JPS59124892A - 光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記Q、媒
体に関する。
体に関する。
先行技術
光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出しヘッドか
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。
このような光記録媒体のうち、暗室による画像処理が不
要である等の点で、ヒートモート光記録媒体の開発が活
発になっている。
要である等の点で、ヒートモート光記録媒体の開発が活
発になっている。
このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その1例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形感して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して読
み出しを行うものかある。
用する光記録媒体であり、その1例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形感して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して読
み出しを行うものかある。
そして、このようなピット形成型の媒体の1例として、
基体上に、光吸収色素からなる記録層?設層して、色素
を融解してピットを形成するものや、ニ]・ロセルロー
ス等の自己醇化性化合物と光吸収色素とを含む記録層を
設層し、二]・ロセルロースこ9を分解させてピントを
形成するものや、熱iif塑性樹脂と光吸収色素とから
なる記録層を塗設し、樹脂および色素を融解してピント
を形成するものなどが知られている。
基体上に、光吸収色素からなる記録層?設層して、色素
を融解してピットを形成するものや、ニ]・ロセルロー
ス等の自己醇化性化合物と光吸収色素とを含む記録層を
設層し、二]・ロセルロースこ9を分解させてピントを
形成するものや、熱iif塑性樹脂と光吸収色素とから
なる記録層を塗設し、樹脂および色素を融解してピント
を形成するものなどが知られている。
しかし、このような色素または色素組成物を、塗膜とし
て、特に、古き込み光および読み出し光に対し透明な樹
脂製の基体」二に、記録層として設層して、特に、基体
寞面側から書き込みおよび読み出しを行うようなときに
は、塗膜設層の際の塗面溶媒により樹脂基体表面がおか
され、記録層の反射率が低下し、読み出しのS/N比か
十分、′、r+ <とれないという欠点がある。
て、特に、古き込み光および読み出し光に対し透明な樹
脂製の基体」二に、記録層として設層して、特に、基体
寞面側から書き込みおよび読み出しを行うようなときに
は、塗膜設層の際の塗面溶媒により樹脂基体表面がおか
され、記録層の反射率が低下し、読み出しのS/N比か
十分、′、r+ <とれないという欠点がある。
また長期保存に際し、色素その他の添加物が基板樹脂中
へ溶解拡散してしまい、反射率が低下してしまうおそれ
がある。
へ溶解拡散してしまい、反射率が低下してしまうおそれ
がある。
II 発明の目的
本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、樹脂製の基体」−に、色素または
色素組成物の塗膜からなる記録層を形成してなる光記録
媒体において、読み出しのS/N比を向」ニせんとする
ものである。
、その主たる目的は、樹脂製の基体」−に、色素または
色素組成物の塗膜からなる記録層を形成してなる光記録
媒体において、読み出しのS/N比を向」ニせんとする
ものである。
このような目的は、以下の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、
樹脂製の基体上に、Zrキレート化合物またはAtキレ
ート化合物の加水分解物塗膜からなる下地層・を有し、
この下地層上に、色素または色素組成物の塗膜からなる
記録層を有することを1徴とする光記録媒体である。
ート化合物の加水分解物塗膜からなる下地層・を有し、
この下地層上に、色素または色素組成物の塗膜からなる
記録層を有することを1徴とする光記録媒体である。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具坏的荷成について評細に説明する。
不発明の光記録1す(体の記録ノー甲には、色素が含有
される。
される。
用いる色素には、行に制限はな(、カルボシアニン示、
フタロシア二〕系、ナフタロシアニン糸、コリンないし
コロール糸、アノトラジノン糸、アゾ糸、トリフェニル
メタンX々、ビリリウムないしチアピリリウム塩基等の
8糸はいずれも使用”JT尼である。
フタロシア二〕系、ナフタロシアニン糸、コリンないし
コロール糸、アノトラジノン糸、アゾ糸、トリフェニル
メタンX々、ビリリウムないしチアピリリウム塩基等の
8糸はいずれも使用”JT尼である。
ただ、このような中で、本釦明による効果が大きいのは
、カルボシアニン色素である。
、カルボシアニン色素である。
カルボシアニン色素の中では下記式〔工〕で示されるも
のが好ましい。
のが好ましい。
式〔工〕
Φ−t=V (X−)m
上記式(I)において、1およびψは、芳香族環、例え
ばべ/ゼン環、ナフタレン環、フエナントレンノ泉等か
、陥合してもよいインドール庫、チアゾール腺、オキサ
ゾール環、セレナゾール腺、イミタゾール煉、ピリジン
塊尋乞おられす。
ばべ/ゼン環、ナフタレン環、フエナントレンノ泉等か
、陥合してもよいインドール庫、チアゾール腺、オキサ
ゾール環、セレナゾール腺、イミタゾール煉、ピリジン
塊尋乞おられす。
これらψおよびytは、1r」」−でも異なっていても
よいが、通常は同一のものであり、これらの腺には、J
l土々の直侯基力)力盾合していてもよい。 なゴロ、
Φは、腺中の(糸原子が十′蝿介f′f!::もち、φ
は、塩中の屋糸原子が甲・匠のものである。
よいが、通常は同一のものであり、これらの腺には、J
l土々の直侯基力)力盾合していてもよい。 なゴロ、
Φは、腺中の(糸原子が十′蝿介f′f!::もち、φ
は、塩中の屋糸原子が甲・匠のものである。
これらΦおよびVの骨格環としては、下記の式〔ψ工〕
〜〔Qx′v〕で示されるものであることが好ましい、 なお、下記においては、侮、直はΦのプレで示される。
〜〔Qx′v〕で示されるものであることが好ましい、 なお、下記においては、侮、直はΦのプレで示される。
(It4)9
R□
〔ΦIV、]
(”4)q
1
l(
(R4)q
(1′t4)p kt□
〔ψ■〕
≦
ル、
このような各41環において、域中の窒素原子(イミダ
ゾール環では2個の窒素原子)に結合する基に□(R□
、R工′)は、置換または非置換のアルキル基またはア
リール基である。
ゾール環では2個の窒素原子)に結合する基に□(R□
、R工′)は、置換または非置換のアルキル基またはア
リール基である。
このような域中の窒素原子に詰合する基R□* R0’
の炭素原子数には特に1削限はない。
の炭素原子数には特に1削限はない。
また、とのかがさらに置換基を有するものである場合、
置換基としては、スルホン数基、アルキルカルボニルオ
キシ基、アルキルアミド丞、アルキルスルホンアミド恭
、アルコキシオキシ澁、アルキルアミノ基、アルギルカ
ルバモイル基、アルキルスルファモイル基、水酸基、ハ
ロゲン原子等いずれであってもよ(′−0 なお、伎述のInかOである場合、Φ中の窒素原子に詰
合する基it工ば、置換アルキルまたは了り−ル基であ
り、かつ−電イ1ηケもつ。
置換基としては、スルホン数基、アルキルカルボニルオ
キシ基、アルキルアミド丞、アルキルスルホンアミド恭
、アルコキシオキシ澁、アルキルアミノ基、アルギルカ
ルバモイル基、アルキルスルファモイル基、水酸基、ハ
ロゲン原子等いずれであってもよ(′−0 なお、伎述のInかOである場合、Φ中の窒素原子に詰
合する基it工ば、置換アルキルまたは了り−ル基であ
り、かつ−電イ1ηケもつ。
さらに、Φおよびグの塊が縮脅1項いし非縮合のインド
ール@(式〔Φ工〕〜〔ΦIV))である場合、その3
位には、2つの置換基kt3.ii。
ール@(式〔Φ工〕〜〔ΦIV))である場合、その3
位には、2つの置換基kt3.ii。
が結合することが好ましい。 この場合、3位に結合す
る2つのは快基R,+’ a、、としてはアルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい。 そして、これ
らのうちでは、炭素原子jcy、1または2、特に1の
非置換アルキル基であることか好ましい。
る2つのは快基R,+’ a、、としてはアルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい。 そして、これ
らのうちでは、炭素原子jcy、1または2、特に1の
非置換アルキル基であることか好ましい。
一万、Φ5dよびIで衣わされる環中の所定の位置には
、さらに電の直換基R,が結合していてもよい。 この
ような直= 、4Wとしては、゛アルセル基、アII−
ル基、核素蝶浅基、ハロケンJ、iX子、アルコキシ基
、つ′ルキルチオ基、アルギルオキシカルボニル基、ア
ルキルカルボニルオキシ基、カルボンに基等祉々の置換
ハであってよい。 そして、これらのil FA =の
数(p、q、r、s、t)は、通常、0または1〜41
=gとされる。 なお、 p、 q、 r、 s、t
か2以上であるとき、FJt FOR4は互いに異なる
ものであってよい。
、さらに電の直換基R,が結合していてもよい。 この
ような直= 、4Wとしては、゛アルセル基、アII−
ル基、核素蝶浅基、ハロケンJ、iX子、アルコキシ基
、つ′ルキルチオ基、アルギルオキシカルボニル基、ア
ルキルカルボニルオキシ基、カルボンに基等祉々の置換
ハであってよい。 そして、これらのil FA =の
数(p、q、r、s、t)は、通常、0または1〜41
=gとされる。 なお、 p、 q、 r、 s、t
か2以上であるとき、FJt FOR4は互いに異なる
ものであってよい。
なお、これらのうちでは式〔ψ■〕〜〔Φ■〕の縮合な
いし非綿合のインドール環を有するものが好ましい。
これらは、嘘膜性、安矩任にすぐれ、きわめて商い反射
率を示し、ωもみ出しのC/N比かきわめて高くなるか
らである。
いし非綿合のインドール環を有するものが好ましい。
これらは、嘘膜性、安矩任にすぐれ、きわめて商い反射
率を示し、ωもみ出しのC/N比かきわめて高くなるか
らである。
電万、Lは、七ノ、シ、トリまたはテトラカルホ・ンア
ニ7色糸を形JJZするためσン遵結ハを衣わ−tが、
特に式(i、r))〜〔L■〕のいづ゛ハフかで゛かる
ことかiイよしい。
ニ7色糸を形JJZするためσン遵結ハを衣わ−tが、
特に式(i、r))〜〔L■〕のいづ゛ハフかで゛かる
ことかiイよしい。
式〔LI〕
Cl−1= CH−CH= Cl−1−C= CH−C
4−1−= C1−1−CD量 八[i、 n :] Cti = C1」−Ctl
= C−CH= C11−CH式r−LV〕 式[Lw] C14=CH−C=CH−CH式[LJX
すi ]]C1−1−C= CD −CHここにYば、
水素原子または1価の基を表わす。 ことノ)tJ合
、1仙1のノ市としては、メチル基等の低歓アルキル是
、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ基
、ジフェニルアミノ基、メチルフ呈ニルアミノ基、モル
ホリノ基、イミタゾリジン基、エトキシカルボニルピベ
ラジ7基などのジ置換アミノ基、アセトキシ基等のアル
キルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキルチ
オ基、シアン基、ニトロ基、br、ct等のハロゲンI
j、に子などで、bることか好ましい。
4−1−= C1−1−CD量 八[i、 n :] Cti = C1」−Ctl
= C−CH= C11−CH式r−LV〕 式[Lw] C14=CH−C=CH−CH式[LJX
すi ]]C1−1−C= CD −CHここにYば、
水素原子または1価の基を表わす。 ことノ)tJ合
、1仙1のノ市としては、メチル基等の低歓アルキル是
、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ基
、ジフェニルアミノ基、メチルフ呈ニルアミノ基、モル
ホリノ基、イミタゾリジン基、エトキシカルボニルピベ
ラジ7基などのジ置換アミノ基、アセトキシ基等のアル
キルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキルチ
オ基、シアン基、ニトロ基、br、ct等のハロゲンI
j、に子などで、bることか好ましい。
なお、これら式〔L■〕〜〔L■〕の中では、トリカル
ポジ゛i゛ニノ連結基、特に式〔LII〕、〔LIll
〕が好ましい。
ポジ゛i゛ニノ連結基、特に式〔LII〕、〔LIll
〕が好ましい。
さらに、X−は陰イオンであり、その好ましい例として
は、I 、 Nr−1C604−1BF4−1挙げる
ことができる。
は、I 、 Nr−1C604−1BF4−1挙げる
ことができる。
なお、mは0または1であるが、mが0であるときには
、通電、φの曵が一゛Ia1iiをもち、分子内地とな
る1、 次に1本発明の光吸収色系の具体例を4げろカ、不発明
はこれらのみに限定されるものではない。
、通電、φの曵が一゛Ia1iiをもち、分子内地とな
る1、 次に1本発明の光吸収色系の具体例を4げろカ、不発明
はこれらのみに限定されるものではない。
色素陽 Φ2重 R,、R,R2、R3R4DI
(ΦI) CH3CH3−D2
(ΦI 〕 CR3CR3−D3
(ΦI) C2H5、CH3−D4
(ΦI) (CH2)3 sO3:
CH3−’ (CH2)3 SO3Na D5 (ΦIl) CH3CH3−
D6 CΦm:] (CH2)3 30
3 Z CH3−’ (CH2)3 S0
3 Na+ ・ HN (C2H5)3 D8 (Φm) C2H5CH3−
D9 (Φm) (CH2)3 0C
OCH3CH3−Dlo 〔Φl C
H3CH3−Dll (Om)、 C
)(3C1(3−L
Y X(LII)
HI(Lll)
HC104(LIII) −NZ Ca
H& CI Oft\C8R5 (LXX″l H−(LII)
HC104(L II ’l
H−一(LIT)
HBF4(Lm) −N/Cs R5C
104\cs R5 (Lll) HCl0a(Lll
、] HI′OX2 〔ΦI’)
C17H3,CH3D13 〔ΦI ) C
4H9CH3D14 〔Φ■〕 C3H1←COCH
5CH3D15 〔ΦI) C7H14CH20H
CH3D1G 〔ΦI■〕C3H17CH3 D18 〔Φm〕 l/
CH3D1つ 〔Φm〕 C7H14COOC2H
5CH2CH2 D20 [:Om) C5H,、D21 〔Φ
III) C,R37CH3D22 〔Φm)
C8H17CH3D23 〔ΦI) CHCOO
CH3CH3734 (L H) ’ HI−(Lll)
HCIO/1(Lm)
、/ Cs Hs Cl 04\C6R5 −(LII) HI−= (L
ll) HC104(LII:]
H−(LII)
HBF4(Lm) −N/C6R5CI
O4\c、、R5 −(Lll) HCl 04−
(LII) HI−(Lll’l
HID24 〔ΦI) C8
H,60COCHQ CH3D25 〔ΦI
) Cs Hl 7 C2H
5D26 〔ΦI’l C7H,5c2H5D27
〔ΦII ) CHCOOCH3CH3734 D28’ (ΦII) CHCH0COCH
CH381ft2 3 D29 〔Φ■I〕 C17H35CH3D30 〔
ΦID C7H14COOCH,C2H5D3]
(Φm″J C7H14CH20HCH3D3
2 (cDIII:] CHCH0COC2H
5CH37142 D33 (Om″l C)(Coo(、H5C
H3734 D34 〔Φm〕 C17H35CH3D35 〔
Φm ) C7H15C2H5(Lm)
N/cs H5■\c6 H5 −(LII) HI−(Ll
l″l HI−(LII)
HClO41−一\ −〔Lm〕 −N N−COOC2H5’\−−
−/ (L rV :l N N COOC:
2H5CI O4/−m−\ \−−/ −CLII) HClO4−
(LII) HCl04−1
:LII) HI(L m
’1 N / Ca H5−I\C6H
5 −(LIV〕 HI−〔L■■
〕 HエCH3− D36 〔Φ■〕 C7H15 CH3− D37 〔ΦTV) C7H5 CH3− D38 〔Φ■〕 C17H35 CH3− D39 (4)IV) C1゜H34CH20C
OCH3−CH5 D40 〔ΦV) C2H3 D41〔ΦV″l CH,4−CH5D42 〔ΦV
l ) C2H5−CI D43 〔Φ■’] C2Hs 5− OCH3 D44 〔Φ■〕 C2H5 −0CH3 D45 〔ΦVl) C2H5(s−o。H3D4
6 〔ΦVT ) C2H5 D47 〔Φ■〕 C2H5 −(LII) HI −(Lll) HC104 (LII) M Cl04−(LI
I) HI −(I、TI′]HI −(Lll) HI −(LIT) HC104 (LIII) N(C6H5)2 Cl0a−
(LII) HI −[:LII) )(I [:LIV) ”−(L I
I) HI D48 〔ΦVf) C2H5□ −D49
〔Φ■〕 C2H3 D50 〔Φ■〕 C2H3 D51 〔Φ■〕 C2H3 D52 〔Φ■〕 C2H3 D53 〔Φ■) (CH2) 30COCH3−
−D54 [:ΦVl) CH2CH20H5−
Cl −D55 〔Φ■〕 C2H3 D56 〔Φ■〕 C2H3 D57 〔ΦIX) C2H3 D58 〔Φ■〕 C2H3 D59 〔ΦX) C2H3 (LI:] HC104(LII)
CH3I(L V:I
HI(LV) HI (LVI)
I(Lm) N (C6Hs ) 2
C104(LIT) HCl0
4(Lll) HC104(LrI
) HI 〔LIII)8口)C00C2H5°1104(L’l
OCH3I(LTI)
HI D80 〔ΦX″l CH2CH20HD61 〔Φ
刈〕 C2H3 D62 〔Φ創 (CH2)30COCH3D63 〔
Φ虐〕 C2H3 D64〔ΦXll1)CH2CH2CH2S○3H−D
65 〔Φ店〕 C2H3 D66 〔Φ弾〕 C2H3 D67 〔Φ双〕 C2H5 −CH D68 〔ΦVI) C3H17D69 〔Φ■
〕 Cl8H37 D70 〔Φ■〕 C8H17 −CI D71 (ΦVl)” 8H17 −(LII) HCl0a −(LII) HI −(Lll) HI CLIII) N (C8H5)2 C1
C104(L N (C8H5)2 I
−(Ill) )(ClO4−(Lll)
HC1043−[:LII)
HI (LII) HClO4 −〔LI■〕HCl04 − (LII) HC104D72 〔
ΦVl) C,8H37b5−C1−5−OCH3
□ D73 (oVI) 08 HI7 (
6−OCH3D74〔ΦVl〕C3l(,75−OCH
3−D75 〔ΦVD C8H,5−C1−D76
〔Φ■〕Cl8H3□ 5−CI −D?
? 〔Φ■〕 C3H17 D78 〔ΦVT) C3H1□D79 〔
Φ■〕 C18H3□ 5
−C1−D80 〔ΦVI) C,8H375−C
I −D81 〔ΦVT) C3H1゜DB
P 〔Φ■〕 C3H17 D83 〔Φ■〕 C3H1□ (L II ) I(I (L II 〕HI (L IV ) −I (Lm) =N (Cs Hs) 2
C104(LIII) −N (Cs Hs )
2 C104(L 11 ) H
1 (LII) HC104 (LV’l ’ H1 (LVI) H工 〔L■) I□−〔
L D84 〔Φ■〕 C3H1□ □ −〔L D85 〔Φ■〕 Cl8H3□ D86〔Φ■〕C13H2□ −(L□−〔L D87 〔Φ■〕 C13H2□ D88〔Φ■〕C3H1゜ −−〔□−〔I D89 〔Φ■) C8H17 □−〔] D90 〔Φ■〕Cl8H37 □−〔 DSX CΦ■〕 C3H17 D92〔Φ■) CIsH3゜ −−一(□−〔 D93 (Φ刈) Cs H>□□−〔 D94 〔Φ刈〕 C3H1゜ □−〔 D85 〔Φ■〕 C3H1゜ III) N (Cs Hs ) 2
C104TI) HC,1O4 TI) HClO4 、II) H1 、■) OCR3I LXI) HI Lm″I N(C5H5)2 C104
LII) HC104 LII) )! ID9
6 〔Φ■) C13H275CI
−D97 〔Φ■〕 C3H17D98
〔Φ刈〕Cl8H37 D99 〔Φ落〕 C3H1□D100
(Φ双〕 C3H17D101 〔Φv
) C3H1゜D102 (Φ■〕
C3H1□DIQ3 (Φ双) C3
H1□(L II ) HI(L
m) N (Ca Hs ) 2
C10104(L N (C
a Hs ) 2 I(LII)
HC104(Lll:]
HClO4[:LTI)
HC104(LII)
HC104(LII〕 HClO4
このような色素は、大有機化学(朝食書店)含窒素複素
環化合物工 432ページ等に記載された方法に準じて
容易に合成することができる。
(ΦI) CH3CH3−D2
(ΦI 〕 CR3CR3−D3
(ΦI) C2H5、CH3−D4
(ΦI) (CH2)3 sO3:
CH3−’ (CH2)3 SO3Na D5 (ΦIl) CH3CH3−
D6 CΦm:] (CH2)3 30
3 Z CH3−’ (CH2)3 S0
3 Na+ ・ HN (C2H5)3 D8 (Φm) C2H5CH3−
D9 (Φm) (CH2)3 0C
OCH3CH3−Dlo 〔Φl C
H3CH3−Dll (Om)、 C
)(3C1(3−L
Y X(LII)
HI(Lll)
HC104(LIII) −NZ Ca
H& CI Oft\C8R5 (LXX″l H−(LII)
HC104(L II ’l
H−一(LIT)
HBF4(Lm) −N/Cs R5C
104\cs R5 (Lll) HCl0a(Lll
、] HI′OX2 〔ΦI’)
C17H3,CH3D13 〔ΦI ) C
4H9CH3D14 〔Φ■〕 C3H1←COCH
5CH3D15 〔ΦI) C7H14CH20H
CH3D1G 〔ΦI■〕C3H17CH3 D18 〔Φm〕 l/
CH3D1つ 〔Φm〕 C7H14COOC2H
5CH2CH2 D20 [:Om) C5H,、D21 〔Φ
III) C,R37CH3D22 〔Φm)
C8H17CH3D23 〔ΦI) CHCOO
CH3CH3734 (L H) ’ HI−(Lll)
HCIO/1(Lm)
、/ Cs Hs Cl 04\C6R5 −(LII) HI−= (L
ll) HC104(LII:]
H−(LII)
HBF4(Lm) −N/C6R5CI
O4\c、、R5 −(Lll) HCl 04−
(LII) HI−(Lll’l
HID24 〔ΦI) C8
H,60COCHQ CH3D25 〔ΦI
) Cs Hl 7 C2H
5D26 〔ΦI’l C7H,5c2H5D27
〔ΦII ) CHCOOCH3CH3734 D28’ (ΦII) CHCH0COCH
CH381ft2 3 D29 〔Φ■I〕 C17H35CH3D30 〔
ΦID C7H14COOCH,C2H5D3]
(Φm″J C7H14CH20HCH3D3
2 (cDIII:] CHCH0COC2H
5CH37142 D33 (Om″l C)(Coo(、H5C
H3734 D34 〔Φm〕 C17H35CH3D35 〔
Φm ) C7H15C2H5(Lm)
N/cs H5■\c6 H5 −(LII) HI−(Ll
l″l HI−(LII)
HClO41−一\ −〔Lm〕 −N N−COOC2H5’\−−
−/ (L rV :l N N COOC:
2H5CI O4/−m−\ \−−/ −CLII) HClO4−
(LII) HCl04−1
:LII) HI(L m
’1 N / Ca H5−I\C6H
5 −(LIV〕 HI−〔L■■
〕 HエCH3− D36 〔Φ■〕 C7H15 CH3− D37 〔ΦTV) C7H5 CH3− D38 〔Φ■〕 C17H35 CH3− D39 (4)IV) C1゜H34CH20C
OCH3−CH5 D40 〔ΦV) C2H3 D41〔ΦV″l CH,4−CH5D42 〔ΦV
l ) C2H5−CI D43 〔Φ■’] C2Hs 5− OCH3 D44 〔Φ■〕 C2H5 −0CH3 D45 〔ΦVl) C2H5(s−o。H3D4
6 〔ΦVT ) C2H5 D47 〔Φ■〕 C2H5 −(LII) HI −(Lll) HC104 (LII) M Cl04−(LI
I) HI −(I、TI′]HI −(Lll) HI −(LIT) HC104 (LIII) N(C6H5)2 Cl0a−
(LII) HI −[:LII) )(I [:LIV) ”−(L I
I) HI D48 〔ΦVf) C2H5□ −D49
〔Φ■〕 C2H3 D50 〔Φ■〕 C2H3 D51 〔Φ■〕 C2H3 D52 〔Φ■〕 C2H3 D53 〔Φ■) (CH2) 30COCH3−
−D54 [:ΦVl) CH2CH20H5−
Cl −D55 〔Φ■〕 C2H3 D56 〔Φ■〕 C2H3 D57 〔ΦIX) C2H3 D58 〔Φ■〕 C2H3 D59 〔ΦX) C2H3 (LI:] HC104(LII)
CH3I(L V:I
HI(LV) HI (LVI)
I(Lm) N (C6Hs ) 2
C104(LIT) HCl0
4(Lll) HC104(LrI
) HI 〔LIII)8口)C00C2H5°1104(L’l
OCH3I(LTI)
HI D80 〔ΦX″l CH2CH20HD61 〔Φ
刈〕 C2H3 D62 〔Φ創 (CH2)30COCH3D63 〔
Φ虐〕 C2H3 D64〔ΦXll1)CH2CH2CH2S○3H−D
65 〔Φ店〕 C2H3 D66 〔Φ弾〕 C2H3 D67 〔Φ双〕 C2H5 −CH D68 〔ΦVI) C3H17D69 〔Φ■
〕 Cl8H37 D70 〔Φ■〕 C8H17 −CI D71 (ΦVl)” 8H17 −(LII) HCl0a −(LII) HI −(Lll) HI CLIII) N (C8H5)2 C1
C104(L N (C8H5)2 I
−(Ill) )(ClO4−(Lll)
HC1043−[:LII)
HI (LII) HClO4 −〔LI■〕HCl04 − (LII) HC104D72 〔
ΦVl) C,8H37b5−C1−5−OCH3
□ D73 (oVI) 08 HI7 (
6−OCH3D74〔ΦVl〕C3l(,75−OCH
3−D75 〔ΦVD C8H,5−C1−D76
〔Φ■〕Cl8H3□ 5−CI −D?
? 〔Φ■〕 C3H17 D78 〔ΦVT) C3H1□D79 〔
Φ■〕 C18H3□ 5
−C1−D80 〔ΦVI) C,8H375−C
I −D81 〔ΦVT) C3H1゜DB
P 〔Φ■〕 C3H17 D83 〔Φ■〕 C3H1□ (L II ) I(I (L II 〕HI (L IV ) −I (Lm) =N (Cs Hs) 2
C104(LIII) −N (Cs Hs )
2 C104(L 11 ) H
1 (LII) HC104 (LV’l ’ H1 (LVI) H工 〔L■) I□−〔
L D84 〔Φ■〕 C3H1□ □ −〔L D85 〔Φ■〕 Cl8H3□ D86〔Φ■〕C13H2□ −(L□−〔L D87 〔Φ■〕 C13H2□ D88〔Φ■〕C3H1゜ −−〔□−〔I D89 〔Φ■) C8H17 □−〔] D90 〔Φ■〕Cl8H37 □−〔 DSX CΦ■〕 C3H17 D92〔Φ■) CIsH3゜ −−一(□−〔 D93 (Φ刈) Cs H>□□−〔 D94 〔Φ刈〕 C3H1゜ □−〔 D85 〔Φ■〕 C3H1゜ III) N (Cs Hs ) 2
C104TI) HC,1O4 TI) HClO4 、II) H1 、■) OCR3I LXI) HI Lm″I N(C5H5)2 C104
LII) HC104 LII) )! ID9
6 〔Φ■) C13H275CI
−D97 〔Φ■〕 C3H17D98
〔Φ刈〕Cl8H37 D99 〔Φ落〕 C3H1□D100
(Φ双〕 C3H17D101 〔Φv
) C3H1゜D102 (Φ■〕
C3H1□DIQ3 (Φ双) C3
H1□(L II ) HI(L
m) N (Ca Hs ) 2
C10104(L N (C
a Hs ) 2 I(LII)
HC104(Lll:]
HClO4[:LTI)
HC104(LII)
HC104(LII〕 HClO4
このような色素は、大有機化学(朝食書店)含窒素複素
環化合物工 432ページ等に記載された方法に準じて
容易に合成することができる。
すなわち、まず対応するΦ′−CH3(Φ′は前記Φに
対応する環を表わす。)を 過剰のR,I (R,はア
ルキル基またはアリール基)とともに加熱して、R】を
Φ′中の窒素原子に導入してΦ−CH5I−を得る。
次いて、これを不飽和ジアルデヒドとアルカリ触媒を用
いて脱水縮合すれはよい。
対応する環を表わす。)を 過剰のR,I (R,はア
ルキル基またはアリール基)とともに加熱して、R】を
Φ′中の窒素原子に導入してΦ−CH5I−を得る。
次いて、これを不飽和ジアルデヒドとアルカリ触媒を用
いて脱水縮合すれはよい。
このような色素は、単独で記録層を形成することもでき
る。
る。
あるいは樹脂とともに記録層を形成する。
用いる樹脂としては、自己酸化性のもの、あるいはf8
呵塑性樹脂が好適である。
呵塑性樹脂が好適である。
記録層に含有される自己醇化性の樹脂は、昇温したとき
、酸化的な分解を生じるものであるが、これらのうち、
特にニトロセルロースか好適である。
、酸化的な分解を生じるものであるが、これらのうち、
特にニトロセルロースか好適である。
また、熱可塑性樹脂は、記録光を吸収した色素の昇温に
より、軟化するものであり、熱可塑性樹脂としては、公
知の種々のものを用いることができる。
より、軟化するものであり、熱可塑性樹脂としては、公
知の種々のものを用いることができる。
これらのうち、特に好適に用いることができる熱可塑性
樹脂には、以下のようなものがある。
樹脂には、以下のようなものがある。
1)ポリオレフィン
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メチルペンテ
ン−1など。
ン−1など。
11)ポリオレフィン共重合体
例えば、エチレン−酢酸ヒニル共重合体、エチレン−ア
クリレート耐共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体
、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン−
1共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、エチ
レンプロピレンターポリマー(EFT)など。
クリレート耐共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体
、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン−
1共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、エチ
レンプロピレンターポリマー(EFT)など。
この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。
ができる。
1ii)塩化ビニル共重合体
例えば、 酢酸ビニル−塩イヒビ゛ニル共重合体、塩化
ビニル−塩化ビ゛二1ノデン共重合体、塩化ビニル−無
水マレイン酸共重合体、アクリル醇エステルないしメタ
アク1)ル酩エステルと塩化ビニルとの共重合体、アク
1ノルニトリル−塩化ビニル共重合体、塩イヒビ゛ニル
エーテル共重合体、エチレンな17XLフ0ロピレンー
11 化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビ゛ニル」(
重合体に塩化ビニルをグラフト重合したものなど。
ビニル−塩化ビ゛二1ノデン共重合体、塩化ビニル−無
水マレイン酸共重合体、アクリル醇エステルないしメタ
アク1)ル酩エステルと塩化ビニルとの共重合体、アク
1ノルニトリル−塩化ビニル共重合体、塩イヒビ゛ニル
エーテル共重合体、エチレンな17XLフ0ロピレンー
11 化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビ゛ニル」(
重合体に塩化ビニルをグラフト重合したものなど。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
iw)塩化ビニリデン共重合体
塩化ヒニリデンー塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アク1)ルニト))ル共重合体、塩化ビ
ニリデン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など
。
−塩化ビニル−アク1)ルニト))ル共重合体、塩化ビ
ニリデン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など
。
この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
。
。
■)ポリスチレン
vi)スチレン共重合体
例えば、スチレン−アクリルニトリル共重合体(AS樹
脂)、スチレン−アクリルニトリル−ブタジェン共重合
体(ABS樹脂)、−スチレン−無水マレイン酸共重合
体(SMA樹脂)、スチレン−アクリルエステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体(
SBR)、 スチし・ンー塩化ビニリデン共重合体、
スチレン−メチルメタアクリレート共重合体など。
脂)、スチレン−アクリルニトリル−ブタジェン共重合
体(ABS樹脂)、−スチレン−無水マレイン酸共重合
体(SMA樹脂)、スチレン−アクリルエステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体(
SBR)、 スチし・ンー塩化ビニリデン共重合体、
スチレン−メチルメタアクリレート共重合体など。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
vii)スチレン型重合体
例えば、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2
,5−ジクロルスチレン、α、β−ビニルナフタレン、
α−ビニルピリジン、アセナフテン、ビニルアントラセ
ンなど、あるいはこれらの共重合体、例えば、α−メチ
ルスチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体。
,5−ジクロルスチレン、α、β−ビニルナフタレン、
α−ビニルピリジン、アセナフテン、ビニルアントラセ
ンなど、あるいはこれらの共重合体、例えば、α−メチ
ルスチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体。
viii)クマロン−インデン樹脂
クマロ/−インデン−スチレンの単独または共重合体。
ix)テルペン樹脂ないしピコライト
例えは、α−ピネンからTeもれるリモネンの重合体で
あるテルペン樹脂やβ−ピネンかイJ1られるピコライ
ト。
あるテルペン樹脂やβ−ピネンかイJ1られるピコライ
ト。
+! )アクリル樹脂
特に下記式て示される原子団を含むものが好ましい。
式
%式%
上記式において、Rloは、水素原子またはアルキル基
を表わし、R2Oは、置換または非置換のアルキル基を
表わす。 この場合、−に記式において、R10は、水
素原子または炭素原子数1〜4の低級アルキル基、特に
水素原子またはメチル基であることが好ましい。
を表わし、R2Oは、置換または非置換のアルキル基を
表わす。 この場合、−に記式において、R10は、水
素原子または炭素原子数1〜4の低級アルキル基、特に
水素原子またはメチル基であることが好ましい。
また、R2Oは、置換、非置換いずれのアルキル基であ
ってもよいか、アルキル基の炭素J京子数は1〜4であ
ることが好ましく、またR2Oが1δ換アルキル基であ
るときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、
ハロゲン原子またはアミノ基(勃にジアルキルアミ/基
)であることが好ましい。
ってもよいか、アルキル基の炭素J京子数は1〜4であ
ることが好ましく、またR2Oが1δ換アルキル基であ
るときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、
ハロゲン原子またはアミノ基(勃にジアルキルアミ/基
)であることが好ましい。
このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよし)が、通常は、上記式で示される原子
団の1種または2種以上をくりかえし単位とする単独重
合体または共重合体を形成してアク1ノル樹脂を構成す
ることになる。′ xi)ポリアクリルニトリル xii)アクリルニトリル共重合体 例えば、アクリルニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リルニトリル−塩化ビ゛ニル共重合体、アクリルニトリ
ル−スチレン共重合体、アクリルニトリル−塩化ビニリ
デン共重合体、アクリルニトリル−ビニルピリジン共重
合体、アクリルニトリル−メタクリル酪メチル共重合体
、アクリルニ;・リルーブタジエン共重合体、アクリル
ニトリル−アクリル酸フチルへ重合体など。
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよし)が、通常は、上記式で示される原子
団の1種または2種以上をくりかえし単位とする単独重
合体または共重合体を形成してアク1ノル樹脂を構成す
ることになる。′ xi)ポリアクリルニトリル xii)アクリルニトリル共重合体 例えば、アクリルニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リルニトリル−塩化ビ゛ニル共重合体、アクリルニトリ
ル−スチレン共重合体、アクリルニトリル−塩化ビニリ
デン共重合体、アクリルニトリル−ビニルピリジン共重
合体、アクリルニトリル−メタクリル酪メチル共重合体
、アクリルニ;・リルーブタジエン共重合体、アクリル
ニトリル−アクリル酸フチルへ重合体など。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
区1ii)タ゛イアセトンアクリルアミドポリマーアク
リルニトリルにアセトンを作用させたダイアセトンアク
リルアミドポリマー。
リルニトリルにアセトンを作用させたダイアセトンアク
リルアミドポリマー。
xiv)ポリ酢酸ビニル
xv)酩酊ビニル共重合体
例えば、アクリル酸エステル、ビニルニー7 Ay、エ
チレン、塩化ビニル等との共重合体など。
チレン、塩化ビニル等との共重合体など。
共重合比は任意のものであってよい。
+1 v i )ポリビニルエーテル
例えば、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなど
。
。
xvii)ポリアミド
この場合、ポリアミドとしては、ナイロン6、ナイロン
66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン9、
ナイロン11、ナイロン12、ナイロン13等の通常の
ホモナイロンの他、ナイロン6/66、/610、ナイ
ロン6/66/12、ナイ′ロン6/66/11hJの
重合体や、場合によっては変性ナイロンであってもよい
。
66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン9、
ナイロン11、ナイロン12、ナイロン13等の通常の
ホモナイロンの他、ナイロン6/66、/610、ナイ
ロン6/66/12、ナイ′ロン6/66/11hJの
重合体や、場合によっては変性ナイロンであってもよい
。
xviii)ポリエステル
例えば、シュウ酪、コハク酸、マレイン酸、アジピン醸
、セへステン酸等の脂肪族二基ノ、(酸、あるいはイン
フタル酪、テレフタル酪などの芳香族二塩基酸などの各
種二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレング
リコール、ヘキサメチレンクリコール等のグリコール類
との縮合物や、共縮合物が好適である。 そして、これ
らのうちでは、特に脂肪族二1j、A)、(醇とグリコ
ール類との縮合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸と
の共縮合物は、特に好適である。
、セへステン酸等の脂肪族二基ノ、(酸、あるいはイン
フタル酪、テレフタル酪などの芳香族二塩基酸などの各
種二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレング
リコール、ヘキサメチレンクリコール等のグリコール類
との縮合物や、共縮合物が好適である。 そして、これ
らのうちでは、特に脂肪族二1j、A)、(醇とグリコ
ール類との縮合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸と
の共縮合物は、特に好適である。
さらに、例えば無水フタル酸とグリセリンとの縮合物で
あるグリプタル樹脂を、脂肋醇、天然樹脂等でエステル
化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される。
あるグリプタル樹脂を、脂肋醇、天然樹脂等でエステル
化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される。
X i 7. )ポリビニルアセクール系樹脂ポリビニ
ルアルコールを、アセクール化して+4られるポリビニ
ルホルマール、ポリビニルアセクール系樹脂はいずれも
好適に使用される。
ルアルコールを、アセクール化して+4られるポリビニ
ルホルマール、ポリビニルアセクール系樹脂はいずれも
好適に使用される。
この場合、ポリビニルアセクール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。
度は任意のものとすることができる。
xx)ポリウレタン樹脂
ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。
特に、グリコール類と、シイソシアネ−1・類との縮合
によって得られるポリウレタン樹脂、就中アルキレング
リコールとアルキレンジイソシアネートとの縮合によっ
てイ1)られるポリウレタン樹脂が好適である。
によって得られるポリウレタン樹脂、就中アルキレング
リコールとアルキレンジイソシアネートとの縮合によっ
てイ1)られるポリウレタン樹脂が好適である。
xxi)ポリエーテル
スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。
xxii)セルロース誘導体
有機酸エステル、エーテルないしこれらの混合体。
ズxiii)ポリカーボネート
例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ポリジオキシジフェニルメタンカーボネートクリル ンカーホネート笠の各種ポリカーボネート。
ポリジオキシジフェニルメタンカーボネートクリル ンカーホネート笠の各種ポリカーボネート。
X X i v ) 、h記 1)−xxiii)の2
種以上のブレンド体、またはその他の熱可塑性樹脂との
プレン1ζ体。
種以上のブレンド体、またはその他の熱可塑性樹脂との
プレン1ζ体。
なお、自己酸化性または熱可塑性の樹脂の分子−量等は
種々のものであってよい。
種々のものであってよい。
このような自己醇化性化合物または熱可塑性樹脂樹脂と
、前記の色素とは、通常、重量比で1対0.1〜100
の広範な量比にて設層される。
、前記の色素とは、通常、重量比で1対0.1〜100
の広範な量比にて設層される。
このような記録層中には、さらに、タエ/チャーが含有
されることが好ましい。
されることが好ましい。
これにより、再生劣化が減少し、耐光性が向上する。
クエ、/十ヤーとしては、7陳々のものを用いることが
できるが、符に、色素が励起して一軍項岐6系が生じた
とき、−亘項に系から電子移動lでいしエネルギー移動
をうけて励起状!己と1−(す、目ら基1印状j厩にも
どるとともに、一度項敵索を三厘項状悪に変撲する一重
積嘘糸クエンチャーであることが好ましい。
できるが、符に、色素が励起して一軍項岐6系が生じた
とき、−亘項に系から電子移動lでいしエネルギー移動
をうけて励起状!己と1−(す、目ら基1印状j厩にも
どるとともに、一度項敵索を三厘項状悪に変撲する一重
積嘘糸クエンチャーであることが好ましい。
M項絃Aルクエンチャーとしても、柿々のものを用いる
ことができるが、特に、再生劣化が減少すること、そし
て色素との相(容性が良好であることなどから、赴移金
属キレート化合物であることが好ましい。 この揚合、
中心金属としては、I’Ji 、 Co、Cu、fVl
n等が好ましく、特に、下記の化合物が好適である。
ことができるが、特に、再生劣化が減少すること、そし
て色素との相(容性が良好であることなどから、赴移金
属キレート化合物であることが好ましい。 この揚合、
中心金属としては、I’Ji 、 Co、Cu、fVl
n等が好ましく、特に、下記の化合物が好適である。
1) アセチル7−セトナートキレート系QI N
1(II)アセチルアセトナートQ2 Cu(If)
アセチルアセトナートQ3 r\1n(lit)アセ
チルアセトナートQ4 Co(II)アセチルアセト
ナート2)ビスジチオ−α−ジケトン系 ここに、茫)〜N4)は、直換ないし非直換のアルキル
基またはアリール粘を現わし、Mは2価の遷移金属原子
を現わす。
1(II)アセチルアセトナートQ2 Cu(If)
アセチルアセトナートQ3 r\1n(lit)アセ
チルアセトナートQ4 Co(II)アセチルアセト
ナート2)ビスジチオ−α−ジケトン系 ここに、茫)〜N4)は、直換ないし非直換のアルキル
基またはアリール粘を現わし、Mは2価の遷移金属原子
を現わす。
この1初合、Mは一電荷をもち、4畝アンモニウムイオ
ン等と塩を形成してもよい。
ン等と塩を形成してもよい。
Q5 Ni(m)ジチオベンジル
Q6Ni(■)ジチ万ビアセチル
7
9
N+(C4H,)4
3)ビスフェニルジチオール糸
ここに 1:(f51および任61は、メチル基等のア
ルキル基、あるいはCtなどの)・ロゲン原子等を妖わ
し、IVi&iNi等の2価の遷2 移金hA原子を表
わす。 さらに、aおよびbは、それぞれ、0または4
以下の脹Mである。
ルキル基、あるいはCtなどの)・ロゲン原子等を妖わ
し、IVi&iNi等の2価の遷2 移金hA原子を表
わす。 さらに、aおよびbは、それぞれ、0または4
以下の脹Mである。
また、上記栴造のMは一電荷をもって、アニオンと塩を
形成してもよく、さらにIIまIVlの上下には、さら
東他の配位子か結合していてもよい。
形成してもよく、さらにIIまIVlの上下には、さら
東他の配位子か結合していてもよい。
このよう・なものとしては、下記のものか市販されてい
る。
る。
QIOPA−1001(商品名 三井東圧ファイン株式
会社表) Qll PA−1002(同 上) Ql2 Pk−1003(同 上) Ql 3 1’A−1,005(同 上)Ql4 P
A−1006(同 上) Q15Co−ビス(ベンセン−1,2−ジチオール)テ
トラ ブチル アンモニウム塩 Q16Co−ビス(O−キシンy 4 t 5−ジテ
万一ル)テトラ(1−ブチル)アンモニウム塩 Ql7 Ni−ビス(べ/セン−エールージテ万一ル)
テトラ ブチル アンモニウム塩 Q18Ni−ビス(0−キシレン−4,5−ジチオール
)テトラ ブチル アンモニウム塩Q19 1”Ji−
ビス(5−クロ四ベンゼンー1,2−ジチオ−)L/)
テトラ ブチル アンモニウム塩 Q20 Ni−ビス(3,4,5,6−テトラメチル
ベンゼン−1,2ジテオーノ0テトラ ブチルアンモ
ニウム塩 Q21 Ni−ビス(3,4,5,6−チトラクロロ
ベンゼylt2ジチオール)テトラ ブチ ル アンモニウム塩 4)ジチオカルバミン敗キレート糸 ここに、Hj71および諭)はアルキル基を衣わす。
また、Mは2価の遊移金概原子を衣わす。
会社表) Qll PA−1002(同 上) Ql2 Pk−1003(同 上) Ql 3 1’A−1,005(同 上)Ql4 P
A−1006(同 上) Q15Co−ビス(ベンセン−1,2−ジチオール)テ
トラ ブチル アンモニウム塩 Q16Co−ビス(O−キシンy 4 t 5−ジテ
万一ル)テトラ(1−ブチル)アンモニウム塩 Ql7 Ni−ビス(べ/セン−エールージテ万一ル)
テトラ ブチル アンモニウム塩 Q18Ni−ビス(0−キシレン−4,5−ジチオール
)テトラ ブチル アンモニウム塩Q19 1”Ji−
ビス(5−クロ四ベンゼンー1,2−ジチオ−)L/)
テトラ ブチル アンモニウム塩 Q20 Ni−ビス(3,4,5,6−テトラメチル
ベンゼン−1,2ジテオーノ0テトラ ブチルアンモ
ニウム塩 Q21 Ni−ビス(3,4,5,6−チトラクロロ
ベンゼylt2ジチオール)テトラ ブチ ル アンモニウム塩 4)ジチオカルバミン敗キレート糸 ここに、Hj71および諭)はアルキル基を衣わす。
また、Mは2価の遊移金概原子を衣わす。
Q22 1Ni−ビス(ジグチル ジチでカルバミンr
・狡)〔ア/テグy NBC(住友化孕社表)〕5)
ビスフェニルチオール系 Q23 Ni−ビス(オクチルフェニル)プルファイ
ド 6)チオカテコールキレート系 ここに、Mは21曲のn、杉金−1μ子を表わす。 ま
た、八iは一市イ=Tをもち、アニ男ノと塩を形成して
いてもよく、ベンゼン環はi侠基を’Hシていてもよい
。
・狡)〔ア/テグy NBC(住友化孕社表)〕5)
ビスフェニルチオール系 Q23 Ni−ビス(オクチルフェニル)プルファイ
ド 6)チオカテコールキレート系 ここに、Mは21曲のn、杉金−1μ子を表わす。 ま
た、八iは一市イ=Tをもち、アニ男ノと塩を形成して
いてもよく、ベンゼン環はi侠基を’Hシていてもよい
。
Q24 Ni−ビス(チオカテコール)テトラ ブチ
ルアンモニウム塩 7)サリチルアルデヒドオキシム系 ここに 791 、、よひ炉は、アルキル基を表わし、
ム(lは21111iの遷移金属原子を表わす。
ルアンモニウム塩 7)サリチルアルデヒドオキシム系 ここに 791 、、よひ炉は、アルキル基を表わし、
ム(lは21111iの遷移金属原子を表わす。
Q25 i’Ji(I[) 0− (N−イソプロピ
ルホルムイミドイル)フェノール Q26 N1(T[) 0−(N−ドデシルホルムイ
ミドイル)フェノール Q27 Co(If) O−(N−ドデシルホルムイ
ミドイル Q 2 B Cu(ll’、) 0− (N−ドデシ
ルホルムイミドイル)フェノール Q29 N1(I[) 2 、2’ (エチレンビ
スにトリ。メチリジン)〕−ジフェノール Q30 Co(I[) 2 、2’ −Cエチレンビ
スにトリロメナリジン)〕−ジフェノール Q31 N1(If) 2 、2’ −C1,8−ナ
フチレンビスにトリロメチ11ジン)〕−ジフェノール Q32 N1(I[)−INN−フェニル小ルムイミ
ドイル〕フェノール Q33 Co(11) −1: N−フェニルホルム
イミドイル〕フェノール Q34 Cu(T[) −[N−フェニルホルムイミ
ドイル]フェノール Q35 N1(II)サリチルアルデヒドフェニルヒ
ドラゾン g、36Ni(n)サリチルアルデヒドオキシム8)チ
オビスフェルレートキレート系 −I)lぜ4 ここに、Mは前記と同じであり、Wυおよびi((町よ
、アルキル基馨茨わす。 またMは一電荷をもち、アニ
オンと塩を形成していてもよい。
ルホルムイミドイル)フェノール Q26 N1(T[) 0−(N−ドデシルホルムイ
ミドイル)フェノール Q27 Co(If) O−(N−ドデシルホルムイ
ミドイル Q 2 B Cu(ll’、) 0− (N−ドデシ
ルホルムイミドイル)フェノール Q29 N1(I[) 2 、2’ (エチレンビ
スにトリ。メチリジン)〕−ジフェノール Q30 Co(I[) 2 、2’ −Cエチレンビ
スにトリロメナリジン)〕−ジフェノール Q31 N1(If) 2 、2’ −C1,8−ナ
フチレンビスにトリロメチ11ジン)〕−ジフェノール Q32 N1(I[)−INN−フェニル小ルムイミ
ドイル〕フェノール Q33 Co(11) −1: N−フェニルホルム
イミドイル〕フェノール Q34 Cu(T[) −[N−フェニルホルムイミ
ドイル]フェノール Q35 N1(II)サリチルアルデヒドフェニルヒ
ドラゾン g、36Ni(n)サリチルアルデヒドオキシム8)チ
オビスフェルレートキレート系 −I)lぜ4 ここに、Mは前記と同じであり、Wυおよびi((町よ
、アルキル基馨茨わす。 またMは一電荷をもち、アニ
オンと塩を形成していてもよい。
Q37 N1(II) n−ブチルアミノ(2,2’
−チオビス(4−tert−オクチル)−フェノv −
ト、) [Cyasorb−LI V−1084(アメ
リカンシアナミドCo、、Ltd、 ) )ォビス(4
−tert−オクチル)−フェルレート〕 Q39’ N1(I[) −2、2”−テオヒx(4−
tert−オクチル)−フェルレート 9)亜小スホン殴キレート系 ここに、八°Iはfi1JH己と同じであり1,113
1および信は、アルキル差、水は基等の直飯基を衣わす
。
−チオビス(4−tert−オクチル)−フェノv −
ト、) [Cyasorb−LI V−1084(アメ
リカンシアナミドCo、、Ltd、 ) )ォビス(4
−tert−オクチル)−フェルレート〕 Q39’ N1(I[) −2、2”−テオヒx(4−
tert−オクチル)−フェルレート 9)亜小スホン殴キレート系 ここに、八°Iはfi1JH己と同じであり1,113
1および信は、アルキル差、水は基等の直飯基を衣わす
。
この他、他のクエンチャ−としては、下記のようなもの
かある。
かある。
10)ベンゾエート系
Q51 既存化学物質3−3040Cチヌビ/−12
0(テバガイキー社製)〕 11)ヒフダートアミン系 Q、52 既存化学物置5−3732 [5−AJiO
L LS−770(三共羨梨社夷)〕 このようなりエンチャーば、公知の方法にしとい合胞さ
れろ。
0(テバガイキー社製)〕 11)ヒフダートアミン系 Q、52 既存化学物置5−3732 [5−AJiO
L LS−770(三共羨梨社夷)〕 このようなりエンチャーば、公知の方法にしとい合胞さ
れろ。
そして、クエンチャ−ば、tj’l記色糸1七ルあたり
、−;投に0.05〜12モル、的−に0.1〜1.2
モル程度名′有さ几る。
、−;投に0.05〜12モル、的−に0.1〜1.2
モル程度名′有さ几る。
ところで、このようなりエンチャーは、用いる色素の吸
収極大成長よ・りも、その吸収牧人波長が59 nm以
上長牧長であることが好ましい。
収極大成長よ・りも、その吸収牧人波長が59 nm以
上長牧長であることが好ましい。
クエ/fヤーの吸収イヌ大vt長が、色素の吸収1シ大
a長よりも5 Q I’1rll jQ反艮であるとぎ
には、車内光等の下での一惠項葭素りエ/チャーの励起
はほとんど無視でき、クエ/チ/グ幼未の減少による色
素の飲化劣化か減少し、塊境元下での保存性が格段と同
上する。
a長よりも5 Q I’1rll jQ反艮であるとぎ
には、車内光等の下での一惠項葭素りエ/チャーの励起
はほとんど無視でき、クエ/チ/グ幼未の減少による色
素の飲化劣化か減少し、塊境元下での保存性が格段と同
上する。
なお、装置dを小型化するためには、悟き込みおよび睨
み出しの光源として、好ましくば750.780、g
3 Q nmの半導体レーザーあるいは633 nmの
He −r’Je v−ザー等を用いることが好ましい
ので、−y=項酸素クエンチャ−の吸収・情夫波長は5
3 Q nn1以上、!跨に680〜1500、より一
層好ましくはsoo〜150 (1nmにあることが好
ましい。
み出しの光源として、好ましくば750.780、g
3 Q nmの半導体レーザーあるいは633 nmの
He −r’Je v−ザー等を用いることが好ましい
ので、−y=項酸素クエンチャ−の吸収・情夫波長は5
3 Q nn1以上、!跨に680〜1500、より一
層好ましくはsoo〜150 (1nmにあることが好
ましい。
さらに、読み出し光の波長における用いる色素(2梅以
上用いるときにはその実効i直)および−重積酸素りエ
/チャーの吸収係数をそれぞれ、ε0およびε9とした
ときεD/ε9は3以上であることが好ましい。
上用いるときにはその実効i直)および−重積酸素りエ
/チャーの吸収係数をそれぞれ、ε0およびε9とした
ときεD/ε9は3以上であることが好ましい。
なお、色パを244以上併用して用いるときには、色素
の吸収他大波長とε、とは、限度に応じた相加平均笑幼
値である。
の吸収他大波長とε、とは、限度に応じた相加平均笑幼
値である。
このような1直となることにより、ωもみ出し元の照射
時のクエンチャ−の励起がきわめて小さくなり、−事項
酸素による再生劣化はきわめて小さくなる。
時のクエンチャ−の励起がきわめて小さくなり、−事項
酸素による再生劣化はきわめて小さくなる。
このような吸収特性をもつクエンチャ−は、用いる光源
および色素に、応じ、適宜選択して1更用される。
および色素に、応じ、適宜選択して1更用される。
なお、半導体レーザーを用いるときにおいて、このよう
なより好ましい特性をもつクエンチャ−としては、上記
のうち、Q7. Q8、Q9、Q10、Qll、Q12
、Ql−3、Q14、Q18、Q19、Q20. Q2
1、Q22、Q37、Q40、Q51、Q52等がある
。
なより好ましい特性をもつクエンチャ−としては、上記
のうち、Q7. Q8、Q9、Q10、Qll、Q12
、Ql−3、Q14、Q18、Q19、Q20. Q2
1、Q22、Q37、Q40、Q51、Q52等がある
。
このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよく、その厚さは、一般に、0.03〜2g’
mとされる。 あるいは、色素とクエンチャ−のみで記
録層を形成するときには、蒸着、スパッタリング等によ
ってもよい。
設すればよく、その厚さは、一般に、0.03〜2g’
mとされる。 あるいは、色素とクエンチャ−のみで記
録層を形成するときには、蒸着、スパッタリング等によ
ってもよい。
なお、このような記録層には、この他、他のポリマーな
いしオリゴマー、各種可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤
、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、滑剤、難燃剤、安定剤
、分散剤等が含有されていてもよい。
いしオリゴマー、各種可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤
、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、滑剤、難燃剤、安定剤
、分散剤等が含有されていてもよい。
なお、塗布に用いる溶媒としては、例えばメチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールア
セテート、ブチルカルピトールアセテ−1・等のエステ
ル系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテ
ル系、ないしトルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロ
ロエタン等のハロゲン化アルキル系などを用いればよい
。
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールア
セテート、ブチルカルピトールアセテ−1・等のエステ
ル系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテ
ル系、ないしトルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロ
ロエタン等のハロゲン化アルキル系などを用いればよい
。
このような記録層を設層する基体は樹脂製である。
樹脂の材質といては、種々のものが可能である。
ただ、このような樹脂中、特に上記したような各種塗布
用の溶媒、特にケトン系、エステル系、ハロゲン化アル
キル等におかされやすく、本発明の下地層による効果が
特に大きいのは、アクリル樹脂またはポリカーボネート
樹脂である。 そして、これらでは、書き込み光および
読み出し光に対し、実質的に透明であるので、どき込み
および読み出しを基体裏面側から行うことができ、感度
、S/N比等の点で有利であり、またホコリ対策等の実
装上の点でも有利である。 さらに、成型性も良好であ
るので、トラッキング用の溝の形成も容易である。
用の溶媒、特にケトン系、エステル系、ハロゲン化アル
キル等におかされやすく、本発明の下地層による効果が
特に大きいのは、アクリル樹脂またはポリカーボネート
樹脂である。 そして、これらでは、書き込み光および
読み出し光に対し、実質的に透明であるので、どき込み
および読み出しを基体裏面側から行うことができ、感度
、S/N比等の点で有利であり、またホコリ対策等の実
装上の点でも有利である。 さらに、成型性も良好であ
るので、トラッキング用の溝の形成も容易である。
アクリル樹脂としては、ポリメチルメタクリレート等、
炭素原子数1〜4のアルキル基をもつメタクリル酸エス
テルを主体とするコポリマーないしホモポリマーが好ま
しい。
炭素原子数1〜4のアルキル基をもつメタクリル酸エス
テルを主体とするコポリマーないしホモポリマーが好ま
しい。
また、ポリカーボネート樹脂としては、ビスフェノール
Aタイプが好ましい。
Aタイプが好ましい。
そして、これらアクリル樹脂またはポリカーボネート樹
脂は射出成型によって形成されたものであるとき、本発
明の下地層の効果はより大きなものとなる。
脂は射出成型によって形成されたものであるとき、本発
明の下地層の効果はより大きなものとなる。
なお、これらアクリル樹脂またはポリカーボネ−1・樹
脂の数平均重合度は、800〜6,000程度であるこ
とが好ましい。
脂の数平均重合度は、800〜6,000程度であるこ
とが好ましい。
なお、基体の形状は、使用用途に応じ、テープ、トラム
、ベルト等いずれであってもよい。
、ベルト等いずれであってもよい。
また、基体の記録層側表面には、トラッキング用の溝を
形成しておくことが好ましい。
形成しておくことが好ましい。
このような基体表面には、Zrキレート化合物またはA
lキレート化合物の加水分解物塗膜からなる下地層が形
成され、この下地層上に記録層が塗設される。
lキレート化合物の加水分解物塗膜からなる下地層が形
成され、この下地層上に記録層が塗設される。
この場合、これら加水分解物塗膜は、Atキレート化合
物から形成されるものであってもよイカ、Zrキレート
化合物から構成される装置であることが好ましい。
物から形成されるものであってもよイカ、Zrキレート
化合物から構成される装置であることが好ましい。
用いるZrキレート化合物としては、公知の種々の化合
物が使用可能であるが、特に有機ジルコネート化合物で
あることが好ましい。
物が使用可能であるが、特に有機ジルコネート化合物で
あることが好ましい。
そして特に、アルキルジルコン酸エステル、置換アルキ
ルジルコン酸エステル、アルケニルジルコン酸エステル
または置換アルケニルジルコン酸エステルは好適である
。
ルジルコン酸エステル、アルケニルジルコン酸エステル
または置換アルケニルジルコン酸エステルは好適である
。
これらのうち、特に好適に使用できるのは、下記構造式
をもつものである。
をもつものである。
Z r (OR1)(OR2)(OR3)(OR4)こ
こに、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ、水素
原子、または置換もしくは非置換のアルキル基もしくは
アルケニル基を表わす。
こに、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ、水素
原子、または置換もしくは非置換のアルキル基もしくは
アルケニル基を表わす。
ただし、R1−R4のうち、少なくとも2個以上は、水
素原子ではなく、アルキル基またはアルケニル基である
ことが好ましい。
素原子ではなく、アルキル基またはアルケニル基である
ことが好ましい。
また、置換または非置換のアルキル基またはアルケニル
基の炭素原子数は、2〜18であることが好ましい。
基の炭素原子数は、2〜18であることが好ましい。
なお、アルキル基またはアルケニル基を置換する基とし
ては、カルボキシル基、アルキルカルボキシ基、ジ(ヒ
ドロキシアルキル)アミン基等の置換アミン基、ヒドロ
キシル基、アルキルオキシカルボニル基などが好適であ
る。
ては、カルボキシル基、アルキルカルボキシ基、ジ(ヒ
ドロキシアルキル)アミン基等の置換アミン基、ヒドロ
キシル基、アルキルオキシカルボニル基などが好適であ
る。
次に、これら有機ジルコネート化合物は、オリゴマーを
形成していてもよい。
形成していてもよい。
このようなZrまたはAlキレート化合物を用いて下地
層を形成するには、Zrまたt±Alキレート化合物を
、水、アルコージレ、ヘキサン、ヘンゼン等の溶媒、あ
る171はこれらの1g合溶媒でイ1釈し、これを基体
に塗布し、放置して加水分解を行えはよい。
層を形成するには、Zrまたt±Alキレート化合物を
、水、アルコージレ、ヘキサン、ヘンゼン等の溶媒、あ
る171はこれらの1g合溶媒でイ1釈し、これを基体
に塗布し、放置して加水分解を行えはよい。
これにより、実質的にほぼ醇化ジルコニウム、酸化アル
ミニウム、ないしこれらの水和1勿からなる下地層・が
形成される。
ミニウム、ないしこれらの水和1勿からなる下地層・が
形成される。
なお、下地層の厚さは、0.001〜0.1ルm程度と
される。
される。
このような下地j・ご上には、通常、直接記録層か設層
されるものであるが、必要に応じ、場合によっては、下
地層と記録系・どの間に、他の中間層を設層することも
できる。
されるものであるが、必要に応じ、場合によっては、下
地層と記録系・どの間に、他の中間層を設層することも
できる。
また、記録層上には、必要に応じ、透明基体を用いると
きに裏面として機能する反射層や、各種最上層保護層、
ハーフミラ一層などを設けることもできる。
きに裏面として機能する反射層や、各種最上層保護層、
ハーフミラ一層などを設けることもできる。
本発明の媒体は、このような基体の一面上に、下地層を
介して上記の記録層を有するものであってもよく、その
両面に下地層を介して記録層を有するものであってもよ
い。 ま史、基体の一面上に下地J+3を介して記録
層を塗設したものを2つ用い、それらを記録層が向かい
あうようにして、所定の間隙をもって対向させ、それを
密閉したりして、ホコリやキズかつかないようにするこ
ともできる。
介して上記の記録層を有するものであってもよく、その
両面に下地層を介して記録層を有するものであってもよ
い。 ま史、基体の一面上に下地J+3を介して記録
層を塗設したものを2つ用い、それらを記録層が向かい
あうようにして、所定の間隙をもって対向させ、それを
密閉したりして、ホコリやキズかつかないようにするこ
ともできる。
IV 発明の具体的作用
本発明の媒体は、走行ないし回転下において、記録光を
パルス状に照射する。 こ の とき、記録層中の色素
の発熱により、自己酸化性の樹脂が分解するか、あるい
は熱可・塑性樹脂や、色素が融解し、ピットが形成され
る。
パルス状に照射する。 こ の とき、記録層中の色素
の発熱により、自己酸化性の樹脂が分解するか、あるい
は熱可・塑性樹脂や、色素が融解し、ピットが形成され
る。
この場合、どき込みは基体裏面側から行うことか好まし
い。
い。
この場合、特に、トリないしテトラカルボシアニン色素
を用いるときには1.750.780.830nmの波
長の記録半導体レーザー、夕イオードなどを用いたとき
、きわめて良好な書き込みを行うことができる。
を用いるときには1.750.780.830nmの波
長の記録半導体レーザー、夕イオードなどを用いたとき
、きわめて良好な書き込みを行うことができる。
このようにして形成されたピントは、やはり媒体の走行
ないし回転下、上記の波長の読み出し光の反射光ないし
透過光、特に反射光を検出することにより1;タシみ出
される。 この場合、読み出し光は、やはり基体裏面側
から照射して、その反射光を検知するようにすることが
好ましい。
ないし回転下、上記の波長の読み出し光の反射光ないし
透過光、特に反射光を検出することにより1;タシみ出
される。 この場合、読み出し光は、やはり基体裏面側
から照射して、その反射光を検知するようにすることが
好ましい。
なお、記lli′!層に熱可塑性樹脂を用いるときには
、一旦記録層に形成したピントを光ないし熱で消去し、
再書き込みを行うこともできる。
、一旦記録層に形成したピントを光ないし熱で消去し、
再書き込みを行うこともできる。
また、記録ないし読み出し光としては、He−Neレー
サー等を用いることもできる。
サー等を用いることもできる。
■ 発明の具体的効果
本発明の下地層を、基体、記録層間に形成すれば、記録
層の塗布用溶媒による樹脂製基体の劣化がきわめて小さ
くなるので、記録層・の反射率の低下が少なく、読み出
し−のS/N比が格段劣化もない。
層の塗布用溶媒による樹脂製基体の劣化がきわめて小さ
くなるので、記録層・の反射率の低下が少なく、読み出
し−のS/N比が格段劣化もない。
本発明者らは、本発明の効果を確認するため種々の実験
を行った。
を行った。
以下にその1例を示す。
実施例
下記表1に示される色素 (D) と、樹脂(R)と
、クエンチャ−(Q)とを用い、表1に示される量比に
て、所定の溶媒中に溶解し、直径15cmのアクリルデ
ィスク基体(平均重合1i 1500のポリメチルメタ
クリレ−1・) −にに、0.07gmの厚さに塗布設
層して記録層とし、各種媒体を得た。
、クエンチャ−(Q)とを用い、表1に示される量比に
て、所定の溶媒中に溶解し、直径15cmのアクリルデ
ィスク基体(平均重合1i 1500のポリメチルメタ
クリレ−1・) −にに、0.07gmの厚さに塗布設
層して記録層とし、各種媒体を得た。
この場合、本発明の媒体では、記録層と基体間に下地層
を介在させた。
を介在させた。
F地層は、テトラエチルアセトアセタートZr(オキシ
塩化Zr 1モルと、アセト酢酸エチル 4モルとを
炭酸ナトリウムの存在下で反応させて合成したもの)の
2%メチルエチルケトン溶液を、基板上に塗布設層して
形成した。
塩化Zr 1モルと、アセト酢酸エチル 4モルとを
炭酸ナトリウムの存在下で反応させて合成したもの)の
2%メチルエチルケトン溶液を、基板上に塗布設層して
形成した。
下地層の膜厚は、約0.03ルm、またその組成は、は
ぼZr02 ・2H20であった。
ぼZr02 ・2H20であった。
なお、表1において、NCは、窒素含量11 5〜12
.2%、JIS K6703にもとづく粘度20秒の
ニトロセルロースである。
.2%、JIS K6703にもとづく粘度20秒の
ニトロセルロースである。
また、CIは、クマロン−インテン樹脂(日鉄化学社製
V−120数平均分子量730)、NYは、6,6−ナ
イロン(数・)1均分子量3万)、PSは、ポリスチレ
ン(数平均分子量3カ)をそれぞれ表わす。
V−120数平均分子量730)、NYは、6,6−ナ
イロン(数・)1均分子量3万)、PSは、ポリスチレ
ン(数平均分子量3カ)をそれぞれ表わす。
さらに、用いた色素およびクエンチャ−は、上記にて例
示したものの陽.で示される。
示したものの陽.で示される。
このようにして作成した各媒体につき、これを1 8
0 0 rpmテ回転させながら、 AIGaA s−
G aA s半導体レーザー記録光 (830 nm)
を1牌mφに集光しく5.、先部出力10mW) 、パ
ルス巾1 0 0 nsec、所定周波数で、ノくルス
列状に照射して、書き込みを行った。
0 0 rpmテ回転させながら、 AIGaA s−
G aA s半導体レーザー記録光 (830 nm)
を1牌mφに集光しく5.、先部出力10mW) 、パ
ルス巾1 0 0 nsec、所定周波数で、ノくルス
列状に照射して、書き込みを行った。
この後、1mWの半導体レーザー(830nm)読み出
し光をlBsec巾、3 KHzのパルスとして照射し
て、ディスク表面におけるピーク−ピーク間のC/N比
を71111定した。 結果を表1に示す。
し光をlBsec巾、3 KHzのパルスとして照射し
て、ディスク表面におけるピーク−ピーク間のC/N比
を71111定した。 結果を表1に示す。
表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
る。
実施例
実験例1の媒体1b、8〜10を用い、実験例1と同様
に占き込みを行ったのち、赤外線ヒーターを用い、媒体
を150 ’C115秒間加熱して消去を行ったところ
、各媒体とも、くりかえし複数回の消去、再書き込みか
良好にできることが確認された。
に占き込みを行ったのち、赤外線ヒーターを用い、媒体
を150 ’C115秒間加熱して消去を行ったところ
、各媒体とも、くりかえし複数回の消去、再書き込みか
良好にできることが確認された。
出15g’i人 東京電気化学工業株式会社代理人
ゴf理士 石 井 陽 −・手続補正書(目先 1、事件の表示 昭和57年特許願第2321995 2、発明の名称 光記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人任 所
東京都中央区日本橋−丁目13番1号名 称
(306) 東京電気化学工業株式会社代表者 素
野福次部 4、代理人 〒171 住 所 東京都豊島区西池袋五丁目17番11
吟矢部ビル1階 電話 988−1680明細書 6、補正の内容 別紙のとおり。ただし、明細書の浄書(内容に変更なし
)。
ゴf理士 石 井 陽 −・手続補正書(目先 1、事件の表示 昭和57年特許願第2321995 2、発明の名称 光記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人任 所
東京都中央区日本橋−丁目13番1号名 称
(306) 東京電気化学工業株式会社代表者 素
野福次部 4、代理人 〒171 住 所 東京都豊島区西池袋五丁目17番11
吟矢部ビル1階 電話 988−1680明細書 6、補正の内容 別紙のとおり。ただし、明細書の浄書(内容に変更なし
)。
子糸ンVネ市正暑片 (自発)
昭和58年 6月2ジ日
1、事件の表示
昭和57年特許願第232199号
2、発明の名称
光記録媒体
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人任 所
東京都中央区日本橋−丁目13番1号名 称
(306) ティーディーケイ株式会社代表者 大
歳 寛 4、代理人 〒171 住 所 東京都豊島区西池袋五丁目17番11
号矢部ビル1階 電話 988−16806、補正の
内容 明細書の「3、発明の詳細な説明」の欄の記載を、下記
のとおり補正する。
東京都中央区日本橋−丁目13番1号名 称
(306) ティーディーケイ株式会社代表者 大
歳 寛 4、代理人 〒171 住 所 東京都豊島区西池袋五丁目17番11
号矢部ビル1階 電話 988−16806、補正の
内容 明細書の「3、発明の詳細な説明」の欄の記載を、下記
のとおり補正する。
■)第37ページ第17行に、INi、Co、Cu。
M n jとあるを、TNi 、Co 、Cu 、Mn
。
。
Pd、Pt、j と補正する。
II )第39ページ第19行〜第4とページ第す行ま
での記載を、下記のとおり補正する。
での記載を、下記のとおり補正する。
Fl) アセチルアセトナートキレート系QINi(
II)アセチルアセトナートQ2Cu(II)アセチル
アセトナートQ3 Mn(m)アセチルアセトナート
Q4Co(II)アセチルアセトナート2) ヒスジチ
オ−α−ジケトン系 ここに、R(1′LR(4)は、置換なl/八し手ト置
換のアルキル基またはアリール基を表わし、Mは、Ni
、Co、Cu、Pd、Pt等の遷移金属原子を表わす
。
II)アセチルアセトナートQ2Cu(II)アセチル
アセトナートQ3 Mn(m)アセチルアセトナート
Q4Co(II)アセチルアセトナート2) ヒスジチ
オ−α−ジケトン系 ここに、R(1′LR(4)は、置換なl/八し手ト置
換のアルキル基またはアリール基を表わし、Mは、Ni
、Co、Cu、Pd、Pt等の遷移金属原子を表わす
。
この場合、Mは一電荷をもち、4級アンモニウムイオン
等のカチオンと塩を形成してもよい。
等のカチオンと塩を形成してもよい。
Q5Ni(II)ジチオペンシル
Q6Ni(+1)ジチオビアセチル
9
N゛(C4H9)4
3) ビスフェニルジチオール系
(5) (8)
ここに、RおよびRは、メチル基
なとのアルキル基、あるいはC交などのハロゲン原子等
を表わし、Mは、Ni、Co。
を表わし、Mは、Ni、Co。
Cu 、Pd 、Pt等の遷移金属原子を表わす。 さ
らに、aおよびbは、それぞれ、0または4以下の整数
である。
らに、aおよびbは、それぞれ、0または4以下の整数
である。
また、上記構造のMは一電荷をもって、カチオンと塩を
形成してもよく、さらにはMの上下には、さらに他の配
位子が結合していてもよい。
形成してもよく、さらにはMの上下には、さらに他の配
位子が結合していてもよい。
このようなものとしては、下記のものがある。
QIOPA−fool(商品名 三井東圧ファイン株式
会社製) Qll PA−1002(同 上 Ni−ビス(トル
エンジチオール)テトラ(’t−ブチル)アンモニウム
〕 Q12 PA−1003(同 上) Q13 FA−40054同 上 Ni−ビス(ジク
ロロベンゼン)テトラ(t− ブチル)アンモニウム〕 Q14 PA−1006C同 上 Ni−ビス(トリ
クロロベンゼンジチオール) テトラ(t−ブチル)アンモニウム〕 Q15Co−ビス(ベンゼン−1,2−ジチオール)テ
トラブチルアンモニウム Q16 Co−ビス(0−キシレン−4,5−ジチオ
ール)テトラ(t−ブチル) アンモニウム Q17Ni−ビス(ベンゼン−1,2−ジチオール)テ
トラブチルアンモニウム Q18Ni−ビス(0−キシL、7−4.5−ジチオー
ル)テトラブチルアンモニ ウム Q19 Ni−ビス(5−クロロベンゼンーq 1,
2−ジチオール)テトラブチルアンモニウム Q20 Ni−ビス(3,4,5,6−テトラメチル
ベンゼン−1,2ジチオー ル)テトラブチルアンモニウム Q21Ni−ビス(3,4,5,6−テトラクロロベン
ゼン−1,2ジチオー ル)テトラブチルアンモニウム 4) ジチオカルバミン酸キレート系 (7) (8) ここに、RおよびRはアルキル基 を表わす。 また、MはNi、Co、Cu。
会社製) Qll PA−1002(同 上 Ni−ビス(トル
エンジチオール)テトラ(’t−ブチル)アンモニウム
〕 Q12 PA−1003(同 上) Q13 FA−40054同 上 Ni−ビス(ジク
ロロベンゼン)テトラ(t− ブチル)アンモニウム〕 Q14 PA−1006C同 上 Ni−ビス(トリ
クロロベンゼンジチオール) テトラ(t−ブチル)アンモニウム〕 Q15Co−ビス(ベンゼン−1,2−ジチオール)テ
トラブチルアンモニウム Q16 Co−ビス(0−キシレン−4,5−ジチオ
ール)テトラ(t−ブチル) アンモニウム Q17Ni−ビス(ベンゼン−1,2−ジチオール)テ
トラブチルアンモニウム Q18Ni−ビス(0−キシL、7−4.5−ジチオー
ル)テトラブチルアンモニ ウム Q19 Ni−ビス(5−クロロベンゼンーq 1,
2−ジチオール)テトラブチルアンモニウム Q20 Ni−ビス(3,4,5,6−テトラメチル
ベンゼン−1,2ジチオー ル)テトラブチルアンモニウム Q21Ni−ビス(3,4,5,6−テトラクロロベン
ゼン−1,2ジチオー ル)テトラブチルアンモニウム 4) ジチオカルバミン酸キレート系 (7) (8) ここに、RおよびRはアルキル基 を表わす。 また、MはNi、Co、Cu。
Pd 、Pt等の遷移金属原子を表わす。
Q22Ni−ビス(ジブチル ジチオカルバミン酸)〔
アンチゲン NBC(住 人化学社製)〕 5) ビスフェニルチオール系 Q23Ni−ビス(オクチルフェニル)サルファイド 6) チオカテコールキレート系 ここに、Mは、Ni、Co、Cu、Pd。
アンチゲン NBC(住 人化学社製)〕 5) ビスフェニルチオール系 Q23Ni−ビス(オクチルフェニル)サルファイド 6) チオカテコールキレート系 ここに、Mは、Ni、Co、Cu、Pd。
Pt等の遷移金属原子を表わす。 また、Mは一電荷を
もち、カチオンと塩を形成していてもよく、ベンゼン環
は置換基を有していてもよい。
もち、カチオンと塩を形成していてもよく、ベンゼン環
は置換基を有していてもよい。
Q24Ni−ビス(チオカテコール)テトラブチルアン
モニウム塩 7) サリチルアルデヒドオキシム系 (9) (10) ここに、RおよびRは、アルキル 基を表わし、Mは、 Ni、Go、Cu。
モニウム塩 7) サリチルアルデヒドオキシム系 (9) (10) ここに、RおよびRは、アルキル 基を表わし、Mは、 Ni、Go、Cu。
Pd、Pt等の遷移金属原子を表わす。
Q25 Ni (II)o −(N−イソプロピル
ホルムイミドイル)フェノール Q26 Ni (TI)o −(N−ドデシルホル
ムイミドイル)フェノール Q27 Co (II)o −(N−ドデシルホルム
イミドイル)フェノール Q28 Cu (II) o −(N −ドデシル
ホルムイミドイル)フェノール Q29 Ni (II) 2 、2 ′Cエチレン
ビスにトリロメチリシン)〕 −ジフェ ノール Q30 Co(II)2.2′−Cエチレンビスにト
リロメチリジン)〕−ジフェ ノール Q31 Ni (II) 2.2 ′ −(
1,8−ナフチレンビスにトリロメチリジ ン)〕−ジフェノール Q32 N1(II) (N−フェニルポルムイ
ミドイル)フェノール Q33 Co(II)−(N−フェニルポルムイミド
イル)フェノール Q34 Cu(II) (N−フェニルポルムイ
ミドイル)フェノール Q35 N1(II)サリチルアルテヒドフェニルヒ
トラゾン Q36 N1(II)サリチルアルデヒドオキシム 8) チオビスフェルレートキレート系(11) ここに、Mは前記と同じであり、Rお (12) よびRは、アルキル基を表わす。 またMは一電荷をも
ち、カチオンと塩とを形成し) ていてもよい。
ホルムイミドイル)フェノール Q26 Ni (TI)o −(N−ドデシルホル
ムイミドイル)フェノール Q27 Co (II)o −(N−ドデシルホルム
イミドイル)フェノール Q28 Cu (II) o −(N −ドデシル
ホルムイミドイル)フェノール Q29 Ni (II) 2 、2 ′Cエチレン
ビスにトリロメチリシン)〕 −ジフェ ノール Q30 Co(II)2.2′−Cエチレンビスにト
リロメチリジン)〕−ジフェ ノール Q31 Ni (II) 2.2 ′ −(
1,8−ナフチレンビスにトリロメチリジ ン)〕−ジフェノール Q32 N1(II) (N−フェニルポルムイ
ミドイル)フェノール Q33 Co(II)−(N−フェニルポルムイミド
イル)フェノール Q34 Cu(II) (N−フェニルポルムイ
ミドイル)フェノール Q35 N1(II)サリチルアルテヒドフェニルヒ
トラゾン Q36 N1(II)サリチルアルデヒドオキシム 8) チオビスフェルレートキレート系(11) ここに、Mは前記と同じであり、Rお (12) よびRは、アルキル基を表わす。 またMは一電荷をも
ち、カチオンと塩とを形成し) ていてもよい。
Q37 Ni (II)n−ブチルアミノ〔2゜2
′−チオビス(4−tert−オクチル)−フエノラー
ト) (Cyasorb −転 LUV−1084(アメリカン シア ナ ミ ド Go−、Ltd−) )Q3
8 Co(II)n−ブチルアミノ〔2゜2′−チオ
ビス(4−tert−オクチル)−フエノラート〕 Q39 Ni (II) −2、2′−チオビス(
4−tert−オクチル)−フエノラート9) 1Fホ
スホン酸キレート系 ここに、Mは前記と同じであり、R(13)お(14) よひRは、アルキル基、水酸基等の置換基を表わす。
′−チオビス(4−tert−オクチル)−フエノラー
ト) (Cyasorb −転 LUV−1084(アメリカン シア ナ ミ ド Go−、Ltd−) )Q3
8 Co(II)n−ブチルアミノ〔2゜2′−チオ
ビス(4−tert−オクチル)−フエノラート〕 Q39 Ni (II) −2、2′−チオビス(
4−tert−オクチル)−フエノラート9) 1Fホ
スホン酸キレート系 ここに、Mは前記と同じであり、R(13)お(14) よひRは、アルキル基、水酸基等の置換基を表わす。
ようなものがある。
10)−、ンソエート系
Q41 既存化学物質3−3040 Cチヌビン−1
20(チバガイギー社製)〕 +1) ヒンダードアミン系 Q42 既存化学物質5−3732 (5ANOLL
S−770(三共製薬社製)〕ニ
20(チバガイギー社製)〕 +1) ヒンダードアミン系 Q42 既存化学物質5−3732 (5ANOLL
S−770(三共製薬社製)〕ニ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 樹脂製の基体上に、Zrキレート化合物またはA
1キレート化合物の加水分解物塗膜からなる下地層を有
し、この下地層上に、色素または色素組成物の塗膜から
なる記録層をイ〕することを特徴とする光記録媒体。 2、 基体か、書き込み光および読み出し光に対し実質
的に透明である特許請求の範囲第1項に記載の光記録媒
体。 3、 基体が、アクリル樹脂またはポリカーボネ−1・
樹脂である特許請求の範囲第1項または第2項に記載の
光記録媒体。 4、 基体が、射出成型によって形成されている特許請
求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の光記録
媒体。 5、 下地層が有機ジルコネート化合物の加水分解物塗
膜からなる特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれ
かに記載の光記録媒体。 6、 有機シルコネーI・化合物が、アルキルジルコン
酎エステル、置換アルキルジルコン酸エステルエステル
、アルケニルジルコン酸エステルまたは置換アルケニル
ジルコン酸エステルである特許請求の範囲第5項記載の
光記録媒体。 7、 記録層か色素組成物からなり、色素組成物か、色
素と、自己酸化性または熱射・W性の樹脂とを含む特許
請求の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載の光記
録媒体。 8、 記録層か色素組成物からなり、色素組成物か、色
素と、クエンチャ−とを含む特許請求の範囲第1頃ない
し第7項のいずれかに記載の光記録媒体。 9、 色素がカルボシアニン色素である特許請求の範囲
第1頌ないし第8項のいずれかに記載の光記録媒体。 10、 基体裏面側から書き込みおよび読み出しを行う
特許請求の範囲第1項ないし第9項のいずれかに記載の
光記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57232199A JPS59124892A (ja) | 1982-12-31 | 1982-12-31 | 光記録媒体 |
| US07/990,977 US5670295A (en) | 1982-07-30 | 1992-12-09 | Optical recording medium |
| US07/990,979 US5741623A (en) | 1982-07-30 | 1992-12-09 | Optical recording medium |
| US08/482,165 US5512416A (en) | 1982-07-30 | 1995-06-06 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57232199A JPS59124892A (ja) | 1982-12-31 | 1982-12-31 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59124892A true JPS59124892A (ja) | 1984-07-19 |
Family
ID=16935537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57232199A Pending JPS59124892A (ja) | 1982-07-30 | 1982-12-31 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59124892A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59150795A (ja) * | 1983-02-17 | 1984-08-29 | Ricoh Co Ltd | 光学的情報記録媒体 |
-
1982
- 1982-12-31 JP JP57232199A patent/JPS59124892A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59150795A (ja) * | 1983-02-17 | 1984-08-29 | Ricoh Co Ltd | 光学的情報記録媒体 |
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