gを酢酸エチルに溶解し、この溶液を10%ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウムおよびクエン酸を含む
16%ゼラチン溶液に乳化分散させて、乳化分散液Aを
調製した。一方、塩臭化銀乳剤A(立方体、平均粒子サ
イズ0.88μmの大サイズ乳Aと0.70μmの小サ
イズ乳剤との3:7混合物(銀モル比)。粒子サイズ分
布の変動係数はそれぞれ0.08と0.10、各サイズ
乳剤とも臭化銀0.3モル%を、塩化銀を基体とする粒
子表面の一部に局在含有させた)を調製した。この乳剤
には下記に示す青感性増感色素A、B、Cが銀1モル当
たり大サイズ乳剤Aに対しては、それぞれ1.4×10
-4モル、また小サイズ乳剤Aに対しては、それぞれ1.
7×10-4モル添加されている。また、この乳剤の化学
熟成はイオウ増感剤と金増感剤を添加して最適に行っ
た。前記の乳化分散物Aとこの塩臭化銀乳剤Aとを混合
溶解し、以下に示す組成となるように第一層塗布液を調
製した。乳剤塗布量は銀換算塗布量を示す。
【0158】
【化70】
【0159】第二層から第七層用の塗布液も第一層塗布
液と同様の方法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤とし
ては1−オキシ−3,5−ジクロロ−s−トリアジンナ
トリム塩を用いた。また、各層にCpd−2、Cpd−
3、Cpd−4およびCpd−5をそれぞれ全量が1
5.0mg/m2、60.0mg/m2、50.0mg/m2および
10.0mg/m2となるように添加した。各層感光性乳剤
層の塩臭化銀乳剤には下記の分光増感色素をそれぞれ用
いた。 (青感性乳剤層)
液と同様の方法で調製した。各層のゼラチン硬膜剤とし
ては1−オキシ−3,5−ジクロロ−s−トリアジンナ
トリム塩を用いた。また、各層にCpd−2、Cpd−
3、Cpd−4およびCpd−5をそれぞれ全量が1
5.0mg/m2、60.0mg/m2、50.0mg/m2および
10.0mg/m2となるように添加した。各層感光性乳剤
層の塩臭化銀乳剤には下記の分光増感色素をそれぞれ用
いた。 (青感性乳剤層)
【0160】
【化71】
【0161】(緑感性乳剤層)
【0162】
【化72】
【0163】(増感色素Dをハロゲン化銀1モル当た
り、大サイズ乳剤に対しては3.0×10-4モル、小サ
イズ乳剤に対しては3.6×10-4モル、また増感色素
Eをハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対して
は4.0×10-5モル、小サイズ乳剤に対しては7.0
×10-5モル、また増感色素Fをハロゲン化銀1モル当
たり、大サイズ乳剤に対しては2.0×10-4モル、小
サイズ乳剤に対しては2.8×10-4モル添加した。) (赤感性乳剤層)
り、大サイズ乳剤に対しては3.0×10-4モル、小サ
イズ乳剤に対しては3.6×10-4モル、また増感色素
Eをハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対して
は4.0×10-5モル、小サイズ乳剤に対しては7.0
×10-5モル、また増感色素Fをハロゲン化銀1モル当
たり、大サイズ乳剤に対しては2.0×10-4モル、小
サイズ乳剤に対しては2.8×10-4モル添加した。) (赤感性乳剤層)
【0164】
【化73】
【0165】(ハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳
剤に対しては各々5.0×10-5モル、また小サイズ乳
剤に対しては8×10-5モル添加した。) さらに、下記の化合物(S)をハロゲン化銀1モル当た
り2.6×10-2モル添加した。また、青感性乳剤層、
緑感性乳剤層、赤感性乳剤層に対し、1−(5−メチル
ウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールをハ
ロゲン化銀1モル当たり3.5×-4モル、3.0×10
-3モル、2.5×10-4モル添加した。また、青感性乳
剤層と緑感性乳剤層に対し、4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンをそれぞれハ
ロゲン化銀1モル当たり、1×10-4モルと2×10-4
モル添加した。また、イラジエーション防止のために、
乳剤層に下記の染料(カッコ内は塗布量を表す。)を添
加した。
剤に対しては各々5.0×10-5モル、また小サイズ乳
剤に対しては8×10-5モル添加した。) さらに、下記の化合物(S)をハロゲン化銀1モル当た
り2.6×10-2モル添加した。また、青感性乳剤層、
緑感性乳剤層、赤感性乳剤層に対し、1−(5−メチル
ウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールをハ
ロゲン化銀1モル当たり3.5×-4モル、3.0×10
-3モル、2.5×10-4モル添加した。また、青感性乳
剤層と緑感性乳剤層に対し、4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンをそれぞれハ
ロゲン化銀1モル当たり、1×10-4モルと2×10-4
モル添加した。また、イラジエーション防止のために、
乳剤層に下記の染料(カッコ内は塗布量を表す。)を添
加した。
【0166】
【化74】
【0167】(層構成)以下に各層の組成を示す。数字
は塗布量(g/m2) を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換算
塗布量を表す。
は塗布量(g/m2) を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換算
塗布量を表す。
【0168】支持体 ポリエチレンラミネート紙 〔第一層側のポリエチレンに白色顔料(TiO215重
量%)と青味染料(群青)を含む〕 第一層(青感性乳剤層) 前記の塩化銀乳剤A 0.40 ゼラチン 3.00 イエローカプラー(C−77) 0.44 発色現像主薬(EXCD−1) 0.30 溶媒(Solv−1) 1.30 第二層(混色防止層) ゼラチン 1.09 混色防止剤(Cpd−6) 0.11 溶媒(Solv−1) 0.19 溶媒(Solv−3) 0.07 溶媒(Solv−4) 0.23 溶媒(Solv−5) 0.09
量%)と青味染料(群青)を含む〕 第一層(青感性乳剤層) 前記の塩化銀乳剤A 0.40 ゼラチン 3.00 イエローカプラー(C−77) 0.44 発色現像主薬(EXCD−1) 0.30 溶媒(Solv−1) 1.30 第二層(混色防止層) ゼラチン 1.09 混色防止剤(Cpd−6) 0.11 溶媒(Solv−1) 0.19 溶媒(Solv−3) 0.07 溶媒(Solv−4) 0.23 溶媒(Solv−5) 0.09
【0169】 第三層(緑感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤:立方体、平均粒子サイズ0.55μmの大サイズ乳剤Bと、0 .39μmの小サイズ乳剤Bとの1:3混合物(銀モル比)。粒子サイズ分布の 変動係数はそれぞれ0.10と0.08、各サイズ乳剤ともAgBr0.8モル %を塩化銀を基体とする粒子表面の一部に含有させた。 0.20 ゼラチン 1.48 マゼンタカプラー(C−56) 0.26 発色現像主薬(EXCD−1) 0.17 溶媒(Solv−2) 0.65 第四層(混色防止層) ゼラチン 0.77 混色防止剤(Cpd−6) 0.08 溶媒(Solv−1) 0.14 溶媒(Solv−3) 0.05 溶媒(Solv−4) 0.14 溶媒(Solv−5) 0.06
【0170】 第五層(赤感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤:立方体、平均粒子サイズ0.5μmの大サイズ乳剤Cと、0. 41μmの小サイズ乳剤Cとの1:4混合物(銀モル比)。粒子サイズ分布の変 動係数は0.09と0.11、各サイズ乳剤ともAgBr0.8モル%を、塩化 銀を基体とする粒子表面の一部に含有させた。 0.20 ゼラチン 0.16 シアンカプラー(C−43) 0.22 発色現像主薬(EXCD−1) 0.17 溶媒(Solv−1) 0.15 第六層(紫外線吸収層) ゼラチン 0.65 紫外線吸収剤(UV−1) 0.39 色像安定剤(Cpd−7) 0.05 溶媒(Solv−6) 0.05
【0171】 第七層(保護層) ゼラチン 1.01 ポリビニルアルコールのアクリル変性共重合体(変性度17%)0.04 流動パラフィン 0.02 界面活性剤(Cpd−1) 0.01
【0172】
【化75】
【0173】
【化76】
【0174】
【化77】
【0175】
【化78】
【0176】試料(100)に対してカプラー、発色現
像主薬を表1に示したカプラー、発色現像主薬に等モル
で置換換えた以外は試料(100)の作製と全く同様に
して試料(101)〜(105)を作製した。
像主薬を表1に示したカプラー、発色現像主薬に等モル
で置換換えた以外は試料(100)の作製と全く同様に
して試料(101)〜(105)を作製した。
【0177】
【化79】
【0178】上記のようにして作製した全試料に対し
て、富士フイルム株式会社製FWH型感光計(光源の色
温度3200°K)を使用してセンシトメトリー用3色
分解フィルターの階調露光を与えた。露光後の試料を下
記の処理液を用い、下記の処理工程にて処理を行った。 処理工程 温 度 時 間 現 像 40℃ 15秒 漂白定着 40℃ 45秒 リンス 室 温 45秒 アルカリ処理 室 温 30秒
て、富士フイルム株式会社製FWH型感光計(光源の色
温度3200°K)を使用してセンシトメトリー用3色
分解フィルターの階調露光を与えた。露光後の試料を下
記の処理液を用い、下記の処理工程にて処理を行った。 処理工程 温 度 時 間 現 像 40℃ 15秒 漂白定着 40℃ 45秒 リンス 室 温 45秒 アルカリ処理 室 温 30秒
【0179】 (現像液) 水 800ml リン酸カリウム 40g ジナトリウム−N,N−ビス(スルホナートエチル)ヒドロキシルアミン 10g KCl 5g ヒドロキシエチリデン−1,1−ジスルホン酸(30%) 4ml 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 1g 水を加えて 1000ml pH(25℃/水酸化カリウムにて) 12.0
【0180】 (漂白定着液) 水 600ml チオ硫酸アンモニウム(700g/リットル) 93ml 亜硫酸アンモニウム 40ml エチレンジアミン四酢酸鉄(III)アンモニウム 55g エチレンジアミン四酢酸 2g 硝酸(67%) 30g 水を加えて 1000ml pH(25℃/酢酸及びアンモニア水にて) 5.8
【0181】 (リンス液) 塩素化イソシアヌール酸ナトリウム 0.02g 脱イオン水(導電率5μS/cm以下) 1000ml pH 6.5 (アルカリ処理液) 水 800ml 炭酸カリウム 30g 水を加えて 1000ml pH(25℃/硫酸にて) 10.0 処理後のサンプルの最大発色濃度部を赤色光、緑色光、
青色光にて測定した。結果を表1に示す。
青色光にて測定した。結果を表1に示す。
【0182】
【表1】
【0183】表1から明らかなように、本発明の化合物
は比較化合物に比べて、高いイエロー発色性を示すこと
が分かる。
は比較化合物に比べて、高いイエロー発色性を示すこと
が分かる。
【0184】実施例2 〈感光性ハロゲン化銀乳剤の調製方法〉良く攪拌してい
るゼラチン水溶液(水1000ml中に不活性ゼラチン3
0g、臭化カリウム2g)に、溶剤としてアンモニア・
硝酸アンモニウムを溶剤として加えて75℃に保温し、
ここに硝酸銀1モルを含む水溶液1000mlと、臭化カ
リウム1モルと沃化カリウム0.03モルを含む水溶液
1000mlを78分かけて同時に添加した。水洗、脱塩
の後、不活性ゼラチンを加えて再分散し、球相当平均粒
径0.76μmのヨード含有率3モル%の沃臭化銀乳剤
を調製した。球相当径は、コールターカウンター社のモ
デルTA−IIで測定した。上記乳剤に、56℃でチオシ
アン酸カリウム、塩化金酸、チオ硫酸ナトリウムを添加
し、最適に化学増感した。この乳剤に増感色素を、塗布
液調液時に添加して感色性を与えた。
るゼラチン水溶液(水1000ml中に不活性ゼラチン3
0g、臭化カリウム2g)に、溶剤としてアンモニア・
硝酸アンモニウムを溶剤として加えて75℃に保温し、
ここに硝酸銀1モルを含む水溶液1000mlと、臭化カ
リウム1モルと沃化カリウム0.03モルを含む水溶液
1000mlを78分かけて同時に添加した。水洗、脱塩
の後、不活性ゼラチンを加えて再分散し、球相当平均粒
径0.76μmのヨード含有率3モル%の沃臭化銀乳剤
を調製した。球相当径は、コールターカウンター社のモ
デルTA−IIで測定した。上記乳剤に、56℃でチオシ
アン酸カリウム、塩化金酸、チオ硫酸ナトリウムを添加
し、最適に化学増感した。この乳剤に増感色素を、塗布
液調液時に添加して感色性を与えた。
【0185】〈水酸化亜鉛分散物の調製方法〉一次粒子
の粒子サイズが0.2μmの水酸化亜鉛の粉末31g、
分散剤としてカルボキシメチルセルロース1.6gおよ
びポリアクリル酸ソーダ0.4g、石灰処理オセインゼ
ラチン8.5g、水158.5mlを混合し、この混合物
をガラスビーズを用いたミルで1時間分散した。分散
後、ガラスビーズを濾別し、水酸化亜鉛の分散物188
gを得た。 〈カプラーの乳化分散物の調製方法〉表2に示す組成の
油相成分、水相成分をそれぞれ溶解し、60℃の均一な
溶液とする。油相成分と水相成分を合わせ、1リットル
のステンレス容器中で、直径5cmのディスパーサーのつ
いたディゾルバーにより、10,000rpmで20分間
分散した。これに、後加水として、表2に示す量の温水
を加え、2,000rpmで10分間混合した。このよう
にして、シアン、マゼンタ、イエロー3色のカプラーの
乳化分散物を調製した。
の粒子サイズが0.2μmの水酸化亜鉛の粉末31g、
分散剤としてカルボキシメチルセルロース1.6gおよ
びポリアクリル酸ソーダ0.4g、石灰処理オセインゼ
ラチン8.5g、水158.5mlを混合し、この混合物
をガラスビーズを用いたミルで1時間分散した。分散
後、ガラスビーズを濾別し、水酸化亜鉛の分散物188
gを得た。 〈カプラーの乳化分散物の調製方法〉表2に示す組成の
油相成分、水相成分をそれぞれ溶解し、60℃の均一な
溶液とする。油相成分と水相成分を合わせ、1リットル
のステンレス容器中で、直径5cmのディスパーサーのつ
いたディゾルバーにより、10,000rpmで20分間
分散した。これに、後加水として、表2に示す量の温水
を加え、2,000rpmで10分間混合した。このよう
にして、シアン、マゼンタ、イエロー3色のカプラーの
乳化分散物を調製した。
【0186】
【表2】
【0187】
【化80】
【0188】
【化81】
【0189】このようにして得られた素材を用いて、表
3、4に示す多層構成の熱現像カラー感光材料200を
作製した。
3、4に示す多層構成の熱現像カラー感光材料200を
作製した。
【0190】
【表3】
【0191】
【表4】
【0192】
【化82】
【0193】
【化83】
【0194】
【化84】
【0195】さらに、表5、6、7に示す内容の処理材
料R−1を作製した。
料R−1を作製した。
【0196】
【表5】
【0197】
【表6】
【0198】
【表7】
【0199】
【化85】
【0200】
【化86】
【0201】次に、表8に示すとおりに、カプラー、な
らびに現像主薬を変更した以外は200と全く同じ組成
の感光材料201〜207をそれぞれ作製した。このよ
うにしてできた感光材料200〜207に連続的に濃度
の変化したB、G、Rのフィルターを通して2500lu
xで0.01秒露光した。この露光済の感材面に40℃
の温水を15ml/m2付与し、処理シート(処理材料R−
1)と互いの膜面同志を重ね合わせた後、ヒートドラム
を用いて83℃で30秒間熱現像した。処理後処理シー
トを剥離すると、感材側に露光したフィルターに対応し
て、シアン、マゼンタ、イエローのカラー画像が鮮明に
得られた。処理直後にこのサンプルのB露光部のイエロ
ー色素画像、G露光部のマゼンタ画像、およびR露光部
のシアン画像の最高濃度部(Dmax)をX−rite濃測機
で測定した結果を表8に示す。
らびに現像主薬を変更した以外は200と全く同じ組成
の感光材料201〜207をそれぞれ作製した。このよ
うにしてできた感光材料200〜207に連続的に濃度
の変化したB、G、Rのフィルターを通して2500lu
xで0.01秒露光した。この露光済の感材面に40℃
の温水を15ml/m2付与し、処理シート(処理材料R−
1)と互いの膜面同志を重ね合わせた後、ヒートドラム
を用いて83℃で30秒間熱現像した。処理後処理シー
トを剥離すると、感材側に露光したフィルターに対応し
て、シアン、マゼンタ、イエローのカラー画像が鮮明に
得られた。処理直後にこのサンプルのB露光部のイエロ
ー色素画像、G露光部のマゼンタ画像、およびR露光部
のシアン画像の最高濃度部(Dmax)をX−rite濃測機
で測定した結果を表8に示す。
【0202】
【表8】
【0203】表8より明らかなように、発色現像主薬と
してEXCD−1、I−1のいずれを用いた場合にも本
発明のカプラーを使用することによりイエローの高い発
色濃度が得られる。また生成色素の光、湿熱に対する安
定性テストを行った結果、本発明のカプラーから得られ
る色素の方が高いことがわかった。
してEXCD−1、I−1のいずれを用いた場合にも本
発明のカプラーを使用することによりイエローの高い発
色濃度が得られる。また生成色素の光、湿熱に対する安
定性テストを行った結果、本発明のカプラーから得られ
る色素の方が高いことがわかった。
【0204】
【発明の効果】本発明のカプラーを用いることにより、
色相、発色性、光や湿熱に対する堅牢性に優れたイエロ
ーの画像を得ることができる。
色相、発色性、光や湿熱に対する堅牢性に優れたイエロ
ーの画像を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 7/392 G03C 7/392 Z 7/407 7/407
Claims (7)
- 【請求項1】 支持体上の写真構成層のいずれかに少な
くとも一種のヒドラジン型発色現像主薬と、少なくとも
一種の下記−般式(1)もしくは一般式(2)で表わさ
れるカプラーを含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。 【化1】 (式中X21およびX22は各々アルキル基、アリール基ま
たは複素環基を表す。Y 21はアリール基または複素環基
を表す。Z21は水素原子または現像主薬酸化体とのカッ
プリング反応により離脱し得る基を表す。X23は>N−
とともに含窒素ヘテロ環を形成する有機残基を表す。) - 【請求項2】 ヒドラジン型発色現像主薬が下記−般式
(3)で表されることを特徴とする請求項1に記載のハ
ロゲン化銀写真感光材料。 【化2】 (式中R11はアリール基またはヘテロ環基を表す。R12
はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基またはヘテロ環基を表す。Xは−SO2−、−CO
−、−COCO−、−COO−、−CON(R13)−、
−COCOO−、−COCON(R13)−、または−S
O2N(R13)−基である。またR13は水素原子もしく
はR12で代表される基である。) - 【請求項3】 ヒドラジン型発色現像主薬が下記一般式
(4)または(5)で表されることを特徴とする請求項
1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 【化3】 (式中Z1はアシル基、カルバモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、またはアリールオキシカルボニル基を表
す。Z2はカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、
またはアリールオキシカルボニル基を表す。X1、X2、
X3、X4、X5は水素原子または置換基を表す。但し
X1、X3、X5のハメットの置換基定数のσp値とX2、
X4のハメット置換基定数σm値の和は0.80以上、
3.80以下である。R3はヘテロ環基を表す。) - 【請求項4】 一般式(4)または(5)で表される
化合物がそれぞれ一般式(6)または(7)で表される
ことを特徴とする請求項3に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。 【化4】 (式中R1、R2は水素原子または置換基を表す。X1、
X2、X3、X4、X5は水素原子もしくは置換基を表す。
但しX1、X3、X5のハメットの置換基定数のσp値と
X2、X4のハメット置換基定数σm値の和は0.80以
上、3.80以下である。R3はへテロ環基を表す。) - 【請求項5】 一般式(6)または(7)で表される化
合物がそれぞれ一般式(8)または(9)で表されるこ
とを特徴とする請求項4に記載のハロゲン化銀写真感光
材料。 【化5】 (式中R4、R5は水素原子または置換基を表す。X6、
X7、X8、X9、X10は水素原子、シアノ基、スルホニ
ル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル
基、パーフルオロアルキル基、ハロゲン原子、アシルオ
キシ基、アシルチオ基、またはへテロ環基を表す。但し
X6、X8、X10のハメットの置換基定数のσp値と
X7、X9のハメット置換基定数σm値の和は0.80以
上、3.80以下である。Q1はCとともに含窒素の5
ないし8員のヘテロ環を形成するのに必要な非金属原子
群を表す。) - 【請求項6】 請求項1に記載のハロゲン化銀写真感光
材料を60℃以上180℃以下で加熱処理することによ
り現像を行うことを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項7】 請求項1に記載のハロゲン化銀写真感光
材料を溶液中で現像処理することを特徴とする画像形成
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20863496A JPH1048791A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20863496A JPH1048791A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1048791A true JPH1048791A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16559489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20863496A Pending JPH1048791A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1048791A (ja) |
-
1996
- 1996-08-07 JP JP20863496A patent/JPH1048791A/ja active Pending
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