JPS5931493B2 - カテコ−ル誘導体 - Google Patents
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Landscapes
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、医薬として有用な一般式(I)−工□(OC
H / N(l) 〔式中、R_3およびR_4は水素原子またはベンジル
基を示す。
H / N(l) 〔式中、R_3およびR_4は水素原子またはベンジル
基を示す。
R_1およびR_2は一方が水素原子またはメチル基を
、他方が4−位が水酸基またはメトキシ基で置換された
フェニル低級アルキル基を示すか、またはこれらはたが
いに結合して隣接する炭R_、素原子とともに環を形成
し−CH<でシクロブチル基を示す〕で表わされるカテ
コール誘導体に関する。
、他方が4−位が水酸基またはメトキシ基で置換された
フェニル低級アルキル基を示すか、またはこれらはたが
いに結合して隣接する炭R_、素原子とともに環を形成
し−CH<でシクロブチル基を示す〕で表わされるカテ
コール誘導体に関する。
本発明の化合物(I)は、一般式(■)
=工□。
。一(■)
〔式中、R_’3およびR_2は水素原子またはベンジ
ル基を示す〕で表わされる化合物をアルキル化する〔こ
の工程を工程(A)とする〕ことにより製造される。
ル基を示す〕で表わされる化合物をアルキル化する〔こ
の工程を工程(A)とする〕ことにより製造される。
また、一般式(I)において、R_3およびR_4がと
もに水素原子である化合物、すなわち一般式(■)〔式
中、R1およびR2は前記と同意義〕で表わされるカテ
コール誘導体は一般式()〔式中、R1およびR2は前
記と同意義〕で表わされる化合物をベンジル基の離脱反
応に付す〔この工程を(B)とする〕ことによつても製
造される。
もに水素原子である化合物、すなわち一般式(■)〔式
中、R1およびR2は前記と同意義〕で表わされるカテ
コール誘導体は一般式()〔式中、R1およびR2は前
記と同意義〕で表わされる化合物をベンジル基の離脱反
応に付す〔この工程を(B)とする〕ことによつても製
造される。
前記式中、R1またはR2で示される4−位が水酸基ま
たはメトキシ基で置換されたフエニル低級アルキル基の
低級アルキル部分としては、1〜3のアルキル基があげ
られる。これらの具体例としては、4−ヒドロキシベン
ジル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフエネチル
などがあげられる。R3およびR4としては、それぞれ
水素原子であるのが好ましい。
たはメトキシ基で置換されたフエニル低級アルキル基の
低級アルキル部分としては、1〜3のアルキル基があげ
られる。これらの具体例としては、4−ヒドロキシベン
ジル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフエネチル
などがあげられる。R3およびR4としては、それぞれ
水素原子であるのが好ましい。
本発明の工程(A)のアルキル化は、一般式()の化合
物をアルキル化反応に付すことにより行われる。
物をアルキル化反応に付すことにより行われる。
化合物()のアルキル化反応は、化合物()と一般式(
V)〔式中、R1およびR2は前記と同意義〕で表わさ
れる化合物とを還元的に反応させる(還元アルキル化)
か、あるいは化合物()と式〔式中、R,、R。
V)〔式中、R1およびR2は前記と同意義〕で表わさ
れる化合物とを還元的に反応させる(還元アルキル化)
か、あるいは化合物()と式〔式中、R,、R。
は前記と同意義〕で表わされるアルキル基に対応するア
ルキル化剤とを反応させることにより行われる。化合物
(V)による化合物()の還元アルキル化は、接触水素
還元の条件下に化合物()と化合物(V)とを反応させ
るか、あるいは化合物()と化合物(V)とを、たとえ
ばアルカリ金属水素化シアノホウ素(例、水素化シアノ
ホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素リチウム)など
の還元剤の存在下に反応させることにより行われる。
ルキル化剤とを反応させることにより行われる。化合物
(V)による化合物()の還元アルキル化は、接触水素
還元の条件下に化合物()と化合物(V)とを反応させ
るか、あるいは化合物()と化合物(V)とを、たとえ
ばアルカリ金属水素化シアノホウ素(例、水素化シアノ
ホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素リチウム)など
の還元剤の存在下に反応させることにより行われる。
化合物(V)の使用量は、接触水素還元条件下に反応を
行う場合、および前記の還元剤を用いる場合のいずれの
場合も化合物()1モルに対し通常約1〜5モル程度で
ある。接触水素還元は、通常、アルコール類(例、メタ
ノール、エタノール)、水、有機カルボン酸(例、酢酸
)、エステル類(例、酢酸エチル)、エーテル類(例、
ジオキサン、テトラヒドロフラン)などの不活性溶媒中
、約1〜100気圧、約20〜100℃の反応条件で、
白金、パラジウム、ニツケル触媒(例、ラネーニツケル
)等を用いて行われる。一般式()においてR3Oおよ
び/またはR4Oがベンジルオキシ基の場合、このベン
ジルオキシ基は、接触還元の際同時に脱ベンジル化をう
け、遊離の水酸基となる。なお、接触水素還元の場合に
も、触媒として、たとえば酸化白金ラネーニツケル等を
用い、緩和な反応条件(常温、常圧下の接触還元)を用
いれば、原料化合物()のベンジルオキシ基の脱ベンジ
ル化をきたすことなく、還元アルキル化を行うことがで
きる場合がある。アルカリ金属水素化シアノホウ素など
の還元剤を用いて還元アルキル化を行う場合、これらの
還元剤の使用量は、化合物()または(V)1モルに対
し、通常約1〜5モル程度である。
行う場合、および前記の還元剤を用いる場合のいずれの
場合も化合物()1モルに対し通常約1〜5モル程度で
ある。接触水素還元は、通常、アルコール類(例、メタ
ノール、エタノール)、水、有機カルボン酸(例、酢酸
)、エステル類(例、酢酸エチル)、エーテル類(例、
ジオキサン、テトラヒドロフラン)などの不活性溶媒中
、約1〜100気圧、約20〜100℃の反応条件で、
白金、パラジウム、ニツケル触媒(例、ラネーニツケル
)等を用いて行われる。一般式()においてR3Oおよ
び/またはR4Oがベンジルオキシ基の場合、このベン
ジルオキシ基は、接触還元の際同時に脱ベンジル化をう
け、遊離の水酸基となる。なお、接触水素還元の場合に
も、触媒として、たとえば酸化白金ラネーニツケル等を
用い、緩和な反応条件(常温、常圧下の接触還元)を用
いれば、原料化合物()のベンジルオキシ基の脱ベンジ
ル化をきたすことなく、還元アルキル化を行うことがで
きる場合がある。アルカリ金属水素化シアノホウ素など
の還元剤を用いて還元アルキル化を行う場合、これらの
還元剤の使用量は、化合物()または(V)1モルに対
し、通常約1〜5モル程度である。
反応は、一般にメタノール、エタノールなどの溶媒中、
好ましくは塩酸、臭化水素酸などの存在下に0゜〜30
℃の温度で行われる。接触水素還元、アルカリ金属水素
化シアノホウ素等の還元剤を用いる還元のいずれの場合
にも還元アルキル化によつて、一般式()の化合物のア
ミノ基に化合物(V)に対応する式−CHく::(式中
、RhR,は前記と同意義)で表わされるアルキル基が
導入され、化合物(I)が生成する。化合物()と式−
C<:ノで表わされるアルキル基に対応するアルキル化
剤との反応は、通常、溶媒中、約0〜150℃程度の温
度で両者を接触させることにより行われる。
好ましくは塩酸、臭化水素酸などの存在下に0゜〜30
℃の温度で行われる。接触水素還元、アルカリ金属水素
化シアノホウ素等の還元剤を用いる還元のいずれの場合
にも還元アルキル化によつて、一般式()の化合物のア
ミノ基に化合物(V)に対応する式−CHく::(式中
、RhR,は前記と同意義)で表わされるアルキル基が
導入され、化合物(I)が生成する。化合物()と式−
C<:ノで表わされるアルキル基に対応するアルキル化
剤との反応は、通常、溶媒中、約0〜150℃程度の温
度で両者を接触させることにより行われる。
アルキル化剤としては、前記アルキル基に対応するハロ
ゲン化アルキル、ジアルキル硫酸等があげられ、ハロゲ
ン化アルキルの・・ロゲン原子としては、塩素、臭素、
ヨウ素等があげられる。これらのハロゲン化剤の使用量
は、用いるハロゲン化剤によつて異なるが化合物()l
モルに対し通常約1〜 1.2モル程度である。なお、
反応において生成する酸を捕捉するため、たとえばトリ
エチルアミンなどの3級アミン類、炭酸水素ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の塩基の存在下に反
応を行うとよい場合がある。反応溶媒としては、たとえ
ば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、ジオ
キサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、あるい
はベンゼンなどの不活性溶媒があげられる。なお、本ア
ルキル化反応において、使用するアルキル化剤、反応条
件によつては、化合物()のアミノ基に二個以上のアル
キル基が導入される場合がある。こ ・の場合、アルキ
ル基が1個導入された化合物()を製造するためには、
アルキル化反応を行う前に、あらかじめ、化合物()の
アミノ基に1個の保護基を導入しておき、本アルキル化
反応後、その保護基を離脱させるのがよい。アミノ基の
保護基としては、たとえばベンジル、カルボベンジルオ
キシ、トリフルオロアセチルなどがあげられる。これら
の保護基は、たとえば、ベンズアルデヒド、カルボベン
ジルオキシクロライド、無水トリフルオロ酢酸又はその
クロライドを用いて前述のアルキル化の方法と同様の方
法でアミノ基に導人することができる。また、この保護
基の離脱方法としては、たとえばアミノ基が保護された
化合物(I)を後述の工程(B)の水酸基の保護基を離
脱させる反応と同様の反応に付すことによつて水酸基の
保護基の離脱と同時にまたはその前後いずれにおいても
離脱することができる。なお、化合物()のR−0.k
.0が保護されていない水酸基の場合には、アミノ基の
保護基の導入の際、同時にカルボベンジルオキシ、トリ
フルオロアセチル基などの保護基が水酸基に導入される
ことになる。これらの水酸基の保護基は、アミノ基の保
護基の離脱の際同時に離脱される。本発明の工程(B)
の水酸基の保護基の離脱反応は、一般式()の化合物を
エーテル結合の開裂反応に付すことにより行われる。
ゲン化アルキル、ジアルキル硫酸等があげられ、ハロゲ
ン化アルキルの・・ロゲン原子としては、塩素、臭素、
ヨウ素等があげられる。これらのハロゲン化剤の使用量
は、用いるハロゲン化剤によつて異なるが化合物()l
モルに対し通常約1〜 1.2モル程度である。なお、
反応において生成する酸を捕捉するため、たとえばトリ
エチルアミンなどの3級アミン類、炭酸水素ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の塩基の存在下に反
応を行うとよい場合がある。反応溶媒としては、たとえ
ば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、ジオ
キサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、あるい
はベンゼンなどの不活性溶媒があげられる。なお、本ア
ルキル化反応において、使用するアルキル化剤、反応条
件によつては、化合物()のアミノ基に二個以上のアル
キル基が導入される場合がある。こ ・の場合、アルキ
ル基が1個導入された化合物()を製造するためには、
アルキル化反応を行う前に、あらかじめ、化合物()の
アミノ基に1個の保護基を導入しておき、本アルキル化
反応後、その保護基を離脱させるのがよい。アミノ基の
保護基としては、たとえばベンジル、カルボベンジルオ
キシ、トリフルオロアセチルなどがあげられる。これら
の保護基は、たとえば、ベンズアルデヒド、カルボベン
ジルオキシクロライド、無水トリフルオロ酢酸又はその
クロライドを用いて前述のアルキル化の方法と同様の方
法でアミノ基に導人することができる。また、この保護
基の離脱方法としては、たとえばアミノ基が保護された
化合物(I)を後述の工程(B)の水酸基の保護基を離
脱させる反応と同様の反応に付すことによつて水酸基の
保護基の離脱と同時にまたはその前後いずれにおいても
離脱することができる。なお、化合物()のR−0.k
.0が保護されていない水酸基の場合には、アミノ基の
保護基の導入の際、同時にカルボベンジルオキシ、トリ
フルオロアセチル基などの保護基が水酸基に導入される
ことになる。これらの水酸基の保護基は、アミノ基の保
護基の離脱の際同時に離脱される。本発明の工程(B)
の水酸基の保護基の離脱反応は、一般式()の化合物を
エーテル結合の開裂反応に付すことにより行われる。
反応条件は、水酸基の保護基であるベンジル基を離脱さ
せ、しかもフエニル環上のメトキシ基を開裂させないも
のであればいかなるものでもよい。たとえば、適宜の溶
媒中、約− 80〜 70℃程度の温度で化合物()を
鉱酸〔例、5〜10重量%塩化水素酸、5〜10重量%
臭化水素酸などのハロゲン化水素酸〕で処理してもよい
。この場合、溶媒としては、水、有機カルボン酸(例、
酢酸)、アルコール類(例、メタノール、エタノール)
、エーテル類(例、テトラヒドロフラン、ジオキサン)
などがあげられる。鉱酸の使用量は化合物()1モルに
対し、通常約5〜30モル程度である。また、工程(A
)で述べた接触水素還元と同様の接触還元によつて脱ベ
ンジル化を行い化合物()を得ることができる。かくし
て得られる一般式()および(I)の化合物は、それぞ
れの反応混合物から通常の分離、精製法(例、結晶化、
カラムクロマトグラフイ一)によつて容易に単離される
。化合物(I)は、その分子中に少なくとも1個の不斉
炭素を含み、通常はラセミ体で得られる。
せ、しかもフエニル環上のメトキシ基を開裂させないも
のであればいかなるものでもよい。たとえば、適宜の溶
媒中、約− 80〜 70℃程度の温度で化合物()を
鉱酸〔例、5〜10重量%塩化水素酸、5〜10重量%
臭化水素酸などのハロゲン化水素酸〕で処理してもよい
。この場合、溶媒としては、水、有機カルボン酸(例、
酢酸)、アルコール類(例、メタノール、エタノール)
、エーテル類(例、テトラヒドロフラン、ジオキサン)
などがあげられる。鉱酸の使用量は化合物()1モルに
対し、通常約5〜30モル程度である。また、工程(A
)で述べた接触水素還元と同様の接触還元によつて脱ベ
ンジル化を行い化合物()を得ることができる。かくし
て得られる一般式()および(I)の化合物は、それぞ
れの反応混合物から通常の分離、精製法(例、結晶化、
カラムクロマトグラフイ一)によつて容易に単離される
。化合物(I)は、その分子中に少なくとも1個の不斉
炭素を含み、通常はラセミ体で得られる。
これらのラセミ体はそのままでも薬埋活性を示すが、所
望によりさらにそれぞれの対掌体に分割することができ
る。分割法としては光学異性体の分割に通常用いられる
分割法が用いられ、例えば化合物(1)のラセミ体を光
学活性を有する有機カルボン酸(例、酒石酸、リンゴ酸
、マンデル酸)の塩とし、これを分別結晶やカラムクロ
マトグラフイ一に付して分割することができる。このよ
うにして得られる化合物()は所望により薬学上許容さ
れる塩、例えば無機酸(例、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
)、有機酸(例、クエン酸、マロン酸、マレイン酸、酒
石酸、フマール酸、メタンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸、蓚酸)との酸付加塩に自体公知の方法で導く
ことができる。このようにして得られる、たとえばR3
およびR4が水素原子である化合物(1)、すなわち化
合物()およびこれらの酸付加塩は心臓のβ1 一受容
体を刺激することなく、気管筋のβ2一受容体刺激作用
を示し、たとえば喘息及びその他の閉塞性気道疾病の治
療薬などの医薬として有用である。たとえば、前記の化
合物(1)および化合物()またはこれらの薬学的に許
容される酸付加塩を前記の医薬として用いる場合、それ
らの投与量は対象疾患の病状により異なるが成人体重1
kgあたり1日量として通常50〜150μ7であり、
それ自体あるいは適宜の薬学的に許容される担体、賦形
剤、希釈剤と混合し、粉末、顆粒、錠剤、カプセル剤、
注射剤、吸入剤、噴霧剤などの形態で経口的に投与する
ことができる。一般式()の化合物は、次に式次される
方法によつて合成することができる。
望によりさらにそれぞれの対掌体に分割することができ
る。分割法としては光学異性体の分割に通常用いられる
分割法が用いられ、例えば化合物(1)のラセミ体を光
学活性を有する有機カルボン酸(例、酒石酸、リンゴ酸
、マンデル酸)の塩とし、これを分別結晶やカラムクロ
マトグラフイ一に付して分割することができる。このよ
うにして得られる化合物()は所望により薬学上許容さ
れる塩、例えば無機酸(例、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
)、有機酸(例、クエン酸、マロン酸、マレイン酸、酒
石酸、フマール酸、メタンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸、蓚酸)との酸付加塩に自体公知の方法で導く
ことができる。このようにして得られる、たとえばR3
およびR4が水素原子である化合物(1)、すなわち化
合物()およびこれらの酸付加塩は心臓のβ1 一受容
体を刺激することなく、気管筋のβ2一受容体刺激作用
を示し、たとえば喘息及びその他の閉塞性気道疾病の治
療薬などの医薬として有用である。たとえば、前記の化
合物(1)および化合物()またはこれらの薬学的に許
容される酸付加塩を前記の医薬として用いる場合、それ
らの投与量は対象疾患の病状により異なるが成人体重1
kgあたり1日量として通常50〜150μ7であり、
それ自体あるいは適宜の薬学的に許容される担体、賦形
剤、希釈剤と混合し、粉末、顆粒、錠剤、カプセル剤、
注射剤、吸入剤、噴霧剤などの形態で経口的に投与する
ことができる。一般式()の化合物は、次に式次される
方法によつて合成することができる。
〔前記各式中、K3およびには前記と同意義〕、化合物
(a)、(b)は、一般に、一般式(a)、(b)に包
含されるその既知化合物の製造法と同様またはこれに準
する方法によつて製造できる〇さらに、一般式()にお
いて、K3およびRtが水素原子である化合物は、一般
式()においてR′3およびRtがベンジル基である化
合物を前記工程(B)で述べたのと同様の水酸基の保護
基の離脱反応に付すことにより製造することができる。
(a)、(b)は、一般に、一般式(a)、(b)に包
含されるその既知化合物の製造法と同様またはこれに準
する方法によつて製造できる〇さらに、一般式()にお
いて、K3およびRtが水素原子である化合物は、一般
式()においてR′3およびRtがベンジル基である化
合物を前記工程(B)で述べたのと同様の水酸基の保護
基の離脱反応に付すことにより製造することができる。
なお、一般式()の化合物は、前述の工程(A)の反応
において、RへおよびR′4がベンジル基である化合物
()を出発原料とすることによつて製造できる。参考例
1 金属カリウム(2.357)およびエタノール(20m
1)より製したポタシウムエトキシドの乾燥エーテル(
100m1)溶液にかき混ぜながら3・4−ジベンジル
オキシフエニルアセトニトリル(19.87)をメチル
ナイトレイト(11m1)に溶かして滴下する。
において、RへおよびR′4がベンジル基である化合物
()を出発原料とすることによつて製造できる。参考例
1 金属カリウム(2.357)およびエタノール(20m
1)より製したポタシウムエトキシドの乾燥エーテル(
100m1)溶液にかき混ぜながら3・4−ジベンジル
オキシフエニルアセトニトリル(19.87)をメチル
ナイトレイト(11m1)に溶かして滴下する。
室温で3時間かき混ぜ−30℃で一夜放置する。析出す
る淡黄色粉末を沢取する。エーテルで洗い風乾して粗3
・4−ジペンシルオキシフェニルアンニトロアセトニト
リルカリウム塩237を得る。本品を5%水酸化ナトリ
ウム水溶液(1.51)に加え28時間加熱還流する。
る淡黄色粉末を沢取する。エーテルで洗い風乾して粗3
・4−ジペンシルオキシフェニルアンニトロアセトニト
リルカリウム塩237を得る。本品を5%水酸化ナトリ
ウム水溶液(1.51)に加え28時間加熱還流する。
冷後−10−0℃でかき混ぜながら反応混合物に濃塩酸
(200m1)を加えエーテルで抽出する。エーテル不
溶物を沢去し、エーテル層を水洗、乾燥後エーテルを留
去する。残留物をけい酸カラムクロマトグラフイ一に付
し、溶出物をエーテル−ヘキサンより再結晶して3・4
−ジベンジルオキシフエニルニトロメタンを淡黄色針状
晶して得た。融点:65〜67℃参考例 2 3・4−ジベンジルオキシベンズアルデヒドオキシム(
3.37)、リン酸水素ナトリウム(7.87)および
尿素(0.27)のアセトニトリル(20m0溶液を加
熱還流し、これにかき混ぜながら無水トリフルオル酢酸
(3.4m0および90%過酸化水素から製した過トリ
フルオル酢酸のアセトニトリル(5m1)溶液を滴下す
る。
(200m1)を加えエーテルで抽出する。エーテル不
溶物を沢去し、エーテル層を水洗、乾燥後エーテルを留
去する。残留物をけい酸カラムクロマトグラフイ一に付
し、溶出物をエーテル−ヘキサンより再結晶して3・4
−ジベンジルオキシフエニルニトロメタンを淡黄色針状
晶して得た。融点:65〜67℃参考例 2 3・4−ジベンジルオキシベンズアルデヒドオキシム(
3.37)、リン酸水素ナトリウム(7.87)および
尿素(0.27)のアセトニトリル(20m0溶液を加
熱還流し、これにかき混ぜながら無水トリフルオル酢酸
(3.4m0および90%過酸化水素から製した過トリ
フルオル酢酸のアセトニトリル(5m1)溶液を滴下す
る。
滴下後更に1.5時間加熱還流する。冷後反応液を氷水
中に注ぎ、エーテルで抽出する。エーテル抽出液を順次
水、10%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗い、硫酸
マグネシウムで乾燥する。エーテルを減圧下に留去し、
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ一に付す。
クロロホルムで溶出させ、溶出液のクロロホルムを留去
した後、得られる残留物をエーテルから再結晶して3・
4−ジベンジルオキシフエニルニトロメタンを淡黄色針
状晶として得た。融点:65〜67℃o本品は参考例1
で得られたものと一致した。参考例 3 3・4−ジベンジルオキシフエニルニトロメタン(7t
)、3・4・5−トリメトキシベンズアルデヒド(47
)、酢酸アンモニウム(17)、酢酸(25m1)のベ
ンゼン(100m1)溶液を生成する水を除きながら加
熱還流する。
中に注ぎ、エーテルで抽出する。エーテル抽出液を順次
水、10%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗い、硫酸
マグネシウムで乾燥する。エーテルを減圧下に留去し、
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ一に付す。
クロロホルムで溶出させ、溶出液のクロロホルムを留去
した後、得られる残留物をエーテルから再結晶して3・
4−ジベンジルオキシフエニルニトロメタンを淡黄色針
状晶として得た。融点:65〜67℃o本品は参考例1
で得られたものと一致した。参考例 3 3・4−ジベンジルオキシフエニルニトロメタン(7t
)、3・4・5−トリメトキシベンズアルデヒド(47
)、酢酸アンモニウム(17)、酢酸(25m1)のベ
ンゼン(100m1)溶液を生成する水を除きながら加
熱還流する。
3時間後、酢酸アンモニウム(2y)を加え更に25時
間加熱還流する。
間加熱還流する。
ついで反応液に水を加えエーテルで抽出する。エーテル
抽出液を水洗、乾燥する。エーテルを減圧下留去し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ一に付す。ク
ロロホルムで溶出させ溶出液のクロロホルムを留去して
3・4ジベンジルオキシ−3ζ4ζ5′一トリメトキシ
一α−ニトロスチルベンを黄色油状物として得た。NM
R(CDCl3):6.54(20CH3、s)、6.
17(0CH3、s)、4,90、4.80(0CH2
、s)、3.70(2ar0mat.H,.s)、3.
06(3ar0mat.H.m)、2,70(10ar
0mat.H.m)、1.95(=CH、s)参考例
4 水素化リチウムアルミニウム(8f)を乾燥エーテル(
200m1)に加え1時間加熱還流する。
抽出液を水洗、乾燥する。エーテルを減圧下留去し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ一に付す。ク
ロロホルムで溶出させ溶出液のクロロホルムを留去して
3・4ジベンジルオキシ−3ζ4ζ5′一トリメトキシ
一α−ニトロスチルベンを黄色油状物として得た。NM
R(CDCl3):6.54(20CH3、s)、6.
17(0CH3、s)、4,90、4.80(0CH2
、s)、3.70(2ar0mat.H,.s)、3.
06(3ar0mat.H.m)、2,70(10ar
0mat.H.m)、1.95(=CH、s)参考例
4 水素化リチウムアルミニウム(8f)を乾燥エーテル(
200m1)に加え1時間加熱還流する。
大部分の水素化リチウムアルミニウムが溶けた後、これ
に3・4−ジベンジルオキシ−3ζ4′・5′一トリメ
トキシ一α−ニトロスチルベン(4.27)の乾燥ジオ
キサン−エーテル(1:4)溶液(50m1)をかき混
ぜながら−10〜−5℃で滴下する。混合物をさらに室
温で3時間かき混ぜる。ついで反応液に水(8m1)を
加え過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解し、つい
で20%水酸化ナトリウム水溶液(16m1)を加える
。これにさらに水(8m1)を加え、有機層を傾斜して
除き、得られる沈澱物をエーテルで洗う。有機層とエー
テル洗液を合し、無水炭酸カリウムで乾燥する。溶媒を
減圧下に留去し、残留物をけい酸カラムクロマトグラフ
イ一に付す。クロロホルムで溶出させ、溶出液のクロロ
ホルムを留去すると、無色油状物としてα−(3・4−
ジベンジルオキシフエニル)−β−(3・4・5−トリ
メトキシフエニル)エチルアミンを得た。NMR(CD
Cl3):8.37(NH2、b)、7.00−7.4
0(CH2、m)、6.24(20CH3、s)、6.
20(0CH3、s)、6.24−6.20(CH.m
)、4.88(0CH2、S)13・70(2ar0m
at.H1s)、3・14(1ar0mat.H,.s
)、3.07(2ar0mat.H.d)、 2.63(10ar0mat.H..m)この油状物を
常法により小過剰の蓚酸と処理し、得られる蓚酸塩をメ
タノール一酢酸エチル(9:1)より再結晶して、α−
(3・4−ジベンジルオキシフエニル)−β一(3・4
・5−トリメトキシフエニル)エチルアミンの蓚酸塩を
無色絹糸状晶として得た。
に3・4−ジベンジルオキシ−3ζ4′・5′一トリメ
トキシ一α−ニトロスチルベン(4.27)の乾燥ジオ
キサン−エーテル(1:4)溶液(50m1)をかき混
ぜながら−10〜−5℃で滴下する。混合物をさらに室
温で3時間かき混ぜる。ついで反応液に水(8m1)を
加え過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解し、つい
で20%水酸化ナトリウム水溶液(16m1)を加える
。これにさらに水(8m1)を加え、有機層を傾斜して
除き、得られる沈澱物をエーテルで洗う。有機層とエー
テル洗液を合し、無水炭酸カリウムで乾燥する。溶媒を
減圧下に留去し、残留物をけい酸カラムクロマトグラフ
イ一に付す。クロロホルムで溶出させ、溶出液のクロロ
ホルムを留去すると、無色油状物としてα−(3・4−
ジベンジルオキシフエニル)−β−(3・4・5−トリ
メトキシフエニル)エチルアミンを得た。NMR(CD
Cl3):8.37(NH2、b)、7.00−7.4
0(CH2、m)、6.24(20CH3、s)、6.
20(0CH3、s)、6.24−6.20(CH.m
)、4.88(0CH2、S)13・70(2ar0m
at.H1s)、3・14(1ar0mat.H,.s
)、3.07(2ar0mat.H.d)、 2.63(10ar0mat.H..m)この油状物を
常法により小過剰の蓚酸と処理し、得られる蓚酸塩をメ
タノール一酢酸エチル(9:1)より再結晶して、α−
(3・4−ジベンジルオキシフエニル)−β一(3・4
・5−トリメトキシフエニル)エチルアミンの蓚酸塩を
無色絹糸状晶として得た。
融点:155−158℃。参考例 5α一(3・4−ジ
ベンジルオキシフエニル)β−(3・4・5−トリメト
キシフエニル)エチルアミン(200rf19)をメタ
ノール(10m1)に溶かし、5%パラジウム一炭素存
在下に水素ガス気流中、室温でかき混ぜる。
ベンジルオキシフエニル)β−(3・4・5−トリメト
キシフエニル)エチルアミン(200rf19)をメタ
ノール(10m1)に溶かし、5%パラジウム一炭素存
在下に水素ガス気流中、室温でかき混ぜる。
水素吸収停止後、触媒を沢去し、戸液を減圧下に蒸発乾
固する。残留物を常法により乾燥塩酸飽和エーテルで処
理し得られる塩酸塩をエタノール一酢酸エチル(10:
1)で再結晶するとd−(3・4−ジヒドロキシフエニ
ル)−β−(3・4・5−トリメトキシフエニル)エチ
ルアミン塩酸塩を無色針状晶として得た。融点:175
−184℃実施例 1 (1)α一(3・4−ジベンジルオキシフエニル)一β
−(3・4・5−トリメトキシフエニル)エチルアミン
(1.81)およびp−ヒドロキシフエニルアセトン(
0.65f)をメタノール(25m1)に溶かし、これ
にかき混ぜながら水素化シアノホウ素ナトリウム(0.
237)を加え室温で62時間かき混ぜる。
固する。残留物を常法により乾燥塩酸飽和エーテルで処
理し得られる塩酸塩をエタノール一酢酸エチル(10:
1)で再結晶するとd−(3・4−ジヒドロキシフエニ
ル)−β−(3・4・5−トリメトキシフエニル)エチ
ルアミン塩酸塩を無色針状晶として得た。融点:175
−184℃実施例 1 (1)α一(3・4−ジベンジルオキシフエニル)一β
−(3・4・5−トリメトキシフエニル)エチルアミン
(1.81)およびp−ヒドロキシフエニルアセトン(
0.65f)をメタノール(25m1)に溶かし、これ
にかき混ぜながら水素化シアノホウ素ナトリウム(0.
237)を加え室温で62時間かき混ぜる。
反応液に水を加えエーテルで抽出する。エーテル抽出液
を水洗、乾燥しエーテルを減圧下に留去する。残留物を
けい酸カラムクロマトグラフイ一に付す。CHCl3で
溶出させ、溶出液を3つの画分に分割した。
を水洗、乾燥しエーテルを減圧下に留去する。残留物を
けい酸カラムクロマトグラフイ一に付す。CHCl3で
溶出させ、溶出液を3つの画分に分割した。
クロロホルムを留去して、溶出液の第1画分よりN−(
β−4−ヒドロキシフエニルα−メチル)エチル−d−
(3・4−ジベンジルオキシフエニル)−β一(3・4
・5−トリメトキシフエニル)エチルアミンを無色油状
物として得た。NMR(CDCl3):9.24(CH
3、d)、7.60−7.00(2CH2、m)、6.
33(20CH3、s)、6.20(0CH3、s)、
6.20−5.90(CHN.m)、4.90(20C
H3、s)、3.80(2ar0mat.H,.s)、
3.40(4ar0mat.H1s)、3.20(Ar
Omat.H,.s)、 3.12(2ar0mat.H,.d)、2.70(1
0ar0mat.H.m) この油状物を常法により乾燥塩酸飽和エーテルで処理し
、得られる塩酸塩をエタノール−エーテル(20:1)
より再結晶してN−(β−4−ヒドロキシフエニル一d
−メチル)エチル−d(3・4−ジベンジルオキシフエ
ニル)−β(3・4・5−トリメトキシフエニル)エチ
ルアミン塩酸塩を無色針状晶として得た。
β−4−ヒドロキシフエニルα−メチル)エチル−d−
(3・4−ジベンジルオキシフエニル)−β一(3・4
・5−トリメトキシフエニル)エチルアミンを無色油状
物として得た。NMR(CDCl3):9.24(CH
3、d)、7.60−7.00(2CH2、m)、6.
33(20CH3、s)、6.20(0CH3、s)、
6.20−5.90(CHN.m)、4.90(20C
H3、s)、3.80(2ar0mat.H,.s)、
3.40(4ar0mat.H1s)、3.20(Ar
Omat.H,.s)、 3.12(2ar0mat.H,.d)、2.70(1
0ar0mat.H.m) この油状物を常法により乾燥塩酸飽和エーテルで処理し
、得られる塩酸塩をエタノール−エーテル(20:1)
より再結晶してN−(β−4−ヒドロキシフエニル一d
−メチル)エチル−d(3・4−ジベンジルオキシフエ
ニル)−β(3・4・5−トリメトキシフエニル)エチ
ルアミン塩酸塩を無色針状晶として得た。
融点:103−105℃。2)溶出液の第3画分よりク
ロロホルムを留去してN−(β−4−ヒドロキシフエニ
ル一α−メチル)エチル−α−(3・4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(3・4・5−トリメトキシフエ
ニル)エチルアミンを無色油状物として得た。
ロロホルムを留去してN−(β−4−ヒドロキシフエニ
ル一α−メチル)エチル−α−(3・4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(3・4・5−トリメトキシフエ
ニル)エチルアミンを無色油状物として得た。
NMR(CDCl3):8.99(CH3、b)、7.
6−7.0(2CH2、CH,.m)、6.40(20
CH3、s)、6.27(0CH3、s)、6.20−
5.80(CHN..m)、5.50、4.98(0C
H2、s)、 4.00(2ar0mat.H.s)、 3.60−3.00(3ar0mat.H,.m)、3
.10(4ar0mat.H,.s)、2.70(10
ar0mat.H,.m)この油状物を常法により乾燥
塩酸飽和エーテルで処理し、得られる塩酸塩をエタノー
ル−エーテル(20:1)より再結晶してN−(β4−
ヒドロキシフエニル一α−メチル)エチルd−(3・4
−ジベンジルオキシフエニル)β−(3・4・5−トリ
メトキシフエニル)エチルアミン塩酸塩を無色針状晶と
して得た。
6−7.0(2CH2、CH,.m)、6.40(20
CH3、s)、6.27(0CH3、s)、6.20−
5.80(CHN..m)、5.50、4.98(0C
H2、s)、 4.00(2ar0mat.H.s)、 3.60−3.00(3ar0mat.H,.m)、3
.10(4ar0mat.H,.s)、2.70(10
ar0mat.H,.m)この油状物を常法により乾燥
塩酸飽和エーテルで処理し、得られる塩酸塩をエタノー
ル−エーテル(20:1)より再結晶してN−(β4−
ヒドロキシフエニル一α−メチル)エチルd−(3・4
−ジベンジルオキシフエニル)β−(3・4・5−トリ
メトキシフエニル)エチルアミン塩酸塩を無色針状晶と
して得た。
融点:175−180℃。之施例 2
実施例1−(1)の第1画分より得られたN−(β4−
ヒドロキシフエニル一α−メチル)エチル−α一( 3
・ 4 −ジベンジルオキシフエニル)一β一( 3
・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニル)エチルア
ミン塩酸塩(364〜)をメタノール(10m1)中5
%Pd−c存在下水素ガス気流中室温でかき混ぜる。
ヒドロキシフエニル一α−メチル)エチル−α一( 3
・ 4 −ジベンジルオキシフエニル)一β一( 3
・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニル)エチルア
ミン塩酸塩(364〜)をメタノール(10m1)中5
%Pd−c存在下水素ガス気流中室温でかき混ぜる。
水素の吸収停止後触媒を沢去し、沢液を減圧下蒸発乾固
する。残留物をエタノール−エーテル(10:1)より
再結晶してN−(β一4−ヒドロキシフエニル一α−メ
チル)エチル−d −( 3 ・ 4 −ジヒドロキシ
フエニル)−β一(3・4・5−トリメトキシフエニル
)エチルアミン塩酸塩を淡褐色粉末として得る。融点二
149−150℃。実施例 3 実施例1−(?)で得られたN−(β− 4 −ヒドロ
キシフエニル一α−メチル)エチル−α−(3・4−ジ
ベンジルオキシフエニル)−β−(3・4・5−トリメ
トキシフエニル)エチルアミン塩酸塩〔実施例IHI)
の第一画分で得られたものの異性体〕(378〜)を実
施例2の接触還元と同様の接触還元に付し得られる結晶
をエタノール−エーテル(10:1)より再結晶してN
−(β− 4 一ヒドロキシフエニル一d−メチル)エ
チル−α一( 3・4−ジヒドロキシフエニル)一β−
(3・4・5−トリメトキシフエニル)エチルアミン塩
酸塩〔実施例2で得られた化合物の異性体〕を無色粉末
として得た。
する。残留物をエタノール−エーテル(10:1)より
再結晶してN−(β一4−ヒドロキシフエニル一α−メ
チル)エチル−d −( 3 ・ 4 −ジヒドロキシ
フエニル)−β一(3・4・5−トリメトキシフエニル
)エチルアミン塩酸塩を淡褐色粉末として得る。融点二
149−150℃。実施例 3 実施例1−(?)で得られたN−(β− 4 −ヒドロ
キシフエニル一α−メチル)エチル−α−(3・4−ジ
ベンジルオキシフエニル)−β−(3・4・5−トリメ
トキシフエニル)エチルアミン塩酸塩〔実施例IHI)
の第一画分で得られたものの異性体〕(378〜)を実
施例2の接触還元と同様の接触還元に付し得られる結晶
をエタノール−エーテル(10:1)より再結晶してN
−(β− 4 一ヒドロキシフエニル一d−メチル)エ
チル−α一( 3・4−ジヒドロキシフエニル)一β−
(3・4・5−トリメトキシフエニル)エチルアミン塩
酸塩〔実施例2で得られた化合物の異性体〕を無色粉末
として得た。
融点125−126℃。実施例 4
α一( 3 ・ 4 −ジベンジルオキシフエニル)一
β−( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニル
)エチルアミン( 500TI!9 )およびシクロブ
タノン(105〜)をエタノール(10m1)に溶かし
、これにかきまぜながら水素化シアノホウ素リチウム(
500〜)を加え室温で18時間かきまぜる。
β−( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニル
)エチルアミン( 500TI!9 )およびシクロブ
タノン(105〜)をエタノール(10m1)に溶かし
、これにかきまぜながら水素化シアノホウ素リチウム(
500〜)を加え室温で18時間かきまぜる。
反応液に水を加えエーテルで抽出する。
エーテル抽出液を水洗、乾燥し、エーテルを減圧下留去
する。残留物を常法により乾燥塩酸飽和エーテルで処理
して塩酸塩とし、エタノールより再結晶してN−シクロ
ブチル一α一( 3 ・ 4 −ジベンジルオキシフエ
ニル)一β一( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシ
フエニル)エチルアミン塩酸塩を無色針状晶として得た
。融点179−185℃。実施例 5 実施例4で得られたN−シクロブチル−d 一( 3・
4−ジベンジルオキシフエニル)一β一(3・4・5−
トリメトキシフエニル)エチルアミン塩酸塩(160T
n9)をメタノール(10m1)中10%Pd−c存在
下に水素ガス気流中室温でかきまぜる。
する。残留物を常法により乾燥塩酸飽和エーテルで処理
して塩酸塩とし、エタノールより再結晶してN−シクロ
ブチル一α一( 3 ・ 4 −ジベンジルオキシフエ
ニル)一β一( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシ
フエニル)エチルアミン塩酸塩を無色針状晶として得た
。融点179−185℃。実施例 5 実施例4で得られたN−シクロブチル−d 一( 3・
4−ジベンジルオキシフエニル)一β一(3・4・5−
トリメトキシフエニル)エチルアミン塩酸塩(160T
n9)をメタノール(10m1)中10%Pd−c存在
下に水素ガス気流中室温でかきまぜる。
水素の吸収停止後触媒をP去し、沢液を減圧下蒸発乾固
する。残留物をエーテルより結晶化してN−シクロブチ
ル−α−( 3 ・ 4 −ジヒドロキシフエニル)−
β一( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニル
)エチルアミン塩酸塩を無色粉末として得た。アセトン
より再結晶して無色結晶を得た。融点144−148℃
。NMR(D2O) τ 二 8.50− 7.60(
3CH2、m)、7.00− 6.40( CH2、N
CHm)、6.30(30CH3、s)、6.00−
5.60(CHN、m)、3.66(2ar0mat.
H..s)、3.40− 3.00( 3ar0mat
.H,.m)実施例 6 α=( 3 ・ 4 −ジベンジルオキシフエニル)−
β−( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニル
)エチルアミン(500m9)および臭化p−メトキシ
フエネチル(250W19)を油浴上120℃で30分
間加熱する。
する。残留物をエーテルより結晶化してN−シクロブチ
ル−α−( 3 ・ 4 −ジヒドロキシフエニル)−
β一( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニル
)エチルアミン塩酸塩を無色粉末として得た。アセトン
より再結晶して無色結晶を得た。融点144−148℃
。NMR(D2O) τ 二 8.50− 7.60(
3CH2、m)、7.00− 6.40( CH2、N
CHm)、6.30(30CH3、s)、6.00−
5.60(CHN、m)、3.66(2ar0mat.
H..s)、3.40− 3.00( 3ar0mat
.H,.m)実施例 6 α=( 3 ・ 4 −ジベンジルオキシフエニル)−
β−( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニル
)エチルアミン(500m9)および臭化p−メトキシ
フエネチル(250W19)を油浴上120℃で30分
間加熱する。
冷後析出する結晶をエタノール−エーテルより再結晶し
てN − p −メトキシフエネチル一α−( 3 ・
4 −ジベンジルオキシフエニル)一β−( 3 ・
4 ・ 5 −トリメトキシフエニル)エチルアミン
臭化水素酸塩を無色針状晶として得た。融点170−1
73℃。
てN − p −メトキシフエネチル一α−( 3 ・
4 −ジベンジルオキシフエニル)一β−( 3 ・
4 ・ 5 −トリメトキシフエニル)エチルアミン
臭化水素酸塩を無色針状晶として得た。融点170−1
73℃。
実施例 7
実施例6で得られたN − p −メトキシフエネチル
一α一( 3 ・ 4 −ジベンジルオキシフエニル)
−β−( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニ
ル)エテルアミン臭化水素酸塩(160〜)をメタノー
ル(10m1)中10%Pd−c存在下に水素ガス気流
中室温でかきまぜる。
一α一( 3 ・ 4 −ジベンジルオキシフエニル)
−β−( 3 ・ 4 ・ 5 −トリメトキシフエニ
ル)エテルアミン臭化水素酸塩(160〜)をメタノー
ル(10m1)中10%Pd−c存在下に水素ガス気流
中室温でかきまぜる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_3およびR_4は水素原子またはベンジル
基を示す。 R_1およびR_2は一方が水素原子またはメチル基を
、他方が4−位が水酸基またはメトキシ基で置換された
フェニル低級アルキル基を示すか、またはこれらはたが
いに結合して隣接する炭素原子とともに環を形成し▲数
式、化学式、表等があります▼でシクロブチル基を示す
〕で表わされるカテコール誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP127376A JPS5931493B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | カテコ−ル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP127376A JPS5931493B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | カテコ−ル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5283820A JPS5283820A (en) | 1977-07-13 |
| JPS5931493B2 true JPS5931493B2 (ja) | 1984-08-02 |
Family
ID=11496843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP127376A Expired JPS5931493B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | カテコ−ル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5931493B2 (ja) |
-
1976
- 1976-01-01 JP JP127376A patent/JPS5931493B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5283820A (en) | 1977-07-13 |
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