JPS60132945A - 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 - Google Patents
新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS60132945A JPS60132945A JP58239815A JP23981583A JPS60132945A JP S60132945 A JPS60132945 A JP S60132945A JP 58239815 A JP58239815 A JP 58239815A JP 23981583 A JP23981583 A JP 23981583A JP S60132945 A JPS60132945 A JP S60132945A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- range
- preparation
- usable
- spectral sensitivity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 10
- 125000002490 anilino group Chemical class [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims abstract description 4
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract description 8
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 8
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Chemical group 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 abstract 1
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 2
- SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanol Chemical compound OCCCl SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001474791 Proboscis Species 0.000 description 1
- -1 Se/Te Chemical class 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- WVHYFUMRIFQFNH-UHFFFAOYSA-N cyclobutene-1,2-diol Chemical compound OC1=C(O)CC1 WVHYFUMRIFQFNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真用感光体の電荷発生物質として、可視
域から近赤外の波長域にわたって光感度を有する新規な
スクェアリウム化合物及びその製造方法に関する。
域から近赤外の波長域にわたって光感度を有する新規な
スクェアリウム化合物及びその製造方法に関する。
従来、電子写真用感光体用材料として数多くの物質が知
られている。中でも、長波長域に光感度を示すものとし
てSe/Te 、Se/As 、CdSe などの無機
化合物がある。これら無機化合物の多くは毒物、劇物あ
るいは特定化学物質に指定され、その取り扱い、特に廃
棄には注意を要するとともに、製造がむずかしく、製造
コストが高い、可撓性がなくベルト状−に加工すること
が困難であるなど多くの問題点がある。また、有機化合
物としてはフタロシアニン化合物があり、毒性がなく、
安価であるが、550nm以下での光感度が低いことと
、精製が困難であることが問題であり、可視域から近赤
外域にわたってフラットな光感度を示す実用的な物質は
みつかっていない。
られている。中でも、長波長域に光感度を示すものとし
てSe/Te 、Se/As 、CdSe などの無機
化合物がある。これら無機化合物の多くは毒物、劇物あ
るいは特定化学物質に指定され、その取り扱い、特に廃
棄には注意を要するとともに、製造がむずかしく、製造
コストが高い、可撓性がなくベルト状−に加工すること
が困難であるなど多くの問題点がある。また、有機化合
物としてはフタロシアニン化合物があり、毒性がなく、
安価であるが、550nm以下での光感度が低いことと
、精製が困難であることが問題であり、可視域から近赤
外域にわたってフラットな光感度を示す実用的な物質は
みつかっていない。
本発明は可視域から近赤外の波長域の全体にわたpてフ
ラットな光感度を有する新規なスクェアリウム化合物を
提供したものである。
ラットな光感度を有する新規なスクェアリウム化合物を
提供したものである。
すなわち本発明の第1の対象は下記一般式(υ(式中、
Xは水酸基、メトキシ基又はハロゲン原子を表わす。) 本発明の第2の対象は式1) で示される3、4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−
1,2−ジオン(以下スクエアリックアシッドと呼ぶ。
Xは水酸基、メトキシ基又はハロゲン原子を表わす。) 本発明の第2の対象は式1) で示される3、4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−
1,2−ジオン(以下スクエアリックアシッドと呼ぶ。
〕と一般式■
(式中、Xは前記と同じ意味を表わす。)で示されるア
ニリン誘導体とを反応させることを特徴とする前記の新
規なスクェアリウム化合物の製造方法である。
ニリン誘導体とを反応させることを特徴とする前記の新
規なスクェアリウム化合物の製造方法である。
前記の新規スクェアリウム化合物はスクエアリックアシ
ッドとアニリン誘導体を溶媒(例えば、n−ブタノール
、あるいはアミルアルコール)中で、120〜1−0℃
にて3時間から5時間反応させることによって得られる
。得られた化合物は洗浄後、さらに適当な溶媒で再結晶
することにより精製される。
ッドとアニリン誘導体を溶媒(例えば、n−ブタノール
、あるいはアミルアルコール)中で、120〜1−0℃
にて3時間から5時間反応させることによって得られる
。得られた化合物は洗浄後、さらに適当な溶媒で再結晶
することにより精製される。
、゛この様にして得られる本発明の新規スクェアリウム
化合物の具体例を構造式で以下の表1に示す〇 表 1 この様にして製造される新規なスクェアリウム化合物は
積層型感光体の電荷発生物質として有効である。
化合物の具体例を構造式で以下の表1に示す〇 表 1 この様にして製造される新規なスクェアリウム化合物は
積層型感光体の電荷発生物質として有効である。
また、分光感度は400〜850 nmの範囲にわたっ
てフラットな光感度を示し、全町視域及び近赤外域にお
いて、充分な光感度を有する。
てフラットな光感度を示し、全町視域及び近赤外域にお
いて、充分な光感度を有する。
従って、通常の電子写真複写機のみならず、半導体レー
ザープリンターとしての応用が可能でイー・ンテリジェ
ントコビアとして広く用いられる。また、電子写真分野
以外にも、レーザーディスクなどの光学記録媒体として
や有機太wI電池など様々な応用が可能である。
ザープリンターとしての応用が可能でイー・ンテリジェ
ントコビアとして広く用いられる。また、電子写真分野
以外にも、レーザーディスクなどの光学記録媒体として
や有機太wI電池など様々な応用が可能である。
次に本発明を実施例により説明する。
且轟豆上 豆皇1思皮聚i
N−ヒドロキシエチル−N−メチルーアニリy5.3t
ト3.4−ジヒドロキシ−3−シクロプテン1.01を
n−ブタノール35−中に加え、攪拌しながら、120
〜130℃で、5.5時間加熱した。冷却後析出した青
緑色の結晶を濾過し、メタノールで洗浄後、クロロエタ
ノールから再結晶し、乾燥して、目的物のスクェアリウ
ム色素を1.3 r (38,0%)得た。
ト3.4−ジヒドロキシ−3−シクロプテン1.01を
n−ブタノール35−中に加え、攪拌しながら、120
〜130℃で、5.5時間加熱した。冷却後析出した青
緑色の結晶を濾過し、メタノールで洗浄後、クロロエタ
ノールから再結晶し、乾燥して、目的物のスクェアリウ
ム色素を1.3 r (38,0%)得た。
分解点: 260 ’Q。
赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤法):voH= 3
370 tyn −’ 区、。= 1590cm−” 。
370 tyn −’ 区、。= 1590cm−” 。
元素分析: 実測値 理論値
C69,26% 69.46係
H6,40% 6.36 %
N 7.21% 7.36%
可視吸収スペクトル:
A−、、= 633 nm (ジクロルメタン溶液中)
。
。
火J1ち」しニーL
アニリンの誘導体をかえて、実施例1と同様にしC3,
4−ジヒドロキシ−3−シクロブテンとアニリン誘導体
を反応させた。表2に生成した各化合物の分解点、赤外
吸収スペクトルおよび可視吸収スペクトルの数値を示し
、表3に元素分析の結果を示した。
4−ジヒドロキシ−3−シクロブテンとアニリン誘導体
を反応させた。表2に生成した各化合物の分解点、赤外
吸収スペクトルおよび可視吸収スペクトルの数値を示し
、表3に元素分析の結果を示した。
表 2
競 メタノール溶液中
表 3
実施例化金物屋 分 子 式 実測値(吻 理論値C%
)2(2)C24H28N204 ρ7024 70.
57H6,746,91 N 7.00 6.86 N 6.35 6.23 C615,5215,77 4(4) c22H22”2o2ar2 C49,11
49,09H4,154,12 N 5.06 520 Br 29.62 29.66
)2(2)C24H28N204 ρ7024 70.
57H6,746,91 N 7.00 6.86 N 6.35 6.23 C615,5215,77 4(4) c22H22”2o2ar2 C49,11
49,09H4,154,12 N 5.06 520 Br 29.62 29.66
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 υ (式中、Xは水酸基、メトキシ基又は)・ロゲン原子を
表わす。ン で示されるスクェアリウム化合物。 2)式(II) H で示される3、4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−
1,2−ジオンと一般式(ffl)(式中、Xは水酸基
、メトキシ基又はハロゲン原子を表わす。) で示されるアニリン誘導体とを反応させることを特徴と
する一般式(1) (式中、Xは前記と同じ意味を表わす。)で示されるス
クェアリウム化合物の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58239815A JPS60132945A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 |
| US06/682,211 US4700001A (en) | 1983-12-16 | 1984-12-17 | Novel squarylium compound and photoreceptor containing same |
| US06/946,641 US4707427A (en) | 1983-12-16 | 1986-12-29 | Squarylium compound in an electrophotographic element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58239815A JPS60132945A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60132945A true JPS60132945A (ja) | 1985-07-16 |
| JPH0344587B2 JPH0344587B2 (ja) | 1991-07-08 |
Family
ID=17050257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58239815A Granted JPS60132945A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-21 | 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60132945A (ja) |
-
1983
- 1983-12-21 JP JP58239815A patent/JPS60132945A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0344587B2 (ja) | 1991-07-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4524218A (en) | Processes for the preparation of squaraine compositions | |
| JP4461011B2 (ja) | μ−オキソ架橋型異種金属フタロシアニン化合物及びその選択的製造方法 | |
| JPS60130557A (ja) | 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 | |
| JP3287129B2 (ja) | フタロシアニン化合物、その中間体、該化合物の製造方法及びこれを含有する近赤外線吸収材料 | |
| JPH01146845A (ja) | 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法 | |
| JPS60130558A (ja) | 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 | |
| JPH046701B2 (ja) | ||
| JPH0253431B2 (ja) | ||
| JP2002114790A (ja) | フタロシアニン化合物およびナフタロシアニン化合物の精製方法 | |
| JPH0344587B2 (ja) | ||
| JPS60130564A (ja) | 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 | |
| JP3780544B2 (ja) | 新規フタロシアニン化合物及びそれを用いた電子写真感光体 | |
| JPS635093A (ja) | ビス(トリアルキルシロキシ)シリコンナフタロシアニン及びその製造法 | |
| JPH0576947B2 (ja) | ||
| US5041665A (en) | Process for preparing squarylium compounds | |
| JPH046700B2 (ja) | ||
| JPH0360350B2 (ja) | ||
| JPS61167680A (ja) | スクアリリウム化合物 | |
| JPS60248653A (ja) | 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 | |
| JPS60260554A (ja) | 新規なスクエアリウム化合物およびその製造方法 | |
| JP2585722B2 (ja) | 新規な近赤外線吸収色素 | |
| JPS60260545A (ja) | 新規なアニリン誘導体およびその製造方法 | |
| JP3278998B2 (ja) | オキソチタニウムフタロシアニン結晶の製造方法および該化合物を含む電子写真用感光体 | |
| JPH0621231B2 (ja) | スクエアリリウム顔料の精製方法 | |
| JP4266410B2 (ja) | 置換基含有フタロニトリルまたはフタロシアニン化合物の製造方法 |