JPS60225491A - プリント基板の製造法 - Google Patents

プリント基板の製造法

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Publication number
JPS60225491A
JPS60225491A JP8231084A JP8231084A JPS60225491A JP S60225491 A JPS60225491 A JP S60225491A JP 8231084 A JP8231084 A JP 8231084A JP 8231084 A JP8231084 A JP 8231084A JP S60225491 A JPS60225491 A JP S60225491A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
layer
chemical
catalyst
printed board
Prior art date
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Pending
Application number
JP8231084A
Other languages
English (en)
Inventor
直洋 両角
中尾 紀代史
宏 高橋
伸 高根沢
昭士 中祖
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS60225491A publication Critical patent/JPS60225491A/ja
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明に化学めっきによVm体回路τ形成丁ゐプリント
基板c/)M造法に関し、荷に化学めっきの除、レジス
ト上へのめっきの析出の抑制の可能なプリント基板の製
造法に関す心。
(従来技術) 従来より化学めっきによりプリント基板で裏道する方法
の一つとして、杷縁基叡上にめっき触媒τ含有丁ゐ甘酸
ゴムτ主成分と丁/8接7#を剤層τ設けて、tgI絽
形成部以外【めっきレジストによりマスクして、化学的
に粗面化しyt挾水洗工程τ鮭て、−tc/)まま化学
めっきτ行う方法がある0本方法ね化学めっき法として
の触媒の付与させ力Vc71rrI11丁れは他の方法
であるところり粗面化した表口に楽敵処理によ!7触媒
虐τ形成さぜゐ方法に較べて朋媒τ単純に接7!I+剤
中に混合するたけですむこと、触媒が按膚創虐甲に安定
に分散されることなど0丁ぐnた長消かあゐ〇しかし本
力法に他法Vc較べてめっきに除し1以下の欠点g:M
する◎丁lvち、他法が触媒層によ−り接盾剤表[II
Oか強化さnレジスト上に按漕剤が転移丁ゐことげ少な
いが不法C/、)接漕剤の粗面化された凸部の−tf1
5が接麿剤増から脱離しフジスト上に付層し易い欠点か
ある。この場曾、惚めて小片であっても、そり中に触媒
τ確実にせ有丁ゐため、めっきか析出し酸量することに
避けられない。こり欠点0最近回路の間隔かa2in以
下と狭り、1gl路としてS@度化されるにつれて重大
な欠点となって@た口 (発明の目的) 板の製造法τ提供するものであゐ◎ (発明の構成) 本発明rrIe3縁基板表向に、化学めっき触媒τ含有
する接ft剤層τ形成し、接層剤層τ粗面処理し、水洗
τ行い、次いで化学めっきにより回路τ形成するプリン
ト基板の製造法に於て、化学めっきり前に乾練工程τ行
うことτ物像とす−on> c = o 、なとの水と
R沌性V強い基が無数に生成しこりため水洗工程τ経て
、そのまま。
めっ@τ行うとめっき液が相当に深部までに拡散可能と
lv、こcvM米としてめっきaにより表向層が可塑化
された様な状態にlり凝集力が低下丁ゐことが明らρ工
にZまた0指で峨(俸丁った程度で無数の小片が取り去
られる状態であり、こり状態でにめっき時の敵流によっ
て容易に脱離丁ゐものと予想されるところでこり凝集力
の強化のために、化学@面化児了俊、化学めっきに先立
って接層剤層の乾燥工程を設けたところ接盾剤の凝集力
0強化し、めっき欲に撹漬しても凝集力に低下せず接膚
剤小片か脱離することl(めりきて完了することか出来
た0そり機mに明ら〃)ではないか、粗面化によって接
膚刑層中に生地した極性基a水と会曾状恕にあるが乾燥
VC,よりその相手で失い、極性基同志の会合に笈化す
るとともに縦梁カフDs高(lりめつき敵中に浸漬して
もめり!+aCL)反入τ仰側丁ゐ様l構造変化が起っ
たものと思われる。乾燥に事突土乾燥状態にある程度行
う。その条件に基板によって変わるか標準的には常みに
放置するならば一日以上、50℃に711]熱すゐなら
ば60分以上、100℃ならば5分以上である。この時
。
粗面化され′I′c接看剤に付層している水分子2.乾
燥に除去可能な水分のうち、80%以上、好ましくは9
0%以上、史に好ましく695%以上か除去される。
絶縁基板は通常の2エノール系、あるいはエポキシ系積
層8j1無機糸あるいに有機態asia台系からなる板
材か用いられる・接看剤に、化学めっき法で一般に用い
られる台数ゴムτ主成とし、#I硬化性樹脂で補強した
ものが用いられる。
マスクc/)ためのめっきレジストとしてに粗向化赦に
侵され難いエポキシ系τ用いる。めっきレジストas化
学めっきに先立ついずfLカの段階例えは接膚剤粗化処
理前、乾諌俊等の段階に形態する@粗面化に用いる敵ね
一般のクロム鈑−硫FIL Jlクロム赦−憶版lどが
通用9籠であゐ◎化学めっき法としては−Mり銅τめり
き膜として形成小米/bもQ)τ用いる◎ 実施例1 接ffi仰jとしては、アクリロニトリルブタジェンゴ
ム(アクリロニトリル41%)、658B、t−フfk
2X/−ルag111.35部、シリル。
20都、塩化パラジウム0.1部からなるめっき触媒含
有のpP−硬化型接宥剤τ用いた0こり接虐剤τsoo
mm角の厭フェノール積層&(日立化取工東■#曲品名
LP−141)の両面に浸漬塗布し160℃で60分、
vl]熱硬化させ30次に必12m[1部Mに穴t−明
は大半の部分の回路のM幅および線間か0.2ffll
lllCなるようなエポキシ系レジストτ印刷し150
℃で60分硬化させた0次いでクロム離島a(Cr0m
55 g−11HFft’M 21g+slτ水で希釈
し全体t11とする。ンに40℃で15分間浸漬しτ水
洗した0次に0120℃−5分、■50℃−60分、■
帛■で48時間、■全く乾燥しないものの4mについて
。
化学めっきτ67℃で60時間行った◎化学めっき敵と
しては なる組gで用いた。侍らnたプリント仮の餉の厚さに5
5μmであり、レジスト上り銅の析出状J!1lrI以
下の1うであつた〇 ■・・・・・・・・・析tB、21゜ ■・・・・・・・・・析出なし ■・・・・・・・・・析出なし ■・・・・・・・・・0.2fflll11gl路間τ
ブリッジする析出か9ケ均にあった〇 実施例2 接71RjlJとしてにアクリロニトリルブタジェンゴ
ム(アクリロニトリル41%)、60s% を−フチル
フェノール街脂% 30tlビスフエノール型エポキシ
樹脂8s、イミダゾール糸吠化剤2部、チタン白18部
、塩化パラジウムu、08部からなるめりき7!1m含
有り熱咬化型接膚剤τ用いたoccL)接膚剤τsoo
ma角り紙エポキシ積層板(日立化戚工栗■製曲品名L
E−144)の両面に&債塗布し実施例1と同様に乾燥
しへ明はレジスト印刷、化学粗面化τ行った0久に■1
20℃−5分■50℃−45分■呈瀝で30時間ω全(
乾燥しないものについて英M例1と1lffJ様な化学
めりきτ行り7eo侍られたプリント叡の銅の厚さ03
5μmでありレジスト上の銅の析出状M4に以下のよう
であった0■・・・・・・・・・析出なし ■・・・・・・・・・析出なし ■・・・・・・・・・析出なし ■・・・・・・・・・0.2m1IIC/)回路間τブ
リッジする町田が5ヶMにあった◎ (発明の効未) 以上説明したように、不発8Aの方法に於てに。
めっきレジストに不菅のめっきか発生子ゐことかない。
第1頁の続き @発明者 中祖 昭士 下館市久 所内

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 1[Q#基叛表面に、化学めりき触媒で含有する
    接層剤層τ形既し、接層剤層τ粗面化処理し、水洗τ行
    い、次いで化学めっきにより回路τ形&丁ゐプリント基
    板の製造法に於て。 化学めっきり前に乾燥工程7行つことτ%鱗とするプリ
    ント基板V)製造法〇
JP8231084A 1984-04-24 1984-04-24 プリント基板の製造法 Pending JPS60225491A (ja)

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JP8231084A JPS60225491A (ja) 1984-04-24 1984-04-24 プリント基板の製造法

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JP8231084A JPS60225491A (ja) 1984-04-24 1984-04-24 プリント基板の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60225491A true JPS60225491A (ja) 1985-11-09

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ID=13770983

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