JPS5852479A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
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- JPS5852479A JPS5852479A JP14782181A JP14782181A JPS5852479A JP S5852479 A JPS5852479 A JP S5852479A JP 14782181 A JP14782181 A JP 14782181A JP 14782181 A JP14782181 A JP 14782181A JP S5852479 A JPS5852479 A JP S5852479A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
異なる蒸着物質を各別に蒸発して一緒に蒸着する蒸着装
置の改良に関する。
置の改良に関する。
従来，上述のような蒸着装置は、特開＠ｑ一ｌｔ３９ダ
ｌ号公報により知られている。その装置は、蒸発温度の
異なるセレン、テルルのそれぞれの蒸発源を隣り合わせ
に設けて、それらの蒸気をＩｉｌり合わせのｇ４璧に近
寄せてそれぞれ蒸発源の上方に設けた開口から各別に放
出させ、それら開口の上方に位置する被蒸着体に混合蒸
着させるものである。この装置は、両蒸発源が完全に区
分されているので、高温蒸発側の蒸気が低温蒸発ＨＫ″
回って凝結するような問題を起すことなく、しかも両蒸
発源が隔壁を介して隣り合っているので、両蒸発源を離
したものより社それぞれの蒸気放出開口を近付けること
ができ、したがって、比較的良好な混合蒸着を得ること
ができる。しかし一方、この装置では、両蒸発源が隔壁
を介して隣９合っているので、高温蒸発源側の温度が低
温蒸発源側に影響して、温度差が太き一場合、特に１低
温蒸発源側の温度および蒸発の制御が難しくなり、一定
した混合比を迅速に安定して得ることが困難となる。
ｌ号公報により知られている。その装置は、蒸発温度の
異なるセレン、テルルのそれぞれの蒸発源を隣り合わせ
に設けて、それらの蒸気をＩｉｌり合わせのｇ４璧に近
寄せてそれぞれ蒸発源の上方に設けた開口から各別に放
出させ、それら開口の上方に位置する被蒸着体に混合蒸
着させるものである。この装置は、両蒸発源が完全に区
分されているので、高温蒸発側の蒸気が低温蒸発ＨＫ″
回って凝結するような問題を起すことなく、しかも両蒸
発源が隔壁を介して隣り合っているので、両蒸発源を離
したものより社それぞれの蒸気放出開口を近付けること
ができ、したがって、比較的良好な混合蒸着を得ること
ができる。しかし一方、この装置では、両蒸発源が隔壁
を介して隣９合っているので、高温蒸発源側の温度が低
温蒸発源側に影響して、温度差が太き一場合、特に１低
温蒸発源側の温度および蒸発の制御が難しくなり、一定
した混合比を迅速に安定して得ることが困難となる。
また、それぞれの蒸気の放出開口が隔壁の両１１に分れ
ていることは、たとえ両方の開口を近付けても、均一な
混合を得るのに＠度があり、部分的な混合比の変動ある
いは層別蒸着の傾向が現われることを避けることができ
な−。
ていることは、たとえ両方の開口を近付けても、均一な
混合を得るのに＠度があり、部分的な混合比の変動ある
いは層別蒸着の傾向が現われることを避けることができ
な−。
本発明は、混合蒸着において、上述の問題の生ずること
の々い蒸着装置、すなわち、低温蒸発源が高温蒸発源の
影響を受けることなく温度および蒸発を制（資）され、
均一な混合比が得られて１層別蒸着することもない蒸着
装置を提供するものである。
の々い蒸着装置、すなわち、低温蒸発源が高温蒸発源の
影響を受けることなく温度および蒸発を制（資）され、
均一な混合比が得られて１層別蒸着することもない蒸着
装置を提供するものである。
本発明の蒸着装置は、それぞれ加熱源を有して互に蒸発
温度の異なる蒸着物質を収容する複数の蒸発源を備え、
それら蒸発源の上方に設けた開口から蒸着物質蒸気を放
出させて開口の上方にある被蒸着体に蒸着させる装置で
あって、高い蒸発温度の一発源が上方に、低い蒸発温度
の蒸発源がその下方罠配設されていることを特徴として
）す、かかる構成によって混合蒸着における前述の問題
を解消して−るのである。
温度の異なる蒸着物質を収容する複数の蒸発源を備え、
それら蒸発源の上方に設けた開口から蒸着物質蒸気を放
出させて開口の上方にある被蒸着体に蒸着させる装置で
あって、高い蒸発温度の一発源が上方に、低い蒸発温度
の蒸発源がその下方罠配設されていることを特徴として
）す、かかる構成によって混合蒸着における前述の問題
を解消して−るのである。
以下、本発明を図面に基づいて説明する。
第１図および第２図は本発明の蒸着装置の一例を示す要
部縦断側面図および部分平面図、第３図および第参図は
それぞれ他の例を示す縦断側面図、第３図は蒸着実施例
に用いた装置の縦断側面図であり、第１図乃至第１図は
いずれも蒸気発生放出部分を示している。
部縦断側面図および部分平面図、第３図および第参図は
それぞれ他の例を示す縦断側面図、第３図は蒸着実施例
に用いた装置の縦断側面図であり、第１図乃至第１図は
いずれも蒸気発生放出部分を示している。
図において、ｉ、ｉ’は高温蒸発源、コは低温蒸発源、
３は高温蒸発源／ 、 ／’の加熱源として内壁面に設
けた抵抗加熱体、参は低温蒸発源２の加熱源、参′は低
温蒸発源コの凝結防止用、あるいはさらに、高温蒸発＠
ｌ、ｔ’の補助加熱用の加熱源、ｊは高温蒸発源ｌの蒸
気放出開口、６は低温蒸発源コの蒸気放出開口、７は高
温蒸発源／、ｌ′と低温蒸発源２に共通の蒸気放出開口
、ｌは低温蒸発源λの突沸防止板、９は低温蒸発１１２
の温度制御用熱電対であ抄、第３図、第ダ図でも温度制
御用熱電対は用いられており、また図示してぃな−が、
高温蒸発源／、ｌ’に対してもそれぞれ温度制御用熱電
対は用いられ−て−る。。
３は高温蒸発源／ 、 ／’の加熱源として内壁面に設
けた抵抗加熱体、参は低温蒸発源２の加熱源、参′は低
温蒸発源コの凝結防止用、あるいはさらに、高温蒸発＠
ｌ、ｔ’の補助加熱用の加熱源、ｊは高温蒸発源ｌの蒸
気放出開口、６は低温蒸発源コの蒸気放出開口、７は高
温蒸発源／、ｌ′と低温蒸発源２に共通の蒸気放出開口
、ｌは低温蒸発源λの突沸防止板、９は低温蒸発１１２
の温度制御用熱電対であ抄、第３図、第ダ図でも温度制
御用熱電対は用いられており、また図示してぃな−が、
高温蒸発源／、ｌ’に対してもそれぞれ温度制御用熱電
対は用いられ−て−る。。
本発明の蒸着装置は１図示のように、蒸発温度の高い蒸
着物質Ｈ，Ｈ’をそれぞれ収容する高温蒸発源側、７′
を、被蒸着体に近い上方に配置し、それら■、Ｈ′より
蒸発温度が低い蒸着物質りを収容する低温蒸発源コを、
高温蒸発源／、 、 ／’の下方に配置しているから、
高温蒸発源／ 、 ／’と低温蒸発１ｌｌ−の温度差が
大きくても、高温蒸発ｊｌ ｔ 、 ｔ’の温度が低温
蒸発Ｈコに殆んど影響せず、したがって、高温蒸発源／
、 ／’と低温蒸発源−を、それぞれ迅速正確に、温
度および蒸発制御することができる。そして、第１図に
見るように、高温蒸発源ｌと低温蒸発源２とを完全に区
分して、それぞれの蒸気放出開口ｊとｔを別個に設けた
場合には、低温蒸発Ｒ２の蒸気放出開口６を高温蒸発Ｉ
ＩＩＩｌの蒸気放出開口ｊを挾むように設けることがで
きるし、また、第３図および第参図に見るように、高温
蒸発源ｉ、ｉ’を低温蒸発源コの器壁内に設けたような
場合には、それらの蒸発源に共通に蒸気放出量ロアを設
けることができるから、極めて高い混合状態で混合比の
安定し先混合蒸着を可能にする。すなわち、本発明によ
れば、第３図、第ダ図に示し企ように、高温蒸発Ｒ／、
／’と低温蒸発源側の蒸気放出開口を共通にするようＫ
しても、高温蒸発源／ 、 ／’が共通の蒸気放出量ロ
アに近い位置を占めることＫなるから、高温蒸発Ｒ１，
／′からの蒸気は速かに低温蒸発源λかもの蒸気と共に
放出され、高温蒸発源／ 、 ／’からの蒸気が低温蒸
発源コ側で凝結するような問題を起すことはない。
着物質Ｈ，Ｈ’をそれぞれ収容する高温蒸発源側、７′
を、被蒸着体に近い上方に配置し、それら■、Ｈ′より
蒸発温度が低い蒸着物質りを収容する低温蒸発源コを、
高温蒸発源／、 、 ／’の下方に配置しているから、
高温蒸発源／ 、 ／’と低温蒸発１ｌｌ−の温度差が
大きくても、高温蒸発ｊｌ ｔ 、 ｔ’の温度が低温
蒸発Ｈコに殆んど影響せず、したがって、高温蒸発源／
、 ／’と低温蒸発源−を、それぞれ迅速正確に、温
度および蒸発制御することができる。そして、第１図に
見るように、高温蒸発源ｌと低温蒸発源２とを完全に区
分して、それぞれの蒸気放出開口ｊとｔを別個に設けた
場合には、低温蒸発Ｒ２の蒸気放出開口６を高温蒸発Ｉ
ＩＩＩｌの蒸気放出開口ｊを挾むように設けることがで
きるし、また、第３図および第参図に見るように、高温
蒸発源ｉ、ｉ’を低温蒸発源コの器壁内に設けたような
場合には、それらの蒸発源に共通に蒸気放出量ロアを設
けることができるから、極めて高い混合状態で混合比の
安定し先混合蒸着を可能にする。すなわち、本発明によ
れば、第３図、第ダ図に示し企ように、高温蒸発Ｒ／、
／’と低温蒸発源側の蒸気放出開口を共通にするようＫ
しても、高温蒸発源／ 、 ／’が共通の蒸気放出量ロ
アに近い位置を占めることＫなるから、高温蒸発Ｒ１，
／′からの蒸気は速かに低温蒸発源λかもの蒸気と共に
放出され、高温蒸発源／ 、 ／’からの蒸気が低温蒸
発源コ側で凝結するような問題を起すことはない。
なお、第ダ図は、高温蒸発源／、／’の蒸着物質１（、
Ｈ’が同じ蒸発温度のものである場合も、それらの間に
多少の温度差がある場合も示している。
Ｈ’が同じ蒸発温度のものである場合も、それらの間に
多少の温度差がある場合も示している。
この第す図から類推されるように、蒸発温度の高ψ蒸着
物質に対して蒸発温度の低い蒸着物質が２ｍ類あって、
しかも、それらの間の温度差はそれ程大きくないような
場合は、例えば第３図で二点鎖線によ抄示したように１
隔壁を設けて低温蒸発源を２個設けてもよい。
物質に対して蒸発温度の低い蒸着物質が２ｍ類あって、
しかも、それらの間の温度差はそれ程大きくないような
場合は、例えば第３図で二点鎖線によ抄示したように１
隔壁を設けて低温蒸発源を２個設けてもよい。
また、第１図に示したように、高温蒸発源ｌと低温蒸発
源コを完全に区分して、それぞれの蒸気放出開口よと６
が別個に設けられている場合、それら蒸気放出開口ｊ、
Ｇの方向を被蒸着体の表両、あるーはそれよりも手前で
交叉するように設けることは、混合を均一にする上で効
果がある。第１図の高温蒸発［／の蒸気放出開口ｊを挾
んで設けられた低温蒸発［コの蒸気放出開口ぶはそのよ
うか方向を向いている。
源コを完全に区分して、それぞれの蒸気放出開口よと６
が別個に設けられている場合、それら蒸気放出開口ｊ、
Ｇの方向を被蒸着体の表両、あるーはそれよりも手前で
交叉するように設けることは、混合を均一にする上で効
果がある。第１図の高温蒸発［／の蒸気放出開口ｊを挾
んで設けられた低温蒸発［コの蒸気放出開口ぶはそのよ
うか方向を向いている。
なお、高温蒸発源と低温蒸発源を完全に区分した場合も
、第１図の例に限らず、低温蒸発源の蒸気放出口を高温
蒸発源の蒸気放出開口の片側だけに設けるようにしても
よい。その場合も、−蒸気放出開口の方向を交叉するよ
うにすることによって 。
、第１図の例に限らず、低温蒸発源の蒸気放出口を高温
蒸発源の蒸気放出開口の片側だけに設けるようにしても
よい。その場合も、−蒸気放出開口の方向を交叉するよ
うにすることによって 。
混合均一の効果を上げることができる。
また、第１図は高温蒸発源ｌの蒸気放出開口ｊが円孔の
配列より）す、低温蒸発源コの蒸気放出開口≦がスリッ
ト状よりなる例を示しているが、それに限られるもので
はなく、被蒸着体の形状、あるいは被蒸着体が静止蒸着
されるのか、送り蒸着されるのか郷によっても、変更さ
れ得るものであることは勿論である。
配列より）す、低温蒸発源コの蒸気放出開口≦がスリッ
ト状よりなる例を示しているが、それに限られるもので
はなく、被蒸着体の形状、あるいは被蒸着体が静止蒸着
されるのか、送り蒸着されるのか郷によっても、変更さ
れ得るものであることは勿論である。
実施例
第５図の蒸着装置すなわち、ペルジャーｌθ内の上方に
、回転軸／／ ［よって回転され、周囲の空隙ｌλに温
水が導入されて一定温度に保持されるドラム状基体１３
を配置し、その下方には、第１図に示した蒸気発生放出
部分を配置した蒸着装置を用い、ペルジャーｌｏ内は、
バルブ／４Ｉを設けた排気路１３を介して、図示しない
真空ポンプにより、／Ｉｆ”〜／ｆ’ ｔｏｒｒの真空
とし、蒸気発生放出部分のアンチモノを仕込んだ高温蒸
発源ｌは、その抵抗加熱体３にｌＯＯ〜コＯＯムの高電
流を流して、アンチモノをＳｔＯ℃で蒸発させ、セレン
を仕込んだ低温蒸発源コは、遠赤外ヒータの加熱源ａ
、ｌによりセレンを３００″Ｃで蒸発させた。ドラム状
基体／ＪＦｉアルミニウム製で、１５ｒｐｍで回転し、
７ｊ’Ｃ［保持された。そして、ドラム状基体１３０表
面ＫｔＯμの厚さでセレン・アセチレンの混合層を蒸着
し、感光体を得た。この感光体を小西六゛写真工業社製
複写機Ｕ−ＢｉｘＵに装着し、複写テストを行った結果
は、１０万回複写においても初回の複写と変らない高品
質の複写像を得ることができた。
、回転軸／／ ［よって回転され、周囲の空隙ｌλに温
水が導入されて一定温度に保持されるドラム状基体１３
を配置し、その下方には、第１図に示した蒸気発生放出
部分を配置した蒸着装置を用い、ペルジャーｌｏ内は、
バルブ／４Ｉを設けた排気路１３を介して、図示しない
真空ポンプにより、／Ｉｆ”〜／ｆ’ ｔｏｒｒの真空
とし、蒸気発生放出部分のアンチモノを仕込んだ高温蒸
発源ｌは、その抵抗加熱体３にｌＯＯ〜コＯＯムの高電
流を流して、アンチモノをＳｔＯ℃で蒸発させ、セレン
を仕込んだ低温蒸発源コは、遠赤外ヒータの加熱源ａ
、ｌによりセレンを３００″Ｃで蒸発させた。ドラム状
基体／ＪＦｉアルミニウム製で、１５ｒｐｍで回転し、
７ｊ’Ｃ［保持された。そして、ドラム状基体１３０表
面ＫｔＯμの厚さでセレン・アセチレンの混合層を蒸着
し、感光体を得た。この感光体を小西六゛写真工業社製
複写機Ｕ−ＢｉｘＵに装着し、複写テストを行った結果
は、１０万回複写においても初回の複写と変らない高品
質の複写像を得ることができた。
第１図および第２図は本発明の蒸着装置の一例を示す要
部縦断側面図および部分平面図、第３図および第ｖ図は
それぞれ他の例を示す縦断側面図、第５図は蒸着実施例
に用いた蒸着装置の縦断側面図である。 ／、ｌ′・・・高温蒸発源、 コ・・・低温蒸発源、３
・・・抵抗加熱体、 １，４Ｚ’・・・加熱源、
ｊ、ｔ、７・・・蒸気放出開口、 ！・・・突沸防止板、 ９・−・熱電対、１０・・
・ペルジャー、１３・・・ドラム基体、ｌり・・・パル
プｓ ／ｊ・・・排気路、Ｈ，Ｈ’、Ｌ・・・
蒸着物質。 特許出願人 小西六写真工業株式会社 第３図 第４図
部縦断側面図および部分平面図、第３図および第ｖ図は
それぞれ他の例を示す縦断側面図、第５図は蒸着実施例
に用いた蒸着装置の縦断側面図である。 ／、ｌ′・・・高温蒸発源、 コ・・・低温蒸発源、３
・・・抵抗加熱体、 １，４Ｚ’・・・加熱源、
ｊ、ｔ、７・・・蒸気放出開口、 ！・・・突沸防止板、 ９・−・熱電対、１０・・
・ペルジャー、１３・・・ドラム基体、ｌり・・・パル
プｓ ／ｊ・・・排気路、Ｈ，Ｈ’、Ｌ・・・
蒸着物質。 特許出願人 小西六写真工業株式会社 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 それぞれ加熱源を有して互に蒸発温度の異なる蒸
着物質を収容する複数の蒸発源を備え、それら蒸発源の
上方に設けた開口から蒸着物質蒸気を放出させて開口の
上方にある被蒸着体に蒸着させる装置であって、高−蒸
発温度の蒸発源が上方に、低い蒸発温＊０蒸発源がその
下方に配設されていることを特徴とする蒸着装置。 ２ 前記開口が前記複数の蒸発ｆｆ１Ｋ−ｚ−で共通で
ある特許請求の範囲第１現記戦の蒸着装置。 五 前記開口が前記複数の蒸発源のそれぞれについて設
けられてお９、且つ、それらが互いに近接している特許
請求の範囲第１１［記載の蒸着装置。 ４ 前記ＩＩ数の蒸発源のそれぞれにつ−で設けられた
開口の方向が互いに交叉する方向に向つでいる特許請求
の範囲第３項記載の蒸着装置。 ５ 低い蒸発温度の蒸発源についての開口が高い蒸発温
度の蒸発源についての開口を挾むように設けられている
特許請求の範囲第５項または第４項記載の蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14782181A JPS5915986B2 (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14782181A JPS5915986B2 (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | 蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5852479A true JPS5852479A (ja) | 1983-03-28 |
| JPS5915986B2 JPS5915986B2 (ja) | 1984-04-12 |
Family
ID=15438984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14782181A Expired JPS5915986B2 (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5915986B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1010720A3 (fr) * | 1996-10-30 | 1998-12-01 | Centre Rech Metallurgique | Procede et dispositif pour revetir en continu un substrat en mouvement au moyen d'un alliage metallique en phase vapeur. |
-
1981
- 1981-09-21 JP JP14782181A patent/JPS5915986B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1010720A3 (fr) * | 1996-10-30 | 1998-12-01 | Centre Rech Metallurgique | Procede et dispositif pour revetir en continu un substrat en mouvement au moyen d'un alliage metallique en phase vapeur. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5915986B2 (ja) | 1984-04-12 |
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