JPS58199528A - パタ−ン欠陥検査装置 - Google Patents

パタ−ン欠陥検査装置

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JPS58199528A
JPS58199528A JP57082355A JP8235582A JPS58199528A JP S58199528 A JPS58199528 A JP S58199528A JP 57082355 A JP57082355 A JP 57082355A JP 8235582 A JP8235582 A JP 8235582A JP S58199528 A JPS58199528 A JP S58199528A
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JP
Japan
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pattern
circuit
template
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bits
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Application number
JP57082355A
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English (en)
Inventor
Kazunari Hata
一成 秦
Norio Fujii
藤井 憲男
Toru Azuma
徹 東
Kaoru Kikuchi
菊池 薫
Junji Hazama
間 潤治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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Publication date
Application filed by Nikon Corp, Nippon Kogaku KK filed Critical Nikon Corp
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Priority to US06/462,515 priority patent/US4589139A/en
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/302Contactless testing
    • G01R31/308Contactless testing using non-ionising electromagnetic radiation, e.g. optical radiation
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • G06T7/0006Industrial image inspection using a design-rule based approach
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108Industrial image inspection
    • G06T2207/30164Workpiece; Machine component

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  • Toxicology (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はIC製造工程におけるマスクあるいはレチクル
に転写されたパターンが、そのパターンを形成するため
の設計データと比較して、正常に転写されているかどう
かを検査するパターン欠陥検査装置に関するものである
。 従来この種の装置は、同一マスク上に同じパターン群を
持つチップ同志の比較による検査方法であるとか、設計
データを画像メモリ上にビットパターンとして展開し、
マスク又はレチクルから得られる画像データとを、画素
単位で比較する検査方法が考えられていた。 しかし前者の方法によると、チップ毎に同一の欠陥(共
通欠陥)を有していた場合には欠陥と認識することは不
可能であり、又マスクを作成する原版となるレチクルで
は、単独のパターンである場合が多く、チップ比較法の
ような検査は不可能であった。一方、後者の方法によれ
ば、パターンを作成した設計データとの比較であるから
、チップ同志の共通欠陥でも認識することは可能であり
、レチクルでも検査することはできる。しかし、設計デ
ータを画像メモリ上に画素単位に変換して用意しておく
データ量、すなわち、画像メモリの容量は膨大になり計
算機がそれを入出力させるためにも時間がかかりすぎ、
装置も大型、複雑になるという欠点があった。 本発明はこれらの欠点を解決し膨大な情報量を記憶する
装置を必要とせず、設計データを参照してパターンの欠
陥の有無を高速に判定可能な欠陥検査装置を提供するこ
とを目的とする。その目的を達成するため、本発明のパ
ターン欠陥検査装置は、被検査物上に設計情報に基づい
て形成された幾何学的なパターンを原画像として撮像し
た画像情報に基づいて、前記パターンの局所的な特徴を
検知し、該局所的な特徴が前記設計情報に存在しないと
きには欠陥情報を出力するものであ〕、前記局所的な特
徴として、前記パターンの境界線が所定の段差で屈曲し
ていることを検知する第゛1検知手段と;所定の大きさ
以下の孤立パターンを検知する第2検知手段とを備える
。 i′11・ 該第2検知手段は前記パターンの境界線から前記第1検
知手段で定められた所定の段差分以上離れた孤立パター
ンを検知する。 以下に図面を参照して本発明の実施例について説明する
。 第1図は、本発明の実施例を示すブロック図である。移
動ステージ14に載置されると共に、パターンが描かれ
た被検査物、例えばレチクル1は、撮像装置2によって
、レチクル1上の所定の小領域のみが撮像される。この
領域が検査すべき1画面になる。fたレチクル1は、ス
トロボ装置15によって透過照明される。撮像装置2の
アナログ映倫信号は次の2値化回路3によって2値画像
信号に変換されると共に、必要に応じてスムージング等
の雑音除去処理が行なわれる。 切出回路4は2値画偉信号の入力に基づいて、検査すべ
き1画面中の局所的な領域、例えば矩形領域に対応し九
2値情報を切出す。 この局所的な矩形領域は、−例として画像中の16X1
6画素に相幽する領域で構成されている。このように撮
像装置2.2値化回路3そして切出回路4で撮像手段を
構成している。これを第2図により、さらに詳しく説明
する。 第2図において、検査すべき1画面の画像10Gは、撮
像装置i2の走査線101によってテスタ走査される。 伺、実施例では、画像100内の走査線の本数は垂直方
向に1024本であるものとする。 レチクル1上のパターンは一般にガラス板上にクロムに
よって描画されているので、アナログ映像信号は、明暗
、す裔わち、白黒画像に応じた時系列信号になる。制御
回路5は画像100中の1走査線につき、1024回ク
ロックパルスを発生し、2値化回路3は各クロックパル
ス毎に、アナログ映像信号をサンプリングして、画素化
した2値画像信号を出力する。 切出回路4は、16ピツトのシフトレジスタ104と1
024ビツトのシフトレジスタ105t−直列接続にし
たものを15段分直列に接続し、最後に16ビツトのシ
フトレジスタ104を接続した直列レジスタ列で構成さ
れている。2値画像信号は、一番初めの16ビツトシフ
トレジスタ104に入力されると共に、制御回路5が発
生するクロックパルスに同期して、直列レジスタ列内に
順次転送されていく。前述のように、1走査線分のアナ
ログ映像信号は1024回のサンプリングによって2値
化されているから、2値画像信号は画像100を102
4X1024画素に分割して、1画素を「0」か11」
の2値論理で表わしfc時系列信号となる。同、画像1
00が1wX1mだとすると、1画素は1μm に相当
する。2値化回路3で1回サンプリングが行なわれると
、直列レジスタ列は1回シフトされ、各画素に応じた論
理値が次のビットに転送される。伺、実施例において、
2値化回路3は1走査線を1024クロツクでサンプリ
ングし、その後の帰線期間中は16クロツクでサンプリ
ングし、さらに切出回路4も、帰線期間中16回シフト
される。そして、16個のシフトレジスタ104から成
る切出部103は、画像100中、16X16画素の局
所的な矩形領域(以下、窓と呼ぶ)102の2値画素情
報を保持する。また窓102は、走査が進むにつれて画
像100中を1画素単位(1クロツクパルス毎)に移動
して、画像100の全面から順次2値画素情報を切出す
。 さて、この窓102で切出された16X16画素の2値
情報は、第1図に示す検知手段としての欠陥候補パター
ン検出回路300とエツジ検出回路7に入力する。欠陥
候補パターン検出回路300は窓102内の明暗のエツ
ジ(これはレチクル1上のパターンエツジに対応する)
が、あらかじめ用意された所定の ・連続的な屈曲形状
あるいは孤立した明暗形状であるか否かを検出する。こ
の所定の形状は後述する。エツジ検出回路1は、例えば
撮像11 したレチクル1上のパターンの角が撮像光学系の影響で
丸みをおびて、角であると認識できない場合にも、窓1
02内に角らしきエツジが存在することを検出する。 一方、磁気テープ(以下MTとする)9に保存されたレ
チクル1のパターン作成時ノ設計データは、計算機10
に読み込まれる。MT9の設計データは一例として、第
3図に示すような矩形パターンの集合として、レチクル
全面分を保存している。実際の回路パターンはこれら矩
形パターンを複雑に組み合わせて作成される。ここで1
つの矩形パターンは幅W1高さHルーチクル上の所定の
x、y座標系における中心座標値(XIF)、及び回転
角θの5つのパラメータで表わされる。 第1図の説明にもどって、計算機10は撮像装置2に工
って撮像されるレチクル1上の1画面の領域に相当する
設計データを出力する。記憶手段としての記憶回路11
はその設計データの入力に基づいて、欠陥候補パターン
検出回路300が検出するパターンの特徴と同様に設計
上の欠陥候補パターンを検出して記憶する。さらに、記
憶回路11は、設計上パターンが備えた90″ の角(
エツジ部が90°で屈曲しているもの)の情報(以下、
90°角情報とする。)をも抽出して記憶する。伺、こ
のように設計データから抽出された欠陥候補パターンの
情報と90″  角情報とを以下総称して設計特徴情報
とする。そして記憶回路11は、この時設計データ中か
ら、前述の窓102の移動に従う順序で設計上1画面中
に存在すべき設計特徴情報を順次記憶する。これKより
記憶回路11には例えば1面画に存在すべき設計上のパ
ターンエツジに関する全ての情報が保持される。1画面
分の設計特徴情報は、計算機10の不図示の記憶装置に
、1画面分の情報として配憶される。 この前に計算機10は、次の1画面分の設計データをこ
の記憶回路11に出力する。 以上、設計データから設計特徴情報を抽出し、記憶回路
11から計算機10の中の記憶装置にレチクル1のすべ
ての画面に対応する設計特徴情報を記憶するまでの操作
は、実際の比較検査の前に行なわれる。 このようKして、計算機10の記憶装置に設計特徴情報
が蓄積されると、次に実際の検査が開始される。このと
き計算機10は、ステージ14′t−2次元的に移動す
る駆動手段13を制御して、撮像すべきレチクル1上の
1画面分の領域に位置を合わせる。同時に、計算機10
は記憶装置から、その1画面分の設計特徴情報を記憶回
路11に転送する。 そして、制御回路5のクロックパルスに応じて、記憶回
路11の設計特徴情報は、特徴情報切出回路12に順次
送られる。特徴情報切出口路12(以下単に特徴切出回
路12とする)の切出領域は、前述の窓102よりも小
さく定められている。特徴切出口路12は、設計データ
に基づく設計特徴情報をクロックパルスに同期して順次
切出す。 11′ 先にも述べたように、制御回路5のクロックパルスは、
窓102’i1画面中で移動させるから、特徴切出回路
12の切出領域(以下、(11) 参照窓とする)と窓10211、クロックパルスに同期
して同方向に移動する。 比較回路8は特徴切出回路12と共に検査手段を構成し
ており、欠陥候補パターン検出回路30Gが出力する欠
陥候補パターン情報と、エツジ検出回路7が出力する検
出結果及び特徴切出回路12の情報を入力とし、レチク
ル上のパターンと設計データ上のパターンが異なるとき
は、計算機1oに欠陥情報を出力する。 具体的には、欠陥候補パターン検出回路30Gで欠陥候
補パターンが検出された時1参照窓の情報中に同様の欠
陥候補パターン情報が1つでもあれば欠陥なしとする。 又、参照窓の中心部に90e′  角情報が位置したと
きエツジ検出回路Tが窓102内に角エツジらしきもの
、又単なる直線エツジを検出していれば欠陥なしとする
。 以上のように、比較回路8は撮像された1画面中から、
欠陥候補パターン検出回路300(12) により検出された情報と、エツジ検出回路7により検出
された情報とを記憶回路11に保持され友設計特徴情報
と順次比較して、計算機10にリアルタイムに欠陥情報
を出力する。 そしてこのような操作をレチクル全面に対して行なうこ
とにより、レチクル1枚の欠陥検査が完了する。 次に、欠陥候補パターン検出回路300について、具体
的に説明するが、その前に%ICパターンの特徴につい
て述べる。一般に、ICパターンは、第3図に示し九よ
うな矩形パターンを多数組合わせて作られている。 また、ICパターンは、レチクル上のxy座標系に対し
て、矩形パターンの回転角θが0°、90°、45°又
は135° になるように決められている。回転角θが
その他の場合は極めてまれである。従って、ここではこ
れら矩形パターンを組合わせてできる設計上あるいはレ
チクル1上のパターンで、直線的なエツジについては、
前述の窓102中で水平(θ°)、垂直(90°)及び
斜め45°と135゜の方向を考え、屈曲した角を成す
エツジについては90°(270°)と135°(22
5°)の角度を考えるものとする。 さて、第4図(I)〜(IV)はパターンエツジの欠陥
候補パターンの代表例を示す図である。図において(A
)〜(ロ)までの21個の正方形は切出回路4によって
切出される1 6X16ビツトの窓102に相当する領
域を示す。賞、(N〜側の各正方形において、内部のビ
ット位fItを特定するために、2次元的な座標を(x
−y)とし、Xは縦方向の列A−Pを表わし、yは横方
向の列1〜16を表わすものとする。 そして各図(4)〜ω)において、所定ビット中の論理
値「1」(以下単に「1」とする。)は、レチクル上の
クロム面(点部分)に対応し、論理値「O」(以下単に
「0」とする。)はガラス面(白部分)に対応する。伺
、欠陥候補パターンは(A)〜(T)の20種類のパタ
ーンについては(A)〜(1)以外に(N−(1)を夫
々、90″、180°、270°回転してできるパター
ンと、さらにそれら各々を白黒反転(所定ビット中の各
論理値を反転)してできるパターンとを加えて、全部で
160種類のパターンから成る。 また初のパターンについては、(財)そのものツバター
ン以外に但)を白黒反転したパターン音訓えて2種類の
パターンから成っている。 従って欠陥候補パターンは全部で162種類のパターン
から成る。そして、欠陥候補パターン検出回路300は
、この162種類のパターンを参照パターン、いわゆる
テンプレートとして備えており、窓102中に現われる
パターンとのマツチングを行なう。 今、ω〜(ロ)の各テンプレート中のビットの論理値を
f(x、y)で表わすものとすれば、−例として(A)
のテンブレー、トは次の論理計算を行なう。 FG(A)=f(G、2)・f(0,4)・f(G、6
)・f(H,7) ・ f(J、2)  ・ f(J、
4)  ・鵠) fcJ、6)・f(I、?)・f(E、12)・f (
E、14)・f(F’、12)  叫旧・・(1)(死
だし式中・印に論理積を意味する)!た、(財)のテン
プレートは次の論理計算を行なう。 FG(U) =f (A、 3 )・f(A、4)・r
(A、5)・f(A、6)・f(A、7)・f(A、8
)・f(A、9)・f(A、10)・f(A、11)・
f(A、12)  ・ f  (A、13)  ・ f
  (、A、14) ・f(A、15)・f(B、2)
・f (B、 16)拳f(C,2)・f(C,16)
・f (D、 2 )・f(D、1.6)争f (’E
、 2 )・f(E、16.)・f(F、2)・f (
F、 16’)・f(G、2)・f(G、16)・f(
H,2)・f(H,16)・f(1,2)・f (I、
 16)・f(J、2)−f (J、 16)・f(K
、2)・f (K、 16)・f(L、2)・f(L、
16)−f(M、2)・f(M、16)・f (N、 
2)−f (N、 16)・f(0,3)−f(0,4
)@f(0,5)−t(o、6)−t(o、?)−t(
o、8)−(至) f (0,9)・f(0,10)・f(0,11)・f
(0,13)・f(0,14)・f(0,15)・f(
K、g))・ ・・・(2) (ただし式中十印は論理和を意味する)また、第4図G
)〜(TV)の頭〜(T)において、各正方形中の点線
は、それぞれのテンプレートで検出できるパターンエツ
ジの一例に示すものである。ここで、(A)〜(T)に
示したテンプレートの役割について説明する。(A)〜
0までの8つのテンプレートはパターンの基準となる水
平エツジ(16X16ビツト中、ビット(H・7〕とビ
ット(I・7)の間を通るエツジ)に対して、3〜6画
素分の段差を伴った水平エツジを検出するものである。 また(r)〜(巧までの8つのテンプレートはパターン
の基準となる斜めエツジ(16X16ビツト中、ビット
E・11とビットF・12の間を4り又は135° の
傾きで通るエツジ)に対して、所定の画素数(例えば2
〜4画素)分の段差を伴った斜めエツジを検出するもの
である。 また、(9)、(6)の2つのテンプレートはパターン
のエツジが135° の角度で屈曲していることを検出
するものである。そして(S)のテンプレートは、基準
となる垂直エツジに、5画素以下の幅で2画素以上の微
小凹凸があることを検出し、(’I5のテンプレートは
基準となる斜めエツジに、約5画素分以下の幅で約2画
素分以上の微小凹凸があることを検出するものである。 筐た、(ロ)のテンプレートは周囲の明暗とは孤立した
パターンを検出するためのものである。 fil、(A)〜枦)までの各テンブレ・〜トはエッジ
に所定の画素数分の段差さえあればよく、段差中のエツ
ジの変化については、はとんど無視される。例えば第4
図(I)の(ハのテンプレートを考えてみると、基準と
なる水平エツジを挾み込むビット(H・7)とビット(
1・7)から、段差を伴う水平エツジを挾み込みビット
(E・12)とビット(F・12)までを結ぶエツジは
幾通りも考えられる。すなわち、(A)に示した正方形
中、点線で表わし喪ように段差を伴った水平エツジを垂
直に結ぶエツジだけではなく、斜めに結ぶエツジであっ
たとしても、このテンプレートにより検出される。 そして、第4図σ)〜(IV)のω〜cr)を含めて1
60種類の各テンプレートは、夫々アンド回路により構
成される。その−例として、(A)のテンプレートを構
成するには前述の式U)に基づいて、第5図に示すよう
に1.1人力のアンド回路を用いる。このアンド回路の
入力のうち、5つは、前述の切出部103の16X16
ビツト中、ビット(J・2)、(J・4)、(19) (J・6)、(■・7)、(F・12)に接続し、他の
6つの入力はそれぞれインバータを介して、ビット(G
・2)、(G・4)、(G・6)、(G・7)、(E・
12)、(E・14)に接続する。 従って、切出部103に和尚する1画面中の窓102中
K、第4図(I)の(A)に点線で示したようなパター
ンエツジが現われたときのみ、第5図のアンド回路は「
1」を出力する。 また、府102は1画面中を水平方向に1画素ずつクロ
ックパルスに応答して移動するから、窓102中に現わ
れるパターンエツジが段差を伴った水平エツジの場合は
、クロックパルスの数パルス分に渡って第5図のアンド
回路が「1」を出力し続けることがある。 このことについて、第6図を用いて説明する。 今、例えばレチクル1上のパターンのエツジに、6画素
の段差を伴った水平エツジが存在むたものとする。そし
て、その水平エツジは第4図(I)の(0のテンプレー
トで検出されるも(2)〕 のとして、第6図にそのテンプレートと水平エツジとの
関係を示す。 第6図において、段差が垂直エツジで結ばれていた場合
、窓102の水平方向の移動に伴って、この垂直エツジ
が図中E、からE。 筐での6画素分を移動する間、すなわちクロックパルス
の6パルス分の間、(Dlのテンプレートを構成するア
ンド回路は「1」を出力し続ける。また、段差が図に示
すような複雑な曲線で結ばれたエツジの場合(斜めに結
ばれている場合も同様)は、そのエツジが図中E。 からE41での3画素分を移動する間、アンド回路は「
1」を出力し続はる。 このように、第6図に示したテンプレートにおいては、
2つの水平エツジが2組のビット対、ビット(H・7)
、(I・7)とビット(B・14)、(C・14)との
水平方向の長さ分(6画素分)だけ離間するように規定
されている。 同、前述の(へ〜Φ)の各テンプレートについても、2
つのエツジの端部同志を所定の画素数分の間隔に規定す
る2組のビット対がある。 そこで、(A)−ω)の各テンプレートにおいて、この
ようなビット対を規定ビット対と呼ぶことにする。 また、水平エツジの段差を検出するテンプレートは規定
ビット対が垂直方向に隣接した2つのビットに定められ
るから、窓102が走査によって1画素分垂直方向にず
れると、もはやテンプレートとのマツチングは取れない
。そして、第4図の(〜〜(6)の各テンプレートを9
0″  と270° 回転した、垂直エツジ中の段差を
検出するテンプレートにおいてはN規定ビット対が水平
方向に隣接した2つのビットに定められるから、窓10
2の走査によって水平方向では特定の1か所のみでマツ
チングが取れ、垂直方向には複数の画素分に渡ってマツ
チングが取れる。さらに、第4図の(I)〜(P)の各
テンプレート(夫々90°、180°、270°回転し
たもの鬼含めて)については、規定ビット対として斜め
に隣接した2つのビットが定められる。 次に第4図(IV)の(ロ)に示すテンプレートについ
て説明する。テンプレート0は黒の背景中で孤立した白
パターンを検出するためのものである。このテンプレー
ト卸でパターンを検出するためには式(2)に基づいて
第7図のような回路構成にする。すなわちテンプレート
(財)で、ビット「1」で示す外側の領域を形成する画
素がすべて黒のパターンと一致し、ビット「0」で示す
内側の領域に含まれる画素のうち、1つでも白い孤立パ
ターンと重なれば、テンプレート(財)と画像が一致し
たものとして、式(2)の結果FG(U)を真、すなわ
ち「1」にするような回路にする。 したがってこのテンプレート(財)は13X13画累の
正方形より小さい孤立パターン(最小は1画素分の大き
さ)を袖山することができる。 第7図の回路構成において、テンプレート(23) (ロ)の16X16ビツト中、ビット(A、3)からビ
ット(A、15)’!での上側横一列の13ビツトはア
ンドゲート170に入力し、ビット(B、2)からビッ
ト(N、2)までの左側縦一列の13ビツトはアンドゲ
ート171に入力する。同様にビット(B、16)から
ビット(N、16)までの右側縦一列の13ビツトはア
ンドゲート1T2に入力し、ビット(0,3)からビッ
ト(0,15)tでの下側横一列の13ビツトはアンド
ゲート113に入力する。そしてアンドゲート170〜
173の各出力はアンドゲート174に接続されている
。 一方、テンプレート(ト)の中央部に位置した矩形状の
領域については、ビット(E、9)、(F、8)、(F
、9)、(F、10)、CG、?)、(0,8)、(0
,9)、(G。 110)、(G、11)、(H,6)(H,7)、(H
,8)、(H,9)が各々インバータを介してオアゲー
ト175に入力し、ビット(24) (H,10)、 (H,11)、 (H,12)、(1
,7)、 (1,8)、 (1,9)、 (I。 10 )、 (1,11)、 (J、、8)、 (J、
 9 )、(J、10)、(K、9)が各々インバータ
を介してオアゲート176に入力する。そしてオアゲー
ト175と116の両出力はオアゲート177に接続さ
れ、アンドゲート114の出力信号とオアゲート177
の出方信号はアントケート178に入力する。このアン
ドゲート178の出力信号が式(2)のF’G(財)に
相当する。 さて、上記162種類のテンプレートを備えた欠陥候補
パターン検出回路30Gの回路構成を第8図に示す。こ
の図で、マツチング回路106は第5図、第7図のよう
に162種類のテンプレートを構成するテンプレート回
路を有し、各テンプレート回路の入力は共に前述の切出
部103の所定ビットへ接続される。そしてテンプレー
ト回路(〜〜(T)の各出力は全てオア回路107に接
続される。ま九テンプレート回路(6)の出力は、オア
回路107の出力と共にオア回路107mに接続される
。 さて、オア回路107mの出力信号は次のD・フリップ
フロップ(以下単にD−F−Fとする。) 108に入
力する。このD−F−F2O3は制御回路5のクロック
パルスCPに同期して、オア回路107mの出力信号f
:1クロックパルス分遅延して出力する。セしてオア回
路109は、D−F−F2O3の出力信号とオア回路1
07mの出力信号の論理和をとって、第2の検知情報の
1つである信号CAD1を出力する。従って、あるクロ
ックパルスCPが入力した時点で、オア回路107aの
出力信号が「1」になったとすれば、その次のクロック
パルスの入力時にも信号CAD1は「1」に保持される
。 また、欠陥候補パターン検出回路300には第4図(I
V)の(U′)で示すテンプレート回路が含まれている
。このテンプレートは(Uのテンプレートに対して褒状
の13X13ビツトが全て1画素分内側に位置している
。このテンプレート回路(U′)はテンプレート回路(
A)〜(T)と共に後述の比較検査時に用いられ、テン
プレート回路(ロ)はテンプレート回路(ハ〜(慣と共
に、設計データから設計特徴情報を抽出する際に用いら
れる。さて、テンプレート回路(U′)の出力信号とオ
ア回路107の出力信号はオア回路107bに入力し、
オア回路107bは第1の検知情報としての信号TMP
Lを出力する。同、比較検査時にテンプレート回路(U
′)を用いる理由は後述する。 このように欠陥候補パターン検出回路30Gはテンプレ
ートによりマツチングしたか否かのみを表わす信号TM
PLの他に、オア回路1071の出力信号に1クロック
パルス分「1」を付加し良信号CAD1を出力する。 この信号CAD1は設計データから記憶回路11がパタ
ーン比較のための参照データ(設計特徴情報)を作成す
る際、90° 角情報と区別をつけるために使われる。 すなわち、欠(27) 陥候補パターン検出回路300が出力する信号CAD1
は記憶回路11が設計データから抽出する設計特徴情報
の1つとして働き(もう1つは90″角情報である。)
、信号TMPLは、レチクル1の実際の比較検査の際に
使われる。この具体的な作用については後述する。 このように、欠陥候補パターン検出回路300は、微小
な段差を伴ったエツジ、135゜で屈曲したエツジ及び
微小な孤立パターンを検出するが、これらの特徴は回路
パターンのエツジ及び近傍において欠陥として現われ易
いものである。例えば、回路パターン上で前述の第3図
に示したような矩形パターンを一列に並べて直線エツジ
を形成する場合、何らかの原因で、その列中の一部の矩
形パターンが欠落したりすれば、当然そとは段差となっ
【−交う。!たぞ□の逆にその直線エツジに矩形パタ
ーンが誤まって付加された場合にも段差となってしまう
。このようなことは、設計(2B) データに基づいてレチクル上に回路パターンを描画した
ときに高い確率で起り得る。さらに、レチクル上に描画
されたパターンのうち、90° で屈曲し喪エツジ部が
欠損すること本同様に高い確率で起り得る。この場合、
90゜のエツジ部はほぼ斜め45° に切り取られるこ
とが多く、このため、本来90° の角であるべきとこ
ろが135° の角で屈曲したエツジ形状となってしま
う。従って、このように高い確率で起り得るような欠陥
の候補としてのエツジ形状(段差や135° の角)を
テンプレート化することによって、レチクル上の回路パ
ターンからエツジ形状の欠陥を正確に検出できる。筐た
、本来設計データ上にパターンが何もないのに、誤って
クロムが付着したり、或いは設計データ上にはパターン
が存在するのに、何らかの原因で一部が欠落することに
よって生じる孤立欠陥は高い確率で起り得る。この孤立
欠陥の候補として孤立パターン検出用のテンプレート(
LT)、(U’)を備えることによって孤立欠陥を正確
に検出することができる。 また、設計データから設計特徴情報を抽出する際にも、
この欠陥候補パターン検出回路300が使われる。これ
は、設計データ中においても、設計上回路パターンのエ
ツジに段差を設けたりするからである。従って、撮像装
[2で撮像したレチクル1中のパターンエツジに、段差
や135° の角があったとしても、それが設計上、本
来設けられるべきものである場合に、は、欠陥ではない
ことになる。 次に、t)7,1図で示したエツジ検出回路Tについて
説明する。第9図はエツジ検出のために設定された9×
9画素の矩形領域を示す。 この領域は前述の16X16画素中のほぼ中央部に位置
する。従って、このエツジ検出回路Tは第2図に示した
切出回路4の切出部103のうち、9X9ビツトで構成
された領域120からの情報に基づいて何らかのエツジ
が存在するか否かを検出する。 同、9X9ビツトの領域120の中心ビット(中央画素
に相当する)の位置は、第4図に示し九16X16ビツ
トのうち縦横で(I(。 9)のビットに定められている。賞、エツジ検出の九め
に着目するビットは、9×9ビツト中の周囲に4ビツト
毎に位置し九ビット■〜■の8つである。 第10図は、エツジ検出回路7の構成を具体的に示した
回路図である。8つの排他的論理和回路(以下、EX−
ORとする。)121は9×9ビツト領域120の周辺
の8ビツト■〜■から2値信号を入力する。そして、こ
の8ピツトのうち、ひとつでも論理値が異なれば、オア
回路122が出力する信号ED8は「1」となり、何ら
かのエツジが検出されたことを示す。8つのEX−OR
121の入力のそれぞれは、9×9ビツト領域120中
で着目した8つのビットのうち、互いに隣りに位置する
2つのビットから取り出される。 例えば第11図の1うな角らしきものが9(31) ×9ビット領域120中に現われたとする。 斜線部は論理値「1」の領域である。するとエツジ検出
回路Tの入力■と■、及び入力のと■は互に論理値が異
なるから、信号EDSは「1」となる。fた、単に領域
120中に、直線状のエツジが表われた場合でも、上述
の動作により、信号EDSは「】」となる。 以上に述べたエツジ検出回路7は、レチクルの検査時に
撮像装置2の走査と共に、実時間で動作する。同、この
9×9ビツトの領域120中に、何らかのパターンエツ
ジが現われたことをより確実圧検出するには、9×9ビ
ツトの周囲に位置する32ビツトの全ての2値信号を入
力して、その状態を前述のように調べればよい。この場
合、周囲32ビツトが全て同−論理値であれば、パター
ンのエツジではなく、32ビツトのうち、1つでも論理
値が異なれば、エツジを検出したことになる。 次に、第1図で示したMT9から設計デー(32) 夕を読み込んで、設計特徴情報を保持する記憶回路11
について第12図により説明する〇記憶回路11には設
計データから、1画面に対応する設計上のパターンとし
て、「0」、rlJの2値画像に変換する1024X1
024ビツトのフレームメモリ130と、そのフレーム
メモリ130から、撮像装置2の走査の順番に広じて時
系列的な2値信号を読み出す読出回路131が設けられ
ている。スイッチS1は、非検査時にa側に、検査時に
b側に切換えられる。b側には、第2図で示した2値化
回路3の2値画像信号が入力する。読出回路131の出
力信号は、スイッチSlを介して、前述の切出回路4に
入力し、フレームメモリ130中に生成され九2値画像
の局所的な矩形領域の2値情報133が取り出される。 この2億情報133は、前述の欠陥候補パターン検出回
路30Gに入力すると共に、90°角情報を出力する9
0° 角検出回路6に入力する。同、90°角検出回路
6は、実際には欠陥候補パターン検出回路30Gの信号
CADIと90° 角情報とを1つに合成して信号CA
Dとして出力する。さらに、フレームメモリ130にお
いて1走査線(窓102の1水平走査に相当する。)中
に1つでも欠陥候補パターン又は90’ の角が見つか
ると、90° 角検出回路6はその走査線上に設計特徴
情報があるものとしてラインフラグ信号を出力する。上
記信号CADとラインフラグ信号は信号134として入
出力制御回1!3136(以下、I10回路136とす
る。)に入力する。I10回路13Bは信号134の入
力に基づいて、信号CADは順次参照データメモリ13
7に格納し、ラインフラグ信号は、フレームメモリ13
Gの垂直方向の走査に同期して順次フラグメモリ138
に格納する。 以上の格納の操作、すなわち参照データの作成は非検査
時に行なわれる。検査時にはスイッチS、がb側になり
、切出口路4は欠陥候補パターン検出回路300と前述
のエツジ検出回路1へ接続される。同時1cI10回路
136は、参照データメモリ137に記憶され九データ
をフラグメモリ138中のラインフラグ信号に基づいて
順次参照信号139として出力する。 淘、読出回路131.110回路13B、及び切出口路
4は、第1図で示した制御回路5のクロックパルスと同
期して動作する。また、参照データメモリ137は、フ
レームメモリ13G中で欠陥候補パターンや90″  
の角が存在する水平方向(水平走査方向)のビット列の
みの設計特徴情報を保持し、フラグメモリ130は、フ
レームメモリ130の垂直方向のビット数、ここでは1
024ビツトと同じビット数で構成され、フレームメモ
リ130の水平方向のビット列(1024列分)に設計
特徴情報があれば、対応するフラグメ%IJ13$17
)?ッ11 rl’J #flttLゆ「。」が保持さ
れる。この操作は全てI10回路136によって行なわ
れる。 (35) 次に、この記憶回路11中の90° 角検出回路6につ
いて、第13〜15図に基づいて具体的に説明する。 第13図のAA−PPは検出すべきすべての90° の
角を示し、ムA−PPIでの16個の正方形は、切出回
路4によって切出される窓102に相当するような領域
を示す。そして各正方形において、斜線部は例えばクロ
ム面に対応した「1」の領域を白部はガラス面に対応し
た「0」の領域を示す。そして、90° 角検出回路6
は第14図に示すように、上記AA〜PPまでの90°
 角パターンをテンプレートとしてマツチング回路10
9中に備えている。マツチング回路109には、16個
のアンド回路があり、各アンド回路が夫々、Aへ〜PP
に示したテンプレートを構成する。 16個の各アンド回路の入力は、前述の切出11111 部103中の所定ビットに接続されている。 そこで、例えば第13図のBBのテンプレートを構成す
るには、第15図のように、切(36) 山部103中の11ビツトをアンド回路に入力すればよ
い。この90° の角を検出する16個のテンプレート
は、角の頂点が16×16ビツト中のビット(H・9)
に定められている。しかも、その周囲に隣接したビット
もアンド回路に入力するように定められている。第15
図においてはビット(I・9)とビット(H・10)で
ある。従って、ビット(H・9)と(I・9)は前述の
ような規定ビット対を成し、ビット(H・9)と(H・
10)も規定ビット対を成す。他のテンプレートについ
ても同様に、第13図の各90゜の角に合わせて各アン
ド回路の入力ピットが定められている。マツチング回路
109中の16個のアンド回路の各出力は全て、オア回
路110に入力する。このオア回路11Gの出力を信号
CAD2とすると、信号CAD2と、欠陥候補パターン
検出回路30Gの信号CADIとは所定のタイミングに
調整されて、次のオアゲート111で論理和の演算をす
る・これにより、信号CAD1とCAD2とを合成した
、すなわち欠陥候補パターンの情報と90″ 角情報と
を合成した設計特徴情報としての信号CADが得られる
。一方、R−8フリツプ70ツブ(以下R8−F−F’
とする)301は信号CADと信号R8Tとを入力して
ラインフラグ信号(以下、信号LPとする。)を出力す
る。このR8−F−F2O3は、フレームメモリ130
の1水平走査線の2値信号が読出回路131によって出
力される直前に、信号R8Tが入力してリセットされ〜
信号LPは「0」となる。従って、信号CADが何らか
の設計特徴情報として「1」になると−その時点からR
8−F−F2O3はセットされ、信号LFは「0」から
「1」に反転するOfた説明は相前後するが、上述の如
く16個のテンプレートのうち、例えばその1つは第1
5図のようにビット位置が定められる。この図からもわ
かる工うに、切出部103がフレームメモリ13G中の
2値画像管クロツクパルスに同期して順次切出すとき、
信号CAD2はクロックパルスの2パルス分以上に連続
1.てrlJとなることはない。すなわち、信号CAD
2は16種類の90° の角に関して、フレームメモリ
130の1水平走査線内でかならず孤立した「1」とな
る。 伺、この90° 角検出回路6は、レチクル1の実際の
比較検査時には動作しないものであり、記憶回路11が
設計データから設計特徴情報を抽出して参照データを作
成するときのみに必要な回路である。 さて次に、第12図において参照データメモリ137及
びフラグメモリ138が90゜角情報を保持する動作に
ついて、第16.17図を参照して説明する。その−例
として、第12図のようにフレームメモリ130中に、
斜線部のような矩形状のパターン132が生成されてい
るものとする。 第16図において、切出回路4によって切出された2値
情報133は、フレームメモリ(39) 130中の矩形領域140(以下、窓140とする。)
に相当する。この窓140は、矢印のように、フレーム
メモリ130中を走査する。参照データメモリ137は
、窓140の水平方向の1走査分に対して、512ビツ
トが用意されている。(以下、この512ビツトを1ラ
イン分のメモリと呼ぶ。)窓140が、図のように角の
ある部分を水平に走査する際、走査の初めのところでは
、パターン132の90° の角がないので、90° 
角検出回路6の信号CADは「0」であり、1ライン分
のメモリの初めの部分M、には「0」が書き込まれる。 伺、窓14Gの走査が2−ビット行なわれる毎に、1ラ
イン分のメモリでは1ビツトづれた隣りのビットに2値
論理を格納していく。従って、1ライン分のメモリは、
フレームメモリ130の水平方向の、・11 1024ビツトの情報を1/2に圧縮して保持すること
になる〇 さらに走査が進み、窓140がパターン(40) 132の左上に位置した9 00  の角をとらえると
信号CADは「1」となり、1ライン分のメモリ中の対
応するビットB1に角の存在を示す「1」が保持される
。そ1−て、角の存在しないところは、1ライン分のメ
モリの対応する部分Mlに「0」が書き込まれる。この
ように窓140が角の存在する部分を1走査すると、第
1図のように1ライン分の参照データが作られる。 そこで、実際のパターンとして、第12図に示すフレー
ムメモリ130中に設計データに基づいて2値画偉化さ
れ之パターン132が存在し友場合、参照データメモリ
137と、フラグメモリ138には、第17図のような
情報が保持される。パターン132上で90゜の角ri
4つあり、それぞれの角の位置に対応して90°角検出
回路6の第2の検知情報である信号LFは「1」となる
。同、フレームメモリ130中のビットパターンに角が
存在するのは、2本の水平ビット列上のみであるので、
参照データメモリ137には、2ライン分のメモリL!
、Llのみに参照データが保持される。一方、フラグメ
モリ138には、信号LPに基づいて1024ビツトの
うち、フレームメモリ130の2本の水平ビット列に対
応した2つのビットにrlje、他のビットには全て「
0」を立てた1画面分のフラグデータが作成される。同
、以上の説明で、参照データメモリ137とフラグメモ
リ13@は、1024X1024ビツトの1画面に相当
する領域のみを保持するが、実際にはレチクルの欠陥を
撮像装置2の映像信号の入力に基づいて検査する前に、
レチクル上の1画面分毎に設計データから、参照データ
とフラグデータが作成され、前述の計算機10の記憶装
置に保持される。例えばレチクル全面を10XIO1す
なわち100画面に分けて、検査するとすnば、その記
憶装置はフラグデータの記憶用として、1024X10
0ビツトの固定されたビット長のメモリ容量が必要とな
る。一方、参照データの記憶用として、フラグメモリ1
38中の論理「1」のビット数だけ512ビツトの1ラ
イン分のメモリ容量が必黴となる。従って、例えばフラ
グメモリ138中の1024X100ビツトK「1」の
数が1000あれば、参照データの記憶用として、51
2ビツトX100Oの容量が必要となる、 次に他の例として、フレームメモリ130中に、第18
図に示すような微小段差を伴つ穴エツジを含むパターン
(図中の斜線部ンが存在したものとする。第16図に示
し九のと同様に、フレームメモリ130中を窓140が
走査し九とき、窓14G中に水平エツジSUとSDとが
現われたものとする。同、説明を具体的にするため罠、
水平エツジ8 Uと8Dとの垂直方向の段差は3画素分
とし、かつ水平エツジSUと8Dとは垂直なエツジで結
はれている亀のとする。 今、窓14Gの中心を通って、上側と下側(43) を2等分するような位置に水平エツジSUが現われたも
のとすると、このとき欠陥候補パターン検出回路300
の162m類のテンプレートのうち、第4図a)の(N
を180° 回転して、白黒(「0」、「1」)を反転
もたテンプレートのみがマツチングする。そして、窓1
40の水平方向の走査により、信号CADIは第6図で
説明したように連続した「1」となる。このテンプレー
トでは、規定ビット対の水平方向が4画素分離間してい
るので、窓140が水平方向に4画素移動する間、欠陥
候補パターン検出回路300中のオア回路1θ7aの出
力は4クロックパルス分だけ「1」となる。このため、
信号CAp1は最後に1ビツト分「1」を付は加えて、
5ビツト分だけ「1」となる。従って、参照データメモ
リ137の1ライン分のメモリL。 中には、水平方向の位置に対応した部分SUBの5ビツ
トに「1」が保持される。さらに窓140が水平方向に
移動すると、90° の角(44) CCが現われる。この場合、第16図で説明したように
90°角検出回路6の信号CAD2は1ビツト分だけ「
1」となる。従って、1ライン分のメモリム1中で角C
Cの存在位置と対応したビットCCBに「1」が保持さ
れる。 そして、フラグメモリ138中の対応するビットには信
号LPに基づいて「1」が保持される。 次に一窓14Gがその水平走査位置から3画素分下の水
平走査位置にき喪とき、第4図の(Nのテンプレートが
水平エツジSUとSDとからなる段差を検出する。この
ときも信号CAD1は5ビツト分だけが「1」となり、
1ライン分のメモリL、中には、水平方向の位置に対応
した部分SDRの5ビツトに「1」が保持さnlかつフ
ラグメモリ138中にも対応するビットに「1」が保持
される。 ζ、の工うに、微小な段差を伴う水平エツジが窓14G
中に現われるときは、フラグメモリ138中の2ビツト
に「1」が記憶され、参照データメモリ137中には2
ライン分のメモリに参照データが記憶される。 伺、参照データメモリ137は、窓140に欠陥候補パ
ターンや90° の角が現われないときは、前述の如く
1ライン分のメモリ中の対応する部分にr OJ f 
1/2に圧縮して記憶する。 次に、フレームメモリ130中に第19図に示すように
90° で屈曲した微小な段差を伴つ九斜め45° の
エツジが存在したものとする。ここで図中の斜線部はパ
ターンのクロム面を表わす。同、説明上、その段差の大
きさは、斜め135° の方向で2画素分程度とする。 そこで、前述と同様に窓140がフレームメモリ13G
中を走査すると、この斜め45″  のエツジの段差部
は第4図■の(I)のテンプレートと、そのテンプレー
トf、180゜回転して、白黒(「0」、「1」)を反
転したテンプレートとにより検出されるものとする。こ
の場合、その2つのテンプレートにょり検出されるタイ
ミングは、w!J140の水平方向の1走査中罠おいて
は1クロックパルス分、すなわち1ビツト分だけであり
、垂直方向には隣りの水平走査線上で斜めに1クロック
パルス分(1ビツト分)ずれている。従って、第19図
に示すように、フラグメモリ138中罠は、2ケ所、F
’t、F’tの連続し喪2ビットを「1」にし九フラグ
データが記憶される。一方、参照データメモリ137中
には、4ライン分のメモリLI%  Ll %  Ls
、L、に参照データが記憶される。この場合各メモリL
+ % Ll 、Ll 、L4中には、欠陥候補パター
ン検出回路300の信号CADI(すなわち信号CAD
)に基づいて、水平方向に2ビツト分だけ「1」が保持
される。しかも、各メモリLls Ll % Ll 、
L4中の「1」の位置は例えば図のシうに斜めにずれる
。 次にフレームメモリ130中に第20図に示す↓うな白
い背景中に孤立した微小な黒パ(47) ターンが2値画像として存在したものとする。 このような孤立パターンは第4図(IV)のテンプレー
ト(tjl ’e白黒反転したテンプレート(便宜上(
Uとする)で検出される。この場合、そのテンプレート
画の中央部の矩形領域はrl Iのビットが密集してい
る。従って、第16図で示した窓140がこの孤立パタ
ーンを走査して、テンプレート(6)によって中央部の
矩形領域中のどれか1ビツトでも孤立パターンと重なる
と、参照データメモリ137中の例えば3ライン分のメ
モリLI % L t 、L B K %孤立パターン
の位置に対応して連続し& rlllが記憶される。同
時にフラグメモリ138中には連続した3ビツトK「1
」が記憶される◎また孤立パターンが検出されて、フラ
グメモリ138中に記憶される「1」のビット数は孤立
パターンの大きさによって変化する。すなわち、小さな
孤立パターンを検出したときにはフラグデータ中のビッ
ト数は多くなり、より大きな孤立パターンを検出したと
きには、(48) そのビット数は少なくなる。これは参照データメモリ1
37中の1ライン分のメモリに関しても同様である。そ
こで、このことについて第21図に↓り説明する。第2
1図は、黒の孤立パターン132′がテンプレート(U
で検出される様子を示す。同テンプレート([11にお
いて、中央部の45° 傾斜した矩形領域をMXとし、
領域MXの周辺を矩形状に取り囲む13X13ビツトの
環状領域t−RXとする。 また、第4図α)のテンプレート(9)に示したように
、領域MXの垂直方向り及び水平方向1のビット数は共
に7ビツトである。さて、孤立パターン132′の大き
さが1画素分だとすると、この孤立パターン132′が
領域MX中を垂直方向りに移動する間に、フラグデータ
として連続した7ビツトに「1」が記憶さnる。筐た孤
立パターン132′の垂直方向の大きさが4画素分以下
のときには、フラグデータとして8ビツト以上で10ビ
ツト以下の「1」が記憶される。また、孤立パターン1
32′の垂直方向の大きさが6画素以上になると、環状
領域RXによって制限され、フラグデータ中の「1」の
数は7ビツトよりも小さくなる。そして孤立パターン1
32′の大きさが12X12画素分だとすると、フラグ
データ中の「1」の数は1ビツトになる。 このように、孤立パターン132′の大きさに応じてフ
ラグデータ中の「1」の数も変化する。これは参照デー
タ中においても同様であり、孤立パターン132′の水
平方向の画素数によって、参照データメモリ137中の
1ライン分のメモリに記憶される連続した「11のビッ
ト数も変化する。また、第21図に示した孤立パターン
132′の様に孤立パターンが矩形であり、また、充分
な大きさく4×4画素以上)を有していれば、第15図
に示す90°角検出用のテンプレートによっても検出さ
れる。したがってその場合には孤立パターンの角に対応
する垂直方向のフラグデータが2ビツト分「1」にされ
、そのフラグデー夕に対して参照データが作られる。さ
らに、テンプレート(ロ)により検出されるフラグデー
タと参照データは90° 角検出用のテンプレートによ
り作られたフラグデータにはさまれる位置につくられる
。 以上のように、フレームメモリ130中に存在する各稽
のパターンから参照データメモリ137、フラグメモリ
138中に夫々設計特徴情報としての信号CADと信号
LFに基づいて参照データとフラグデータとが作成さ扛
る。岡、フレームメモリ130に生成され喪2値画像は
撮像装置2の1画面に相当するから、レチクル・1・の
1画面分の参照データとフラグデータとが作成されると
、そのデータは計算機10の記憶装置へ転送される。そ
してレチクル10次の1画面分について上述と同様にデ
ータを作成して順次計算機10の記憶装置へ転送する。 記憶回路11はこのようにレチクル1全面について設計
特徴情報を検出する。 (51) 伺、レチクル1の全画分の設計特徴情報は、非検査時に
計n機10の記憶装置、例えば磁気ディスク装荷に記憶
される。そして実際の検査のときには、この磁気ディス
ク装置から計算機10t−介してレチクル1の1画面分
の設計特徴情報が記憶回路11の参照データメモリ13
7’Pフラグメモリ138に転送される。 ところで、I10回路136は、その検査時には参照デ
ータメモリ137とフラグメモリ138に格納さnfC
データを、各々のメモリから順番に参照番号139と(
〜で出力するように制御する。参照信号139は、フラ
グメモリ138中のビットが「0」ならば、時系列の論
理信号として、rOJ’1512ビット分出力し、ビッ
トが「1」ならば、そのビットに対応した参照データメ
モリ137の1ライン分のデータを時系列的に出力する
。 ここで、欠陥候補パターン検出回路300で用いた孤立
パターン検出用のテンプレート(52) について述べる。第4図(IV)に示したテンプレート
(6)、(U’)  において、設計データに基づいて
参照データを作成する際にはテンプレート(6)又は(
ロ)が用いられ、比較検査の際I/Cはテンプレート(
6)、(財)より一回り小さいテンプレート(U’)あ
るいは(U’)が用いられる。同テンプレート(U’)
はテンプレート(U’)を白黒(「0」、「1」)反転
させ友ものである。 これは、比較検査の際には、撮像装置2J:り得られた
アナログ映像信号を2値化するので2値化のゆらぎのた
め、パターンが細まることが起こり得ることと、さらに
、被検査パターン自体にも1画素程度の細fりがあるこ
とが当然予想さnるためである。つまり、設計データ中
に14X14画素の正方形の孤立パターンが設計上存在
してい九とする。このようなパターンの場合には、第4
図(IV)のテンプレート(財)又は0)では検出する
ことができず、参照データはつくられない。しかし比較
検査の際にこのパターンが細まり、さらに2値化のゆら
ぎ等を考えると1〜2画素程度小さくなることが起こり
得る。したがって、比較検査の際にも孤立パターン検出
用としてテンプレート(Ll’l e用いると欠陥候補
パターン検出回路300はこのパターンを孤立パターン
として検出し、一方参照データには欠陥候補パターンを
示すパターンフラグが存在しないので、誤って欠陥と判
定することが起こり得る。つまり、この様な誤検出を防
ぐため、比較検査の際の孤立パターン検出用のテンプレ
ート(U′)は(6)に比較して小さいものとなってい
る。 次に欠陥候補パターン検出回路300によって検出され
るパターンエツジ近傍の孤立パターンについて第22図
に基づいて説明する。 第22図(a)はパターンのエツジeg  付近に存在
する黒い孤立パターンPI  と、テンプレート(U’
)との関係を示す。テンプレート(U′)で孤立パター
ンPiヲ検出するには、この孤立パターンP1  がエ
ツジeg から4画素(4plx )以上離れていなけ
ればならない。もし、3画素(3pix)  以下しか
離れていないと、周辺の環状領域RXにエツジ・g が
入り込ん、でくるからである。また、エツジ・g はき
れいに−直線とはならず、2値化のゆらぎ等のために1
画素程度の凹凸が生じることは避けられない。従って、
テンプレート(U′)で確実に検出できる孤立パターン
は、エツジ・gから5画素以上離れたものである。この
ことはテンプレート(ロ)について本同様で、エツジ・
g から6画素以上離れていないと、孤立パターンが確
実に検出できない。ところが、エツジeg  から孤立
パターンPi  fでの画素数が5画集以下であっても
、孤立パターンPiの大きさによっては、段差や微小凹
凸等を検出するテンプレートで検出され得る。例えば第
22図(b)に示すように、水平なエツジegから1画
素(1pix )離れて2×2画素程度の大きさの孤立
パターンpf  が存在していた場合、この孤立パター
ンPK  は第4図(IV)のテンプレート(S)を9
0° 回転し、白黒を反転(55) したテンプレートにより検出される。また第22図(C
)のように、水平なエツジeg  から2画素(2pi
x )離れて垂直方向に4画素(4pix )の大きさ
の孤立パターンpt  が存在した場合、この孤立パタ
ーンpt  は第4図α)のテンプレート(9)により
検出される。ところでこのテンプレート(ロ)は6画素
分の段差を検出する本のであり、欠陥候補パターン検出
回路300には他に、3.4.5画素分の段差を検出す
るテンプレート(〜、(n)、(C5が用意されている
。従って、第22図(C)において孤立パターンpi 
 の垂直方向の大きさが3画素以下であっても、テンプ
レート(A)、(B)、(C’)のどれかでかならず検
出される。 すなわちパターンエツジから所定の画素数以内で離れた
孤立パターンについては、段差や微小凹凸を検出するテ
ンプレートが働き、そ。所定。画8数蔵上え離。た孤立
パッーッに対してはテンプレート(財)又は(U′)が
働く。 このように欠陥候補パターン検出回路300(56) の各種テンプレートが相補的に働くことで、パターンエ
ツジ近傍の孤立欠陥から、パターンエツジと大きく隔っ
て位置する孤立欠陥まで見逃すことなく検査でき、欠陥
の検出精度は極めて高められる。 伺、本実施例においてテンプレート(A)〜(杓は段差
を検出し、テンプレート(2)、(川は135’の角を
検出し、そしてテンプレート@)、(1)は微小凹凸を
検出するものとして分けた。しかしながら、これらのテ
ンプレート(局〜(慣で検出できるパターンは、厳密に
上記の如く分けられるものではなく、パターンのエツジ
の段差によってはテンプレート(鴫、(1)により検出
されることもある。筐た微小凹凸も段差の一種と見なさ
れるから、欠陥候補パターン検出回路300は所定の画
素数で段違いとなったパターンエツジを検出する第1検
知手段としてのテンプレート(励〜け)と・孤立パター
ンを検出する第2検知手段としてのテンプレート(U)
、(U’)  とを有するものと云える。 次に、第1図で示した検査時に働く特徴切出回路12と
比較回路8について第23図により説明する。 特徴切出口路12は、直列シフトレジスタ列から構成さ
れている。直列シフトレジスタ列のうち、10ビツトレ
ジスタ160が9段並んだところを参照窓150とする
。各10ビツトレジスタ160には、512ビツトのレ
ジスタ161が直列に接続されている。 I10回路136からの参照信号139は、10ビツト
のレジスタ160から、制御回路5のクロックパルスに
同期して、1ビツトずつ直列シフトレジスタ列に転送さ
n1シフトされる。同、シフトするタイミングは、実際
には、クロックパルスの2クロツクで1回シフトするよ
うになっている。参照窓150の10×9ビツトの90
ビツト分の2値情報151は、そのまま比較回路8に入
力する。 ここで、I10回路136と特徴切出回路12及び比較
回路8の動作について説明する。 制御回路5が、第2図で示した1水平走査線の初めの1
クロツクを出力する前に、■10回路13Bは、フラグ
メモリ13日中のその走査線に対応したビットが「0」
か「1」かを調べて、それが「1」ならば、参照データ
メモリ131中のその1ライン分の参照データ(512
ビツト)を、2クロツクパルス毎に1ビツトずつ参照信
号139として出力する。もしそのビットが「0」なら
ば、その水平走査の期間中(1024クロツク)は、参
照信号139として512ビツト分の「0」を2クロツ
クパルス毎に出力する。それら出力は、直列シフトレジ
スタ列によって、順次シフトされていく。また撮像装置
2の帰線時間中は410ビット分の「0」を参照信号1
39として発生し、直列シフトレジスタ列も10回シフ
トされる。このように、走査の開始に応答して、参照デ
ニタメモリ138の参照データは、順次、参照窓150
によって切出される。伺、検査の開始から、欠陥候補(
59) パターン検出回路30G、エツジ検出回路7も作動し、
レチクル1上のパターンエツジに関する信号TMPLと
信号EDSとを比較回路8に出力する。 第24図(、)は、参照窓150に現われる設計特徴情
報を示した一例である。矩形状の参照窓150の10×
9ビツトのビット位置を(x−y〕で表わすと、y=4
とy=8のX方向のビット列は、参照データから取り込
まれた論理値であり、他のy列は、フラグメモリ138
中の各ビットが「0」のため論理値「0」が取り込ソれ
ている。同、これは図中「・」印で表わす。 前述のように、特徴切出口路12の切出動作に同期して
、第2図で示したレチクル1上のパターンを撮像した1
画面中の府102も移動する。このとき、窓102中に
第24図(b)に示したエツジのふくらみBが現われた
とすると、欠陥候補パターン検出回路300はこのふく
らみ全水平エツジの段差として検出(60) し、信号TMPLは「−1」となる。(すなわちパター
ンフラグを立てる。)比較回路8は信号TMPLの「1
」を入力したとぎ、参照窓150の2値情報151を(
x、y)=(1,1)からCx、y)=(10,9)ま
で1ビツト毎に調べてX方向に2ビツト以上連続して「
1」があるか(すなわち、設計上欠陥候補パターンが存
在するか否か)を調べる。もし参照窓150中に「1」
がなかったり、あっても「1」が孤立しているならば、
比較回路8は欠陥ありとする欠陥情報ERRを計算機1
0に出力する。また、窓102中に第24図(b)に示
したように90° の角が斜めに欠けた欠損部Aが現わ
れたとすると一欠陥候補パターン検出回路300はこれ
を135゜の角とみなし信号TMPLは「1」となる・
そして上述と同様に比較回路8により参照窓150をN
4べ設計データに欠陥候補パターンがあるか否か調べる
。fた、窓102中に微小孤立パターンCが現われたと
すると欠陥候補パターン検出回路30Gはテンプレート
(U′)  によって孤立パターンとして検出し信号T
MPLは「1」となる。そして上述と同様に比較回路8
により参照窓150を調べ、設計データに欠陥候補パタ
ーンがあるか否か調べる。例えば設計データに基づく本
来のパターンが第24図(C)に示すような形であれば
、欠損部への位置の参照データは90° の角を示す孤
立した「1」のみがあp1エツジのふくらみ部B1微小
孤立パターン部Cにはデータは存在しないので、比較回
路8は、A、B。 Cのすべての位置に対応して欠陥情報ERR金出力出力
。また、設計データが第24図(a)に示すパターンな
らば参照データ中のBX Cの位置には欠陥候補パター
ンとして連続した2ビツト以上の連続した「1」が存在
するので欠損部へを捉えたときのみ比較回路8は欠陥情
報ERRを出力する。 また、逆に参照窓150の中央部、例えば(x、 y 
)=(5,4)、(5,5)、(5゜6)の3ビツトに
010という「1.1が孤立したビットパターンが検出
された場合には、それは本来設計データ上に90° の
角があることを意味している。そこで比較回路8はその
ビットパターンを検出したとき、第1図及び第10図に
示すエツジ検出回路7の信号EDS’i入力して、対応
するレチクル上の位置にエツジがあるか否かを調べる。 もしなければ本来設計上存在すべき90° の角がレチ
クル上のパターンでは失われているものとして、欠陥情
報ERRを出力する。尚、この比較回路8は、欠陥の有
無を表わす欠陥情報ERRのみでなく、その欠陥の位置
に関する情報も同時に出力する。これは、制御回路5の
クロックを計数すれば容易に得られる。このように比較
回路8は本来90° の角として設計されたものが微小
に丸まったりした場合や、或いはレチクル上のパターン
エツジに微小凹凸が生じている場合等のパターンの欠陥
を精度よく検出できる。 (63) 同、本発明の実施例において、欠陥候補パターン検出回
路300中のマツチング回路は、1つの欠陥候補パター
ンを検出するのに1例えば第4図(I)のテンプレート
(A)のように16×16ピツト中の11ビツトから2
値信号を取り出している。この図で示したように、16
X16ピツト中、ビットパターンのエツジが通過するビ
ット、例えばビット(G、 2)と(J、2)、ビット
(G、5)と(J、6)の間は、2ビツトの余裕がある
。一般に、ITV等によって撮像され、2値化され九ビ
ットパターンは、直線が清らがではなく1.2画素分の
凹凸が生じゃすい。そこで、この凹凸を許容して、段差
の検出ができなくなるのを防ぐために、その余裕が設け
られている。 また、実施例において、第8図に示した欠陥候補パター
ン検出回路300中のマツチング回路106には、電5
図で示したようなアンド回路が各テンプレートに応じて
162個用意されている。これは、162穐類のテン(
64) プレートのうち、どのテンプレートでマツチングが砲れ
たかを知るために1夫々独立してアンド回路を設けたに
他ならない。そこで、どのテンプレートでマツチングし
たかを知る必要がない場合は、いくつかのテンプレート
を共通圧することができる。このことについて、第25
図を用いて説明する。 第25図は、マツチング回路106中に前述のアンド回
路と同様に設けられる回路である。この回路は、−例と
−じて第4図の(励〜(ロ)の8つのテンプレートを同
時に構成するものである。この8つのテンプレートの「
1」、「0」のビットパターンのうち、ビット(J・2
)、(J・4)、(J・6)、(I・7)(G・2)、
(G・4)、(G・6)、(G・7)の8ビツトは全て
共通である。そこで、まずアンドゲート200で上記8
ビツトのビットパターンを検出する。そして、第4図の
(〜〜■の8つのテンプレートで異なるビットパターン
の部分について、それぞれ8つのアントケート201〜
208を設ける。伺、このアンドゲート201〜208
の各人力に接続されるテンプレート中のビットは、第2
5図中に示す通りである。そして8つのアンド’l’−
ト201〜208の各出力は、8人力のオアゲート20
9に接続される。オアゲート209の出力信号と、アン
ドゲート200の出力信号とはアンドゲート21Gに入
力する。 そしてこのアンドゲート21Gの出力は第8図に示した
オア回路10701つの大刀端子に接続される。 この回路構成において、第4図のテンプレート(A)〜
■のうち、点線で示し友ようなエツジがどれか1つで本
税われると、アントゲ−1200が「1」を出力し、ア
ンドゲート201〜208のうちそのエツジに対応した
アンドゲートが「1」を出力する。このためオアゲート
209も「1」を出方するから、アンドゲート210は
「1」を出方する。従って欠陥候補パターン検出回路3
0Gは、第4図のテンプレート(A)〜(6)のうち、
いずれか1つがマツチングしたものとして、信号TMP
L及び信号CAD1を「1」にする。 このように、第25図に示した回路を用いれば、マツチ
ング回路106が極めて簡素化されると共に、マツチン
グ回路106と切出回路4とを接続する配線の本数が低
減しコンパクトになるという利点がある。 筐た、本発明の実施例において、欠陥候補パターン検出
回路300’!i構成するテンプレートのうち水平、垂
直、或いは斜めのパターンエツジでの段差を検出するテ
ンプレートは第4図に示すように高さく段差)が3.4
.5.6画素になっているが、さらに高さが7.8画素
といったより大きいテンプレートを構成することもでき
る。本発明の実施例では切出回路4によって切9出され
る窓102は16X16ビツトであるが、これをさらに
拡張し、たとえば18X18ビツトにすれば、前述の大
きいテンプレートは簡単に実現でき(67) る。このように段差を検出するテンプレートの種類を多
くすることによって、さらに検出精度を高めることがで
きる。 また、欠陥候補パターン検出回路300において、設計
データから参照データを作成する際は、第8図の如く信
号CADIを用いた。 これはエツジの段差や微小凹凸及び孤立パターンと90
° 角パターンとを区別するためである。しかしながら
、この区別はかならずし本必要ではない。この区別をし
ない場合は設計データから参照データを作成するとき、
信号CADIの最後1ビット分の「1」の付加を行なわ
ないよう圧する。そして比較回路8の検査アルゴリズム
を簡素化して、参照窓150の中央部に「1」が現われ
たとき、信号TMPLと信号EDSの両方が共に「0」
であれば欠陥情報ERR′@:出力するようにする。そ
して、どちらか一方が「1」であれば欠陥なしとする。 また逆に、信号TMPLが「1」Kなったとき、参照窓
150中に1つ(2)) も「1」がなければ欠陥情報ERRを出力するようにす
る。このようなアルゴリズムにすれば比較回路8の構成
がより簡単になる。 また、実施例では参照データは1走査線に対して1ライ
ン分のメモリが用意されていたが、2走査線分を1ライ
ン分のメモリに!とめることができる。このことについ
て第26図に基づいて説明する。第26図の回路は、例
えばI10回路136中に設けられて、偶数番目の走査
線と奇数番目の走査線とから得られた参照データを合成
する合成回路の一例である。この合成回路において、遅
延器400には、フレームメモリ130の1水平走査線
(1024ビツト分)中から得られる設計特徴情報を1
/2の512ビツトに圧縮し良信号IXDが印加される
。遅延器40Gは、信号IXDfi−512ビット分遅
延した信号I X D’會次のオア回路401へ出力す
る。このオア回路401は、信号IXDと信号I XD
’との論理和を演算して、アンド回路402に出力する
。アンド回路402は、フレームメモリ130中の水平
走査線に応じて論理値が変化するような信号SWSによ
って制御され石。 この信号SWSは、例えばフレームメモリ130中の偶
数番目の走査線を読み出すときには、「1」となり、奇
数番目の走査線を読み出すときには「0」となる。 このような合成回路において、信号SWSが「1」のと
き、信号IXDと信号IXD’とが合成されて、アンド
回路402から出力される。この出力信号を、参照デー
タとして参照データメモリ137の1ライン分に記憶す
る。このようにすることで、参随データメモリ137の
記憶容量は低減される。龜ちろん、フレームメモリ13
0中で2つの水平走査線上に検出すべき欠陥候補パター
ン(段差、微小凹凸、孤立パターン)や90° 角が存
在しなければ、参照データメモリ137中のメモリには
何の情報も保持されない。 !!!た、参照データメモリ137中で1ライン分のメ
モリに記憶された内容に関して、前述の実施例:(おい
ては、例えば第18図のように説明上「1」が5つ連続
していた。しかしながらこの「1」の数自体も1/2に
圧縮することができる。すなわち欠陥候補パターン検出
回路300中のオア回路107mの出力信号を、制御回
路5のクロック信号の周波数を1/2にしたパルス信号
でサンプリングして圧縮する。そして、圧縮された信号
中の「1」の次の1ビツト中に「1」を付加して信号C
AD1とする。従って、1E18図で示したように、オ
ア回路107aの出力信号として「1」が4つ連続する
ようなときは、1/2に圧縮されて、信号CADは3ビ
ット分の「1」となる。この工うに、1水平走査線に対
応する1ライン分のメモリ中においても、「1」の数を
圧縮することができるので、フレームメモリ130中の
2値画像において、1水平走査線上に多数の段差や微小
凹凸あるいは孤立パターンが現われた場合でも、その(
71) 各段差や微小凹凸、孤立パターンをもれなく参照データ
メモリ137に記憶することができる。伺、以上の実施
例で不図示ではあるが、ステージ14の2次元的な位置
は、光波干渉計等によって常に座標値として計測されて
いる。このステージ14の座標値は、計算機10へ入力
されている。撮像装置として、例えばITV2がレチク
ル1を撮像して実際の検査全開始するとき、計算機10
は、駆動手段13を、ステージ14の座標値に応じて制
御する。 すなわち、ステージ14は、ITV2がレチクル1の1
画面分の領域を撮像して、前述のような比較動作が完了
すると、隣りの1画面分の領域を撮像するように移動す
る。このとき第1図に示したストロボ装置15の発光に
よって、ITV2は1画面を入力する。 このように本発明によれば従来のようにITV等によっ
てレチクルやマスク金撮像し、走査線毎に画素単位で回
路パターンの画像情報を保持する必要がない。すなわち
回路バタ(72) 一ンのエツジ形状として、欠陥として現われやすい段差
と微小な孤立パターンを検出しているので、設計情報か
ら予め用意しておく回路パターンの設計上の特徴情報(
参照データ)も極めて少なくなり、大容量の記憶装置を
必要としない利点がある。 また、実施例のように、回路パターンのエツジが135
’  、90’  の角であることも特徴情報として検
出している。しかも実際の比較検査時にはエツジ検出回
路7′t−用いて、撮像装置2の解像力等の問題にエフ
生じる角の丸みは欠陥としないようにしている。このた
め、検査結果がより正確な本のとなる。さらに、設計情
報に基づいて作成された参照データ中で、エツジの段差
と90° の角は判別できるように、それぞれテンプレ
ートが定められているから、段差のうち90° の角度
で屈曲した段差でも、正確に段差として符号化されうる
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示す図であり1 第2図は、本発明の回路の撮像部を示す図であり、 第3図は単純化し良撮偉パターンを示す図であり、 第4図は、パターンエツジの欠陥候補パターンの代表例
を示す図であり、 第5図はアンド回路を示す図であり、 第6図はテンプレートと水平エツジとの関係を示す図で
あり、 第7図はテンプレートの具体例を示す図であpl 第8図は欠陥候補パターン検出回路の具体例を示す図で
あpl !9図及び第11図は、エツジ検出の九めに設定された
9×9画素の矩形領域を示す図であり、 第10図はエツジ検出回路の具体的構成を示す図であり
、 第12図は記憶回路の具体的回路例を示す図であり、 第13図及び第15図は検出すべきすべての90° の
角を示す図であり、 第14図は角検出回路の具体的構成例を示す図であり、 第16図はフレームメモリの具体的構成例を示す図であ
り、 第17図は、フラグメモリの動作を説明する図でToD
。 第18図乃至第20図は、参照データメモリ及びフラグ
メモリの動作を説明する図であり) 第21図は黒の孤立パターンがテンプレートで検出され
る様子を説明する図であり、第22図は、欠陥候補パタ
ーン検出回路によって検出されるパターンエツジ近傍の
孤立パターンを示す図であり、 第23図は特徴切出口路と比較回路との動(75) 作を説明する図であり、 第24図は参照窓に現れる設計特徴情報を示す図であり
、 第25図はマツチング回路中に設けられる回路を示す図
であpl #!26図は゛I10回路中に設けられる合成回路を示
す図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1・・・被検査物 A−T・・・第1検知手段 UXU’・・・第2検知手段 U・・・第1のテンプレート U′・・・第2のテンプレート 11 (76) 才5図 オ6閃 123456りg q 10 N 721314151
6+101D A79国 136一 特開昭58−199528(25) 矛22図 (a、) 768.オ′4図・・・ CC)        (d)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被検査物上に設計情報に基づいて形成された幾何学
    的なパターンを原画像として撮像した画像情報に基づい
    て、前記パターンの局所的な特徴を検知し、核局所的な
    特徴が前記設計情報に存在しないときには欠陥情報を出
    力するパターン欠陥検査装置において、前記局所的な特
    徴として、前記パターンの境界線が所定の段差で屈曲し
    ていることを検知する第1検知手段と;所定の大きさ以
    下の孤立パターンを検知する第2検知手段とを備え、該
    第2検知手段は前記パターンの境界線から前記第1検知
    手段で定められ九所定の段差分以上離れた孤立パターン
    を検知することを特徴とするパターン欠陥検査装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記画
    像情報は前記原画像を明暗に応じて2値画素化した2値
    情報であシ、前記設計情報は、!f2.値画素化された
    原画像の設計上の2値画像に対応した2値情報であり、
    前記第2検知中段は、前記設計情報に基づいて設計上の
    2値画像中の局所領域から孤立パターンを検知する第1
    のテンプレートと;前記画像情報に基づいて前記2値画
    累化され九原画像中の局所領域から孤立パターンを検知
    する第2のテンプレートとを備え、該第1のテンプレー
    トは該第2のテンプレートで検知可能な最大の孤立パタ
    ーンよりも大きな孤立パターンを検知することを特徴と
    するパターン欠陥検査装置。
JP57082355A 1982-02-04 1982-05-18 パタ−ン欠陥検査装置 Pending JPS58199528A (ja)

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