JPS5848661A - 乾式感受性化処理に使用される粉末 - Google Patents
乾式感受性化処理に使用される粉末Info
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- JPS5848661A JPS5848661A JP57127777A JP12777782A JPS5848661A JP S5848661 A JPS5848661 A JP S5848661A JP 57127777 A JP57127777 A JP 57127777A JP 12777782 A JP12777782 A JP 12777782A JP S5848661 A JPS5848661 A JP S5848661A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/285—Sensitising or activating with tin based compound or composition
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
- H05K3/182—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10T428/2998—Coated including synthetic resin or polymer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プラスチック材料および感受性を付与する化
合物を含み、無電解金属付着のための乾式感受性化処理
に使用される粉末に関するものである。
合物を含み、無電解金属付着のための乾式感受性化処理
に使用される粉末に関するものである。
絶縁基板、例えばプラスチック上への金属付着は1真空
蒸着、導電性のあるインクまたは塗料の付着、および次
なる電解金属付着、および無電解金属付着により行うこ
とができる。ここで、無電解金属付着の後に電解金属付
着を行うこともできる。
蒸着、導電性のあるインクまたは塗料の付着、および次
なる電解金属付着、および無電解金属付着により行うこ
とができる。ここで、無電解金属付着の後に電解金属付
着を行うこともできる。
無電解金属付着は、電子技術および仕上げされたプラス
チック物品の金属被覆において広く使用できることがわ
かってぎた。無電解金属付着を行うための従来の既知の
いくつかの方法にあっては、tta受性化および活性化
を行う化合物か金属被覆されるべき表面に対して十分な
付着力を得るのが困難であることがわかってきたことが
欠点として挙げられる。特に、このことは B31+2
化合物の水溶液においてプラスチック表面をまず最初に
感受性化して、次に、付着性のあるすすの種を引続いて
活性剤、例えば塩化パラジウムの水溶液中に浸漬するこ
とにより、金属化の処理が自触媒作用で進むまでの間、
金属化浴から少量の金属を上述のプラスチック表面に沈
殿させる、いわゆるl工程の処理において欠点となって
いた。
チック物品の金属被覆において広く使用できることがわ
かってぎた。無電解金属付着を行うための従来の既知の
いくつかの方法にあっては、tta受性化および活性化
を行う化合物か金属被覆されるべき表面に対して十分な
付着力を得るのが困難であることがわかってきたことが
欠点として挙げられる。特に、このことは B31+2
化合物の水溶液においてプラスチック表面をまず最初に
感受性化して、次に、付着性のあるすすの種を引続いて
活性剤、例えば塩化パラジウムの水溶液中に浸漬するこ
とにより、金属化の処理が自触媒作用で進むまでの間、
金属化浴から少量の金属を上述のプラスチック表面に沈
殿させる、いわゆるl工程の処理において欠点となって
いた。
これら欠点を除去するために、米国特許第3oitqλ
O号には、上述の感受性化および活性化をl工程のプロ
セスで適切に行なって、金属化されるべき基板をすずお
よびパラジウムの塩化物のコロイド懸濁液に浸漬するこ
とが記述されている。更にまた、感受性化および活性化
を組合せるのに先立って基板にエツチングを施すことに
より沈殿(付着)した金属層の付着力を改良する方法が
記述されている。上述のl工程プ四セスにおいては、金
属化に先立って、促進浴を散在させて、基板表面上の過
剰なすす材料を除去することができるようにするのがし
ばしば有効である。特別の促進処理段階は別として、パ
ラジウムの消費は欠点であり、処理を一層高価なものと
している。更にまた、使用される溶液を安定化するのは
離しかった。そこで、米国特許第ダ、2コO≦71号は
−、貴金属を含まない活性化懸濁液を記述している。し
かし、この場合には、−暦年安定な金属化浴を必要とし
、このことは製造にあたって不利となる。
O号には、上述の感受性化および活性化をl工程のプロ
セスで適切に行なって、金属化されるべき基板をすずお
よびパラジウムの塩化物のコロイド懸濁液に浸漬するこ
とが記述されている。更にまた、感受性化および活性化
を組合せるのに先立って基板にエツチングを施すことに
より沈殿(付着)した金属層の付着力を改良する方法が
記述されている。上述のl工程プ四セスにおいては、金
属化に先立って、促進浴を散在させて、基板表面上の過
剰なすす材料を除去することができるようにするのがし
ばしば有効である。特別の促進処理段階は別として、パ
ラジウムの消費は欠点であり、処理を一層高価なものと
している。更にまた、使用される溶液を安定化するのは
離しかった。そこで、米国特許第ダ、2コO≦71号は
−、貴金属を含まない活性化懸濁液を記述している。し
かし、この場合には、−暦年安定な金属化浴を必要とし
、このことは製造にあたって不利となる。
最近の特許文献において、感受性化および活性化処理が
分離されているl工程処理の例がいくつか見出される。
分離されているl工程処理の例がいくつか見出される。
例えば、米圓特許第#agコア30号がその一例である
。
。
基板の表面の湿式感受性化の欠点は、特にエレクトロニ
クスにおいて所望される指定パターンの選択的金属化を
行うのが困難であるということがある。
クスにおいて所望される指定パターンの選択的金属化を
行うのが困難であるということがある。
デンマーク特許出願第1j 07/79号(注:対応す
る外国出願がいくつか存在する)には、絶縁表面の乾式
感受性化の方法およびその方法で使用される粉末が記述
されている。この粉末はゼログラフィー処理により転写
され、粉末の粒子には、少くともその表面に、感受性化
化合物が堆積する。これはコニ程処理であり、感受性化
は乾式であり、その次にパラジウム化合物の水溶液中で
の浸漬により活性化を行う。この処理は、柔軟性が高く
、しかも金属のプラスチックに対する付着性を良好にな
して選択的に行うことができ、感受性化粉末は基板の表
面に溶融することがわかった。デンマーク特許出願第1
!07779号(上記注参照)に記述の方法により製造
された感受性化粉末は、安定性が高く、金属のプラスチ
ックに対する付着性を低下させることなしにパラジウム
の消費証を減少させることができることがわかった。
る外国出願がいくつか存在する)には、絶縁表面の乾式
感受性化の方法およびその方法で使用される粉末が記述
されている。この粉末はゼログラフィー処理により転写
され、粉末の粒子には、少くともその表面に、感受性化
化合物が堆積する。これはコニ程処理であり、感受性化
は乾式であり、その次にパラジウム化合物の水溶液中で
の浸漬により活性化を行う。この処理は、柔軟性が高く
、しかも金属のプラスチックに対する付着性を良好にな
して選択的に行うことができ、感受性化粉末は基板の表
面に溶融することがわかった。デンマーク特許出願第1
!07779号(上記注参照)に記述の方法により製造
された感受性化粉末は、安定性が高く、金属のプラスチ
ックに対する付着性を低下させることなしにパラジウム
の消費証を減少させることができることがわかった。
無電解めっきのための乾式感受性化処理の利点は、感受
性化処理が選択的に行なわれることにあり、粉末が基板
の表面上にあるパターンで噴讃され、あるいは静電的ま
たは静磁気的にかかる表面に転写される。後者の場合に
は、各粉末粒子は磁性粒子と混合しておく。
性化処理が選択的に行なわれることにあり、粉末が基板
の表面上にあるパターンで噴讃され、あるいは静電的ま
たは静磁気的にかかる表面に転写される。後者の場合に
は、各粉末粒子は磁性粒子と混合しておく。
例えば、スイス特許第11111/号に記述の如く1ト
ナー粉末に種々の添加物を加えることは公知である。こ
れら添加物は、適当な摩擦電気状態を得、光導電プラテ
ンやドラムの摩耗を少くするために添加される。米国特
許第013944113号には個々の粒子の表面電荷状
態を制御するため←界面活性剤を用いることが記載され
ている。
ナー粉末に種々の添加物を加えることは公知である。こ
れら添加物は、適当な摩擦電気状態を得、光導電プラテ
ンやドラムの摩耗を少くするために添加される。米国特
許第013944113号には個々の粒子の表面電荷状
態を制御するため←界面活性剤を用いることが記載され
ている。
これら特許文献に記載されているトナー粉末は、それを
溶融するときに金属化処理の基板としては適さない。そ
の理由は\かかる粉末は疎水性の状態にあるから乾式感
受性化された表面と水性活性剤溶液との間の接触を良好
にするのに役立たないからである。更にまた、親水性プ
ラスチック材料を用いても、かかる材料は雰凹気中の湿
気の変化に敏感であり、その表面の溶解度が大きいので
、これが金属付着に好ましくない影響を及ぼすから、金
属化処理自体に問題を惹起するという点で、かかるプラ
スチック材料それ自体も満足のいくものではないことが
わかった。デンマーク%許出騙第lI27y/lrO号
(対応する外国出願がいくつが存在する)においては、
乾式感受性化に用いる粉末が記載されており、この粉末
は疎水性および親水性プラスチック材料の混合物を含み
、これら材料を水性懸濁液となし、この懸濁液もまた感
受性化化合物を含み、しかしてかかる懸濁液を噴霧して
乾燥−させる。このようなトナー粉末は数ミクロンの均
一な粒子寸法をもつが、湿気に対して極めて敏感ではな
く、基板の表面上に溶融した後に金属化されることもあ
り得る。また、プラスチック全体に対して、比較的高い
割合の感受性化化合物、例えばj〜/θ%W/W (ウ
ェイトバイウェイト)の3nCILコH20を必要とす
る。かかるトナー粉末を静電転写に用いるときには、個
々の粉末粒子の親水性および疎水性材料の含有輩が大き
く変化するので、トナー粉末の感受性化が不均一に行な
われ、従って、感受性化化合物の組を過大にする必要が
あるという欠点も更にある。
溶融するときに金属化処理の基板としては適さない。そ
の理由は\かかる粉末は疎水性の状態にあるから乾式感
受性化された表面と水性活性剤溶液との間の接触を良好
にするのに役立たないからである。更にまた、親水性プ
ラスチック材料を用いても、かかる材料は雰凹気中の湿
気の変化に敏感であり、その表面の溶解度が大きいので
、これが金属付着に好ましくない影響を及ぼすから、金
属化処理自体に問題を惹起するという点で、かかるプラ
スチック材料それ自体も満足のいくものではないことが
わかった。デンマーク%許出騙第lI27y/lrO号
(対応する外国出願がいくつが存在する)においては、
乾式感受性化に用いる粉末が記載されており、この粉末
は疎水性および親水性プラスチック材料の混合物を含み
、これら材料を水性懸濁液となし、この懸濁液もまた感
受性化化合物を含み、しかしてかかる懸濁液を噴霧して
乾燥−させる。このようなトナー粉末は数ミクロンの均
一な粒子寸法をもつが、湿気に対して極めて敏感ではな
く、基板の表面上に溶融した後に金属化されることもあ
り得る。また、プラスチック全体に対して、比較的高い
割合の感受性化化合物、例えばj〜/θ%W/W (ウ
ェイトバイウェイト)の3nCILコH20を必要とす
る。かかるトナー粉末を静電転写に用いるときには、個
々の粉末粒子の親水性および疎水性材料の含有輩が大き
く変化するので、トナー粉末の感受性化が不均一に行な
われ、従って、感受性化化合物の組を過大にする必要が
あるという欠点も更にある。
本発明の目的は、無電解金属付着用基板の表面を感受性
化するのに特に好適であり、静電あるいは静磁粒子を有
して、静電あるいは静磁気潜像がゼログラフィー処理の
いわゆるマスター上に存在するか、または他の形態例え
ば金属化されるべき基板上に直接に存在していても、か
かる潜像を現像するのに好適な、乾式感受性化処理に使
用される粉末を提供することにある。
化するのに特に好適であり、静電あるいは静磁粒子を有
して、静電あるいは静磁気潜像がゼログラフィー処理の
いわゆるマスター上に存在するか、または他の形態例え
ば金属化されるべき基板上に直接に存在していても、か
かる潜像を現像するのに好適な、乾式感受性化処理に使
用される粉末を提供することにある。
かかる目的を達成するために、本発明は、プラスチック
材料の微細粉末粒子を含み、感受性化化合物および界面
活性剤をそれぞれ0 、 / N10%W/VJおよび
O,l〜too10oW/W含み、基板上に溶融したと
きに、引続いて行なわれる無電解金属化の後に、金属化
端部が明確に限界されるようにしたものである。
材料の微細粉末粒子を含み、感受性化化合物および界面
活性剤をそれぞれ0 、 / N10%W/VJおよび
O,l〜too10oW/W含み、基板上に溶融したと
きに、引続いて行なわれる無電解金属化の後に、金属化
端部が明確に限界されるようにしたものである。
本発明の好適例では、感受性化化合物を+2状態のすす
を有するすず化合物とする。これにより、値段が廉価で
実用上好適な感受性化化合物を用いることができる。
を有するすず化合物とする。これにより、値段が廉価で
実用上好適な感受性化化合物を用いることができる。
本発明の好適例では、プラスチック材料はスチレンアク
リル共ム合体樹脂であり、剖記感受注化化合切は加水分
解されたすず化合物であり、昇ぼ11活性剤はグリセロ
ールモノステアレートとクリセロールジヘステアレート
との混合物とする。これにより接着性を高めることがで
きる。
リル共ム合体樹脂であり、剖記感受注化化合切は加水分
解されたすず化合物であり、昇ぼ11活性剤はグリセロ
ールモノステアレートとクリセロールジヘステアレート
との混合物とする。これにより接着性を高めることがで
きる。
本発明では、加水分解されたすず化合物は、プラスチッ
ク材料の足に対してλ#/%1RI5nc12 、JH
20および310o W/Wのグリセロールモノステア
レートとグリセロールジステアレートとの混合物とする
ことにより、無電解全編+1着に特に好適な粉末を得る
ことができる。
ク材料の足に対してλ#/%1RI5nc12 、JH
20および310o W/Wのグリセロールモノステア
レートとグリセロールジステアレートとの混合物とする
ことにより、無電解全編+1着に特に好適な粉末を得る
ことができる。
本発明の他の好−例では微細粉末状の磁性材料を史に含
むことによって、磁界と共に使用するのに好適な粉末を
得ることができる。
むことによって、磁界と共に使用するのに好適な粉末を
得ることができる。
本発明粉末は、微細粉末の形態あるいは乳化慮合により
製造されたプラスチック材料を、このプラスチック材料
の鷲に対して0./W100九。W/Wの界面活性剤を
看する溶成または分散液と混合し、tm受性化化合物を
前記プラスチック材料の閂にXjして0 、/−10%
W/’Wの鼠だけ加え、かかる感受性化化合物を[固々
のプラスチック粒子上に沈殿させ、酸性度のIf4節後
に、混合物を乾燥させることにより形成することができ
る。
製造されたプラスチック材料を、このプラスチック材料
の鷲に対して0./W100九。W/Wの界面活性剤を
看する溶成または分散液と混合し、tm受性化化合物を
前記プラスチック材料の閂にXjして0 、/−10%
W/’Wの鼠だけ加え、かかる感受性化化合物を[固々
のプラスチック粒子上に沈殿させ、酸性度のIf4節後
に、混合物を乾燥させることにより形成することができ
る。
上述した混合物は噴霧乾燥により乾燥させて粉末と−r
るのが好適である。
るのが好適である。
本発明粉末を使用して基板表面上に無電解金属何着を行
うための乾式感受性化を行うにあたり、全縮化されるべ
き基板表面の全部または一部分に粉末を供給し、次いで
この粉末を溶融し、無−解合h6化処理のために活性化
するのが好適である。
うための乾式感受性化を行うにあたり、全縮化されるべ
き基板表面の全部または一部分に粉末を供給し、次いで
この粉末を溶融し、無−解合h6化処理のために活性化
するのが好適である。
ここで、#電電荷パターンを現像するにあたっては、あ
らかじめ前記基板上に付着しておいた電界の影響の下に
、粉末を##亀的に付着するのが好適である。
らかじめ前記基板上に付着しておいた電界の影響の下に
、粉末を##亀的に付着するのが好適である。
磁気的パターンを現像するにあたっては、本発明粉末に
微細粉末状の磁性材料を更に含ませておき、あらかじめ
@起基板状に形成しておいた磁極の影響の下に、かかる
粉末を静磁気的に付着するのが好適である。
微細粉末状の磁性材料を更に含ませておき、あらかじめ
@起基板状に形成しておいた磁極の影響の下に、かかる
粉末を静磁気的に付着するのが好適である。
本発明粉末は以下に実施例および公知粉末製造方法の記
述を参照して詳細に述べるが、ここで「トナー」なる川
崎は粉末を静電的あるいは静磁気的処理に使用する場合
に限定されるものではない。
述を参照して詳細に述べるが、ここで「トナー」なる川
崎は粉末を静電的あるいは静磁気的処理に使用する場合
に限定されるものではない。
無電解金属付着技術を十分に考察して、本発明粉末は、
無電解により、あるいは無電解処理と例えば−気めっき
技術から知られている他の処理との組合せにより金に4
bされるべき基板の表面の乾式感受性化を行うのに用い
ることができる。
無電解により、あるいは無電解処理と例えば−気めっき
技術から知られている他の処理との組合せにより金に4
bされるべき基板の表面の乾式感受性化を行うのに用い
ることができる。
金属化可能なトナー粉末の製造はこれまで実現されなか
ったが、本発明によればこれが実現され、複写機用の慣
例のトナー粉末を金属化可能にすることができる0静電
的あるいは静磁気的像を現像するのに用いられる慣例の
トナー粉末は英国特許第132/43/号西ドイツ特許
公告公報第260社り1号およびスイス特許第3111
1/号に記載されている。
ったが、本発明によればこれが実現され、複写機用の慣
例のトナー粉末を金属化可能にすることができる0静電
的あるいは静磁気的像を現像するのに用いられる慣例の
トナー粉末は英国特許第132/43/号西ドイツ特許
公告公報第260社り1号およびスイス特許第3111
1/号に記載されている。
これら特許には、使用されるプラスチック材料の情報は
別として、添加物について開示されている。
別として、添加物について開示されている。
複写機用トナー粉末を製造するにあたっては、第四アミ
ン化合物を「電荷制御」剤として添加することは知られ
ているが、これまでは、溶融して金属化するにあたって
、デンマーク特許出願第1jOψ9(1掲)による粉末
および当該出願に記載の方法による場合以上に良い結果
は得られていない。
ン化合物を「電荷制御」剤として添加することは知られ
ているが、これまでは、溶融して金属化するにあたって
、デンマーク特許出願第1jOψ9(1掲)による粉末
および当該出願に記載の方法による場合以上に良い結果
は得られていない。
本発明粉末は、界面活性剤あるいは「湿潤剤」の溶液ま
たは分散液中に「ジェット−ミルド」フラスチック粉末
を懸濁することにより製造する。
たは分散液中に「ジェット−ミルド」フラスチック粉末
を懸濁することにより製造する。
プラスチック材料の菫に対する界面活性剤の血は0、/
’10o W/W −10% W/Wとすることがで
きるが、金属化の品質に対する要求の点からは界面活性
剤の量を少くするのが好適である。その理由は、このよ
うにしないと形□成された金属層は剥離する傾向にある
からである。界面活性剤としては稙々のもの、例えば硫
酸ラウリル、モノグリ七リド、ジグリセリド、第三脂肪
アミン、ポリオキシエチルソルビタン酸エステルおよび
その他の製品、例、tばタージトル(TERGITOL
) (商品名、′ユニオンカーバイドII)を用いるこ
とができる0界面活性剤が水溶性でない場合には、超音
波を用いて分散させることができる。
’10o W/W −10% W/Wとすることがで
きるが、金属化の品質に対する要求の点からは界面活性
剤の量を少くするのが好適である。その理由は、このよ
うにしないと形□成された金属層は剥離する傾向にある
からである。界面活性剤としては稙々のもの、例えば硫
酸ラウリル、モノグリ七リド、ジグリセリド、第三脂肪
アミン、ポリオキシエチルソルビタン酸エステルおよび
その他の製品、例、tばタージトル(TERGITOL
) (商品名、′ユニオンカーバイドII)を用いるこ
とができる0界面活性剤が水溶性でない場合には、超音
波を用いて分散させることができる。
感受性化化合物・例えばF3nC12eコH20を、プ
ラスチック粉末に対してo、7〜70%の濃度で盛んに
−押しなから添加する。そして、その攪拌の間に、PH
が変化して、感受性化化合物は、分数液中で、個々のプ
ラスチック粒子上に沈殿する。しかして、懸濁液を、例
えば噴請乾燥により乾燥させる。噴蔭乾燥はそれ自体特
に有効であることがゎがった。
ラスチック粉末に対してo、7〜70%の濃度で盛んに
−押しなから添加する。そして、その攪拌の間に、PH
が変化して、感受性化化合物は、分数液中で、個々のプ
ラスチック粒子上に沈殿する。しかして、懸濁液を、例
えば噴請乾燥により乾燥させる。噴蔭乾燥はそれ自体特
に有効であることがゎがった。
上述したような感受性化処理によれば、十分な閂の界面
活性剤が個々の粉末粒子上に存在することによって、溶
融した粒子と触媒種が減少していく溶液、例えばPdC
l2との間の接触が良好になる結果、疎水性プラスチッ
ク材料を金属化可能にすることができるという大きな効
果が得られる。かかる効果は、それ自体、疎水性トナー
粒子に付着する界面活性剤のリポイド部分により説明さ
れるが、親水性の部分は液体に対する接触を改良するの
に供せられ、それにより、十分な個数の触媒−が沈殿す
るようになる。感受性化噴霧乾燥処理は界面活性剤の融
点よりも高い温度で行なわれることがわかった。噴赫乾
燥を上記融点よりも著しく低い温度で行うと8m1後の
湿式処理により界面活性剤のいくらかは粉末粒子の中心
から浸出し、それにより金属装置の鮮明度(パターンの
金kt4被覆の場合には端縁の鮮明度)が減少するとい
う欠点がある。当業者にとっては、プラスチック材料の
特性を考慮し、各個別の粉末粒子に適当な付着力をもつ
適当な界面活性剤を見出すことは可能である。
活性剤が個々の粉末粒子上に存在することによって、溶
融した粒子と触媒種が減少していく溶液、例えばPdC
l2との間の接触が良好になる結果、疎水性プラスチッ
ク材料を金属化可能にすることができるという大きな効
果が得られる。かかる効果は、それ自体、疎水性トナー
粒子に付着する界面活性剤のリポイド部分により説明さ
れるが、親水性の部分は液体に対する接触を改良するの
に供せられ、それにより、十分な個数の触媒−が沈殿す
るようになる。感受性化噴霧乾燥処理は界面活性剤の融
点よりも高い温度で行なわれることがわかった。噴赫乾
燥を上記融点よりも著しく低い温度で行うと8m1後の
湿式処理により界面活性剤のいくらかは粉末粒子の中心
から浸出し、それにより金属装置の鮮明度(パターンの
金kt4被覆の場合には端縁の鮮明度)が減少するとい
う欠点がある。当業者にとっては、プラスチック材料の
特性を考慮し、各個別の粉末粒子に適当な付着力をもつ
適当な界面活性剤を見出すことは可能である。
上述の界面活性剤および感受性化化合物の添装置を僅か
なものとしても、それにより摩擦電気状態を変化させる
ことができ、このことは、静i*荷像のための現像器を
構成するときに考慮しなければならない。
なものとしても、それにより摩擦電気状態を変化させる
ことができ、このことは、静i*荷像のための現像器を
構成するときに考慮しなければならない。
静電的および静磁気的像をトナー粉末により現像するた
めの処理はいくつが知られている。例えば米国特許第2
174tO6J号に記載の磁気ブラシを用いる場合には
、トナー粉末粒子をプラスチック材料で被蝋することの
できる磁性体粒子と共に用いて、トナー粉末粒子を摩擦
m%効果により帯電させる。最近、例えば西ドイツ特許
公告公報第2≦。6991号には磁気的に伝導性のある
粒子を含むトナー粒子について記載されている。
めの処理はいくつが知られている。例えば米国特許第2
174tO6J号に記載の磁気ブラシを用いる場合には
、トナー粉末粒子をプラスチック材料で被蝋することの
できる磁性体粒子と共に用いて、トナー粉末粒子を摩擦
m%効果により帯電させる。最近、例えば西ドイツ特許
公告公報第2≦。6991号には磁気的に伝導性のある
粒子を含むトナー粒子について記載されている。
特許文献には、トナー粉末および添加物について権々の
記載がある。例えば西ドイツ特許公告公報第/(H9J
tS号にはコロイド状S 102の添加について記載さ
れている。西ドイツ特許公開公報第ぶπ号には脂肪酸の
金属塩によって稙々の形態でトナー粉末を改良すること
ができることが記載されている。更にまた、西ドイツ特
許公告公報第1019コ≦j号にはシリコン有機化合物
で処理されたコロイド状8102を添加して、トナー粉
末が高い湿度において良好な特性をもつようにすること
が記載されている。なお、js!擦電気状態が湿度状態
に依存することはよく知られている。
記載がある。例えば西ドイツ特許公告公報第/(H9J
tS号にはコロイド状S 102の添加について記載さ
れている。西ドイツ特許公開公報第ぶπ号には脂肪酸の
金属塩によって稙々の形態でトナー粉末を改良すること
ができることが記載されている。更にまた、西ドイツ特
許公告公報第1019コ≦j号にはシリコン有機化合物
で処理されたコロイド状8102を添加して、トナー粉
末が高い湿度において良好な特性をもつようにすること
が記載されている。なお、js!擦電気状態が湿度状態
に依存することはよく知られている。
トナー粉末として用いられるプラスチック拐料の大部分
は、疎水性プラスチック材料であるという特徴をもって
いる。トナー粉末は一般に熱gJW性樹脂でもある。種
々のトナー材料およびそれらの状態については米国特許
第229749/号に記載されている。米国特許第3.
o7?、3qλ号には、コモノマーがスチレンおよびメ
タクリレートである共電合体が記載されている。スチレ
ンを用いたトナー粉末のコントラスト特性は良好であり
、高解像度の所望されるときには有効であることがわか
った。
は、疎水性プラスチック材料であるという特徴をもって
いる。トナー粉末は一般に熱gJW性樹脂でもある。種
々のトナー材料およびそれらの状態については米国特許
第229749/号に記載されている。米国特許第3.
o7?、3qλ号には、コモノマーがスチレンおよびメ
タクリレートである共電合体が記載されている。スチレ
ンを用いたトナー粉末のコントラスト特性は良好であり
、高解像度の所望されるときには有効であることがわか
った。
トナー粉末のために適する市販のプラスチック材料は櫨
々あり、例えば、ピッコトナ−(PIm)/200ある
いはピツコトナーlコVt(商品名、ヘルキュレス社製
)が挙げられる。
々あり、例えば、ピッコトナ−(PIm)/200ある
いはピツコトナーlコVt(商品名、ヘルキュレス社製
)が挙げられる。
無電解金属付着のための乾式感受性化に使用する本発明
による粉末は疎水性プラスチック基体材料およびこのプ
ラスチック材料に対して10%までの鉦の感受性化化合
物を含み、そのプラスチック材料を液体中に懸濁し、し
かして、感受性化化合物を添加して各プラスチック粒子
上に沈殿させ、次いで乾燥処理を行う。感受性化化合物
のプラスチック材料に対する濃度は0.7−10%とな
し、更に濃度o、i−0〜ioo°10oの界面活性剤
を含む。かかる界面活性剤は、疎水性プラスチック粒子
に付着するリポイド部分および液体に対する接触を改良
するのに用いられる親水性部分を有する種類のものであ
り、プラスチック材料は上記の界面活性剤の溶?Iχま
たは分散液を含む液体中にP#IA濁さオーする。
による粉末は疎水性プラスチック基体材料およびこのプ
ラスチック材料に対して10%までの鉦の感受性化化合
物を含み、そのプラスチック材料を液体中に懸濁し、し
かして、感受性化化合物を添加して各プラスチック粒子
上に沈殿させ、次いで乾燥処理を行う。感受性化化合物
のプラスチック材料に対する濃度は0.7−10%とな
し、更に濃度o、i−0〜ioo°10oの界面活性剤
を含む。かかる界面活性剤は、疎水性プラスチック粒子
に付着するリポイド部分および液体に対する接触を改良
するのに用いられる親水性部分を有する種類のものであ
り、プラスチック材料は上記の界面活性剤の溶?Iχま
たは分散液を含む液体中にP#IA濁さオーする。
本発明を一層畦細に説明するために以下の実施例によっ
て本発明粉末の製造方法および使用方法について述べる
。
て本発明粉末の製造方法および使用方法について述べる
。
実施例1゜
1000m、#:)蒸留水中に0.jo/@6の硫醒ラ
ウリルを含む水溶液に、ドロス) (TRO8T) (
商品名)ジェット−ミル上で粉砕されたピッコトナー/
200(商品名、ヘルキュレス社製)を添加する。激し
く攪拌した後に、5n(J2.コH2(X/)水溶液を
r00ml加える。
ウリルを含む水溶液に、ドロス) (TRO8T) (
商品名)ジェット−ミル上で粉砕されたピッコトナー/
200(商品名、ヘルキュレス社製)を添加する。激し
く攪拌した後に、5n(J2.コH2(X/)水溶液を
r00ml加える。
ここで、5nC12,2H2CX1) jiを適切に−
k t、 テ、コノ足がビツコトナー12oo(商品名
)の社の2〜10%になるようにする。強く撹拌しなが
ら、アンモニア水を加えてpHかり〜10になるように
する。このようにノ絽受性化されたプラスチック懸濁液
を噴鯵乾燥機(テンマークのニル(NIRo)噴霧器の
モデル「マイナ(MINOR)Jを用いた。)に噴霧し
て乾燥させる。@霧器のホイールをλoooo〜360
00 RPMの速度で回転させ、入力および出力温度を
そtlぞれ771℃および90℃とする。このように感
受性化されたトナー粒子を、静電技術あるいは電子写真
技術により絶縁基板の表面上に門布することができる。
k t、 テ、コノ足がビツコトナー12oo(商品名
)の社の2〜10%になるようにする。強く撹拌しなが
ら、アンモニア水を加えてpHかり〜10になるように
する。このようにノ絽受性化されたプラスチック懸濁液
を噴鯵乾燥機(テンマークのニル(NIRo)噴霧器の
モデル「マイナ(MINOR)Jを用いた。)に噴霧し
て乾燥させる。@霧器のホイールをλoooo〜360
00 RPMの速度で回転させ、入力および出力温度を
そtlぞれ771℃および90℃とする。このように感
受性化されたトナー粒子を、静電技術あるいは電子写真
技術により絶縁基板の表面上に門布することができる。
後者の場合、トナー粒子にはガラス球や鉄粉を混入する
。トナー粒子は、電子写真処理により適当な装置に転写
して、感受性化されているトナー粉末により静′w1f
Ij像を光′4電基板上に現像し、そこからトナー粉末
を基板に転写したり、基板自体の上に1(荷パターンを
現像することができる。iqs”cの湿度で溶融した後
、上述したような形態で感受性化されている基板を、弱
い塩/lII性媒体中に/グラム/リットルのPdC1
2溶液を含む液体)中で活性化する。このようにして沈
鰍したパラジウム柚は触媒作用により、例えば金属塩、
複雑なビルダー、還元剤およびf、17&される金属層
の機械的および電気的特性に有益な1智を与える洗浄剤
および化(物のような多分多極類の添加物を含む金属浴
から金属、例えば銅を析出させることができる。金属化
の実施例は実施例1に示す。
。トナー粒子は、電子写真処理により適当な装置に転写
して、感受性化されているトナー粉末により静′w1f
Ij像を光′4電基板上に現像し、そこからトナー粉末
を基板に転写したり、基板自体の上に1(荷パターンを
現像することができる。iqs”cの湿度で溶融した後
、上述したような形態で感受性化されている基板を、弱
い塩/lII性媒体中に/グラム/リットルのPdC1
2溶液を含む液体)中で活性化する。このようにして沈
鰍したパラジウム柚は触媒作用により、例えば金属塩、
複雑なビルダー、還元剤およびf、17&される金属層
の機械的および電気的特性に有益な1智を与える洗浄剤
および化(物のような多分多極類の添加物を含む金属浴
から金属、例えば銅を析出させることができる。金属化
の実施例は実施例1に示す。
実施例2゜
グリセロール モノステアレートおよびグリセロール
ジステアレートの混合#(アトマー(Ω懇)/22)(
商品名、アイシイアイ−アトラス(ICI−ATLAS
))とすることのできる界面活性剤の水性分散散を、溶
液の重さに対して210.のアトマー/QJを鰯a波に
より分散させることにより作る。この水性分散液には、
めのう乳針内で粉砕され、次いでトロスト(商品名)ジ
ェット−ミル内で処理されたlOOグラムのスチレンア
クリル共重合体kk#kf−ディー002/(ORG−
D−002/ (商品名、ヘルキュレス社−))を攪拌
する。(共重合体の門に対して)2%の!9nC12、
−H2Oを、強く攪拌しなから水浴数に加える。依然と
して強く攪拌しなからpHを9〜lθに調整する。この
ように感受性化したプラスチック懸濁欣を噴霧乾燥機(
テンマークのニロ(NIRO)噴霧器のモデル[マイナ
(MINOR)J )上で噴霧乾燥させる。r*霧器の
ス°(イールの速度はλoooo〜Jj000RPMと
なし、入力および出力温度をそれぞれ760℃お・よひ
70℃とする。このようにして得られた感受性化トナー
粉末は、適当な基板上に1410℃で溶融し、次いで酸
性媒体において塩化パラジウム浴液中にIvfiIする
ことにより活性化して無電解全編化処理を行う。上記ト
ナー粉末の転写は、適当なメツシュをもつシルクスクリ
ーン印刷用マスクを通して散布することにより行なわれ
る。トナー粉末は、慣例の■子写真装置における静′−
潜像を現像するための磁気ブラシその他の装置における
一成分現像液のl成分として混合することもできる。
ジステアレートの混合#(アトマー(Ω懇)/22)(
商品名、アイシイアイ−アトラス(ICI−ATLAS
))とすることのできる界面活性剤の水性分散散を、溶
液の重さに対して210.のアトマー/QJを鰯a波に
より分散させることにより作る。この水性分散液には、
めのう乳針内で粉砕され、次いでトロスト(商品名)ジ
ェット−ミル内で処理されたlOOグラムのスチレンア
クリル共重合体kk#kf−ディー002/(ORG−
D−002/ (商品名、ヘルキュレス社−))を攪拌
する。(共重合体の門に対して)2%の!9nC12、
−H2Oを、強く攪拌しなから水浴数に加える。依然と
して強く攪拌しなからpHを9〜lθに調整する。この
ように感受性化したプラスチック懸濁欣を噴霧乾燥機(
テンマークのニロ(NIRO)噴霧器のモデル[マイナ
(MINOR)J )上で噴霧乾燥させる。r*霧器の
ス°(イールの速度はλoooo〜Jj000RPMと
なし、入力および出力温度をそれぞれ760℃お・よひ
70℃とする。このようにして得られた感受性化トナー
粉末は、適当な基板上に1410℃で溶融し、次いで酸
性媒体において塩化パラジウム浴液中にIvfiIする
ことにより活性化して無電解全編化処理を行う。上記ト
ナー粉末の転写は、適当なメツシュをもつシルクスクリ
ーン印刷用マスクを通して散布することにより行なわれ
る。トナー粉末は、慣例の■子写真装置における静′−
潜像を現像するための磁気ブラシその他の装置における
一成分現像液のl成分として混合することもできる。
実施例3、
# 00ml中に100グラムのスチレン−アクリル共
重合体、例えばオルガニック デイベpツブメント レ
ジン/I (0EGANIC厖菫八勉圏IN n )
(商品名、ヘルキュレス社線)を含む水性懸濁液を作り
、この懸濁液に適当な界面活性剤、例えばスパン 40
(5PAN 40)(商品名、アイシイアイ−アトラ
ス製)を電合体の−に対して3°/。。の11#度で添
加する。粒子寸法がjOOナノメートルの磁性酸化麩を
3θグラムと適当な凝固剤、例えば動画アンモニウム塩
とを添加する。強く撹拌しながら、すず化合物、例えば
8nC/2.コH2cxD溶液を重合動量の2〜10%
添加する。この溶液のPIIを9〜/θに調整し、短、
満液を1!!tWtp乾烟!軸(デンマークのニロ噴赫
器のモデル「マイナ」)上に噴kIii、燥する。唄鉢
器のホイールの速度を1oooo〜36000RPMと
なし、人力および出力温良をそれぞれ750℃および6
0℃とする。磁性体粒子を混合してこのように感受性化
IM理を鳳したトナー粉末は靜T、像および#P磁気像
をmWするための/成分現像液として適切である。
重合体、例えばオルガニック デイベpツブメント レ
ジン/I (0EGANIC厖菫八勉圏IN n )
(商品名、ヘルキュレス社線)を含む水性懸濁液を作り
、この懸濁液に適当な界面活性剤、例えばスパン 40
(5PAN 40)(商品名、アイシイアイ−アトラ
ス製)を電合体の−に対して3°/。。の11#度で添
加する。粒子寸法がjOOナノメートルの磁性酸化麩を
3θグラムと適当な凝固剤、例えば動画アンモニウム塩
とを添加する。強く撹拌しながら、すず化合物、例えば
8nC/2.コH2cxD溶液を重合動量の2〜10%
添加する。この溶液のPIIを9〜/θに調整し、短、
満液を1!!tWtp乾烟!軸(デンマークのニロ噴赫
器のモデル「マイナ」)上に噴kIii、燥する。唄鉢
器のホイールの速度を1oooo〜36000RPMと
なし、人力および出力温良をそれぞれ750℃および6
0℃とする。磁性体粒子を混合してこのように感受性化
IM理を鳳したトナー粉末は靜T、像および#P磁気像
をmWするための/成分現像液として適切である。
次いで、かかる像は、実施例1に史に述べる慣例の焦′
喝解fj着処理において金属化される。
喝解fj着処理において金属化される。
実施例4゜
′−A施例/〜3に述べたような感受性化された粉末を
、この粉末の軟化温度および塗布温度に関連する適切な
温度で溶融する。2%のf3ncl12eλH20およ
び3c100の界面活性剤(アトマ /、2コ(商品名
))を5むオルグーディー2/ (6品名、ヘルキュレ
ス社鯛)をμjい、l参〇℃において溶融することによ
り感受性化された表面を得る。これは、処理時間73分
で塩化パラジウムの除性溶液(lグラム/リットルのP
dCl2ト/θミリリツトルのHCj’)から表面上へ
の必要な触媒桓を減少させることができる。
、この粉末の軟化温度および塗布温度に関連する適切な
温度で溶融する。2%のf3ncl12eλH20およ
び3c100の界面活性剤(アトマ /、2コ(商品名
))を5むオルグーディー2/ (6品名、ヘルキュレ
ス社鯛)をμjい、l参〇℃において溶融することによ
り感受性化された表面を得る。これは、処理時間73分
で塩化パラジウムの除性溶液(lグラム/リットルのP
dCl2ト/θミリリツトルのHCj’)から表面上へ
の必要な触媒桓を減少させることができる。
蒸留水中での水洗いを76分間行なってから、市販の銅
層無電解めっき槽(シップレイ3コ#(SHI[jf)
(商品名))において、室温で75分間にわたって、金
属化を行う。かかる金属化は、当業者にとってよ(知ら
れているラザ7オード(Ruth@rford)後方散
乱技術により検査され、時間の関数としての金属層の厚
さは次のようになる。
層無電解めっき槽(シップレイ3コ#(SHI[jf)
(商品名))において、室温で75分間にわたって、金
属化を行う。かかる金属化は、当業者にとってよ(知ら
れているラザ7オード(Ruth@rford)後方散
乱技術により検査され、時間の関数としての金属層の厚
さは次のようになる。
金に4j11の厚さは、かかる処理の後に、慣例のめつ
き処理により更に増加させてもよい。
き処理により更に増加させてもよい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l)プラスチック材料および感受性化化合物を含み、乾
式感受性化処理に使用される粉末において、前記プラス
チック材料の微細粉末粒子を含み、感受性化化合物およ
び界面活性剤をそれぞれO0/〜ノθ%児實および0.
/−100%0WOW含み、基板上に溶融したときに、
引続いて行なわれる無電解金属化の後に、金属化端部が
明確に限界されるようにしたことを特徴とする乾式感受
性化処理に使用される粉末。 2、特許請求の範囲第1項記載の粉末において前記感受
性化化合物は+2状態のすすを有するすず化合物である
ことを特徴とする乾式感受性化処理に使用される粉末。 3)特許請求の範囲第1項または第一項記載の粉末にお
いて、前記プラスチック材料はスチレンアクリル共重合
体樹脂であり、前記感受性化化合物は加水分解されたす
ず化金物であり、前記界面活性剤はグリセロールモノス
テアレートとグリ七ロールジ入ステアレートとの混合物
であることをI#黴とする乾式感受性化処理に使用され
る粉末。 リ 特許請求の範囲第3項記載の粉末において前記加水
分解されたすず化合物は、前記プラスチック材料の量に
対して一%穎僧のgn(12゜λHIOおよびJ /6
0 W/Wのグリセロールモノステアレートとグリ七ロ
ールジステアレートとの混合物であることを特徴とする
乾式感受性化処理に使用される粉末。 j)特許請求の範囲第1項〜参項のいずれかの項に記載
の粉末において、微細粉末状の磁性材料を更に含むこと
を特徴とする乾式感受性化処理に使用される粉末。 4)特許請求の範囲1M/項〜ダ項のいずれかの項に記
載の粉末において、微細粉末の形動あるいは乳化重合に
より製造されたプラスチック材料を、このプラスチック
材料の鰍に対してO0/〜lυ0VO0W/Wの界面活
性剤を有する溶液または分散液と混合し、前記感受性化
化合物を前記プラスチック材料の−に対して0./〜1
0%W/Wの−だけ加え、前記感受性化化合物を個々の
プラスチック粒子上に沈殿させど鈑性度の調節後に、前
記混合物を乾燥させることを特徴とする乾式感受性化処
理に使用される粉末。 7)特許請求の範囲第を項記載の粉末において、前記混
合物を噴霧乾燥により乾燥させることを特徴とする乾式
感受性化処理に使用される粉末。 Ir) 特許請求の範囲第1項〜q項のいずれかの項
に記載の紛当を使用して基板表面上に無電解金属付着を
行うための乾式感受性化を行うにあたり、金属化される
べき基板表面の全部または一部分に前記粉末を供給し、
次いで該粉末を溶融し、無電解金属化処理のために活性
化することを特徴とする粉末の使用方法。 9)特許請求の範囲第1項記載の使用方法において、あ
らかじめ前記基板上に付着しておいた電界の影蕃の下に
、前記粉末を静電的に付着することを特徴とする粉末の
使用方法。 /の 特許請求の範囲第1項記載の使用方法において、
あらかじめ前記基板上に形成しておいた磁極の影蕃の下
に、前記粉末を静磁気的に付着することを特徴とする粉
末の使用方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DK3300/81 | 1981-07-24 | ||
| DK330081A DK148327C (da) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5848661A true JPS5848661A (ja) | 1983-03-22 |
| JPH0428787B2 JPH0428787B2 (ja) | 1992-05-15 |
Family
ID=8121361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57127777A Granted JPS5848661A (ja) | 1981-07-24 | 1982-07-23 | 乾式感受性化処理に使用される粉末 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4495216A (ja) |
| EP (1) | EP0071218B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5848661A (ja) |
| AU (1) | AU549498B2 (ja) |
| CA (1) | CA1213993A (ja) |
| DE (1) | DE3266828D1 (ja) |
| DK (1) | DK148327C (ja) |
| IE (1) | IE54368B1 (ja) |
| IL (1) | IL66389A (ja) |
| NO (1) | NO822555L (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59500221A (ja) * | 1982-02-18 | 1984-02-16 | プラトネク アーペーエス | 無電解メタライジングのための乾式活性化処理に用いる粉末 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK148327C (da) * | 1981-07-24 | 1985-11-04 | Neselco As | Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering |
| US5536661A (en) * | 1987-03-10 | 1996-07-16 | Novo Nordisk A/S | Process for the production of protein products in aspergillus |
| JPH0791492B2 (ja) * | 1986-09-18 | 1995-10-04 | 保土谷化学工業株式会社 | 静電塗装用樹脂粉体組成物 |
| US4798856A (en) * | 1987-11-06 | 1989-01-17 | Columbian Chemicals Co. | Pigment dispersion in resin |
| US5304447A (en) * | 1992-02-11 | 1994-04-19 | Elf Technologies, Inc. | Plateable toner and method for producing the same |
| US5389229A (en) * | 1993-06-18 | 1995-02-14 | Surface Technology, Inc. | Prestabilization of particulate matter prior to their dispersion |
| DE19622886A1 (de) * | 1996-06-07 | 1997-12-11 | Boehringer Mannheim Gmbh | Trockene Polymerbeadzubereitung |
| US6268016B1 (en) | 1996-06-28 | 2001-07-31 | International Business Machines Corporation | Manufacturing computer systems with fine line circuitized substrates |
| US20030151028A1 (en) * | 2002-02-14 | 2003-08-14 | Lawrence Daniel P. | Conductive flexographic and gravure ink |
| US20200017665A1 (en) * | 2018-07-10 | 2020-01-16 | Nano And Advanced Materials Institute Limited | Germ-repellent material |
Family Cites Families (15)
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| DE2308020A1 (de) * | 1973-02-17 | 1974-08-22 | Dynamit Nobel Ag | Selbsthaftende pulverbeschichtungen auf basis pvc-copolymerisaten |
| DE2326978A1 (de) * | 1973-05-26 | 1974-12-19 | Neynaber Chemie Gmbh | Zusatzmittel zu formmassen auf basis waermehaertbarer kondensationsharze fuer deren formgebende verarbeitung |
| US3983263A (en) * | 1974-06-27 | 1976-09-28 | General Motors Corporation | Powdered acrylic paint composition and method |
| JPS5196330A (ja) * | 1975-02-21 | 1976-08-24 | ||
| US4287253A (en) * | 1975-04-08 | 1981-09-01 | Photocircuits Division Of Kollmorgen Corp. | Catalytic filler for electroless metallization of hole walls |
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| US4020009A (en) * | 1975-09-30 | 1977-04-26 | Shipley Company, Inc. | Catalyst composition and method of preparation |
| US4042730A (en) * | 1976-03-29 | 1977-08-16 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Process for electroless plating using separate sensitization and activation steps |
| US4181759A (en) * | 1976-08-05 | 1980-01-01 | Nathan Feldstein | Process for metal deposition of a non-conductor substrate |
| US4115334A (en) * | 1976-08-13 | 1978-09-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Antistatic vinylidene chloride coating composition, and film coated therewith |
| US4220678A (en) * | 1978-08-17 | 1980-09-02 | Nathan Feldstein | Dispersions for activating non-conductors for electroless plating |
| DK153337C (da) * | 1979-04-11 | 1988-11-14 | Platonec Aps | Fremgangsmaade til toer sensibilisering af en isolerende overflade |
| DK427780A (da) * | 1980-10-10 | 1982-04-11 | Neselco As | Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering |
| US4490283A (en) * | 1981-02-27 | 1984-12-25 | Mitech Corporation | Flame retardant thermoplastic molding compounds of high electroconductivity |
| DK148327C (da) * | 1981-07-24 | 1985-11-04 | Neselco As | Pulver til brug ved toer sensibilisering for stroemloes metallisering |
-
1981
- 1981-07-24 DK DK330081A patent/DK148327C/da not_active IP Right Cessation
-
1982
- 1982-07-22 IE IE1755/82A patent/IE54368B1/en unknown
- 1982-07-22 US US06/400,884 patent/US4495216A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-07-23 JP JP57127777A patent/JPS5848661A/ja active Granted
- 1982-07-23 CA CA000407941A patent/CA1213993A/en not_active Expired
- 1982-07-23 EP EP82106695A patent/EP0071218B1/en not_active Expired
- 1982-07-23 NO NO822555A patent/NO822555L/no unknown
- 1982-07-23 DE DE8282106695T patent/DE3266828D1/de not_active Expired
- 1982-07-25 IL IL66389A patent/IL66389A/xx unknown
- 1982-07-26 AU AU86414/82A patent/AU549498B2/en not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59500221A (ja) * | 1982-02-18 | 1984-02-16 | プラトネク アーペーエス | 無電解メタライジングのための乾式活性化処理に用いる粉末 |
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|---|---|
| EP0071218A1 (en) | 1983-02-09 |
| DK330081A (da) | 1983-01-25 |
| IE821755L (en) | 1983-01-24 |
| JPH0428787B2 (ja) | 1992-05-15 |
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