JPS6015456A - ポリエ−テルエステルアミド組成物 - Google Patents
ポリエ−テルエステルアミド組成物Info
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- JPS6015456A JPS6015456A JP12316783A JP12316783A JPS6015456A JP S6015456 A JPS6015456 A JP S6015456A JP 12316783 A JP12316783 A JP 12316783A JP 12316783 A JP12316783 A JP 12316783A JP S6015456 A JPS6015456 A JP S6015456A
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- ester amide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、耐熱性および耐候性に曖れた性能を有するポ
リエーテルエステルアミド樹脂組成物に関する。
リエーテルエステルアミド樹脂組成物に関する。
ポリマー主鎖中ｔこポリアミド繰返し単位、ポリニーデ
ル繰返し単位およびエヌテル結合を有するポリエーテル
エステｌレアミドは公知であす、ホリエーテルエステル
あるいはポリエステルアミド同様、すぐれた耐衝撃性や
ゴム弾性を有するためエラストマー分野における新しい
素材として近年注目されている。
ル繰返し単位およびエヌテル結合を有するポリエーテル
エステｌレアミドは公知であす、ホリエーテルエステル
あるいはポリエステルアミド同様、すぐれた耐衝撃性や
ゴム弾性を有するためエラストマー分野における新しい
素材として近年注目されている。
とりわけ、ポリエーテルエステルアミドは軽量性、透明
性、低温耐衝撃性にすぐれ、また成形時にパリ、ヒゲ等
が生じにくいため各種成型用途に有望である。しかしポ
リエーテルエステｌレアミドはきわめて酸化劣化を受け
やす（、重合度の低下ｅこ伴って機械的性質の低下、表
面の亀裂発生、着色などの好ましくない現象を起こす。
性、低温耐衝撃性にすぐれ、また成形時にパリ、ヒゲ等
が生じにくいため各種成型用途に有望である。しかしポ
リエーテルエステｌレアミドはきわめて酸化劣化を受け
やす（、重合度の低下ｅこ伴って機械的性質の低下、表
面の亀裂発生、着色などの好ましくない現象を起こす。
特にこの酸化劣化は熱や光などによって促進され、屋外
曝露や高温雰囲気下では、その使用は制限を受けている
。従ってこれらの劣化現象を防止する目的テホリエーテ
ルエステルアミド？こ種々の安定剤ヲ添加することが検
討されている。しかるにポリエーテルエステルアミドの
安定化に関しては知見も少なく、効果的ｅこ満足できる
ものはなかった。本発明者らはこれらの点ｔこ鑑み、鋭
意検討を重ねた結果、ポリエーテルエステｌアミドｅこ
対し安定剤として特定の化合物群を添加することｅこよ
って、従来得ることのできなかった耐熱性および耐候性
ともｅこ極めて優れたポリエーテルエステルアミド樹脂
組成物が得られることを見出し、本発明ｅこ到達した。
曝露や高温雰囲気下では、その使用は制限を受けている
。従ってこれらの劣化現象を防止する目的テホリエーテ
ルエステルアミド？こ種々の安定剤ヲ添加することが検
討されている。しかるにポリエーテルエステルアミドの
安定化に関しては知見も少なく、効果的ｅこ満足できる
ものはなかった。本発明者らはこれらの点ｔこ鑑み、鋭
意検討を重ねた結果、ポリエーテルエステｌアミドｅこ
対し安定剤として特定の化合物群を添加することｅこよ
って、従来得ることのできなかった耐熱性および耐候性
ともｅこ極めて優れたポリエーテルエステルアミド樹脂
組成物が得られることを見出し、本発明ｅこ到達した。
すなわち、本発明はポリエーテルエステルアミド（Ａ）
、１００重量部ｔこ対し、下記一般式（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）あるいは（Ｑで示される芳首族アミン系化合物を
０．０５〜５Ｎ量部および下記一般式（ト）で示される
ヒンダードアミン系光安定剤を０，０５〜５重禁部の各
割合で添加してなるポリエーテルエステルアミド組成物
ｅこ関するものである。
、１００重量部ｔこ対し、下記一般式（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）あるいは（Ｑで示される芳首族アミン系化合物を
０．０５〜５Ｎ量部および下記一般式（ト）で示される
ヒンダードアミン系光安定剤を０，０５〜５重禁部の各
割合で添加してなるポリエーテルエステルアミド組成物
ｅこ関するものである。
（タタシ、Ｒ＋ 、 Ｒ＋’ ハ水素原子、炭素ａ１−
１８ Ｕ）炭化水素基あるいは一〇−結合を有する炭素
数１〜１８の炭化水素基のいずれかであり、それぞれ同
一であっても異なっていてもよい。Ｒ２は炭素数１〜１
２のアルキル基を示す。） （ただし、Ｒ３は水素原子あるいは炭素数１〜１２のア
ルキル基、Ｒ４は炭素数１〜６の直鎖あるいは枝分れ鎖
アルキル基であり、Ｒ４＋はＲ４と同様のアルキル基で
あってそれぞれ同一であっても異なつていてもよい。Ｘ
は−Ｏ−あるいは−Ｎ−でありＲ５は水酸基で置換され
ていてもよい、炭素ｆｉ１〜２６の炭化水素基、あるい
は−８−１ １ の炭化水素基を示す。βは１〜４の整数である。）以下
具体的ｅこ本発明の組成物３こついて述べる。
１８ Ｕ）炭化水素基あるいは一〇−結合を有する炭素
数１〜１８の炭化水素基のいずれかであり、それぞれ同
一であっても異なっていてもよい。Ｒ２は炭素数１〜１
２のアルキル基を示す。） （ただし、Ｒ３は水素原子あるいは炭素数１〜１２のア
ルキル基、Ｒ４は炭素数１〜６の直鎖あるいは枝分れ鎖
アルキル基であり、Ｒ４＋はＲ４と同様のアルキル基で
あってそれぞれ同一であっても異なつていてもよい。Ｘ
は−Ｏ−あるいは−Ｎ−でありＲ５は水酸基で置換され
ていてもよい、炭素ｆｉ１〜２６の炭化水素基、あるい
は−８−１ １ の炭化水素基を示す。βは１〜４の整数である。）以下
具体的ｅこ本発明の組成物３こついて述べる。
木兄ＩＪＩ ｔこおけるポリエーテルエステルアミド（
Ａ）とはポリアミド単位と、ポリエーテルエステルアミ
ドとから（４成され、分子鎖中Ｅこアミド結合、エーテ
ル結合、およびエヌテル結合を有する重合体である。
Ａ）とはポリアミド単位と、ポリエーテルエステルアミ
ドとから（４成され、分子鎖中Ｅこアミド結合、エーテ
ル結合、およびエヌテル結合を有する重合体である。
ポリアミド単位はアミノカルボン酸、ラクタム、ジカル
ボン酸とジアミンとの塩、あるいはジカルボン酸とジイ
ソシアネートの組合わせなどから誘導される。
ボン酸とジアミンとの塩、あるいはジカルボン酸とジイ
ソシアネートの組合わせなどから誘導される。
ポリエーテルエステル単位は数平均分子量６００〜６０
００のポリ（アルキレンオキシド）グリコールおよび炭
素数４〜２０のジカルボン酸から導かれる。ポリアミド
単位とポリエーテルエステル単位の共重合比率はＭ量比
で大よそ５対９０から９５対１０である。
００のポリ（アルキレンオキシド）グリコールおよび炭
素数４〜２０のジカルボン酸から導かれる。ポリアミド
単位とポリエーテルエステル単位の共重合比率はＭ量比
で大よそ５対９０から９５対１０である。
ポリエーテルエステルアミド（Ａ）の重合方法は特に限
定され事−公知の方法を利用することができる。
定され事−公知の方法を利用することができる。
たとえば、アミノカルボン酸、ラクタムまたはジカルボ
ン酸−ジアミンの塩（ａ）とジカルボン酸（Ｃ）を約等
モル比で反応させて両末端がカルボン酸基のポリアミド
プレポリマーをつくり、これにポリ（アルキレンオキシ
ド）グリコ−１ｖ （ｂ） 全真空下ｅこ反応させる方
法、あるいは上記（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）の化合物を反
応相に仕込み、水の存在下または非存在下ｔこ高温で加
圧反応させることによりカルボン酸末端のポリアミドプ
レポリマーを生成させ、その後、常圧または減圧下で重
合を進める方法が知られている。また、上記（ａ）、（
１））、（ｃ）の化合物を同時ｅこ反応槽に仕込み溶融
混合したのち高真空下で一挙ｔこ重合をすすめる方法も
あり、むしろこの方法がポリマーの着色も少な（好まし
い。
ン酸−ジアミンの塩（ａ）とジカルボン酸（Ｃ）を約等
モル比で反応させて両末端がカルボン酸基のポリアミド
プレポリマーをつくり、これにポリ（アルキレンオキシ
ド）グリコ−１ｖ （ｂ） 全真空下ｅこ反応させる方
法、あるいは上記（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）の化合物を反
応相に仕込み、水の存在下または非存在下ｔこ高温で加
圧反応させることによりカルボン酸末端のポリアミドプ
レポリマーを生成させ、その後、常圧または減圧下で重
合を進める方法が知られている。また、上記（ａ）、（
１））、（ｃ）の化合物を同時ｅこ反応槽に仕込み溶融
混合したのち高真空下で一挙ｔこ重合をすすめる方法も
あり、むしろこの方法がポリマーの着色も少な（好まし
い。
マタ、ポリ（アルキレンオキシド）グリコールｔこ約２
倍モルのジカルボン酸を反応させて両末端がカルボン酸
基のプレポリマーをつ（す、これとジカルボン酸および
ジイソシアネートを不活性溶媒中で反応させる溶液重合
法によってもよい。
倍モルのジカルボン酸を反応させて両末端がカルボン酸
基のプレポリマーをつ（す、これとジカルボン酸および
ジイソシアネートを不活性溶媒中で反応させる溶液重合
法によってもよい。
本発明の組成物を構成する他の一成分である芳香族アミ
ン系化合物は前記一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（ロ）あるい
は（Ｅ）で示される。
ン系化合物は前記一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（ロ）あるい
は（Ｅ）で示される。
一般式（Ｂ）で示される化合物の例としてはフェニル−
α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンな
どが挙げられる。
α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンな
どが挙げられる。
一般式（Ｃ）で示される化合物の例としてはＮ、 Ｎ’
−ジフェニル−ｐ−フエニＶンジアミン、Ｎ、Ｎ’−
ジーβ−ナプチルーｐ−フエニＶンジアミン、Ｎ＋Ｎ′
−ビス（１−メチルグチ／ｌ／ ） −ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ、 Ｎ’−ビス（１−エチＩレー６−メチ
ルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ′−ヒ
。
−ジフェニル−ｐ−フエニＶンジアミン、Ｎ、Ｎ’−
ジーβ−ナプチルーｐ−フエニＶンジアミン、Ｎ＋Ｎ′
−ビス（１−メチルグチ／ｌ／ ） −ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ、 Ｎ’−ビス（１−エチＩレー６−メチ
ルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ′−ヒ
。
ス（１−エチ）ｖ −５−メチルペンチル）−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（１１４−ジメチルペ
ンチ）ｖ）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロへキ
シル−Ｎ′−フエニｔＬｙ −ｐ−フェニレンジアミン
、Ｎ−オフｆ ）Ｖ −Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、ｐ−イソプロポキンジフェニルアミン、Ｎ
、 Ｎ’−ジーイソプロヒ）Ｌｔ −ｐ−フェニレンジ
アミン、ジオクチＩＶ −ｐ−フェニレンジアミンなど
が挙げられる。中でも特にＮ、Ｎ’−ジ−β−ナフチル
−ｐ−フェニレンジアミンが好ましい。一般式（Ｉ））
で示される化合物の例としては、４１４′−ビス（４−
α、α−ジメチルベンジルジフェニルアミン）、ｐ、
ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン、ｐ、ｐ’−ジメト
キンジフエニｌレアミンなどが挙げられる。中でモ特に
４１４′−ビス（４−αツα−ジメチルベンジルジフエ
ニ！レアミン）が好ましい。一般式（支））で示される
化合物の例としては、Ｎ、 Ｎ’−ジフェニルエチレン
ジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジフェニルへキサメチレンジアミ
ン、ジ−ｐ−トルイルエチレンジアミン、ジーｐ−）／
レイルヘキサメチレンジアミンなどが挙げられる。中で
もＮ、 Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンが好ましい
。これらの芳香族アミン系化合物の中でも特ｔこ４，４
′−ビス（４−α、α−ジメチルベンジルジフェニルア
ミン）の使用が好適である。
ニレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（１１４−ジメチルペ
ンチ）ｖ）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロへキ
シル−Ｎ′−フエニｔＬｙ −ｐ−フェニレンジアミン
、Ｎ−オフｆ ）Ｖ −Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、ｐ−イソプロポキンジフェニルアミン、Ｎ
、 Ｎ’−ジーイソプロヒ）Ｌｔ −ｐ−フェニレンジ
アミン、ジオクチＩＶ −ｐ−フェニレンジアミンなど
が挙げられる。中でも特にＮ、Ｎ’−ジ−β−ナフチル
−ｐ−フェニレンジアミンが好ましい。一般式（Ｉ））
で示される化合物の例としては、４１４′−ビス（４−
α、α−ジメチルベンジルジフェニルアミン）、ｐ、
ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン、ｐ、ｐ’−ジメト
キンジフエニｌレアミンなどが挙げられる。中でモ特に
４１４′−ビス（４−αツα−ジメチルベンジルジフエ
ニ！レアミン）が好ましい。一般式（支））で示される
化合物の例としては、Ｎ、 Ｎ’−ジフェニルエチレン
ジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジフェニルへキサメチレンジアミ
ン、ジ−ｐ−トルイルエチレンジアミン、ジーｐ−）／
レイルヘキサメチレンジアミンなどが挙げられる。中で
もＮ、 Ｎ’−ジフェニルエチレンジアミンが好ましい
。これらの芳香族アミン系化合物の中でも特ｔこ４，４
′−ビス（４−α、α−ジメチルベンジルジフェニルア
ミン）の使用が好適である。
また、本発明の組成物を構成する他の一成分であるヒン
ダードアミン系光安定剤は前記一般式（ＦＪで示される
。一般式［Ｆ］で示される化合物の例としては、４−べ
′ンゾイルオキシー２．２．６．６−チトラメチルピペ
リジン、ビス−（２，２１６，／＞−テトラメチル−４
−ピペリシュ２．）アジペート、ビュ（２Ｉ２シロ、６
−チトラメチ／ｌ／ −４−ピペリジニル）スベレート
、ビス（２Ｔ２．６，６−チトラメチル−４−ピペリジ
ニル）セバケート、ビス（２１２Ｉ６？６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニ）Ｖ ）フタリート１ビ２（’２１
２１６１６−チトラメチルー４−ピペリジニ／Ｌ／）イ
ソツクレート、ビス（２，２，６，６−チトラメチル−
４−ピペリジニル）テレフタＶ −ト、ビス（１＋２＋
２＋６＋６−ペン１ｌｌｆｉｖ−４−ピペリジニ）ｖ
）セバケート、Ｎ、 Ｎ’−ビス（２，２゜６１６−テ
トラメチル −−ピペリジニル）アジパミド、ビス（１
ｒ ２ ＋ ２ ＋ ６ ＋ ６−ヘンｌ’ ／ ｆ
）Ｌ’ ４−ピペリジニル）−ｎ−ブチル（３，５−ジ
第６プチ）ｖ −４−ヒドロキシベンシル）マロネート
、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチフレー４−ピ
ペリシニルジベンンル）マロネート、ビス（１，２，２
，６゜６−ペンクメチ／Ｉ／−４ヒペリジニ）Ｖ ）ジ
エチルマロネート、ビス（２，２，６＋６−チトラメチ
ル−４−ピペリジニＩし）ジベンジルマロネート、ヒス
（２＋２ ＋＋Ｓ＋６−テＩ・ラメチ／ｌ／−４−ピペ
リジ＝）ｖ）ベンジルエチルマロネート、ビス（２ν２
，６．６−チトラメチル−４−ピペリジニ）ｖ ） −
ｎ−ブチル（３，５−シ第６ブチル−４−ヒドロキシペ
ンシル）マロネー１−、ブタンテトラカルボン酸のテト
ラ（２゜２．６．６−テトラメチ）ｖ−４−ピペリジニ
／ｌ／）ニスデルなどが挙げられるが、なかでも特ｅこ
ビス（２，２，６，６−テトラメチｔｖ −４−ピペリ
シニ／ｌ／）セバケートおよびブタンテトラカルボン酸
のテトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニ／し）エステルを好ましい化合物として挙げること
ができる。
ダードアミン系光安定剤は前記一般式（ＦＪで示される
。一般式［Ｆ］で示される化合物の例としては、４−べ
′ンゾイルオキシー２．２．６．６−チトラメチルピペ
リジン、ビス−（２，２１６，／＞−テトラメチル−４
−ピペリシュ２．）アジペート、ビュ（２Ｉ２シロ、６
−チトラメチ／ｌ／ −４−ピペリジニル）スベレート
、ビス（２Ｔ２．６，６−チトラメチル−４−ピペリジ
ニル）セバケート、ビス（２１２Ｉ６？６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニ）Ｖ ）フタリート１ビ２（’２１
２１６１６−チトラメチルー４−ピペリジニ／Ｌ／）イ
ソツクレート、ビス（２，２，６，６−チトラメチル−
４−ピペリジニル）テレフタＶ −ト、ビス（１＋２＋
２＋６＋６−ペン１ｌｌｆｉｖ−４−ピペリジニ）ｖ
）セバケート、Ｎ、 Ｎ’−ビス（２，２゜６１６−テ
トラメチル −−ピペリジニル）アジパミド、ビス（１
ｒ ２ ＋ ２ ＋ ６ ＋ ６−ヘンｌ’ ／ ｆ
）Ｌ’ ４−ピペリジニル）−ｎ−ブチル（３，５−ジ
第６プチ）ｖ −４−ヒドロキシベンシル）マロネート
、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチフレー４−ピ
ペリシニルジベンンル）マロネート、ビス（１，２，２
，６゜６−ペンクメチ／Ｉ／−４ヒペリジニ）Ｖ ）ジ
エチルマロネート、ビス（２，２，６＋６−チトラメチ
ル−４−ピペリジニＩし）ジベンジルマロネート、ヒス
（２＋２ ＋＋Ｓ＋６−テＩ・ラメチ／ｌ／−４−ピペ
リジ＝）ｖ）ベンジルエチルマロネート、ビス（２ν２
，６．６−チトラメチル−４−ピペリジニ）ｖ ） −
ｎ−ブチル（３，５−シ第６ブチル−４−ヒドロキシペ
ンシル）マロネー１−、ブタンテトラカルボン酸のテト
ラ（２゜２．６．６−テトラメチ）ｖ−４−ピペリジニ
／ｌ／）ニスデルなどが挙げられるが、なかでも特ｅこ
ビス（２，２，６，６−テトラメチｔｖ −４−ピペリ
シニ／ｌ／）セバケートおよびブタンテトラカルボン酸
のテトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニ／し）エステルを好ましい化合物として挙げること
ができる。
これら各安定剤は、ポリエーテルエステルアミド（Ａ）
１００ 重量部に対して、それぞれ０．０５〜５軍量
部、好ましくはｏ、１−ｔ ２重量部の割合で使用され
る。各安定剤の添加量がこれより少ない場合には効果が
十分発現されず、添加量がこれより多い場合ｅこは組成
物の物性に悪い影響を与え、またプルーミングなどの好
ましくない現象も呈するようｅこなる。
１００ 重量部に対して、それぞれ０．０５〜５軍量
部、好ましくはｏ、１−ｔ ２重量部の割合で使用され
る。各安定剤の添加量がこれより少ない場合には効果が
十分発現されず、添加量がこれより多い場合ｅこは組成
物の物性に悪い影響を与え、またプルーミングなどの好
ましくない現象も呈するようｅこなる。
ナオ、本発明のポリエーテルエステルアミド（Ａ）をブ
＾酸化劣化および光ス化劣化の両方【こおいて安定な組
成物とするためｅこはポリエーテルエステルアミド（Ａ
）に対し、前記一般式（Ｂ）、（Ｃ）、■）あるいは（
Ｅ）で示される芳′ｆ］：族アミン系化合物および前記
一般式（Ｆ）で示さｌするヒンダードアミン系光安定剤
の両者を添加する必要があり、これらのうちのどちらか
が欠けた場合には、本発明の組成物と比較して耐熱性ま
たは耐候性があるいはそのどちらもが大ぎ（劣った組成
物しか得ることができない。
＾酸化劣化および光ス化劣化の両方【こおいて安定な組
成物とするためｅこはポリエーテルエステルアミド（Ａ
）に対し、前記一般式（Ｂ）、（Ｃ）、■）あるいは（
Ｅ）で示される芳′ｆ］：族アミン系化合物および前記
一般式（Ｆ）で示さｌするヒンダードアミン系光安定剤
の両者を添加する必要があり、これらのうちのどちらか
が欠けた場合には、本発明の組成物と比較して耐熱性ま
たは耐候性があるいはそのどちらもが大ぎ（劣った組成
物しか得ることができない。
また、これらの各安定剤をポリエーテルエステルアミド
に添加する方法は、特Ｆこ１１７１１限がなく、ポリエ
ーテルエステルアミドの重合中、マタは重合後の任意の
時期ｅこ加えることができるが、特ｅこ好ましい態様は
重合後（成形前）に溶融混合する方法である。
に添加する方法は、特Ｆこ１１７１１限がなく、ポリエ
ーテルエステルアミドの重合中、マタは重合後の任意の
時期ｅこ加えることができるが、特ｅこ好ましい態様は
重合後（成形前）に溶融混合する方法である。
なお、本発明の組成物の調整に際しては目的とする耐熱
および耐候安定性を阻害しない限り？こおいて、他の一
般的な添加剤、たとえば耐加水分解改良剤、着色剤（顔
料、染料）、帯電防止剤、導電剤、結晶核剤、滑剤、充
填剤、補強剤、接着助剤、可塑剤、離型剤、難燃剤など
の添加剤を任意に配合することができる。
および耐候安定性を阻害しない限り？こおいて、他の一
般的な添加剤、たとえば耐加水分解改良剤、着色剤（顔
料、染料）、帯電防止剤、導電剤、結晶核剤、滑剤、充
填剤、補強剤、接着助剤、可塑剤、離型剤、難燃剤など
の添加剤を任意に配合することができる。
以下、実施例によって本発明を説明する。
なお、実施例中「部」または「チ」で表示したものは、
すべて１に量比率で表わしたものである。
すべて１に量比率で表わしたものである。
また、本文中および例中９こ示す相対粘１及はオルトク
ロロフェノール中２５℃、０ 、５ ％ 県Ｉｆｆの条
件テ測定した値であり、融点も特？こ断わらない限りＤ
Ｓ Ｃ（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ ＤｓＣ−ＩＢ ）
で測定され７） ｔｉｔ Ｍピーク温度である。
ロロフェノール中２５℃、０ 、５ ％ 県Ｉｆｆの条
件テ測定した値であり、融点も特？こ断わらない限りＤ
Ｓ Ｃ（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ ＤｓＣ−ＩＢ ）
で測定され７） ｔｉｔ Ｍピーク温度である。
参考例
ポリマー（Ａ−１）の重合
アミノドデカン酸６５．５部、数平均分子量が６８０の
ポリテトラメチレンオキシドグリコール６６．６部およ
びテレフタル鼠８．２部を１イルガノツクス’ １０９
８ （ｅｌｌ化防止削）０．２０部およびテトラグチル
チクネート触媒０．０５部とともｅこへリカルリボン攪
拌翼を備えた反応容器に仕込み、Ｎ２パージして２４０
″Ｃで４０分間加熱ｊ宋拌してほぼ透明な均質副液とし
た後、昇温」６よひ減圧プログラムに従って２７０ ’
Ｃ、０，５部ｍ Ｈｇ以下の重合条件にもたらした。こ
の条件にて６時間５０分重合反応せしめた。
ポリテトラメチレンオキシドグリコール６６．６部およ
びテレフタル鼠８．２部を１イルガノツクス’ １０９
８ （ｅｌｌ化防止削）０．２０部およびテトラグチル
チクネート触媒０．０５部とともｅこへリカルリボン攪
拌翼を備えた反応容器に仕込み、Ｎ２パージして２４０
″Ｃで４０分間加熱ｊ宋拌してほぼ透明な均質副液とし
た後、昇温」６よひ減圧プログラムに従って２７０ ’
Ｃ、０，５部ｍ Ｈｇ以下の重合条件にもたらした。こ
の条件にて６時間５０分重合反応せしめた。
イ：）られたポリエーテルエステルアミド（Ａ−１）の
融点は１６６℃、相対粘１現は１．６５であった。
融点は１６６℃、相対粘１現は１．６５であった。
ポリマー（Ａ−２）の１１部合
アミノドデカンｌ１１４５．６部、数平均分子量が１０
００のポリテトラメチレンオキシドグリコ−ルｓ′５．
１部およびテレフクル酸８．８部を出発原料として実施
例１と同様の方法Ｅこよって４時間６０分重合反応せし
めてポリマー（Ａ−２）を１４４だ。
００のポリテトラメチレンオキシドグリコ−ルｓ′５．
１部およびテレフクル酸８．８部を出発原料として実施
例１と同様の方法Ｅこよって４時間６０分重合反応せし
めてポリマー（Ａ−２）を１４４だ。
得られたポリエーテルエステルアミド（Ａ−２）の融点
は１４２ ’Ｃ、相対粘度は１．７９であった。
は１４２ ’Ｃ、相対粘度は１．７９であった。
安定剤
実施例において使用した安定剤の構造とその略−号は次
のとおりである。
のとおりである。
ポリエーテルエステルアミド（Ａ−１）および（Ａ’−
２）ｆこ表１に示す各安定剤を配合したのち、（Ａ−１
’）σ）場合は２００℃、（Ａ−２）の場合は１８０℃
に加熱された３ ３ ｍｍφの押出機で溶融混線した後
ペレット化した。このペレットを真空乾燥した後、ポリ
エーテルエステルアミドが（Ａ−１）の場合は２００℃
、ポリエーテルエステルアミドが（Ａ−２）の場合は１
８０℃で加圧して厚さ０．９〜１．１１趨のプＶスンー
トとし、ＪＩＳＫ−６５０１の６号ダンベル形試験片ｅ
こ打抜いた。
２）ｆこ表１に示す各安定剤を配合したのち、（Ａ−１
’）σ）場合は２００℃、（Ａ−２）の場合は１８０℃
に加熱された３ ３ ｍｍφの押出機で溶融混線した後
ペレット化した。このペレットを真空乾燥した後、ポリ
エーテルエステルアミドが（Ａ−１）の場合は２００℃
、ポリエーテルエステルアミドが（Ａ−２）の場合は１
８０℃で加圧して厚さ０．９〜１．１１趨のプＶスンー
トとし、ＪＩＳＫ−６５０１の６号ダンベル形試験片ｅ
こ打抜いた。
耐熱性は１６０℃の熱風オーブン中で試験片をエージン
グして調べ、破断伸度保持率が５０％となる時間を１ｌ
ｉｊ熱寿命とした。耐候性は試験片をサンシャインウェ
ザオーメーク−中で光照射して調べた。ザンシャインウ
エザオーメーターの１ラツクパネル（１，４度は６６℃
で、２時間ｅこついて１８分間、水をヌデレーした。伸
度保持率が５０チとなる時間と、照射表面の亀裂発生時
間の測定ｅこより耐候性を評価した。なお破断伸びの測
定はＪＩＳ Ｋ、６３０１ｅこ準じて行なった。これら
の結果を表１に示す。
グして調べ、破断伸度保持率が５０％となる時間を１ｌ
ｉｊ熱寿命とした。耐候性は試験片をサンシャインウェ
ザオーメーク−中で光照射して調べた。ザンシャインウ
エザオーメーターの１ラツクパネル（１，４度は６６℃
で、２時間ｅこついて１８分間、水をヌデレーした。伸
度保持率が５０チとなる時間と、照射表面の亀裂発生時
間の測定ｅこより耐候性を評価した。なお破断伸びの測
定はＪＩＳ Ｋ、６３０１ｅこ準じて行なった。これら
の結果を表１に示す。
表 １
比較例
ポリエーテルエステルアミド（Ａ−１）あるし１は（Ａ
−２）Ｑこ、芳香族アミン系化合物あるｕ−１；Ｌヒン
ダードアミン系光安定剤のどちらかを配合したのち、前
記実Ｉｆｉｌ１例と同様ｔこペレタイス゛した。こ：ｃ
Ｐ）の組成物、ポリマー（Ａ−１）および目εリマ−
（Ａ−２）を前記実施例と同様ｅこして打抜き試験片と
し、各試験片について耐熱性と４候性を評価した結果を
表２番・こ示す。
−２）Ｑこ、芳香族アミン系化合物あるｕ−１；Ｌヒン
ダードアミン系光安定剤のどちらかを配合したのち、前
記実Ｉｆｉｌ１例と同様ｔこペレタイス゛した。こ：ｃ
Ｐ）の組成物、ポリマー（Ａ−１）および目εリマ−
（Ａ−２）を前記実施例と同様ｅこして打抜き試験片と
し、各試験片について耐熱性と４候性を評価した結果を
表２番・こ示す。
（本頁以下空白）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ポリエーテルエステルアミド（Ａ） １ ００重量部ｔ
こ対し、下記一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）あるいは（
Ｅ）で示される芳香族アミン系化合物を０．０５〜５重
量部および下記一般式（乃で示されるヒンダードアミン
系光安定剤を０．０５〜５電量部の各割合で添加してな
るポリエーテルエステルアミド組成物。 （ただし、Ｒ１，Ｒ１′ は水素原子、炭素数１〜１８
の炭化水素基あるいは一〇−結合を有する炭素数１〜１
８の炭化水素基のいずれかであり、それぞれ同一であっ
ても異なっていてもよい。Ｒ２は炭素数１〜１２のアル
キル基を示す。） （ただし、Ｒ３は水素原子あるいは炭素数１〜１２のア
ルキル基、Ｒ４は炭素数１〜６の直鎖あるいは枝分れ鎖
アルキル ルキル基であってそれぞれ同一であっても異なっていて
もよい。Ｘば一〇−あるいは一Ｎ−でありＲ５は水酸基
で置換されていてもよい、炭素数１〜２３の炭化水素基
あるいは 素数１〜１８の炭化水素基を示す。ｌは１〜４の整数で
ある。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12316783A JPS6015456A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | ポリエ−テルエステルアミド組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12316783A JPS6015456A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | ポリエ−テルエステルアミド組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6015456A true JPS6015456A (ja) | 1985-01-26 |
| JPH0251462B2 JPH0251462B2 (ja) | 1990-11-07 |
Family
ID=14853839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12316783A Granted JPS6015456A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | ポリエ−テルエステルアミド組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6015456A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4744741A (en) * | 1985-07-05 | 1988-05-17 | The Hepworth Iron Company Limited | Apparatus for the manufacture of composite articles using rotating molds |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49117552A (ja) * | 1973-02-22 | 1974-11-09 | ||
| JPS5045032A (ja) * | 1973-08-10 | 1975-04-22 | ||
| JPS5059443A (ja) * | 1973-09-27 | 1975-05-22 | ||
| JPS5852348A (ja) * | 1981-09-22 | 1983-03-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物 |
-
1983
- 1983-07-08 JP JP12316783A patent/JPS6015456A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49117552A (ja) * | 1973-02-22 | 1974-11-09 | ||
| JPS5045032A (ja) * | 1973-08-10 | 1975-04-22 | ||
| JPS5059443A (ja) * | 1973-09-27 | 1975-05-22 | ||
| JPS5852348A (ja) * | 1981-09-22 | 1983-03-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4744741A (en) * | 1985-07-05 | 1988-05-17 | The Hepworth Iron Company Limited | Apparatus for the manufacture of composite articles using rotating molds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0251462B2 (ja) | 1990-11-07 |
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