JPS5942687B2 - エポキシ−シリコ−ン樹脂組成物 - Google Patents

エポキシ−シリコ−ン樹脂組成物

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JPS5942687B2
JPS5942687B2 JP14039376A JP14039376A JPS5942687B2 JP S5942687 B2 JPS5942687 B2 JP S5942687B2 JP 14039376 A JP14039376 A JP 14039376A JP 14039376 A JP14039376 A JP 14039376A JP S5942687 B2 JPS5942687 B2 JP S5942687B2
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molding
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利夫 塩原
恭彦 佐藤
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は耐熱性および耐透湿性にすぐれたエポキシ−シ
リコーン樹脂組成物、とくには半導体封止用成形材料と
して好適に使用される組成物に関するものである。
従来、半導体封止用成形材料としては、エポキシ樹脂あ
るいはシリコーン樹脂が多用されているが、たとえばエ
ポキシ樹脂は高温、とくに180℃以上の温度において
は長時間の使用に耐え得ることができないという不利が
あり、またシリコーン樹脂は接着性および耐透湿性に劣
るため、これで半導体材料を封止した場合、該半導体材
料と樹脂との界面より水分が浸入し半導体特性に悪影響
を及ぼすという欠点かあり、これらの樹脂には半導体封
止用成形材料として充分満足すべき特性を有していない
という問題があつた。
近年、半導体技術の発展に伴ない、樹脂封止方式は半導
体素子および集積回路素子用パッケージとして定着化し
つつあるが、高信頼性が要求される分野においては、耐
透湿性、耐熱性などの観点からハーメチック方式が主流
となつている。
この発明は上記したような従来の欠点を除去し、前記し
たような高信頼性が要求される分野に好適とされる新規
なエポキシ−シリコーン樹脂組成物に関するものであつ
て、これはイ)工分子中に2個以上のエポキシ基を有し
、かっエポキシ当量が50〜5000であるエポキシ樹
脂、ロ)式 (HSRI)a(R2)bSIO (式中、R1は脂肪族不飽和結合を有しない2価炭化水
素基、R2はメルカプト基置換l価炭化水素基を除く置
換もしくは非置換の1価炭化水素基、aはlまたは2、
bは0、1または2である。
ただし、a+b≦3)で示されるシロキサン単位をI分
子中に2個以上有するオルガノポリシロキサン、ノ◆
硬化用触媒 からなるものである。
つぎに本発明に係るエポキシ−シリコーン樹脂組Y5,
物についてさらに詳細に説明する。
まず、本発明において使用するイ)成分としてエポキシ
樹脂はl分子中に2個以上のエポキシ基を有し、かつエ
ポキシ当量が50〜5000の範囲にあるものである限
りその分子構造あるいは分子量などにとくにMll限は
なく、現在知られているすべてのものを使用することが
できる。該エポキシ基が2個未満の場合には良好な成形
品を得ることができない。このようなエポキシ樹脂とし
ては、たとえば2,2−ビス(4−オキシフエニル)プ
ロパンのジグリシジルエーテル、ブタジエンジエポキシ
ド、ビニルシクロヘキセンジオキシド、レゾルシンのジ
グリシジルエーテルなどの2官首巳エポキシ化合物、多
価フエノールまたは多価アルコールとエピクロルヒドリ
ンとを縮合させて得られるエポキシグリシジルエーテル
、ポリグリシジルエステル、ノボラツク型フエノール樹
脂とエピクロルヒドリンとを縮合させて得られるエポキ
シノボラツク、過酸化法によりエポキシ化したエポキシ
化ポリオレフイン、エポキシ化ポリブタジエン、オルガ
ノポリシロキサンとエポキシ樹脂とを縮合させて得られ
るエポキシ変性オルガノポリシロキサン、トリス(グリ
シジル)イソシアヌレートなどの3官能以上のエポキシ
樹脂などをあげることができる。
また、本発明に使用する口)成分としてのオルガノポリ
シロキサンは、その分子中に前記した式で示されるシロ
キサン単位を少なくとも2個以上含有するものであるこ
とが必須とされる。該式中、R”は脂肪族不飽和結合を
有しない2価炭化水素基であつて、具体的にはメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、n−ブチレン基、イソ
ブチレン基、へキシレン基、2−エチルヘキシレン基、
n−オクチレン基、デシレン基などのアルキレン基、フ
エニレン基、ナフチレン基などのアリーレン基、キシリ
レン基、トリレン基などのアルカリレン基、シクロペン
チレン基、シクロヘキシレン基、シクロブチレン基など
のシクロアルキレン基、2−フエニルプロピレン基、−
C6H4−一C2H4−などの置換アルキレン基などを
あげることができるが、本発明においては、このR1か
炭素原子数1〜18、さらに好ましくは炭素原子数l−
10の直鎖状または分枝鎖伏のアルキレン基であること
が好ましい。
またR2は置換もしくは非置換のメルカプト基置換1価
炭化水素基を除くl価炭化水素基であつて、具体的には
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、オクタデ
シル基などの直鎖状または分枝鎖状アルキル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基
、フエニル基、ナフチル基などのアリール基、トリル基
、キシレニル基などのアルエリル基、ベンジル基、フエ
ニルエチル基、ナフチルブチル基などのアラルキル基が
あげられるが、本発明においてはこのR2は炭素原子数
l−10の直鎖状または分枝鎖状アルキル基もしくはフ
ニニル基であることが好ましい。このような口)成分は
従来から知られている方法により製造することができる
が、この方法としては、たとえば(1)一般式(式中、
Rl,R2,aおよびbは前述と同じ意味であり、Xは
ハロゲン原子あるいはアルコキシ基、アシロキシ基、水
酸基などの加水分解可能な基から選択される基である)
で示されるシランを加水分解、縮合させる方法あるいは
(2)メルカプト基含有オルガノシランと加水分解可能
な基を有する他のオルガノシランとを共加水分解、共縮
合させる刃法などをあげることができ、該加水分解可首
巳な基る有するオルガノシランとしてはなど (ここにXは前述と同じ意味である)、さらにはそれら
の式中の炭化水素基の水素原子の一部もしくは全部がハ
ロゲン原子等で置換されたシラン類をあげることができ
る。
なお、この口)成分としてのオルガノポリシロキサンは
その分子構造についてはとくに制限はなく、直鎖状、分
枝鎖状、環状のいずれであつてもよい。
さらに、本発明に使用するハ)成分としての硬化用触媒
としては、たとえば、トリエチルアミン、トリメチルア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、ジメチルアミノエタノ
ール、ジメチルアニリン、トリス(ジメチルアミノ)フ
エノール、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリ
ンなどのアミン化合物、アセチルトリメチルアンモニウ
ムブロマイド、セチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ベン
ジルジメチルステアリルアンモニウムプロマイドなどの
第4級アンモニウム塩、2−エチルイミダゾール、2−
メチルイミダゾール、l−メチルイミダゾール、l−プ
ロピル−2−メチルイミダゾール、l−ベンジル一2−
メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイ
ミダゾール、1−シアノエチル−2−フエニルイミダゾ
ールなどのイミダゾール化合物、l−ベンジル一2−メ
チルイミダゾールとテレフタル酸との塩、イミダゾール
とマレイン酸あるいはアジピン酸との塩、などのイミダ
ゾール誘導体が例示される。
これらの硬化用触媒を実際使用するにあたつては1種類
のみに限定する必要はなく、2種類もしくはそれ以上を
併用してもよい。
本発明のエポキシ−シリコーン樹脂組成物は、上記した
イ),口)およびハ)成分を単に均一に混合することに
より得られるが、該イ),口)およびハ)成分の配合判
合については、口)成分を該イ)成分中のエポキシ基1
個に対してこの口)成分中のメルカプト基(−SH)を
0.1〜3個与えるような量とすることが好ましく、ま
たハ)成分は該イ)成分と口)成分との合計量に対して
0.001−10重量%とすれば充分である。
上述のようにして均一に混合した本発明の組成物は、ト
ランスフア一成形法、プレス成形法などの成形方法を採
用することにより所望の成形品を得ることができ、この
際の成形条件は従来のシリコーン樹脂から成形品を成形
するときの成形条件とほば同様とすればよい。なお、本
発明の組成物には、これから得られる成形品に機械的強
度などを付与するために本発明の目的を損なわない範囲
で種々の充填剤を添加配合することは何ら差支えなく、
この充填剤としては、ガラス粉末、けいそう土、石英粉
末、溶融シリカ、沈降シリカ、けい酸マグネシウム、ガ
ラス繊維などが例示される。
さらに、本発明の組成物には、エポキシ樹脂のカツプリ
ング剤として各種のシラン化合物、あるいは離型剤など
を配合してもよい。
本発明の組成物は接着乃至固着性にきわめてすぐれ、ま
たこれから得られる各種成形品は高温における長時間の
使用に耐えることができ、また機械的特性、亀気的特性
にすぐれるため、半導体封止用成形材料をはじめとして
、それ以外に一般成形用材制、粉体塗装用材制、耐熱性
ワニス、注型用樹脂、含浸用樹脂、コーテイング用材判
などの他の分野に広く応用することができる。
つぎに本発明の実施例および比較例をあげる。
実施例 1(HSCH2CH2CH2)(CH3)Sl
O単位60モル%とC6H,SiOI.5単位40モル
%からなるオルガノポリシロキサン59、ノボラツク型
エポキシ樹脂(商品名 DEN−438、タウ ケミカ
ル社製、エポキシ当量180)5′、溶融シリカ28.
59およびで示される硬化用促進剤0.2gを均一に混
練した(メルカプト基/エポキシ基=1.05(モル比
)。
つぎに、上記で得た混練物を成形温度175℃、成形時
間3分、成形圧力56k9/CTiiの条件でトランス
フア一成形し、さらに180℃で2時間ポストキユアし
た。得られた成形品の加熱減量は0.34%、室温から
15『Cまでの膨張係数は4.85X10−51/℃、
曲げ強さは10,6k9/Mm2であつた。実施例 2 (HSCH2CH2CH2) (CH3)SiO単位3
0モル%、C65SlO,.5単位50モル%およびC
H3SiOl.5単位20モル%からなるオルガノポリ
シロキサン209、ノボラツク型エポキシ樹脂(商品名
ECN−1273、チバ社製、エポキシ当量225)2
09、溶融シリカ1149および2−メチルイミダゾー
ルとマレイン酸との塩0.259を均一に混合し、これ
をロール温度80〜90℃のロールで十分混練したのち
和粉砕し、粉末状樹脂組成物を得た(メルカプト基/エ
ポキシ基=1.6(モル比))。
つぎに上記で粗粉砕して得た樹脂組成物を、実施例1と
同じ方法でトランスフア一成形し、ここで得られた成形
品を200℃で2時間ポストキユア一した。
得られた成形品についての加熱減量は0,22%、室温
から150℃までの膨張係数は4.2X10−51/0
C1曲げ強さは12.3k9/Mm2であつた。また、
上記で相.粉砕して得た樹脂組成物を成形温度175℃
、成形圧力56kg/CTiLl成形時間3分の条件で
成形したのち、180℃で2時間ポストキユア一して模
擬トランジスター(基板材質銅)10個を作成し、この
模擬トランジスターを煮沸水中に24時間浸し、銅板と
樹脂との界面における水の浸人の有無を調べたところ、
10個のいずれについても水の浸入は全くみられなかつ
た。
実施例 3(HSCH2CH2CH2)(Cl−13)
SlO単位30モル%およびCH3SiO,.5単位7
0モル%からなるオルガソポリシロキサン209、ノボ
ラツク型エポキシ樹脂(商品名 EGN−1273チバ
社製、エポキシ当量225)2011溶融シリカ114
9および2−メチルイミダゾールとマレイン酸との塩0
.259を実施例2と同様の力法で混練、和粉砕して粉
状樹脂組成物を得た(メルカプト基/エポキシ基=1.
1)つぎに上記で粗粉砕して得た樹脂組成物を実施例2
と同じ力法で成形して成形品を得た。
得られた成形品の加熱減量は0.19f!b1室温から
150℃までの膨張係数は3.67X10−51/℃、
曲げ強さは11.2k9/71tm2であつた。また、
上記で得た樹脂組成物を用いて模擬トランジスター10
個を実施例2と同じ方法で作成し、このものについて水
の浸入の有無を調べたところ、10個のいずれについて
も水の浸入は全くみられなかつた。実施例 4 実施例3におけるオルガノポリシロキサンの代りに(H
SCH2CH2CH2)(CH3)SlO単位のみから
なるオルガノポリシロキサン209を使用フしたほかは
実施例3と同じ組成からなるものを実施例2と同様の刀
法で混練、和粉砕して粉末樹脂組成物を得た(メルカプ
ト基/エポキシ基0.45)。
つぎに上記で相粉砕して得た樹脂組成物を実施例2と同
じ刀法で成形して成形品を得た。
得られた成形品の加熱減量は0.24%、室温から15
0゜Cまでの膨張係数は5.19X10−51/℃、曲
げ強さは10.4k9/Mm2であつた。また、上記で
得た樹脂組成物を使用して模擬トランジスタ一10個を
実施例2と同じ方法で作成したのち、このものについて
水の浸入の有無を実施例2と同様にして調べたところ、
10個のいずれについても水の浸人は全くみられなかつ
た。
実施例 5(HSCH2CH2CH2)(CH3)Sl
O単位30モル%、C6H5SlOl.5単位50モル
%およびCH3SiO,.5単位20モル%からなるオ
ルガノポリシロキサン109、ノボラツク型フエノール
樹脂(商品名 ECN−1273)209、溶融シリカ
85gおよび2−メチルイミダゾールとマレイン酸の塩
0.259を実施例2と同様の方法で混練、和粉砕して
粉末状樹脂組成物を得た(メルカプト基/エポキシ基=
0.8(モル比))。
つぎに上記で相.粉砕して得た樹脂組成物を実施例2と
同じ力法で成形して成形品を得た。得られた成形品の加
熱減量は0,1(Fbl室温から150℃までの膨張係
数は4.2×10−51/℃、曲げ強さは14.6k9
/Mm2であつた。また、上記で得た樹脂組成物を使用
して模擬トランジスター10個を実施例2と同じ方法で
作成したのち、このものについて水の浸入の有無を実施
例2と同様にして調べたところ、10個のいずれについ
ても水の浸入は全くみられなかつた。
実施例 6(HSCH2CH2CH2)(CH3)Sl
O単位30モル%、C6H5SiOl.5単位50モル
%およびCH3SiOl.5単位20モル%からなるオ
ルガノポリシロキサン209、該シロキサン中のメルカ
プト基1個に対するエポキシ基の個数が下記の表に示す
ような割合となるノボラツク型エポキシ樹脂(商品名
ECN−1273チバ社長、エポキシ当量225)、2
−メチルイミダゾールとマレイン酸の塩0.259およ
び溶誘シリカ1149を実施例2と同様の方法で混練、
和粉砕して粉末状樹脂組物を得た。
つぎに上記で和粉砕して得た樹脂組成物を実施例2と同
じ刀法で成形し成形品を得た。
得られた成形品について曲げ強さ、成形直後の表面硬度
おネ*よび実施例2と同様の方法で模擬トランジスター
10個を作成し、このものについて水の浸入の有無を調
べたところ、それぞれ下記の表に示すような結果が得ら
れた。比較例 市販のシリコーン樹脂(商品名 KMC−10、信越化
学社製)を実施例2と同じ方法でトランスフア一成形し
成形品を得た。
得られた成形品の加熱減量は0.3%、室温から150
℃までの膨張係数は4.2X10−51/℃、曲げ強さ
は6.5k9/Mm2であつた。また、該シリコーン樹
脂を使用して模擬トランジスター10個を実施例2と同
じ方法で作成し、これらのトランジスターについて水の
浸人の有無を実施例2と同様にして調べたところ、10
個のすべてについて水の浸入がみられた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 イ)1分子中に2個以上のエポキシ基を有し、かつ
    エポキシ当量が50〜5000であるエポキシ樹脂、ロ
    )式 (HSR^1)a(R^2)bSiO_4_−_a_−
    _b_/_2(式中、R^1は脂肪族不飽和結合を有し
    ない2価炭化水素基、R^2はメチルカプト基置換1価
    炭化水素基を除く置換もしくは非置換の1価炭化水素基
    、aは1または2、bは0、1または2である。 ただし、a+b≦3)で示されるシロキサン単位を1分
    子中に2個以上有するオルガノポリシロキサン、ハ)硬
    化用触媒 からなるエポキシ−シリコーン樹脂組成物。
JP14039376A 1976-11-22 1976-11-22 エポキシ−シリコ−ン樹脂組成物 Expired JPS5942687B2 (ja)

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JPS5364266A JPS5364266A (en) 1978-06-08
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