JPS601636A - 光デイスク用プリグル−ブスタンパの製法 - Google Patents
光デイスク用プリグル−ブスタンパの製法Info
- Publication number
- JPS601636A JPS601636A JP10924883A JP10924883A JPS601636A JP S601636 A JPS601636 A JP S601636A JP 10924883 A JP10924883 A JP 10924883A JP 10924883 A JP10924883 A JP 10924883A JP S601636 A JPS601636 A JP S601636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- film
- stamper
- metallic
- crucible
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は光デイスク用プリグループスタンパの製法に関
する。
する。
従来技術
光ディスクは記録層に照射するレーザービームを位置決
めするためのガイドグループを有する。
めするためのガイドグループを有する。
このような光ディスクの製造するには、ガイドグループ
に対応する凸出部を有する金属膜のスタンパを使用し、
これをプラスチックに押圧してグループを四人させた上
に、金属薄膜の記録層を蒸着する。
に対応する凸出部を有する金属膜のスタンパを使用し、
これをプラスチックに押圧してグループを四人させた上
に、金属薄膜の記録層を蒸着する。
このようなスタンパは、通常、ガラス円板にポジ型レジ
ストを塗布し、レーザービームで露光し、レジストに幅
０．７μｍ程度の多数の同心円を描いて潜像を形成し、
現像液で未露光レジストを滓出させ、この上に、レジス
トから剥離し易い金属、たとえば銀あるいはクロムを厚
み０．１μｍ程度蒸着した上に、従来は水溶液中でニッ
ケルめっきし、厚み０．３閣程度のニッケル膜を電着さ
せ、レジストから剥離する。このようなスタンパの製法
は水溶液処理を伴うので、操作が複雑となり、かつニッ
ケル膜厚の制御が十分に行なえない欠点があった。
ストを塗布し、レーザービームで露光し、レジストに幅
０．７μｍ程度の多数の同心円を描いて潜像を形成し、
現像液で未露光レジストを滓出させ、この上に、レジス
トから剥離し易い金属、たとえば銀あるいはクロムを厚
み０．１μｍ程度蒸着した上に、従来は水溶液中でニッ
ケルめっきし、厚み０．３閣程度のニッケル膜を電着さ
せ、レジストから剥離する。このようなスタンパの製法
は水溶液処理を伴うので、操作が複雑となり、かつニッ
ケル膜厚の制御が十分に行なえない欠点があった。
発明の目的
本発明の目的は上記欠点を解消するプリグループスタン
パの製法を提供することである。
パの製法を提供することである。
発明の構造
本発明の上記目的は、レジスト膜をレーザービームで露
光し現像して、光ディスクのがイドグループに対応する
凹入部を設けて原盤を形成し、この原盤のレジストの上
に剥離し易い金属薄膜をまず蒸着させた後、この薄膜の
上に金属厚膜を付着させ、これらの金属膜をレジストか
ら増税して、光ディスクのガイドグループに対応する凸
出部を設けたスタン／ｆを形成する。光ディスク用デリ
グループスタンノ４の製法において、金属厚膜を蒸着に
よって形成することを特徴とする、光ディスク用デ、リ
グープスタンノ七の製法によって達成することができる
。
光し現像して、光ディスクのがイドグループに対応する
凹入部を設けて原盤を形成し、この原盤のレジストの上
に剥離し易い金属薄膜をまず蒸着させた後、この薄膜の
上に金属厚膜を付着させ、これらの金属膜をレジストか
ら増税して、光ディスクのガイドグループに対応する凸
出部を設けたスタン／ｆを形成する。光ディスク用デリ
グループスタンノ４の製法において、金属厚膜を蒸着に
よって形成することを特徴とする、光ディスク用デ、リ
グープスタンノ七の製法によって達成することができる
。
実施例
直径３０ｃｒｎのガラス基板にシブレイ社、 ＡＺ１３
５０のボッ型レジストを厚み０．０７μｍとなるように
塗布し、このレジストを直径０．７μｍのレーザービー
ムで露光して多数の同心円を描き、現像液で現像し、ス
タン・９の凸出部に対応する凹入部を設けた原盤を形成
した。
５０のボッ型レジストを厚み０．０７μｍとなるように
塗布し、このレジストを直径０．７μｍのレーザービー
ムで露光して多数の同心円を描き、現像液で現像し、ス
タン・９の凸出部に対応する凹入部を設けた原盤を形成
した。
第１図に示す真空蒸着装置１の上部において、原盤２を
ターンテーブル３の下面に、パターン面を下向きとして
取付け、下部にるつぼ室を設けてるつぼ４を配置し、シ
ャッタ５つきスリット６を隔てて原盤２のパターン面に
対向させ、るつぼの加熱とシャッタの開閉とによって蒸
着の開始および終了を制御した。２個のるつぼ４に、ク
ロムとニッケルとを別々に入れ、装置１を予めｌＸｌ０
−６Ｔｏｒｒに排気し、原盤２を２０ Ｏｒｐｍで回転
させながら、まずクロムのるつぼ４を加熱して、クロム
を原盤に蒸着させ、次にニッケルのるつぼ４を加熱して
厚み０．３ｍのニッケルを蒸着させ、こうして得られた
クロム−ニッケル膜を増税して厚み０．３閣のスタンパ
を製造した。
ターンテーブル３の下面に、パターン面を下向きとして
取付け、下部にるつぼ室を設けてるつぼ４を配置し、シ
ャッタ５つきスリット６を隔てて原盤２のパターン面に
対向させ、るつぼの加熱とシャッタの開閉とによって蒸
着の開始および終了を制御した。２個のるつぼ４に、ク
ロムとニッケルとを別々に入れ、装置１を予めｌＸｌ０
−６Ｔｏｒｒに排気し、原盤２を２０ Ｏｒｐｍで回転
させながら、まずクロムのるつぼ４を加熱して、クロム
を原盤に蒸着させ、次にニッケルのるつぼ４を加熱して
厚み０．３ｍのニッケルを蒸着させ、こうして得られた
クロム−ニッケル膜を増税して厚み０．３閣のスタンパ
を製造した。
発明の効果
本発明によれば、スタンパの凸出線に対応する凹入部を
設けた原盤に、真空蒸着のみによって金属膜を形成する
ので、スタンパの製造工程を簡略化することができ、か
つ金属膜厚の制御を良好にすることができる。
設けた原盤に、真空蒸着のみによって金属膜を形成する
ので、スタンパの製造工程を簡略化することができ、か
つ金属膜厚の制御を良好にすることができる。
笹１図は本発明の方法を実施する真空蒸着装置の断面図
である。 １・・・真空蒸着装置、２・・・原盤、３・・・ターン
テーブル、４・・・るつぼ、５・・・シャッタ、６・・
・スリット。 特許出願人 富士通株式会社 ％許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 １）幸 男 弁理士 山 口 昭 之 第１図
である。 １・・・真空蒸着装置、２・・・原盤、３・・・ターン
テーブル、４・・・るつぼ、５・・・シャッタ、６・・
・スリット。 特許出願人 富士通株式会社 ％許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 １）幸 男 弁理士 山 口 昭 之 第１図
Claims (1)
- ■ レジスト膜をレーザービームで露光し現像して、光
ディスクのがイドグループに対応する凹入部を設けた原
盤を形成し、この原盤のレジストの上に剥離し易い金属
薄膜をまず真空蒸着させた後、この薄膜の上に金属厚膜
を付着させ、これらの金属膜をレジストから増税して、
光ディスクのガイドグループに対応する凸出部を設けた
スタンパを形成する。光デイスク用プリグループスタン
パの製法において、前記金属厚膜を真空蒸着法によって
形成することを特徴とする、光ディスク用プリグープス
タン・ぞの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10924883A JPS601636A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 光デイスク用プリグル−ブスタンパの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10924883A JPS601636A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 光デイスク用プリグル−ブスタンパの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS601636A true JPS601636A (ja) | 1985-01-07 |
Family
ID=14505365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10924883A Pending JPS601636A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 光デイスク用プリグル−ブスタンパの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS601636A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5385638A (en) * | 1990-11-28 | 1995-01-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a stamper |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP10924883A patent/JPS601636A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5385638A (en) * | 1990-11-28 | 1995-01-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a stamper |
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