JPS58190395A - 光学活性なシス−イミダゾリジンジカルボン酸誘導体の製造法 - Google Patents
光学活性なシス−イミダゾリジンジカルボン酸誘導体の製造法Info
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- JPS58190395A JPS58190395A JP7183482A JP7183482A JPS58190395A JP S58190395 A JPS58190395 A JP S58190395A JP 7183482 A JP7183482 A JP 7183482A JP 7183482 A JP7183482 A JP 7183482A JP S58190395 A JPS58190395 A JP S58190395A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式（Ｉ）
（式中、Ｒは低級アルキル基を示す。Ｂｚｌはベンジル
基を示す。４位、５位の配位は４Ｓ、５Ｒの配位である
６） で示される光学活性シス゛−イミダゾリジンジカルボン
酸誘導体の製造方法に関するものである。
基を示す。４位、５位の配位は４Ｓ、５Ｒの配位である
６） で示される光学活性シス゛−イミダゾリジンジカルボン
酸誘導体の製造方法に関するものである。
すなわち本発明は一般式（３）
（式中、Ｒは低級アルキル基を示す。Ｂｚｌはベンジル
基を示す。） で示されるシス−イミダゾリジンジカルボン酸ジエステ
ル類（以下ジエステル類と略称する。）ニクロモハクｔ
’）ラム（（３ｈｒｏｍｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ ）属に
属するエステラーセ牛産菌またはクロモバクテリウム属
に属するエステラーゼ生産菌由来のエステラーセを接触
せしめることにより、前記一般式〇）で示される光学活
性シス−イミダゾリジンジカルボン酸誘導体（以下、ハ
ーフェステル類と略称するう ）を製造する方法を提供
するものである。
基を示す。） で示されるシス−イミダゾリジンジカルボン酸ジエステ
ル類（以下ジエステル類と略称する。）ニクロモハクｔ
’）ラム（（３ｈｒｏｍｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ ）属に
属するエステラーセ牛産菌またはクロモバクテリウム属
に属するエステラーゼ生産菌由来のエステラーセを接触
せしめることにより、前記一般式〇）で示される光学活
性シス−イミダゾリジンジカルボン酸誘導体（以下、ハ
ーフェステル類と略称するう ）を製造する方法を提供
するものである。
一般式（１）および（至）において低級アルキル基とは
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基等の
０１〜６アルキル基を意味する。
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基等の
０１〜６アルキル基を意味する。
本発明によって得られる光学活性ハーフェステル類（Ｄ
はビオチンおよびその他医薬品の合成中間体として極め
て１要な化合物である。
はビオチンおよびその他医薬品の合成中間体として極め
て１要な化合物である。
テ
本発明者らは、微生物を用いてジエステル類（６）から
光学活性ハーフニスチル類（１）の製造方法を鋭意検討
した。その結果、クロモバクテリウム（Ｃｈｒｏｍｏｂ
ａｃｔｅｒｉｕｍ ）属に属すル：Ｘ−７，ｆラーゼ生
産菌またはクロモバクテリウム属に属するエステラーゼ
生産菌由来のエステラーセを用いた場合、光学活性なハ
ーフェステル類（Ｉ）が得られることを見い出し、本発
明方法を完成するに至った。
光学活性ハーフニスチル類（１）の製造方法を鋭意検討
した。その結果、クロモバクテリウム（Ｃｈｒｏｍｏｂ
ａｃｔｅｒｉｕｍ ）属に属すル：Ｘ−７，ｆラーゼ生
産菌またはクロモバクテリウム属に属するエステラーゼ
生産菌由来のエステラーセを用いた場合、光学活性なハ
ーフェステル類（Ｉ）が得られることを見い出し、本発
明方法を完成するに至った。
本発明方法においてはクロモバクテリウム接触せしめる
ことｌこより半加水分解する際、反 Ｊ応は緩和な条
件下、収率よく進行し、本発明目的化合物ハーフェステ
ル類（Ｉ）を得ることかでき、しかも生捕水分解反応は
立体選択的又は特異的に進行する。
ことｌこより半加水分解する際、反 Ｊ応は緩和な条
件下、収率よく進行し、本発明目的化合物ハーフェステ
ル類（Ｉ）を得ることかでき、しかも生捕水分解反応は
立体選択的又は特異的に進行する。
即ち、メソ体であるジエステル類（６）を半加水分解す
る際、２ち類の光学対掌体の生成が考えられるが、本発
明方法を用いればそれらの２種類のうちいずれか一方の
対掌体のみが過剰に生成し、さらに場合によっては一方
的に１稲類の対常体のみを生成するといういわゆる不斉
加水分解が生ずるのである。
る際、２ち類の光学対掌体の生成が考えられるが、本発
明方法を用いればそれらの２種類のうちいずれか一方の
対掌体のみが過剰に生成し、さらに場合によっては一方
的に１稲類の対常体のみを生成するといういわゆる不斉
加水分解が生ずるのである。
本発明方法により、選択的に得られるハーフェステル類
（Ｉ）は４８．５Ｒ配位をもつものであり、光学活性な
ｄ−ビオチンに変換することが出来ろ。たとえば、その
１例を示すと反応式（イ）の通りである。
（Ｉ）は４８．５Ｒ配位をもつものであり、光学活性な
ｄ−ビオチンに変換することが出来ろ。たとえば、その
１例を示すと反応式（イ）の通りである。
更応式（４）
％式％（）
（）
（式中、Ｒ，Ｂｚｌは前述の通りであり、Ｒ１は低級ア
ルキル基を示し、ＸはＣ／ 、 Ｂｒ 、 Ｉのハロゲ
ン原子を示す。） すなわち光学活性なハーフェステル類（Ｉ）の低級アル
コキシカルボニル基を選択的に還元シ、次いで閉環する
ことにより光学活性なラクトン（ト）を得ることができ
ろ。光学活性なハーフェステル類（Ｉ）の低級アルコキ
シカルボニル基を選択的に還元する方法としては一般に
低級アルコキシカルボニル基を選択的に還元する事がで
きる還元剤、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩ
ＢＡＬ−Ｅｌ）、水素化ジエチルアルミニウムナトリウ
ム（ＯＭＩ−１−１）等を用いろ事により実施する事が
できる。反応溶媒としては反応の進行をさまたげない溶
媒であれば特に制限はないが、好ましい溶媒としてジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
レングリコール、ジメチルエーテル等のエーテル系溶媒
、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系還元剤である場合
にはエタノール、イソプロパツール勢のアルコール系溶
媒あるいはこれらと水との混合溶媒を用いることもでき
る。反応温度は室温で良いが、室温より冷却するかある
いは溶媒沸点まで加温しても良い。還元剤がアルミニウ
ム系還元剤である場合には−７０〜−２０℃に冷却する
事が好ましい。
ルキル基を示し、ＸはＣ／ 、 Ｂｒ 、 Ｉのハロゲ
ン原子を示す。） すなわち光学活性なハーフェステル類（Ｉ）の低級アル
コキシカルボニル基を選択的に還元シ、次いで閉環する
ことにより光学活性なラクトン（ト）を得ることができ
ろ。光学活性なハーフェステル類（Ｉ）の低級アルコキ
シカルボニル基を選択的に還元する方法としては一般に
低級アルコキシカルボニル基を選択的に還元する事がで
きる還元剤、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩ
ＢＡＬ−Ｅｌ）、水素化ジエチルアルミニウムナトリウ
ム（ＯＭＩ−１−１）等を用いろ事により実施する事が
できる。反応溶媒としては反応の進行をさまたげない溶
媒であれば特に制限はないが、好ましい溶媒としてジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
レングリコール、ジメチルエーテル等のエーテル系溶媒
、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系還元剤である場合
にはエタノール、イソプロパツール勢のアルコール系溶
媒あるいはこれらと水との混合溶媒を用いることもでき
る。反応温度は室温で良いが、室温より冷却するかある
いは溶媒沸点まで加温しても良い。還元剤がアルミニウ
ム系還元剤である場合には−７０〜−２０℃に冷却する
事が好ましい。
還元反応終了後、反応液を中性または酸性としたのち、
クロロホルム、酢竪エチル等の有機溶媒で抽出するが、
このとき、閉環し、光学活性なラクトン（至）を得るこ
とができる。
クロロホルム、酢竪エチル等の有機溶媒で抽出するが、
このとき、閉環し、光学活性なラクトン（至）を得るこ
とができる。
光学活性なラクトン（至）を収率良く得るには還元反応
後、反応液を酸性とする事が好ましい。
後、反応液を酸性とする事が好ましい。
ラクトン体（ト）は公知化合物であり、これを相当する
チオラクトン体（ＩＶ）に誘導する。次にグリニヤール
反応により側鎖を導入して得られるアルコール体Ｍを脱
水、水素添加して化合物（財）を得る。この化合物（Ｖ
Ｉ）をハロゲン化水素にてチオファニウム塩（■）とし
、マロン酸ジエチルと反応して化合物（■）としたのち
、加水分解、脱炭酸 Ｎｌ 、Ｎ３−ジベンジル基を除
去する事により光学活性なｄ−ビオチン（ＴＸ）を得る
事ができる。
チオラクトン体（ＩＶ）に誘導する。次にグリニヤール
反応により側鎖を導入して得られるアルコール体Ｍを脱
水、水素添加して化合物（財）を得る。この化合物（Ｖ
Ｉ）をハロゲン化水素にてチオファニウム塩（■）とし
、マロン酸ジエチルと反応して化合物（■）としたのち
、加水分解、脱炭酸 Ｎｌ 、Ｎ３−ジベンジル基を除
去する事により光学活性なｄ−ビオチン（ＴＸ）を得る
事ができる。
したがって本発明によって得られる光学活性なハーフェ
ステル類α）は特別の光学分割工程を経由する１％なく
、シかも途中でラセミ化する事なく光学活性なｄ−ビオ
チン（ＩＸ）に導くことができ、この事はｄ−ビオチン
（ｆｆ）の極めて有利な工業的製造法を可能とするもの
である。
ステル類α）は特別の光学分割工程を経由する１％なく
、シかも途中でラセミ化する事なく光学活性なｄ−ビオ
チン（ＩＸ）に導くことができ、この事はｄ−ビオチン
（ｆｆ）の極めて有利な工業的製造法を可能とするもの
である。
本発明方法を実施するには、通常行なわれる微生物の培
養に繁用される培地にクロモバクテリウム（Ｃｈｒｏｍ
ｏｂａｃｔａｒｉｕｍ ） ｇｌｌ八属るｆ、 ステラ
ーヤ生産菌を生育せし、め、その生育の肖初からあるい
は後に前記一般式（Ｉ］）で示されるジエステル類（２
）を加え、培養を継続し、半加水分解を行なう方法が最
も簡便である。この場合、培養温度は菌の増殖か可能で
あれば特に制限はないがｉｉ！ｓ ’１２５〜８７℃で
行なうのか好ましく、培養日数は通常半日〜７Ｈ間か適
尚であり、基質濃度は０．１〜１０９６程度が適当であ
る。
養に繁用される培地にクロモバクテリウム（Ｃｈｒｏｍ
ｏｂａｃｔａｒｉｕｍ ） ｇｌｌ八属るｆ、 ステラ
ーヤ生産菌を生育せし、め、その生育の肖初からあるい
は後に前記一般式（Ｉ］）で示されるジエステル類（２
）を加え、培養を継続し、半加水分解を行なう方法が最
も簡便である。この場合、培養温度は菌の増殖か可能で
あれば特に制限はないがｉｉ！ｓ ’１２５〜８７℃で
行なうのか好ましく、培養日数は通常半日〜７Ｈ間か適
尚であり、基質濃度は０．１〜１０９６程度が適当であ
る。
微生物の培養液を遠心分離等の操作により集菌しその微
生物細胞を用いて半加水分解する方法、あるいは微生物
の細胞を超音波処理、リゾチーム処理等により、酵素を
遊離させ、冷却下遠心分離、硫安分画、沈澱透析等によ
り、エステラーゼを得てこれを用いて半加水分解する方
法にても実施出来る。これらの場合には、一般式（２）
で示されるジエステル類を好ましくはｐＨ５〜８に調整
した水溶液又は緩衝溶液に懸濁するか溶解し、ジエステ
ル類■に対して微生物の細胞もしくはエステラーゼを好
ましくはｏ、ｏｏｔ〜０．１重量比添加し、好ましくは
１０〜４０℃で攪拌することにより反応が進行し、通常
１時間〜数日間で反応が完了する。
生物細胞を用いて半加水分解する方法、あるいは微生物
の細胞を超音波処理、リゾチーム処理等により、酵素を
遊離させ、冷却下遠心分離、硫安分画、沈澱透析等によ
り、エステラーゼを得てこれを用いて半加水分解する方
法にても実施出来る。これらの場合には、一般式（２）
で示されるジエステル類を好ましくはｐＨ５〜８に調整
した水溶液又は緩衝溶液に懸濁するか溶解し、ジエステ
ル類■に対して微生物の細胞もしくはエステラーゼを好
ましくはｏ、ｏｏｔ〜０．１重量比添加し、好ましくは
１０〜４０℃で攪拌することにより反応が進行し、通常
１時間〜数日間で反応が完了する。
上述、水溶液とは硫酸、塩酸、リンｈｅの鉱酸、酢酸、
クエン酸尋の有機酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、
ピリジン等の有機塩基、酢酸ナトリウム、塩化ナトリウ
ム等の塩を添加した水溶液を意味する。
クエン酸尋の有機酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、
ピリジン等の有機塩基、酢酸ナトリウム、塩化ナトリウ
ム等の塩を添加した水溶液を意味する。
緩％溶液とはリン酸二水章カリウムー水酸化ナトリウム
、リン酸二水素カリウム−リン酸二水素ナトリウム、フ
タル酸水素カリウム−塩酸、グリシン−塩化ナトリウム
−水酸化ナトリウム郷の一般的緩衝溶液を意味し、反応
を防げるものり外は特に制限はない。
、リン酸二水素カリウム−リン酸二水素ナトリウム、フ
タル酸水素カリウム−塩酸、グリシン−塩化ナトリウム
−水酸化ナトリウム郷の一般的緩衝溶液を意味し、反応
を防げるものり外は特に制限はない。
又、本発明を実施する場合、必要に応じメタノール、エ
タノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、ｎ−
ブタノール、ｔ−ブタノールの如きアルコール系溶媒、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ廿ンの如きエー
テル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系
溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン
等のケトン系溶媒、トリエチルアミン、ピリジン等のア
ミン系溶媒、ジメチルホルム７ミド、ジメチルスルホキ
シド吟の極性溶媒、又、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタンモノラウレート等の如き界面活性剤を添加す
る事も出来る。
タノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、ｎ−
ブタノール、ｔ−ブタノールの如きアルコール系溶媒、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ廿ンの如きエー
テル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系
溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン
等のケトン系溶媒、トリエチルアミン、ピリジン等のア
ミン系溶媒、ジメチルホルム７ミド、ジメチルスルホキ
シド吟の極性溶媒、又、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタンモノラウレート等の如き界面活性剤を添加す
る事も出来る。
１．８−ジベンジル２−オキソイミダゾリジン−４ｔ５
−ジカルボン酸とメタノール、エタノール、ｎ−プロパ
ツール、イソプロパツール、ｎ −フタノール、ｔ−ブ
タノール、ｎ−ペンタノール、あるいはｎ−ヘキサノー
ルを硫酸の存在下に脱水反応を行なう事によって対応す
るジエステル類（至）として合成することができる。
−ジカルボン酸とメタノール、エタノール、ｎ−プロパ
ツール、イソプロパツール、ｎ −フタノール、ｔ−ブ
タノール、ｎ−ペンタノール、あるいはｎ−ヘキサノー
ルを硫酸の存在下に脱水反応を行なう事によって対応す
るジエステル類（至）として合成することができる。
以下に実権例をもって本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明はこれらにより限定されない事は勿論のことで
ある。
、本発明はこれらにより限定されない事は勿論のことで
ある。
参考例１
シス−１，８−ジベンジル−２−オキソイミダゾリジン
−４，５−ジカルボン酸ジエチルエステルの製造法 シス−１，８，−ジベンジル−２−オキソイミダゾリジ
ン−４，５−ジカルボン９８５．４１、ベンゼン５００
−１９９．５９６エタノール４ｆｉ清／、濃ＥＮ酸５．
０りからなる反応液を１０時間還流後、冷却し反応液を
水、５％ＮａＯＨ水、水の順で洗浄した。
−４，５−ジカルボン酸ジエチルエステルの製造法 シス−１，８，−ジベンジル−２−オキソイミダゾリジ
ン−４，５−ジカルボン９８５．４１、ベンゼン５００
−１９９．５９６エタノール４ｆｉ清／、濃ＥＮ酸５．
０りからなる反応液を１０時間還流後、冷却し反応液を
水、５％ＮａＯＨ水、水の順で洗浄した。
その後減圧濃縮し、得られた残渣を９５％エタノールで
再結晶し７た。
再結晶し７た。
ｍ−Ｐ ７４〜７６℃ノｉｚＸ １．８ ’）ヘ
ンシル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボ
ン酸ジエチルエステルを得た。
ンシル−２−オキソイミダゾリジン−４，５−ジカルボ
ン酸ジエチルエステルを得た。
実施例１
グルコース１．０ ？ 、酵母エキス（極東製薬工業）
０．５Ｆ、ペプトン（ミクニ化学産業）１．０Ｐ、
リン酸水素二カリウム０． ＦＩ Ｆ、蒸留水１００−
からなる溶液を希塩酸にてｐＨ７，０に調整した。この
液体培養液を１２０’Ｃにて２０分間蒸気滅菌した後、
Ｃｈｒｏｍｏｂａｃｔｅｒ ｉｕｍＣｈｏｏｏｌａｔｕ
ｍ （Ｉ Ｆθ３７５８）を接種シ、２６℃で４８時間
振盪培養した。
０．５Ｆ、ペプトン（ミクニ化学産業）１．０Ｐ、
リン酸水素二カリウム０． ＦＩ Ｆ、蒸留水１００−
からなる溶液を希塩酸にてｐＨ７，０に調整した。この
液体培養液を１２０’Ｃにて２０分間蒸気滅菌した後、
Ｃｈｒｏｍｏｂａｃｔｅｒ ｉｕｍＣｈｏｏｏｌａｔｕ
ｍ （Ｉ Ｆθ３７５８）を接種シ、２６℃で４８時間
振盪培養した。
これにシス−１，８−ジベンジル−２−オキソイミダゾ
リジン−４，５−ジカルボン酸ジメチルエステル４００
〜を添加したのち、さらに２６℃で７２時間振盪反応さ
せた。
リジン−４，５−ジカルボン酸ジメチルエステル４００
〜を添加したのち、さらに２６℃で７２時間振盪反応さ
せた。
この反応液に酢酸エチル１００−を加え、希塩酸ζごて
酸性としたのち、セライトを遇した。
酸性としたのち、セライトを遇した。
を液を分液し、有機層を水にて洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、減圧濃縮した。
シウムにて乾燥し、減圧濃縮した。
残渣に５ ＊ １ｉｌｌ水２０−を加え、溶解後エーテ
ル２０ｍにて洗浄し、分液した。
ル２０ｍにて洗浄し、分液した。
水滴を希硫酸にてｐＨ２とし、析出した白色結晶を沖過
し、水にて洗浄後乾燥した。
し、水にて洗浄後乾燥した。
（４８，５Ｋ） −１、８−’）ヘンリに−５−メトキ
シカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボ
ン酸８４０１１Ｆが得られた。
シカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−４−カルボ
ン酸８４０１１Ｆが得られた。
融点 １４９〜１５１℃
〔ａ〕ａｓｓ −２８，０° （Ｃ＝１．ＤＭＦ）
であった。
であった。
参考例２
水素化ホウ票リチウム４８１９とテトラヒドロフラン８
−の混合液に実施例１で得られた（４Ｂ、５Ｒ）−１，
８−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソ
イミダゾリジン４−カルボン酸２４０ｗｑとテトラヒド
ロフラン４ｗｄからなる溶液を室温にて滴下した。
−の混合液に実施例１で得られた（４Ｂ、５Ｒ）−１，
８−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソ
イミダゾリジン４−カルボン酸２４０ｗｑとテトラヒド
ロフラン４ｗｄからなる溶液を室温にて滴下した。
次にこの反応液を２時間還流したのち、テトラヒドロフ
ランを留去した。残漬に冷却下メタノール４−を徐々に
加え、次に濃塩酸０．５ｉを加えた。この混合物を１時
間還流したのち減圧濃縮した。残漬をシリカゲルカラム
クロマト精製し、（４ａＳ、５ａＲ）−ｔ 、 ８−ジ
ベンジルへキサヒドロ−ＩＨ−フロ（８，４−ｄ〕イミ
ダゾール−２，４−ジオンを得た。
ランを留去した。残漬に冷却下メタノール４−を徐々に
加え、次に濃塩酸０．５ｉを加えた。この混合物を１時
間還流したのち減圧濃縮した。残漬をシリカゲルカラム
クロマト精製し、（４ａＳ、５ａＲ）−ｔ 、 ８−ジ
ベンジルへキサヒドロ−ＩＨ−フロ（８，４−ｄ〕イミ
ダゾール−２，４−ジオンを得た。
融点 １１７〜１１８°Ｃ
［ａ］ｎ ＋６２．５° （Ｃ，＝ｔ、（ｌ［［／
３ ）実施例２ グルコース８．ＯＦ、酵母エキス（極東製薬工業） １
．５ Ｆ、ペプトン（ミクニ化学産業）８．０？、リン
酸水素二カリウム１．５Ｆ、蒸留水８００ｍｇからなる
溶液を希塩酸にてｐＨ４７，０にｐ４整した。この培養
液を１２０℃暑ごて２０分間蒸気滅龜したのちＣｈｒｏ
ｍｏｂａｃｔｅｒ ｉｕｍＣｈｏｃｏｌａｔｕｍ （Ｉ
ＦＯ８７５８）を接種し、２６℃で７２時間振盪培養
した。
３ ）実施例２ グルコース８．ＯＦ、酵母エキス（極東製薬工業） １
．５ Ｆ、ペプトン（ミクニ化学産業）８．０？、リン
酸水素二カリウム１．５Ｆ、蒸留水８００ｍｇからなる
溶液を希塩酸にてｐＨ４７，０にｐ４整した。この培養
液を１２０℃暑ごて２０分間蒸気滅龜したのちＣｈｒｏ
ｍｏｂａｃｔｅｒ ｉｕｍＣｈｏｃｏｌａｔｕｍ （Ｉ
ＦＯ８７５８）を接種し、２６℃で７２時間振盪培養
した。
培養液を５，０００ｒｐｍ２５分間、冷却子で遠心分離
して集菌した。菌体を０．８６１１食塩水１００ｍにて
８回洗浄（遠心分離にて）し、集菌した。菌体に０．１
Ｍ−リン酸緩衝溶液（ＰＥ［７，０） ５０ｍ、シス
−１，８−ジベンジル−２−オキソイミダゾリジン−４
，５−ジカルボン酸ジメチルエステル１．５０ Ｐを加
え、１規定水炉化ナトリウム溶液にてｐＨ７付近に調整
しながら室温にて７０時間攪拌した。
して集菌した。菌体を０．８６１１食塩水１００ｍにて
８回洗浄（遠心分離にて）し、集菌した。菌体に０．１
Ｍ−リン酸緩衝溶液（ＰＥ［７，０） ５０ｍ、シス
−１，８−ジベンジル−２−オキソイミダゾリジン−４
，５−ジカルボン酸ジメチルエステル１．５０ Ｐを加
え、１規定水炉化ナトリウム溶液にてｐＨ７付近に調整
しながら室温にて７０時間攪拌した。
この反応液を遠心分離し、菌体と上ずみ液とに分離した
（Ｍ体は回収）。上ずみ液を希硫酸にてＰＨ２とし析出
した白色結晶を沖過し、水にて洗浄後乾燥した。
（Ｍ体は回収）。上ずみ液を希硫酸にてＰＨ２とし析出
した白色結晶を沖過し、水にて洗浄後乾燥した。
（４ｓ、５ｆＬ）−１＋ ８−ジベンジル−５−メトキ
シカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−◆−カルボ
ン酸Ｌ４０Ｆが得られた。
シカルボニル−２−オキソイミダゾリジン−◆−カルボ
ン酸Ｌ４０Ｆが得られた。
融点 １４５〜１４７℃
〔α〕ａｒｓ ２５．０° （Ｃ＝１．ＤＭＦ
）参考例８ 水素化ホウ素ナトリウム８２０〜とイソプロピルアルコ
ール８５−の混合液に実施例２で得られた（４Ｂ、５Ｒ
）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２
−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸１．２０Ｐと
テトラヒドロフラン１５ｍからなる溶液を室温にて滴下
した。次にこの反応液を６０〜７０℃にて７時間攪拌し
た。この反応液を冷却し、Ｗ＃塩酸２．５１を加え減圧
にて反応液を濃縮した。残渣に水２５０ｉを加え、クロ
ロホルム１００ｍ／にて２回抽出した。クロロホルム層
を水にて洗浄し、無水硅酸マグネシウムにて乾燥後減圧
濃縮し、残渣１．０８Ｆを得た。
）参考例８ 水素化ホウ素ナトリウム８２０〜とイソプロピルアルコ
ール８５−の混合液に実施例２で得られた（４Ｂ、５Ｒ
）−１，８−ジベンジル−５−メトキシカルボニル−２
−オキソイミダゾリジン−４−カルボン酸１．２０Ｐと
テトラヒドロフラン１５ｍからなる溶液を室温にて滴下
した。次にこの反応液を６０〜７０℃にて７時間攪拌し
た。この反応液を冷却し、Ｗ＃塩酸２．５１を加え減圧
にて反応液を濃縮した。残渣に水２５０ｉを加え、クロ
ロホルム１００ｍ／にて２回抽出した。クロロホルム層
を水にて洗浄し、無水硅酸マグネシウムにて乾燥後減圧
濃縮し、残渣１．０８Ｆを得た。
残渣をシリカゲルカラムクロマトｆＰＩａし、（４ｍ８
．６ａＫ ） −１、８−ジベンジルへキサヒドロ−Ｉ
Ｈ−フロ［Ｂ、４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオン
を得た。
．６ａＫ ） −１、８−ジベンジルへキサヒドロ−Ｉ
Ｈ−フロ［Ｂ、４−ｄ〕イミダゾール−２，４−ジオン
を得た。
融点 １１５〜１１８℃
〔“）Ｄ＋５９．５°（Ｃ＝＝ １ 、 Ｃ：ＨＣｌ５
）実施例８ ’４６例２で回収しｔ二菌体に０．１ Ｍ −ＩＪン酸
緩衝耐欣（ＰＨ’ｉ’、ｏ ） ５０ｙｎｔ、シス−１
，８−ジペンジル−２−オキソイミダゾリジン−４，５
−ジカルボン酸ジメチルエステル１．５０？を加え、実
施例２と同様に処理し、（４８，５Ｒ）−１，３−ジベ
ンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソイミダゾ
リジン−４−カルボン酸１８４Ｆが得られた。
）実施例８ ’４６例２で回収しｔ二菌体に０．１ Ｍ −ＩＪン酸
緩衝耐欣（ＰＨ’ｉ’、ｏ ） ５０ｙｎｔ、シス−１
，８−ジペンジル−２−オキソイミダゾリジン−４，５
−ジカルボン酸ジメチルエステル１．５０？を加え、実
施例２と同様に処理し、（４８，５Ｒ）−１，３−ジベ
ンジル−５−メトキシカルボニル−２−オキソイミダゾ
リジン−４−カルボン酸１８４Ｆが得られた。
融点 １４６〜１４８℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 （式中、Ｒは低級アルキル基を示す。Ｂｚｌはベンジル
基を示す。） ・ニ で示されるシスーイミダゾリジンカルボン酸ジエステル
類に、クロモバクテリウム （Ｃｈｒｏｍｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ ） 属に属するエ
ステラーゼ生産菌またはクロモバクテリウム属に属する
エステラーゼ生産菌出来のエステラーゼを接触せしめる
ことを特徴とする一般式 （式中、Ｒは低級アルキル基を示す。Ｂｚｌはベンジル
基を示す。４位、５位の配位は４８．５Ｒの配位である
。） で示される光学活性なシス−イミダゾリジンジカルボン
酸誘導体の製造方法
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7183482A JPS58190395A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | 光学活性なシス−イミダゾリジンジカルボン酸誘導体の製造法 |
| US06/460,797 US4496739A (en) | 1982-01-27 | 1983-01-25 | Intermediates to optically active cis-1,3-dibenzyl-hexahydro-1H-furo[3,4-d]imidazole-2,4-dione |
| DE8383100767T DE3375025D1 (en) | 1982-01-27 | 1983-01-27 | Preparation of optically active cis-1,3-dibenzyl-hexahydro-1h-furo(3,4-d)imidazole-2,4-dione and its intermediates |
| EP83100767A EP0084892B2 (en) | 1982-01-27 | 1983-01-27 | Preparation of optically active cis-1,3-dibenzyl-hexahydro-1H-furo(3,4-d)imidazole-2,4-dione and its intermediates |
| US06/579,602 US4544635A (en) | 1982-01-27 | 1984-02-13 | Preparation of optically active cis-1,3-dibenzyl-hexahydro-1H-furo[3,4-d]imidazole-2,4-dione and its intermediates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7183482A JPS58190395A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | 光学活性なシス−イミダゾリジンジカルボン酸誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58190395A true JPS58190395A (ja) | 1983-11-07 |
| JPH059064B2 JPH059064B2 (ja) | 1993-02-03 |
Family
ID=13471964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7183482A Granted JPS58190395A (ja) | 1982-01-27 | 1982-04-28 | 光学活性なシス−イミダゾリジンジカルボン酸誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58190395A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100715929B1 (ko) * | 2000-02-09 | 2007-05-08 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 광학 활성 헤미에스테르의 제조 방법 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200300676A (en) | 2001-12-04 | 2003-06-16 | Tanabe Seiyaku Co | Biotin intermediate and its production |
-
1982
- 1982-04-28 JP JP7183482A patent/JPS58190395A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100715929B1 (ko) * | 2000-02-09 | 2007-05-08 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 광학 활성 헤미에스테르의 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH059064B2 (ja) | 1993-02-03 |
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