JPH11158100A - フェノール性化合物及びその製造方法 - Google Patents
フェノール性化合物及びその製造方法Info
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- JPH11158100A JPH11158100A JP9324854A JP32485497A JPH11158100A JP H11158100 A JPH11158100 A JP H11158100A JP 9324854 A JP9324854 A JP 9324854A JP 32485497 A JP32485497 A JP 32485497A JP H11158100 A JPH11158100 A JP H11158100A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、フォトレジスト用感放射線性組成
物の原料、エポキシ樹脂及びその硬化剤として有用であ
る新規なフェノール性化合物及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 酸性触媒の存在下、５−ヒドロキシ−
１，１，３−トリメチル−２−インデン及び／又はその
重合体中の５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−
２−インデン単位１モルに対し、レゾルシンを少なくと
も０．８モル用いて反応させて、新規化合物４−（１，
１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イ
ル）レゾルシノールを製造する。
物の原料、エポキシ樹脂及びその硬化剤として有用であ
る新規なフェノール性化合物及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 酸性触媒の存在下、５−ヒドロキシ−
１，１，３−トリメチル−２−インデン及び／又はその
重合体中の５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−
２−インデン単位１モルに対し、レゾルシンを少なくと
も０．８モル用いて反応させて、新規化合物４−（１，
１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イ
ル）レゾルシノールを製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なフェノール性
化合物である４−（１，１，３−トリメチル−５−ヒド
ロキシインダン−３−イル）レゾルシノール、及びその
製造方法に関する。本発明により提供される４−（１，
１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イ
ル）レゾルシノールは、レジスト用感放射線性成分の原
料、及びエポキシ樹脂及びそれらの硬化剤として有用な
化合物である。
化合物である４−（１，１，３−トリメチル−５−ヒド
ロキシインダン−３−イル）レゾルシノール、及びその
製造方法に関する。本発明により提供される４−（１，
１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イ
ル）レゾルシノールは、レジスト用感放射線性成分の原
料、及びエポキシ樹脂及びそれらの硬化剤として有用な
化合物である。
【０００２】
【従来の技術】本発明の新規なフェノール性化合物であ
る４−（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシイン
ダン−３−イル）レゾルシノール、及びその製造方法は
知られていない。
る４−（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシイン
ダン−３−イル）レゾルシノール、及びその製造方法は
知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
なフェノール性化合物である４−（１，１，３−トリメ
チル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノ
ール、及びその製造方法を提供することにある。
なフェノール性化合物である４−（１，１，３−トリメ
チル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノ
ール、及びその製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討した結果、酸性触媒下で、５−
ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−インデン及
び／又はその重合体とレゾルシンとを特定のモル比で反
応させることにより、容易に４−（１，１，３−トリメ
チル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノ
ールが得られることを見出し、本発明を完成した。
を達成するため鋭意検討した結果、酸性触媒下で、５−
ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−インデン及
び／又はその重合体とレゾルシンとを特定のモル比で反
応させることにより、容易に４−（１，１，３−トリメ
チル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノ
ールが得られることを見出し、本発明を完成した。
【０００５】即ち、本発明は、下記式（１）〔化２〕
【化２】 で示される４−（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロ
キシインダン−３−イル）レゾルシノール、及びその製
造方法である。本発明の化合物は、酸性触媒の存在下
で、５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−イ
ンデン及び／又はその重合体中の５−ヒドロキシ−１，
１，３−トリメチル−２−インデン単位１モルに対し、
レゾルシンを少なくとも０．８モル用いて反応させるこ
とにより製造することができる。
キシインダン−３−イル）レゾルシノール、及びその製
造方法である。本発明の化合物は、酸性触媒の存在下
で、５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−イ
ンデン及び／又はその重合体中の５−ヒドロキシ−１，
１，３−トリメチル−２−インデン単位１モルに対し、
レゾルシンを少なくとも０．８モル用いて反応させるこ
とにより製造することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明に用いる５−ヒドロキシ−１，１，３−ト
リメチル−２−インデン（以下、ヒドロキシインデンと
略称する）及び／又はその重合体は、公知の技術で得ら
れる。例えば、５−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシ
フェニル）−１，１，３−トリメチルインダンを酸触媒
又はアルカリ触媒の存在下に加熱分解した後、フェノー
ルを除去することにより得られる。また、ｐ−イソプロ
ペニルフェノール及び／又はそのオリゴマーを酸触媒の
存在下に加熱することによっても得られる。本発明にお
いて、ヒドロキシインデンの重合体とは、ヒドロキシイ
ンデンの２量体、３量体、４量体等を意味し、高分子量
のものとして１０量体程度のものも含む。
する。本発明に用いる５−ヒドロキシ−１，１，３−ト
リメチル−２−インデン（以下、ヒドロキシインデンと
略称する）及び／又はその重合体は、公知の技術で得ら
れる。例えば、５−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシ
フェニル）−１，１，３−トリメチルインダンを酸触媒
又はアルカリ触媒の存在下に加熱分解した後、フェノー
ルを除去することにより得られる。また、ｐ−イソプロ
ペニルフェノール及び／又はそのオリゴマーを酸触媒の
存在下に加熱することによっても得られる。本発明にお
いて、ヒドロキシインデンの重合体とは、ヒドロキシイ
ンデンの２量体、３量体、４量体等を意味し、高分子量
のものとして１０量体程度のものも含む。
【０００７】本発明においてヒドロキシインデン及び／
又はその重合体とインデンとを反応させるに際し用いる
酸性触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の
無機酸、ジメチル硫酸及びジエチル硫酸等の硫酸エステ
ル、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有
機酸、陽イオン交換樹脂等が挙げられる。これらは、２
種以上を混合して用いることもできる。これらの内、塩
酸、臭化水素酸が好ましい。
又はその重合体とインデンとを反応させるに際し用いる
酸性触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の
無機酸、ジメチル硫酸及びジエチル硫酸等の硫酸エステ
ル、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有
機酸、陽イオン交換樹脂等が挙げられる。これらは、２
種以上を混合して用いることもできる。これらの内、塩
酸、臭化水素酸が好ましい。
【０００８】触媒の使用量は原料のヒドロキシインデン
及び／又はその重合体とレゾルシンの合計量に対して、
０．００１〜５重量％が好ましい、更に好ましくは０．
００５〜１重量％である。触媒量が０．００１重量％未
満の場合は反応時間が長くなり、５重量％を超えると副
生物の生成が多くなる。
及び／又はその重合体とレゾルシンの合計量に対して、
０．００１〜５重量％が好ましい、更に好ましくは０．
００５〜１重量％である。触媒量が０．００１重量％未
満の場合は反応時間が長くなり、５重量％を超えると副
生物の生成が多くなる。
【０００９】ヒドロキシインデン及び／又はその重合体
に対するレゾルシンのモル比（ヒドロキシインデンの重
合体のモル数はヒドロキシインデン単位）は、前者１モ
ルに対して、後者を少なくとも０．８モル用いて反応さ
せることが好ましい。更に好ましくは１モル以上であ
る。レゾルシンが０．８モル未満の場合は、フェノール
性化合物の収率が低下する。反応性の点ではレゾルシン
の上限量については特に制限はないが、反応の後、過剰
のレゾルシンを除去する必要があるので多過ぎることは
好ましくない。かかる点を考慮すると、通常、レゾルシ
ンの上限は５モル程度である。好ましくは２モル程度で
ある。
に対するレゾルシンのモル比（ヒドロキシインデンの重
合体のモル数はヒドロキシインデン単位）は、前者１モ
ルに対して、後者を少なくとも０．８モル用いて反応さ
せることが好ましい。更に好ましくは１モル以上であ
る。レゾルシンが０．８モル未満の場合は、フェノール
性化合物の収率が低下する。反応性の点ではレゾルシン
の上限量については特に制限はないが、反応の後、過剰
のレゾルシンを除去する必要があるので多過ぎることは
好ましくない。かかる点を考慮すると、通常、レゾルシ
ンの上限は５モル程度である。好ましくは２モル程度で
ある。
【００１０】反応は溶媒中で行うのが好ましく、反応溶
媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類及び水が挙げられ
る。これらの反応溶媒は単独又は２種類以上を混合して
用いることができる。溶媒の使用量は原料のヒドロキシ
インデン及び／又はその重合体とレゾルシンの合計重量
に対して１〜１０倍が好ましく、更に好ましくは２〜８
倍である。１倍未満の場合は、反応時の攪拌が難しくな
る。不均一系反応となる脂肪族炭化水素、芳香族炭化水
素、ハロゲン化炭化水素は攪拌可能な状態に保つのが好
ましい。
媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類及び水が挙げられ
る。これらの反応溶媒は単独又は２種類以上を混合して
用いることができる。溶媒の使用量は原料のヒドロキシ
インデン及び／又はその重合体とレゾルシンの合計重量
に対して１〜１０倍が好ましく、更に好ましくは２〜８
倍である。１倍未満の場合は、反応時の攪拌が難しくな
る。不均一系反応となる脂肪族炭化水素、芳香族炭化水
素、ハロゲン化炭化水素は攪拌可能な状態に保つのが好
ましい。
【００１１】反応温度は０〜１００℃が好ましく、更に
好ましくは３０〜７０℃である。温度が０℃未満の場合
は反応時間が長くなり、１００℃を超えると副生物の生
成が多くなる。
好ましくは３０〜７０℃である。温度が０℃未満の場合
は反応時間が長くなり、１００℃を超えると副生物の生
成が多くなる。
【００１２】反応後の処理は、反応物が結晶性スラリー
の場合は濾過し、結晶を溶媒で洗浄し、更に水洗した後
乾燥する。反応物が均一溶液の場合は、結晶性スラリー
が得られるまで蒸留、窒素バブリング等の方法で溶媒を
除いた後濾過し、同様に洗浄、水洗、乾燥する。結晶の
洗浄に用いる溶媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素が挙げられる。結晶の洗浄に用いる溶媒の使用量
は、希望する結晶の純度によって異なるが、通常、結晶
に対して０．１〜１０倍（重量比）を用いて繰り返され
る。水洗に用いる水の使用量に特に制限は無く、水洗後
の水がほぼ中性になるまで水洗を行う。
の場合は濾過し、結晶を溶媒で洗浄し、更に水洗した後
乾燥する。反応物が均一溶液の場合は、結晶性スラリー
が得られるまで蒸留、窒素バブリング等の方法で溶媒を
除いた後濾過し、同様に洗浄、水洗、乾燥する。結晶の
洗浄に用いる溶媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素が挙げられる。結晶の洗浄に用いる溶媒の使用量
は、希望する結晶の純度によって異なるが、通常、結晶
に対して０．１〜１０倍（重量比）を用いて繰り返され
る。水洗に用いる水の使用量に特に制限は無く、水洗後
の水がほぼ中性になるまで水洗を行う。
【００１３】更に、高純度の製品を必要とする場合は、
メタノール、エタノール等のアルコール類とベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素との混合溶媒で再結晶する
ことが好ましい。再結晶溶媒の混合割合、結晶に対する
使用量には特に制限は無いが、例えば、アルコール類と
芳香族炭化水素の混合溶媒を用いる場合は、前者／後者
の重量比が１〜９／９〜１の混合割合の溶媒を、結晶に
対して１〜１０倍（重量比）用いることが効率的であ
る。再結晶を行なう時の温度は、溶媒により異なるが、
通常、室温〜溶媒の沸点未満の温度範囲で溶解した後、
得られた溶液を０〜室温程度まで冷却して結晶を析出さ
せることが好ましい。
メタノール、エタノール等のアルコール類とベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素との混合溶媒で再結晶する
ことが好ましい。再結晶溶媒の混合割合、結晶に対する
使用量には特に制限は無いが、例えば、アルコール類と
芳香族炭化水素の混合溶媒を用いる場合は、前者／後者
の重量比が１〜９／９〜１の混合割合の溶媒を、結晶に
対して１〜１０倍（重量比）用いることが効率的であ
る。再結晶を行なう時の温度は、溶媒により異なるが、
通常、室温〜溶媒の沸点未満の温度範囲で溶解した後、
得られた溶液を０〜室温程度まで冷却して結晶を析出さ
せることが好ましい。
【００１４】本発明の４−（１，１，３−トリメチル−
５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノール
は、レジスト用感放射線性成分の原料、及びエポキシ樹
脂、それらの硬化剤として有用である。
５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノール
は、レジスト用感放射線性成分の原料、及びエポキシ樹
脂、それらの硬化剤として有用である。
【００１５】
【実施例】以下、実施例を示して本発明について更に詳
細に説明する。尚、実施例に示した各種分析結果は下記
方法により測定した値である。 （１）13Ｃ核磁気共鳴分析 試料をｄ6 −ＤＭＳＯに溶解し（試料濃度３０重量
％）、日本電子（株）製の核磁気共鳴装置（形式：ＦＸ
−９０Ｑ（９０ＭＨｚ）を用いて、トリメチルシランを
基準物質として化学シフトを測定した。 （２）赤外線吸収スペクトル分析 試料を臭化カリウム錠剤法により（株）島津製作所製の
赤外線吸収スペクトル分析装置（形式：ＦＩ−ＩＲ４２
００）により、積算回数１０回にて測定した。 （３）質量分析 日本電子（株）製の質量分析装置（形式：ＤＸ−３０
０）で、ＤＩ／ＥＩ法にて測定した。
細に説明する。尚、実施例に示した各種分析結果は下記
方法により測定した値である。 （１）13Ｃ核磁気共鳴分析 試料をｄ6 −ＤＭＳＯに溶解し（試料濃度３０重量
％）、日本電子（株）製の核磁気共鳴装置（形式：ＦＸ
−９０Ｑ（９０ＭＨｚ）を用いて、トリメチルシランを
基準物質として化学シフトを測定した。 （２）赤外線吸収スペクトル分析 試料を臭化カリウム錠剤法により（株）島津製作所製の
赤外線吸収スペクトル分析装置（形式：ＦＩ−ＩＲ４２
００）により、積算回数１０回にて測定した。 （３）質量分析 日本電子（株）製の質量分析装置（形式：ＤＸ−３０
０）で、ＤＩ／ＥＩ法にて測定した。
【００１６】（４）元素分析 （株）柳本製作所製の元素分析装置（形式：ＴＡＮＡＣ
Ｏ ＭＴ−２）で分析した。 （５）ガスクロマトグラフ分析 （株）島津製作所製ガスクロマトグラフ（形式：ＧＣ−
９Ａ）でカラムとしてＳＥ−３０（（株）日立）製作所
製）を用いて分析した。 （６）液体クロマトグラフ分析 日本分光（株）製ＧＰＣ装置（カラム：昭和電工（株）
製、Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ８０４、８０３、８０２×２を
４本直列）を用いて、テトラヒドロフランを溶離液とし
て、４０℃において測定した。
Ｏ ＭＴ−２）で分析した。 （５）ガスクロマトグラフ分析 （株）島津製作所製ガスクロマトグラフ（形式：ＧＣ−
９Ａ）でカラムとしてＳＥ−３０（（株）日立）製作所
製）を用いて分析した。 （６）液体クロマトグラフ分析 日本分光（株）製ＧＰＣ装置（カラム：昭和電工（株）
製、Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ８０４、８０３、８０２×２を
４本直列）を用いて、テトラヒドロフランを溶離液とし
て、４０℃において測定した。
【００１７】調製例１ 〔ヒドロキシインデンの合成〕温度計、攪拌器、蒸留カ
ラム（内径２５ｍｍ、長さ１００ｍｍ、ステンレス製金
網充填）付１０００ｍｌセパラブルフラスコに、ｐ−イ
ソプロペニルフェノール及びそのオリゴマー混合物（三
井化学（株）製、商品名：パーマノール２００、組成：
ｐ−イソプロペニルフェノール２．５重量％、同線状二
量体７２重量％、同線状三量体４．３重量％及び同線状
四量体以上４．５重量％、その他１６．７重量％）８０
０ｇを装入し昇温した。内容物が完全に溶解した後、１
０％硫酸水溶液０．４０ｇを装入し、かきまぜながら１
８０℃まで昇温した。次いで真空にして内容物を留出さ
せながら反応を行った。その後、留出が殆ど無くなる２
６０℃まで内温を上げ６１３ｇの留出物を得た。得られ
た留出物を蒸留カラム（内径２５ｍｍ、長さ２５０ｍ
ｍ、ステンレス製金網充填）を用いて蒸留し、低沸点留
分としてフェノール２０５．５ｇ及び高沸点部の１４５
〜１４７℃、圧力５ｍｍＨｇにおける留分としてヒドロ
キシインデン３３０ｇを得た。
ラム（内径２５ｍｍ、長さ１００ｍｍ、ステンレス製金
網充填）付１０００ｍｌセパラブルフラスコに、ｐ−イ
ソプロペニルフェノール及びそのオリゴマー混合物（三
井化学（株）製、商品名：パーマノール２００、組成：
ｐ−イソプロペニルフェノール２．５重量％、同線状二
量体７２重量％、同線状三量体４．３重量％及び同線状
四量体以上４．５重量％、その他１６．７重量％）８０
０ｇを装入し昇温した。内容物が完全に溶解した後、１
０％硫酸水溶液０．４０ｇを装入し、かきまぜながら１
８０℃まで昇温した。次いで真空にして内容物を留出さ
せながら反応を行った。その後、留出が殆ど無くなる２
６０℃まで内温を上げ６１３ｇの留出物を得た。得られ
た留出物を蒸留カラム（内径２５ｍｍ、長さ２５０ｍ
ｍ、ステンレス製金網充填）を用いて蒸留し、低沸点留
分としてフェノール２０５．５ｇ及び高沸点部の１４５
〜１４７℃、圧力５ｍｍＨｇにおける留分としてヒドロ
キシインデン３３０ｇを得た。
【００１８】実施例１ 調製例１で得られたヒドロキシインデン１７．７５ｇ
（０．１０２モル）、レゾルシン１１．００ｇ（０．１
０モル）、及びトルエン６６．３０ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら５０℃に昇温して１０重量％の塩酸水
溶液０．１１４６ｇを添加した。温度を５０〜５５℃に
保ち５時間反応を行った後、室温まで冷却した。次い
で、反応物である結晶性スラリーを濾過して結晶を得
て、トルエン５０ｇで洗浄し、更に、水２００ｍｌで洗
浄を２回繰り返した後、乾燥して粗結晶２３．７ｇを得
た。得られた粗結晶をトルエン／メタノール（５９ｇ／
１２ｇ）の混合溶媒を用いて７０℃に加熱、溶解して、
その後２時間かけて室温まで冷却、再結晶して、融点２
１３〜２１４℃の白色結晶１１．７４ｇを得た。ガスク
ロマトグラフ分析及び液体クロマトグラフ分析の結果、
この結晶はほぼ単一であった。
（０．１０２モル）、レゾルシン１１．００ｇ（０．１
０モル）、及びトルエン６６．３０ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら５０℃に昇温して１０重量％の塩酸水
溶液０．１１４６ｇを添加した。温度を５０〜５５℃に
保ち５時間反応を行った後、室温まで冷却した。次い
で、反応物である結晶性スラリーを濾過して結晶を得
て、トルエン５０ｇで洗浄し、更に、水２００ｍｌで洗
浄を２回繰り返した後、乾燥して粗結晶２３．７ｇを得
た。得られた粗結晶をトルエン／メタノール（５９ｇ／
１２ｇ）の混合溶媒を用いて７０℃に加熱、溶解して、
その後２時間かけて室温まで冷却、再結晶して、融点２
１３〜２１４℃の白色結晶１１．７４ｇを得た。ガスク
ロマトグラフ分析及び液体クロマトグラフ分析の結果、
この結晶はほぼ単一であった。
【００１９】得られた結晶について、元素分析、質量分
析、13Ｃ核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）及び赤外分光分析
（ＩＲ）を行い、４−（１，１，３−トリメチル−５−
ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノールである
ことを確認した。 元素分析 Ｃ：７５．３重量％、Ｈ：６．９重量％（実測値） Ｃ：７６．１重量％、Ｈ：７．０重量％（理論値、Ｃ13
Ｈ20Ｏ3 として） 質量分析 Ｍ+ ＝２８４ ＩＲスペクトル 図１に示した。13 Ｃ核磁気共鳴分析 以下の化学シフトのシグナルが得られ、それぞれのシグ
ナルは式（２）（化３）のように同定された。 ａ：１５６．２０ ｇ：１２５．９７ ｍ： ５５．９７ ｂ：１５５．８８ ｈ：１２２．６１ ｎ： ４８．４４ ｃ：１５５．５５ ｉ：１１４．００ ｏ： ４１．３９ ｄ：１５０．８９ ｊ：１１１．１８ ｐ： ３０．７７ ｅ：１４２．１７ ｋ：１０４．９５ ｑ： ３０．１８ ｆ：１２８．０８ ｌ：１０３．７５ ｒ： ２８．６６
析、13Ｃ核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）及び赤外分光分析
（ＩＲ）を行い、４−（１，１，３−トリメチル−５−
ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノールである
ことを確認した。 元素分析 Ｃ：７５．３重量％、Ｈ：６．９重量％（実測値） Ｃ：７６．１重量％、Ｈ：７．０重量％（理論値、Ｃ13
Ｈ20Ｏ3 として） 質量分析 Ｍ+ ＝２８４ ＩＲスペクトル 図１に示した。13 Ｃ核磁気共鳴分析 以下の化学シフトのシグナルが得られ、それぞれのシグ
ナルは式（２）（化３）のように同定された。 ａ：１５６．２０ ｇ：１２５．９７ ｍ： ５５．９７ ｂ：１５５．８８ ｈ：１２２．６１ ｎ： ４８．４４ ｃ：１５５．５５ ｉ：１１４．００ ｏ： ４１．３９ ｄ：１５０．８９ ｊ：１１１．１８ ｐ： ３０．７７ ｅ：１４２．１７ ｋ：１０４．９５ ｑ： ３０．１８ ｆ：１２８．０８ ｌ：１０３．７５ ｒ： ２８．６６
【００２０】
【化３】
【００２１】実施例２ 調製例１で得られたヒドロキシインデン１２１．８３ｇ
（０．７０モル）、レゾルシン８０．８６ｇ（０．７３
５モル）及びトルエン４８０．５９ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水
溶液０．４２２０ｇを添加した。温度を６２〜６３℃に
保ち５時間反応を行った後、室温まで冷却した。次い
で、反応物である結晶性スラリーを濾過し、結晶を得て
それをトルエン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌ
で洗浄を２回繰り返した後、乾燥して粗結晶１７４．０
ｇを得た。この結晶の純度は９０重量％であった。
（０．７０モル）、レゾルシン８０．８６ｇ（０．７３
５モル）及びトルエン４８０．５９ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水
溶液０．４２２０ｇを添加した。温度を６２〜６３℃に
保ち５時間反応を行った後、室温まで冷却した。次い
で、反応物である結晶性スラリーを濾過し、結晶を得て
それをトルエン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌ
で洗浄を２回繰り返した後、乾燥して粗結晶１７４．０
ｇを得た。この結晶の純度は９０重量％であった。
【００２２】実施例３ 調製例１で得られたヒドロキシインデン６．８６ｇ
（０．０４モル）、レゾルシン４．４０ｇ（０．０４モ
ル）及びトルエン２３．００ｇをフラスコに仕込み、攪
拌しながら７５℃に昇温して１０重量％の硫酸水溶液
０．０６９９ｇを添加した。温度を７５℃に保ち３時間
反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物で
ある結晶性スラリーを濾過して結晶を得て、それをトル
エン３０ｇで洗浄し、更に、２００ｍｌの水で洗浄して
粗結晶６．３７ｇを得た。この結晶の純度は７３重量％
であった。
（０．０４モル）、レゾルシン４．４０ｇ（０．０４モ
ル）及びトルエン２３．００ｇをフラスコに仕込み、攪
拌しながら７５℃に昇温して１０重量％の硫酸水溶液
０．０６９９ｇを添加した。温度を７５℃に保ち３時間
反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物で
ある結晶性スラリーを濾過して結晶を得て、それをトル
エン３０ｇで洗浄し、更に、２００ｍｌの水で洗浄して
粗結晶６．３７ｇを得た。この結晶の純度は７３重量％
であった。
【００２３】実施例４ 調製例１で得られたヒドロキシインデン１７．４０ｇ
（０．１０モル）、レゾルシン１１．００ｇ（０．１０
モル）、及びトルエン６６．３０ｇとメタノール１３．
２ｇをフラスコに仕込み、攪拌しながら６５℃に昇温し
て１０重量％の塩酸水溶液０．１１００ｇを添加した。
温度を６５℃に保ち５時間反応を行った後、窒素バブリ
ングし、溶媒を追い出しながら晶析して室温まで冷却し
た。次いで、反応物であるスラリーを濾過して結晶を得
て、それをトルエン２０ｇで洗浄し、更に、水２００ｍ
ｌで洗浄を２回繰り返して粗結晶１５．３ｇを得た。こ
の結晶の純度は９３重量％であった。
（０．１０モル）、レゾルシン１１．００ｇ（０．１０
モル）、及びトルエン６６．３０ｇとメタノール１３．
２ｇをフラスコに仕込み、攪拌しながら６５℃に昇温し
て１０重量％の塩酸水溶液０．１１００ｇを添加した。
温度を６５℃に保ち５時間反応を行った後、窒素バブリ
ングし、溶媒を追い出しながら晶析して室温まで冷却し
た。次いで、反応物であるスラリーを濾過して結晶を得
て、それをトルエン２０ｇで洗浄し、更に、水２００ｍ
ｌで洗浄を２回繰り返して粗結晶１５．３ｇを得た。こ
の結晶の純度は９３重量％であった。
【００２４】実施例５ 調製例１で得られたヒドロキシインデン１７．４０ｇ
（０．１０モル）、レゾルシン２２．００ｇ（０．２０
モル）、及びトルエン１００．０ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水
溶液０．５６００ｇを添加した。温度を６０℃に保ち５
時間反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応
物である結晶性スラリーを濾過し、結晶を得てそれをト
ルエン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌで洗浄を
２回繰り返した後、乾燥して粗結晶２５．６ｇを得た。
この結晶の純度は９５重量％であった。
（０．１０モル）、レゾルシン２２．００ｇ（０．２０
モル）、及びトルエン１００．０ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水
溶液０．５６００ｇを添加した。温度を６０℃に保ち５
時間反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応
物である結晶性スラリーを濾過し、結晶を得てそれをト
ルエン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌで洗浄を
２回繰り返した後、乾燥して粗結晶２５．６ｇを得た。
この結晶の純度は９５重量％であった。
【００２５】実施例６ 調製例１で得られたヒドロキシインデン１７．４０ｇ
（０．１０モル）、レゾルシン９．３５ｇ（０．０８５
モル）、及びトルエン６２．００ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水
溶液０．０８５５ｇを添加した。温度を６０℃に保ち５
時間反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応
物である結晶性スラリーを濾過し、結晶を得てそれをト
ルエン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌで洗浄を
２回繰り返した後、乾燥して粗結晶２１．４ｇを得た。
この結晶の純度は５０重量％であった。
（０．１０モル）、レゾルシン９．３５ｇ（０．０８５
モル）、及びトルエン６２．００ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水
溶液０．０８５５ｇを添加した。温度を６０℃に保ち５
時間反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応
物である結晶性スラリーを濾過し、結晶を得てそれをト
ルエン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌで洗浄を
２回繰り返した後、乾燥して粗結晶２１．４ｇを得た。
この結晶の純度は５０重量％であった。
【００２６】実施例７ 調製例１で得られたヒドロキシインデン１７．４０ｇ
（０．１０モル）及びトルエン３５．０７ｇをフラスコ
に仕込み、攪拌しながら７５℃に昇温して溶解した後、
硫酸水素ナトリウム０．００２８ｇを添加して４時間反
応を行った。得られた反応物は、ヒドロキシインデン
７．７重量％、その二量体９．６重量％、その三量体２
２．６重量％、及び四量体以上６０．１重量％の組成を
有するヒドロキシインデン及びそのオリゴマー混合物で
あった。前記反応生成物にレゾルシン１１．００ｇ
（０．１０モル）、及び１０％塩酸水溶液０．２６７９
ｇを添加して６０℃で５時間反応を行った後、室温まで
冷却した。次いで、反応物である結晶性スラリーを濾過
して結晶を得て、それをトルエン３０ｇで繰り返し３回
洗浄し、更に、水２００ｍｌで２回洗浄を繰り返して粗
結晶２１．３ｇを得た。この結晶は３８重量％の４−
（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−
３−イル）レゾルシノールを含んでいた。
（０．１０モル）及びトルエン３５．０７ｇをフラスコ
に仕込み、攪拌しながら７５℃に昇温して溶解した後、
硫酸水素ナトリウム０．００２８ｇを添加して４時間反
応を行った。得られた反応物は、ヒドロキシインデン
７．７重量％、その二量体９．６重量％、その三量体２
２．６重量％、及び四量体以上６０．１重量％の組成を
有するヒドロキシインデン及びそのオリゴマー混合物で
あった。前記反応生成物にレゾルシン１１．００ｇ
（０．１０モル）、及び１０％塩酸水溶液０．２６７９
ｇを添加して６０℃で５時間反応を行った後、室温まで
冷却した。次いで、反応物である結晶性スラリーを濾過
して結晶を得て、それをトルエン３０ｇで繰り返し３回
洗浄し、更に、水２００ｍｌで２回洗浄を繰り返して粗
結晶２１．３ｇを得た。この結晶は３８重量％の４−
（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−
３−イル）レゾルシノールを含んでいた。
【００２７】実施例１〜７の主な反応条件、及び得られ
た粗結晶の収率と純度を表１に示す。
た粗結晶の収率と純度を表１に示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【発明の効果】本発明により新規なフェノール性化合物
である４−（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシ
インダン−３−イル）レゾルシノールが収率良く得られ
る。該化合物は、フォトレジスト用感放射線性組成物の
原料、エポキシ樹脂及びその硬化剤として有用である。
である４−（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシ
インダン−３−イル）レゾルシノールが収率良く得られ
る。該化合物は、フォトレジスト用感放射線性組成物の
原料、エポキシ樹脂及びその硬化剤として有用である。
【図１】実施例１で得られた４−（１，１，３−トリメ
チル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノ
ールのＩＲスペクトルを示す。
チル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノ
ールのＩＲスペクトルを示す。
Claims (4)
- 【請求項１】下記式（１）〔化１〕 【化１】 で示される４−（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロ
キシインダン−３−イル）レゾルシノール。 - 【請求項２】酸性触媒の存在下、５−ヒドロキシ−１，
１，３−トリメチル−２−インデン及び／又はその重合
体中の５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−
インデン単位１モルに対し、レゾルシンを少なくとも
０．８モル用いて反応させることを特徴とする４−
（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−
３−イル）レゾルシノールの製造方法。 - 【請求項３】５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル
−２−インデン及び／又はその重合体とレゾルシンの総
量に対し、酸性触媒０．００１〜５重量％を用いること
を特徴とする請求項２記載の４−（１，１，３−トリメ
チル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノ
ールの製造方法。 - 【請求項４】反応温度が０〜１００℃であることを特徴
とする請求項２記載の４−（１，１，３−トリメチル−
５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノールの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9324854A JPH11158100A (ja) | 1997-11-26 | 1997-11-26 | フェノール性化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9324854A JPH11158100A (ja) | 1997-11-26 | 1997-11-26 | フェノール性化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11158100A true JPH11158100A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18170401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9324854A Pending JPH11158100A (ja) | 1997-11-26 | 1997-11-26 | フェノール性化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11158100A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003104295A1 (ja) * | 2002-06-11 | 2003-12-18 | 新日鐵化学株式会社 | アセナフチレン変性フェノール性樹脂及びエポキシ樹脂組成物 |
| JP2021130741A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | Dic株式会社 | インダンビスフェノール化合物、硬化性樹脂組成物、及び、硬化物 |
-
1997
- 1997-11-26 JP JP9324854A patent/JPH11158100A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003104295A1 (ja) * | 2002-06-11 | 2003-12-18 | 新日鐵化学株式会社 | アセナフチレン変性フェノール性樹脂及びエポキシ樹脂組成物 |
| JP2021130741A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | Dic株式会社 | インダンビスフェノール化合物、硬化性樹脂組成物、及び、硬化物 |
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